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TW201921006A - 偏光板及其製造方法，以及顯示裝置 - Google Patents

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TW201921006A
TW201921006A TW107133626A TW107133626A TW201921006A TW 201921006 A TW201921006 A TW 201921006A TW 107133626 A TW107133626 A TW 107133626A TW 107133626 A TW107133626 A TW 107133626A TW 201921006 A TW201921006 A TW 201921006A
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河村真一
鈴木宏昌
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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明之課題在於提供一種偏光板，係不論色調如何變化，都能使條紋狀不均勻變得不顯眼者。
對於前述課題，本發明的解決手段為偏光板1，係含有：偏光片2、與在偏光片2的至少一面經由接著劑層而配置的保護膜3、4；其中，在初始狀態所測定之光度校正單體穿透率(Ty)為44%以上，在初始狀態以及在耐久試驗後所測定的正交色調，係於ab色度座標中a座標軸以及b座標軸所挾起的符號區域沒有變化者。

Description

偏光板及其製造方法，以及顯示裝置
本發明係關於偏光板及其製造方法，以及顯示裝置。
例如在下述專利文獻1中係提案：由於源自偏光片表面的條紋，會產生能夠藉由反射光的強弱而確認到的條紋狀不均勻，因此藉由將偏光片表面的凹凸高度設在280nm以下，以抑制因反射光的強弱而產生的條紋狀不均勻。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第6166431號公報
近年來，由於降低電力消耗等目的，偏光板係朝高透射化發展。另一方面，當偏光板變成高透射時，如專利文獻1所記載，已知即使將偏光片表面的凹凸設成 280nm以下，仍會因為源自於該偏光片表面的凹凸不平之以正交偏光(crossed nicols)狀態穿透偏光片的光而產生不均勻的條紋。
另外，關於高透射的偏光板，即使調控初始狀態的色調，使在正交偏光狀態下穿透偏光片而能被視認的條紋狀不均勻變得不顯眼，但在使用偏光板的期間，會有由於該偏光板的色調(色彩)變化而條紋狀不均勻變得顯眼之情形。
本發明是有鑑於如此的以往情形而提案者，目的在於提供：不論色調如何變化，都能使條紋狀不均勻變得不顯眼的偏光板、及其製造方法，以及具備如此的偏光板之顯示裝置。
就用以解決上述課題的手段而言，若根據本發明之態樣，係能夠提供一種偏光板，係包含：偏光片、與在前述偏光片的至少一面上經由接著劑層配置的保護膜；其中，在初始狀態所測定的光度校正單體穿透率(Ty)是在44%以上，初始狀態以及在耐久試驗後測定之正交色調，係於ab色度座標中a座標軸以及b座標軸所挾起的符號區域沒有變化者。
又，前述偏光板中，前述耐久試驗後可以是「至少由前述初始狀態開始，供應到乾燥氣體環境中，於105℃加熱30分鐘之後」之結構。
又，前述偏光板中，前述偏光片可以是「在 經單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂膜吸附定向有二色性色素之偏光膜」之結構。
又，前述偏光板中，前述偏光片的厚度可以是3至15μm之結構。
又，前述偏光板中，在前述保護膜經去除時，可以是在附著有接著劑的前述偏光片之表面存在高低差為80至250nm之凹凸的結構。
又，前述偏光板中，可以是前述偏光片為碘系偏光片之結構。
又，根據本發明之態樣能夠提供一種顯示裝置，係具備顯示面板、與前述任一偏光板者。
又，根據本發明之態樣，能夠提供一種偏光板的製造方法，該偏光板係含有：偏光片、與在前述偏光片的至少一面經由接著劑層而配置的保護膜；該偏光板的製造方法中，包含下述色調調整步驟：以使於ab色度座標中a座標軸以及b座標軸所挾起的符號區域沒有變化之方式，調整在初始狀態以及耐久試驗後所測定的正交色調。
又，前述偏光板的製造方法，也可以是其中之前述色調調整步驟係至少調整前述偏光片的色調者。
又，前述偏光板的製造方法，也可以是其中之前述色調調整步驟係選擇配置在前述偏光板的至少一面或是兩面的前述保護膜之製造方法。
如以上所述，若根據本發明之態樣，可提供一種偏光板、以及具備如此的偏光板之可彎曲的顯示裝置；其中，前述偏光板係不論色調如何變化，都能使條紋狀不均勻變得不顯眼者。
1、1A、1B‧‧‧偏光板
2‧‧‧偏光片
3、4‧‧‧保護膜
5‧‧‧黏著劑層
10‧‧‧顯示裝置
11‧‧‧顯示面板
30至41‧‧‧導輥
50至55‧‧‧軋輥
100‧‧‧製造裝置
101‧‧‧原料卷
102‧‧‧膨潤浴
103‧‧‧染色浴
104‧‧‧交聯浴
105‧‧‧洗淨浴
106‧‧‧乾燥爐
F‧‧‧膜
第1圖表示本發明的一個實施形態之偏光板的結構之截面圖。
第2圖表示本發明的其他實施形態之偏光板的結構之截面圖。
第3圖表示本發明的其他實施形態之偏光板的結構之截面圖。
第4圖表示具備第2圖所示的偏光板之顯示裝置的結構之截面圖。
第5圖係用以說明在偏光板的耐久試驗前後所測定之正交色調變化的ab色度座標圖。
第6圖表示偏光膜的製造裝置之結構的示意圖。
第7圖表示在實施例1、2中於耐久試驗前後所測定的正交色調變化之ab色度座標圖。
第8圖表示在實施例3、4以及比較例1、2中於耐久試驗前後所測定的正交色調變化之ab色度座標圖。
第9圖表示在參考例1中於耐久試驗前後所測定的正交色調變化之ab色度座標圖。
以下，有關本發明的實施形態，係參照圖式而進行詳細說明。
再者，以下的說明中所使用的圖式，係為了使各結構要素容易查看，而有將結構要素以示意方式表示的情形，顯示的尺寸之縮放比例也會因結構要素而有所不同。又，以下的說明中所例示的材料、數值等為一個例子，本發明並不侷限於此等例子，在不變更其主旨的範圍內可以適當地變更而加以實施。
(偏光板)
首先，本發明的一實施形態，係例如以第1圖所示的偏光板1進行說明。
又，第1圖是表示偏光板1的簡略結構之截面圖。
本實施形態的偏光板1如第1圖所示，係含有偏光片2、與在偏光片2的至少一面上(於本實施形態中是在兩面上)所配置的保護膜3、4，而具有將此等保護膜3、4經由(於圖中未顯示的)接著劑而貼合在偏光片2的兩面(經由接著劑層而積層)之結構。
偏光片2具有將自然光等光轉換成直線偏光之功能，且具有穿透軸與吸收軸。偏光片2的穿透軸，係使自然光穿透此偏光片2時的穿透光之振動方向。另一方面，偏光片2的吸收軸是與此偏光片2的穿透軸成為垂直的方向。
一般而言，偏光片2是由在經單軸延伸的聚乙烯醇(PVA)系樹脂膜吸附定向有碘和二色性染料等二 色性色素之偏光膜所成者。因此，偏光片2的吸收軸方向係與其延伸方向(MD)一致，而偏光片2的穿透軸方向係與其寬度方向(TD)一致。
PVA系樹脂膜通常係藉由將聚醋酸乙烯酯系樹脂皂化而得到。其皂化度通常是約85莫耳%以上，較佳是約90莫耳%以上，更佳是約99莫耳%以上。
聚醋酸乙烯酯系樹脂，例如除了可以是醋酸乙烯酯的均聚物之聚醋酸乙烯酯之外，還可以是醋酸乙烯酯與能夠和醋酸乙烯酯共聚合的其他單體之共聚物等。就能夠和醋酸乙烯酯共聚合的其他單體而言，例如可以例舉：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常是約1000至10000，較佳是約1500至5000左右。此等聚乙烯醇系樹脂也可以被改質，例如可以使用：經醛類改質的聚乙烯縮甲醛、聚乙烯縮醛、聚乙烯縮丁醛等。
從偏光板1的薄膜化之觀點來看，偏光片2的厚度係以薄者為佳，惟能夠視偏光板1的用途等而適當地設定。偏光片2的厚度例如是25μm以下，較佳是20μm以下，更佳是15μm以下；例如是1μm以上，較佳是3μm以上。偏光片2的厚度為15μm以下時，由於容易在PVA系樹脂膜的加工中之搬運時產生皺紋，而容易在偏光片2產生凹凸，所以本發明所致之效果會增加。又，也能認為偏光板1中之偏光片2的厚度是與經由接著劑貼合保護膜3、4且硬化後之偏光片2的厚度實質上相等。
就保護膜3、4而言，例如可以列舉：由如三乙醯基纖維素或二乙醯基纖維素的乙醯基纖維素系樹脂所成的膜；由如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯及聚對苯二甲酸丁二酯之聚酯系樹脂所成之膜；聚碳酸酯系樹脂膜；環烯烴系樹脂膜；丙烯酸系樹脂膜；由聚丙烯系樹脂的鏈狀烯烴系樹脂所成之膜。
在偏光片2的兩面配置有保護膜3、4之情形下，可以是由相同種類樹脂來構成保護膜3、4，也可以是由不同種類樹脂來構成保護膜3、4。
從偏光板1的薄膜化之觀點來看，保護膜3、4的厚度雖以薄者為佳，但能夠因應偏光板1的用途等而適當地設定。保護膜3、4的厚度例如可以是85μm以下，較佳是50μm以下，更佳是30μm以下。
另一方面，從加工性的觀點來看，保護膜3、4的厚度係以能夠確保一定程度的強度之厚度為佳，例如可以是5μm以上，較佳是10μm以上。
就接著劑而言，可以是水系接著劑，也可以是活性能量射線硬化型接著劑。水系接著劑可以例舉：聚乙烯醇系樹脂的水溶液、或是在聚乙烯醇系樹脂的水溶液調配有交聯劑之水溶液、如胺酯系乳膠接著劑之水系接著劑。
活性能量射線硬化型接著劑是意指藉由照射紫外線或電子射線等活性能量射線而硬化的接著劑。就活性能量射線硬化型接著劑而言，以其硬化形式進行分類 時，可以列舉：含有成為硬化性化合物之陽離子聚合性化合物之陽離子聚合型接著劑、含有成為硬化性化合物之自由基聚合性化合物之自由基聚合型接著劑、含有陽離子聚合性化合物以及自由基聚合性化合物兩者之硬化性接著劑等。陽離子聚合性化合物可以列舉：環氧化合物、氧雜環丁烷化合物等。作為自由基聚合性化合物可以列舉：在分子內具有1個以上的(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸系化合物等。
就藉由水系接著劑所形成的接著劑層之厚度而言，例如可以是在20nm以上，較佳是40nm以上。另一方面，從生產成本等的觀點來看，接著劑的厚度若為在必要以上但不會太厚的程度即可，例如可以是1000nm以下，較佳是500nm以下，更佳是在300nm以下。
藉由活性能量射線硬化型接著劑所形成的接著劑層之厚度，係以0.1μm以上為較佳，且以在10μm以下為較佳，在5μm以下為更佳，在3μm以下為又更佳。
本發明之其他的實施形態，例如可以是第2圖所示之偏光板1A，或第3圖所示的偏光板1B的結構。又，第2圖是表示偏光板1A之簡略結構之截面圖。第3圖是表示偏光板1B之簡略結構之截面圖。
具體而言，在第2圖表示的偏光板1A，係除了包含上述偏光板1的結構之外，還包含配置在至少一個保護膜(於本實施形態中為保護膜4)的與偏光片2為相反側之面的黏著劑(PSA)層5之結構。另一方面，在第3 圖表示的偏光板1B，係包含偏光片2、配置在偏光片2的一面之保護膜3、與配置在偏光片2的另外一面之黏著劑層5的結構。
黏著劑層5係可藉由其本身的黏著性，而對偏光片2和保護膜3、4進行貼合。就形成黏著劑層5之黏著劑而言，只要適當地選擇以往習知的物質即可，若為具有在會曝露偏光板1A、1B的環境下不產生剝離等的程度之接著性者即可。具體而言，可以列舉：丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、橡膠系黏著劑等，就透明性、耐候性、耐熱性、加工性之點而言，則以丙烯酸系黏著劑為特佳。黏著劑層5的厚度通常是3至100μm左右，較佳是5至50μm。
而且，在黏著劑中，可視需要而適當地調配：賦黏劑、塑化劑、玻璃纖維、玻璃珠粒(glass beads)、金屬粉末、由其他無機粉末等所成之填充劑、顏料、著色劑、填充劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑等各種添加劑。
黏著劑層5係為了將偏光板1A、1B貼合至其他構件而使用者。在黏著劑層5的表面上，也可以預先具有剝離膜(圖中未顯示)。在黏著劑層5的表面存在剝離膜時，從其一面將剝離膜剝離，便可將此黏著劑層5貼合(積層)到偏光片2或保護膜3、4。進一步從另一面將剝離膜剝離後，便可經由此黏著劑層5貼合至其他構件。
又，有關能夠應用本發明的偏光板之結構， 並不必限定於上述第1圖至第3圖所示的偏光板1、1A、1B之結構。亦即，能夠應用本發明的偏光板，若為包含偏光片、與配置在偏光片的至少一面或兩面的保護膜之結構即可，且能適當加諸變此種結構之外的結構而予以變更。
例如，在上述偏光板1、1A中，也可以應用例如相位差膜、增亮膜等其他功能層來取代上述保護膜4。
又，將上述偏光板1、1A、1B作為圓偏光板使用時，可以是除了上述結構之外，還含有1/4波長(λ/4)板之結構。λ/4板係具有將某種特定波長的直線偏光轉換成圓偏光(或是將圓偏光轉換成直線偏光)之功能。λ/4板係經由黏著劑層5而配置在與保護膜4的偏光片2為相反側之面。
又，將上述偏光板1、1A、1B作為圓偏光板使用時，可以是除了λ/4板之外，還含有正型C板(positive C-plate)的結構。正型C板可以減少偏光板1、1A、1B的反射色調(顏色)之變化。含有正型C板時，λ/4板以逆波長分散性λ/4板為佳。正型C板是經由接著劑層或黏著劑層而配置在與λ/4板的偏光片2為相反側之面(另外一面)上。因此，例如為上述偏光板1時，係具有上述偏光板1、黏著劑層5、λ/4板、黏著劑層或是接著劑層、正型C板的積層結構。
又，將上述偏光板1、1A、1B作為圓偏光板使用時，可以是除了λ/4板之外，還含有1/2波長(λ /2)板之結構。λ/2板是在入射光的電場振動方向(偏光面)能夠賦予π(=λ/2)的相位差者，具有改變直線偏光的方向(偏光方位)之功能。又，入射圓偏光之光時，可以使圓偏光的旋轉方向成為反向旋轉。λ/2板是經由接著劑層或是黏著劑層而配置在與λ/4板的偏光片2為相反側之面(另外一面)。因此，例如為上述偏光板1時，係具有上述偏光板1、黏著劑層5、λ/4板、黏著劑層或是接著劑層、λ/2板的積層結構。
(顯示裝置)
其次，參照第4圖以說明本實施形態的顯示裝置。
又，第4圖表示具備有上述第2圖中所示之偏光板1A的顯示裝置10之結構的截面圖。
本實施形態的顯示裝置10如第4圖所示，係具備顯示面板11、與配置在顯示面板11的視認側的偏光板1A。偏光板1A是經由黏著劑層視認5而貼合在顯示面板11上。
顯示面板11無特別限定，而例如是液晶顯示元件、有機電激發光(EL)顯示元件等即可。顯示裝置10是使用液晶顯示面板作為顯示面板11時，被稱為液晶顯示裝置。另一方面，顯示裝置10是使用有機EL顯示元件作為顯示面板11時，被稱為有機EL顯示裝置。
又，就能夠應用本發明的顯示裝置之結構而言，並不必限定於上述第4圖所示的顯示裝置10之結構。亦即，能夠應用本發明的顯示裝置，只要具備上述能 夠應用本發明的偏光板，便能對顯示面板的結構加以適當的變更。另一方面，能夠應用本發明的偏光板之用途，並不限定於上述的顯示裝置，也可以使用在各種光學用途。
順帶一提，本實施形態的偏光板1，係以於ab色度座標中a座標軸以及b座標軸所挾起的符號區域不變之方式來調整在初始狀態以及耐久試驗後所測定的正交色調。亦即，在偏光板1的耐久試驗前後所測定之正交色調的變化，係設定成a座標軸以及b座標軸不跨象限的值。藉此，即使在耐久試驗前後之偏光板1的正交色調有變化，但不論色調如何變化，都能使在偏光板1產生的條紋狀不均勻變得不顯眼。
具體而言，有關在偏光板1的耐久試驗前後所測定之正交色調的變化，係參照第5圖進行說明。又，第5圖是用以說明在偏光板1的耐久試驗前後所測定之正交色調變化之ab色度座標圖。
有關偏光板1的在耐久試驗前後所測定的正交色調變化，係可使用分光光度計等而進行測定。
又，本實施形態中，係藉由分光光度計進行穿透色調的測定。然後，於乾燥氣體環境中供至105℃加熱30分鐘之後，再度藉由分光光度計進行穿透色調之測定。於是，確認到在偏光板1的初始狀態以及耐久試驗後所測定的穿透色調，係a座標軸以及b座標軸所挾起的符號區域沒有變化者。
又，在偏光板1產生的條紋狀不均勻，係 可藉由背光上之正交偏光穿透光來進行觀察。具體而言，可以是將偏光板貼合到白色背光的照明面，而由其上將偏光板1以吸收軸成為正交的方式設置，並以目視進行不均勻的強度之觀察。
在含有λ/4板、正型C板、λ/2板等相位差板作為偏光板1的保護膜3、4之情形下，若能將此等相位差板以成為背光的相反側(視認側)之方式設置在背光上，並進行觀察即可。又，當偏光板1的保護膜3、4兩者是相位差板之結構時，可以在於照明面上貼合有偏光板之背光上設置相位差板，並由其上將偏光板1以成為正交偏光方式設置來進行觀察。
本實施形態中，就在偏光板1的耐久試驗前後所測定之正交色調而言，所謂「a座標軸以及b座標軸所挾起的符號區域沒有變化」的情形，其意義係與例如「在第5圖表示的ab色度座標圖中，a座標軸以及b座標軸間所挾之區域為不跨象限者」相同。此種情形下，即使在耐久試驗前後偏光板1的正交色調有所變化，但不論色調如何變化，都能使於偏光板1產生的條紋狀不均勻變得不顯眼。另一方面，若是a座標軸以及b座標軸間所挾區域為跨象限時，會由於正交色調的變化而變得容易看到在偏光板1產生的條紋狀不均勻。
就偏光板1產生的條紋狀不均勻而言，理想係在偏光板1表面的條紋狀不均勻之高低差△H為80至250nm。條紋狀不均勻的高低差△H，係在已去除保護膜3、 4時，將附著有接著劑的偏光片2表面在相對於其條紋的延長方向為正交的方向掃描偏光板1的表面，同時將表面的凹凸形狀進行線性測定。而且，由該測定結果，能夠藉由下述式(1)所方式，以對於表面的平均線為最高的凸起部的頂點之高度(H1)、與分別與最高凸起部鄰接的兩個凹部之中較深的凹部之底部的深度(H2)之合計來求得△H。又，條紋的延長方向通常是和延伸方向(MD)一致的方向。80nm≦△H=H1+H2≦250nm‧‧‧(1)
本實施形態的偏光板1，係藉由以於ab色度座標中a座標軸以及b座標軸所挾起的符號區域沒有變化之方式來調整在初始狀態以及耐久試驗後所測定的正交色調，而不論色調如何變化，都能夠使在如此之偏光板1產生的條紋狀不均勻變得不顯眼。
又，本實施形態的偏光板1是藉由調整偏光片2的色調、和選擇配置在偏光板1的至少一面或在兩面的保護膜4、5，而能夠調整其正交色調。
本實施形態的偏光板1中，光度校正單體穿透率(Ty)較佳為44.0%以上，更佳為44.3%以上，又更佳為44.5%以上。又，在本實施形態的偏光板1中，光度校正偏光度(Py)是95%以上，較佳為98%以上，更佳為99%以上。Ty以及Py例如可以使用分光光度計等而測定。
又，有關本發明，除了上述偏光板1之外，對於上述的偏光板1A、1B、或含有λ/4板、正型C板、λ/2板等相位差膜之偏光板，也能藉由以於ab色度座標 中a座標軸以及b座標軸所挾起的符號區域沒有變化之方式來調整於初始狀態以及耐久試驗後所測定的正交色調，而不論色調如何變化，都能使於偏光板產生的正交偏光狀態下穿透偏光片2之光而產生的條紋狀不均勻變得不顯眼。
(偏光板的製造方法)
其次，有關本實施形態的偏光板之製造方法，係參照第6圖來進行說明。
又，第6圖是表示成為上述偏光片2之偏光膜的製造裝置100之示意圖。又，第6圖中表示的箭頭，係表示成為偏光膜之膜F的搬運方向。
本實施形態中，首先，使用第6圖所示的製造裝置100，製作上述偏光板1之中作為偏光片2之偏光膜。具體而言，係將長形的未延伸PVA系樹脂膜(原料膜)F作為起始材料，將此膜F沿著製造裝置100的膜搬運路徑連續地搬運，同時藉由經過預定的處理步驟，而連續製造長形的偏光膜。
就預定的處理步驟而言，可以包含：使膜F浸漬在膨潤浴102中之膨潤處理步驟、使膨潤處理步驟後的膜F浸漬在染色浴103中之染色處理步驟、使染色處理步驟後的膜F浸漬在交聯浴104中之交聯處理步驟、使交聯處理後的膜F浸漬在洗淨浴105中之洗淨處理步驟、對搬運的膜F實施單軸延伸處理之延伸處理步驟、用乾燥爐106使洗淨處理步驟後的膜F乾燥之乾燥處理步驟。亦可 進一步視需要而增加其他的處理步驟。
在第6圖所示的偏光膜之製造裝置100，係以下述方式構成：由原料卷101連續地捲出膜F，同時沿著膜搬運路徑進行搬運，並使膜F依序通過設置在此膜搬運路徑上的膨潤浴102、染色浴103、交聯浴104與洗淨浴105，最後以使膜F通過乾燥爐106。所得到的偏光膜係例如可以直接地搬運至下一個偏光板1的製作步驟(在偏光膜的單面或是兩面貼合保護膜之步驟)。
又，在第6圖表示的製造裝置100中，雖然是例示將膨潤浴102、染色浴103、交聯浴104以及洗淨浴105分別各設置1槽來作為收容有對膜F實施處理之處理液的處理浴之情形，惟亦可視需要而為將任一個以上之處理浴設成兩槽以上之結構。
第6圖所示的製造裝置100，係於膜搬運路徑上，除了配置上述的處理浴102至105之外，還適當地配置有：支撐所搬運的膜F，同時視需要而改變所搬運的膜F的搬運方向之導輥(guide roll)30至41；按壓/挾持所搬運的膜F，將其旋轉所致之驅動力傳予膜F，同時視需要而改變所搬運的膜F的搬運方向之軋輥(nip roll)50至55而構成。
導輥30至41以及軋輥50至55，可以配置在各處理浴102至105的前後、或處理浴102至105中。藉此，可以進行對各處理浴102至105的膜F之導入/浸漬，以及由處理浴102至105之導出。例如，在各處理浴102 至105中設置1個以上的導輥30至41，並沿著此等導輥30至41搬運膜F，藉此可使膜F浸漬在各處理浴102至1055中。
在第6圖表示的製造裝置100中，於各處理浴102至105之前後係配置有軋輥50至55。藉此，在任一個以上的處理浴102至105中，於配置在處理浴之前後所的軋輥50至55間賦以轉速差，便可對膜F進行縱向單軸延伸而實施輥間延伸。
以下，說明有關製作偏光膜之際對膜F實施之各項處理步驟。
<膨潤處理步驟>
膨潤處理步驟，進行之目的在於：用以去除存在於成為原料膜的膜F的表面之雜質、去除存在於膜F中之塑化劑、賦與易染色性、膜F的可塑化等。處理條件是決定成在可以達成該目的之範圍內，不會產生膜F的極端溶解、失去透明度等不良的範圍。
作為原料膜者，可以使用厚度在65μm以下，較佳是約10至50μm，更佳是約10至35μm的未延伸PVA系樹脂膜。原料膜通常是準備長形的未延伸PVA系樹脂膜之卷(卷軸狀物)。但是，原料膜也可以是在膨潤處理步驟之前，預先在氣體中經實施單軸延伸處理之延伸膜。
在膨潤處理步驟，係在使由原料卷101連續地捲出的膜(原料膜)F依序通過軋輥50、導輥30至32時，在膨潤浴102中所收容的處理液浸漬預定時間。藉此， 對膜F實施膨潤處理。又，對於膜F，也可以利用軋輥50與軋輥51的轉速差，在膨潤浴102中實施單軸延伸處理，以作為延伸處理步驟。
於膨潤浴102的處理液中，除了純水之外，可以使用以約0.01至10重量%範圍添加有硼酸(參照日本特開平10-153709號公報)、氯化物(參照日本特開平06-281816號公報)、無機酸、無機鹽、水溶性有機溶媒、醇類等的水溶液。
膜F為未延伸膜時，膨潤浴102的溫度例如是10至50℃左右，較佳為10至40℃左右，更佳為15至30℃左右。膜F的浸漬時間較佳為10至300秒左右，更佳為20至200秒左右。另一方面，膜F是延伸膜時，膨潤浴102的溫度例如是20至70℃左右，較佳為30至60℃左右。膜F的浸漬時間，較佳為30至300秒左右，更佳為60至240秒左右。
在膨潤處理中，容易產生所謂「膜F在寬度方向膨潤而在膜F有皺紋」的問題。就用以去除此種皺紋並搬運膜F的一種手段而言，係在導輥30、31及/或導輥32使用如伸縮輥(expander roll)、螺旋輥(spiral roll)、凸型輥(crown roll)之具有擴幅功能之輥，或是使用如交叉導輥(cross guider)、彎曲棒(bend bar)、拉幅機夾(tenter crip)的其他擴幅裝置。另一方面，可以實施延伸處理作為用以抑制皺紋產生的另外一種手段。
膨潤處理中，由於膜F在膜F的搬運方向 也會膨潤擴大，因此在不對於膜F進行積極之延伸時，為了消除搬運方向的膜F之鬆弛，較佳係例如採取調控配置在膨潤浴102前後的軋輥50、51之速度等手段。又，就使於膨潤浴102中之膜F的搬運安定之目的而言，以水中淋浴來調控膨潤浴102中的水流、或是併用EPC裝置[邊緣位置調控(Edge Position Control)裝置：檢查膜的端部，防止膜蛇行的裝置]等亦屬有用。
由膨潤浴102所導出的膜F，係依序通過導輥32、軋輥51而搬運往染色浴103側。
<染色處理步驟>
染色處理步驟，係為了使二色性色素吸附、定向在膨潤處理步驟後的膜F等目的而進行。處理條件是決定成在達成該目的之範圍內，不會產生膜F的極端溶解、失去透明度等不良之範圍。
染色處理步驟中，係使膨潤處理步驟後的膜F在依序通過軋輥51、導輥33至35時，在染色浴103中所收容的處理液內浸漬預定時間。藉此，能夠對膜F實施染色處理。又，對於膜F，也可以利用軋輥51與軋輥52的轉速差，於染色浴103中實施單軸延伸處理，以作為延伸處理步驟。
供給染色處理步驟之膜F，係以為了提高二色性色素的染色性而經實施至少一定程度的單軸延伸處理之膜F為較佳，而且以於染色處理前加以單軸延伸處理，或是除了在染色處理前的單軸延伸處理之外，還在染色處 理時進行單軸延伸處理為較佳。
染色浴103的處理液是使用碘作為二色性色素時，例如可以使用濃度是以重量比為碘/碘化鉀/水=約0.003至0.3/約0.1至10/100之水溶液。也可以使用碘化鋅等其他的碘化物來取代碘化鉀，亦可將碘化鉀與其他的碘化物併用。又，碘化物之外的化合物，例如也可以與硼酸、氯化鋅、氯化鈷等共存。添加硼酸時，就含有碘之點而言，係與後述的交聯處理有所區別，水溶液若為相對於水100重量份而含有碘約0.003重量份以上者，即可視為染色浴103。
此種情形下，染色浴103之溫度通常是10至45℃左右，較佳是10至40℃，更佳是20至35℃。此種情形下的膜F之浸漬時間，通常是30至600秒左右，較佳是60至300秒。
另一方面，染色浴103的處理液是使用水溶性二色性染料作為二色性色素時，例如可以使用濃度以重量比為二色性染料/水=約0.001至0.1/100(較佳是約0.003至0.03/約0.1至10/100)之水溶液。此時，在染色浴103的處理液中，也可以共存有染色助劑等，例如可以含有硫酸鈉等無機鹽和界面活性劑等。二色性染料可以只單獨使用1種，也可以是併用2種以上的二色性染料。
此種情形下的染色浴103之溫度，例如是20至80℃左右，較佳為30至70℃，此種情形下之膜F的浸漬時間，通常是30至600秒左右，較佳為60至300秒 左右。
染色處理是與上述的膨潤處理之情形相同，就用以去除膜F的皺紋並搬運膜F的一種手段而言，可以是在導輥33、34及/或導輥35使用如伸縮輥、螺旋輥、凸型輥的有擴幅功能之輥，也可以是如交叉導輥、彎曲棒、拉幅機夾的其他擴幅裝置。另一方面，就用以抑制皺紋的產生之另外一種手段而言，係與上述的膨潤處理之情形相同，可以實施延伸處理。
由染色浴103所導出的膜F，係依序通過導輥35、軋輥52而往交聯浴104側導入。
<交聯處理步驟>
交聯處理步驟係以藉由交聯而使耐水化或調整色調等為目的而進行之處理。在交聯處理步驟中，使染色處理步驟後的膜F依序通過軋輥52以及導輥36至38時，係於交聯浴104所收容的處理液中浸漬預定時間。藉此，對膜F實施交聯處理。又，對於膜F，也可以利用軋輥52和軋輥53的轉速差，在交聯浴104中實施單軸延伸處理，以作為延伸處理步驟。
交聯浴104的處理液，可以使用相對於水100重量份含有硼酸例如約1至10重量份之水溶液。交聯浴104的處理液，在染色處理所使用的二色性色素是碘時，以除了硼酸之外還含有碘化物者為較佳，其量可以設成相對於水100重量份為例如1至30重量份。就碘化物而言，可以例舉：碘化鉀、碘化鋅等。又，也可以共存碘化物之 外的化合物，例如和氯化鋅、氯化鈷、氯化鋯、硫代硫酸鈉、亞硫酸鉀、硫酸鈉等。
交聯處理，係可依其目的而適當地變更交聯劑(硼酸等)及碘化物的濃度、以及交聯浴的溫度。例如，當交聯處理的目的為藉由交聯而耐水化，而對於未延伸的聚乙烯醇系樹脂膜依序實施膨潤處理、染色處理及交聯處理時，就交聯浴的含有交聯劑之液而言，可以是其濃度以重量比計為硼酸/碘化物/水=3至10/1至20/100的水溶液。而且，亦可視需要而使用乙二醛或戊二醛等其他之交聯劑來取代硼酸，也可以併用硼酸與其他的交聯劑。
交聯浴104的溫度通常是50至70℃左右，較佳是53至65℃。膜F的浸漬時間通常是10至600秒左右，較佳是20至300秒，更佳是20至200秒。另一方面，對於經預先延伸的膜F依序實施染色處理及交聯處理時，其交聯浴104的溫度通常是50至85℃左右，較佳是55至80℃。
在以調整色調為目的之交聯處理中，例如在使用碘作為二色性色素時，可以使用濃度以重量比計為硼酸/碘化物/水=1至5/3至30/100的交聯浴。就浸漬膜F時的交聯浴104之溫度而言，通常是10至45℃左右。膜F的浸漬時間通常是1至300秒左右，較佳是2至100秒。
交聯處理可以進行複數次，通常是進行2至5次。此種情形下，使用的各交聯浴104之組成以及溫 度只要是在上述範圍內，即可為相同，也可以是相異。性就藉由交聯而耐水化的交聯處理及用以調整色調的交聯處理而言，也可以是分別進行複數個步驟。
在交聯處理是與上述的膨潤處理之情形相同，就用以去除膜F的皺紋並搬運膜F的一種手段而言，可以是在導輥36、37及/或導輥38使用如伸縮輥、螺旋輥、凸型輥的具有擴幅功能之輥，也可以是使用如交叉導輥、彎曲棒、拉幅機夾的其他擴幅裝置。另一方面，就用以抑制皺紋產生之另外一種手段而言，係與上述的膨潤處理之情形相同，可以實施延伸處理。
由交聯浴104所導出的膜F，係依序通過導輥38、軋輥53而往洗淨浴105側導入。
<洗淨處理步驟>
洗淨處理步驟，其是為了去除附著在膜F的多餘之硼酸、碘等藥劑之目的而進行。洗淨處理步驟中，係例如在使交聯處理步驟後的膜F依序通過軋輥53以及導輥39至41時，在洗淨浴105所收容之洗淨液(水)中浸漬預定時間。或者，將水作為淋浴而對交聯處理步驟後的膜F進行噴霧。或者是可以將此等洗淨處理併用而進行。
在第6圖所示之製造裝置100，係例示將膜F浸漬在洗淨浴105中進行洗淨處理的情形。洗淨浴105的溫度通常是在2至40℃左右。膜F的浸漬時間通常是2至120秒左右。
洗淨處理是與上述的膨潤處理之情形相同， 就用以去除膜F的皺紋且搬運膜F的一種手段而言，可以是在導輥39、40及/或導輥41，使用如伸縮輥、螺旋輥、凸型輥之具有擴幅功能的輥，也可以是使用如交叉導輥、彎曲棒、拉幅機夾的其他擴幅裝置。另一方面，就用以抑制皺紋的產生之外另一種手段而言，係與上述膨潤處理之情形相同，可以實施延伸處理。
由洗淨浴105所導出的膜F，係依序通過導輥41、軋輥54而往乾燥爐106側導入。
<乾燥處理步驟>
乾燥處理步驟是對洗淨處理步驟之後的膜F實施乾燥處理。膜F的乾燥處理並無特別限制，在第6圖表示的製造裝置100中，可以是使用乾燥爐106來進行。更具體而言，例如可以是使用熱風乾燥機、遠紅外線加熱器等來進行膜F的乾燥。
膜F的乾燥溫度例如是20至100℃，較佳是20至80℃。膜F的乾燥時間例如是10至600秒，較佳是30至300秒。
<延伸處理步驟>
延伸處理步驟是在上述一連串的處理步驟之間(亦即，在任一個以上的處理步驟之前後及/或在任一個以上的處理步驟中)，對膜F進行濕式或是乾式之單軸延伸處理。
就單軸延伸處理的具體方法而言，例如可以採用：在構成膜搬運路徑之兩個軋輥(例如配置在處理浴的前後之兩個軋輥)間賦以轉速差，而進行縱向單軸延伸之 輥間延伸；或如日本專利第2731813號公報所記載之熱輥延伸、展幅延伸等，較佳為輥間延伸。
延伸處理，可以在從膜F至得到偏光膜為止之間以複數次。又，延伸處理也有利於抑制在上述膜F產生皺紋。
偏光膜的最終累積延伸倍率通常以未延伸的膜F當作基準為4.5至7倍左右，較佳為5至6.5倍。
<其他的處理步驟>
在偏光膜的製作步驟中，也可以追加上述處理步驟之外的其他處理步驟。所追加的處理步驟之例子可列舉例如在交聯處理步驟之後進行之，在不含硼酸之碘化物水溶液的浸漬處理步驟(補色處理步驟)、或是在不含硼酸而含有氯化鋅等之水溶液的浸漬處理步驟(鋅處理步驟)等。
偏光片2可以是將所製作的偏光膜進行適當的裁切而得到。又，偏光片2可以是方形的形狀，也可以是長形的膜。如以上所述，雖是說明了成為偏光片2的偏光膜之製作步驟，但也可以用其他的方法來製作成為偏光片2之偏光膜。
其次，在製作上述偏光片2之後，藉由經由下述步驟，可製造上述的偏光板1：在偏光片2及/或保護膜3、4的貼合面實施預備處理之預備處理步驟；在偏光片2的兩面上經由接著劑而貼合保護膜3、4之貼合處理步驟；使貼合有保護膜3、4之偏光片2硬化之硬化處理步驟。
<預備處理步驟>
預備處理步驟是在貼合處理步驟之前，為了提高偏光片2與保護膜3、4的接著性，而在偏光片2及/或保護膜3、4的貼合面實施電暈處理、火焰處理、電漿處理、紫外線照射、底塗層(primer)塗佈處理、皂化處理等表面處理。
<貼合處理步驟>
貼合處理步驟是在偏光片2的兩面藉由接著劑而貼合保護膜3、4。接著劑可以是水系接著劑，也可以是活性能量射線硬化型接著劑。貼合條件是將在偏光片2的表面比所應用的接著劑之量設定成較多之量。
<硬化處理步驟>
硬化處理步驟是使貼合有保護膜3、4的偏光片2硬化。在使用水系接著劑時，於貼合保護膜3、4之後，藉由進行接著劑層的乾燥處理而使其硬化。乾燥溫度例如是在30至100℃，較佳是40至90℃。乾燥時間例如是30至1200秒，較佳是60至900秒。乾燥後，也可以在室溫或是較室溫略高的溫度，例如在20至45℃左右的溫度進行熟化。
使用活性能量射線硬化型接著劑時，在將偏光片2與保護膜3、4的貼合後，係藉由照射活性能量射線(紫外線、電子射線、X射線等)而硬化。光照射時間雖然是由各種活性能量射線硬化型接著劑來調控而沒有特別限定，但以設定成作為照射強度與照射時間的積所表示的累積光量係10至2,500mJ/cm2者為較佳。
偏光板1與偏光片2相同，可以是方形形 狀、也可以是長形的膜。方形形狀的偏光板1，例如可以是藉由裁切長形的偏光板1而得到。又，長形的偏光板1可以是偏光板1的卷(卷軸狀物)。
本實施形態的偏光板1之製造方法係包括：色調調整步驟，係以使在ab色度座標中a座標軸以及b座標軸所挾起的符號區域沒有變化之方式，調整於初始狀態以及耐久試驗後所測定的正交色調。
就具體的色調調整步驟而言，能夠是藉由調整偏光片2的色調，而調整在偏光板1的初始狀態以及在耐久試驗後所測定之正交色調。又，偏光片2的色調，能夠藉由上述的處理液之濃度(例如染色浴103中的碘化鉀濃度或染料濃度、交聯浴104中的硼酸濃度、碘化鉀濃度等)、處理液的溫度、水洗強度(時間、溫度)、膜F的厚度及其延伸倍率等來進行調整。其中，就正交色調的調整而言，調控水洗的強度亦屬有用。
又，就色調調整步驟而言，能夠是藉由選擇配置在偏光片2的至少一面或是兩面之保護膜3、4，而調整偏光板1的初始狀態以及耐久試驗後所測定之正交色調。亦即，藉由所選擇的保護膜3、4之種類，也能調整偏光板1的初始狀態及耐久試驗後所測定之正交色調。
就正交色調變化的調整之點而言，保護膜3、4係以由環烯烴樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂所形成之膜為較佳。又，位在最表面的保護膜3也可以被賦予硬塗層。
又，色調調整步驟中，在偏光板1的初始狀態以及耐久試驗後所測定的正交色調，係以朝遠離於ab色度座標中之a座標軸以及b座標軸的方向變化之方式來調整為較佳。藉此，即使在耐久試驗前後之偏光板1的正交色調有所改變，但由於ab色度座標中之a座標軸以及b座標軸並未跨越象限，故不論色調如何變化，都能夠使在偏光板1產生的條紋狀不均勻變得不顯眼。
又，本發明除了在製造上述偏光板1的情形之外，在製造偏光板1A、1B和含有λ/4板、正型C板、λ/2板等之偏光板時，在初始狀態以及耐久試驗後所測定的正交色調，也是藉由設置「以於ab色度座標中a座標軸以及b座標軸所挾起的符號區域沒有變化的方式來進行調整」之色調調整步驟，而不論色調如何變化，都能使所製造的偏光板中產生的條紋狀不均勻變得不顯眼。
[實施例]
以下係藉由實施例來闡明本發明的效果。又，本發明並不侷限於以下的實施例，於不改變本發明主旨的範圍內可適當地變更而實施。
<實施例1>
實施例1中，除了在第6圖所示的偏光膜之製造裝置100是使用兩個交聯浴104(為了加以區別，係將第一個設為交聯浴104a，第二個設為交聯浴104b)之外，其餘係使用與上述製造裝置100相同的製造裝置來製造偏光膜，並在所得到的偏光膜之兩面貼合保護膜，而製作偏光板。
(1)膨潤處理步驟
首先，將厚度30μm的聚乙烯醇膜(原料膜)(Kuraray股份公司製的商品名「Kuraray Poval Film VF-PE #3000」，平均聚合度2400，皂化度99.9莫耳%)由原料卷連續地捲出同時進行搬運，並在加有20℃的純水之膨潤浴中浸漬30秒鐘。此膨潤處理步驟中，係在軋輥50、51間賦以轉速差而進行輥間延伸(縱向單軸延伸)。以原料膜為基準之延伸倍率是2.5倍。
(2)染色處理步驟
其次，將通過軋輥51的膜在純水/碘化鉀/碘/硼酸(質量比)為100/2/0.01/0.3之30℃染色浴中浸漬120秒鐘。在此染色處理中，也於軋輥51、52間賦以轉速差而進行輥間延伸(縱向單軸延伸)。以膨潤處理步驟後的膜為基準之延伸倍率是1.1倍。
(3)交聯處理步驟
其次，將通過軋輥52的膜在純水/碘化鉀/硼酸(質量比)為100/12/4之56℃交聯浴104a中浸漬70秒鐘。在軋輥、與設置在第一交聯浴104a和第二交聯浴104b之間的軋輥52、53間賦以轉速差而進行輥間延伸(縱向單軸延伸)。以染色處理步驟後的膜為基準之延伸倍率是1.9倍。
(4)補色處理步驟
其次，將第一交聯處理後的膜在碘化鉀/硼酸/純水(質量比)為9/2.9/100之40℃交聯浴104b中浸漬10秒鐘。
(5)洗淨處理步驟
其次，將第二交聯處理後的膜在放有5℃的純水之洗淨浴105中浸漬5秒鐘。
(6)乾燥處理步驟
其次，藉由將洗淨處理步驟後的膜通過乾燥爐，使其在80℃中加熱乾燥190秒鐘，而製作偏光膜。所得到的偏光膜之厚度是約12μm。
(7)貼合處理步驟
其次，調製相對於水100質量份係含有聚乙烯醇5質量份的水系接著劑作為接著劑。在上述製造的偏光膜之兩側，使用所調製的水系接著劑來積層下述表1中表示的保護膜。在得到的積層體中進行加熱乾燥，使接著劑乾燥而製作偏光板。又，所得到的偏光板中接著劑層之厚度是約50nm。
<光度校正單體穿透率的測定>
使用附有積分球之分光光度計(日本分光股份公司製的「V7100」)，將所得到的偏光板之光度校正單體穿透率(Ty)依據「JIS Z 8729」而進行測定。
將其測定結果表示在下述表1中。
<偏光片的表面凸凹之測定>
將所得到的偏光板切成10cm×5cm的小片，浸漬在二氯甲烷600mL中，並在室溫中進行超音波處理30分鐘，將已貼合的第一保護膜以及第二保護膜溶解去除。
就經除去此等保護膜的偏光膜而言，係將 屬於前側(第一保護膜所貼合之側)的表面之附著有接著劑的偏光片之表面，在相對於其延伸方向為垂直的方向進行掃描，線性測定附著有接著劑的偏光片之表面凹凸。然後，由此測定結果算出起伏的大小(凹凸高低差)與凹凸間隔。將該算出結果表示在下述表1中。
其中，凹凸高低差和凹凸間隔是指藉由下述方式所算出的值。
凹凸高低差：相對於表面的平均線，最高的凸起部的頂點之高度(H1)、與最高的凸起部所分別鄰接的兩個凹陷部之中為較深的凹陷部之底部的深度(H2)之合計值。
凹凸間隔：最高凸起部的頂點、與在最高凸起部所分別鄰接的兩個凹陷部之中較深的凹陷部之底部之間，相對於表面平均線的在平行方向之距離。
又，表面凹凸的測定，係以下述條件進行。
測定裝置：Vert Scan(註冊商標)(菱化系統股份公司製型號R5500G)
接物鏡(倍率)：2.5倍
測定範圍：3700×2800μm
解析度：640×480像素(pixel)
測定模式：波浪模式(wave mode)
表面修正：4次處理
<色調的測定>
使用附有積分球的分光光度計(日本分光股份公司製的「V7100」)，測定所製造的偏光板之正交a值以及正交 b值。將其測定結果表示在下述表1中。
之後，將所製造的偏光板供給到乾燥氣體環境下，於105℃加熱30分鐘。使用附有積分球的分光光度計(日本分光股份公司製的「V7100」)，測定加熱後的偏光板之正交a值以及正交b值。將此測定結果表示在下述表1中。
<條紋狀不均勻的測定>
在20000cd/m2的亮度的白色背光模組之照明面上，貼合光度校正單體穿透率(Ty)為41.6%且光度校正偏光度(Py)為99.997的偏光板A，並於其上放置偏光板。
又，此時係以偏光板的下述表1中所示的第一保護膜為上面，且偏光板A的穿透軸與偏光板的穿透軸為垂直相交(正交偏光狀態)之方式放置。於此狀態下，由偏光板的第一保護膜側，藉由目視而確認到條紋狀不均勻。條紋狀不均勻是用以下的4種階段評估。將此評估的結果表示在下述表1中。
0：未視認到條紋狀不均勻。
1：幾乎未視認到條紋狀不均勻。
2：可略為視認到條紋狀不均勻。
3：清楚地視認到條紋狀不均勻。
之後，將所製造的偏光板在乾燥氣體環境下給予105℃、30分鐘之加熱。將加熱後的偏光板以與上述相同的方式確認條紋狀的不均勻處，並以與上述相同方式進行評估。將該評估結果表示在下述表1中。又，有關 實施例1，係將以ab色度座標圖來圖示耐久試驗前後的色調變化者表示在第7圖中。
<實施例2>
在實施例2中，除了為了調整偏光膜的色調而只變更對偏光膜的洗淨條件(具體係將浸漬時間設為3秒鐘)之外，其餘是以與實施例1相同的方式而製作偏光板2。然後，藉由與上述實施例1相同的方法，測定所得到的偏光板之光度校正單體穿透率(Ty)、偏光片的表面凹凸、耐久試驗前後的色調變化、耐久試驗前後的條紋狀不均勻之變化。將此測定結果表示在下述表1中。又，有關實施例2，係將以ab色度座標圖來圖示耐久試驗前後的色調變化者表示於第7圖中。
<實施例3>
(1)膨潤處理步驟
首先，將厚度30μm的聚乙烯醇膜(原料膜)(Kuraray股份公司製的商品名「Kuraray Poval Film VF-PE #3000」，平均聚合度2400，皂化度99.9莫耳%)由原料卷連續地捲出同時進行搬運，並在加有20℃純水的膨潤浴中浸漬30秒鐘。於此膨潤處理步驟中，係在軋輥50、51間賦以轉速差而進行輥間延伸(縱向單軸延伸)。以原料膜為基準之延伸倍率是2.2倍。
(2)染色處理步驟
其次，將通過軋輥51的膜在純水/碘化鉀/碘/硼酸(質量比)為100/1.4/0.01/0.3的30℃染色浴中浸漬120 秒鐘。在此染色處理中，也在軋輥51、52間賦以轉速差而進行輥間延伸(縱向單軸延伸)。以膨潤處理步驟後的膜為基準之延伸倍率是1.2倍。
(3)交聯處理步驟
其次，將通過軋輥52的膜在純水/碘化鉀/硼酸(質量比)為100/9/4之53℃交聯浴104a中浸漬70秒鐘。在軋輥、設置在第一交聯浴104a和第二交聯浴104b之間的軋輥52、53間賦以轉速差而進行輥間延伸(縱向單軸延伸)。以染色處理步驟後的膜為基準之延伸倍率是2.1倍。
(4)補色處理步驟
其次，將第一交聯處理後的膜在純水/碘化鉀/硼酸(質量比)為100/9/3.9之50℃交聯浴104b中浸漬10秒鐘。
(5)洗淨處理步驟
其次，將第二交聯處理後的膜在加有13℃的純水之洗淨浴105中浸漬5秒鐘。
(6)乾燥處理步驟
其次，藉由將洗淨處理步驟後的膜通過乾燥爐，使其在80℃加熱乾燥190秒鐘，而製作偏光膜。所得到的偏光膜之厚度是約12μm。
(7)貼合處理步驟
其次，在所製造的偏光膜之兩側使用相對於水100質量份含有聚乙烯醇5質量份的水系接著劑，積層在下述表1表示的保護膜。對所得到的積層體進行加熱乾燥，使接 著劑乾燥而製作偏光板。又，所得到的偏光板中接著劑層的厚度是約50nm。
然後，藉由與上述實施例1相同的方法，測定所得到的偏光板之光度校正單體穿透率(Ty)、偏光片的表面凹凸、耐久試驗前後的色調變化、耐久試驗前後的條紋狀不均勻之變化。將其測定結果表示在下述表1中。又，有關實施例3，係將以ab色度座標圖來圖示耐久試驗前後的色調變化者表示在第8圖中。
<實施例4>
實施例4中，除了將保護膜的種類變更成下述表1中表示的保護膜之外，其餘係以與實施例3相同的方式而製作偏光板。然後，藉由與上述實施例1相同的方法，測定所得到的偏光板4的光度校正單體穿透率(Ty)、偏光片的表面凹凸、耐久試驗前後的色調變化、耐久試驗前後的條紋狀不均勻之變化。將此測定結果表示在下述表1中。又，有關實施例4，係將以ab色度座標圖來圖示耐久試驗前後的色調變化者表示在第8圖中。
<比較例1>
在比較例1中，除了為了調整偏光膜的色調而只變更對於偏光膜的洗淨條件(具體是將浸漬時間設定為3秒鐘)之外，其餘係以與實施例3相同的方式而製作偏光板。然後，藉由與上述實施例1相同的方法，測定所得到的偏光板之光度校正單體穿透率(Ty)、偏光片的表面凹凸、耐久試驗前後的色調變化、耐久試驗前後的條紋狀不均勻的變 化。將此測定結果表示在下述表1中。又，有關比較例1,係將以ab色度座標圖來圖示耐久試驗前後的色調變化者表示於第8圖中。
<比較例2>
比較例2中，除了為了調整偏光膜的色調而只變更對偏光膜的洗淨條件(具體係將浸漬時間設定為3秒鐘)之外，其餘係以與實施例4相同的方式而製作偏光板。然後，藉由與上述實施例1相同的方法，測定所得到的偏光板之光度校正單體穿透率(Ty)、偏光片的表面凹凸、耐久試驗前後的色調變化、耐久試驗前後的條紋狀不均勻的變化。將此測定結果表示在下述表1中。又，有關比較例2，係將以ab色度座標圖來圖示耐久試驗前後的色調變化者表示於第8圖中。
<參考例1>
作為參考例1，除了在染色處理步驟中，將純水/碘化鉀/碘/硼酸(質量比)設成100/2/0.03/0.3之外，其餘係以與實施例1相同的方式而製作偏光板。然後，藉由與上述實施例1相同的方法，測定所得到的偏光板的光度校正單體穿透率(Ty)、偏光片的表面凹凸、耐久試驗前後的色調變化、耐久試驗前後的條紋狀不均勻的變化，藉由與上述實施例1相同的方法而測定。將此測定結果表示在下述表1中。又，有關參考例1，係將以ab色度座標圖來圖示耐久試驗前後的色調變化者表示於第9圖中。
又，表1中的保護膜如以下所示。
保護膜A：附有紫外線硬化型硬塗層之斜向延伸環狀聚烯烴系樹脂膜，厚度29μm
保護膜B：三乙醯基纖維素膜，厚度25μm
保護膜C：附有紫外線硬化型硬塗層之三乙醯基纖維素膜，厚度32μm
保護膜D：附有紫外線硬化型硬塗層之三乙醯基纖維素膜(但紫外線吸收能力與保護膜C的相異)厚度32μm
而且，表1中，係將在耐久試驗前後之正交色調是ab色度座標軸所挾符號區域沒有變化者之色調的軸設為「○」。另一方面，係將在耐久試驗前後之正交色調是ab色度座標軸所挾符號區域有所變化者之色調的軸設為「×」。
如表1及第7圖至第9圖所示，實施例1至4係在耐久試驗前後之正交色調為ab色度座標軸所挾符號區域沒有變化，且條紋狀不均勻較少，即使於耐久試驗後條紋狀不均勻也不會大為增加而良好者。
另一方面，在比較例1、2中，耐久試驗前後之正交色調係ab色度座標軸所挾符號區域有所變化，且於耐久試驗後，條紋狀不均勻也會大量增加。又，在參考例1中，光度校正單體穿透率(Ty)為未達44%的偏光膜係未視認到條紋狀不均勻。

Claims (10)

  1. 一種偏光板，係含有：偏光片、與在前述偏光片的至少一面經由接著劑層而配置的保護膜，其中，在初始狀態所測定的光度校正單體穿透率(Ty)是44%以上，在初始狀態以及耐久試驗後所測定的正交色調，係在ab色度座標中a座標軸以及b座標軸所挾起的符號區域沒有變化。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中，前述耐久試驗後係「至少由前述初始狀態開始，供應到乾燥氣體環境中，於105℃加熱30分鐘之後」。
  3. 如申請專利範圍第1或是2項所述之偏光板，其中，前述偏光片係在經單軸延伸的聚乙烯醇系樹脂膜吸附定向有二色性色素之偏光膜。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之偏光板，其中，前述偏光片的厚度是3至15μm。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之偏光板，其中，在前述保護膜經去除時，附著有接著劑的前述偏光片之表面存在高低差為80至250nm之凹凸。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之偏光板，其中，前述偏光片為碘系偏光片。
  7. 一種顯示裝置，係具備：顯示面板、與申請專利範圍第1至6項中任一項所述之偏光板。
  8. 一種偏光板之製造方法，係含有偏光片、與在前述偏 光片的至少一面經由接著劑層而配置的保護膜的偏光板之製造方法，其中包含：色調調整步驟，係以於ab色度座標中a座標軸以及b座標軸所挾起的符號區域沒有變化的方式來調整在初始狀態及耐久試驗後所測定的正交色調。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的偏光板之製造方法，其中，前述色調調整步驟係至少調整前述偏光片的色調。
  10. 如申請專利範圍第8或是9項所述的偏光板之製造方法，其中，前述色調調整步驟係選擇配置在前述偏光板的至少一面或兩面之前述保護膜。
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