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TW201921052A - 積層光學薄膜及其製造方法、以及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

一種積層光學薄膜，係於光學薄膜之至少一面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜者，且該積層光學薄膜於透明保護薄膜與接著劑層之間形成有相溶層，該相溶層係透明保護薄膜與接著劑層之組成會連續變化之層。透明保護薄膜之SP值與接著劑組成物之SP值之間的SP值距離宜為12以下。

Description

積層光學薄膜及其製造方法、以及影像顯示裝置
本發明是有關於一種積層光學薄膜及其製造方法，該積層光學薄膜係於光學薄膜之至少一面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜者。該積層光學薄膜可形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置、CRT及PDP等影像顯示裝置。
發明背景 液晶顯示裝置於時鐘、行動電話、PDA、筆記型電腦、電腦用螢幕、DVD播放器及TV等用途上的市場正急速地擴張。液晶顯示裝置是經由液晶之切換(Switching)使偏光狀態可視化，基於其顯示原理會使用偏光件。特別是在TV等用途上，益趨追求高亮度、高對比、廣視角，從而益趨追求偏光薄膜之高透射率、高偏光度、高度色再現性等。
作為偏光件，由具有高透射率、高偏光度來看，碘系偏光件最普遍廣為使用，且該碘系偏光件之結構為例如使聚乙烯醇(以下亦僅稱「PVA」)吸附碘並延伸而成。一般而言偏光薄膜是使用藉由所謂水系接著劑在偏光件兩面貼合透明保護薄膜而成之物，而該水系接著劑是將聚乙烯醇系材料溶於水而成者(下述專利文獻1)。透明保護薄膜是使用透濕度高的三乙醯纖維素等。使用前述水系接著劑時(即所謂濕式積層)，在將偏光件與透明保護薄膜貼合後需要進行乾燥步驟。
另一方面，已提出一種活性能量線硬化型接著劑組成物，以取代前述水系接著劑。使用活性能量線硬化型接著劑組成物製造偏光薄膜時，因不需乾燥步驟，故可提升偏光薄膜之生產性。例如，本發明人等已提出一種使用N-取代醯胺系單體作為硬化性成分的自由基聚合型之活性能量線硬化型接著劑組成物(下述專利文獻2)。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本特開2001-296427號公報 專利文獻2：日本特開2012-052000號公報
發明概要 發明欲解決之課題 專利文獻2記載之使用活性能量線硬化型接著劑組成物形成之接著劑層的接著性優異，但市場上對於光學薄膜有時會要求其在惡劣的環境下、例如在嚴酷加濕條件下等也能具有優良的接著性。譬如目前就加濕光學耐久性而言，與水系接著劑相較之下，活性能量線硬化型接著劑組成物雖較為優異，但以往公知之活性能量線硬化型接著劑組成物仍尚有進一步改善的空間。
本發明為有鑑於上述現況而開發者，目的在於提供一種積層光學薄膜，其於光學薄膜與透明保護薄膜之間具有優異接著性。
用以解決課題之手段 本案發明人為解決上述課題，專注於積層光學薄膜具備的透明保護薄膜與接著劑層之間的界面，進行精心探究。結果發現，藉由於所述界面形成透明保護薄膜之組成及接著劑層之組成會連續變化的相溶層，可解決上述課題。
即本發明是關於一種積層光學薄膜，其於光學薄膜之至少一面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜者，該積層光學薄膜之特徵在於：其於前述透明保護薄膜與前述接著劑層之間形成有相溶層，該相溶層係前述透明保護薄膜與前述接著劑層之組成會連續變化之層。
上述積層光學薄膜中，前述透明保護薄膜之SP值與前述接著劑組成物之SP值之間的SP值距離宜為12以下。
上述積層光學薄膜中，前述相溶層宜為經以下程序而形成者：使有機溶劑接觸前述透明保護薄膜之用於形成前述接著劑層之側的面後，塗敷前述接著劑組成物。
上述積層光學薄膜中，前述相溶層宜為經以下程序而形成者：使有機溶劑接觸前述透明保護薄膜之用於形成前述接著劑層之側的面後，將經塗敷前述接著劑組成物之前述光學薄膜，從前述黏著劑組成物的塗敷面側貼合至前述透明保護薄膜之與前述有機溶劑的接觸面。
上述積層光學薄膜中，前述相溶層宜為經以下程序而形成者：使有機溶劑接觸前述透明保護薄膜之用於形成前述接著劑層之側的面後，將前述接著劑組成物塗敷於前述透明保護薄膜之與前述有機溶劑的接觸面及前述光學薄膜之前述透明保護薄膜側之面的該等兩者之面，並將前述透明保護薄膜與前述光學薄膜從兩者塗敷側面貼合。
上述積層光學薄膜中，前述透明保護薄膜之SP值與前述有機溶劑之SP值之間的SP值距離宜為12以下。
上述積層光學薄膜中，前述接著劑組成物宜為含有具聚合性基之單體的活性能量線硬化型接著劑組成物。
上述積層光學薄膜中，前述光學薄膜宜為聚乙烯醇系偏光件。
上述積層光學薄膜中，前述透明保護薄膜宜為聚芳酯、聚碳酸酯、丙烯酸系聚合物及三乙醯纖維素所構成群組中之至少1種熱可塑性樹脂。
又，本發明是關於一種積層光學薄膜之製造方法，該積層光學薄膜係於光學薄膜之至少一面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜者，且該製造方法包含下列步驟：前處理步驟，使有機溶劑接觸前述透明保護薄膜之用於形成前述接著劑層之側的面，且該有機溶劑與前述透明保護薄膜之SP值距離在12以下；塗敷步驟，將前述接著劑組成物直接塗敷於前述透明保護薄膜之與前述有機溶劑的接觸面及前述光學薄膜之前述透明保護薄膜側之面的至少一面；貼合步驟，將前述透明保護薄膜與前述光學薄膜，透過前述接著劑組成物進行貼合，藉此於前述透明保護薄膜與前述接著劑層之間形成其等組成會連續變化的相溶層；及，接著步驟，從前述光學薄膜面側或前述透明保護薄膜面側照射活性能量線，使前述接著劑組成物硬化而形成接著劑層，並透過該接著劑層接著前述光學薄膜及前述透明保護薄膜。
上述積層光學薄膜之製造方法中，前述透明保護薄膜之SP值與前述接著劑組成物之SP值之間的SP值距離宜為12以下。
並且，本發明是關於一種影像顯示裝置，其特徵在於使用有前述任一項之積層光學薄膜。
發明效果 本發明之積層光學薄膜在透明保護薄膜與前述接著劑層之間形成有相溶層，該相溶層係透明保護薄膜與前述接著劑層之組成會連續變化之層。藉此，可提升透明保護薄膜與接著劑層之間的接著性，從而可提升積層光學薄膜的接著性。尤其，透明保護薄膜之SP值與接著劑組成物之SP值之間的SP值距離為12以下時，該相溶層會更確實地形成，因此最後可更提升積層光學薄膜之接著性。
在本發明中，SP值表示由Hansen等人所提出的溶解度參數，該SP值係以3維空間中之1點表示。2個物質間(例如透明保護薄膜與接著劑組成物)的親和性可由兩者之SP值的距離(SP值距離)來評估，當2個物質間之SP值距離小，即可說其親和性大。
在本發明中，特別是使有機溶劑接觸透明保護薄膜之用於形成接著劑層之側的面後，可藉由下列方式形成相溶層：(1)將接著劑組成物塗敷於透明保護薄膜之與有機溶劑的接觸面；(2)將接著劑組成物塗敷於光學薄膜後，從光學薄膜之黏著劑組成物的塗敷面側貼合至透明保護薄膜之與有機溶劑的接觸面；或是(3)將接著劑組成物塗敷於透明保護薄膜之與有機溶劑的接觸面，再將接著劑組成物也塗敷於光學薄膜後，透過接著劑組成物貼合透明保護薄膜與光學薄膜。以上述方式形成相溶層時，可更提升積層光學薄膜之接著性。吾等認為可獲得上述效果之理由如下。
積層光學薄膜之構成材料的透明保護薄膜，其表面具備皮層(自由體積小之區域)，該皮層的缺點是接著劑組成物難以滲透。然而，特別是具備以上述(1)~(3)之方法所形成的相溶層之積層光學薄膜，其透明保護薄膜表面的皮層因消失了，故接著劑組層物容易滲透。結果，在透明保護薄膜與接著劑層之間會穩定確實地形成透明保護薄膜與接著劑層之組成會連續變化的相溶層，從而使積層光學薄膜之接著性更加提升。
另，使用與透明保護薄膜之SP值距離在12以下的有機溶劑，對透明保護薄膜之用於形成接著劑層之側的面進行前處理時，於透明保護薄膜與接著劑層之間會更穩定確實地形成透明保護薄膜與接著劑層之組成會連續變化的相溶層，從而使積層光學薄膜之光學特性及接著性尤為提升。
用以實施發明之形態 本發明之積層光學薄膜係於光學薄膜之至少一面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜者，該積層光學薄膜之特徵在於其於透明保護薄膜與接著劑層之間形成有相溶層，該相溶層係透明保護薄膜及接著劑層之組成會連續變化之層。
「透明保護薄膜及接著劑層之組成會連續變化的相溶層」可藉由下列方式等來確認，例如：(1)以穿透式電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope；TEM)拍攝之截面圖；(2)以飛行時間式二次離子質譜法(Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry；TOF-SIMS)進行深度方向之組成分析；或是(3)以3波長管檢查、雷射顯微鏡、反射光譜等分析有無光學干涉。
於本發明中，所述相溶層可舉例由以下方式形成者。 (1)經以下程序形成之相溶層：使有機溶劑接觸透明保護薄膜之用於形成接著劑層之側的面後，塗敷接著劑組成物； (2)經以下程序形成之相溶層：使有機溶劑接觸透明保護薄膜之用於形成接著劑層之側的面後，將經塗敷接著劑組成物之光學薄膜，從黏著劑組成物的塗敷面側貼合至透明保護薄膜之與有機溶劑的接觸面；或是 (3)經以下程序形成之相溶層：使有機溶劑接觸透明保護薄膜之用於形成接著劑層之側的面後，將接著劑組成物塗敷於透明保護薄膜之與有機溶劑的接觸面及光學薄膜之透明保護薄膜側之面的該等兩者之面，並將透明保護薄膜與光學薄膜從兩者塗敷面側貼合。 不論於上述(1)~(3)之任一情況下，存在於透明保護薄膜表面的皮層皆經有機溶劑處理而消失，從而接著劑組層物容易滲透到透明保護薄膜中，之後藉由接著劑組成物硬化，而於透明保護薄膜與接著劑層之間形成透明保護薄膜與接著劑層之組成會連續變化的相溶層。另，上述(3)中，用以塗敷於透明保護薄膜之接著劑組成物與用以塗敷於光學薄膜之接著劑組成物，可使用相同組成之接著劑組成物，也可使用不同組成之接著劑組成物。惟，即使使用不同組成之接著劑組成物，仍如後所述，宜使用與用以構成積層光學薄膜的透明保護薄膜之SP值之間的SP值距離為12以下之接著劑組成物。
以下，說明作為積層光學薄膜具備的接著劑層原料之接著劑組成物。本發明中之接著劑組成物，可適當使用可藉由照射活性能量線而硬化形成接著劑層之活性能量線硬化型接著劑組成物。
＜活性能量線硬化型接著劑組成物＞ 可於本發明中使用的活性能量線硬化型接著劑組成物可大致區分為電子射線硬化性、紫外線硬化性及可見光線硬化性。並且，硬化形態可區分為自由基聚合硬化型接著劑組成物與陽離子聚合性接著劑組成物。本發明中是將波長範圍在10nm~小於380nm之活性能量線標記為紫外線，且將波長範圍在380nm~800nm之活性能量線標記為可見光線。特別是可於本發明中使用的活性能量線硬化型接著劑組成物是以利用380nm~450nm的可見光線之可見光線硬化性尤佳。
＜1：自由基聚合硬化性化合物＞ 自由基聚合性化合物可舉如具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等碳-碳雙鍵之自由基聚合性官能基的化合物。該等硬化性成分可使用單官能自由基聚合性化合物或二官能以上之多官能自由基聚合性化合物中任一者。此外，該等自由基聚合性化合物可單獨使用1種或可將2種以上組合使用。該等自由基聚合性化合物譬如宜為具有(甲基)丙烯醯基之化合物。另，本發明中，所謂(甲基)丙烯醯是指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基，以下「(甲基)」同義。具有(甲基)丙烯醯基之化合物可舉具有(甲基)丙烯醯胺基之(甲基)丙烯醯胺衍生物或具有(甲基)丙烯醯氧基之(甲基)丙烯酸酯。具有(甲基)丙烯醯基之化合物雖舉例如下，但可選擇各種作使用，並無特別限定。本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物中，自由基聚合性化合物之含量宜為10重量%以上。
≪單官能自由基聚合性化合物≫ 單官能自由基聚合性化合物可舉例譬如下述通式(1)所示化合物： [化學式1](惟，R1 為氫原子或甲基，R2 及R3 分別獨立為氫原子、烷基、羥烷基、烷氧基烷基或環狀醚基，且R2 及R3 亦可形成環狀雜環)。烷基、羥烷基及/或烷氧基烷基之烷基部分的碳數並無特別限定，可舉例如1~4個者。此外，R2 及R3 亦可形成之環狀雜環可舉例如N-丙烯醯基啉。
通式(1)所示化合物之具體例可舉例如：N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺等含N-烷基的(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺等含N-羥烷基的(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧基甲基丙烯醯胺等含N-烷氧基的(甲基)丙烯醯胺衍生物等。並且，含環狀醚基的(甲基)丙烯醯胺衍生物可舉(甲基)丙烯醯胺基的氮原子形成雜環之含雜環的(甲基)丙烯醯胺衍生物，且可列舉譬如N-丙烯醯基啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶及N-丙烯醯基吡咯啶等。由反應性佳之觀點、可獲得高彈性係數之硬化物之觀點及對偏光件之接著性優異之觀點來看，其等當中又可適宜使用N-羥乙基丙烯醯胺或N-丙烯醯基啉。
譬如在透過接著劑層接著偏光件與透明保護薄膜時的接著性及耐水性提升、更進一步由聚合速度快而提升生產性之觀點來看，接著劑組成物中，通式(1)所記載之化合物含量宜為1~50重量%，更宜為3~20重量%。特別是，若通式(1)所記載之化合物含量過多，硬化物之吸水率會變高而有耐水性惡化的情形。
且，本發明中所使用之接著劑組成物除通式(1)所示化合物之外，亦可含有其他單官能自由基聚合性化合物作為硬化性成分。單官能自由基聚合性化合物可舉例如具有(甲基)丙烯醯氧基之各種(甲基)丙烯酸衍生物。具體而言，可舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、2-甲基-2-硝基丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸三級戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、2,2-二甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、4-甲基-2-丙基戊基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正十八烷基酯等(甲基)丙烯酸(碳數1~20)烷基酯類。
又，前述(甲基)丙烯酸衍生物可舉例如(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等(甲基)丙烯酸環烷酯；(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸芳烷酯；(甲基)丙烯酸-2-異莰酯、(甲基)丙烯酸-2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸-5-降莰烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸-3-甲基-2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯等多環式(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、烷基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等含烷氧基或苯氧基的(甲基)丙烯酸酯等等。在將本發明之樹脂組成物作為偏光薄膜之接著劑使用時，由對保護薄膜之密著性的觀點看來，宜含有(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、烷基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等含烷氧基或苯氧基的(甲基)丙烯酸酯。其含量宜相對於樹脂組成物為1重量%~30重量%。
又，作為前述(甲基)丙烯酸衍生物可舉如(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-6-羥己酯、(甲基)丙烯酸-8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸-10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸-12-羥月桂酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯；或[4-(羥甲基)環己基]甲基丙烯酸酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、2-羥-3-苯氧丙基(甲基)丙烯酸酯等含羥基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯環氧丙基醚等含環氧基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸-3-氯-2-羥丙酯等含鹵素的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯；(甲基)丙烯酸-3-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸-3-甲-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸-3-乙-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸-3-丁-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸-3-己-氧雜環丁烷基甲酯等含氧雜環丁烷基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸丁內酯等具有雜環的(甲基)丙烯酸酯；及羥基三甲基乙酸新戊二醇(甲基)丙烯酸加成物、(甲基)丙烯酸對苯基苯酚酯等等。 其中，2-羥-3-苯氧丙基丙烯酸酯因與各種保護薄膜之接著性優異，故較佳。
又，單官能自由基聚合性化合物可列舉為：(甲基)丙烯酸、丙烯酸羧乙酯、丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸、異巴豆酸等含羧基之單體。
又，單官能自由基聚合性化合物可舉例如N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺、甲基乙烯基吡咯啶酮等內醯胺系乙烯基單體；乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌、乙烯基吡、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基㗁唑、乙烯基啉等具有含氮雜環之乙烯基系單體等等。
又，單官能自由基聚合性化合物可使用具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物是在末端或分子中具有(甲基)丙烯醯基等活性雙鍵基且具有活性亞甲基之化合物。活性亞甲基可列舉為：乙醯乙醯基、烷氧基丙二醯基或氰基乙醯基等。且，前述活性亞甲基以乙醯乙醯基為佳。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之具體例可舉如2-乙醯乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基-1-甲基乙基(甲基)丙烯酸酯等乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯；2-乙氧基丙二醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-氰基乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、N-(2-氰基乙醯氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙醯基乙醯氧基丁基)丙烯醯胺、N-(4-乙醯乙醯氧基甲基苄基)丙烯醯胺、N-(2-乙醯乙醯基胺基乙基)丙烯醯胺等。而，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物以乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯為佳。
≪多官能自由基聚合性化合物≫ 又，雙官能以上的多官能自由基聚合性化合物可舉例如多官能(甲基)丙烯醯胺衍生物之N,N’-亞甲基雙(甲基)丙烯醯胺、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、2-乙-2-丁基丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、環狀三羥甲丙烷甲縮醛(甲基)丙烯酸酯、二㗁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO改質二甘油四(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇的酯化物、9,9-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基)苯基]茀。 具體例以ARONIX M-220(東亞合成公司製)、LIGHT-ACRYLATE 1,9ND-A(共榮社化學公司製)、LIGHT-ACRYLATE DGE-4A(共榮社化學公司製)、LIGHT-ACRYLATE DCP-A(共榮社化學公司製)、SR-531(Sartomer公司製)、CD-536(Sartomer公司製)等為佳。此外，因應需要，可舉例如各種環氧基(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯或各種(甲基)丙烯酸酯系單體等。另，多官能(甲基)丙烯醯胺衍生物除聚合速度快且生產性優異之外，在將樹脂組成物作成硬化物時之交聯性優異，故宜含於接著劑組成物中。
從兼顧與偏光件和各種透明保護薄膜之接著性、以及在嚴酷環境下之光學耐久性的觀點而言，自由基聚合性化合物以併用單官能自由基聚合性化合物與多官能自由基聚合性化合物為佳。另，單官能自由基聚合性化合物之液體黏度相對較低，使之含有於樹脂組成物中，便能降低樹脂組成物的液體黏度。且，單官能自由基聚合性化合物大多具有能表現各種機能之官能基，使之含有於樹脂組成物中，便能使樹脂組成物及/或樹脂組成物之硬化物表現各種機能。多官能自由基聚合性化合物因能使樹脂組成物之硬化物產生3維交聯，故宜使之含有於樹脂組成物中。單官能自由基聚合性化合物與多官能自由基聚合性化合物之比，宜相對於100重量份之單官能自由基聚合性化合物，以10重量份至1000重量份之範圍混合多官能自由基聚合性化合物。
＜2：陽離子聚合性接著劑組成物＞ 作為陽離子聚合性接著劑組成物中所使用的陽離子聚合性化合物，可分類為在分子內具有1個陽離子聚合性官能基的單官能陽離子聚合性化合物、與在分子內具有2個以上陽離子聚合性官能基的多官能陽離子聚合性化合物。單官能陽離子聚合性化合物之液體黏度相對較低，使之含有於樹脂組成物中，便能降低樹脂組成物的液體黏度。又，單官能陽離子聚合性化合物大多具有能表現各種機能之官能基，使之含有於樹脂組成物中，便能使樹脂組成物及/或樹脂組成物之硬化物表現各種機能。多官能陽離子聚合性化合物因能使樹脂組成物之硬化物產生3維交聯，故宜使之含有於樹脂組成物中。單官能陽離子聚合性化合物與多官能陽離子聚合性化合物之比，宜相對於100重量份之單官能陽離子聚合性化合物，以10重量份至1000重量份之範圍混合多官能陽離子聚合性化合物。陽離子聚合性官能基可舉例如環氧基或氧雜環丁烷基、乙烯基醚基。具環氧基之化合物可舉出脂肪族環氧化合物、脂環式環氧化合物、芳香族環氧化合物，本發明之陽離子聚合性接著劑組成物以含有脂環式環氧化合物尤佳，因其硬化性和接著性優異。脂環式環氧化合物可舉如3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧環己烷羧酸酯、3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧環己烷羧酸酯的己內酯改質物、三甲基己內酯改質物或戊內酯改質物等，具體而言可舉出CELLOXIDE 2021、CELLOXIDE 2021A、CELLOXIDE 2021P、CELLOXIDE 2081、CELLOXIDE 2083、CELLOXIDE 2085(以上，DAICEL化學工業(股製)、Cyracure UVR-6105、Cyracure UVR-6107、Cyracure 30、R-6110(以上，DOW CHEMICAL日本(股)製)等。具氧雜環丁烷基之化合物有改善本發明之陽離子聚合性接著劑組成物之硬化性、降低該組成物之液體黏度等效果，故宜含有該化合物。具有氧雜環丁烷基之化合物，可舉如3-乙-3-羥甲基氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙-3-氧雜環丁烷基)甲氧基甲基]苯、3-乙-3-(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、二[(3-乙-3-氧雜環丁烷基)甲基]醚、3-乙-3-(2-乙基己氧基甲基)氧雜環丁烷、苯酚酚醛清漆氧雜環丁烷等，及市售之ARON OXETANE OXT-101、ARON OXETANE OXT-121、ARON OXETANE OXT-211、ARON OXETANE OXT-221、ARON OXETANE OXT-212(以上，東亞合成公司製)等。具乙烯基醚基之化合物有改善本發明之陽離子聚合性接著劑組成物之硬化性、降低該組成物之液體黏度等效果，故宜含有該化合物。具乙烯基醚基之化合物可舉如2-羥乙基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚、4-羥丁基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚、三乙二醇二乙烯基醚、環己烷二甲醇二乙烯基醚、環己烷二甲醇單乙烯基醚、三環癸烷乙烯基醚、環己基乙烯基醚、甲氧基乙基乙烯基醚、乙氧基乙基乙烯基醚、新戊四醇型四乙烯基醚等。
氣泡抑制劑為一種藉由摻混於接著劑組成物中可降低其表面張力之化合物，藉此具有可減低與貼合之被黏著體之間氣泡的效果。氣泡抑制劑可使用具備添加至接著劑組成物中時可減低其表面張力之效果者，例如：聚二甲基矽氧烷等具有聚矽氧烷骨架之聚矽氧系氣泡抑制劑、(甲基)丙烯酸酯等聚合而成之具有(甲基)丙烯醯基骨架的(甲基)丙烯酸系氣泡抑制劑、乙烯基醚或環狀醚等聚合而成之聚醚系氣泡抑制劑、由具全氟烷基之氟系化合物所構成之氟性氣泡抑制劑等。
氣泡抑制劑所具有的反應性基可舉如聚合性官能基，具體而言例如(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等具有乙烯性雙鍵之自由基聚合性官能基；環氧丙基等環氧基、氧雜環丁烷基、乙烯基醚基、環狀醚基、環狀硫醚基、內酯基等陽離子聚合性官能基等。由在接著劑組成物中之反應性的觀點來看，宜為具有雙鍵作為反應性基之氣泡抑制劑，更宜為具有(甲基)丙烯醯基之氣泡抑制劑。
考慮到抑制積層氣泡與提升接著性之效果時，前述氣泡抑制劑中以聚矽氧系氣泡抑制劑為佳。此外氣泡抑制劑中，考慮到接著劑層之接著性時，以於主鏈骨架或側鏈含有胺甲酸酯鍵或三聚異氰酸酯環結構者為佳。聚矽氧系氣泡抑制劑可適當使用市售品，可舉例如丙烯醯基改質聚二甲基矽氧烷之「BYK-UV3505」(BYK・Japan公司製)。
為兼顧所得接著劑層之接著力與減低積層氣泡之效果，將接著劑組成物之總量設為100重量%時，氣泡抑制劑之含量宜為0.01~0.6重量%。
＜自由基聚合性接著劑組成物之態樣＞ 在將電子射線等用作活性能量線時，該接著劑組成物不一定要含有光聚合起始劑，而在將紫外線或可見光線用作活性能量線時，接著劑組成物則宜含有光聚合起始劑。
≪光聚合起始劑≫ 在使用自由基聚合性化合物時，光聚合起始劑可依照活性能量線來作適當選擇。在藉由紫外線或可見光線使其硬化時，是使用紫外線或可見光線開裂之光聚合起始劑。作為前述光聚合起始劑，可舉例如二苯基乙二酮(benzil)、二苯基酮、苯甲醯苯甲酸、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯基酮等二苯基酮系化合物；4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥-2-丙基)酮、α-羥-α,α’-二甲基苯乙酮、2-甲-2-羥基苯丙酮、α-羥基環己基苯基酮等芳香族酮化合物；甲氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2-甲-1-[4-(甲硫基)-苯基]-2-啉丙烷-1等的苯乙酮系化合物；苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻丁基醚、大茴香偶姻甲基醚等的苯偶姻醚系化合物；苄基二甲縮酮等芳香族縮酮系化合物；2-萘磺醯氯等芳香族磺醯氯系化合物；1-苯酮-1,1-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟等的光活性肟系化合物；9-氧硫 、2-氯9-氧硫 、2-甲基9-氧硫 、2,4-二甲基9-氧硫 、異丙基-9-氧硫 、2,4-二氯9-氧硫 、2,4-二乙基9-氧硫 、2,4-二異丙基9-氧硫 、十二基9-氧硫 等的9-氧硫 系化合物；樟腦醌；鹵化酮；醯基氧化膦；醯基膦酸酯等。
前述光聚合起始劑之摻混量相對於接著劑組成物之總量在20重量%以下。光聚合起始劑之摻混量宜為0.01~20重量%，且更宜為0.05~10重量%，進而為0.1~5重量%。
又，本發明所使用之接著劑組成物以含有自由基聚合性化合物作為硬化性成分之可見光線硬化性作使用時，尤宜使用對380nm以上的光有高感度之光聚合起始劑。對380nm以上的光有高感度之光聚合起始劑將於後詳述。
前述光聚合起始劑宜單獨使用下述通式(2)所示化合物、或併用通式(2)所示化合物與後述對380nm以上的光有高感度之光聚合起始劑： [化學式2](式中，R4 及R5 表示-H、-CH2 CH3 、-iPr或Cl，且R4 及R5 可相同或相異)。相較於單獨使用對380nm以上的光有高感度之光聚合起始劑的情形，使用通式(2)所示化合物時之接著性較佳。通式(2)所示化合物當中，以R4 及R5 為-CH2 CH3 之二乙基9-氧硫 尤佳。接著劑組成物中，通式(4)所示化合物之組成比率以相對於接著劑組成物之總量為0.1~5重量%為佳，以0.5~4重量%較佳，而0.9~3重量%更佳。
又，宜因應需要而添加聚合起始助劑。聚合起始助劑可舉例如三乙胺、二乙胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲胺苯甲酸、4-二甲胺苯甲酸甲酯、4-二甲胺苯甲酸乙酯、4-二甲胺苯甲酸異戊酯等，尤宜為4-二甲胺苯甲酸乙酯。使用聚合起始助劑時，其添加量相對於接著劑組成物之總量，一般為0~5重量%，並以0~4重量%為佳，0~3重量%為最佳。
又，可因應需要併用公知之光聚合起始劑。具有UV吸收能的透明保護薄膜不會透射380nm以下的光線，因此光聚合起始劑宜使用對380nm以上的光有高感度之光聚合起始劑。具體而言，可舉例如2-甲-1-(4-甲基硫基苯基)-2-啉丙-1-酮、2-苄-2-二甲胺基-1-(4-啉苯基)-丁-1-酮、2-(二甲胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-啉基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物、雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。
特別是，光聚合起始劑除了通式(2)之光聚合起始劑之外，還宜使用下述通式(3)所示化合物： [化學式3](式中，R6 、R7 及R8 表示-H、-CH3 、-CH2 CH3 、-iPr或Cl，且R6 、R7 及R8 可相同或相異)。通式(3)所示化合物可適當使用亦屬市售品的2-甲-1-(4-甲基硫基苯基)-2-啉丙-1-酮(商品名：IRGACURE907，製造商：BASF)。除此之外，2-苄-2-二甲胺基-1-(4-啉苯基)-丁-1-酮(商品名：IRGACURE369，製造商：BASF)、2-(二甲胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE379，製造商：BASF)由於感度高，因此較為理想。
＜具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物、與具有奪氫作用之自由基聚合起始劑＞ 上述接著劑組成物中，當使用具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物作為自由基聚合性化合物時，宜與具有奪氫作用之自由基聚合起始劑組合使用。藉由前述結構，則特別是即便剛從高濕度環境或水中取出(非乾燥狀態)，偏光薄膜所具有的接著劑層之接著性仍會顯著提升。該理由並未究明，但可推測為以下原因。即，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物會一邊與構成接著劑層之其他自由基聚合性化合物一起聚合，一邊被組入接著劑層中基底聚合物的主鏈及/或側鏈，形成接著劑層。於前述聚合過程中，一旦存在具奪氫作用之自由基聚合起始劑，就會一邊形成構成接著劑層之基底聚合物，一邊從具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物奪氫，而在亞甲基產生自由基。於是，產生自由基之亞甲基會與PVA等偏光件之羥基反應，而在接著劑層與偏光件之間形成共價鍵。結果可推知特別是即便在非乾燥狀態下，偏光薄膜所具有之接著劑層之接著性仍會明顯提升。
於本發明中，具有奪氫作用之自由基聚合起始劑可舉例如9-氧硫 系自由基聚合起始劑、二苯基酮系自由基聚合起始劑等。前述自由基聚合起始劑以9-氧硫 系自由基聚合起始劑為佳。作為9-氧硫 系自由基聚合起始劑，可舉例如上述通式(2)所示化合物。通式(2)所示化合物之具體例可舉出9-氧硫 系、二甲基9-氧硫 系、二乙基9-氧硫 、異丙基9-氧硫 系、氯9-氧硫 系等。通式(2)所示化合物當中，以R4 及R5 為-CH2 CH3 之二乙基9-氧硫 尤佳。
上述接著劑組成物中，在含有具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物、與具有奪氫作用之自由基聚合起始劑的情況下， 將硬化性成分之總量設為100重量%時，宜含有1~50重量%之前述具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物，且相對於硬化性樹脂組成物之總量，宜含有0.1~10重量%之自由基聚合起始劑。
如上述，於本發明中，在具有奪氫作用之自由基聚合起始劑存在下，使具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之亞甲基產生自由基，而前述亞甲基會與PVA等偏光件之羥基反應形成共價鍵。因此，為了使具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之亞甲基產生自由基並充分形成前述共價鍵，在將硬化性成分之總量設為100重量%時，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物以含有1~50重量%為佳，進而以含有3~30重量%較佳。為使耐水性充份提升並提升非乾燥狀態下之接著性，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物宜設為1重量%以上。另一方面，若大於50重量%，會有接著劑層硬化不良的情況。此外，具有奪氫作用之自由基聚合起始劑以含有相對於接著劑組成物之總量為0.1~10重量%為佳，更以含有0.3~9重量%較佳。為使奪氫反應充分地進行，宜使用0.1重量%以上的自由基聚合起始劑。另一方面，若大於10重量%，就會有未完全溶解於組成物中的情況。
＜光陽離子聚合起始劑＞ 陽離子聚合性接著劑組成物含有選自於以上所說明之具環氧基的化合物、具氧雜環丁烷基的化合物、具乙烯基醚基的化合物中之至少1種化合物作為硬化性成分，且其等皆可經由陽離子聚合而硬化，所以可摻混光陽離子聚合起始劑。該光陽離子聚合起始劑藉由可見光線、紫外線、X射線、電子射線等活性能量線之照射，會產生陽離子種或路易士酸，引發環氧基或氧雜環丁烷基的聚合反應。光陽離子聚合起始劑可使用光酸產生劑與光鹼產生劑，且適合使用後述之光酸產生劑。又，本發明所使用之接著劑組成物以可見光線硬化性作使用時，宜使用特別對380nm以上的光具有高感度之光陽離子聚合起始劑，但光陽離子聚合起始劑一般而言是在300nm附近或比其更短的波長區域顯示極大吸收值的化合物，所以可藉由摻混對較其更長之波長區域、具體而言為波長比380nm更長的光顯示極大吸收值之光敏化劑，來感應在其附近波長的光，促進源自光陽離子聚合起始劑之陽離子種或酸的產生。作為光敏化劑，可舉例如蒽化合物、芘化合物、羰基化合物、有機硫化合物、過硫化物、氧化還原系化合物、偶氮及重氮化合物、鹵素化合物及光還原性色素等，其等亦可混合2種以上來使用。尤其蒽化合物因光敏化效果優異而甚為理想，具體而言，可舉如ANTHRACURE UVS-1331、ANTHRACURE UVS-1221(川崎化成公司製)。光敏化劑的含量以0.1重量%~5重量%為佳，0.5重量%~3重量%較佳。
＜其他成分＞ 本發明中所使用之接著劑組成物宜含有下述成分。
＜丙烯酸系寡聚物＞ 本發明中使用之接著劑組成物，除了前述自由基聚合性化合物之硬化性成分之外，還可含有(甲基)丙烯酸單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物。藉由接著劑組成物中含有成分，可在對該組成物照射活性能量線使其硬化時降低硬化收縮，而可降低接著與偏光件及與透明保護薄膜等被黏著體之界面應力。結果可抑制接著劑層與被黏著體的接著性降低。為能充分抑制硬化物層(接著劑層)的硬化收縮，丙烯酸系寡聚物的含量以相對於接著劑組成物之總量為20重量%以下為佳，15重量%以下較佳。若接著劑組成物中之丙烯酸系寡聚物的含量過多，對該組成物照射活性能量線後反應速度會急遽降低，而有硬化不良的情況。另一方面，丙烯酸系寡聚物以相對於接著劑組成物之總量含有3重量%以上為佳，含有5重量%以上較佳。
考慮到塗敷時的作業性及均勻性時，接著劑組成物以低黏度為佳，所以(甲基)丙烯酸單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物亦以低黏度為佳。作為低黏度並可防止接著劑層硬化收縮的丙烯酸系寡聚物，以重量平均分子量(Mw)在15000以下者為佳，而10000以下更佳，5000以下尤佳。另一方面，為能充分抑制硬化物層(接著劑層)之硬化收縮，丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量(Mw)以在500以上為佳，1000以上更佳，1500以上尤佳。構成丙烯酸系寡聚物之(甲基)丙烯酸單體，具體而言可舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲-2-硝基丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸S-丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸第三戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、(甲基)丙烯酸2,2-二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸-4-甲-2-丙基戊酯、N-十八基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸(碳數1~20)烷基酯類；以及例如(甲基)丙烯酸環烷酯(例如，(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等)、(甲基)丙烯酸芳烷酯(例如，(甲基)丙烯酸苄酯等)、多環式(甲基)丙烯酸酯(例如(甲基)丙烯酸-2-異莰酯、(甲基)丙烯酸2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降莰烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲-2-降莰基甲酯等)、含羥基的(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、2,3-二羥丙基甲基-丁基(甲基)甲基丙烯酸酯等)、含烷氧基或苯氧基的(甲基)丙烯酸酯類((甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯等)、含環氧基的(甲基)丙烯酸酯類(例如，(甲基)丙烯酸環氧丙酯等)、含鹵素的(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯等)、(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯(例如二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等)等。該等(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或併用2種以上。丙烯酸系寡聚物之具體例可舉出東亞合成公司製「ARUFON」、綜研化學公司製「ACTFLOW」、BASF JAPAN公司製「JONCRYL」等。
＜光酸產生劑＞ 上述接著劑組成物中可含有光酸產生劑。上述接著劑組成物中含有光酸產生劑時，相較於不含光酸產生劑之情況，可躍進地提升接著劑層之耐水性及耐久性。光酸產生劑可以下述通式(4)表示。
通式(4) [化學式4](惟，L+ 係表示任意之鎓陽離子；且，X- 表示選自於由PF66 - 、SbF6 - 、AsF6 - 、SbCl6 - 、BiCl5 - 、SnCl6 - 、ClO4 - 、二硫胺甲酸鹽陰離子、SCN- 所構成群組之相對陰離子)。
接著，說明通式(4)中的相對陰離子X- 。
通式(4)中的相對陰離子X- 原理上並無特別限制，而以非親核性陰離子為佳。當相對陰離子X- 為非親核性陰離子時，因不易使共存於分子內的陽離子或所併用之各種材料之親核反應發生，結果便能提升通式(4)所示光酸產生劑本身或使用有其之組成物的歷時穩定性。此處所謂非親核性陰離子，是指引發親核反應之能力低的陰離子。作為上述陰離子，可舉例如PF66 - 、SbF6 - 、AsF6 - 、SbCl6 - 、BiCl5 - 、SnCl6 - 、ClO4 - 、二硫胺甲酸鹽陰離子、SCN- 等。
本發明之光酸產生劑之理想具體例，具體而言可舉例如「Cyracure-UVI-6992」、「Cyracure-UVI-6974」(以上為陶氏化學(Dow Chemical)日本股份有限公司製)、「ADEKA OPTOMER SP150」、「ADEKA OPTOMER SP152」、「ADEKA OPTOMER SP170」、「ADEKA OPTOMER SP172」(以上為股份有限公司艾迪科(ADEKA)製)、「IRGACURE250」(汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製)、「CI-5102」、「CI-2855」(以上為日本曹達公司製)、「SANEIDO SI-60L」、「SANEIDO SI-80L」、「SANEIDO SI-100L」、「SANEIDO SI-110L」、「SANEIDO SI-180L」(以上為三新化學公司製)、「CPI-100P」、「CPI-100A」(以上為三亞普羅(SAN-APRO)股份有限公司製)、「WPI-069」、「WPI-113」、「WPI-116」、「WPI-041」、「WPI-044」、「WPI-054」、「WPI-055」、「WPAG-281」、「WPAG-567」、「WPAG-596」(以上為和光純藥公司製)。
光酸產生劑之含量相對於接著劑組成物之總量為10重量%以下，且以0.01~10重量%為佳，0.05~5重量%更佳，0.1~3重量%尤佳。
＜光鹼產生劑＞ 光鹼產生劑是一可藉由紫外線或可見光線等光照射使分子結構產生變化或分子開裂，而作為自由基聚合性化合物或環氧樹脂的聚合反應之觸媒發揮功能，生成1種以上鹼性物質之化合物。鹼性物質可舉例如2級胺、3級胺。作為光鹼產生劑，可舉例如上述α-胺苯乙酮化合物、上述肟酯化合物、或具有醯氧基亞胺基、N-甲醯基化芳香族胺基、N-醯基化芳香族胺基、硝基苄基胺甲酸酯基、烷氧基苄基胺甲酸酯基等取代基的化合物。其中又以肟酯化合物較佳。
具有醯氧基亞胺基之化合物可舉出譬如O,O’-琥珀酸二苯乙酮肟、O,O’-琥珀酸二萘乙酮肟、二苯甲酮肟丙烯酸酯-苯乙烯共聚物。
具有N-甲醯基化芳香族胺基、N-醯基化芳香族胺基之化合物可舉例如二-N-(對甲醯胺基)二苯基甲烷、二-N(對乙醯胺基)二苯基甲烷、二-N-(對苯甲醯胺)二苯基甲烷、4-甲醯胺基二苯乙烯、4-乙醯胺基二苯乙烯、2,4-二甲醯胺基二苯乙烯、1-甲醯胺基萘、1-乙醯胺基萘、1,5-二甲醯胺基萘、1-甲醯胺基蒽、1,4-二甲醯胺基蒽、1-乙醯胺基蒽、1,4-二甲醯胺基蒽醌、1,5-二甲醯胺基蒽醌、3,3’-二甲基-4,4’-二甲醯胺基聯苯、4,4’-二甲醯胺基二苯基酮。
具有硝基苄基胺甲酸酯基、烷氧基苄基胺甲酸酯基之化合物可舉例如雙{{(2-硝基苄基)氧基}羰基}二胺基二苯甲烷、2,4-二{{(2-硝基苄基)氧基}二苯乙烯、雙{{(2-硝基苄基氧基)羰基}己烷-1,6-二胺及間茬胺{{(2-硝基-4-氯苄基)氧基}醯胺}。
光鹼產生劑宜為肟酯化合物及α-胺苯乙酮化合物之至少任1種，更宜為肟酯化合物。α-胺苯乙酮化合物尤以具有2個以上氮原子者為佳。
其他光鹼產生劑亦可使用WPBG-018(商品名：9-anthrylmethyl N,N’-diethylcarbamate)、WPBG-027(商品名：(E)-1-[3-(2-hydroxyphenyl)-2-propenoyl]piperidine)、WPBG-082(商品名：guanidinium2-(3-benzoylphenyl)propionate)、WPBG-140(商品名：1-(anthraquinon-2-yl)ethyl imidazolecarboxylate)等光鹼產生劑。
＜含烷氧基或環氧基之任一者的化合物＞ 上述接著劑組成物可於接著劑組成物中併用光酸產生劑與含烷氧基或環氧基之任一者的化合物。
(具有環氧基之化合物及高分子) 使用分子內具有1個以上環氧基之化合物或分子內具有2個以上環氧基之高分子(環氧樹脂)時，亦可併用分子內具有2個以上與環氧基有反應性之官能基的化合物。此處所謂與環氧基有反應性之官能基，可舉如羧基、酚性羥基、巰基、1級或2級芳香族胺基等。考慮到3維硬化性，以在一分子中具有2個以上該等官能基尤佳。
在分子內具有1個以上環氧基之高分子可舉例如環氧樹脂，且有由雙酚A與表氯醇所衍生之雙酚A型環氧樹脂、由雙酚F與表氯醇所衍生之雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚A酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚F酚醛清漆型環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、二苯基醚型環氧樹脂、氫醌型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂、茀型環氧樹脂、3官能型環氧樹脂及4官能型環氧樹脂等多官能型環氧樹脂、縮水甘油酯型環氧樹脂、縮水甘油胺型環氧樹脂、海因(hydantoin)型環氧樹脂、三聚異氰酸酯型環氧樹脂、脂肪族鏈狀環氧樹脂等，該等環氧樹脂亦可被鹵素化，亦可被氫化。市售的環氧樹脂製品，可舉例如Japan Epoxy Resins股份公司製的JERCoat 828、1001、801N、806、807、152、604、630、871、YX8000、YX8034、YX4000；DIC股份公司製的Epiclon830、EXA835LV、HP4032D、HP820；股份公司ADEKA製的EP4100系列、EP4000系列、EPU系列；DAICEL化學股份公司製的CELLOXIDE系列(2021、2021P、2083、2085、3000等)、EPOLEAD系列、EHPE系列；新日鐵化學公司製的YD系列、YDF系列、YDCN系列、YDB系列、苯氧樹脂(為由雙酚類與表氯醇所合成之聚羥基聚醚並在兩末端具有環氧基；YP系列等)；NAGASE CHEMTEX公司製的DENACOL系列；共榮社化學公司製的Epolite系列等，惟不限於該等。該等環氧樹脂亦可併用2種以上。
(具有烷氧基之化合物及高分子) 作為分子內具有烷氧基之化合物，只要是分子內具有1個以上烷氧基者就無特別限制，可使用公知之物。此種化合物，可舉如三聚氰胺化合物、胺基樹脂、矽烷耦合劑等作為代表。
相對於接著劑組成物之總量，含烷氧基與環氧基之任一者的化合物之摻混量通常為30重量%以下，組成物中化合物的含量若過多，接著性就會降低，對落下試驗之耐衝擊性會有惡化的情形。組成物中化合物的含量以20重量%以下較佳。另一方面，從耐水性之觀點來看，組成物中宜含有2重量%以上之化合物，且含有5重量%以上較佳。
＜矽烷耦合劑＞ 在本發明中使用之接著劑組成物為活性能量線硬化性硬化性的情形下，矽烷耦合劑宜使用活性能量線硬化性的化合物，但即便不是活性能量線硬化性，亦能夠賦予同樣的耐水性。
矽烷耦合劑的具體例方面，作為活性能量線硬化性的化合物可舉如乙烯基三氯矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-(3,4環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等。
較佳為3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷。
不屬於活性能量線硬化性之矽烷耦合劑的具體例方面，則以具有胺基之矽烷耦合劑(D1)為佳。具有胺基之矽烷耦合劑(D1)的具體例，可舉如γ-胺丙基三甲氧基矽烷、γ-胺丙基三乙氧基矽烷、γ-胺丙基三異丙氧基矽烷、γ-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-胺丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三異丙氧基矽烷、γ-(2-(2-胺乙基)胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(6-胺己基)胺丙基三甲氧基矽烷、3-(N-乙胺基)-2-甲基丙基三甲氧基矽烷、γ-脲丙基三甲氧基矽烷、γ-脲丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-苄基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-乙烯基苄基-γ-胺丙基三乙氧基矽烷、N-環己基胺甲基三乙氧基矽烷、N-環己基胺甲基二乙氧基甲基矽烷、N-苯基胺甲基三甲氧基矽烷、(2-胺乙基)胺甲基三甲氧基矽烷、N,N’-雙[3-(三甲氧基矽基)丙基]乙二胺等含胺基的矽烷類；N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙烷胺等酮亞胺(ketimine)型矽烷類。
具有胺基之矽烷耦合劑(D1)可僅使用1種，亦可將多種組合使用。其等之中，為了確保良好的接著性，係以γ-胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二乙氧基矽烷、N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙烷胺為佳。
矽烷耦合劑之摻混量以相對於接著劑組成物之總量為0.01~20重量%之範圍為佳，0.05~15重量%較佳，0.1~10重量%更佳。因摻混量大於20重量%時，接著劑組成物之儲存穩定性會惡化，而低於0.1重量%時則會無法充分發揮接著耐水性之效果。
上述以外非屬活性能量線硬化性的矽烷耦合劑之具體例，可舉如3-脲丙基三乙氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-巰丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰丙基三甲氧基矽烷、雙(三乙氧基矽基丙基)四硫醚、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、咪唑矽烷等。
＜具有乙烯基醚基之化合物＞ 本發明中使用之接著劑組成物在含有具乙烯基醚基之化合物時，偏光件與接著劑層之接著耐水性會提升，故甚為理想。獲得該效果之理由雖尚不明朗，但可推測出理由之一是由於化合物所具有之乙烯基醚基與偏光件相互作用，而提高了偏光件與接著劑層之接著力。為能使偏光件與接著劑層之接著耐水性進一步提高，化合物宜為具乙烯基醚基之自由基聚合性化合物。此外，化合物之含量以含有相對於接著劑組成物之總量為0.1~19重量%為佳。
＜可產生酮-烯醇互變異構性之化合物＞ 本發明中使用之接著劑組成物中可含有可產生酮-烯醇互變異構性之化合物。例如，在含有交聯劑之接著劑組成物中或在摻混交聯劑作使用之接著劑組成物中，可適於採用包含上述可產生酮-烯醇互變異構性之化合物的態樣。藉此，在摻混有機金屬化合物後接著劑組成物的黏度過度上升或膠化現象、以及微凝膠物的生成會受到抑制，而能實現延長該組成物之使用期限的效果。
上述可產生酮-烯醇互變異構性之化合物可使用各種β-二羰基化合物。具體例可舉如乙醯丙酮、2,4-己二酮、3,5-庚二酮、2-甲基己-3,5-二酮、6-甲基庚-2,4-二酮、2,6-二甲基庚-3,5-二酮等的β-二酮類；乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、乙醯乙酸異丙酯、乙醯乙酸三級丁酯等乙醯乙酸酯類；丙醯基乙酸乙酯、丙醯基乙酸乙酯、丙醯基乙酸異丙酯、丙醯基乙酸三級丁酯等丙醯基乙酸酯類；異丁醯基乙酸乙酯、異丁醯基乙酸乙酯、異丁醯基乙酸異丙酯、異丁醯基乙酸三級丁酯等異丁醯基乙酸酯類；丙二酸甲酯、丙二酸乙酯等丙二酸酯類等。其中適宜的化合物可舉如乙醯丙酮及乙醯乙酸酯類。所述可產生酮-烯醇互變異構性之化合物可單獨使用，亦可將2種以上組合使用。
可產生酮-烯醇互變異構性之化合物的使用量，係設為例如相對於1重量份之有機金屬化合物為0.05重量份~10重量份，較佳為0.2重量份~3重量份(例如0.3重量份~2重量份)。上述化合物之使用量相對於1重量份之有機金屬化合物若低於0.05重量份，就會有難以發揮充分使用效果的情形。另一方面，該化合物之使用量相對於1重量份之有機金屬化合物若超過10重量份，就會對有機金屬化合物有過剩的相互作用，而有難以展現所欲獲得之耐水性之情況。
＜聚輪烷(polyrotaxane)＞ 本發明之接著劑組成物中可含有聚輪烷。上述聚輪烷具有環狀分子、貫穿該環狀分子的開口部之直鏈狀分子及封端基，且該封端基係該環狀分子不會從該直鏈狀分子脫離之方式配置於該直鏈狀分子兩端。且環狀分子宜具有活性能量線硬化性之官能基。
環狀分子只要其開口部上有直鏈狀分子被以串刺狀包接、可在直鏈狀分子上移動且具有活性能量線聚合性基之分子，則無特別限定。另，本說明書中，「環狀分子」之「環狀」意指實質上為「環狀」。亦即，只要可在直鏈狀分子上移動，則環狀分子亦可為非完全閉環。
環狀分子之具體例可列舉環狀聚醚、環狀聚酯、環狀聚醚胺、環狀多胺等環狀聚合物；及α-環糊精、β-環糊精、γ-環糊精等環糊精。其中，就較容易取得且能夠選擇多種封端基之觀點看來，其宜為α-環糊精、β-環糊精、γ-環糊精等環糊精。環狀分子亦可於聚輪烷中或接著劑中混雜有2種以上。
本發明所用之聚輪烷中，上述環狀分子具有活性能量線聚合性基。藉此，即使在聚輪烷與活性能量線硬化性成分反應而硬化後，仍可獲得交聯點可動之接著劑。環狀分子具有之活性能量線聚合性基只要是可與上述活性能量線硬化性化合物聚合之基即可，可舉例如(甲基)丙烯醯基及(甲基)丙烯醯氧基等自由基聚合性基。
使用環糊精作為環狀分子時，活性能量線聚合性基較佳為可透過任意適當之連接子導入環糊精之羥基。聚輪烷於1分子中所具有之活性能量線聚合性基的數量宜為2個~1280個，較佳為50個~1000個，更佳為90個~900個。
環狀分子中宜導入有疏水性改質基。藉由導入疏水性改質基，可提升與活性能量線硬化性成分之相溶性。並且，因賦予了疏水性，故在用於偏光薄膜時可防止水浸入接著劑層與偏光件之界面，而可更進一步提升耐水性。疏水性改質基可列舉聚酯鏈、聚醯胺鏈、烷基鏈、氧伸烷基鏈、醚鏈等。具體例可舉出WO2009/145073之[0027]~[0042]中記載之基團。
將含聚輪烷之樹脂組成物作為接著劑使用之偏光薄膜，其耐水性佳。偏光薄膜之耐水性提升的理由尚不明確，但可作以下推測。亦即，吾等認為是因聚輪烷的環狀分子的可動性致使交聯點可移動(所謂滑輪效應)，從而對硬化後之接著劑賦予柔軟性，增加對偏光件表面凹凸之密著性，結果便防止了水侵入偏光件與接著劑層之界面。此外，還推測藉由聚輪烷具有疏水性改質基而可對接著劑賦予疏水性這一點，亦有助於防止水侵入偏光件與接著劑層之界面。
聚輪烷的含量宜相對於樹脂組成物為2重量%~50重量%。
前述接著劑組成物可含有下述通式(5)所示化合物： [化學式5](惟，X為含有選自於由乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基及巰基所構成群組中之至少1種反應性基的官能基，R9 及R10 分別獨立表示氫原子或可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)。通式(5)記載之化合物容易與聚乙烯醇系偏光件所具有之羥基形成酯鍵。並且，前述通式(5)記載之化合物還更具有含反應性基的X，透過X所含之反應性基而可與接著劑組成物中含有之其他硬化性成分反應。即，硬化性樹脂層所具有之硼酸基及/或硼酸酯基會透過與偏光件所具有之羥基共價鍵而強固地接著。藉此，即便偏光件與硬化性樹脂層之界面有水分存在，因其等不僅透過氫鍵及/或離子鍵，還透過共價鍵而強固地相互作用，故偏光件與硬化性樹脂層之間的接著耐水性會飛躍性地提升。由提升偏光件與硬化物層之接著性及耐水性的觀點，尤其由提升在透過接著劑層來接著偏光件與透明保護薄膜的情況下之接著性及耐水性的觀點來看，接著劑組成物中，通式(5)記載之化合物含量以0.001~50重量%為佳，0.1~30重量%較佳，1~10重量%尤佳。
＜有機金屬化合物＞ 本發明之接著劑組成物同時含有選自於由金屬烷氧化物及金屬螯合物所構成群組中之至少1種有機金屬化合物和具有聚合性官能基及羧基之聚合性化合物時，偏光件與接著劑層之接著耐水性會提升，故較佳。有機金屬化合物會因夾雜水分而成為活性金屬種，結果有機金屬化合物會與偏光件及構成接著劑層之活性能量線硬化性成分兩者強固地相互作用。藉此，即便偏光件與接著劑層之界面有水分存在，其等因透過有機金屬化合物強固地相互作用，故偏光件與接著劑層之間的接著耐水性會飛躍性地提升。有機金屬化合物對接著劑層之接著性及耐水性提升方面助益甚大，但含有該化合物的組成物會因液體穩定性變得不穩定，導致有使用期限變短、生產性惡化的傾向。推測其原因之一是有機金屬化合物的反應性高，而其與組成物中微量含有的水分接觸將引發水解反應與自縮合反應，結果會自體凝集而讓組成物液體白濁化(產生凝集物、相分離、沈澱)。然而於組成物中同時含有有機金屬化合物和具有聚合性官能基及羧基之聚合性化合物時，可抑制有機金屬化合物的水解反應與自縮合反應，而能使組成物中之有機金屬化合物的液體穩定性飛躍性地提升。有機金屬化合物之比率宜為組成物總量之0.05~15重量%，較佳為0.1~10重量%。因在摻混量超過15重量%的情況下，會有組成物之儲存穩定性惡化、用以與偏光件或保護薄膜接著之成分的比率相對不足而使接著性降低之虞。而且在低於0.05重量%的情況下，接著耐水性之效果會無法充分發揮。硬化型接著劑組成物中，令有機金屬化合物之總量為α(mol)時，具有合性官能基及羧基之聚合性化合物含量在0.25α(mol)以上為佳，在0.35α(mol)以上更佳，在0.5α(mol)以上尤佳。具有合性官能基及羧基之聚合性化合物含量低於0.25α(mol)時，會有有機金屬化合物之穩定化不足，致使水解反應與自縮合反應進行而使使用期限縮短的狀況。另，聚合性化合物相對於有機金屬化合物之總量α(mol)的含量上限並無特別限定，可舉例如4α(mol)左右。
＜聚氯化烯烴＞ 本發明之接著物組成物中可摻混聚氯化烯烴。此時所得之接著劑層，因源自聚乙烯醇系偏光件的碘化合物所行之被染色性明顯減低，而可發揮作為抑制源自偏光件的碘化合物游離、擴散之保護層功能。結果在將本發明之接著物組成物用於偏光薄膜用途時，偏光薄膜之光學耐久性會顯著提升。另，本發明之接著物組成物需在光學上呈現透明，從而聚烯烴系樹脂宜選擇可溶於活性能量線硬化性成分且不會發生層分離或沉澱之聚氯化烯烴。未施以氯化之聚烯烴對藉由照射活性能量線而硬化之硬化性成分的溶解性明顯較低，故不佳。
本發明中可使用之聚氯化烯烴可舉例如氯化聚乙烯、氯化聚丙烯、丙烯酸改質或胺甲酸酯改質聚氯化烯烴等。
聚氯化烯烴中的氯含有率宜為25~50重量%，更宜為30~45重量%。若低於25重量%，其對活性能量線硬化性成分的溶解性降低，而有變得難以形成在光學上呈透明的組成物的情形。若超過50重量%，在作成偏光薄膜後在嚴酷加濕條件下之光學特性的變化變大，而有變得無法獲得本發明效果的情形。聚氯化烯烴中的氯含量可依據JIS-K7229進行測量。更具體地說，可用譬如「氧燒瓶燃燒法」進行測定，該氧燒瓶燃燒法是在氧氣環境下使含氯樹脂燃燒，並以水吸收所產生之氣體氯後，藉由滴定而定量。
又，聚氯化烯烴)之重量平均分子量以3,000~100,000為佳，以5,000~80,000更佳，而以使用10,000~20,000之範圍者最佳。若聚氯化烯烴之分子量過低，在作成硬化物時會有耐水性未充分提升的情形。此外，若分子量過高，則對活性能量線硬化性成分的溶解性明顯降低，而有變得難以形成在光學上呈透明的組成物的情形。
就聚氯化烯烴而言，可入手之市售品可舉例如SUPERCHLON系列(日本製紙化學公司製)、HARDLEN系列(東洋紡公司製)、ELASLEN系列(昭和電工公司製)等。
在可取得之市售品之中，又更宜使用SUPERCHLON系列(日本製紙Chemicals公司製)之「SUPERCHLON 814HS」、「SUPERCHLON 390S」、「SUPERCHLON 803MW」、「SUPERCHLON 803L」、「SUPERCHLON B」、HARDLEN系列(東洋紡公司製)之「HARDLEN 16-LP」、「HARDLEN 15-LP」、ELASLEN系列(昭和電工公司製)之「ELASLEN 404B」、「ELASLEN 402B」、「ELASLEN 401A」等，而其中「SUPERCHLON 814HS」，基於其對活性能量線硬化性成分之溶解性、與製成偏光薄膜後在嚴酷加濕條件下的光學特性之穩定性的平衡性優異，因此又尤其宜於使用。
＜上述以外的添加劑＞ 又，本發明中使用之接著劑組成物可在不損及本發明之目的及效果的範圍內，摻混各種添加劑作為其他任意成分。此種添加劑可舉如環氧樹脂、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚胺甲酸酯、聚丁二烯、聚氯丁二烯、聚醚、聚酯、苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物、石油樹脂、二甲苯樹脂、酮樹脂、纖維素樹脂、氟系寡聚物、聚矽氧系寡聚物、聚硫醚系寡聚物等聚合物或寡聚物；啡噻、2,6-二-三級丁基-4-甲苯酚等聚合抑制劑；聚合起始助劑；界面活性劑；塑化劑；紫外線吸收劑；無機填充劑；顏料；染料等。
上述添加劑相對於接著劑組成物之總量通常為0~10重量%，並宜為0~5重量%，最佳為0~3重量%。
＜黏著劑組成物的特性＞ 接著劑組成物之SP值與用以構成積層光學薄膜的透明保護薄膜之SP值之間的SP值距離宜為12以下，更宜為10以下。藉此，於透明保護薄膜與接著劑層之間，會更確實地形成透明保護薄膜與接著劑層之組成會連續變化的相溶層，故較為理想。於本發明中，係參考用以構成接著劑組成物之單體等之SP值，藉由適當調整混合比率等，可將接著劑組成物之SP值調整到期望的範圍內。另，接著劑組成物之SP值的測定方法將於後述。
為了有效抑制積層氣泡的產生，本發明中使用之接著劑組成物在硬化前之表面張力宜為30mN/m以下。硬化前的接著劑組成物之表面張力的測定方法將於後述。
本發明使用之接著劑組成物在將使該組成物硬化而得之硬化物浸漬於23℃的純水中24小時後，其總體吸水率宜為10重量%以下。總體吸水率是以下式表示。 式：{(M2-M1)/M1}×100(%)； 惟，藉由將M1：浸漬前之硬化物重量、M2：浸漬後之硬化物重量的總體吸水率設為10重量%以下，可抑制在將偏光薄膜置於嚴酷的高溫高濕環境下時水往偏光件移動，從而抑制偏光件之透射率上升、偏光度下降。從可使偏光薄膜之接著劑層在高溫下之嚴苛環境下之光學耐久性變得更好的觀點來看，前述總體吸水率宜為5重量%以下，更以3重量%以下為佳，1重量%以下最佳。另一方面，在貼合偏光件與透明保護薄膜之際，偏光件已保有一定量之水分，故該硬化型接著劑與偏光件所含水分接觸時會有產生塌凹、氣泡等外觀不良之情形。為抑制外觀不良，該硬化型接著劑宜可吸收一定量的水分。更具體而言，總體吸水率宜為0.01重量%以上，更宜為0.05重量%以上。
本發明中使用之接著劑組成物的黏度宜為3~100mPa・s，更宜為5~50mPa・s，最宜為10~30mPa・s。接著劑組成物的黏度高時，塗佈後的表面平滑性貧乏而會產生外觀不良，故不佳。本發明中使用之接著劑組成物，可加熱或冷卻該組成物來調整為較佳範圍的黏度後再行塗佈。
本發明所使用之接著劑組成物是以辛醇/水分配係數(以下稱logPow值)較高者為佳。logPow值是表示物質親油性的指標，意指辛醇/水之分配係數的對數值。logPow高代表親油性，即意味著吸水率低。logPow值雖可測定(JIS-Z-7260記載之燒瓶浸透法)，但亦可藉由根據偏光薄膜用硬化型接著劑之構成成分(硬化性成分等)的各化合物之結構進行計算來算出。本說明書中是使用Cambridgesoft公司製ChemDraw Ultra所計算出的logPow值。 以上述計算值為基礎，本發明中偏光薄膜用硬化型接著劑的logPow值可藉由下述式進行計算。 硬化型接著劑的logPow=Σ(logPowi×Wi) logPowi：硬化型接著劑之各成分的logPow值 Wi：(i成分之莫耳數)/(硬化型接著劑之各成分之總莫耳數) 進行上述計算時，硬化型接著劑之各成分當中，聚合起始劑或光酸產生劑等不會形成硬化物(接著劑層)之骨架的成分會被排除上述計算之成分外。本發明之偏光薄膜用硬化型接著劑的logPow值是以1以上為佳，較佳為1.5以上，最佳為2以上。藉此便可提高接著耐水性或加濕耐久性。另一方面，本發明之偏光薄膜用硬化型接著劑的logPow值通常為8以下左右，而宜為5以下，更宜為4以下。若該logPow值過高，則會如前述變得容易產生塌凹或氣泡等外觀不良，故不佳。
此外，本發明所使用之接著劑組成物以實質上不含水或揮發性溶劑為佳。因實質上不含揮發性溶劑，便不需加熱處理，則不僅生產性優異還可抑制偏光件因熱造成光學特性降低，故較為理想。所謂「實質上不含」是指譬如令接著劑組成物之總量為100重量%以下時含有低於5重量%，尤其是指含有低於2重量%者。
又，本發明所使用之接著劑組成物因具有硬化性成分，故使該接著劑組成物硬化後，通常會發生硬化收縮。硬化收縮率是表示從樹脂組成物形成接著劑層時硬化收縮比率的指標。接著劑層之硬化收縮率若變大，則在使接著劑組成物硬化並形成接著劑層時，會產生界面應變而出現接著不良的情形，故宜將其抑制。由上述觀點來看，具有本發明效果之樹脂組成物硬化所得之硬化物，其上述硬化收縮率宜為10%以下。且前述硬化收縮率宜低，前述硬化收縮率以8%以下為佳，更以5%以下為佳。前述硬化收縮率是以日本專利特開2013-104869號所記載之方法來測定，具體而言是以實施例記載之利用Sentech公司製硬化收縮感測器之方法來測定。
又，從安全性之觀點來看，本發明中使用之接著劑組成物是以使用皮膚刺激較低之材料作為前述硬化性成分為佳。皮膚刺激性可用P.I.I指標來判斷。P.I.I是廣泛使用之表示皮膚損害程度的指標，以崔氏試驗(Draize法)測定。測定值是以0~8的範圍表示，值越小判定為刺激性越低，但因測定值之誤差大，故作為參考值就好。P.I.I宜為4以下，較佳為3以下，最佳為2以下。
本發明之特徵在於以下該點：於構成積層光學薄膜之透明保護薄膜與接著劑層之間，形成有透明保護薄膜與接著劑層之組成會連續變化的相溶層。以下就透明保護薄膜予以說明。
＜透明保護薄膜＞ 透明保護薄膜為在與接著劑層之間形成相溶層，宜使用經使有機溶劑接觸用於形成接著劑層之側的面者，即已施行過前處理步驟者。前處理步驟中，例如可將透明保護薄膜浸漬於有機溶劑中等，但考慮到生產性時，以將有機溶劑塗敷於透明保護薄膜為佳。
於透明保護薄膜塗敷有機溶劑的方法可視所欲獲得之塗敷厚度適當選擇，可舉例如逆向式塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆向或間接)、棒式逆向式塗佈機、輥塗佈機、模塗機、棒塗機、桿塗機等。
作為有機溶劑，可適當使用與透明保護薄膜之SP值距離成為12以下者，可舉例如乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸2-羥乙酯等酯類；甲基乙基酮、丙酮、環己酮、甲基異丁基酮、二乙酮、甲基-正丙酮、乙醯丙酮等酮類；四氫呋喃(THF)、二㗁烷等環狀醚類；正己烷、環己烷等脂肪族或脂環族烴類；甲苯、二甲苯等芳香族烴類；甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、環己醇等脂肪族或脂環族醇類；乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、二乙二醇單乙基醚等甘醇醚類；二乙二醇單甲基醚乙酸酯、二乙二醇單乙基醚乙酸酯等甘醇醚乙酸酯類及其等混合物等。有機溶劑以使用與透明保護薄膜之SP值距離成為10以下者為佳。所使用之有機溶劑以實質上不含溶質為佳，更具體而言，有機溶劑之溶質含量以低於5重量%為佳，低於1重量%較佳，使用不含溶質的有機溶劑更佳。有機溶劑之SP值的測定方法將於後述。
作為透明保護薄膜，可適當使用與用以形成接著劑層之原料的接著劑組成物之SP距離成為10以下之薄膜。透明保護薄膜之SP值的測定方法將於後述。
透明保護薄膜宜為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性及各向同性等優異者。可舉如：聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；二乙醯纖維素及三乙醯纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯及丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；以及聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可列舉下述聚合物作為形成上述透明保護薄膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環系乃至降莰烯結構之聚烯烴、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍及芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。其中，本發明是以聚芳酯、聚碳酸酯、丙烯酸系聚合物及三乙醯纖維素為佳。透明保護薄膜中亦可含有1種以上任意且適當的添加劑。添加劑可舉如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂含量宜為50~100重量%，較佳為50~99重量%，更佳為60~98重量%，特佳為70~97重量%。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂含量在50重量%以下時，會有無法充分發揮熱可塑性樹脂原有的高透明性等之虞。
本發明之積層光學薄膜、尤其是偏光薄膜，宜為透過接著劑層積層偏光件與波長365nm之透光率低於5%的透明保護薄膜而成者。本發明所使用之接著劑組成物藉由含有上述通式(2)之光聚合起始劑，隔著具有UV吸收能之透明保護薄膜照射紫外線，可硬化形成接著劑層。因此，即便對在偏光件兩面積層有具有UV吸收能之透明保護薄膜而成的偏光薄膜，亦可使接著劑層硬化。而理所當然，對積層有不具有UV吸收能之透明保護薄膜而成的偏光薄膜，亦可使接著劑層硬化。此外，所謂具有UV吸收能之透明保護薄膜，意指對380nm之光的透射率低於10%的透明保護薄膜。
對透明保護薄膜賦予UV吸收能之方法，可舉如使透明保護薄膜中含有紫外線吸收劑之方法、與在透明保護薄膜表面積層含有紫外線吸收劑之表面處理層之方法。
紫外線吸收劑之具體例可舉例如公知之氧二苯基酮系化合物、苯并三唑系化合物、柳酸酯系化合物、二苯基酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯合鹽系化合物、三吖系化合物等。
關於紫外線硬化性或可見光線硬化性，較佳為在照射紫外線或可見光線之前將偏光薄膜用接著劑組成物加溫(照射前加溫)，此時以加溫至40℃以上為佳，加溫至50℃以上較佳。此外，在照射紫外線或可見光線之後將偏光薄膜用接著劑組成物加溫(照射後加溫)亦適宜，而此時以加溫至40℃以上為佳，加溫至50℃以上較佳。
又，作為透明保護薄膜，可舉日本特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜，例如一種含有(A)在側鏈具有取代及/或非取代醯亞胺基之熱可塑性樹脂、與在側鏈具有取代及/或非取代苯基以及腈基之熱可塑性樹脂的樹脂組成物。具體例可舉出含有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺所構成之交替共聚物與丙烯腈-苯乙烯共聚物的樹脂組成物之薄膜。薄膜可使用樹脂組成物之混合擠製物等所構成之薄膜。該等薄膜由於相位差小、光彈性係數小，而能消除偏光薄膜應變所造成的不均等不良狀況，且因透濕度低而有優良的加濕耐久性。
作為透明保護薄膜，Tg(玻璃轉移溫度)宜為115℃以上，較宜為120℃以上，更宜為125℃以上，尤宜為130℃以上。藉由Tg在115℃以上而可成為偏光薄膜之耐久性優異者。上述透明保護薄膜的Tg上限值並無特別限定，從成形性等的觀點來看，宜為170℃以下。
設於上述偏光件之單面或兩面的透明保護薄膜，以透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性及各向同性等優異者為佳，尤其是透濕度在150g/m2 /24h以下者較佳，140g/m2 /24h以下者特佳，120g/m2 /24h以下者更佳。透濕度可藉由實施例中記載之方法求得。
滿足前述低透濕度之透明保護薄膜的形成材料，可使用例如聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚碳酸酯樹脂；芳酯系樹脂；尼龍及芳香族聚醯胺等醯胺系樹脂；聚乙烯、聚丙烯、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、具有環系乃至降莰烯結構之環狀烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、或是該等混合物。前述樹脂中以聚碳酸酯系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂為佳，環狀聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂特佳。
透明保護薄膜之厚度可適當決定，一般而言從強度與操作性等之作業性、薄層性等之觀點來看，宜為5~100μm。尤以10~60μm為佳，20~40μm較佳。
前述透明保護薄膜通常使用正面相位差小於40nm且厚度方向相位差小於80nm者。正面相位差Re以Re=(nx-ny)×d表示。厚度方向相位差Rth以Rth=(nx-nz)×d表示。且，Nz係數以Nz=(nx-nz)/(nx-ny)表示。[惟，將薄膜之慢軸方向、快軸方向及厚度方向之折射率分別設為nx、ny、nz，且d(nm)設為薄膜之厚度；慢軸方向設為薄膜面內之折射率成為最大的方向]。另，透明保護薄膜宜盡可能為無色。可適宜使用厚度方向之相位差值為-90nm~+75nm之保護薄膜。藉由使用所述厚度方向之相位差值(Rth)為-90nm~+75nm者，可幾乎解決透明保護薄膜造成偏光薄膜著色(光學性著色)的情形。厚度方向之相位差值(Rth)以-80nm~+60nm更佳，-70nm~+45nm特佳。
另一方面，作為前述透明保護薄膜，可使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差的相位差板。正面相位差通常係控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常係控制在80~300nm之範圍。使用相位差板作為透明保護薄膜時，該相位差板亦可發揮作為透明保護薄膜的功能，故能謀求薄型化。
作為相位差板，可舉如將高分子素材進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物之定向薄膜、以薄膜支持液晶聚合物之定向層者等。相位差板之厚度也並無特別限制，一般為20~150μm左右。高分子素材可舉例如聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛、聚甲基乙烯基醚、聚羥乙基丙烯酸酯、羥乙基纖維素、羥丙基織維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳酯、聚碸、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚醚碸、聚苯硫、聚伸苯醚、聚芳基碸、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、或該等之二元、三元系各種共聚物、接枝共聚物、摻合物等。該等高分子素材藉由延伸等方式會成為定向物(延伸薄膜)。
液晶聚合物可舉例如聚合物之主鏈或側鏈導入有可賦予液晶定向性之共軛性直鏈狀原子團(液晶原)的各種主鏈型或側鏈型者等。主鏈型液晶聚合物的具體例，可舉已在賦予撓曲性之間隔部鍵結液晶原基之結構的譬如向列定向型之聚酯系液晶性聚合物、盤狀聚合物或膽固醇型聚合物等。側鏈型液晶聚合物的具體例，可舉以下者等：以聚矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯作為主鏈骨架，且隔著由共軛性原子團構成之間隔部具有可賦予向列定向性之對位取代環狀化合物單元所構成的液晶原部作為側鏈者。該等液晶聚合物是藉由下述方式進行而成：例如於已對形成於玻璃板上之聚醯亞胺或聚乙烯醇等薄膜表面進行磨擦處理者、斜向蒸鍍氧化矽者等之定向處理面上，展開液晶性聚合物溶液後進行熱處理。
相位差板可為例如以利用各種波長板或液晶層之雙折射來著色或補償視角等為目的者等因應使用目而具有適當相位差者，也可為經積層2種以上相位差板來控制相位差等光學特性者等。
相位差薄膜滿足nx=ny＞nz、nx＞ny＞nz、nx＞ny=nz、nx＞nz＞ny、nz=nx＞ny、nz＞nx＞ny、nz＞nx=ny之關係，可因應各種用途選擇使用。此外，ny=nz不只是ny與nz完全相同之情況，亦包含ny與nz實質上相同之情況。
舉例來說，滿足nx＞ny＞nz之相位差板，宜使用正面相位差滿足40~100nm、厚度方向相位差滿足100~320nm、且Nz係數滿足1.8~4.5者。舉例來說，滿足nx＞ny=nz之相位差板(positive A plate)，宜使用正面相位差滿足100~200nm者。舉例來說，滿足nz=nx＞ny之相位差板(negative A plate)，宜使用正面相位差滿足100~200nm者。舉例來說，滿足nx＞nz＞ny之相位差板，宜使用正面相位差滿足150~300nm並且 Nz係數滿足大於0且至0.7者。又，如前述，可使用例如滿足nx=ny＞nz、nz＞nx＞ny或nz＞nx=ny者。
透明保護薄膜可因應所應用之液晶顯示裝置適當選擇。例如，VA(VerticalAlignment，包含MVA、PVA)的情況，以偏光薄膜之至少一面(單元側)的透明保護薄膜具有相位差為佳。就具體的相位差而言，以Re=0~240nm、Rth=0~500nm之範圍為佳。以三維折射率而言，係以nx＞ny=nz、nx＞ny＞nz、nx＞nz＞ny、nx=ny＞nz(positive A plate，雙軸，negative C plate)之情況為佳。VA型是以使用positive A plate與negative C plate之組合，或1片雙軸薄膜為佳。於液晶單元之上下使用偏光薄膜時，液晶單元之上下皆可具有相位差，或上下任一方之透明保護薄膜可具有相位差。
例如，IPS(In-Plane Switching，包含FFS)的情況，無論在偏光薄膜之單面的透明保護薄膜具有相位差時、不具相位差時皆可使用。例如，不具相位差時，以液晶單元之上下(單元側)皆不具相位差為佳。具有相位差時，以液晶單元之上下皆具有相位差、上下任一方具有相位差為佳(例如，上側滿足nx＞nz＞ny關係之雙軸薄膜且下側不具相位差之情況，或上側為positive A plate且下側為positive C plate之情況)。具有相位差時，以Re=-500~500nm、Rth=-500~500nm之範圍為佳。以三維折射率而言，以nx＞ny=nz、nx＞nz＞ny、nz＞nx=ny、nz＞nx＞ny(positive A plate，雙軸，positive C plate)為佳。
透明保護薄膜為補充其機械強度或操作性，可再積層有剝離性基材。剝離性基材可於貼合透明保護薄膜與偏光件前或後、於該步驟中或於其他步驟中，從含透明保護薄膜與偏光件之積層體剝離。
＜光學薄膜＞ 本發明之積層光學薄膜中，光學薄膜宜為偏光件，特別是在本發明中，積層光學薄膜宜為於偏光件之至少一面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜之偏光薄膜。
＜偏光件＞ 偏光件並無特別限制，可使用各種偏光件。偏光件可舉例如使聚乙烯醇系薄膜、部份縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部份皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等之二色性材料並進行單軸延伸而成者，及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。其等之中，又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為佳。其等偏光件之厚度宜為2~30μm，更宜為4~20μm，最宜為5~15μm。偏光件之厚度薄時，光學耐久性會降低而不佳。偏光件之厚度厚時，在高溫高濕下的尺寸變化會變大，從而產生顯示不均之不良狀況，故不佳。
將聚乙烯醇系薄膜以碘染色再單軸延伸而成之偏光件舉例來說可以下述方式製作：將聚乙烯醇浸漬到碘之水溶液藉此染色，再延伸到原長之3~7倍。亦可因應需求將其浸漬於硼酸、碘化鉀等的水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此之外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而防止染色參差等不均的效果。延伸可在使用碘染色之後進行，亦可以邊染色邊進行延伸，又，亦可進行延伸之後使用碘進行染色。且亦可在硼酸、碘化鉀等的水溶液中或水浴中進行延伸。
又，關於本發明中使用之接著劑組成物，當使用厚度10μm以下之薄型偏光件作為偏光件時，可顯著發揮其效果(滿足在高溫高濕下之嚴苛環境中之光學耐久性)。相較於厚度超過10μm之偏光件，上述厚度10μm以下之偏光件相對來說水分之影響較大，高溫高濕下之環境中的光學耐久性不夠充分，從而容易造成透射率上升或偏光度降低。亦即，以本發明之總體吸水率在10重量%以下的接著劑層積層了上述10μm以下之偏光件時，在嚴酷的高溫高濕下的環境中水往偏光件的移動會受到抑制，從而能夠顯著抑制偏光薄膜的透射率上升、偏光度降低等光學耐久性的劣化。偏光件之厚度從薄型化之觀點而言以1~7μm為佳。此種薄型之偏光件的厚度不均情況較少，視辨性優異，且尺寸變化小，而且作成偏光薄膜的厚度亦可謀求薄型化，由此觀點來看甚為理想。
薄型偏光件代表性地可列舉記載於日本特開昭51-069644號公報、或日本特開2000-338329號公報、WO2010/100917號公報手冊、PCT/JP2010/001460的說明書、或日本特願2010-269002號說明書或日本特願2010-263692號說明書的薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包含有將聚乙烯醇系樹脂(以下，也稱PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體的狀態下延伸的步驟與染色的步驟之製法製得。只要為該製法，則即使PVA系樹脂層很薄，仍可藉由被延伸用樹脂基材支持而在無延伸造成斷裂等不良狀況下進行延伸。
作為前述薄型偏光膜，在包含有在積層體之狀態下延伸的步驟與染色的步驟之製法中，就可高倍率地延伸來提高偏光性能之觀點來看，較理想的是利用如WO2010/100917號公報手冊、PCT/JP2010/001460之說明書、或是日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書中所記載之包含有在硼酸水溶液中延伸之步驟的製法所製得者，特別理想的是利用如日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書中所記載之包含有在硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸之步驟的製法所製得者。
本發明中，於用於構成積層光學薄膜的偏光件之貼合面可具備下述通式(6)所示化合物： [化學式6](惟，X為含有反應性基之官能基，R10 及R11 分別獨立表示氫原子或可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)。前述脂肪族烴基可舉如可具有碳數1~20的取代基之直鏈或支鏈烷基、可具有碳數3~20的取代基之環狀烷基、碳數2~20之烯基；芳基可舉如可具有碳數6~20的取代基之苯基、可具有碳數10~20的取代基之萘基等；雜環基可舉例如含有至少一個雜原子且可具有取代基之5員環或6員環的基團。該等可相互連結形成環狀。通式(6)中，作為R10 及R11 以氫原子、碳數1~3之直鏈或支鏈烷基為佳，且氫原子最佳。另，通式(6)所示化合物在積層光學薄膜中可以未反應狀態中介於偏光件與接著劑層之間及/或透明保護薄膜與接著劑層之間，亦可以各官能基為經反應之狀態中介於其中。又，所謂「於偏光件之貼合面具備通式(6)所示化合物」，意指於該貼合面存在有至少1分子例如通式(6)所示化合物。惟，為了充分提升偏光件與接著劑層之間的接著耐水性，宜使用含有通式(6)所示化合物之易接著組成物，於該貼合面之至少一部份形成易接著層，更宜於該貼合面之整面形成易接著層。
通式(6)所示化合物具有之X為含有反應性基之官能基，係一可與用以構成接著劑層之硬化性成分反應之官能基，X所含有之反應性基可舉例如羥基、胺基、醛基、羧基、乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、α，β-不飽和羰基、巰基、鹵素基等。用以構成接著劑層之硬化性樹脂組成物屬活性能量線硬化性時，X所含有之反應性基宜為選自於由乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基及巰基所構成群組中之至少1種反應性基；特別是用以構成接著劑層之硬化性樹脂組成物屬自由基聚合性時，X所含有之反應性基宜為選自於由(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基及(甲基)丙烯醯胺基所構成群組中之至少1種反應性基；通式(6)所示化合物具有(甲基)丙烯醯胺基時，由於反應性高，而可提高與活性能量線硬化性樹脂組成物之共聚率，因此較為理想。又，(甲基)丙烯醯胺基之極性高，接著性優異，因此能有效率地獲得本發明效果，由此觀點而言亦適宜。用以構成接著劑層之硬化性樹脂組成物屬陽離子聚合性時，X所含有之反應性基宜具有選自於羥基、胺基、醛、羧基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、巰基中之至少1個官能基，特別是具有環氧基時，由於所得之硬化性樹脂層與被黏著體之密著性優異，故較佳；具有乙烯基醚基時，由於硬化性樹脂組成物之硬化性優良，因此較為理想。
通式(6)所示化合物之理想具體例，可舉如下述通式(6’)所示化合物： [化學式7](惟，Y為有機基，X、R10 及R11 與前述相同)。 更佳可舉以下化合物(6a)~(6d)。 [化學式8]
在本發明中，通式(6)所示化合物可為反應性基與硼原子直接鍵結者，如前述具體例所示，通式(6)所示化合物宜為反應性基與硼原子透過有機基鍵結者，即通式(6’)所示化合物。通式(6)所示化合物為例如與隔著氧原子鍵結於硼原子之反應性基鍵結者時，偏光薄膜之接著耐水性有劣化的傾向。另一方面，通式(1)所示化合物不為具硼-氧鍵者，而為藉由硼原子與有機基鍵結而具有硼-碳鍵且含有反應性基者時(通式(6’)所示者)，因可提升偏光薄膜之接著耐水性，故較為理想。前述有機基具體而言意指可具有取代基之碳數1~20的有機基，更具體可舉例如可具有碳數1~20之取代基的直鏈或支鏈伸烷基、可具有碳數3~20之取代基的環狀伸烷基、可具有碳數6~20之取代基的伸苯基、可具有碳數10~20之取代基的伸萘基等。
通式(6)所示化合物除了前述舉例之化合物以外，也可舉例如羥乙基丙烯醯胺與硼酸之酯、羥甲基丙烯醯胺與硼酸之酯、羥乙基丙烯酸酯與硼酸之酯、及丙烯酸羥丁酯與硼酸之酯等(甲基)丙烯酸酯與硼酸之酯。
於偏光件之貼合面，使用含有通式(6)所示化合物之易接著組成物來形成易接著層之方法，可舉例如：製造含有通式(6)所示化合物之易接著組成物(A)，並將其塗佈於偏光件之貼合面等來形成之方法。易接著組成物(A)中，除了通式(6)所示化合物以外亦可含有之物可舉例如溶劑及添加劑等。
易接著組成物(A)含有溶劑時，可於偏光件之貼合面塗佈組成物(A)，並視需要進行乾燥步驟或硬化處理(熱處理等)。
易接著組成物(A)可含有之溶劑，宜為可使通式(6)所示化合物穩定化並使其溶解或分散者。所述溶劑可使用有機溶劑、水、或該等之混合溶劑。前述溶劑可選自以下，例如：乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸2-羥乙酯等酯類；甲基乙基酮、丙酮、環己酮、甲基異丁基酮、二乙酮、甲基-正丙酮、乙醯丙酮等酮類；四氫呋喃(THF)、二㗁烷等環狀醚類；正己烷、環己烷等脂肪族或脂環族烴類；甲苯、二甲苯等芳香族烴類；甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、環己醇等脂肪族或脂環族醇類；乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、二乙二醇單乙基醚等甘醇醚類；二乙二醇單甲基醚乙酸酯、二乙二醇單乙基醚乙酸酯等甘醇醚乙酸酯類等。
易接著組成物(A)可含有之添加劑，可舉例如界面活性劑、塑化劑、增黏劑、低分子量聚合物、聚合性單體、表面潤滑劑、調平劑、抗氧化劑、防腐劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、矽烷偶合劑、鈦酸酯耦合劑、無機或有機填充劑、金屬粉、粒狀、箔狀物等。
另，易接著組成物(A)含有聚合起始劑時，在積層接著劑層之前，於易接著層中會有通式(6)所示化合物反應的情形，而有無法充分獲得原本所欲獲得之提升偏光薄膜之接著耐水性效果的情況。因此，易接著層中聚合起始劑含量以低於2重量%為佳，低於0.5重量%為佳，不含聚合起始劑尤佳。
易接著層中通式(6)所示化合物含量若過少，存在於易接著層表面之通式(6)所示化合物的比率會降低，而有易接著效果減低的情形。因此，易接著層中通式(1)所示化合物含量以1重量%以上為佳，20重量%以上較佳，40重量%以上更佳。
關於使用前述易接著組成物(A)於偏光件上形成易接著層之方法，可適當使用將偏光件直接浸漬於組成物(A)之處理浴中的方法或公知之塗佈方法。前述塗佈方法具體可舉例如輥塗佈、凹版塗佈、逆塗佈、輥刷、噴塗佈、空氣刮刀塗佈、淋幕式塗佈法，惟不限於此。
在本發明中，偏光件所具備之易接著層的厚度過厚時，易接著層的凝集力會降低，而有易接著效果減低的情形。因此，易接著層的厚度以2000nm以下為佳，1000nm以下較佳，500nm以下更佳。另一方面，為使易接著層充分發揮效果，其厚度之最下限可舉如至少需為通式(1)所示化合物之單分子膜的厚度，以1nm以上為佳，2nm以上較佳，3nm以上更佳。
於偏光件之貼合面形成易接著層時，形成於偏光件之貼合面之易接著層中，除了通式(6)記載之化合物之外，亦可含有於結構式中具有M-O鍵(M為矽、鈦、鋁、鋯，O表示氧原子)之化合物。特別是在本發明中，具有M-O鍵之化合物宜為有機矽化合物、以及選自於由金屬烷氧化物及金屬螯合物所構成群組中之至少1種有機金屬化合物。
有機矽化合物可無特別限定地使用具有Si-O鍵者，具體例可舉如活性能量線硬化性之有機矽化合物、或非屬活性能量線硬化性之有機矽化合物。特別是以有機矽化合物所具之有機基的碳數為3以上為佳。作為活性能量線硬化性的化合物可舉如乙烯基三氯矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-(3,4環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等。
較佳為3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷。
不屬於活性能量線硬化性之化合物的具體例方面，則以具有胺基之化合物為佳。具有胺基之化合物的具體例，可舉如γ-胺丙基三甲氧基矽烷、γ-胺丙基三乙氧基矽烷、γ-胺丙基三異丙氧基矽烷、γ-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-胺丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三異丙氧基矽烷、γ-(2-(2-胺乙基)胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(6-胺己基)胺丙基三甲氧基矽烷、3-(N-乙胺基)-2-甲基丙基三甲氧基矽烷、γ-脲丙基三甲氧基矽烷、γ-脲丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-苄基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-乙烯基苄基-γ-胺丙基三乙氧基矽烷、N-環己基胺甲基三乙氧基矽烷、N-環己基胺甲基二乙氧基甲基矽烷、N-苯基胺甲基三甲氧基矽烷、(2-胺乙基)胺甲基三甲氧基矽烷、N,N’-雙[3-(三甲氧基矽基)丙基]乙二胺等含胺基的矽烷類；N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙烷胺等酮亞胺(ketimine)型矽烷類。
具有胺基之化合物可僅使用1種，亦可將多種組合使用。其等之中，為了確保良好的接著性，係以γ-胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二乙氧基矽烷、N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙烷胺為佳。
上述以外非屬活性能量線硬化性的化合物之具體例，可舉如3-脲丙基三乙氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-巰丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰丙基三甲氧基矽烷、雙(三乙氧基矽基丙基)四硫醚、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、咪唑矽烷等。
金屬烷氧化物係一金屬上鍵結有至少一個以上屬有機基之烷氧基的化合物，而金屬螯合物係一金屬上隔著氧原子鍵結或配位有有機基之化合物。金屬宜為鈦、鋁、鋯。其中，相較於鈦，鋁及鋯反應性快，而有用以形成易接著層之組成物(A)的使用期限變短並減少提升接著耐水性之效果的情況。因此，由提升易接著層之接著耐水性的觀點來看，有機金屬化合物之金屬較宜為鈦。
用以形成易接著層之易接著組成物(A)含有金屬烷氧化物作為有機金屬化合物時，以使用金屬烷氧化物所具有的有機基之碳數為3以上者為佳，含有6以上者更佳。碳數若為2以下，會有組成物(A)之使用期限變短並減少提升接著耐水性之效果的情況。碳數為6以上之有機基可舉例如辛氧基，可適當使用。適宜的金屬烷氧化物之例，可列舉如鈦酸四異丙酯、鈦酸四正丁酯、鈦酸丁酯二聚物、鈦酸四辛酯、鈦酸三級戊酯、鈦酸四三級丁酯、鈦酸四硬脂酯、四異丙氧化鋯、四正丁氧化鋯、四辛氧化鋯、四三級丁氧化鋯、四丙氧化鋯、二級丁醇鋁、乙醇鋁、異丙醇鋁、丁醇鋁、單二級丁醇二異丙醇鋁、單二級丁氧基二異丙醇鋁等。
用以形成易接著層之易接著組成物(A)含有金屬螯合物作為有機金屬化合物時，以含有金屬螯合物所具有的有機基之碳數為3以上者為佳。碳數若為2以下，會有易接著組成物(A)之使用期限變短並減少提升接著耐水性之效果的情況。碳數為3以上之有機基可舉例如乙醯丙酮基、乙醯乙酸乙酯基、異硬脂酸酯基、辛二醇酸酯基等。其中，由提升易接著層之接著耐水性的觀點來看，有機基宜為乙醯丙酮基或乙醯乙酸乙酯基。適宜的金屬螯合物之例，可列舉如乙醯丙酮鈦、辛二醇酸鈦、四乙醯丙酮鈦、乙醯乙酸乙酯鈦、聚羥基硬脂酸鈦、二丙氧基雙(乙醯丙酮)鈦、二丁氧基雙(辛二醇酸)鈦、二丙氧基雙(乙醯乙酸乙酯)鈦、乳酸鈦、二乙醇胺鈦、三乙醇胺鈦、二丙氧基雙(乳酸)鈦、二丙氧基雙(三乙醇胺)鈦、二正丁氧基雙(三乙醇胺)鈦、三正丁氧基單硬脂酸鈦、二異丙氧基雙(乙醯乙酸乙酯)鈦、二異丙氧基雙(乙醯乙酸酯)鈦、二異丙氧基雙(乙醯丙酮)鈦、磷酸鈦化合物、乳酸鈦銨鹽、1,3-丙烷二氧基雙(乙醯乙酸乙酯)鈦、十二基苯磺酸鈦化合物、胺乙基胺乙醇鈦、四乙醯丙酮鋯、單乙醯丙酮鋯、雙乙醯丙酮鋯、乙醯丙酮雙(乙醯乙酸乙酯)鋯、乙酸鋯、三正丁氧基(乙醯乙酸乙酯)鋯、二正丁氧基雙(乙醯乙酸乙酯)鋯、正丁氧基參(乙醯乙酸乙酯)鋯、肆(乙醯乙酸正丙酯)鋯、肆(乙醯乙酸乙醯酯)鋯、肆(乙醯乙酸乙酯)鋯、(乙醯乙酸乙酯)鋁、乙醯丙酮鋁、乙醯丙酮雙(乙醯乙酸乙酯)鋁、二異丙氧基(乙醯乙酸乙酯)鋁、二異丙氧基(乙醯丙酮)鋁、異丙氧基雙(乙醯乙酸乙酯)鋁、異丙氧基雙(乙醯丙酮)鋁、參(乙醯乙酸乙酯)鋁、參(乙醯丙酮)鋁、單乙醯丙酮雙(乙醯乙酸乙酯)鋁。其中又以乙醯丙酮鈦、乙醯乙酸乙酯鈦為佳。
本發明中可使用之有機金屬化合物除上述以外還可列舉辛酸鋅、月桂酸鋅、硬脂酸鋅、辛酸錫等有機碳酸金屬鹽、乙醯丙酮錫螯合物、苄醯丙酮鋅螯合物、二苯甲醯基甲烷鋅螯合物、乙醯乙酸乙酯鋅螯合物等鋅螯合化合物等。
易接著層中，具有M-O鍵之化合物的含量以0~90重量%為佳，1~70重量%較佳，10~50重量%特佳。
偏光件、透明保護薄膜亦可在積層上述接著劑組成物之前實施表面改質處理。尤其偏光件以在塗佈接著劑組成物或貼合之前，對偏光件表面實施表面改質處理為佳。表面改質處理可列舉電暈處理、電漿處理、ITRO處理、準分子處理、低壓UV處理等處理方式，特別是以電暈處理為佳。藉由實施電暈處理，可在偏光件表面生成羰基或胺基等極性官能基，提升與硬化性樹脂層之密著性。並且，藉由灰化效果可除去表面異物、減輕表面凹凸，故能作成外觀特性優異之偏光薄膜。
對偏光件施行表面改質處理時，宜以使偏光件表面之表面粗度成為0.6nm以上之方式施行。前述表面粗度以0.8nm以上為佳，1nm以上更佳。藉由使前述表面粗度在0.6nm以上，則在偏光薄膜之製造步驟中，即便使偏光件表面接觸導輥時，仍可良好地輸送偏光件。另，若前述表面粗度過大，耐溫水性會變差，因此前述表面粗度宜為10nm以下，更宜為5nm以下。
前述表面粗度之測定是以算出平均粗度(表面凹凸的平均值)來表示表面粗度之參數。表面粗度之測定是利用Veeco公司製之原子力顯微鏡(AFM)NanoscopeIV以Tapping模式測定而得之值。懸臂支架是使用譬如Metrology Probe：Tap300(RTESP型)。測量範圍為1μm正方。
＜偏光薄膜＞ 積層聚乙烯醇系偏光件、接著劑層及透明保護薄膜、以及視需求積層黏著劑層所得之偏光薄膜的厚度以150μm以下為佳，100μm以下更佳。偏光薄膜厚度過厚時，在高溫高濕下的尺寸變化會變大，從而產生顯示不均之不良狀況，故不佳。
上述接著劑組成物所形成之硬化物層、尤其是接著劑層的厚度宜為0.2~3μm。硬化物層的厚度過薄時，硬化物層的凝集力會不足而使剝離力降低，故不佳。硬化物層的厚度過厚時，對偏光薄膜之截面施加應力後會變得容易發生剝離，而發生因衝撃所造成的剝落不良，故不佳。接著劑層的厚度以0.3~2μm較佳，0.4~1.5μm最佳。
又，設接著劑層之厚度為d μm，且設接著劑層所含之氣泡抑制劑的含量為y重量%時，當滿足下述式(1)時，可兼顧抑制積層氣泡與提升接著性之效果，故較為理想。 0.1-0.02d≦y≦0.6-0.08d　(1)
本發明之積層光學薄膜、尤其是偏光薄膜，可以下述製造方法來製造： 一種積層光學薄膜之製造方法，該積層光學薄膜係於光學薄膜之至少一面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜者，且該製造方法包含下列步驟：前處理步驟，使有機溶劑接觸透明保護薄膜之用於形成接著劑層之側的面，且該有機溶劑與透明保護薄膜之SP值距離在10以下；塗敷步驟，將接著劑組成物直接塗敷於透明保護薄膜之與有機溶劑的接觸面及光學薄膜之透明保護薄膜側之面的至少一面；貼合步驟，將透明保護薄膜與光學薄膜透過接著劑組成物貼合，藉此於透明保護薄膜與接著劑層之間形成其等組成會連續變化的相溶層；及，接著步驟，從光學薄膜面側或透明保護薄膜面側照射活性能量線，使接著劑組成物硬化形成接著劑層，並透過該接著劑層接著光學薄膜及透明保護薄膜。於此，透明保護薄膜之SP值與接著劑組成物之SP值之間的SP值距離宜為10以下。
塗敷接著劑組成物的方法可視組成物之黏度或所欲獲得之厚度來適當選擇，可舉例如逆向式塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆向或間接)、棒式逆向式塗佈機、輥塗佈機、模塗機、棒塗機、桿塗機等。
通常在積層2片薄膜時，是於單側之薄膜貼合面、例如是於透明保護薄膜之與有機溶劑的接觸面塗佈接著劑組成物並積層，但於兩側之薄膜貼合面、具體而言是於透明保護薄膜之與有機溶劑的接觸面及光學薄膜之透明保護薄膜側的面之該等兩者之面塗敷接著劑層後再積層，藉此可得到外觀品質優異的積層薄膜。塗敷方法是以後計量塗敷方式為宜。本發明中「後計量塗敷方式」是指對液膜施加外力去除過剩液體，以獲得預定塗敷膜厚的方式。本發明之偏光薄膜之製造方法中，在對由接著劑組成物構成之液膜施加所述外力時，會撥除存在於貼合面之污物或塵埃之類的異物等。後計量塗敷方式之具體例可列舉凹版輥筒塗敷方式、順輥(forward roll)塗敷方式、氣刀塗敷方式、桿式/棒式塗敷方式等，惟由異物去除精度或塗佈膜厚均勻性等觀點來看，本發明中前述塗敷方式以使用了凹版輥筒的凹版輥筒塗敷方式為佳。
透過如上述塗敷後之接著劑組成物，便可貼合偏光件與透明保護薄膜。偏光件與透明保護薄膜之貼合可使用輥壓積層器等來進行。於偏光件兩面積層保護薄膜之方法可選自以下方法：貼合偏光件與1片保護薄膜後再貼合另1片保護薄膜之方法；及，同時貼合偏光件與2片保護薄膜之方法。於貼合時產生的夾入氣泡藉由採用前者之方法可顯著減低而較為理想，亦即採用貼合偏光件與1片保護薄膜後再貼合另1片保護薄膜之方法。
硬化步驟中使用的活性能量線可大致區別為電子射線硬化性、紫外線硬化性及可見光線硬化性。本發明中是將波長範圍在10nm~小於380nm之活性能量線標記為紫外線，且將波長範圍在380nm~800nm之活性能量線標記為可見光線。在製造本發明之偏光薄膜時，尤宜利用380nm~450nm之可見光線。
本發明之積層光學薄膜、尤其是偏光薄膜，係將偏光薄膜用接著劑組成物直接塗敷於偏光件及/或透明保護薄膜並貼合偏光件與透明保護薄膜後，照射活性能量線(電子射線、紫外線、可見光線等)，使接著劑組成物硬化而形成接著劑層。活性能量線(電子射線、紫外線、可見光線等)之照射方向可從任意且適當方向照射。較理想的是從透明保護薄膜側進行照射。若從偏光件側進行照射，則會有偏光件因活性能量線(電子射線、紫外線、可見光線等)劣化之虞。
關於電子射線硬化性，電子射線之照射條件只要是可將上述偏光薄膜用接著劑組成物硬化的條件，則可採用任意且適當之條件。例如，照射電子射線時，加速電壓宜為5kV~300kV，更宜為10kV~250kV。加速電壓低於5kV時，電子射線會無法到達偏光薄膜用接著劑組成物而有硬化不足之虞；而加速電壓超過300kV時，通過試料之滲透力會過強，而有對透明保護薄膜或偏光件造成傷害之虞。照射線量為5~100kGy，較佳為10~75kGy。照射線量低於5kGy時，偏光薄膜用接著劑組成物會硬化不足；而超過100kGy時，會對透明保護薄膜或偏光件造成傷害，使得機械強度降低或產生黃變，而無法獲得預定之光學特性。
電子射線照射通常係於非活性氣體中進行照射，然若有必要，亦可於大氣中或導入了少量氧的條件下進行。雖因透明保護薄膜的材料而定，惟藉由適當導入氧可在電子射線會一開始接觸的透明保護薄膜面上特意產生氧阻障，防止透明保護薄膜受損，並能有效率地只對接著劑照射電子射線。
本發明之積層光學薄膜、尤其係偏光薄膜之製造方法中，活性能量線是以使用包含波長範圍380nm~450nm之可見光線者、特別是以使用波長範圍380nm~450nm之可見光線的照射量最多之活性能量線為佳。以紫外線硬化性、可見光線硬化性來說，若使用經賦予紫外線吸收能之透明保護薄膜(紫外線不透射型透明保護薄膜)時，因會吸收波長較約380nm短之光，故波長較380nm短之光無法到達接著劑組成物，對其聚合反應沒有幫助。並且，被透明保護薄膜吸收之波長較380nm短之光會轉換成熱，使透明保護薄膜本身發熱，造成偏光薄膜產生捲曲、起皺等不良之原因。因此，本發明中採用紫外線硬化性、可見光線硬化性時，活性能量線產生裝置以使用不發出波長比380nm短之光的裝置為佳，更具體來說，以波長範圍380~440nm之累積照度與波長範圍250~370nm之累積照度的比為100:0至100:50為佳，較佳為100:0至100:40。本發明之活性能量線宜為充有鎵之金屬鹵素燈、可發出波長範圍380~440nm之LED光源。或可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、白熱燈泡、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵素燈、螢光燈、鎢絲燈、鎵燈、準分子雷射或包含太陽光等紫外線與可見光線之光源，亦可用帶通濾波器遮蔽波長較380nm短之紫外線來使用。為了提高偏光件與透明保護薄膜之間的接著劑層的接著性能，同時防止偏光薄膜捲曲，宜使用：使用充有鎵之金屬鹵素燈並透過可遮蔽波長較380nm短之光的帶通濾波器而得到的活性能量線、或使用LED光源而得到之波長405nm的活性能量線。
本發明之偏光薄膜以連續生產線製造時，生產線速度係依據接著劑組成物之硬化時間而定，惟以5~100m/min為佳，並以10~50m/min較佳，20~30m/min更佳。生產線速度過低時，會缺乏生產性，或對透明保護薄膜造成過大傷害，而無法製作出可承受耐久性試驗等的偏光薄膜。生產線速度過大時，接著劑組成物的硬化會不足，而有無法獲得所欲獲得之接著性的情況。
本發明之偏光薄膜在實際使用時，可作為與其他光學層積層而成之光學薄膜來使用。該光學層方面並無特別限定，可使用1層或2層以上之例如反射板及半透射板、相位差板(包含1/2及1/4等波長板)、視角補償薄膜等可用於形成液晶顯示裝置等的光學層。尤佳的是於本發明之偏光薄膜上再積層反射板或半透射反射板而成的反射型偏光薄膜或半透射型偏光薄膜、於偏光薄膜上再積層相位差板而成的橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、於偏光薄膜上再積層視角補償薄膜而成的廣視角偏光薄膜、或於偏光薄膜上再積層增亮薄膜而成的偏光薄膜。
於偏光薄膜積層了上述光學層而成之光學薄膜，亦可在液晶顯示裝置等之製造過程中以依序各別積層之方式形成，但預先積層成光學薄膜者在品質穩定性與組裝作業等方面較佳，而有改善液晶顯示裝置等之製造步驟的優點。積層時可使用黏著層等適宜的接著機構。上述偏光薄膜及其他光學層在接著時，其等之光學軸可因應所欲獲得之相位差特性等設成適當的配置角度。
在前述偏光薄膜、或積層有至少1層偏光薄膜之光學薄膜上，亦可設置用於與液晶單元等其他構件接著之黏著層。形成黏著層之黏著劑並無特別限制，可適當選擇以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系與橡膠系等聚合物作為基底聚合物之物來使用。尤佳的是可使用如丙烯酸系黏著劑般可展現優異光學透明性以及適度濡濕性、凝集性與接著性等之黏著特性並且具有優異耐候性及耐熱性等之物。
黏著層可以不同組成或種類等之層的重疊層形式設置於偏光薄膜、光學薄膜之單面或兩面。又，在設置於兩面之情形下，於偏光薄膜或光學薄膜之表背亦可作成組成、種類或厚度等相異的黏著層。黏著層之厚度可因應使用目的與接著力等來適宜決定，一般為1~100μm，宜為5~30μm，尤宜為10~20μm。
對於黏著層之露出面為防止其受污染，可在供實際使用為止之期間用分離件暫時貼附並覆蓋。藉此，可防止在一般操作狀態下接觸到黏著層。作為分離件，除了上述厚度條件外，可使用依循習知之適當物品，例如可使用經將塑膠薄膜、橡膠片、紙、布、不織布、網狀物、發泡片或金屬箔及該等之積層體等適當的薄片體因應需要以聚矽氧系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適當的剝離劑進行塗佈處理者。
本發明中，可將前述之透明保護薄膜、偏光件及增亮薄膜等機能性薄膜任意組合，製造出各式各樣之積層光學薄膜。以下顯示該等之一例。
(態樣1) 一種偏光薄膜，係於偏光件之一面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜者，且該偏光薄膜於透明保護薄膜與接著劑層之間形成有透明保護薄膜與接著劑層之組成會連續變化的相溶層。亦可於偏光件之接著劑層側之面形成有至少含有前述通式(6)所示化合物之易接著層。
(態樣2) 一種偏光薄膜，係於偏光件之兩面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜者，且該偏光薄膜於至少一透明保護薄膜與接著劑層之間形成有透明保護薄膜與接著劑層之組成會連續變化的相溶層。亦可於偏光件之接著劑層側之面形成有至少含有前述通式(6)所示化合物之易接著層。且可於透明保護薄膜之與接著劑層相反之側的面積層黏著劑層。
(態樣3) 一種偏光薄膜，係於偏光件之一面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜，且於偏光件之另一面積層有黏著劑層者，並且該偏光薄膜於透明保護薄膜與接著劑層之間形成有透明保護薄膜與接著劑層之組成會連續變化的相溶層。亦可於偏光件之接著劑層側之面形成有至少含有前述通式(6)所示化合物之易接著層。且可於黏著劑層之與偏光件相反之側的面積層機能性薄膜，亦可於透明保護薄膜之與接著劑層相反之側的面積層黏著劑層。
(態樣4) 一種積層光學薄膜，係透過接著劑層而至少積層有2片透明保護薄膜者，且該積層光學薄膜於至少1片透明保護薄膜與接著劑層之間形成有透明保護薄膜與接著劑層之組成會連續變化的相溶層。所積層之透明保護薄膜可為相同種類之透明保護薄膜，亦可為不同種類之透明光學薄膜。且可於透明保護薄膜之與接著劑層相反之側的面積層黏著劑層。
(態樣5) 一種偏光薄膜，係於偏光件之兩面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜者，且該偏光薄膜於至少一透明保護薄膜與接著劑層之間形成有透明保護薄膜與接著劑層之組成會連續變化的相溶層，並於至少一透明保護薄膜之與接著劑層相反之側的面，透過接著劑層積層有透明保護薄膜。亦可於位於最外側之透明保護薄膜之與接著劑層相反之側的面積層黏著劑層。
(態樣6) 一種偏光薄膜，係於偏光件之一面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜，並於透明保護薄膜之與接著劑層相反之側的面，透過接著劑層進一步積層有透明保護薄膜，且於偏光件之另一面，透過黏著劑層積層有機能性薄膜者，並且該偏光薄膜於至少一透明保護薄膜與接著劑層之間形成有透明保護薄膜與接著劑層之組成會連續變化的相溶層。可於黏著劑層之與偏光件相反之側的面積層機能性薄膜，亦可於透明保護薄膜之與接著劑層相反之側的面積層黏著劑層。
本發明之偏光薄膜或光學薄膜可適宜使用在液晶顯示裝置等各種裝置的形成等等。液晶顯示裝置之形成可照以往行事。即，液晶顯示裝置一般是藉由將液晶單元與偏光薄膜或光學薄膜及因應需求的照明系統等構成零件適當組裝並組入驅動電路等而形成，而在本發明中，除使用本發明之偏光薄膜或光學薄膜此點以外無特別限定，可依習知為準。關於液晶單元，可使用譬如TN型或STN型、π型等任意型式者。
可形成液晶單元之單側或兩側配置有偏光薄膜或光學薄膜之液晶顯示裝置、或是使用了背光件或反射板作為照明系統等適當的液晶顯示裝置。此時，本發明之偏光薄膜或光學薄膜可配置於液晶單元之單側或兩側。於兩側配置偏光薄膜或光學薄膜時，其等可相同，亦可相異。此外，於形成液晶顯示裝置時，可在適當位置上配置1層或2層以上之諸如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光件等適當零件。 實施例
以下記載本發明之實施例，惟本發明之實施形態不受限於此。
本發明中是依以下方法來決定SP值及SP值距離。
＜活性能量線硬化型接著劑組成物之SP值的推測方法＞ 活性能量線硬化型接著劑組成物之SP值是將組成物之構成材料分別以Hansen Solubility Parameter in Practice(HSPiP)之Y-MB法計算出漢森溶解度參數(SP值)後，對應組成物中之莫耳比取平均值而求得。
＜有機溶劑之SP值的推測方法＞ 有機溶劑之SP值為從收藏於Hansen Solubility Parameter in Practice(HSPiP)ver.4.1.07之漢森溶解度參數(SP值)資料庫取得公定值。混合2種以上有機溶劑來使用時，是對應莫耳比取平均值而求得。
＜透明保護薄膜之SP值測定方法＞ 將透明保護薄膜浸漬於溶解度不同的14種溶劑中10分鐘：水、丙酮、環戊酮、異丙醇、乙醇、甲醇、甲苯、對二甲苯、環己烷、正己烷、乙酸乙酯、三氯苯、大茴香醚及該等之混合溶劑。將浸漬10分鐘後之透明保護薄膜的狀態分類成(1)溶解、(2)膨潤、(3)不溶解之3階段。根據由此而得之對各種溶劑的溶解度資料，以Hansen Solubility Parameter in Practice(HSPiP)ver.4.1.07(http://www.hansen-solubility.com/index.php)計算出漢森溶解度參數(SP值)。
＜透明保護薄膜之SP值與接著劑組成物之SP值之間的SP值距離(Ra-1)＞ 設透明保護薄膜之漢森溶解度參數的分散項為σd、極性項為σp、氫鍵項為σh，且設活性能量線硬化型接著劑組成物之漢森溶解度參數的分散項為σAd、極性項為σAp、氫鍵項為σAh時，以下述數學式：Ra-1=[4×(σd-σAd)2 +2×(σp-σAp)2 +2×(σh-σAh)2 ]1/2 定義為「透明保護薄膜之SP值與接著劑組成物之SP值之間的SP值距離」(=Ra-1)。並用經前述方法算出之透明保護薄膜及活性能量線硬化型接著劑組成物之漢森溶解度參數來計算。
＜透明保護薄膜之SP值與有機溶劑之SP值之間的SP值距離Ra-2＞ 設透明保護薄膜之漢森溶解度參數的分散項為σd、極性項為σp、氫鍵項為σh，且設有機溶劑之漢森溶解度參數的分散項為σBd、極性項為σBp、氫鍵項為σBh時，以下述數學式：Ra-2=[4×(σd-σBd)2 +2×(σp-σBp)2 +2×(σh-σBh)2 ]1/2 定義為「透明保護薄膜之SP值與有機溶劑之SP值之間的SP值距離」(=Ra-2)。並用經前述方法算出之透明保護薄膜及有機溶劑之漢森溶解度參數來計算。
在本發明中，係使用以下方法來確認透明保護薄膜與接著劑層之間是否有形成透明保護薄膜與接著劑層會連續變化的相溶層(於表1~表8中，僅稱「相溶層」)。
＜確認相溶層＞ 為了觀察薄膜截面，利用穿透式電子顯微鏡(TEM)(日立製作所製，製品名「H-7650」)，以加速電壓100kV觀察以超薄切片法製出的試驗片並拍攝TEM照片。有形成相溶層時表示為「有」，沒有形成相溶層時表示為「無」。
實施例1-1~實施例1-9及比較例1-1~比較例1-6 ＜製作偏光件＞ 將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%之厚度45μm的聚乙烯醇薄膜浸漬在30℃溫水中60秒使其膨潤。接著，浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)濃度0.3%之水溶液中，一邊使其延伸到3.5倍一邊將薄膜染色。其後，在65℃之硼酸酯水溶液中進行延伸以使總延伸倍率達6倍。延伸後，以40℃的烤箱乾燥3分鐘，得到聚乙烯醇系偏光件X(厚度18μm)。接著，使用線棒(第一理化股份有限公司製，No.2)，於偏光件X兩面上塗佈含有1重量%之4-乙烯基苯硼酸及99重量%之異丙醇的易接著劑組成物，並在60℃下以風乾燥1分鐘除去溶劑，製作出易接著層乾燥後的厚度1nm之附易接著層之偏光件。
＜透明保護薄膜1＞ 於具備攪拌裝置之反應容器中，使2,2-雙(4-羥苯基)-4-甲基戊烷2.70kg、四丁基銨氯化物0.06kg溶解於25L之1M氫氧化鈉溶液中。於該溶液中，邊攪拌邊加入對苯二甲醯氯1.22kg與間苯二甲醯氯0.81kg經溶解於30L之甲苯中所形成之溶液，並於室溫下攪拌90分鐘。其後，將聚合溶液靜置分離，分離出含有聚合物之甲苯溶液，接著用乙酸水洗淨並用離子交換水洗淨後，投入甲醇中析出聚合物。將析出之聚合物過濾並在減壓下乾燥，而得到白色聚合物3.41kg(產率為92%)。
使所得之聚合物溶解於甲苯後，塗佈於雙軸延伸聚丙烯上，並在80℃下乾燥5分鐘後，在110℃下乾燥5分鐘，製作出塗佈膜為15μm之積層薄膜。將所得之積層薄膜利用同步雙軸延伸機，一邊輸送，一邊於145℃下往寬度方向延伸1.2倍，且使其於MD收縮0.75倍，而得到捲狀聚芳酯系透明保護薄膜1。所獲得之透明保護薄膜1之厚度為15.0μm，Re=275nm、Rth=138nm、Nz係數=0.5。
於透明保護薄膜1之用於形成接著劑層之側的面，使用線棒(第一理化股份有限公司製，No.3)塗敷有機溶劑進行前處理，且該有機溶劑具有使透明保護薄膜1之SP值距離成為表1記載之Ra-1的組成。接著，使用MCD塗佈機(富士機械公司製)(單元形狀：蜂巢狀，凹版輥筒線數：1000條/inch，轉速140%/相對生產線速度)，於透明保護薄膜1之與有機溶劑的接觸面，塗敷具有使與透明保護薄膜1之SP值距離成為表1記載之Ra-2之組成的接著劑組成物成厚度1μm後，用輥軋機貼合於上述偏光件X兩面。其後，從經貼合之透明保護薄膜1側(兩側)，以活性能量線照射裝置對兩面照射上述可見光線使硬化型接著劑硬化後，在70℃下以熱風乾燥3分鐘，而得到於偏光件兩側具有透明保護薄膜1之偏光薄膜。貼合之生產線速度係以25m/min來進行。
利用以下方法來評估所得之偏光薄膜之接著性。
＜初始接著力＞ 將偏光薄膜裁切成平行於偏光件之延伸方向為200mm、直行方向為15mm之大小，再將偏光薄膜貼合到玻璃板上。接著在透明保護薄膜與偏光件之間用美工刀劃下切痕，並以萬能試驗機(TENSILON)，於剝離速度300mm/min下往90度方向剝離保護薄膜與偏光件，測定其剝離強度(N/15mm)。然後，以ATR法測定剝離後之剝離面的紅外線吸收光譜，根據下述基準來評估剝離形態。結果列於表1-8。另，於表1-8中，剝離強度記載為「斷裂」者，意指由於基材之接著強度較斷裂強度大，因此基材於剝離強度測定時發生斷裂者。 〇：透明保護薄膜發生材料破壞的狀況或是偏光件發生材料破壞的狀況 △：混雜有透明保護薄膜之材料破壞及透明保護薄膜與接著劑層間之間的界面剝離的狀況，或是混雜有偏光件之材料破壞及偏光件與接著劑層間之間的界面剝離的狀況 ×：透明保護薄膜與接著劑層間發生界面剝離的狀況，或是偏光件與接著劑層間發生界面剝離的狀況
＜85℃85RH-48h後接著力＞將偏光薄膜裁切成平行於偏光件之延伸方向為200mm、直行方向為15mm之大小，再將偏光薄膜貼合到玻璃板上，並暴露在85℃85%RH的環境下48小時。其後，進行與評估初始接著力時同樣的評估，評估剝離強度及剝離形態。將結果列於表1。
實施例2-1~實施例2-12及比較例2-1~比較例2-8 將透明保護薄膜變更為下述所示聚碳酸酯，並將有機溶劑及接著劑組成物變更為表2記載之內容，除此之外依與實施例1同樣方法製造出偏光薄膜，進行評估。
＜透明保護薄膜2＞ 使用具備攪拌葉片及經控制成100℃之回流冷卻器的2台直立式反應器所構成之批次聚合裝置進行聚合。饋入雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷29.60質量份(0.046mol)、ISB 29.21質量份(0.200mol)、SPG 42.28質量份(0.139mol)、DPC 63.77質量份(0.298mol)及作為觸媒之乙酸鈣1水合物1.19×10-2質量份(6.78×10-5mol)。將反應器內進行減壓氮取代後，以加熱介質加溫，並於內部溫度達到100℃時開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內部溫度達到220℃，控制保持該溫度並同時開始減壓，使在達到220℃起90分鐘後成13.3kPa。將隨聚合反應副生成之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中所含之少量單體成分回到反應器，並將未凝結之苯酚蒸氣導入45℃的凝結器回收。將氮導入第1反應器暫時使其回復到大氣壓力後，將第1反應器內之經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著，開始進行第2反應器內的升溫及減壓，並在50分鐘後使內溫成為240℃、壓力成為0.2kPa。其後，進行聚合直到達到預定之攪拌動力。在達到預定動力之時間點時將氮導入反應器使壓力回復，並將所生成之聚酯碳酸酯擠製至水中，裁切束狀物而得到丸粒。
將所得之聚碳酸酯樹脂在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(東芝機械公司製，缸筒設定溫度：250℃)、T型模(寬200mm，設定溫度：250℃)、冷卻滾筒(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作出厚度135μm之樹脂薄膜。
將所得之長條狀樹脂薄膜以延伸溫度134℃、延伸倍率2.8倍往寬度方向延伸，接著藉由對延伸後的薄膜往寬度方向施行鬆弛處理，製作出延伸薄膜。鬆弛處理之條件係將鬆弛溫度設為130℃，鬆弛率設為4.5%。而得到厚度48μm之聚碳酸酯系透明保護薄膜2。
實施例3-1~實施例3-11及比較例3-1~比較例3-3 將透明保護薄膜變更為下述所示丙烯酸，並將有機溶劑及接著劑組成物變更為表3記載之內容，除此之外依與實施例1同樣方法製造出偏光薄膜，進行評估。
＜透明保護薄膜3＞ 將透明保護薄膜A(含有戊二醯亞胺單元)：MS樹脂(MS-200；甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯(莫耳比)=80/20之共聚物，新日鐵化學(股)製)以單甲胺進行亞醯胺化(亞醯胺化率：5%)。所得經亞醯胺化的MS樹脂具有：日本特開2016-139027所記載之通式(1)所示戊二醯亞胺單元(式中，R1 及R3 為甲基，R2 為氫原子)、日本特開2016-139027所記載之通式(2)所示(甲基)丙烯酸酯單元(R4 為氫原子，R5 及R6 為甲基)、及苯乙烯單元。另，前述亞醯胺化是使用口徑15mm之咬合型同方向旋轉式雙軸擠製機。設擠製機之各溫度調節區之設定溫度為230℃、螺旋桿轉數為150rpm且以2.0kg/hr供給MS樹脂，單甲胺之供給量係相對於MS樹脂100重量份設為2重量份。從給料斗投入MS樹脂，以捏合塊融化樹脂使其充滿後，從噴嘴注入單甲胺。於反應區之末端放入密封環並充滿樹脂。將排氣口之壓力減壓為-0.08MPa，揮發反應後之副產物及過多的甲胺。將從設置於擠製機出口之膜頭成形成束狀物送出之樹脂於水槽冷卻後，以製粒機使其丸粒化。將前述經亞醯胺化的MS樹脂進行熔融擠製並製膜。此時，相對於100重量份之MS樹脂，供給0.66重量份之紫外線吸收劑(ADEKA公司製，「T-712」)。接著，製作出經縱2倍、橫2倍之雙軸延伸過的丙烯酸系透明保護薄膜3(厚度40μm，Re=2nm，Rth=2nm)。
實施例4-1~4-7及比較例4-1~比較例4-8 將透明保護薄膜變更為下述所示三乙醯纖維素(TAC)，並將有機溶劑及接著劑組成物變更為表4記載之內容，除此之外依與實施例1同樣方法製造出偏光薄膜，進行評估。
＜透明保護薄膜2＞ 厚度60um之三乙醯纖維素薄膜 品名：TG60UL 富士薄膜公司製
實施例5-1~5-4及比較例5-1 除了不進行塗敷有機溶劑之前處理之外，依與實施例1同樣方法製造出偏光薄膜，進行評估。
實施例6-1~6-6及比較例6-1~6-2 除了不進行塗敷有機溶劑之前處理之外，依與實施例2同樣方法製造出偏光薄膜，進行評估。
實施例7-1~7-3及比較例7-1 除了不進行塗敷有機溶劑之前處理之外，依與實施例3同樣方法製造出偏光薄膜，進行評估。
實施例8-1~8-7及比較例8-1 除了不進行塗敷有機溶劑之前處理之外，依與實施例4同樣方法製造出偏光薄膜，進行評估。
於表1~表8中，作為接著劑組成物所使用的化合物如以下所示。 HEAA：羥乙基丙烯醯胺(興人公司製) DEAA：二乙基丙烯醯胺(興人公司製) 19ND-A：1,9-壬二醇二丙烯酸酯(商品名「LIGHT ACRYLATE 1,9ND-A」，共榮社化學公司製) HPAA：羥基三甲基乙酸二丙烯酸酯(商品名LIGHT ACRYLATE HPPA」，共榮社化學公司製) DCP-A：二羥甲基-三環癸烷二丙烯酸酯(商品名「LIGHT ACRYLATE DCP-A」，共榮社化學公司製) M-220：三丙二醇二丙烯酸酯(商品名「ARONIX M-220」，東亞合成公司製 NP-A：新戊二醇二丙烯酸酯(商品名「LIGHT ACRYLATE NP-A」，共榮社化學公司製) ACMO：丙烯醯基啉(興人公司製) WASUMA 2MA：N-甲氧基甲基丙烯醯胺(商品名「WASUMA 2MA」，笠野興產公司製) NVP：N-乙烯基吡咯啶酮(商品名「NVP」，日本觸媒公司製) IB-XA：甲基丙烯酸異莰酯(商品名「LIGHT ACRYLATE IB-XA」，共榮社化學公司製) GBLA：γ丁內酯丙烯酸酯(商品名「GBLA」，大阪有機化學工業公司製) M5700：2-羥-3-苯氧丙基丙烯酸酯(商品名ARONIX M5700，東亞合成公司製) APG100：三丙二醇二丙烯酸酯(商品名APG100，新中村化學公司製) AAEA：2-乙醯乙醯氧基乙基丙烯酸酯(商品名AAEA，日本合成化學公司製) ISTA：丙烯酸十八酯(商品名ISTA，大阪有機化學工業公司製) CELLOXIDE 2021P：3’, 4’-環氧環己基甲基 3, 4-環氧環己烷羧酸酯(商品名CELLOXIDE 2021P，DAICEL公司製) FA513AS：丙烯酸二環戊酯(商品名FANCRYL FA513AS，日立化成公司製) GBL：γ-丁內酯(三菱化學公司製) 碳酸丙烯酯(東京化成工業公司製) 大茴香醚(東京化成工業公司製)
[表1]
[表2]
[表3]
[表4]
[表5]
[表6]
[表7]
[表8]

Claims (12)

  1. 一種積層光學薄膜，係於光學薄膜之至少一面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜者，該積層光學薄膜之特徵在於： 其於前述透明保護薄膜與前述接著劑層之間形成有相溶層，該相溶層係前述透明保護薄膜與前述接著劑層之組成會連續變化之層。
  2. 如請求項1之積層光學薄膜，其中前述透明保護薄膜之SP值與前述接著劑組成物之SP值之間的SP值距離為12以下。
  3. 如請求項1或2之積層光學薄膜，其中前述相溶層係經以下程序而形成者：使有機溶劑接觸前述透明保護薄膜之用於形成前述接著劑層之側的面後，塗敷前述接著劑組成物。
  4. 如請求項1或2之積層光學薄膜，其中前述相溶層係經以下程序而形成者：使有機溶劑接觸前述透明保護薄膜之用於形成前述接著劑層之側的面後，將經塗敷前述接著劑組成物之前述光學薄膜，從前述接著劑組成物的塗敷面側貼合至前述透明保護薄膜之與前述有機溶劑的接觸面。
  5. 如請求項1或2之積層光學薄膜，其中前述相溶層係經以下程序而形成者：使有機溶劑接觸前述透明保護薄膜之用於形成前述接著劑層之側的面後，將前述接著劑組成物塗敷於前述透明保護薄膜之與前述有機溶劑的接觸面及前述光學薄膜之前述透明保護薄膜側之面的該等兩者之面，並將前述透明保護薄膜與前述光學薄膜從兩者塗敷面側貼合。
  6. 如請求項3至5中任一項之積層光學薄膜，其中前述透明保護薄膜之SP值與前述有機溶劑之SP值之間的SP值距離為12以下。
  7. 如請求項1至6中任一項之積層光學薄膜，其中前述接著劑組成物為含有具聚合性基之單體的活性能量線硬化型接著劑組成物。
  8. 如請求項1至7中任一項之積層光學薄膜，其中前述光學薄膜為聚乙烯醇系偏光件。
  9. 如請求項1至8中任一項之積層光學薄膜，其中前述透明保護薄膜為聚芳酯、聚碳酸酯、丙烯酸系聚合物及三乙醯纖維素所構成群組中之至少1種熱可塑性樹脂。
  10. 一種積層光學薄膜之製造方法，該積層光學薄膜係於光學薄膜之至少一面，透過經將接著劑組成物硬化形成之接著劑層積層有透明保護薄膜者，且該製造方法包含下列步驟： 前處理步驟，使有機溶劑接觸前述透明保護薄膜之用於形成前述接著劑層之側的面，且該有機溶劑與前述透明保護薄膜之SP值距離在12以下； 塗敷步驟，將前述接著劑組成物直接塗敷於前述透明保護薄膜之與前述有機溶劑的接觸面及前述光學薄膜之前述透明保護薄膜側之面的至少一面； 貼合步驟，將前述透明保護薄膜與前述光學薄膜透過前述接著劑組成物貼合，藉此於前述透明保護薄膜與前述接著劑層之間形成其等組成會連續變化的相溶層；及 接著步驟，從前述光學薄膜面側或前述透明保護薄膜面側照射活性能量線，使前述接著劑組成物硬化形成接著劑層，並透過該接著劑層接著前述光學薄膜及前述透明保護薄膜。
  11. 如請求項10之積層光學薄膜之製造方法，其中前述透明保護薄膜之SP值與前述接著劑組成物之SP值之間的SP值距離為12以下。
  12. 一種影像顯示裝置，其特徵在於使用有如請求項1至9中任一項之積層光學薄膜。
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