TW202144171A - 黏著片材 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種黏著片材，其係能夠可剝離地暫時固定被黏著體者，且於剝離時無需照射高輸出之雷射光。
本發明之黏著片材具備包含紫外線吸收劑之黏著劑層，該黏著劑層具有第1表面、及與該第1表面相對向之第2表面，且自該第1表面直至厚度方向上深度1 μm之範圍內之利用飛行時間型二次離子質譜分析(TOF-SIMS)所得之紫外線吸收劑之檢測強度的最大值S1、與該黏著劑層之厚度方向中心點處利用TOF-SIMS所得之紫外線吸收劑的檢測強度C滿足S1/C≧1.1之關係。
Description
本發明係關於一種黏著片材。
於加工以電子零件為代表之各種構件時，業界通常進行有如下操作：使用黏著片材將構件暫時固定於支持體上，於加工後將已加工之構件自支持體上剝離。例如，專利文獻1中記載有如下方法：於經由接著劑層及分離層將基板(被加工構件)暫時固定於支持體之狀態下進行加工，加工後藉由雷射光照射破壞分離層，將基板連同接著劑層自支持體上剝離，其後，自基板上去除接著劑層。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本專利5875850號
[發明所欲解決之問題]
然而，於上述方法中存在如下問題：於以高輸出照射雷射光之情形時會對構件造成損害。
本發明係為了解決上述先前課題而完成者，其目的在於提供一種黏著片材，其係能夠可剝離地暫時固定被黏著體者，且剝離時無需高輸出之雷射光照射。
[解決問題之技術手段]
本發明之黏著片材具備包含紫外線吸收劑之黏著劑層，該黏著劑層具有第1表面、及與該第1表面相對向之第2表面，且自該第1表面直至厚度方向上深度1 μm之範圍內之利用飛行時間型二次離子質譜分析(TOF-SIMS)所得之紫外線吸收劑之檢測強度的最大值S1、與該黏著劑層之厚度方向中心點處利用TOF-SIMS之紫外線吸收劑所得之檢測強度C滿足S1/C≧1.1之關係。
於一實施方式中，自上述第2表面直至厚度方向上深度1 μm之範圍內之利用TOF-SIMS所得之紫外線吸收劑之檢測強度的最大值S2、與上述黏著劑層之厚度方向中心點處利用TOF-SIMS所得之紫外線吸收劑的檢測強度C滿足S2/C≧1.1之關係。
[發明之效果]
根據本發明，可提供一種黏著片材，其係能夠可剝離地暫時固定被黏著體者，且剝離時無需高輸出之雷射光照射。
A. 黏著片材之概要
圖1(a)係本發明之一實施方式之黏著片材之概略剖視圖。該實施方式之黏著片材100具備黏著劑層10。黏著劑層10包含紫外線吸收劑。圖1(b)係本發明之一實施方式之黏著片材之概略剖視圖。該實施方式之黏著片材200進而具備基材20，且於基材20之至少單側配置黏著劑層10。雖未圖示，但本發明之黏著片材亦可於黏著劑層之外側設置剝離襯墊，以在供於使用之前之期間保護黏著面。又，只要可獲得本發明之效果，則黏著片材亦可進而包含任意適當之其他層。於一實施方式中，本發明之黏著片材如圖1(a)所示，僅包含黏著劑層1層。於另一實施方式中，本發明之黏著片材如圖1(b)所示，包含基材及黏著劑層，且黏著劑層直接(即，不介隔其他層地)配置於基材。於本發明中，如下所述，因黏著劑層之黏著力降低及伴隨高彈性模數化之應變產生，而能夠良好地剝離被黏著體，因此能夠不設置用於自黏著片材分離被黏著體之除黏著劑層以外之層(所謂分離層)而構成黏著片材。
於本發明中，藉由使黏著劑層含有紫外線吸收劑，能夠利用雷射光照射來剝離被黏著體。更詳細而言，藉由向黏著劑層照射雷射光，紫外線吸收劑或光聚合起始劑受到加熱而於黏著劑層產生應變，其結果為，照射到雷射光之部分表現出剝離性。根據本發明，以上述方式進行操作，而能夠於微小之範圍內使黏著劑層產生應變，因此即便於加工小型被黏著體時亦可良好地將該被黏著體剝離。又，於將需要剝離之小型被黏著體與無需剝離之小型被黏著體相鄰地暫時固定之情形時，亦可僅剝離需要剝離之小型被黏著體，且亦可防止小型被黏著體之不需要之脫離。
上述黏著劑層具有第1表面(主面)、及與該第1表面相對向之第2表面。自該第1表面直至厚度方向上深度1 μm之範圍內之利用飛行時間型二次離子質譜分析(TOF-SIMS)所得之紫外線吸收劑之檢測強度的最大值S1、與黏著劑層之厚度方向中心點處利用TOF-SIMS所得之紫外線吸收劑的檢測強度C滿足S1/C≧1.1之關係。若S1與C具有此種關係，即，若紫外線吸收劑偏集存在於第1表面附近，則可獲得可利用低輸出之雷射光表現出較佳剝離性之黏著片材。S1/C更佳為1.2以上，進而較佳為1.5以上，尤佳為2以上。S1/C之上限較佳為40，更佳為30，進而較佳為20以下。若為此種範圍，則可獲得黏著性優異之黏著片材。利用飛行時間型二次離子質譜分析(TOF-SIMS)所得之紫外線吸收劑之檢測強度基於紫外線吸收劑之存在分佈。
於一實施方式中，自第2表面直至厚度方向上深度1 μm之範圍內之利用TOF-SIMS所得之紫外線吸收劑之檢測強度的最大值S2、與黏著劑層之厚度方向中心點處利用TOF-SIMS所得之紫外線吸收劑的檢測強度C滿足S2/C≧1.1之關係。若S2與C具有此種關係，即，若紫外線吸收劑偏集存在於第2表面附近，則可獲得即便第2表面亦可因低輸出之雷射光而表現出較佳剝離性之黏著片材。S2/C更佳為2以上，進而較佳為1.2以上，尤佳為1.5以上。S2/C之上限較佳為40，更佳為30，進而較佳為20以下。若為此種範圍，則可獲得第2表面之黏著性優異之黏著片材。
於一實施方式中，於黏著片材僅包含黏著劑層1層之情形時，S1與C具有S1/C≧1.1之關係。於本實施方式中，第1表面可作為能夠剝離之面而發揮功能。於另一實施方式中，於僅包含黏著劑層1層之情形時，S1與C具有S1/C≧1.1(較佳為1.2、更佳為1.5)之關係，且S2與C具有S2/C≧1.1(較佳為1.2、更佳為1.5)之關係。於本實施方式中，第1表面及第2表面可作為能夠剝離之面而發揮功能。若為此種實施方式，則作為用於將被黏著體暫時固定，且於加工後剝離之用途，可提供一種尤其適宜之黏著片材。
於一實施方式中，於黏著片材包含黏著劑層與基材之情形時，S1與C具有S1/C≧1.1(較佳為1.2、更佳為1.5)之關係。於本實施方式中，第1表面可成為黏著劑層之與基材相反之側之面。
本發明之黏著片材之波長355 nm之光透過率較佳為50%以下。於本發明中，藉由降低該光透過率，可降低剝離時之雷射輸出。由於本發明之黏著片材會因低輸出之雷射光而表現出剝離性，故若使用該黏著片材，則可減少剝離時對被黏著體之損害，而防止該被黏著體之破損。本發明之黏著片材之波長355 nm之光透過率較佳為40%以下，進而較佳為30%以下。若為此種範圍，則上述效果變得更顯著。再者，黏著片材之光透過率係黏著片材之厚度方向之光透過率，該光透過率係以黏著片材之構成層整層作為對象來測定。於本發明中，黏著片材之波長355 nm之光透過率可調整黏著劑層中所含之紫外線吸收劑的含有比率來加以控制。
本發明之黏著片材之可見光透過率較佳為50%以上，更佳為60%以上，進而較佳為70%以上。若為此種範圍，則可獲得於藉由雷射光照射剝離被黏著體時，能夠隔著黏著片材良好地視認作為剝離對象之被黏著體之黏著片材。黏著片材之可見光透過率越高越佳，其上限例如為95%(較佳為100%)。
本發明之黏著片材之霧度值較佳為70%以下，更佳為65%以下。若為此種範圍，則可獲得於藉由雷射光照射剝離被黏著體時，能夠隔著黏著片材良好地視認作為剝離對象之被黏著體之黏著片材。黏著片材之霧度值越低越佳，其下限例如為0.1%。
將本發明之黏著片材貼合於不鏽鋼板時之23℃下之初始黏著力較佳為0.1 N/20 mm～15 N/20 mm，更佳為0.5 N/20 mm～10 N/20 mm。若為此種範圍，則可獲得能夠良好地保持被黏著體之黏著片材。黏著力係依據JIS Z 0237：2000進行測定。具體而言，藉由使2 kg之輥往返一次而將黏著片材貼合於不鏽鋼板(算術平均表面粗糙度Ra：50±25 nm)，於23℃下放置30分鐘後，於剝離角度180°、剝離速度(拉伸速度)300 mm/min之條件下，將黏著片材剝離而進行測定。黏著劑層之黏著力有可能因雷射光照射而產生變化，又，根據黏著劑層之構成，黏著力有可能因活性能量線照射而產生變化，於本說明書中，所謂「初始黏著力」係指照射活性能量線及雷射光前之黏著力。於一實施方式中，第1表面可具有上述範圍之初始黏著力。於另一實施方式中，第1表面及第2表面可具有上述範圍之初始黏著力。
於一實施方式中，於黏著劑層含有活性能量線硬化型黏著劑之情形時(詳細情況於下文中說明)，將黏著片材貼合於矽製鏡面晶圓，照射460 mJ/cm2
之紫外線後之23℃下之黏著力(亦稱為硬化後黏著力)較佳為0.01 N/20 mm～0.3 N/20 mm，更佳為0.02 N/20 mm～0.2 N/20 mm。若為此種範圍，則可獲得糊劑殘留較少之黏著片材。上述紫外線照射係使用例如紫外線照射裝置(日東精機公司製造，商品名「UM-810」)，對黏著劑層照射高壓水銀燈之紫外線(特性波長：365 nm，累計光量：460 mJ/cm2
，照射能量：70 W/cm2
，照射時間：6.6秒)而進行。於一實施方式中，第1表面可具有上述範圍之硬化後黏著力。於另一實施方式中，第1表面及第2表面可具有上述範圍之硬化後黏著力。
黏著片材之厚度較佳為1 μm～300 μm，更佳為5 μm～200 μm。
B. 黏著劑層
上述黏著劑層之厚度較佳為20 μm以下。若為此種範圍，則可獲得能夠進一步降低剝離時之雷射輸出而剝離表現性優異之黏著片材。黏著劑層之厚度更佳為10 μm以下，進而較佳為8 μm以下，更佳為1 μm～8 μm。若為此種範圍，則上述效果變得顯著。
如上所述，黏著劑層含有紫外線吸收劑。於一實施方式中，黏著劑層含有紫外線吸收劑之感壓黏著劑。於另一實施方式中，黏著劑層含有含有紫外線吸收劑之活性能量線硬化型黏著劑。包含活性能量線硬化型黏著劑之黏著片材中，黏著劑層整體之黏著力會因照射活性能量線而降低。對貼合有被黏著體之黏著片材之黏著劑層之整體照射活性能量線，降低黏著力，其後如上所述般照射雷射光，藉此可防止剝離後之糊劑殘留。作為活性能量線，例如可例舉：伽馬射線、紫外線、可見光、紅外線(熱線)、射頻波、α射線、β射線、電子束、電漿流、電離輻射、粒子束等。較佳為紫外線。
(感壓黏著劑)
作為感壓黏著劑，例如可例舉：丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、苯乙烯-二烯嵌段共聚物系黏著劑等。其中，較佳為丙烯酸系黏著劑或橡膠系黏著劑，更佳為丙烯酸系黏著劑。再者，上述黏著劑可單獨使用或組合兩種以上而使用。
作為上述丙烯酸系黏著劑，例如可例舉以如下丙烯酸系聚合物(均聚物或共聚物)為基礎聚合物之丙烯酸系黏著劑等，該丙烯酸系聚合物(均聚物或共聚物)使用(甲基)丙烯酸烷基酯之1種或2種以上作為單體成分。作為(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例，可例舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、(甲基)丙烯酸二十烷基酯等(甲基)丙烯酸C1-20烷基酯。其中，可較佳地使用具有碳數4～18之直鏈狀或者支鏈狀之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯。
上述丙烯酸系聚合物以凝聚力、耐熱性、交聯性等之改質為目的，可視需要包含與能夠和上述(甲基)丙烯酸烷基酯共聚之其他單體成分相對應之單元。作為此種單體成分，例如可例舉：丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸等含羧基之單體；順丁烯二酸酐、伊康酸酐等酸酐單體；(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、(甲基)丙烯酸羥基己酯、(甲基)丙烯酸羥基辛酯、(甲基)丙烯酸羥基癸酯、(甲基)丙烯酸羥基月桂酯、甲基丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯等含羥基之單體；苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基之單體；(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等(甲基)丙烯酸胺基烷基酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體；N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等順丁烯二醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基丁二醯亞胺等丁二醯亞胺系單體；乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌𠯤、乙烯基吡𠯤、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基㗁唑、乙烯基嗎啉、N-乙烯基羧醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基己內醯胺等乙烯基系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等含環氧基之丙烯酸系單體；(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯等具有雜環、鹵素原子、矽原子等之丙烯酸酯系單體；己二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、丙烯酸胺基甲酸酯等多官能單體；異戊二烯、丁二烯、異丁烯等烯烴系單體；乙烯基醚等乙烯醚系單體等。該等單體成分可單獨使用或組合兩種以上而使用。
作為上述橡膠系黏著劑，例如可例舉以天然橡膠；聚異戊二烯橡膠、苯乙烯-丁二烯(SB)橡膠、苯乙烯-異戊二烯(SI)橡膠、苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SIS)橡膠、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)橡膠、苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(SEBS)橡膠、苯乙烯-乙烯-丙烯-苯乙烯嵌段共聚物(SEPS)橡膠、苯乙烯-乙烯-丙烯嵌段共聚物(SEP)橡膠、再生橡膠、丁基橡膠、聚異丁烯、該等之改性體等合成橡膠等為基礎聚合物之橡膠系黏著劑。
上述感壓黏著劑可視需要包含任意之適當之添加劑。作為該添加劑，例如可例舉：交聯劑、黏著賦予劑(例如松香系黏著賦予劑、萜烯系黏著賦予劑、烴系黏著賦予劑等)、塑化劑(例如偏苯三甲酸酯系塑化劑、均苯四甲酸酯系塑化劑)、顏料、染料、抗老化劑、導電材料、防靜電劑、光穩定劑、剝離調整劑、軟化劑、界面活性劑、阻燃劑、抗氧化劑等。
作為上述交聯劑，例如可例舉：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、三聚氰胺系交聯劑、過氧化物系交聯劑，此外還可例舉：脲系交聯劑、金屬烷氧化物系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、金屬鹽系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、胺系交聯劑等。其中，較佳為異氰酸酯系交聯劑或環氧系交聯劑。
作為上述異氰酸酯系交聯劑之具體例，可例舉：伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類；伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯類；2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯類；三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯三聚物加成物(Nippon Polyurethane Industry公司製造，商品名「Coronate L」)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯三聚物加成物(Nippon Polyurethane Industry公司製造，商品名「Coronate HL」)、六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體(Nippon Polyurethane Industry公司製造，商品名「Coronate HX」)等異氰酸酯加成物等。異氰酸酯系交聯劑之含量可根據所需之黏著力而設定為任意之適當之量，相對於基礎聚合物100重量份，代表性地為0.1重量份～20重量份，更佳為0.5重量份～10重量份。
作為上述環氧系交聯劑，例如可例舉：N,N,N',N'-四縮水甘油基-間苯二甲胺、二縮水甘油基苯胺、1,3-雙(N,N-縮水甘油基胺基甲基)環己烷(三菱瓦斯化學公司製造，商品名「Tetrad C」)、1,6-己二醇二縮水甘油醚(共榮社化學公司製造，商品名「Epolight 1600」)、新戊二醇二縮水甘油醚(共榮社化學公司製造，商品名「Epolight 1500NP」)、乙二醇二縮水甘油醚(共榮社化學公司製造，商品名「Epolight 40E」)、丙二醇二縮水甘油醚(共榮社化學公司製造，商品名「Epolight 70P」)、聚乙二醇二縮水甘油醚(日本油脂公司製造，商品名「EPIOL E-400」)、聚丙二醇二縮水甘油醚(日本油脂公司製造，商品名「EPIOL P-200」)、山梨醇聚縮水甘油醚(Nagase chemtex公司製造，商品名「DENACOL EX-611」)、甘油聚縮水甘油醚(Nagase chemtex公司製造，商品名「DENACOL EX-314」)、季戊四醇聚縮水甘油醚、聚甘油聚縮水甘油醚(Nagase chemtex公司製造，商品名「DENACOL EX-512」)、山梨醇酐聚縮水甘油醚、三羥甲基丙烷聚縮水甘油醚、己二酸二縮水甘油酯、鄰苯二甲酸二縮水甘油酯、異氰尿酸三縮水甘油基-三(2-羥基乙基)酯、間苯二酚二縮水甘油醚、雙酚-S-二縮水甘油醚、分子內具有2個以上環氧基之環氧系樹脂等。環氧系交聯劑之含量可根據所需之黏著力而設定為任意適當之量，相對於基礎聚合物100重量份，具代表性的為0.01重量份～10重量份，更佳為0.03重量份～5重量份。
(活性能量線硬化型黏著劑)
於一實施方式中，作為活性能量線硬化型黏著劑，可使用如下活性能量線硬化型黏著劑(A1)，其包含作為母劑之基礎聚合物、及能夠與該基礎聚合物結合之活性能量線反應性化合物(單體或低聚物)。於另一實施方式中，可使用如下活性能量線硬化型黏著劑(A2)，其包含活性能量線反應性聚合物作為基礎聚合物。較佳為上述基礎聚合物具有能夠與光聚合起始劑反應之官能基。作為該官能基，例如可例舉羥基、羧基等。
作為於上述黏著劑(A1)中所使用之基礎聚合物，例如可例舉：天然橡膠、聚異丁烯橡膠、苯乙烯-丁二烯橡膠、苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物橡膠、再生橡膠、丁基橡膠、聚異丁烯橡膠、腈橡膠(NBR)等橡膠系聚合物；聚矽氧系聚合物；丙烯酸系聚合物等。該等聚合物可單獨使用或組合兩種以上使用。其中，較佳為丙烯酸系聚合物。
作為丙烯酸系聚合物，可例舉：(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸環烷基酯、(甲基)丙烯酸芳酯等含烴基之(甲基)丙烯酸酯之均聚物或共聚物；該含烴基之(甲基)丙烯酸酯與其他共聚性單體之共聚物等。作為(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可例舉：(甲基)丙烯酸之甲酯、乙酯、丙酯、異丙酯、丁酯、異丁酯、第二丁酯、第三丁酯、戊酯、異戊酯、己酯、庚酯、辛酯、2-乙基己酯、異辛酯、壬酯、癸酯、異癸酯、十一烷基酯、十二烷基酯即月桂酯、十三烷基酯、十四烷基酯、十六烷基酯、十八烷基酯、及二十烷基酯。作為(甲基)丙烯酸環烷基酯，例如可例舉(甲基)丙烯酸之環戊酯及環己酯。作為(甲基)丙烯酸芳酯，例如可例舉(甲基)丙烯酸苯酯及(甲基)丙烯酸苄酯。相對於基礎聚合物100重量份，源自上述含烴基之(甲基)丙烯酸酯之結構單元之含有比率較佳為40重量份以上，更佳為60重量份以上。
作為上述其他共聚性單體，例如可例舉：含羧基之單體、酸酐單體、含羥基之單體、含縮水甘油基之單體、含磺酸基之單體、含磷酸基之單體、丙烯醯胺、及丙烯腈等含官能基之單體等。作為含羧基之單體，例如可例舉：丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、及丁烯酸。作為酸酐單體，例如可例舉順丁烯二酸酐及伊康酸酐。作為含羥基之單體，例如可例舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯、及(甲基)丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯。作為含縮水甘油基之單體，例如可例舉(甲基)丙烯酸縮水甘油酯及(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯。作為含磺酸基之單體，例如可例舉：苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、及(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸。作為含磷酸基之單體，例如可例舉磷酸2-羥基乙基丙烯醯酯。作為丙烯醯胺，例如可例舉N-丙烯醯基嗎啉。其等可單獨使用一種，亦可組合兩種以上使用。相對於基礎聚合物100重量份，源自上述共聚性單體之結構單元之含有比率較佳為60重量份以下，更佳為40重量份以下。
丙烯酸系聚合物為了於其聚合物骨架中形成交聯結構，可包含源自多官能性單體之結構單元。作為多官能性單體，例如可例舉：己二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯(即，(甲基)丙烯酸聚縮水甘油酯)、(甲基)丙烯酸聚酯、及(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯。其等可單獨使用一種，亦可組合兩種以上而使用。相對於基礎聚合物100重量份，源自上述多官能性單體之結構單元之含有比率較佳為40重量份以下，更佳為30重量份以下。
上述丙烯酸系聚合物之重量平均分子量較佳為10萬～300萬，更佳為20萬～200萬。重量平均分子量可藉由GPC(Gel Permeation Chromatography，凝膠滲透層析法)(溶劑：THF(Tetrahydrofuran，四氫呋喃))而進行測定。
作為可用於上述黏著劑(A1)之上述活性能量線反應性化合物，例如可例舉具有丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基、烯丙基、乙炔基等具有聚合性碳-碳多重鍵之官能基之光反應性單體或低聚物。作為該光反應性單體之具體例，可例舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇單羥基五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物；多官能(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯；環氧(甲基)丙烯酸酯；寡酯(甲基)丙烯酸酯等。又，亦可使用甲基丙烯醯基異氰酸酯、異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯(甲基丙烯酸2-異氰酸基乙酯)、異氰酸間異丙烯基-α,α-二甲基苄酯等單體。作為光反應性低聚物之具體例，可例舉上述單體之二～五聚物等。光反應性低聚物之分子量較佳為100～3000。
又，作為上述活性能量線反應性化合物，亦可使用環氧化丁二烯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯醯胺、乙烯基矽氧烷等單體；或包含此種單體之低聚物。
進而，作為上述活性能量線反應性化合物，亦可使用鎓鹽等有機鹽類與分子內具有複數個雜環之化合物之混合物。該混合物中之有機鹽會因照射活性能量線(例如紫外線、電子束)而發生裂解從而生成離子，該離子成為起始種，引起雜環之開環反應，而可形成3維網狀結構。作為上述有機鹽類，例如可例舉：錪鹽、鏻鹽、銻鹽、鋶鹽、硼酸鹽等。作為上述分子內具有複數個雜環之化合物中之雜環，可例舉：環氧乙烷、氧雜環丁烷、氧雜環戊烷、硫雜環丙烷、氮丙啶等。
於上述黏著劑(A1)中，相對於基礎聚合物100重量份，活性能量線反應性化合物之含有比率較佳為0.1重量份～500重量份，更佳為5重量份～300重量份，進而較佳為40重量份～150重量份。
作為上述黏著劑(A2)中所含之活性能量線反應性聚合物(基礎聚合物)，例如可例舉具有丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基、烯丙基、乙炔基等具有碳-碳多重鍵之官能基之聚合物。作為活性能量線反應性聚合物之具體例，可例舉：包含多官能(甲基)丙烯酸酯之聚合物；光陽離子聚合型聚合物；聚桂皮酸乙烯酯等含桂皮醯基之聚合物；經重氮化之胺基酚醛清漆樹脂；聚丙烯醯胺等。
於一實施方式中，可使用於上述丙烯酸系聚合物之側鏈、主鏈及/或主鏈末端導入活性能量線聚合性之碳-碳多重鍵而構成之活性能量線反應性聚合物。作為向丙烯酸系聚合物導入輻射聚合性之碳-碳雙鍵之方法，例如可例舉如下方法：使包含具有特定官能基(第1官能基)之單體之原料單體共聚而獲得丙烯酸系聚合物後，於維持碳-碳雙鍵之輻射聚合性之狀態下使如下化合物與丙烯酸系聚合物進行縮合反應或加成反應，該化合物具有可在與第1官能基之間產生反應而鍵結之特定官能基(第2官能基)、及輻射聚合性碳-碳雙鍵。
作為第1官能基與第2官能基之組合，例如可例舉：羧基與環氧基、環氧基與羧基、羧基與氮丙啶基、氮丙啶基與羧基、羥基與異氰酸基、異氰酸基與羥基。該等組合之中，從追蹤反應之容易性之觀點出發，較佳為羥基與異氰酸基之組合、或異氰酸基與羥基之組合。又，技術上製作反應性較高之具有異氰酸基之聚合物的難度較高，故從丙烯酸系聚合物之製作或獲取之容易性之觀點出發，更佳為丙烯酸系聚合物側之上述第1官能基為羥基且上述第2官能基為異氰酸基之情形。於該情形時，作為兼有輻射聚合性碳-碳雙鍵、及作為第2官能基之異氰酸基的異氰酸酯化合物，例如可例舉：異氰酸甲基丙烯醯酯、異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯、及異氰酸間異丙烯基-α,α-二甲基苄酯。又，作為具有第1官能基之丙烯酸系聚合物，較佳為包含源自上述含羥基之單體之結構單元者，亦較佳為包含源自2-羥基乙基乙烯醚、4-羥基丁基乙烯醚、二乙二醇單乙烯醚等醚系化合物之結構單元者。
上述黏著劑(A2)可進而包含上述活性能量線反應性化合物(單體或低聚物)。
上述活性能量線硬化型黏著劑可包含光聚合起始劑。
作為光聚合起始劑，可使用任意之適當之起始劑。作為光聚合起始劑，例如可例舉：4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮、α-羥基-α,α'-二甲基苯乙酮、2-甲基-2-羥基苯丙酮、1-羥基環己基苯基酮等α-酮醇系化合物；甲氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)-苯基]-2-嗎啉基丙烷-1等苯乙酮系化合物；安息香乙醚、安息香異丙醚、茴香偶姻甲醚等安息香醚系化合物；苯偶醯二甲基縮酮等縮酮系化合物；2-萘磺醯氯等芳香族磺醯氯系化合物；1-苯酮-1,1-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟等光活性肟系化合物；二苯甲酮、苯甲醯苯甲酸、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮等二苯甲酮系化合物；9-氧硫
、2-氯-9-氧硫、2-甲基-9-氧硫𠮿、2,4-二甲基-9-氧硫𠮿、異丙基-9-氧硫𠮿、2,4-二氯-9-氧硫𠮿、2,4-二乙基-9-氧硫𠮿、2,4-二異丙基-9-氧硫𠮿等9-氧硫𠮿系化合物；樟腦醌；鹵化酮；醯基氧化膦；醯基磷酸酯等。光聚合起始劑之使用量可設定為任意之適當之量。
於一實施方式中，可使用於400 nm以下(較佳為380 nm以下、更佳為340 nm以下)之範圍內具有最大吸收波長之光聚合起始劑。若使用此種光聚合起始劑，則於藉由照射活性能量線，降低黏著劑層整體之黏著力時，可獲得較佳地產生黏著劑之硬化反應，糊劑殘留尤其少之黏著片材。
作為上述光聚合起始劑，可使用市售品。例如，作為於400 nm以下之範圍內具有最大吸收波長之光聚合起始劑，可例舉：BASF公司製造之商品名「Irgacure 127」、「Irgacure 369」、「Irgacure 369E」、「Irgacure 379」、「Irgacure 379EG」、「Irgacure 819」、「Irgacure TOP」、「Irgacure 784」、「Irgacure OXE01」等。
於一實施方式中，上述活性能量線硬化型黏著劑可包含光敏劑。
於一實施方式中，上述光敏劑可與上述光聚合起始劑併用。該光敏劑會將自身吸收光而獲得之能量傳遞至光聚合起始劑，藉此可由光聚合起始劑產生自由基，因此可利用光聚合起始劑本身無吸收峰之長波長側之光使聚合進行。因此，藉由含有光敏劑，能夠增大上述紫外線吸收劑之吸收波長、與可由光聚合起始劑產生自由基之波長的差。其結果為，可相互不影響地進行黏著劑層之光聚合與利用紫外線吸收劑之剝離。於一實施方式中，將作為光聚合起始劑之2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(例如BASF公司製造，商品名「Irgacure 651」)與光敏劑併用。作為此種光敏劑，可例舉：川崎化成工業股份有限公司製造之商品名「UVS-581」、9,10-二乙氧基蒽(例如川崎化成工業公司製造，商品名「UVS1101」)等。
作為上述光敏劑之其他例，可例舉：9,10-二丁氧基蒽(例如川崎化成工業公司製造，商品名「UVS-1331」)、2-異丙基-9-氧硫𠮿、二苯甲酮、9-氧硫𠮿衍生物、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮等。作為9-氧硫衍生物，例如可例舉乙氧基羰基-9-氧硫𠮿、異丙基-9-氧硫𠮿等。
相對於基礎聚合物100重量份，上述光敏劑之含有比率較佳為0.01重量份～2重量份，更佳為0.5重量份～2重量份。
較佳為上述活性能量線硬化型黏著劑包含交聯劑。作為交聯劑，例如可例舉：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、三聚氰胺系交聯劑、過氧化物系交聯劑、脲系交聯劑、金屬烷氧化物系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、金屬鹽系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、胺系交聯劑等。
相對於黏著劑之基礎聚合物100重量份，上述交聯劑之含有比率較佳為0.5重量份～10重量份，更佳為1重量份～8重量份。
於一實施方式中，可較佳地使用異氰酸酯系交聯劑。異氰酸酯系交聯劑在可與多種官能基反應之方面較佳。作為上述異氰酸酯系交聯劑之具體例，可例舉：伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類；伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯類；2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯類；三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯三聚物加成物(Nippon Polyurethane Industry公司製造，商品名「Coronate L」)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯三聚物加成物(Nippon Polyurethane Industry公司製造，商品名「Coronate HL」)、六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體(Nippon Polyurethane Industry公司製造，商品名「Coronate HX」)等異氰酸酯加成物等。較佳為使用具有3個以上異氰酸基之交聯劑。
活性能量線硬化型黏著劑可視需要進而包含任意適當之添加劑。作為添加劑，例如可例舉：活性能量線聚合促進劑、自由基捕捉劑、黏著賦予劑、塑化劑(例如偏苯三甲酸酯系塑化劑、均苯四甲酸酯系塑化劑等)、顏料、染料、填充劑、抗老化劑、導電材料、防靜電劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、剝離調整劑、軟化劑、界面活性劑、阻燃劑、抗氧化劑等。
(紫外線吸收劑)
作為紫外線吸收劑，只要為吸收紫外線(例如波長355 nm)之化合物，則可使用任意適當之紫外線吸收劑。作為紫外線吸收劑，例如可例舉：苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、三𠯤系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑等。其中，較佳為三𠯤系紫外線吸收劑或苯并三唑系紫外線吸收劑，尤佳為三𠯤系紫外線吸收劑。尤其於使用丙烯酸系黏著劑作為黏著劑A之情形時，從與該丙烯酸系黏著劑之基礎聚合物之相溶性較高之方面考慮，可較佳地使用三𠯤系紫外線吸收劑。三𠯤系紫外線吸收劑更佳為包含具有羥基之化合物，尤佳為包含羥基苯基三𠯤系化合物之紫外線吸收劑(羥基苯基三𠯤系紫外線吸收劑)。
作為羥基苯基三𠯤系紫外線吸收劑，例如可例舉：2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-羥基苯基與[(C10-C16(主要為C12-C13)烷氧基)甲基]環氧乙烷之反應產物(商品名「TINUVIN 400」，BASF公司製造)、2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤-2-基]-5-[3-(十二烷氧基)-2-羥基丙氧基]苯酚)、2-(2,4-二羥基苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤與縮水甘油酸(2-乙基己基)酯之反應產物(商品名「TINUVIN 405」，BASF公司製造)、2,4-雙(2-羥基-4-丁氧基苯基)-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三𠯤(商品名「TINUVIN 460」，BASF公司製造)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-[(己基)氧基]苯酚(商品名「TINUVIN 1577」，BASF公司製造)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三𠯤-2-基)-5-[2-(2-乙基己醯氧基)乙氧基]苯酚(商品名「Adekastab LA-46」，ADEKA股份有限公司製造)、2-(2-羥基-4-[1-辛氧基羰基乙氧基]苯基)-4,6-雙(4-苯基苯基)-1,3,5-三𠯤(商品名「TINUVIN 479」，BASF公司製造)、BASF公司製造之商品名「TINUVIN 477」等。
作為苯并三唑系紫外線吸收劑(苯并三唑系化合物)，例如可例舉：2-(2-羥基-5-第三丁基苯基)-2H-苯并三唑(商品名「TINUVIN PS」，BASF公司製造)、苯丙酸及3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-(1,1-二甲基乙基)-4-羥基(C7-9側鏈及直鏈烷基)之酯化合物(商品名「TINUVIN 384-2」，BASF公司製造)、3-[3-第三丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙酸辛酯及3-[3-第三丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙酸2-乙基己酯之混合物(商品名「TINUVIN 109」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(商品名「TINUVIN 900」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 928」，BASF製造)、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯/聚乙二醇300之反應產物(商品名「TINUVIN 1130」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)對甲酚(商品名「TINUVIN P」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(商品名「TINUVIN 234」，BASF公司製造)、2-[5-氯-2H-苯并三唑-2-基]-4-甲基-6-(第三丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 326」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-二第三戊基苯酚(商品名「TINUVIN 328」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 329」，BASF公司製造)、2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚](商品名「TINUVIN 360」，BASF公司製造)、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯與聚乙二醇300之反應產物(商品名「TINUVIN 213」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-十二烷基-4-甲基苯酚(商品名「TINUVIN 571」，BASF公司製造)、2-[2-羥基-3-(3,4,5,6-四氫鄰苯二甲醯亞胺-甲基)-5-甲基苯基]苯并三唑(商品名「Sumisorb 250」，住友化學股份有限公司製造)、2-(3-第三丁基-2-羥基-5-甲基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑(商品名「SEESORB 703」，Shipro Kasei公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-甲基-6-(3,4,5,6-四氫苯鄰二醯亞胺基甲基)苯酚(商品名「SEESORB 706」，Shipro Kasei公司製造)、2-(4-苯甲醯氧基-2-羥基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑(Shipro Kasei公司製造之商品名「SEESORB 7012BA」)、2-第三丁基-6-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)-4-甲基苯酚(商品名「KEMISORB 73」，Chemipro Kasei公司製造)、2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-第三辛基苯酚](商品名「Adekastab LA-31」，ADEKA股份有限公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)對纖維素(商品名「Adekastab LA-32」，ADEKA股份有限公司製造)、2-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)-6-第三丁基-4-甲基苯酚(商品名「Adekastab LA-36」，ADEKA股份有限公司製造)等。
上述紫外線吸收劑亦可為染料或顏料。作為顏料，例如可例舉：偶氮系、酞菁系、蒽醌系、色澱系、苝系、紫環酮系、喹吖酮系、硫靛藍系、二㗁𠯤系(dioxazine)、異吲哚啉酮系、喹酞酮系等顏料。作為染料，可例舉：偶氮系、酞菁系、蒽醌系、羰基系、靛藍系、醌亞胺系、次甲基系、喹啉系、硝基系等染料。
於一實施方式中，可使用對基礎聚合物相溶性較低之紫外線吸收劑。若使用相溶性較低之紫外線吸收劑，則形成紫外線吸收劑成為島，基礎聚合物成為海之海島結構，且能夠以較黏著劑層之厚度之中心更多地存在於表面附近之方式使紫外線吸收劑偏集存在。基礎聚合物與紫外線吸收劑之相溶性能夠以漢森溶解度參數(HSP)為指標。漢森溶解度參數(HSP)之Ra較佳為6以上，更佳為8以上，進而較佳為10以上。漢森溶解度參數(HSP)之Ra之上限例如為46。
漢森溶解度參數(HSP)係將希爾布萊德(Hildebrand)之溶解度參數δ分割為分散項δd
、極性項δp
、及氫鍵項δh
三種成分，並於三維空間中表示者，且δ2＝δd2
＋δp2
＋δh2
之關係成立。分散項δd
表示分散力之效果，極性項δp
表示偶極間力之效果，氫鍵項δh
表示氫鍵力之效果。2種物質之HSP之距離Ra係利用2種物質間之分散項之差Δδd
、極性項之差Δδp
、及氫鍵項之差Δδh
，以Ra＝{4Δδd 2
＋Δδp 2
＋Δδh 2
}1/2
表示，Ra越小則相溶性越高，Ra越大則相溶性越低。漢森溶解度參數之詳細情況記載於Charles M. Hansen著、Hansen Solubility Parameters: A Users Handbook (CRC Press、2007年)中，關於文獻值等未知之物質，可使用電腦軟體Hansen Solubility Parameters in Practice (HSPiP)計算。
作為與基礎聚合物之相溶性較低之紫外線吸收劑之例，亦取決於基礎聚合物之構成，例如可例舉：2-(2,4-二羥基苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤與縮水甘油酸(2-乙基己基)酯之反應產物(商品名「TINUVIN 405」，BASF公司製造)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(商品名「TINUVIN 928」，BASF製造)、2-[4-[(2-羥基-3-(2'-乙基)己基)氧基]-2-羥基苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三𠯤(商品名「TINUVIN 400」，BASF製造)、B苯丙酸及3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-(1,1-二甲基乙基)-4-羥基(C7-9側鏈及直鏈烷基)之酯化合物(商品名「TINUVIN 384-2」，BASF製造)、BASF公司製造之商品名「TINUVIN 477」等。
構成上述紫外線吸收劑之化合物之分子量較佳為100～1500，更佳為200～1200，進而較佳為200～1000。若使用分子量較小之化合物(例如分子量為600以下之化合物)作為紫外線吸收劑，則該紫外線吸收劑容易偏集存在於表面附近。
上述紫外線吸收劑之最大吸收波長較佳為300 nm～450 nm，更佳為320 nm～400 nm，進而較佳為330 nm～380 nm。紫外線吸收劑之最大吸收波長與上述光聚合起始劑之最大吸收波長之差較佳為10 nm以上，更佳為25 nm以上。
上述紫外線吸收劑之5%重量減少溫度較佳為350℃以下，更佳為330℃以下。紫外線吸收劑之5%重量減少溫度之下限例如為100℃。若為此種範圍，則可獲得藉由雷射光照射而更有效率地產生應變之黏著片材。所謂紫外線吸收劑之5%重量減少溫度係指於使紫外線吸收劑升溫時之該紫外線吸收劑的重量相對於升溫前之重量減少5重量%之時刻之溫度。5%重量減少溫度使用示差熱分析裝置，於升溫溫度10℃/min、空氣氣氛下、流量25 ml/min之測定條件下測定。
相對於黏著劑層中之基礎聚合物100重量份，上述紫外線吸收劑之含有比率較佳為1重量份～50重量份，更佳為5重量份～20重量份。若為此種範圍，則可獲得於藉由照射活性能量線使黏著劑層整體之黏著力良好地降低時，黏著劑層之硬化良好地進行，且藉由雷射光照射而表現出良好剝離性之黏著片材。
C. 基材
上述基材可包含任意之適當之樹脂。作為該樹脂，例如可例舉：聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚丁烯系樹脂、聚甲基戊烯系樹脂等聚烯烴系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚酮系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、氟系樹脂、矽系樹脂、纖維素系樹脂、離子聚合物樹脂等。其中，較佳為聚烯烴系樹脂。
上述基材之厚度較佳為2 μm～300 μm，更佳為2 μm～100 μm，進而較佳為2 μm～50 μm。
基材之波長355 nm之光透過率較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而較佳為90%以上，尤佳為95%以上。基材之全光線透過率之上限例如為98%(較佳為99%)。
D. 黏著片材之製造方法
上述黏著片材可藉由任意之適當之方法而製造。黏著片材例如可於基材或剝離襯墊上塗敷上述黏著劑而獲得。作為塗敷方法，可採用棒式塗佈機塗敷、氣刀塗敷、凹版塗敷、反向凹版塗敷、逆輥塗敷、模唇塗敷、模頭塗敷、浸漬塗敷、平版印刷、軟版印刷、網版印刷等各種方法。又，亦可另外採用於在剝離襯墊上形成黏著劑層後，將其貼合於基材之方法等。於使黏著劑於空氣中乾燥之情形時，有紫外線吸收劑偏集存在於空氣側之表面之傾向。又，根據基材或剝離襯墊之表面特性，偏集存在程度有時會發生變化。於紫外線吸收劑僅偏集存在於任一表面附近之情形時，將偏集存在有紫外線吸收劑之面設為第1表面，該面可成為接著體載置面。
E. 黏著片材之使用方法
本發明之黏著片材於對任意之適當之被加工構件(例如電子零件)進行加工時，可於將該被加工構件暫時固定時使用。作為本發明之黏著片材之使用方法，例如可例舉如下方法：(i)將被加工構件貼合於被黏著片材進行固定，(ii)對該被加工構件進行加工，(iii)對黏著片材之黏著劑層整體照射活性能量線(例如紫外線)，降低黏著片材之黏著力，(iv)對需要表現剝離性之部位照射雷射光，使被加工構件剝離而使用。根據該方法，能夠藉由自然掉落使被加工構件剝離。又，於將複數個被加工構件暫時固定之情形時，亦能夠僅使其一部分剝離。若使用本發明之黏著片材，則可降低黏著力至自然掉落之程度，故即便為非常小(例如50 μm見方)之被加工構件，亦可分別進行剝離。
[實施例]
以下，藉由實施例具體地說明本發明，但本發明並不受該等實施例之限定。實施例中之試驗及評價方法如下所述。又，只要未特別註明，則「份」及「%」為重量基準。
(1)紫外線吸收劑之偏集存在(S1/C、S2/C)
對黏著劑層之剖面利用Ar氣簇離子蝕刻法進行，確認黏著劑層之厚度方向之紫外線吸收劑之分佈。基於紫外線吸收劑之結構，藉由TOF-SIMS檢測源自紫外線吸收劑之成分。基於所獲得之紫外線吸收劑之存在分佈，根據自黏著劑層之一面(第1表面)直至厚度方向上深度1 μm之範圍內之紫外線吸收劑之檢測強度的最大值S1、自另一面(第2表面)直至厚度方向上深度1 μm之範圍內之紫外線吸收劑之檢測強度的最大值S2、及黏著劑層之厚度方向中心點處之紫外線吸收劑之檢測強度C求出S1/C及S2/C。
再者，TOF-SIMS分析之測定條件如下所述。
裝置名：ULVAC-PHI製造之TRIFT V
蝕刻離子：Ar氣簇離子(Arn+
)
蝕刻離子加速電壓：17 kV
蝕刻面積：400 μm見方
所照射之一次離子：Bi3 2+
一次離子加速電壓：30 kV
測定面積：100 μm見方
測定極性：負離子
※測定使用帶電修正用中和槍。
(2)霧度值
使用霧度計(商品名「HAZE METER HM-150」，村上色彩技術研究所製造)，以入射光相對於載玻片之面垂直地入射之方式安裝大型載玻片(Matsunami Glass製造，商品名「S9111」)，並測定霧度值。其後，將黏著片材之PET(Polyethylene Terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)隔離膜剝離，並使用手壓輥貼合於測定霧度值後之大型載玻片，於將另一面之PET隔離膜剝離後之狀態下，再次測定霧度值。自所獲得之霧度值僅減去載玻片之霧度值，設為黏著片材之霧度值。
(3)波長355 nm光透過率
將黏著片材之PET隔離膜剝離，並使用手壓輥貼合於大型載玻片(Matsunami Glass製造，商品名「S9111」)，於將另一面之PET隔離膜剝離後之狀態下進行測定。具體而言，使用分光光度計(商品名「分光光度計U-4100」，Hitachi High-Tech Science製造)，對大型載玻片上之黏著片材測定黏著片材本身之波長355 nm之透過率。
(4)黏著力
將黏著片材之黏著劑層之一面(第1表面)貼合於SUS403，藉由依據JIS Z 0237：2000之方法(貼合條件：2 kg輥往返一次，拉伸速度：300 mm/min，剝離角度180°，測定溫度：23℃)，測定對該黏著片材之黏著力。
(5)剝離性
・第1表面之剝離性
將黏著片材之第2表面側之PET隔離膜剝離，並使用手壓輥貼合於大型載玻片(Matsunami Glass製造，商品名「S9111」)。其後，將另一面(第1表面)之PET隔離膜剝離，對黏著面貼合100 μm見方之矽晶片。
關於實施例7之黏著片材，自載玻片面側使用紫外線照射裝置(日東精機製造，商品名「UM-810」)，對整個面照射高壓水銀燈之紫外線(特定波長：365 nm，累計光量：300 mJ/cm2
)。
以照射面積：80 μmϕ、輸出0.1 W，自大型載玻片側僅對目標構件位置照射(1plus per chip)波長355 nm之雷射光，將自然掉落之情形評價為合格(○)，將未自然掉落之情形評價為不合格(×)。
・第2表面之剝離性
又，除了將黏著劑層之正面及背面對調以外，以與「第1表面之剝離性」同樣之方式進行評價。即，將黏著片材之第1表面側之PET隔離膜剝離，並使用手壓輥貼合於大型載玻片(Matsunami Glass製造，商品名「S9111」)。其後，將另一面(第2表面)之PET隔離膜剝離，對黏著面貼合100 μm見方之矽晶片。
關於實施例7之黏著片材，自載玻片面側使用紫外線照射裝置(日東精機製造，商品名「UM-810」)，對整個面照射高壓水銀燈之紫外線(特定波長：365 nm，累計光量：300 mJ/cm2
)。
以照射面積：80 μmϕ、輸出0.1 W，自大型載玻片側僅對目標構件位置照射(1 plus per chip)波長355 nm之雷射光，將自然掉落之情形評價為合格(○)，將未自然掉落之情形評價為不合格(×)。
[製造例1]丙烯酸系聚合物I之製備
將丙烯酸2-甲氧基乙酯100重量份、丙烯醯基嗎啉27重量份、丙烯酸2-羥基乙酯22重量份混合而製備單體組合物。
繼而，向具備氮氣導入管、溫度計、攪拌機之反應容器中導入氮氣，於氮氣氣氛下添加甲苯500重量份、上述單體組合物149量份、及過氧化苯甲醯(BPO)0.3重量份，於60℃下進行5小時攪拌。其後，冷卻至室溫，添加異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯24重量份以進行反應，向共聚物中之丙烯酸2-羥基乙酯之側鏈末端OH基加成NCO基，獲得含有末端具有碳-碳雙鍵之重量平均分子量100萬之丙烯酸系聚合物I之丙烯酸系聚合物溶液I。
[製造例2]丙烯酸系聚合物II之製備
將丙烯酸2-乙基己酯89重量份、丙烯酸羥基乙酯11重量份混合而製備單體組合物。
繼而，向具備氮氣導入管、溫度計、攪拌機之反應容器中導入氮氣，於氮氣氣氛下添加甲苯43重量份、上述單體組合物100重量份、及偶氮異丁基腈(AIBN)0.2重量份，於60℃下進行4小時攪拌。其後，冷卻至室溫，添加異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯12重量份以進行反應，向共聚物中之丙烯酸2-羥基乙酯之側鏈末端OH基加成NCO基，獲得含有末端具有碳-碳雙鍵之重量平均分子量100萬之丙烯酸系聚合物II之丙烯酸系聚合物溶液II。
[實施例1]
(黏著劑之製備)
向包含100重量份之丙烯酸系聚合物I之丙烯酸系聚合物溶液I中添加交聯劑(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司，商品名「Coronate L」)3重量份、及紫外線吸收劑(BASF Japan製造，商品名「Tinuvin 477」)20重量份，獲得黏著劑(1)。
(黏著片材)
於PET隔離膜(厚度：38 μm)之聚矽氧處理面上塗佈上述黏著劑(1)，其後，於130℃下進行2分鐘加熱，形成露出第1表面之厚度5 μm之黏著劑層。
使用手壓輥，將PET隔離膜貼合於黏著劑層之第1表面上，獲得附隔離膜之黏著片材。
將所獲得之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。又，將於「紫外線吸收劑之偏集存在」評價中測定之TOF-SIMS分析圖示於圖2。
[實施例2]
除了將紫外線吸收劑(BASF Japan製造，商品名「Tinuvin 477」)之調配量設為5重量份以外，以與實施例1同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例3]
除了使用紫外線吸收劑(BASF Japan製造，商品名「Tinuvin 405」)10重量份來代替紫外線吸收劑(BASF Japan製造，商品名「Tinuvin 477」)20重量份以外，以與實施例1同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例4]
除了使用紫外線吸收劑(BASF Japan製造，商品名「Tinuvin 928」)10重量份來代替紫外線吸收劑(BASF Japan製造，商品名「Tinuvin 477」)20重量份以外，以與實施例1同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例5]
除了使用紫外線吸收劑(BASF Japan製造，商品名「Tinuvin 928」)5重量份來代替紫外線吸收劑(BASF Japan製造，商品名「Tinuvin 477」)20重量份以外，以與實施例1同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例6]
除了使用紫外線吸收劑(Chemipro Kasei製造，商品名「KEMISORB102L」)5重量份來代替紫外線吸收劑(BASF Japan製造，商品名「Tinuvin 477」)20重量份以外，以與實施例1同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例7]
(黏著劑之製備)
向包含100重量份之丙烯酸系聚合物I之丙烯酸系聚合物溶液I中添加交聯劑(Nippon Polyurethane Industry製造，商品名「Coronate L」)3重量份、光聚合起始劑(BASF公司製造，商品名「Irgacure 369」)3重量份、及紫外線吸收劑(Chemipro Kasei製造，商品名「KEMISORB102L」)5重量份，獲得黏著劑(7)。
(黏著片材之製作)
於PET隔離膜(厚度：38 μm)之聚矽氧處理面上塗佈上述黏著劑(7)，其後，於130℃下進行2分鐘加熱，形成露出第1表面之厚度5 μm之黏著劑層。
使用手壓輥，將PET隔離膜貼合於黏著劑層之第1表面上，獲得附隔離膜之黏著片材。
將所獲得之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[實施例8]
除了使用紫外線吸收劑(Chemipro Kasei製造，商品名「KEMISORB111」)20重量份來代替紫外線吸收劑(BASF Japan製造，商品名「Tinuvin 477」)20重量份以外，以與實施例1同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[比較例1]
除了不調配紫外線吸收劑以外，以與實施例1同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[比較例2]
除了使用紫外線吸收劑(Chemipro Kasei製造，商品名「KEMISORB111」)5重量份來代替紫外線吸收劑(BASF Japan製造，商品名「Tinuvin 477」)20重量份以外，以與實施例1同樣之方式獲得附隔離膜之黏著片材。將所獲得之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[比較例3]
(黏著劑之製備)
向包含100重量份之丙烯酸系聚合物II之丙烯酸系聚合物溶液II中添加交聯劑(Nippon Polyurethane Industry股份有限公司，商品名「Coronate L」)3重量份、及紫外線吸收劑(BASF Japan製造，商品名「Tinuvin 477」)5重量份，獲得黏著劑(C3)。
(黏著片材)
於PET隔離膜(厚度：38 μm)之聚矽氧處理面上塗佈上述黏著劑(C3)，其後，於130℃下進行2分鐘加熱，形成露出第1表面之厚度5 μm之黏著劑層。
使用手壓輥，將PET隔離膜貼合於黏著劑層之第1表面上，獲得附隔離膜之黏著片材。
將所獲得之黏著片材供於上述評價。將結果示於表1。
[表1]
| 黏著劑層之聚合物 | 交聯劑 | UV吸收劑 | 光聚合起始劑 | 黏著劑層厚度 | TOF-SIMS分析 | 霧度值 | 355 nm透過率 | 黏著力 | 剝離性 | ||||||
| 種類 | 含量 (重量份) | 種類 | 含量 (重量份) | 種類 | 含量 (重量份) | S1/C | S2/C | % | % | [N/20 mm] | 第1表面 | 第2表面 | |||
| 實施例1 | I | C/L | 3 | Tinuvin477 | 20 | - | - | 5 μm | 5.6 | 2.4 | 15.9 | 0.1 | 5.0 | ○ | ○ |
| 實施例2 | I | C/L | 3 | Tinuvin477 | 5 | - | - | 5 μm | 15.4 | 11.7 | 0.9 | 3.9 | 5.4 | ○ | ○ |
| 實施例3 | I | C/L | 3 | Tinuvin405 | 10 | - | - | 5 μm | 3.6 | 1.3 | 1.4 | 4.9 | 5.5 | ○ | ○ |
| 實施例4 | I | C/L | 3 | Tinuvin928 | 10 | - | - | 5 μm | 6.1 | 2.0 | 1.0 | 4.4 | 0.3 | ○ | ○ |
| 實施例5 | I | C/L | 3 | Tinuvin928 | 5 | - | - | 5 μm | 12.1 | 5.3 | 0.8 | 22.2 | 4.3 | ○ | ○ |
| 實施例6 | I | C/L | 3 | KEMISORB102L | 5 | - | - | 5 μm | 12.8 | 11.0 | 1.0 | 16.2 | 3.7 | ○ | ○ |
| 實施例7 | I | C/L | 3 | KEMISORB102L | 5 | Irg369 | 3 | 5 μm | 13.6 | 10.4 | 0.9 | 15.9 | 3.5 | ○ | ○ |
| 實施例8 | I | C/L | 3 | KEMISORB111 | 20 | - | - | 5 μm | 1.2 | 1.0 | 0.7 | 0.9 | 6.4 | ○ | × |
| 比較例1 | I | C/L | 3 | - | - | - | - | 5 μm | - | - | 0.6 | 100.0 | 6.0 | × | × |
| 比較例2 | I | C/L | 3 | KEMISORB111 | 5 | - | - | 5 μm | 1.0 | 1.0 | 0.7 | 24.9 | 5.1 | × | × |
| 比較例3 | II | C/L | 3 | Tinuvin477 | 5 | - | - | 5 μm | 1.0 | 1.0 | 0.5 | 19.5 | 0.2 | × | × |
由表1可明確，紫外線吸收劑偏集存在於黏著劑層之表面附近之黏著片材中，於該表面表現出較佳之剝離性。此種黏著片材藉由低輸出之雷射光照射，可將被黏著體剝離，故可抑制對被黏著體之損害。
10:黏著劑層
20:基材
100:黏著片材
200:黏著片材
圖1(a)係本發明之一實施方式之黏著片材之概略剖視圖。圖1(b)為本發明之另一實施方式之黏著片材之概略剖視圖。
圖2係實施例1中所測定之TOF-SIMS分析圖。
10:黏著劑層
20:基材
100:黏著片材
200:黏著片材
Claims (2)
- 一種黏著片材，其具備包含紫外線吸收劑之黏著劑層， 該黏著劑層具有第1表面、及與該第1表面相對向之第2表面，且 自該第1表面直至厚度方向上深度1 μm之範圍內之利用飛行時間型二次離子質譜分析(TOF-SIMS)所得之紫外線吸收劑之檢測強度的最大值S1、與該黏著劑層之厚度方向中心點處利用TOF-SIMS所得之紫外線吸收劑的檢測強度C滿足S1/C≧1.1之關係。
- 如請求項1之黏著片材，其中自上述第2表面直至厚度方向上深度1 μm之範圍內之利用TOF-SIMS所得之紫外線吸收劑之檢測強度的最大值S2、與上述黏著劑層之厚度方向中心點處利用TOF-SIMS所得之紫外線吸收劑的檢測強度C滿足S2/C≧1.1之關係。
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