TW202226608A - 多層結構體及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
本多層結構體具有樹脂層以及在上述樹脂層上藉由接著劑層而層疊的玻璃層,上述玻璃層的厚度為10μm以上300μm以下,上述樹脂層的外周部的厚度為5μm以上。
Description
發明領域
本發明係關於多層結構體及其製造方法。
已知使2層以上的層層疊的多層結構體。作為一例,可舉出在板厚薄的玻璃層(玻璃膜)上層疊有銀反射層的多層結構體。該多層結構體的厚度在例如,1.0~200μm的範圍内。該多層結構體例如,由藉由向下拉引法而成型的玻璃輥來獲得。
先實施技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2013-231744號公報
<發明欲解決之問題>
上述那樣的板厚薄的玻璃層非常地脆,因此易於產生裂縫,此外操作性差,例如,提出了在玻璃層的單側黏貼樹脂層並增強,提高操作性的多層結構體。
然而,在樹脂層上層疊有薄的玻璃層的多層結構體中,玻璃層易於產生裂縫這樣的課題未被充分地解決。
本發明是鑑於上述點而提出的,其目標在於提供玻璃層不易產生裂縫的多層結構體。
用於解決課題的方法
本多層結構體具有:樹脂層、在上述樹脂層上藉由接著劑層而層疊的玻璃層,上述玻璃層的厚度為10μm以上300μm以下,上述樹脂層的外周部的厚度為5μm以上。
<發明之功效>
根據公開的技術,能夠提供玻璃層不易產生裂縫的多層結構體。
以下,參照附圖對於具體實施方式進行說明。在各附圖中,同一構成部分附上同一符號,有時省略重複的說明。
〈第1實施方式〉
[多層結構體]
圖1為例示第1實施方式涉及的多層結構體的斷面圖。圖2為例示第1實施方式涉及的多層結構體的底視圖,為將多層結構體從樹脂層的下面側觀察的圖。
如圖1和圖2所顯示那樣,多層結構體1具有樹脂層10、接著劑層20以及玻璃層30。樹脂層10具有上面10a、下面10b以及側面10c。玻璃層30具有上面30a、下面30b以及側面30c。多層結構體1中,玻璃層30在樹脂層10的上面10a藉由接著劑層20而層疊。即,接著劑層20將樹脂層10的上面10a與玻璃層30的下面30b進行接著。
多層結構體1的平面形狀(從玻璃層30的上面30a的法線方向觀察的形狀為例如,矩形狀。然而,並不限定於此,多層結構體1的平面形狀能夠採用圓形狀、橢圓形狀、它們的複合、其它適當的形狀。多層結構體1具有撓性,因此也能夠容易地黏貼於曲面。
本實施方式中,作為一例,使多層結構體1的平面形狀為矩形狀。具體而言,本實施方式中,作為一例,樹脂層10的平面形狀為矩形狀,玻璃層30的平面形狀也為矩形狀。玻璃層30的斷面形狀為矩形狀。
樹脂層10具有外周部101、内側部102以及傾斜部103。外周部101為面向樹脂層10的外緣的部分,外周部101的寬度為例如,20μm~150μm左右。外周部101的厚度為5μm以上。藉由使外周部101的厚度為5μm以上,從而在照射鐳射以加工樹脂層10時,能夠防止由鐳射產生的熱的影響波及玻璃層30。其結果是在將玻璃層30利用鐳射切斷時,能夠抑制玻璃層30產生裂縫。此外,外周部101的厚度優選為105μm以下。由此,樹脂層10和玻璃層30利用鐳射器進行的分斷性提高。對於多層結構體1的製造工序進行後述。
内側部102設置於與外周部101相比靠樹脂層10的中心側。内側部102為與外周部101相同厚度,或與外周部101相比厚的壁厚部。在外周部101與内側部102為相同厚度的情況下,樹脂層10的總體的厚度為5μm以上,基本上一定。
樹脂層10在内側部102比外周部101厚的情況下,可以在内側部102與外周部101之間,具有隨著從外周部101朝向内側部102而厚度逐漸增加的傾斜部103。傾斜部103的側面為與樹脂層10的下面10b所形成的角度大於90度的傾斜面。從樹脂層10的與玻璃層30相反側(下面10b側)觀察,傾斜部103和外周部101例如,環狀地設置於内側部102的周圍。
然而,根據多層結構體1的製作方法,有時底面視時,僅僅在樹脂層10的一邊,形成傾斜部103,在樹脂層10的二邊或三邊形成傾斜部103。此外,外周部101的厚度為5μm以上,但是不需要為一定厚度。例如,可以是底面視時,在樹脂層10的一邊所面向的部分,外周部101的厚度為5μm,其它三邊所面向的部分中,外周部101比5μm厚。或者可以是底面視時,在樹脂層10的二邊或三邊所面向的部分,外周部101的厚度為5μm,其它二邊或一邊所面向的部分中,外周部101比5μm厚。
圖3為第1實施方式涉及的多層結構體的外周部附近的部分放大斷面圖。如圖3所顯示那樣,多層結構體1中,外周部101的端部從玻璃層30的側面30c在水平方向上突出。外周部101的端部的、從玻璃層30的側面30c的突出量P1優選為大於0μm且10μm以下。藉由使突出量P1為10μm以下,從而能夠維持作為製品的尺寸精度,並且外觀上的問題也不產生。然而,突出量P1為0μm也可以。即,俯視時,外周部101的外緣與玻璃層30的外緣可以一致。
這裡,對於多層結構體1的各部分的材料等進行說明。
[樹脂層、殘樹脂層]
樹脂層10為作為將玻璃層30等層疊的基材的層,具有撓性。樹脂層10由1層或複數個層構成。在樹脂層10由複數個層形成的情況下,優選介在具有接著功能的密著層進行層疊。樹脂層10的總厚度從撓性的觀點考慮,只要為20μm以上1000μm以下即可,優選為25μm以上500μm以下,更優選為50μm以上200μm以下的範圍。在樹脂層10由1層構成的情況下,樹脂層10的厚度例如,能夠為30μm以上50μm以下的範圍。
作為樹脂層10的材料,可舉出例如,聚對苯二甲酸乙二醇酯系樹脂、聚萘二甲酸乙二醇酯系樹脂等聚酯系樹脂、降冰片烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺醯胺系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚醯亞胺系樹脂、纖維素系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂等。
[接著劑層]
作為接著劑層20,使用任意適當的接著劑。接著劑層20的厚度為例如,0.5μm以上25μm以下。作為接著劑層20,能夠利用例如,丙烯酸系黏著劑、有機矽系黏著劑、橡膠系黏著劑、紫外線固化性丙烯酸系接著劑、紫外線固化性環氧系接著劑、熱固性環氧系接著劑、熱固性三聚氰胺系接著劑、熱固性苯酚系接著劑、乙烯乙酸乙烯酯(EVA)中間膜、聚乙烯醇縮丁醛(PVB)中間膜等。
另外,在本說明書中,所謂黏著劑,為在常溫下具有接著性,以輕的壓力接著於被著體的層。因此,即使在剝離貼著於黏著劑的被著體的情況下,黏著劑也保持實用上的黏著力。另一方面,所謂接著劑,為藉由介於物質之間而能夠結合物質的層。因此,在剝離貼著於接著劑的被著體的情況下,接著劑不具有實用上的接著力。
[玻璃層]
玻璃層30沒有特別限定,能夠根據目的採用適當的物質。玻璃層30根據利用組成的分類,可舉出例如,鈉鈣玻璃、硼酸玻璃、矽酸鋁玻璃、石英玻璃等。另外,根據利用鹼成分的分類,可舉出無鹼玻璃、低鹼玻璃。上述玻璃的鹼金屬成分(例如,Na
2O、K
2O、Li
2O)的含量優選為15重量%以下,進一步優選為10重量%以下。
玻璃層30的厚度如果考慮玻璃所具有的表面硬度、氣密性、耐腐蝕性,則優選為10μm以上。另外,由於期望玻璃層30具有膜那樣的撓性,因此玻璃層30的厚度優選為300μm以下。玻璃層30的厚度進一步優選為30μm以上200μm以下,特別優選為50μm以上100μm以下。
玻璃層30的波長550nm時的光透射率優選為85%以上。玻璃層30的波長550nm時的折射率優選為1.4~1.65。玻璃層30的密度優選為2.3g/cm
3~3.0g/cm
3,進一步優選為2.3g/cm
3~2.7g/cm
3。
玻璃層30的成型方法沒有特別限定,能夠根據目的採用適當的物質。代表性地,玻璃層30能夠將包含二氧化矽、氧化鋁等主原料、芒硝、氧化銻等消泡劑以及碳等還原劑的混合物在1400℃~1600℃左右的溫度進行熔融,成型為薄板狀之後,冷却並製作。作為玻璃層30的成型方法,可舉出例如,流孔下拉法、熔合法、浮漂法等。藉由這些方法而成型為板狀的玻璃層為了薄板化,或提高平滑性,可以根據需要利用氫氟酸等溶劑進行化學地研磨。
另外,可以在玻璃層30的表面設置防污層、防反射層、導電層、反射層、裝飾層等功能層。
[多層結構體的製造方法]
圖4~圖9為例示第1實施方式涉及的多層結構體的製造工序的圖。一邊參照圖4~圖9,一邊對於多層結構體的製造工序,特別是以使用了鐳射器的切斷工序為中心進行說明。首先,如圖4和圖5所顯示那樣,準備將樹脂層10與玻璃層30藉由接著劑層20而層疊的片狀的多層結構體1S。多層結構體1S中,玻璃層30的厚度為10μm以上300μm以下。此外,樹脂層10的厚度為5μm以上。
多層結構體1S能夠藉由壓製加工等,使形成為規定的形狀的樹脂層10與玻璃層30藉由接著劑層20進行層疊而得。或者,可以將樹脂層10與玻璃層30藉由接著劑層20,利用輥到輥工藝,連續地層疊後,藉由壓製加工等,單片化為任意尺寸。此外,可以調整已經完成的多層結構體1S。
多層結構體1S中,藉由進行單片化,從而成為多層結構體1的複數個製品區域A被劃定。圖4的例子中,製品區域A以規定間隔縱橫地配置,但並不限定於此。例如,製品區域A可以一維地配置。另外,圖4為平面圖,圖5為將1個製品區域A的附近圖示的部分放大斷面圖。
接下來,如圖6所顯示那樣,對於多層結構體1S的各個製品區域A的外周部,從樹脂層10的下面10b側照射鐳射L1。例如,對於圖4所顯示的各個製品區域A的外周部依次格子狀地照射鐳射L1。如圖7所顯示那樣,鐳射L1例如,設定為沒有貫通樹脂層10的照射條件。
藉由鐳射L1的照射,樹脂層10中,例如,在圖4所顯示的各個製品區域A的外周部格子狀地形成斷面形狀為大致梯形狀的槽10x。槽10x的最寬的部分的寬度(樹脂層10的下面10b側的寬度)為例如,40μm~300μm左右。此外,在槽10x的底面側(玻璃層30側),殘樹脂層105在圖4所顯示的各個製品區域A的外周部格子狀地形成。以使殘樹脂層105的厚度T1成為5μm以上的方式,調整鐳射L1的照射條件。
鐳射L1的照射例如,能夠使用二氧化碳鐳射器。另外,鐳射L1的照射可以使用飛秒鐳射器,但是在由熱的影響帶來的樹脂層10的掉色成為問題的情況下,優選使用樹脂層10的掉色不易發生的二氧化碳鐳射器。
另外,圖6和圖7所顯示的工序只要根據需要來實施即可。即,如果樹脂層10的厚度為105μm以下,則分斷性良好,因此即使沒有設置槽10x,在圖8和圖9所顯示的工序中,也能夠利用鐳射L2切斷玻璃層30和樹脂層10。在樹脂層10的厚度比105μm大的情況下,優選以使殘樹脂層105的厚度T1成為5μm以上的方式形成槽10x。由此,圖8和圖9所顯示的工序中,利用鐳射L2的樹脂層10的分斷性變得良好。
接下來,如圖8所顯示那樣,對於多層結構體1S的各個製品區域A的外周部從玻璃層30的上面30a側照射鐳射L2。例如,在圖4所顯示的各個製品區域A的外周部,沿格子以規定間隔點狀地照射鐳射L2。如圖9所顯示那樣,鐳射L2進行照射直至玻璃層30和殘樹脂層105被切斷,各個製品區域A被單片化。藉由照射鐳射L2以切斷玻璃層30和殘樹脂層105,從而圖4所顯示的各個製品區域A被單片化,製作複數個多層結構體1。鐳射L2的照射能夠使用飛秒鐳射器、二氧化碳鐳射器。另外,切斷了殘樹脂層105的部分成為圖1等所顯示的外周部101。
在使用飛秒鐳射器的情況下,1個點的直徑為0.5μm~2μm左右,相鄰的點的間隔為0μm~2μm左右。即,有時相鄰的點重疊,間隔沒有空出。在使用二氧化碳鐳射器的情況下,點的直徑、間隔成為使用飛秒鐳射器的情況下的10倍以上。如果考慮玻璃層30的加工性,則該工序中,優選使用飛秒鐳射器。
如圖9所顯示那樣,在照射鐳射L2以切斷殘樹脂層105來形成外周部101時,有時藉由由鐳射L2的照射引起的發熱,從而外周部101的端部膨脹,從玻璃層30的側面30c在水平方向上突出。在使用飛秒鐳射器的情況下,外周部101的端部的、從玻璃層30的側面30c的突出量為3μm以上且小於5μm左右。在使用二氧化碳鐳射器的情況下,外周部101的端部的、從玻璃層30的側面30c的突出量為大於0μm且10μm以下左右。
圖10為例示比較例涉及的多層結構體的製造工序的圖。如圖10所顯示那樣,對於樹脂層10從樹脂層10的下面10b側照射鐳射L1時,沒有設置殘樹脂層,設定為貫通樹脂層10的照射條件。
在該情況下,玻璃層30的下面30b側受到由鐳射L1的照射產生的熱的影響。因此,從玻璃層30的貫通孔10y内露出的下面30b在玻璃層30的厚度方向上,形成規定厚度的熔融層35。例如,在玻璃層30的下面30b側,斷面形狀為大致半圓狀的熔融層35在圖4所顯示的各個製品區域A的外周部格子狀地形成。
熔融層35為由來自樹脂層10側的鐳射的照射帶來的熱破壞而形成的層,產生殘留應力。因此,如果切斷熔融層35的厚的部分,則切斷的部分易於產生裂縫。
與此相對,如本實施方式那樣,在設置殘樹脂層105的情況下,玻璃層30的下面30b側不易受到由鐳射L1的照射而產生的熱的影響。因此,玻璃層30的下面30b沒有形成熔融層35。換句話說,以沒有形成熔融層35的程度,設定殘樹脂層105的厚度。如果殘樹脂層105的厚度為5μm以上,則沒有形成熔融層35。
這樣,本實施方式中,樹脂層10的外周部101的厚度為5μm以上。外周部101由於藉由鐳射而切斷並形成,因此藉由使外周部101的厚度為5μm以上,從而在照射鐳射以加工樹脂層10時,能夠防止由鐳射產生的熱的影響波及玻璃層30。其結果是在將玻璃層30利用鐳射切斷時,能夠抑制玻璃層30產生裂縫。
另外,如果使用飛秒鐳射器來加工玻璃層30,則玻璃層30的加工側面(切斷面)殘留加工痕跡。加工痕跡為使鐳射器照射方向成為長度方向的線狀的槽。相鄰的槽的間距根據條件發生變動,成為大約1μm左右。此外,槽的寬度方向的斷面成為大約半圓狀,加工痕跡的高度(槽的深度)以平均計為0.1μm左右。
〈第1實施方式的變形例1〉
第1實施方式的變形例1中,顯示樹脂層由複數個層構成的多層結構體的例子。另外,第1實施方式的變形例1中,有時省略對於與已經說明的實施方式同一構成部的說明。
圖11為例示第1實施方式的變形例1涉及的多層結構體的斷面圖。如圖11所顯示那樣,多層結構體1A在樹脂層10由複數個層構成這一點與多層結構體1(參照圖1等)不同。
樹脂層10與第1實施方式同樣,具有外周部101、内側部102以及傾斜部103。樹脂層10的外周部101的厚度為5μm以上。外周部101、内側部102和傾斜部103由1層以上構成,可以由2層以上構成。例如,圖11中,外周部101由2層構成,但可以由1層構成,也可以由3層以上構成。
樹脂層10從接著劑層20側起,依次具備偏振片12、黏著劑層18以及離形膜19。但是,樹脂層10可以進一步具備其它層。例如,樹脂層10能夠在偏振片12與黏著劑層18之間具備相位差層,但並不限定於此。
樹脂層10的彈性模量優選為0.1GPa~8.0GPa,更優選為0.2GPa~7.0GPa,進一步優選為0.3GPa~5.0GPa。在本說明書中,彈性模量能夠使用自動繪圖器,以下述條件進行測定。
[彈性模量測定方法]
測定溫度:23℃
樣品尺寸:寬度2cm,長度15cm
夾盤間距離:10cm
拉伸速度:10mm/min。
偏振片12配置於接著劑層20側。偏振片12具有偏光元件121、第1保護膜122和第2保護膜123。第1保護膜122配置於偏光元件121的接著劑層20側,第2保護膜123配置於偏光元件121的黏著劑層18側。
離形膜19藉由黏著劑層18,配置於第2保護膜123的與偏光元件121的相反側。
以下,對於樹脂層10的各構成要素,進一步詳細地說明。
[偏振片]
偏振片12的厚度優選為5μm~300μm,更優選為10μm~250μm,進一步優選為25μm~200μm,特別優選為25μm~100μm。
偏振片12的彈性模量優選為1GPa以上,更優選為1GPa~10GPa,進一步優選為2GPa~7GPa,特別優選為2GPa~5GPa。如果為這樣的範圍,則獲得耐擊穿性優異的多層結構體1A。
偏振片12的形狀沒有特別限定,能夠根據目的採用適當的形狀,作為一例,可舉出具有長邊和短邊的方形形狀。在偏振片12為方形形狀的情況下,偏振片12所具有的偏光元件121的吸收軸向與偏振片12的長邊或短邊優選大致平行。另外,在本說明書中,所謂「大致平行」,為不僅嚴密地平行的情況,而且兩線所形成的角為±10°(優選為±5°)的情況也包含在內的概念。
[偏光元件]
偏光元件121的厚度沒有特別限定,能夠根據目的採用適當的厚度。偏光元件121的厚度代表性地為1μm~80μm左右。作為偏光元件121,可以使用薄型的偏光元件,在該情況下,偏光元件121的厚度優選為20μm以下,更優選為15μm以下,進一步優選為10μm以下,特別優選為6μm以下。
偏光元件121優選在波長380nm~780nm的任一的波長顯示吸收二色性。偏光元件的單體透射率優選為40.0%以上,更優選為41.0%以上,進一步優選為42.0%以上,特別優選為43.0%以上。偏光元件121的偏光度優選為99.8%以上,更優選為99.9%以上,進一步優選為99.95%以上。
偏光元件121優選為碘系偏光元件。更詳細地說,上述偏光元件能夠由包含碘的聚乙烯醇系樹脂(以下,稱為「PVA系樹脂」)膜構成。
作為形成PVA系樹脂膜的PVA系樹脂,沒有特別限定,能夠根據目的採用適當的樹脂,可舉出例如,聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚體。
聚乙烯醇藉由將聚乙酸乙烯酯進行皂化而得。乙烯-乙烯醇共聚體藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚體進行皂化而得。PVA系樹脂的皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%,優選為95.0莫耳%~99.95莫耳%,進一步優選為99.0莫耳%~99.93莫耳%。皂化度按照JIS K 6726-1994而求出。藉由使用這樣的皂化度的PVA系樹脂,從而獲得耐久性優異的偏光元件。在皂化度過高的情況下,存在會發生凝膠化的擔憂。
PVA系樹脂的平均聚合度沒有特別限定,能夠根據目的適當地選擇。PVA系樹脂的平均聚合度為例如,1000~10000,優選為1200~5000,進一步優選為1500~4500。另外,平均聚合度按照JIS K 6726-1994而求得。
作為偏光元件121的製造方法,可舉出例如,將PVA系樹脂膜單體進行拉伸,染色的方法(I);將具有樹脂基材和聚乙烯醇系樹脂層的層疊體(i)進行拉伸,染色的方法(II)等。方法(I)為本業界中眾所週知慣用的方法,因此省略詳細的說明。
方法(II)優選包含將具有樹脂基材以及形成於該樹脂基材的單側的聚乙烯醇系樹脂層的層疊體(i)進行拉伸,染色,在該樹脂基材上製作偏光元件的工序。層疊體(i)為在樹脂基材上將包含聚乙烯醇系樹脂的塗布液進行塗布-乾燥來形成而得。另外,層疊體(i)可以將聚乙烯醇系樹脂層轉印至樹脂基材上而形成。上述製造方法(II)的詳細情況例如,記載於日本特開2012-73580號公報,該公報能夠在本說明書中作為参考而援用。
[第1和第2保護膜]
作為第1保護膜122和第2保護膜123,沒有特別限定,能夠根據目的採用適當的樹脂膜。作為第1保護膜122和第2保護膜123的形成材料,可舉出例如,聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)等聚酯系樹脂、三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、降冰片烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚乙烯、聚丙烯等烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等。這些之中,優選為聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)。另外,所謂「(甲基)丙烯酸系樹脂」,是指丙烯酸系樹脂和/或甲基丙烯酸系樹脂。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂,例如,使用具有戊二醯亞胺結構的(甲基)丙烯酸系樹脂。具有戊二醯亞胺結構的(甲基)丙烯酸系樹脂(以下,也稱為戊二醯亞胺樹脂)記載於例如,日本特開2006-309033號公報、日本特開2006-317560號公報、日本特開2006-328329號公報、日本特開2006-328334號公報、日本特開2006-337491號公報、日本特開2006-337492號公報、日本特開2006-337493號公報、日本特開2006-337569號公報、日本特開2007-009182號公報、日本特開2009-161744號公報、日本特開2010-284840號公報。它們的記載能夠在本說明書中作為参考而援用。
第1保護膜122和第2保護膜123與偏光元件121能夠藉由任意的適當的接著劑層而層疊。偏光元件121的製作時所使用的樹脂基材在將第1保護膜122和第2保護膜123與偏光元件121層疊之前,或者層疊之後被剝離。
第1保護膜122和第2保護膜123的厚度優選為4μm~250μm,更優選為5μm~150μm,進一步優選為10μm~100μm,特別優選為10μm~50μm。
第1保護膜122和第2保護膜123的彈性模量為1GPa以上,優選為1GPa~10GPa,更優選為1.8GPa~7GPa,進一步優選為2GPa~5GPa。如果為這樣的範圍,則獲得耐擊穿性優異的多層結構體1A。
[黏著劑層]
黏著劑層18能夠由任意的適當的黏著劑來形成。作為黏著劑,使用例如,將丙烯酸系聚合物、有機矽系聚合物、聚酯、聚胺酯、聚醯胺、聚醚、氟系、橡膠系等聚合物作為基礎聚合物的黏著劑。優選使用丙烯酸系黏著劑。這是因為丙烯酸系黏著劑的光學的透明性優異,顯示適度的潤濕性、凝集性和接著性的黏著特性,耐候性、耐熱性等優異。特別優選為由碳數為4~12的丙烯酸系聚合物形成的丙烯酸系黏著劑。
黏著劑層18的厚度優選為1μm~100μm,更優選為3μm~80μm,進一步優選為3μm~50μm。如果為這樣的範圍,則在將多層結構體1A黏貼於液晶單元等光學元件以製作光學層疊體時,獲得撓性優異,並且耐擊穿性優異的光學層疊體。
[離形膜]
離形膜19例如,能夠由聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)等樹脂來形成。離形膜19的厚度優選為5μm~125μm,更優選為20μm~75μm,進一步優選為30μm~50μm。離形膜19在多層結構體1A黏貼於液晶單元等光學元件之前,在與黏著劑層18的界面處被剝離。
這樣,多層結構體中,樹脂層10可以由1層構成,也可以由複數個層構成。在任一情況下,藉由使外周部101的厚度為5μm以上,從而在照射鐳射以加工樹脂層10時,能夠防止由鐳射產生的熱的影響波及玻璃層30。其結果是在將玻璃層30利用鐳射切斷時,能夠抑制玻璃層30產生裂縫。即使在樹脂層10由複數個層構成的情況下,利用鐳射器的切斷方法也與第1實施方式同樣。
以下的實施例和比較例子中,製作改變了層構成的多層結構體,改變鐳射器種類、鐳射器輸出條件和殘樹脂層的厚度,對於玻璃層或樹脂層的突出量、玻璃層的裂縫的有無和玻璃層和樹脂層的分斷性的可否進行研究。詳細的條件、研究結果如圖12所示的那樣。圖12中,fsIR表示飛秒鐳射器,CO
2表示二氧化碳鐳射器。另外,樹脂層中,存在外周部與内側部為相同厚度的情況。即,存在樹脂層與殘樹脂層為相同厚度的情況。
[實施例1]
實施例1中,利用圖4、5、8和9所顯示的製造工序製作圖1所顯示的結構的多層結構體。由實施例1製作的多層結構體中,玻璃層的材料使用無鹼玻璃,厚度為約50μm。接著劑層的材料使用紫外線固化性環氧系接著劑,厚度為約1.5μm。樹脂層的材料使用聚對苯二甲酸乙二醇酯系樹脂,厚度為約105μm。殘樹脂層的厚度與樹脂層相同,為105μm。
[實施例2]
實施例2中,利用圖4、5、8和9所顯示的製造工序製作圖1所顯示的結構的多層結構體。由實施例2製作的多層結構體中,玻璃層的材料使用無鹼玻璃,厚度為約100μm。接著劑層的材料使用紫外線固化性環氧系接著劑,厚度為約1.5μm。樹脂層的材料使用丙烯酸系樹脂,厚度為約40μm。殘樹脂層的厚度與樹脂層相同,為40μm。
[比較例1]
比較例1中,利用圖4、5、8和9所顯示的製造工序製作圖1所顯示的結構的多層結構體。由比較例1製作的多層結構體中,玻璃層的材料使用無鹼玻璃,厚度為約100μm。接著劑層的材料使用紫外線固化性環氧系接著劑,厚度為約1.5μm。樹脂層的材料使用丙烯酸系樹脂,厚度為約188μm。殘樹脂層的厚度與樹脂層相同,為188μm。
[實施例3]
實施例3中,利用圖4~圖9所顯示的製造工序製作圖1所顯示的結構的多層結構體。由實施例3製作的多層結構體中,玻璃層的材料使用無鹼玻璃,厚度為約100μm。接著劑層的材料使用紫外線固化性環氧系接著劑,厚度為約1.5μm。樹脂層的材料使用丙烯酸系樹脂,厚度為約188μm。殘樹脂層的厚度為20μm。
[實施例4]
實施例4中,利用圖4~圖9所顯示的製造工序製作圖11所顯示的結構的多層結構體。由實施例4製作的多層結構體中,玻璃層的材料使用無鹼玻璃,厚度為約100μm。接著劑層的材料使用紫外線固化性環氧系接著劑,厚度為約1.5μm。第1保護膜的材料使用丙烯酸系樹脂,厚度為約40μm。偏光元件的材料使用包含碘的聚乙烯醇系樹脂,厚度為約5μm。第2保護膜的材料使用丙烯酸系樹脂,厚度為約40μm。黏著劑層的材料使用丙烯酸系聚合物,厚度為約40μm。離形膜的材料使用聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET),厚度為約38μm。樹脂層的總厚度為約160μm。殘樹脂層的厚度為40μm。
[實施例5]
實施例5中,利用圖4~圖9所顯示的製造工序製作圖11所顯示的結構的多層結構體。由實施例5製作的多層結構體中,玻璃層的材料使用無鹼玻璃,厚度為約100μm。接著劑層的材料使用紫外線固化性環氧系接著劑,厚度為約1.5μm。樹脂層的層構成與實施例4相同,樹脂層的總厚度為約160μm。殘樹脂層的厚度為5μm。
[實施例6]
實施例6中,利用圖4~圖9所顯示的製造工序製作圖11所顯示的結構的多層結構體。由實施例6製作的多層結構體中,玻璃層的材料使用無鹼玻璃,厚度為約100μm。接著劑層的材料使用紫外線固化性環氧系接著劑,厚度為約1.5μm。樹脂層的層構成與實施例4相同,樹脂層的總厚度為約160μm。殘樹脂層的厚度為60μm。
[比較例2]
比較例2中,利用圖4~圖9所顯示的製造工序製作圖11所顯示的結構的多層結構體。由比較例2製作的多層結構體中,玻璃層的材料使用無鹼玻璃,厚度為約100μm。接著劑層的材料使用紫外線固化性環氧系接著劑,厚度為約1.5μm。樹脂層的層構成與實施例4相同,樹脂層的總厚度為約160μm。殘樹脂層的厚度為0μm。
[實施例7]
實施例7中,利用圖4~圖9所顯示的製造工序製作圖11所顯示的結構的多層結構體。由實施例7製作的多層結構體中,玻璃層的材料使用無鹼玻璃,厚度為約100μm。接著劑層的材料使用紫外線固化性環氧系接著劑,厚度為約1.5μm。樹脂層的層構成與實施例4相同,樹脂層的總厚度為約160μm。殘樹脂層的厚度為5μm。
[結果的研究]
由圖12的實施例1、實施例2和比較例1,殘樹脂層的厚度為188μm時,分斷性差,但是如果為105μm以下,則分斷性良好。此外,實施例3~7的結果中,也顯示出這一點。
另一方面,由比較例2,殘樹脂層的厚度為0μm的情況下,分斷性良好,但是玻璃層帶有裂縫。認為這是因為,如參照圖10來說明那樣,形成有熔融層。此外,由實施例5和7,如果殘樹脂層的厚度為5μm,則不論切斷玻璃層的鐳射器為fsIR還是CO
2,玻璃層都沒有產生裂縫。
由以上可以說,為了防止玻璃層30帶有裂縫,則不論切斷玻璃層的鐳射器為fsIR還是CO
2,都需要使殘樹脂層的厚度為5μm以上。進一步,可以說在也要求良好的分斷性的情況下,殘樹脂層的厚度優選為105μm以下。
即,可以說在使殘樹脂層的厚度為5μm以上105μm以下的情況下,則不論切斷玻璃層的鐳射器為fsIR還是CO
2,玻璃層和樹脂層的分斷性都良好,並且玻璃層沒有產生裂縫。
此外,由實施例5和7可以說,即使樹脂層從玻璃層的側面突出,如果突出量為10μm以下,則對於玻璃層的裂縫的發生、分斷性的惡化沒有影響。
以上,對於優選的實施方式等進行了詳細地說明,但並不限定於上述實施方式等,能夠不脫離請求項所記載的範圍,對於上述實施方式等施加各種變形和置換。
本國際申請主張基於2020年11月13日申請的日本專利申請2020-189245號的優先權,將日本專利申請2020-189245號的全部内容援用至本國際申請中。
1、1A、1S:多層結構體
10:樹脂層
10a、30a:上面
10b、30b:下面
10c、30c:側面
10x:槽
12:偏振片
18:黏著劑層
19:離形膜
20:接著劑層
30:玻璃層
101:外周部
102:内側部
103:傾斜部
105:殘樹脂層
121:偏光元件
122:第1保護膜
123:第2保護膜
圖1為例示第1實施方式涉及的多層結構體的斷面圖。
圖2為例示第1實施方式涉及的多層結構體的底視圖。
圖3為第1實施方式涉及的多層結構體的外周部附近的部分放大斷面圖。
圖4為例示第1實施方式涉及的多層結構體的製造工序的圖(其1)。
圖5為例示第1實施方式涉及的多層結構體的製造工序的圖(其2)。
圖6為例示第1實施方式涉及的多層結構體的製造工序的圖(其3)。
圖7為例示第1實施方式涉及的多層結構體的製造工序的圖(其4)。
圖8為例示第1實施方式涉及的多層結構體的製造工序的圖(其5)。
圖9為例示第1實施方式涉及的多層結構體的製造工序的圖(其6)。
圖10為例示比較例涉及的多層結構體的製造工序的圖。
圖11為例示第1實施方式的變形例1涉及的多層結構體的斷面圖。
圖12為對於實施例和比較例進行說明的圖。
10:樹脂層
20:接著劑層
30:玻璃層
30c:側面
101:外周部
102:內側部
103:傾斜部
P1:突出量
Claims (12)
- 一種多層結構體,其具有: 樹脂層、以及 在該樹脂層上藉由接著劑層而層疊的玻璃層, 該玻璃層的厚度為10μm以上300μm以下, 該樹脂層的外周部的厚度為5μm以上。
- 如請求項1之多層結構體, 該外周部的端部從該玻璃層的側面突出, 該外周部的端部的、從該玻璃層的側面的突出量大於0μm且為10μm以下。
- 如請求項1或2之多層結構體, 該樹脂層在與該外周部相比靠内側,具有比該外周部厚的壁厚部。
- 如請求項3之多層結構體, 該樹脂層在該壁厚部與該外周部之間,具有隨著從該外周部朝向該壁厚部而厚度逐漸增加的傾斜部。
- 如請求項4之多層結構體, 從該樹脂層的與該玻璃層相反側觀察,該傾斜部和該外周部環狀地設置於該壁厚部的周圍。
- 如請求項1至5中任一項之多層結構體, 該樹脂層由複數個層構成。
- 如請求項6之多層結構體, 該複數個層包含具有偏光元件的偏振片。
- 一種多層結構體的製造方法,其具有下述工序: 準備第1多層結構體的工序,所述第1多層結構體具有樹脂層以及在該樹脂層上藉由接著劑層而層疊的玻璃層,其中,複數個製品區域被劃定;以及 對於該第1多層結構體的各個該製品區域的外周部,從該玻璃層側照射鐳射,將該玻璃層和該樹脂層切斷,將各個該製品區域進行單片化,製作複數個多層結構體的工序, 該玻璃層的厚度為10μm以上300μm以下, 該樹脂層的厚度為5μm以上。
- 如請求項8之多層結構體的製造方法, 在準備該第1多層結構體的工序與製作該複數個多層結構體的工序之間,具有下述工序: 對於該第1多層結構體的各個該製品區域的外周部,從該樹脂層側照射鐳射,在該樹脂層上形成底面側具備有殘樹脂層的槽的工序, 在製作該複數個多層結構體的工序中,對於該第1多層結構體的各個該製品區域的外周部,從該玻璃層側照射鐳射以將該玻璃層和該殘樹脂層切斷,將各個該製品區域進行單片化以製作複數個多層結構體。
- 如請求項9之多層結構體的製造方法, 在形成該槽的工序中,使用二氧化碳鐳射器。
- 如請求項8至10中任一項之多層結構體的製造方法, 在製作該複數個多層結構體的工序中,使用飛秒鐳射器。
- 如請求項8至11中任一項之多層結構體的製造方法, 在製作該複數個多層結構體的工序中,該樹脂層的外周部從該玻璃層的側面突出, 該外周部的、從該玻璃層的側面的突出量大於0μm且為10μm以下。
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