[go: up one dir, main page]

TW302291B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
TW302291B
TW302291B TW084108816A TW84108816A TW302291B TW 302291 B TW302291 B TW 302291B TW 084108816 A TW084108816 A TW 084108816A TW 84108816 A TW84108816 A TW 84108816A TW 302291 B TW302291 B TW 302291B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
liquid
gas
item
reactor
patent application
Prior art date
Application number
TW084108816A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Ultralight Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ultralight Ag filed Critical Ultralight Ag
Application granted granted Critical
Publication of TW302291B publication Critical patent/TW302291B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • C02F1/325Irradiation devices or lamp constructions
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61LMETHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/08Radiation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/007Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by irradiation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77Liquid phase processes
    • B01D53/78Liquid phase processes with gas-liquid contact
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J10/00Chemical processes in general for reacting liquid with gaseous media other than in the presence of solid particles, or apparatus specially adapted therefor
    • B01J10/02Chemical processes in general for reacting liquid with gaseous media other than in the presence of solid particles, or apparatus specially adapted therefor of the thin-film type
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/24Stationary reactors without moving elements inside
    • B01J19/2405Stationary reactors without moving elements inside provoking a turbulent flow of the reactants, such as in cyclones, or having a high Reynolds-number
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/24Stationary reactors without moving elements inside
    • B01J19/247Suited for forming thin films
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00049Controlling or regulating processes
    • B01J2219/00051Controlling the temperature
    • B01J2219/00074Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids
    • B01J2219/00076Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids with heat exchange elements inside the reactor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/322Lamp arrangement
    • C02F2201/3228Units having reflectors, e.g. coatings, baffles, plates, mirrors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Description

A7 _B7__ 五、發明説明(I ) 本發明係有關處理被污染的氣體和液體之方法和裝置 〇 為了在被具有低透光率的廢水高度污染之連續操作流 通型反應器中能夠用紫外光有效地照射,D E - A - 4 0 0 5 4 8 8 提出使用落膜型或流動膜型反應器。落膜型反應器( falling film reactor)包括一反應器管,於其中有一紫 外光輻射器,其外面同心地包著一石英保護管。該反應器 管在預部具有一得處理一液體的入口而在底部有一出口。 在該反應器管頂部端的限制器(restrictor)可確使待處 理水K稍微正壓流經在底部有開口的反應器管。該水係以 落膜形式沿著反應器管的内壁向下流動。在水與該石英保 護管之間沒有接觸。周团氣體的物質輸送係在該膜的表面 發生的。DE 40 50 488提出利用該效應來滌除易揮發性物 質。該所述反應器的一項缺點為其只適合用於欧用水或液 體的去毒處理。由於空氣與落膜的接觸時間太短且從經驗 看來在這些狀況下發生的物質輸送係不足者,因此該反應 器不適用於空氣的純化處理。因此,唯一的考慮為利用從 液相到氣體的物質輸送Μ將易揮發性物質從液相滌除掉。 DE-A-38 37 9Q5提出利用紫外光源處理液體及/或氣 體的裝置,其中係同時使用各具不同發射光譜的紫外燈° 該紫外燈係配置在管狀反應室之内或在其周園。處理介質 係以順流方式或逆流方式通過該反應室,其方式決定於反 •應室的構造。雖然該裝置可能通合用於液體的處理,但其 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 」 •1Τ SQ2291 五、發明説明(χ ) 對於氣體有效處理的用途則有疑問。在污染廢氣中有許多 有機化合物,例如,苯,甲苯,等’不可否認地皆為紫外 光吸收性物質,但其在化學上却極端地安定使得其中可能 發生者最多只是彼等分子在通過該反應器的過程中發生解 體。已知的處理污染氣體之方法因而最常使用一溼階段Μ 脫除氣體中的黏附性污染物。於該溼階段中,係在*例如 ,腦希格管柱(Raschig Column)中利用噴霧方式使氣體 與液體接觸Μ期將污染物轉換到液相内。之後1可在該操 作後接以進一步處理。 本發明的目的為提出一種方法,其對於氣體及/或液 體的纯化同等適用且其可實質地克服上文所述諸缺點。本 發明也提出一種供實施該方法用的反應器。 逆齊郎中夬锿隼馬員Μ消費合作汪印裂 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本页) 根據本發明,該目的可經由上面說明中所提類型的方 法予以達到,其中係利用一噴嘴在反應器内形成一内聚性 表面膜並使該氣體流經該表面膜使得其中可發生從氣相到 液相的物質輸送。該唄嘴的產生的液體膜係密合表面膜或 緊密膜(compact film)形式,可讓得純化的氣體被懕縮 而不會破壊該内聚性膜。氣體的通過主要是在該表面膜的 邊緣區發生。於這些條件中,該表面膜係作為窄孔洞濾器 ,可用以實際地完成氣體與液體的接觸。 該方法具有下述優點,亦即,不在氣相中被照射分解 掉的污染物可Μ經由與液體接觸而實質完全地轉移到液體 内。不同於DE-A-40 05 488者,本發明方法逋合用來處理 -4- 本紙伕尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) A7 _B7 五、發明说明(—) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 液體及/或氣體。於許多情況中,污染物事實上會同時存 在於廢氣和廢水中。 有利者,該氣趙和液體係同時被照射。同時照射液體 和氣體的结果,不在氣相内分解的污染物可在液相中被破 壞。一般而言,要脫除的污染物在氣相和液相中各具不同 的反應性使得經由照射氣相和(洗)液可κ實質地改良纯 化效果。此外,由於在液相中所發生的分解作用*污染物 在液體中的低溶解度即足Μ使其從氣體流中充分地脫除掉 。由於該污染物係經連鑛地破壞者,該液體可Μ重複地吸 收新的污染物。因此之故•實際上絕不會達到該液體的吸 收容量或飽和度。 於傳統方法不同之處在於傳統方法中賁際上不能做到 利用噴嘴和臘希格管柱進行氣體和液體的接觸及施以照射 ,而在本發明方法中,污染物係經無損害照射因而確得最 佳照射效用。 該氣體有利地係Μ相對於落膜呈對流方向供應。如此 ,該氣體可在通過該表面膜之前即接觸到該落膜。有利者 ,係在反應器内產生一轉動的表面膜。轉動表面膜特別有 利|因為該氣體流在接觸該表面膜之前即處於轉動中使得 粒子可向外輸送而在這些情況下,該氣體即可重複地與液 體接觸。產生轉動型徑向流動表面膜的方法和噴嘴載於 ΕΡ-Α-0 204 709之中,其内容因而併於本文Κ為參考。於 該ΕΡ-Α-0 204 709方法不同者,於本發明方法中,污染物 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐)
¾齊印中矢眛隼鬲81.省费合阼f±,=p?L Α7 Β7 五、發明説明(4) 不僅因而可從氣體流中脫除*而且可大部份地分解掉—一 在氣相中即分解掉者’或最遲在液體中分解掉一一使得不 需要棄置洗液或施以任何後續處理。該降落’流動或淋幕 膜具有下述優點*亦即’縱使對於所用輻射具有低穿透性 的渾濁液體不僅可以在緊密膜或表面膜上,而且可以在整 個流動時間中被充分地照射及分解。液體中的污染物可w 有相當高的濃度存在著。 有利者,在氣體及/或液體中混合藥劑或化合物,如 氧等*其可被輻射活化且其可K與氣相中所含至少某些污 染物反應。該方法的效率因而可以更為增高。臭氧可以經 由在氣體流_ -其常為被污染空氣一 一中照射氧氣而就地 (in situ )形成,不需要另外使用臭氧產生器。所形成 的臭氣即可與氣相中的不飽和有機化合物反應。另外一項 優點為所形成的臭氣可以經由表面膜而從氣體流中脫除掉 。此外•臭氧也構成水中的強氧化劑。有利者,可在液體 中加入能被輻射活化的化合物。一種這類化合物,洌如過 氧化氫*可經由UV照射而形成極具反應性之羥基自由度 (hydroxyl radicals )。這些自由基可作用到大部份的 有機分子。再者,於液體中可加入觸媒,例如锇鹽或錳鹽 等,Μ增強有機污染物的分解。 有利者,該液體係循環流動者。因此之故,少量的液 髏即足Κ進行該方法。污染液體或藥劑可Κ埋鑛地或間隔 地加到在反應器内循環的液體之中。也可以同時處理污染 本紙伕尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本页) Λ冬 •1Τ °〇223j a? __ B7_ 五、發明説明(ς ) 氣體和污染液體。這點對於許多工業而言,可能有其優點 ’例如,對油漆工業等,其所產生的常常不僅是污染廢氣 *而且還有污染廢水。依此,可Μ用相同的方法同時純化 該廢氣和廢水。有利者,可將該氣體流予以部份循環。這 種作法可以用於氣體的含污染物在液相中具有低溶解度, 或基於某些其他理由在通過表面膜時,氣態污染物不完全 轉移到液相中等之情況。另一項優點為,若液體中的Β染 物濃度可測得並Μ此為基礎,控制且於可用處,調節污染 氣體及/或污液液體的供給與排放•及/或該液體及/或 液體的通過次數,及/或該輻射的強度等。如此可Μ達到 該纯化程序的完全自動控制。液體的供給和排放或液體的 通過次數可以經由選擇性测量,例如,一點Κ上·較佳為 黏•亦即,入口,出口及兩者之間者等處的液體和氣體 之辐射吸收或輻射放射而進行調節,且在許多情況中,不 需要使用一個Κ上的反應器。另外可代用者或另外加設者 *也可以經由此調節方法來調整輻射源的強度。再者,為 了方法的最適化,最好使用選擇型輻射器,亦即,具有針 對要脫除的污染物予以最適化過的發射光譜之輻射器。Μ 相同的方式·可以測量其他的特性*例如ρ Η *氧化遢原 電位,電導率,溫度等並用其信號來調節該程序。 本發明也有瞄根據後附申請專利範团第1 1項條文所 述用以實腌本發明方法之装置,其特徴在於其中装著一個 與液體輸送工具相通的唄嘴,其可在容器壁或反應器壁與 本纸伕尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本I) -裝. τ ΙΓ . *-'° A7 B7
¾齊郎t矢陳隼笱貝!.省费合fttt.s-SL 五、發明说明( y ) 1 1 I 該 噴 嘴 之 間 產 生 — 内 聚 性 表 面 膜 % 且 其 中 該 反 應 器 具 有 一 1 1 1 I 入 〇 和 一 出 P 供 氣 體 通 過 該 表 面 膜 〇 該 裝 置 具 有 下 述 優 點 1 I 請 1 I > 亦 即 其 對 污 染 液 體 和 氣 體 的 處 理 同 樣 適 用 且 該 噴 嘴 先 閲 1 I 讀 1 I 的 使 用 具 有 不 損 及 輻 射 發 射 之 大 優 點 0 該 噴 嘴 可 Μ 例 如 背 面 1 I 之 1 , 具 有 環 形 間 隙 可 讓 液 體 在 壓 力 下 噴 出 0 Μ 瑄 種 方 式 注 意 1 1 可 Μ 產 生 薄 的 表 面 膜 讓 氣 體 在 通 過 反 應 器 之 過 程 中 必 定 事 項 1 1 再 1 通 過 該 膜 0 有 利 者 該 氣 體 係 以 相 對 ., 於 該 降 膜 呈 逆 流 方 向 填 寫 本 裝 導 入 該 容 器 0 有 利 者 該 噴 嘴 具 有 輻 動 對 稱 性 近 U 梨 形 的 I 1 I 内 部 空 間 具 有 向 外 曲 的 出 Ρ 例 如 放 寬 成 為 喇 叭 形 狀 1 1 | 的 出 D 及 切 線 地 導 到 該 噴 嘴 内 部 空 間 内 的 供 給 管 線 或 入 1 1 P 〇 利 用 例 如 EP -A -0 2 04 7 0 9中 所 述 類 型 的 旋 轉 嗔 嘴 可 以 订 形 成 一 内 聚 性 緊 密 表 面 膜 而 通 過 該 表 面 膜 的 氣 體 實 際 上 1 I 如 同 通 過 一 微 型 m 器 〇 以 這 種 方 式 可 Μ 確 使 氣 艚 與 液 體 有 1 1 I 實 質 地 完 全 接 觸 〇 該 噴 嘴 的 優 點 在 於 其 所 產 生 的 表 面 膜 非 1 1 常 的 安 定 使 得 氣 體 流 速 可 Μ 相 當 地 高 〇 此 外 產 生 該 表 面 膜 所 需 的 液 體 量 亦 相 當 地 少 〇 再 者 由 於 膜 轉 動 的 结 果 f 1 I 使 得 氣 體 内 所 含 污 染 粒 子 可 向 外 輸 送 到 容 器 壁 而 被 流 動 1 1 | 膜 液 體 所 吸 收 〇 其 有 異 於 臘 希 格 管 柱 之 處 在 於 固 體 不 會 被 1 1 绊 在 ΕΡ -Α -0 2 04 7 0 9的 噴 嘴 内 因 而 不 會 在 某 些 時 間 之 後 將 1 1 其 堵 塞 0 如 此 可 VX 確 得 長 使 用 壽 命 0 1 1 有 利 者 該 反 應 器 為 管 狀 且 該 噴 嘴 係 同 心 地 配 置 在 管 1 1 内 0 理 想 上 修 長 的 ( U V ) 輻 射 器 係 延 伸 經 過 整 個 反 應 1 1 器 使 得 通 過 其 中 的 氣 體 連 鑛 地 暴 露 在 輻 射 之 下 〇 此 即 意 謂 1 1 - 8 - 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐〉 A7 B7 竣濟邹中夬埭隼局員工消費合泎社印策 五、發明説明( Ί ) 1 1 I 著 除 了 在 頂 部 和 底 部 開 Π 的 U V 一 反 應 器 外 沒 有 使 用 浸 漬 1 1 1 | 井 ( i π m e Γ S i 〇 η well) 其 可 能 因 為 需 要 第 二 電 流 導 線 而 '、 1 I 請 1 I 吸 收 掉 一 部 份 的 輻 射 因 而 可 在 U V — 反 應 器 内 施 加 最 先 閲 1 I 讀 1 I 可 能 高 的 輻 射 密 度 而 不 會 因 為 第 二 導 線 和 將 冷 m 媒 體 ( 空 背 1 1 之 1 氣 或 氮 氣 ) 載 送 到 浸 濱 井 底 部 所 需 的 管 子 等 之 吸 收 導 致 能 意 1 量 損 失 0 事 項 1 I 至 於 將 輻 射 源 配 置 在 噴 嘴 軸 上 也 是 有 利 的 方 式 〇 此 舉 再 填 \ U X 4- I 可 >λ 促 成 緊 密 的 反 應 器 構 造 0 再 者 由 於 每 處 所 都 有 輻 贲 1 | 射 亦 即 沒 有 無 感 空 間 ( d e ad S pa c e S ) 因 此 在 反 1 1 1 應 器 内 不 可 能 形 成 细 菌 培 育 處 之 下 該 反 應 器 對 於 水 的 滅 1 1 菌 也 是 優 異 者 〇 不 過 也 可 以 將 輻 射 源 配 置 在 反 應 器 外 面 1 訂 並 使 用 Μ 輻 射 可 透 性 材 料 製 成 的 反 應 器 壁 〇 此 外 也 可 Μ ] I 裝 設 眾 多 噴 嘴 — 支 裝 在 另 一 支 下 方 地 裝 在 反 應 器 管 内 0 1 1 反 應 器 效 率 可 Η 經 由 形 成 眾 多 表 面 膜 而 更 為 改 良 0 有 利 者 1 1 安 裝 收 集 液 體 的 工 具 並 將 其 接 連 地 通 過 個 別 噴 嘴 〇 再 者 1 Γ 1 若 反 應 器 內 壁 具 有 輻 射 反 射 性 塗 層 時 可 >λ 達 到 進 一 步 1 I 的 改 良 0 若 反 射 器 係 用 輻 射 透 射 性 材 料 如 於 U V 輻 射 1 1 I 的 情 況 中 係 使 用 石 英 等 製 成 者 時 可 Μ 同 時 昭 射 在 反 應 器 1 1 外 壁 上 面 的 第 二 道 淋 膜 其 係 用 Μ 另 加 地 供 給 污 染 液 體 者 1 1 0 純 化 程 序 的 效 率 也 可 因 而 增 加 0 另 外 可 >λ 加 裝 外 罩 或 1 I 套 管 其 係 包 住 該 反 應 器 因 而 形 成 一 環 狀 空 間 用 K 供 給 污 1 1 染 液 體 0 兩 個 容 器 之 間 的 距 離 決 定 被 眧 射 液 體 層 的 厚 度 〇 1 1 該 層 厚 度 可 K 根 據 要 脫 除 的 污 染 物 所 具 組 成 和 濃 度 及 輻 射 1 1 - 9_ 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) A7 B7 五、發明説明(?) 源的強度可κ根據要脫除的污染物所具組成和濃度及輻射 源的強度而選擇和調節。有利者,該外容器係由具有反射 内壁的不锈鋼所構成者。 本發明一有利的實施例包括組合眾多管子以形成一管 束和反應器束。所得反應器的容量因而可獲得實質地增加 。有利者,加装一收集盆以收集下流液體並與液體輸送工 具連通。如此,該液體可K實際地視所欲而時常使用。另 外有利地可以在氣體入口與氣體出口之間裝上連接管使得 該氣體可以重複地給經反應器。有利者,加裝一供給管線 κ供給液體及/或添加可被辐射活化的化合物,例如,過 氧化氫。如此可K達到在液體内加速諸化合物,通常是有 機化合物的分解。 根據本發明的方法及用以實施本發明方法的装置不僅 適合用於欧用水·工業廢水等的純化及/或滅菌|而且也 可以用於氣體或液體的除臭。 至此,本發明範例實施例要在下文參考繪圖而進一步 說明,於諸繪圖中: 圖1為用圓柱形管,噴嘴和輻射源等_形成的反應器Μ 縱斷面顯示之基本圖· 圖2Μ圖解顯示本發明具有兩個噴嘴的另一範洌實施 例, 圖3為由眾多管狀反應器組合形成一套所構成的反應 器之透視圖· _ 1 0 _ ―本纸張尺度適用中國國家標準(CNS)Α4規格(2丨0x297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫未页)
*1T S02291 A7 B7 五、發明説明(?) 圖4為圖3所示反應器的平面圖, (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖5為具有圖3所示反應器的纯化装置之略圖,且 圖6 Μ圖形顯示具有雙重套管的反應器之示範實施例 0 參看圖1 ,反應器1 1基本上包括一管13 ,其中配 置一噴嘴1 5和一輻射源1 7。噴嘴1 5具有一梨形内部 空間1 9,其在底部變寬而形成喇叭形式的出口 2 1 。噴 嘴的形狀也可Μ呈鐘形。一管線或入口 2 3可將液體輸送 到噴嘴1 5之内,其係沿切線導到内部空間1 9之内。若 液體在壓力下泵到内部空間1 9之中時,其可在噴嘴1 5 的内壁2 5上形成一内聚性轉動液曆2 7。在這些情形中 ,層2 7的液體會移動經過噴嘴1 5的頸部到達向外彎曲 的出口 2 1 ,於該處會在離心力的作用下實質垂直於輻軸 29而偏轉。於這些情況中,在噴嘴1 5與管1 3之間會 形成一連續表面膜3 1 ,可讓要纯化的氣體通過。因此, 經濟邹中央埭隼局員工消費合作.拉印裝 重要的因素在於利用適當的噴嘴——更特別者,如ΕΡ-Α-0 204 709中所述的旋轉噴嘴——所如此形成的内聚性表 面膜3 1會使得通過氣體入口 47進入管1 3内的氣體流 必定通過該表面膜3 1並發生氣體污染物轉移進入液體。 由於輻射源1 7也是在噴嘴下延伸,因此輻射吸收性污染 物可在實際氣相中吸收輻射源1 7所發射的能量且至少可 部份地分解掉。剩餘的污染物會在通過表面膜3 1時大部 份被洗液的吸收,而經純化過的氣體流可通過氣體出口 -1 1 - 本紙伕尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 竣齊郎中夬埭隼局員工消費合阼汪印裴 Α7 Β7 五、發明説明(| C ) 49而離開反應器1 1 。液體與離開表面膜3 1的污染物 則一起以落膜或淋膜3 3的形式沿著管子内壁3 5向下流 動。於這些情況中,液體會再暴露在輻射下使得污染物的 充分分解因而完成。為了增加分解效應,可在反應器内壁 35上加装反射性塗層。利用在反應器底部的出口34, 該液體可Μ從反應器脫除或利用泵6 9將其泵回到嗔嘴 15。 用Μ產生選擇性發射光譜的輻射源1 7,如汞高壓燈 或金屬鹵化物燈|較佳者係相對於噴嘴15同心配置且延 伸過該噴嘴1 5。這種構造的優點在於進入内.部空間i 9 的液體即可被照射,例如,用Μ活化加到液體中的氧化劑 ’如,過氧化氫。該燈1 7係容納在一密閉的輻射可透性 保護管37之内。於保護管37中導接著供冷却劑用的輸 入口 39和輸出口 4 1 。燈1 7的電導線43、45也是 通過保護管37。如從圖1可看出者,表面膜3 1不接觸 到保護管3 7。這種配置的優點在於保護管3 7對電磁輻 射的透性,即使在長操作期之後,也不會被分解反應所損 Ο 要純化的氣體流5 1 (圖1 )係從底部氣體入口 4 7 通到管子1 3之内,且在通過表面膜3 1之後,經由頂部 氣體出口流出。該氣體的正壓力係經調整使得該表面膜 3 1可在操作中具體地保持著。 圖2以圖形Μ示另一反應器11’ ,其不同於上述第 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本页) 訂 A7 B7 唑齊郎中夬嘌隼旬員31¾費合阼.f±ip" 五、發明説明( ) 1 1 I 一 個 反 應 器 之 處 只 在 於 有 兩 個 噴 嘴 1 5 、 1 5 , 装 在 輻 射 1 1 1 I 源 1 7 或 包 圍 輻 射 源 1 7 的 保 護 管 3 7 之 上 0 以 連 續 方 式 y-V 1 I 請 1 I 或 順 序 地 配 置 之 噴 嘴 具 有 下 述 優 點 t 亦 即 > 要 纯 化 的 氣 體 先 閱 1 I 讀 1 1 流 可 重 複 地 與 液 體 接 few 觸 0 若 從 上 面 的 噴 嘴 1 5 向 下 流 的 液 背 1¾ 1 | 體 之 1 可 收 集 在 配 置 於 其 下 方 的 噴 嘴 1 5 , 上 方 的 管 内 壁 上 之 意 1 1 槽 ( ISI 國 中 未 繪 出 ) 内 且 用 泵 經 由 管 線 ( 圖 中 未 繪 出 ) 泵 到 事 項 1 I 再 1 1 一 其 下 方 的 噴 嘴 1 5 r 之 中 時 即 得 —· 特 殊 實 施 例 〇 該 液 體 填 寫 本 因 而 可 依 幾 乎 级 聯 方 式 的 階 段 被 纯 化 液 體 的 純 度 可 沿 一 1 1 噴 嘴 到 下 一 噴 嘴 而 遞 增 0 1 1 I 圖 3 和 圖 4 所 示 為 由 眾 多 反 rrtm 應 器 管 構 成 的 反 應 器 5 3 1 1 〇 諸 管 子 1 3 經 組 合 形 成 一 反 應 器 或 管 套 5 5 其 間 係 用 ί 訂 穿 孔 金 屬 板 5 9 維 繫 在 一 起 0 管 套 5 5 本 身 係 配 置 在 圓 柱 I 形 套 管 5 7 之 内 〇 該 反 應 器 5 3 可 容 許 高 空 氣 通 量 因 而 1 1 1 具 有 高 純 化 容 量 0 1 1 圖 5 係 舉 例 閭 示 由 一 個 反 應 器 套 5 5 所 構 成 且 具 有 一 1一 收 集 盆 6 3 之 纯 化 装 置 〇 該 收 集 盆 係 經 由 含 有 閥 6 5 的 管 1 I 線 6 7 連 接 到 泵 6 9 〇 該 泵 6 9 可 將 流 出 反 應 器 5 3 的 液 1 1 1 體 經 由 管 線 7 1 輸 送 到 噴 嘴 1 5 因 而 達 到 連 m 的 液 體 循 環 1 1 〇 加 添 的 液 體 可 經 由 有 一 閥 7 5 的 供 給 管 線 7 3 給 入 或 另 1 1 外 可 加 入 氧 化 劑 0 閥 7 8 係 用 來 排 放 液 體 的 〇 1 I 圖 6 圖 形 所 示 出 的 竹 應 器 1 1 ” 係 容 納 在 — 反 應 器 1 1 外 罩 8 1 之 内 0 在 反 應 器 外 罩 套 管 與 管 子 1 3 t 之 間 裝 著 1 1 — 間 隙 或 環 狀 空 間 8 5 * 讓 部 份 的 處 理 液 體 通 過 〇 管 子 1 I - 13 - 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) A7 B7 五、發明説明( 1 1 1 I 1 3 , 係 用 可 透 射 輻 射 的 材 料 所 製 成 的 使 得 流 經 該 環 形 空 1 1 1 間 8 5 的 液 體 也 可 在 操 作 中 被 眧 射 到 0 為 了 確 使 環 形 空 間 S 1 1 請 1 1 8 5 内 形 成 均 勻 的 降 膜 於 外 罩 8 1 的 頂 部 放 寬 而 形 成 一 先 閱 1 I 讀 1 儲 器 8 3 0 背 1 之 1 反 m 器 係 依 下 面 所 述 使 用 將 液 體 如 水 用 泵 6 6 意 1 I 經 由 管 線 6 7 7 1 從 收 集 盆 6 3 輸 送 到 噴 嘴 1 5 0 噴 嘴 事 項 1 I 再 1 1 5 在 反 應 器 5 3 内 形 成 — 連 壤 的 液 幕 ( 圖 5 ) 0 水 Μ 降 填 % 本 本 膜 形 式 沿 著 管 内 壁 流 到 其 下 方 的 收 集 盆 6 3 内 0 同 時 打 開 ίί 1 [ 輻 射 源 1 7 其 較 佳 者 為 汞 高 壓 燈 或 低 壓 燈 〇 也 可 以 使 用 1 1 | 其 他 的 蝠 射 源 如 α 7 一 輻 射 器 K 將 廢 氣 或 廢 水 滅 菌 〇 1 1 要 純 化 的 氣 體 流 較 佳 者 係 從 底 部 導 入 反 應 器 並 通 過 表 1 訂 面 膜 亦 即 相 對 於 降 膜 對 流 方 向 導 入 0 在 通 過 反 應 器 1 I 的 途 中 氣 體 流 5 1 被 輻 射 源 1 7 所 照 射 使 得 污 染 物 在 氣 1 1 I 相 中 即 被 分 解 及 / 或 微 生 物 被 處 理 成 输 害 0 來 自 氣 體 流 的 1 1 任 何 污 染 物 或 其 分 解 產 物 可 經 由 隨 後 與 表 面 膜 3 1 接 觸 而 * J» % 轉 移 到 液 相 中 於 其 中 其 可 經 由 被 同 時 的 照 射 或 經 由 1 I 與 可 被 昭 射 活 化 的 適 當 藥 劑 如 強 氧 化 劑 或 化 合 物 如 1 1 過 氧 化 氫 等 反 應 而 分 解 掉 〇 整 個 分 解 程 序 係 經 由 選 擇 性 測 1 1 量 Μ 測 定 輻 射 吸 收 而 控 制 住 的 〇 該 測 量 最 好 是 在 眾 多 點 進 1 1 行 亦 即 在 反 應 器 的 入 □ 和 出 □ 及 兩 者 之 間 的 點 〇 測 量 1 I 信 號 可 用 於 自 動 程 序 中 Κ 控 制 液 體 和 氣 體 的 輸 送 及 可 能 1 1 者 輻 射 強 度 〇 1 1 想 而 -A___ 之 可 Μ 提 及 者 » 可 能 在 氣 相 或 液 相 中 發 生 的 1 1 - 14 - 1 1 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) A7 B7 五、發明説明(θ ) 污染物分解效率可經由阻斷管狀反應器通道的流動表面膜 ,更特別者轉動表面膜而增加。在氣體通過反應器時,氣 體與液體之間發生有效的接觸使得其間可發生物質轉移。 反應器與噴嘴的形狀基本上可K異於上文所述實施例,只 要所用的噴嘴可以產生實質内聚性的毽定表膜,Μ將反應 器內部空間分割成該表面膜所分的兩段且該氣體在通過反 應器時必定要通過該表面膜或其邊緣區即可。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本页) --丁 短濟郎中夬漂隼局員工消費合作枉印裝 15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4現格(210X297公釐)

Claims (1)

  1. ty A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 IMfl-r貧年^=月/^日所提之 經濟部中央—工消费合作社印製 )内污 降膜( 射,該 器内形 面膜( 2 氣體與 3 氣體係 4 該反應 表面膜 5 該氣體 與在該 化合物 6 液體係 7 氣體流 8 包括測 -一種處理 染氣體及/ 3 3 )形式 方法的特徵 成一内聚性 3 1 )使得 •如申請專 液體係同時 •如申請專 以相對於該 •如申請專 器(1 1 、 反應器(1 1 、1 1 ' 、1 1 ” 、5 3 或液體之方法,於該方法中,液體係Μ 流下反應器壁並同時接受電磁輻射所照 在於其中係利用一噴嘴(1 5 )在反應 表面膜(31)且其中氣體係通過該表 其中可發生從氣相到液相的物質輸送。 利範圍第1項所述之方法,其中在於該 受到照射者。 利範圍第1項所述之方法,其中在於該 降膜(3 3 >呈逆流方向供給的。 利範圍第1項所述之方法,其中在於在 11’ 、11”、53)中產生一轉動 •如申請專利範圍 及/或液體中加入 氣相及/或液相中 第1項所述之方法,其中在於在 至少一種可被輻射所活化且能夠 的至少某些污染物反應之藥劑或 •如申請專利範圍第1項所述之方法 > 其中在於該 循環者。 •如申請專利範圍第1項所述之方法,其中在於該 係經部份循環者。 •如申請專利範圍 量至少某些污染物 第1項所述之方法,其中在於其 的濃度,且,以該測量為基礎, 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· 訂 τΚ^ ό, ρ'8 A8 B8 經濟部中央標準局員工消f合作社印製 六、申請專利範 圍 1 1 控 制 及 於 可 用 處 調 節 1 ! I — — 污 染 氣 aaa 體 及 / 或 污 染 液 體 的 供 給 與 排 放 及 / 或 1 1 J — 一 液 體 及 / 或 氣 體 的 通 過 次 數 及 / 或 請 先 1 Ί 閱 1 * — — 輻 射 的 強 度 〇 讀 背 1 1 ιέ I 9 如 申 請 專 利 範 圍 第 8 項 所 述 之 方 法 甚 中 在 於 其 之 1 1 中 係 在 一 點 上 較 佳 者 在 三 點 亦 即 入 P 出 □ 及 兩 事 1 、 項 1 之 間 選 擇 性 地 測 量 液 體 及 / 或 氣 體 的 吸 收 0 再-填 ' 1 寫 裝 1 1 〇 如 申 請 專 利 範 園 第 8 項 所 述 之 方 法 其 中 在 於 本 頁 其 中 亦 測 量 其 他 程 序 參 數 例如 P Η 氧 化 還 原 電 位 電 V_✓ 1 1 導 率 及 溫 度 等 並 用 控 制 和 亡田 6周 節 該 純 化 程 序 0 1 I 1 1 — 種 處 理 污 染 氣 體 及 / 或 液 體 的 裝 置 其 包 含 1 訂 —» 反 歷 器 ( 1 1 、 1 1 , 1 1 ,, 5 3 ) 配 置 在 反 應 器 ( 1 1 1 1 9 1 1 ” 5 3 ) 之 内 或 周 圍 的 至 少 — 1 個 輻 射 源 ( 1 7 ) 以 用 來 用 電 磁 輻 射 照 射 該 反 應 器 的 内 部 1 I 一 頂 部 的 液 體 入 口 ( 2 3 ) 和 底 部 出 □ ( 3 4 ) 輸 送 1 «V | 旅 工 具 ( 6 9 ) 以 將 液 體 泵 到 該 入 口 ( 2 3 ) 該 装 置 的 特 1 徴 在 於 在 該 反 應 器 ( 1 1 1 1 1 、 1 1 tt > 5 3 ) 内 配 1 1 置 著 一 個 與 該 液 體 輸 送 工 具 相 通 的 噴 嘴 ( 1 5 ) Μ 在 該 反 1 I irtvt m 器 内 壁 ( 3 5 ) 與 該 噴 嘴 之 間 產 生 — 内 聚 性 表 面 膜 ( I 3 1 ) 且 其 中 該 反 應 器 ( 1 1 N 1 1 f 、 1 1 » 5 3 ) 1 1 具 有 — 入 □ 和 一 出 D ( 4 7 、 4 9 ) 以 使 該 氣 體 通 過 該 表 1 1 面 膜 ( 3 1 ) 0 1 | 1 2 如 申 請 專 利 範 圍 第 2 - 1 1 項 所 述 之 装 置 其 中 在 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) A8 B8 SQ2291_於)、K D8 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 六、申請專利範 圍 • 1 1 於 該 噴 嘴 ( 1 5 ) 具 有 一 轉 動 對 稱 性 f 如 梨 形 i 的 内 部 1 1 1 空 間 ( 1 9 ) 其 具 有 一 向 外 彎 曲 的 出 P ( 2 1 ) 且 其 中 1 ! 該 液 體 供 給 管 線 ( 2 3 ) 係 Μ 切 線 方 向 導 到 該 噴 嘴 的 内 部 請 1 j 閱 \ 空 間 ( 1 9 ) 之 内 的 0 讀 眢 1 j A 1 I 1 3 如 串 請 專 利 範 圍 第 1 1 項 所 述 之 裝 置 其 中 在 之 1 注 1 於 該 反 懕 器 ( 1 1 1 1 > 、 1 1 ” 5 3 ) 係 用 最 好 是 思 事 1 項 1 垂 直 配 置 的 管 ( 1 3 ) 所 形 成 的 且 該 噴 嘴 ( 1 5 ) 係 同 心 苒 填 寫 裝 1 地 配 置 在 該 管 内 者 0 本 頁 1 4 如 申 請 專 利 範 圍 第 1 2 項 所 述 之 装 置 其 中 在 '—^ 1 1 於 該 輻 射 源 ( 1 7 ) 係 配 置 在 該 噴 嘴 ( 1 5 ) 的 軸 上 的 〇 1 I 1 5 如 Φ 請 專 利 範 圍 第 1 2 項 所 述 之 裝 置 其 中 在 1 1 訂 於 在 該 反 應 器 ( 1 1 , ) 之 内 装 著 眾 多 彼 此 上 下 配 置 的 噴 嘴 ( 1 5 1 5 t ) 〇 1 1 6 如 甲 請 專 利 範 圍 第 1 5 項 所 述 之 装 置 其 中 在 1 I 於 其 更 包 含 一 工 具 K 收 集 液 體 並 將 其 依 序 通 過 個 別 噴 嘴 ( 1 旅 1 5 ) 0 1 1 7 如 申 請 專 利 範 圍 第 1 1 項 所 述 之 装 置 其 中 在 於 該 反 應 器 係 用 輻 射 透 射 性 材 料 所 構 成 者 0 1 I 1 8 如 申 請 專 利 範 圍 第 1 3 項 所 述 之 装 置 其 中 在 1 I 於 其 更 包 含 一 反 懕 器 罩 ( 8 1 ) 其 係 包 圍 著 該 管 ( 1 3 1 1 β ) Μ 形 成 一 可 供 給 液 體 的 環 狀 空 間 ( 8 5 ) 0 1 1 1 9 如 申 請 專 利 範 圍 第 1 1 項 所 述 之 裝 置 其 中 1 | 在 於 該 反 nta 懕 器 内 壁 ( 3 5 ) 具 3- 有 輻 射 反 射 性 塗 層 0 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐)
    A8 B8 々、申請專利範圍 2〇.如申請專利範圍第13項所述之裝置,其中在 於有眾多管徑組合而形成一管束或反應器束(55)。 2 1 •如申請專利範圍第1 1項所述之裝置,其中在 於其包含一收集盆(6 3) K收集流出該反應器的液體且 其中該收集盆(63)係與該液體輸送工具(69)相通 〇 2 2 ·如申請專利範圍第1 1項所述之装置,其中在 於在該氣體入口 (47)與氣體出口 ( 4 9 )之間裝著一 連通器Μ循環該氣體。 2 3 ·如申請專利範圍第2 1項所述之裝置,其中在 於装有一供給管線以供給疲體及/或装有一供給管線(7 3 ) Κ添加可被輻射活化的化合物。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝. 訂 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210 X 297公釐)
TW084108816A 1994-08-25 1995-08-24 TW302291B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4430231A DE4430231A1 (de) 1994-08-25 1994-08-25 Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Gasen und Flüssigkeiten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW302291B true TW302291B (zh) 1997-04-11

Family

ID=6526581

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW084108816A TW302291B (zh) 1994-08-25 1995-08-24

Country Status (11)

Country Link
US (1) US5958251A (zh)
EP (1) EP0777629B1 (zh)
JP (1) JP3954647B2 (zh)
KR (1) KR100392413B1 (zh)
AT (1) ATE174878T1 (zh)
AU (1) AU3189195A (zh)
DE (2) DE4430231A1 (zh)
IL (1) IL115035A (zh)
MY (1) MY120658A (zh)
TW (1) TW302291B (zh)
WO (1) WO1996006045A1 (zh)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE29608441U1 (de) * 1996-05-09 1996-08-01 Eisenwerke Fried. Wilh. Düker GmbH & Co, 97753 Karlstadt Anlage für die Entkeimung strömender Medien, wie Wasser
DE19652688A1 (de) * 1996-12-18 1998-06-25 Kurt Tillmanns Verfahren und Vorrichtung zum Reinstfiltern und Desinfizieren von Luft
DE19653083B4 (de) * 1996-12-19 2005-09-08 Wedeco Ag Water Technology Strömungsgünstige UV-Desinfektionsvorrichtung
DE19904493B8 (de) * 1999-01-27 2006-06-01 Gensel, Friedemann, Sanibel Island Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung von mit Schadstoffen belasteten pumpfähigen Medien
SG147304A1 (en) * 2001-09-12 2008-11-28 Cumminscorp Ltd A drum filter assembly
DE10147703A1 (de) * 2001-09-27 2003-04-10 Juergen Markert Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Abluft
DE102005043222A1 (de) * 2005-09-09 2007-03-15 Tesa Ag Reaktor zur kontinuierlichen Bestrahlung einer Flüssigkeit mit elektromagnetischen Strahlen oder Elektronenstrahlen
US7741617B2 (en) * 2006-03-28 2010-06-22 Trojan Technologies Fluid treatment system
KR101010559B1 (ko) * 2010-05-11 2011-01-24 정영민 습식 공기정화 장치
WO2012024789A1 (en) * 2010-08-27 2012-03-01 Kenneth Haggerty Improved transfer apparatus and system, and uses thereof
AU2012212406B2 (en) 2011-02-03 2017-04-13 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Gas liquid contactor
EP2674208A1 (de) * 2012-06-17 2013-12-18 UV-Consulting Peschl e. K. UV-Strahlermodul für eine Abluft-, Abgas- oder Raumluftreinigungsvorrichtung
RU2599584C2 (ru) * 2014-10-01 2016-10-10 Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Всероссийский научно-исследовательский институт молочной промышленности" (ФБГНУ "ВНИМИ") Способ очистки отработанного теплоносителя сушильных установок от частиц сухого молока и устройство для его осуществления
DE102020124851A1 (de) 2020-09-24 2022-03-24 Helmholtz-Zentrum Dresden - Rossendorf E. V. Desinfektionsverfahren und Desinfektionsvorrichtung
CN112495324B (zh) * 2020-11-05 2022-07-05 江西天新药业股份有限公司 光化学反应装置

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2527009C3 (de) * 1975-06-18 1979-05-31 Original Hanau Quarzlampen Gmbh, 6450 Hanau Vorrichtung zur UV-Entkeimung von Wasser
US4028246A (en) * 1975-11-20 1977-06-07 Lund Norman S Liquid purification system
AU4446979A (en) * 1978-02-21 1979-08-30 Imperial Chemical Industries Limited Chemical process on the surface of a rotating body
DE3172142D1 (en) * 1980-10-03 1985-10-10 Dresser Uk Ltd Method and apparatus for treating, particularly desulphurising, a polluted gas
DE3344875C1 (de) * 1983-12-12 1985-07-11 Gesellschaft für Korrosionsforschung mbH, 2000 Hamburg Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen von Gasen
WO1986002859A1 (fr) * 1984-11-07 1986-05-22 Terno Ag Procede pour debarasser les gaz de leurs impuretes et dispositif pour la mise en oeuvre du procede
DE3525975A1 (de) * 1985-07-20 1987-01-29 Hoelter Heinz Verfahren zur simultanen so(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)- und no(pfeil abwaerts)x(pfeil abwaerts)-auswaschung aus rauchgasen mittels uv-strahlen-effekt
US4755292A (en) * 1986-08-11 1988-07-05 Merriam Theodore D Portable ultraviolet water sterilizer
US4940519A (en) * 1988-06-27 1990-07-10 Dames Robert G Detoxification apparatus and method for toxic waste using laser energy and electrolysis
DE3837905A1 (de) * 1988-11-04 1990-05-10 Wedeco Entkeimungsanlagen Verfahren und vorrichtung zur behandlung von fluessigkeiten und/oder gasen mittels uv-lichtquellen
DE3903549A1 (de) * 1989-02-07 1990-08-09 Int Biotech Lab Uv-licht zum schadstoffabbau, insbesondere von halogenierten kohlenwasserstoffen
US4980098A (en) * 1989-03-01 1990-12-25 Living Water Corporation Gas/liquid heat and/or mass exchanger
JP2757213B2 (ja) * 1989-09-22 1998-05-25 日本原子力研究所 水流殺菌装置
DE4005488A1 (de) * 1990-02-21 1991-08-22 Wabner Dietrich Verfahren und vorrichtung zur wasserentgiftung
DE4016514C3 (de) * 1990-05-22 1996-03-21 Ultra Systems Gmbh Uv Oxidatio Verfahren zum Abbau von organischen Substanzen
DE9017684U1 (de) * 1990-08-08 1991-11-14 Ibl Umwelt- Und Biotechnik Gmbh, 6900 Heidelberg Vorrichtung zur Durchführung photochemischer Reaktionen
CA2042630A1 (en) * 1990-09-27 1992-03-28 Louis O. Torregrossa Method and apparatus for beneficiating waste-waters
DE4137301C1 (zh) * 1991-11-08 1993-06-24 Schering Ag Berlin Und Bergkamen, 1000 Berlin, De
DE4136949A1 (de) * 1991-11-11 1993-05-13 Roswitha Niedermeier Verfahren und vorrichtung zur photooxidativen reinigung von organisch belastetem wasser
US5372781A (en) * 1992-02-18 1994-12-13 Solarchem Enterprises Inc. UV reactor assembly with improved lamp cooling means
DE4210509A1 (de) * 1992-03-31 1993-10-07 Peter Ueberall Vorrichtung zum Bestrahlen von Flüssigkeiten und/oder Gasen mittels ultravioletter Strahlen
DE4224130A1 (de) * 1992-07-22 1994-03-24 Arnold Joerg Dr UV-Zentrifugalreaktor zur Abwasserreinigung
DE4304444A1 (de) * 1993-02-13 1994-08-18 Peter Ueberall Vorrichtung zur Behandlung von Flüssigkeiten und/oder Gasen mit ultravioletten Strahlen
DE4307204C2 (de) * 1993-03-08 1995-01-12 Univ Schiller Jena Anordnung zur Reinigung von Flüssigkeiten und/oder Gasen
DE4317939C2 (de) * 1993-04-27 1995-09-28 Darius Jung Vorrichtung zur Optimierung der Intensität der auf zu bestrahlende Flüssigabfälle und Abwasser gerichteten Strahlung

Also Published As

Publication number Publication date
EP0777629A1 (en) 1997-06-11
US5958251A (en) 1999-09-28
WO1996006045A1 (en) 1996-02-29
IL115035A0 (en) 1995-12-08
ATE174878T1 (de) 1999-01-15
JP3954647B2 (ja) 2007-08-08
DE69506883D1 (de) 1999-02-04
IL115035A (en) 1998-03-10
DE69506883T2 (de) 1999-08-26
KR100392413B1 (ko) 2003-10-22
EP0777629B1 (en) 1998-12-23
MY120658A (en) 2005-11-30
AU3189195A (en) 1996-03-14
DE4430231A1 (de) 1996-02-29
JPH10507680A (ja) 1998-07-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW302291B (zh)
US5474748A (en) Water decontaminating device
US6991735B2 (en) Free radical generator and method
US7662293B2 (en) Method and apparatus for liquid purification
TW200413255A (en) Ultraviolet-and-ozone disinfection apparatus having improvement on dis-infection effect
EP0671363B1 (en) Method and system for treating polluted water
JPH1133567A (ja) オゾン分解方法とその装置
JPH06277660A (ja) 水処理装置
JP4229363B2 (ja) 水処理装置
CN103274495A (zh) 一种紫外线与次生臭氧水处理装置
KR100348413B1 (ko) 자외선 및 오존 발생 에이오피 챔버 및 이를 이용한수처리 장치
KR200346263Y1 (ko) 광촉매 살균정수 장치를 이용한 직결형 광촉매 살균 정수기
JPH09155160A (ja) 揮発性有機化合物の分解除去装置及び方法
US3865734A (en) Irradiator apparatus
JP4093409B2 (ja) 流体浄化方法および流体浄化装置
CN106745483A (zh) 一种多级光催化废水深度处理装置
JPH09155337A (ja) 揮発性有機化合物の分解除去装置及び方法
JP3270509B2 (ja) 浴槽湯の殺菌浄化装置
JPH07236884A (ja) 水の浄化及び滅菌処理装置
JP2579227B2 (ja) トリハロメタンの除去装置及び水の浄化装置
WO2026004637A1 (ja) 紫外線処理装置
JPH08155445A (ja) 水処理装置
JPH05305291A (ja) 浴槽湯の清浄化装置
JP2002186850A (ja) 有機化合物類分解システム
JP3039897U (ja) 殺菌装置