[go: up one dir, main page]

TWI625560B - 偏光板及其製造方法，以及畫像顯示裝置 - Google Patents

偏光板及其製造方法，以及畫像顯示裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI625560B
TWI625560B TW106119772A TW106119772A TWI625560B TW I625560 B TWI625560 B TW I625560B TW 106119772 A TW106119772 A TW 106119772A TW 106119772 A TW106119772 A TW 106119772A TW I625560 B TWI625560 B TW I625560B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
polarizer
protective film
film
adhesive
polarizing plate
Prior art date
Application number
TW106119772A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201809749A (zh
Inventor
Naoki Yoshida
Yuichi Shioda
Yusuke Matsuoka
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co filed Critical Sumitomo Chemical Co
Publication of TW201809749A publication Critical patent/TW201809749A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI625560B publication Critical patent/TWI625560B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本發明提供一種新穎偏光板，其係包含偏光鏡及於偏光鏡的至少單面藉由接著劑所貼合的保護膜，且可有效地抑制以反射光的濃淡顯現的條紋狀的不均勻對外觀的影響。
關於偏光板，其係包含偏光鏡及於偏光鏡的至少單面藉由接著劑所貼合的保護膜，其中，除去保護膜時的附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差為280nm以下。

Description

偏光板及其製造方法，以及畫像顯示裝置
本發明係關於可使用於各種光學用途的偏光板及其製造方法。而且，本發明係關於具有此種偏光板之畫像顯示裝置。
偏光板被廣泛使用來作為畫像顯示裝置的偏光的供給元件等。此種偏光板，適合採用例如將聚乙烯醇系樹脂膜予以延伸、染色、交聯、乾燥等所得之偏光鏡。一般而言，偏光板具有在偏光鏡的單面或兩面使用接著劑而貼合有保護膜的構成。
以往，於偏光板，會產生因反射光的濃淡所確認的條紋狀的不均勻，由於將此種偏光板使用於畫像顯示裝置時會損害畫質，而為了防止條紋狀的不均勻的產生，有各種提案(參考專利文獻1至4)。例如，提案有於偏光鏡(偏光膜)的單面或兩面隔著接著層而貼合有保護膜的偏光板，其中接著層的厚度設為52nm以下(專利文獻1)。特別是為了防止偏光鏡的於延伸軸方向產生的皺紋，已知：延伸前的聚乙烯醇系膜的厚度設為85μm以上，使偏 光鏡(偏光膜)的垂直於延伸軸的方向的表面粗糙度，根據中心線平均粗糙度而言為0.04μm以下(專利文獻2的第0011至0012段)；將對聚乙烯醇系膜所實施的乾燥處理以多階段進行，將乾燥處理的各階段的膜的張力控制為實質上為一定，且後段的張力設為前段的張力以下(專利文獻3)。而且，已知將由貼合保護膜時的偏光鏡的寬度(B)相對於從最後浴出來時的偏光鏡的寬度(A)所定義的縮頸(neck-in)率(=B/A)調整為0.80以上0.95以下(專利文獻4的第0019段)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2006-221158號公報
[專利文獻2]日本特開2000-249832號公報
[專利文獻3]日本特開2006-189560號公報
[專利文獻4]日本特開2002-40247號公報
[專利文獻5]日本特開2015-114536號公報
近年來，進行偏光板的薄壁化，要求構成偏光板的偏光鏡、保護膜變得更薄。保護膜變薄時，變得顯著地見到條紋狀的不均勻的產生，由如上述的以往的方法，難以充分抑制條紋狀的不均勻對偏光板外觀的影響。在此種狀況下，提案有藉由使接著劑層的厚度比較小，而 使接著劑層硬化(或乾燥)時的收縮力變小，藉此，抑制可能於保護膜表面產生的凹凸(專利文獻5)。但是，此種方法，雖可使接著劑層硬化時的收縮力變小，但條紋狀的不均勻也有可能是因其他因素所引起，更期望可由其他方法解決。
本發明的目的在於提供一種新穎偏光板及其製造方法，該偏光板包含偏光鏡及於偏光鏡的至少單面藉由接著劑所貼合的保護膜，且可有效地抑制以反射光的濃淡顯現的條紋狀的不均勻對外觀的影響。
本發明人等，著眼於偏光板的外觀，特別是當保護膜變薄時，通過薄的保護膜，變得容易受到因偏光鏡的表面凹凸所致之影響，將解決偏光鏡的表面凹凸的問題作為目標。然後，本發明入等深入研究的結果，獲得如下之獨特見解遂而完成本發明：於偏光板中，使附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差變小，具體而言設為280nm以下，藉此可有效地抑制條紋狀的不均勻對外觀的影響。
本發明包括以下[1]至[5]。
[1]一種偏光板，其係包含偏光鏡及於偏光鏡的至少單面藉由接著劑所貼合的保護膜，其中，除去保護膜時的附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差為280nm以下。
[2]如[1]所記載的偏光板，其中，保護膜的厚度為85μm以下。
[3]一種偏光板的製造方法，其中，該偏光板係包含偏光鏡及於偏光鏡的至少單面藉由接著劑所貼合的保護膜，該製造方法包括：於偏光鏡的至少單面，藉由接著劑而貼合保護膜；以及使貼合有保護膜的偏光鏡硬化；其中，將保護膜藉由接著劑而貼合並硬化後的附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差為280nm以下。
[4]如[3]所記載的偏光板的製造方法，其中，將保護膜藉由接著劑而貼合並硬化後的保護膜的厚度為85μm以下。
[5]一種畫像顯示裝置，包括：液晶胞或有機電激發光元件及如[1]或[2]所記載的偏光板。
根據本發明，提供新穎偏光板及其製造方法，該偏光板包含偏光鏡及於偏光鏡的至少單面藉由接著劑所貼合的保護膜，且可有效地抑制以反射光的濃淡顯現的條紋狀的不均勻對外觀的影響。而且，根據本發明，提供具有此種偏光板之畫像顯示裝置。
1‧‧‧偏光鏡(偏光膜)
2、4‧‧‧接著劑
3、5‧‧‧保護膜
7‧‧‧黏著劑層
10‧‧‧偏光膜
11‧‧‧原料卷
13‧‧‧膨潤浴
14‧‧‧染色浴
17‧‧‧交聯浴
19‧‧‧洗淨浴
20‧‧‧由聚乙烯醇系樹脂所構成的原料膜
21‧‧‧乾燥爐
30至41‧‧‧引導滾輪
50至55‧‧‧夾持滾輪
110、111、112‧‧‧偏光板
115‧‧‧其他構件(例如液晶胞、有機電激發光元件等)
120‧‧‧畫像顯示裝置
D‧‧‧距離
H‧‧‧起伏的大小
H1‧‧‧高度
H2‧‧‧深度
第1圖(a)係表示本發明之一實施態樣的偏光板的剖面示意圖，(b)係表示從偏光板除去保護膜時的附著有接著劑的偏光鏡的剖面示意圖，(c)係表示從偏光板除去保護膜，並從將由此所得之附著有接著劑的偏光鏡的表面凹凸進行 線測定之結果來求得高低差(起伏的大小△H)用的概念示意圖，將表面的平均線以虛線表示，將與該虛線呈水平或垂直的輔助線以點劃線表示。
第2圖係表示本發明之另一實施態樣的偏光板的剖面示意圖。
第3圖係表示本發明之另一實施態樣的偏光板的剖面示意圖。
第4圖係表示本發明之一實施態樣的畫像顯示裝置的剖面示意圖。
第5圖係用來說明可利用於本發明的偏光板之偏光鏡的偏光膜的製造方法之裝置剖面示意圖。
第6圖係表示將從實施例1所得的偏光板除去第一保護膜及第二保護膜後的附著有接著劑的偏光鏡的前面側的表面凹凸進行線測定之結果。
第7圖係表示將從實施例2所得的偏光板除去第一保護膜及第二保護膜後的附著有接著劑的偏光鏡的前面側的表面凹凸進行線測定之結果。
第8圖係表示將從實施例3所得的偏光板除去第一保護膜及第二保護膜後的附著有接著劑的偏光鏡的前面側的表面凹凸進行線測定之結果。
第9圖係表示將從實施例4所得的偏光板除去第一保護膜及第二保護膜後的附著有接著劑的偏光鏡的前面側的表面凹凸進行線測定之結果。
第10圖係表示將從比較例1所得的偏光板除去第一保 護膜及第二保護膜後的附著有接著劑的偏光鏡的前面側的表面凹凸進行線測定之結果。
第11圖係表示將從比較例2所得的偏光板除去第一保護膜及第二保護膜後的附著有接著劑的偏光鏡的前面側的表面凹凸進行線測定之結果。
以下，詳述關於本發明的偏光板及其製造方法以及畫像顯示裝置，但本發明不限於該等實施態樣。
本發明的偏光板，係包含偏光鏡及於偏光鏡的至少單面藉由接著劑所貼合(或隔著接著劑所積層)的保護膜。例如於本發明之一實施態樣中，如第1圖(a)所示，偏光板110，可為包含偏光鏡1以及分別藉由接著劑而貼合於偏光鏡1之兩面的第一保護膜3及第二保護膜5者。但是，本發明的偏光板的構成(積層順序等)，不限定於該等實施態樣，只要包含偏光鏡及於偏光鏡的至少單面藉由接著劑所貼合的保護膜，則可具有任意的構成。
本發明之「偏光鏡」，係具有將自然光等光轉換為直線偏光的功能之構件，且具有穿透軸及吸收軸。偏光鏡的穿透軸方向，可理解為自然光穿透偏光鏡時的穿透光的振動方向。另一方面，偏光鏡的吸收軸係正交於偏光鏡的穿透軸。再者，一般而言，偏光鏡可為延伸膜，偏光鏡的吸收軸方向可與其延伸方向(MD)一致，偏光鏡的穿透軸方向可與寬度方向(TD)一致。
本發明的偏光板，除去保護膜時的附著有 接著劑的偏光鏡的表面之高低差(△H，以下也簡稱為「起伏的大小」)為280nm以下。更詳細而言，起伏的大小(△H)係從偏光板除去保護膜時，將附著有接著劑的偏光鏡的表面，在相對於其條紋方向而言的垂直方向掃描，將附著有接著劑的偏光鏡的表面凹凸進行線測定，由測定結果，例如，如第1圖(c)所示，由相對於表面的平均線(圖中以虛線表示)而言最高凸部的頂點之高度(H1)、與分別鄰接最高凸部的2個凹部中較深的凹部的底部之深度(H2)的合計而求得，且滿足下述式(1)。
△H=H1+H2≦280nm…(1)
H1：最高凸部的頂點之高度(nm)
H2：分別鄰接最高凸部的2個凹部中較深的凹部的底部之深度(nm)
本發明之用語「條紋方向」，係意指相對於附著有接著劑的偏光鏡的條紋狀的表面凹凸而言為平行的方向，通常為與延伸方向(MD)一致的方向。
於本發明中，重要的不是評估貼合保護膜前的偏光鏡的表面狀態，而是評估將保護膜藉由接著劑而貼合並硬化後的偏光鏡的表面狀態，所以規定從偏光板除去保護膜時的附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差(起伏的大小)。從偏光板除去保護膜的方法，只要可將附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差大致維持在構成偏光板的狀態的原樣，則可使用任意的適合的方法。更詳細而言，使用雖可溶解保護膜但實質上不溶解接著劑及偏光鏡的溶 劑，將偏光板浸漬於此種溶劑，依需要而實施超音波處理及/或攪拌操作等，使保護膜溶解而除去，可使附著有接著劑的偏光鏡的表面露出。
於本發明中，附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差(起伏的大小)為280nm以下，藉此，於偏光板中以反射光的濃淡顯現之條紋狀的不均勻會變得難以辨識，可得到外觀良好的偏光板。起伏的大小只要是280nm以下即可，例如250nm以下，較佳為230nm以下。起伏的大小的下限，無特別限制，起伏的大小例如可為10nm以上，代表性可為50nm以上。雖然本發明不限定於此，但附著有接著劑的偏光鏡的表面中互相鄰接的凸部與凹部之間的面內距離，代表性地由上述的測定結果，例如，如第1圖(c)所示，相對於表面的平均線(圖中以虛線表示)而言最高凸部的頂點、與分別鄰接最高凸部的2個凹部中較深的凹部的底部之間的在與表面平均線平行的方向之距離(D，以下也簡稱為「凹凸間的距離」)，例如可為300至800μm。
欲將上述起伏的大小設為280nm以下，可藉由例如控制製造偏光鏡時的條件(特別是乾燥條件)而使偏光鏡本身(藉由接著劑貼合保護膜前的偏光鏡)的表面凹凸變小、以及使其後應用於偏光鏡的表面之接著劑的量變多而使接著劑嵌入偏光鏡本身的表面凹凸的凹部(參考第1圖(b))的情形變多之兩者中之任一者而達成，較佳為藉由兩者而達成。再者，第1圖(b)係誇張地示意性表示接著劑 嵌入偏光鏡本身的表面凹凸的凹部(相對於此，請留意第1圖(a)及後述的第2圖至第4圖係省略接著劑而表示)。
如第1圖(a)所示，於第一保護膜3及第二保護膜5分別積層(貼合)於偏光鏡1的兩面的情況，本發明的偏光板，當除去位於其前面側(在應用於畫像顯示裝置的情況為觀賞側)及背面側(在應用於畫像顯示裝置的情況為顯示裝置側)的至少一側之保護膜時之位於其下方的附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差(起伏的大小)為上述範圍即可。在本發明中雖不是必須，但更佳係於前面側及背面側的兩面中，除去保護膜時之位於其下方的附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差(起伏的大小)為上述範圍。
例如，於本發明的一實施態樣中，如第1圖(b)所示，除去位於前面側的第一保護膜3及位於背面側的第二保護膜5中之至少一者時(第1圖(b)為舉例表示除去兩者時)的附著有接著劑2的偏光鏡1的表面之高低差以及附著有接著劑4的偏光鏡1的表面之高低差中的至少一者為上述範圍即可。較佳係當除去位於屬於觀賞側之前面側的第一保護膜3時的附著有接著劑2的偏光鏡1的表面之高低差為上述範圍，除此之外，更佳係當除去位於背面側的第二保護膜5時的附著有接著劑4的偏光鏡1的表面之高低差也為上述範圍(亦即附著有接著劑2及接著劑4的偏光鏡1的兩表面之高低差為上述範圍)。
欲使最終所得到的起伏的大小(亦即附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差)變小，以偏光鏡本身的表 面之高低差較小者為較佳。偏光鏡本身的表面之高低差，也可以認為實質上等於藉由接著劑貼合保護膜前的偏光鏡的表面之高低差，例如400nm以下，較佳為350nm以下。偏光鏡的表面之高低差的下限，無特別限制，例如可為5nm以上。偏光鏡本身的表面之高低差，與上述附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差(起伏的大小)同樣地，將偏光鏡的表面，在相對於其條紋方向而言的垂直方向掃描，將偏光鏡的表面凹凸進行線測定，由測定結果，由相對於表面的平均線而言最高凸部的頂點之高度、與分別鄰接最高凸部的2個凹部中較深的凹部的底部之深度的合計而求得。
偏光鏡的厚度，從偏光板的薄膜化的觀點來看是以薄為較佳，但可依據偏光板的用途等而適當地設定。偏光鏡的厚度，例如為35μm以下，特別是20μm以下，更特別是15μm以下，例如1μm以上，特別是3μm以上。偏光板之偏光鏡的厚度，可以認為實質上等於將保護膜藉由接著劑而貼合並硬化後的偏光鏡的厚度。
保護膜的厚度，從偏光板的薄膜化的觀點來看也是以薄為較佳，但可依據偏光板的用途等而適當地設定。保護膜的厚度，例如可為85μm以下，特別是50μm以下，更特別是30μm以下。根據本發明，於應用較薄的保護膜的情況，也可有效地抑制因條紋狀的不均勻對外觀的影響。另一方面，此種保護膜的厚度，從加工性的觀點來看，以可確保某種程度的強度之厚度為較佳，例如可為 5μm以上，特別是10μm以上。偏光板之保護膜的厚度，可以認為實質上等於將保護膜藉由接著劑而貼合並硬化後的保護膜的厚度。
接著劑(或接著劑層)的厚度，較佳係大到接著劑嵌入偏光鏡本身的表面凹凸的凹部，並可使上述起伏的大小(此可理解為偏光鏡與接著劑合併的整體的外觀的表面凹凸)盡可能地小的程度。接著劑的厚度，例如可為20nm以上，特別是40nm以上。另一方面，此種接著劑的厚度，從生產成本等觀點來看，只要在不過度大到需要以上的程度即可，例如可為1000nm以下，特別是500nm以下，更特別是300nm以下。偏光板之接著劑(接著劑層)的厚度，可以認為實質上等於將保護膜藉由接著劑而貼合並硬化後的接著劑(接著劑層)的厚度。
本發明的偏光板，可進一步於其單面側的表面，例如第2圖所示的偏光板111，可於至少一保護膜(圖示的態樣為第二保護膜5)的與偏光鏡1為相反側的面，積層黏著劑(pressure-sensitive adhesive)層7，此種黏著劑層7可於最表面具有或不具有剝離層(未圖示)。而且，第二保護膜5不是必須，例如可應用相位差膜、增亮膜等其他功能層，來取代第二保護膜5。於本發明的其他實施態樣中，如第3圖所示，偏光板112，可為包括偏光鏡1、藉由接著劑而貼合於偏光鏡1的單面的保護膜3、及積層於偏光鏡1的另一單面之黏著劑層7者。黏著劑層的厚度，通常為3至100μm左右，較佳為5至50μm。
雖在本發明不是必須，但如第2圖及第3圖所示，可被包含於本發明的偏光板中之黏著劑層7(於其表面存在剝離層的情況為剝離剝離層後)可用於將偏光板111、112貼合至其他構件。
例如偏光板111，如第4圖所示，可隔著黏著劑層7而貼合於其他構件115，構成畫像顯示裝置120。其他構件，無特別限制，例如可為液晶胞、有機電激發光元件等，代表性為在構成該等的玻璃板上，可隔著黏著劑層而貼合偏光板。畫像顯示裝置，在液晶胞的情況下稱為液晶顯示裝置，在有機電激發光元件的情況下稱為有機電激發光顯示裝置。但是，本發明的畫像顯示裝置，不限於此種實施態樣，只要包括液晶胞或有機電激發光元件及本發明的偏光板，則可具有任意的適合的構成。
以下，對於本發明的偏光板及畫像顯示裝置，係經由該等的製造方法，而更詳細地說明。
〈偏光鏡〉
偏光鏡，可為二色性色素(碘、二色性染料)吸附配向於一軸延伸的聚乙烯醇系樹脂膜之聚乙烯醇系偏光膜。
構成聚乙烯醇系樹脂膜的聚乙烯醇系樹脂，通常可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得。其皂化度，通常為約85莫耳%以上，較佳為約90莫耳%以上，更佳為約99莫耳%以上。聚乙酸乙烯酯系樹脂，例如除了屬於乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯以外，還可為乙酸乙烯酯及可與其共聚合的其他單體的共聚物等。就可與其 共聚合的其他單體而言，可舉例如不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度，通常為約1000至10000，較佳為約1500至5000左右。該等的聚乙烯醇系樹脂，可被改性，可使用例如經酵類改性的聚乙烯醇縮甲醛(polyvinyl formal)、聚乙烯醇縮乙醛、聚乙烯醇縮丁醛等。
〈偏光膜的製造方法〉
上述偏光膜，可藉由包含下述步驟的方法而適當地製造：將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於膨潤浴的膨潤處理步驟；將膨潤處理步驟後的膜浸漬於染色浴的染色處理步驟；將染色處理步驟後的膜浸漬於交聯浴的交聯處理步驟；對膜實施一軸延伸處理的延伸處理步驟；以及使膜乾燥的乾燥處理步驟。
更具體而言，偏光膜，可藉由例如以長條的未延伸聚乙烯醇系樹脂膜(原料膜)作為起始材料，將其沿著偏光膜製造裝置的膜傳送路徑連續地傳送，實施預定的處理步驟，而連續地製造長條的偏光膜。
上述的預定的處理步驟，可包括：將原料膜浸漬於膨潤浴的膨潤處理步驟、將膨潤處理步驟後的膜浸漬於染色浴的染色處理步驟以及將染色處理步驟後的膜浸漬於交聯浴的交聯處理步驟。而且，在該等的一連串的 處理步驟之間(亦即任一個以上的處理步驟的前後及/或任一個以上的處理步驟中)，以濕式或乾式實施一軸延伸處理。然後，將所得之膜賦予乾燥處理。依需要，可附加其他處理步驟。
以下，一邊參考第5圖，一邊更詳細地說明可利用於偏光鏡之偏光膜的製造方法。第5圖所示的偏光膜製造裝置，係將由聚乙烯醇系樹脂所構成的原料(未延伸)膜20，一邊從原料卷11連續地捲出，一邊沿著膜傳送路徑傳送，藉此依序通過設置於膜傳送路徑上的膨潤浴13、染色浴14、交聯浴17及洗淨浴19，最後通過乾燥爐21的構成。所得之偏光膜10，例如可直接傳送至後續的偏光板的製作步驟(在偏光膜10的單面或兩面貼合保護膜的步驟)。第5圖中的箭頭係表示膜的傳送方向。
再者，第5圖雖表示膨潤浴13、染色浴14、交聯浴17及洗淨浴19分別設置1個槽的例子，但可依需要而將任一個以上的處理浴(將如膨潤浴13、染色浴14、交聯浴17及洗淨浴19等設置於膜傳送路徑上的容納有對聚乙烯醇系樹脂膜實施處理的處理液的浴，總稱為「處理浴」)設置2個槽以上。
偏光膜製造裝置的膜傳送路徑，除了上述處理浴之外，可由將支撐被傳送的膜或可進一步改變膜傳送方向的引導滾輪30至41、按壓/夾持被傳送的膜且可將其旋轉的驅動力施加於膜或可進一步改變膜傳送方向的夾持滾輪50至55配置在適合的位置而建構。引導滾輪、夾 持滾輪可配置於各處理浴的前後、處理浴中，藉此可進行朝處理浴之膜的導入/浸漬以及從處理浴的拉出(參考第5圖)。例如，藉由於各處理浴中設置1個以上的引導滾輪，並沿著該等引導滾輪傳送膜，可使膜浸漬於各處理浴。
第5圖所示的偏光膜製造裝置，在各處理浴的前後配置夾持滾輪(夾持滾輪50至54)，藉此變得可實施在任一個以上的處理浴中，對配置於其前後的夾持滾輪間賦予周速差，進行縱向一軸延伸之滾輪間延伸。以下，說明各處理步驟。
(膨潤處理)
膨潤處理，係以除去原料膜20表面的異物、除去原料膜20中的塑化劑、賦予易染色性、原料膜20的可塑化等目的而進行。處理條件，係在可達成該目的之範圍且不產生原料膜20的極端溶解、失去透明性等缺陷的範圍下決定。
原料膜20，可為厚度為65μm以下，較佳為約10至50μm，更佳為約10至35μm的未延伸的聚乙烯醇系樹脂膜。原料膜20，通常準備長條的未延伸的聚乙烯醇系樹脂膜的卷(捲繞品)。但是，原料膜20亦可為在膨潤處理步驟前預先在氣體中實施一軸延伸處理的延伸膜。
參考第5圖，膨潤處理，可藉由將原料膜20從原料卷11連續地捲出的同時，沿著由引導滾輪30至32及夾持滾輪50所建構的膜傳送路徑傳送，將原料膜20浸漬於膨潤浴13(容納於膨潤槽的處理液)預定的時間，然 後拉出而實施。也可利用夾持滾輪50與夾持滾輪51的周速差，在膨潤浴13中實施一軸延伸處理。
於膨潤浴13中，除純水外，還可使用添加有約0.01至10重量%的範圍之硼酸(日本特開平10-153709號公報)、氯化物(日本特開平06-281816號公報)、無機酸、無機鹽、水溶性有機溶劑、醇類等的水溶液。
於原料膜20為未延伸膜的情況，膨潤浴13的溫度，例如為10至50℃左右，較佳為10至40℃左右，更佳為15至30℃左右。原料膜20的浸漬時間，較佳為10至300秒左右，更佳為20至200秒左右。而且，於將預先在氣體中延伸的聚乙烯醇系樹脂膜進行膨潤的情況，膨潤浴13的溫度，例如為20至70℃左右，較佳為30至60℃左右。膜的浸漬時間，較佳為30至300秒左右，更佳為60至240秒左右。
於膨潤處理中，原料膜20在寬度方向膨潤，容易產生膜有皺紋的問題。作為用以除去該皺紋同時傳送膜的一手段，可舉例如於引導滾輪30、31及/或32，使用如擴張滾輪、螺旋滾輪、皇冠滾輪等具有擴張寬度功能的滾輪，或使用如導布裝置、彎曲棒、拉幅夾等其他擴張寬度裝置。為了抑制皺紋的產生的另一手段，為實施延伸處理。
於膨潤處理中，因在膜的傳送方向也會有膜膨潤擴大，故於不對膜進行積極的延伸的情況，為了使傳送方向的膜沒有鬆弛，較佳係採取例如控制配置於膨潤 浴13的前後的夾持滾輪50、51的速度等的手段。而且，在使膨潤浴13中的膜的傳送安定化的目的，將膨潤浴13中的水流以水中噴水器(shower)控制，或併用EPC裝置(邊緣位置控制(Edge Position Control)裝置：檢測膜的端部，防止膜蛇行的裝置)等方式也為有用。
於第5圖所示的例中，從膨潤浴13拉出的膜，依序通過引導滾輪32、夾持滾輪51，導入染色浴14。
(染色處理)
染色處理，係以使二色性色素吸附、配向於膨潤處理後的聚乙烯醇系樹脂膜等目的而進行。處理條件，係在可達成該目的之範圍且不產生膜的極端溶解、失去透明性等缺陷的範圍下決定。參考第5圖，染色處理，可藉由沿著由引導滾輪33至35及夾持滾輪51所建構的膜傳送路徑傳送，將膨潤處理後的膜浸漬於染色浴14(容納於染色槽的處理液)預定的時間，然後拉出而實施。為了提高二色性色素的染色性，供應至染色處理步驟的膜，較佳為實施了至少某些程度的一軸延伸處理的膜，或者較佳為取代染色處理前的一軸延伸處理而進行染色處理時的一軸延伸處理、或除了進行染色處理前的一軸延伸處理之外還進行染色處理時的一軸延伸處理。
於使用碘作為二色性色素的情況，於染色浴14，可使用例如濃度以重量比而言為碘/碘化鉀/水=約0.003至0.3/約0.1至10/100的水溶液。可取代碘化鉀，而使用碘化鋅等其他碘化物，亦可併用碘化鉀及其他碘化 物。而且，亦可與碘化物以外的化合物，例如硼酸、氯化鋅、氯化鈷等共存。於添加硼酸的情況，就包含碘的點而言與後述的交聯處理區別，水溶液為相對於水100重量份而言包含約0.003重量份以上的碘的話，可視為染色浴14。浸漬膜時的染色浴14的溫度，通常為10至45℃左右，較佳為10至40℃，更佳為20至35℃，膜的浸漬時間，通常為30至600秒左右，較佳為60至300秒。
於使用水溶性二色性染料作為二色性色素的情況，於染色浴14，可使用例如濃度以重量比而言為二色性染料/水=約0.001至0.1/100的水溶液。於該染色浴14中，可使染色助劑等共存，例如可含有硫酸鈉等無機鹽、界面活性劑等。二色性染料，可只單獨使用1種，亦可併用2種以上的二色性染料。浸漬膜時的染色浴14的溫度，例如為20至80℃左右，較佳為30至70℃，膜的浸漬時間，通常為30至600秒左右，較佳為60至300秒左右。
如同上述，染色處理步驟中，在染色浴14可進行膜的一軸延伸。膜的一軸延伸，可藉由對配置於染色浴14的前後的夾持滾輪51及夾持滾輪52間賦予周速差等的方法而進行。
於染色處理中，也與膨潤處理同樣地，為了除去膜的皺紋同時傳送聚乙烯醇系樹脂膜，可於引導滾輪33、34及/或35，使用如擴張滾輪、螺旋滾輪、皇冠滾輪等具有擴張寬度功能的滾輪，或使用如導布裝置、彎曲棒、拉幅夾等其他擴張寬度裝置。為了抑制皺紋的產生的 另一手段，與膨潤處理同樣地，為實施延伸處理。
於第5圖所示的例中，從染色浴14拉出的膜，依序通過引導滾輪35、夾持滾輪52，導入交聯浴17。
(交聯處理)
交聯處理，係以藉由交聯所致的耐水化、色相調整(防止膜帶有藍色等)等目的而進行的處理。參考第5圖，交聯處理，可藉由沿著由引導滾輪36至38及夾持滾輪52所建構的膜傳送路徑傳送，將染色處理後的膜浸漬於交聯浴17(容納於交聯槽的處理液)預定的時間，然後拉出而實施。
交聯浴17，可為相對於水100重量份而言含有例如約1至10重量份的硼酸的水溶液。交聯浴17，在染色處理所使用的二色性色素為碘的情況，較佳係除了硼酸之外還含有碘化物，其量相對於水100重量份而言可為例如1至30重量份。就碘化物而言，可舉例如碘化鉀、碘化鋅等。而且，亦可與碘化物以外的化合物，例如氯化鋅、氯化鈷、氯化鋯、硫代硫酸鈉、亞硫酸鉀、硫酸鈉等共存。
於交聯處理中，可根據其目的而適當地改變交聯劑(硼酸等)及碘化物的濃度以及交聯浴的溫度。例如當交聯處理的目的為藉由交聯所致的耐水化，且對未延伸的聚乙烯醇系樹脂膜依序實施膨潤處理、染色處理及交聯處理的情況，交聯浴的含有交聯劑的溶液，可為濃度以重量比而言為硼酸/碘化物/水=3至10/1至20/100的水溶液。依需要，亦可使用乙二酸或戊二醛等其他交聯劑來取 代硼酸，亦可併用硼酸及其他交聯劑。浸漬膜時的交聯浴的溫度，通常為50至70℃左右，較佳為53至65℃，膜的浸漬時間，通常為10至600秒左右，較佳為20至300秒，更佳為20至200秒。另一方面，對預先延伸的聚乙烯醇系樹脂膜依序實施染色處理及交聯處理的情況，交聯浴的溫度，通常為50至85℃左右，較佳為55至80℃。
於以色相調整為目的之交聯處理中，例如使用碘作為二色性色素的情況，可使用濃度以重量比而言為硼酸/碘化物/水=1至5/3至30/100的交聯浴。浸漬膜時的交聯浴的溫度，通常為10至45℃左右，膜的浸漬時間，通常為1至300秒左右，較佳為2至100秒。
交聯處理，可進行複數次，通常進行2至5次。於該情況，使用的各交聯浴的組成及溫度，只要在上述範圍內，則可為相同，亦可為不同。為了藉由交聯所致的耐水化之交聯處理以及為了色相調整之交聯處理，可分別以複數個步驟進行。但是，以色相調整為目的之交聯處理，為任意的處理，亦可省略。
可利用夾持滾輪52與夾持滾輪53間的周速差，在交聯浴17中實施一軸延伸處理。
於交聯處理中，與膨潤處理同樣地，為了除去膜的皺紋同時傳送聚乙烯醇系樹脂膜，可於引導滾輪36、37及/或38，使用如擴張滾輪、螺旋滾輪、皇冠滾輪等具有擴張寬度功能的滾輪，或使用如導布裝置、彎曲棒、拉幅夾等其他擴張寬度裝置。為了抑制皺紋的產生的另一 手段，與膨潤處理同樣地，為實施延伸處理。
於第5圖所示的例中，從交聯浴17拉出的膜，依序通過引導滾輪38、夾持滾輪53，導入洗淨浴19。
(洗淨處理)
可包括交聯處理步驟後的洗淨處理步驟。洗淨處理，係以除去附著於聚乙烯醇系樹脂膜的多餘硼酸、碘等藥劑之目的而進行。洗淨處理，例如將經交聯處理的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於洗淨浴19(水)，或對該膜以噴水器形式噴霧水，或併用該等而進行。
於第5圖，係表示將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於洗淨浴19而進行洗淨處理的情況之例。洗淨處理中之洗淨浴19的溫度，通常為2至40℃左右，膜的浸漬時間，通常為2至120秒左右。
再者，於洗淨處理中，就除去皺紋同時傳送聚乙烯醇系樹脂膜之目的，可於引導滾輪39、40及/或41，使用如擴張滾輪、螺旋滾輪、皇冠滾輪等具有擴張寬度功能的滾輪，或使用如導布裝置、彎曲棒、拉幅夾等其他擴張寬度裝置。而且，於洗淨處理中，為了抑制皺紋的產生，亦可實施延伸處理。
(延伸處理)
如同上述，原料膜20，在上述一連串的處理步驟之間(亦即任一個以上的處理步驟前後及/或任一個以上的處理步驟中)，可用濕式或乾式進行一軸延伸處理。一軸延伸處理的具體方法，可為例如對構成膜傳送路徑的2個夾持滾 輪(例如配置於處理浴的前後的2個夾持滾輪)之間賦予周速差而進行縱向一軸延伸的滾輪間延伸、如日本專利第2731813號公報所記載的熱滾輪延伸、拉幅延伸等，較佳為滾輪間延伸。一軸延伸處理步驟，可在從原料膜20至得到偏光膜10為止之間進行複數次而實施。如同上述，延伸處理，就抑制膜的皺紋的產生而言也有利。
以原料膜20(未延伸的聚乙烯醇系樹脂膜)為基準的偏光膜10的最終累積延伸倍率，通常為4.5至7倍左右，較佳為5至6.5倍。
(乾燥處理)
洗淨處理後，進行乾燥聚乙烯醇系樹脂膜的處理。膜的乾燥，無特別限制，如第5圖所示的例，可使用乾燥爐21而進行，更詳細而言，可使用例如熱風乾燥機、遠紅外線加熱器等而進行。於本發明中，乾燥條件，因為會影響最終所得之起伏的大小(亦即附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差)，所以重要。乾燥溫度，例如為20至100℃，特別是20至80℃，乾燥時間，例如為10至600秒，特別是30至300秒。
(其他處理步驟)
可附加上述處理以外的處理。可追加的處理的例，包括在交聯處理後進行之對不含硼酸的碘化物水溶液的浸漬處理(補色處理)、對不含硼酸且含有氯化鋅等的水溶液的浸漬處理(鋅處理)。
偏光鏡，可適當地裁切此種偏光膜10而得 到，可為方形形狀，亦可為長條的膜。以上，說明關於可利用於偏光鏡的偏光膜10的製作方法，但亦可藉由其他方法製作偏光膜或偏光鏡。
藉由接著劑貼合保護膜前的偏光鏡的表面之高低差，例如為400nm以下，較佳為350nm以下，本發明雖不限於此，但例如可為5nm以上。
〈偏光板的製造方法〉
本發明的偏光板，例如可在藉由上述的方法得到偏光鏡後，藉由包括下述步驟的方法而適當地製造： 於偏光鏡的至少單面，藉由接著劑而貼合保護膜之貼合處理步驟；以及 使貼合有保護膜的偏光鏡硬化的硬化處理步驟。
就保護膜而言，可舉例如由如三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素等乙醯基纖維素系樹脂所構成的膜；由如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯及聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂所構成的膜；聚碳酸酯系樹脂膜、環烯烴系樹脂膜；丙烯酸系樹脂膜；由聚丙烯系樹脂的鏈狀烯烴系樹脂所構成的膜。偏光板具有第一保護膜及第二保護膜的情況，該等可為由同種樹脂所構成的膜，亦可為由不同種樹脂所構成的膜。
(預備處理)
為了提高偏光鏡(偏光膜)與保護膜(第一保護膜及當存在的情況第二保護膜，以下相同)的接著性，在貼合前，可於偏光鏡及/或保護膜的貼合面，實施電暈處理、火焰處 理、電漿處理、紫外線照射、底塗層(primer)塗佈處理、皂化處理等表面處理。
(貼合處理)
於偏光鏡的至少單面，藉由接著劑而貼合保護膜。就偏光鏡與保護膜的貼合所使用的接著劑而言，可舉例如聚乙烯醇系樹脂的水溶液或於其中調配有交聯劑的水溶液、胺酯系乳化劑接著劑等水系接著劑。
於本發明中，貼合條件，因為會影響最終所得之起伏的大小(亦即附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差)，所以重要。貼合條件，設定為使應用於偏光鏡的表面之接著劑的量較多。於使用水系接著劑的情況，接著劑的主要成分的濃度，相對於水100重量份而言為0.5至20重量份左右。
(硬化處理)
然後，使至少於單面貼合有保護膜之偏光鏡硬化。於使用水系接著劑的情況，膜貼合後，藉由進行接著劑層的乾燥處理而硬化。乾燥溫度，例如為30至100℃，特別是40至90℃，乾燥時間，例如為30至1200秒，特別是60至900秒。乾燥後，可在室溫或略高於室溫的溫度，例如20至45℃左右的溫度，進行熟化。
經過以上的步驟，製作偏光板。偏光板，與偏光鏡同樣地，可為方形形狀，亦可為長條的膜。方形形狀的偏光板，例如可由長條的偏光板的裁切而得。本發明的長條的偏光板，可為偏光板卷(捲繞品)。
偏光鏡的厚度，在藉由接著劑而貼合保護膜並使其硬化後，例如可為35μm以下，特別是20μm以下，更特別是15μm以下，例如可為1μm以上，特別是3μm以上。
保護膜的厚度，在藉由接著劑而貼合保護膜並使其硬化後，例如可為85以m以下，特別是50μm以下，更特別是30μm以下，例如可為5μm以上，特別是10μm以上。
接著劑(接著劑層)的厚度，在藉由接著劑而貼合保護膜並使其硬化後，例如可為20nm以上，特別是40nm以上，例如可為1000nm以下，特別是500nm以下，更特別是300nm以下。
如第2圖及第3圖所示，於使用黏著劑層的情況，因其本身的黏著性，而可對保護膜或偏光鏡積層。更詳細而言，於黏著劑層的積層面存在剝離層的情況，可藉由剝離該剝離層，並將黏著劑層對保護膜或偏光鏡進進行轉印而積層。
就形成黏著劑層的黏著劑而言，只要適當選擇以往習知者即可，只要為具有於偏光板可能暴露的環境下不發生剝離等的程度的接著性者即可。具體而言，可舉例如丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、橡膠系黏著劑等，就透明性、耐候性、耐熱性、加工性的點而言，特佳為丙烯酸系黏著劑。
於黏著劑中，依需要，可適當地調配賦黏 劑、塑化劑、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、其他無機粉末等所構成的填充劑、顏料、著色劑、填充劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑等各種添加劑。
本發明的偏光板，視感度校正穿透率通常為42.0%以上，較佳為42.5%以上，更佳為43.0%以上。而且，視感度校正偏光度通常為99.8%以上，較佳為99.9%以上，更佳為99.99%以上。視感度校正穿透率及視感度校正偏光度，可使用例如分光光度計等而測定。
〈畫像顯示裝置的製造〉
將如上述方式所製造的偏光板，隔著黏著劑層，貼合於其他構件(光學構件)，可得到畫像顯示裝置。更詳細而言，於黏著劑層的貼合面存在剝離層的情況，可剝離該剝離層，並將偏光板藉由黏著劑層的黏著性對其他構件貼合。例如，藉由將偏光板貼合於液晶胞，可得到液晶顯示裝置，藉由將偏光板貼合於有機電激發光元件，可得到有機電激發光顯示裝置。偏光板所貼合的液晶胞或有機電激發光元件，只要應用習知者即可。液晶胞或有機電激發光元件中，偏光板直接貼合的構成要件，代表性地為玻璃板。
但是，留意本發明的偏光板的用途，不限於畫像顯示裝置，可使用於各種光學用途。
[實施例]
以下，顯示實施例而更具體地說明本發明，但本發明不限於該等例。
〈實施例1〉
除了使用3個交聯浴17(以下將第1個交聯浴稱為17a，第2個交聯浴稱為17b，第3個交聯浴稱為17c)以外，其餘係使用與第5圖所示的偏光膜製造裝置相同的裝置，製造偏光膜，使用所得之偏光膜，繼而製作在偏光膜10的兩面貼合有保護膜之偏光板，第5圖之引導滾輪30至41，都使用平面滾輪。
(1)膨潤處理步驟
將厚度30μm、寬度450mm的聚乙烯醇膜(原料膜20)〔Kuraray(股)公司製的商品名「Kuraray Poval Film VF-PE#3000」、聚合度2400、皂化度99.9莫耳%以上〕由原料卷11連續地捲出的同時傳送，於裝有20℃的純水之膨潤浴13中浸漬30秒。於該膨潤處理中，以使剛從膨潤浴13拉出後的膜寬度成為浸漬於膨潤浴13前的膜寬度以下之方式在夾持滾輪50、51間賦予周速差，進行滾輪間延伸(縱向一軸延伸)。以原料膜20為基準之延伸倍率為2.5倍。
(2)染色處理步驟
然後，將通過夾持滾輪51的膜，在碘/碘化鉀/水(重量比)為0.05/2/100的30℃的染色浴14中浸漬120秒。於該染色處理中，以使剛從染色浴14拉出後的膜寬度成為浸漬染色浴14前的膜寬度以下之方式在夾持滾輪51、52間賦予周速差，進行滾輪間延伸(縱向一軸延伸)。以原料膜20為基準的膨潤處理及染色處理之累積延伸倍率為2.7倍。
(3)交聯處理步驟
然後，為了實施以耐水化為目的之第一交聯處理，將通過夾持滾輪52的膜，在碘化鉀/硼酸/水(重量比)為12/4.4/100的55℃的第一交聯浴17a中浸漬30秒。於該第一交聯處理中，也以使剛從第一交聯浴17a拉出後的膜寬度成為浸漬第一交聯浴17a前的膜寬度以下之方式在夾持滾輪52和設置於第一交聯浴17a與第二交聯浴17b間的夾持滾輪53之間賦予周速差，進行滾輪間延伸(縱向一軸延伸)。以原料膜20為基準的膨潤處理、染色處理及第一交聯處理之累積延伸倍率為5.0倍。
然後，將第一交聯處理後的膜，在與第一交聯浴17a相同組成的59℃的第二交聯浴17b中浸漬30秒後(第二交聯處理)，為了實施以色相調整為目的之交聯處理，在碘化鉀/硼酸/水(重量比)為9/2.9/100的40℃的第三交聯浴17c中浸漬15秒(第三交聯處理)。
(4)乾燥步驟
然後，將第三交聯處理後的膜，在裝有5℃的純水的洗淨浴19中浸漬，然後藉由通過乾燥爐21，在80℃乾燥3分鐘，製作偏光膜10。
所得之偏光膜10的厚度，約為12μm。而且，將偏光膜10的表面，在相對於其延伸方向(條紋方向)而言的垂直方向掃描，將偏光膜10的表面凹凸進行線測定，結果上面的高低差及下面的高低差，皆為約320nm。
又，表面凹凸之測定，係用以下條件進行。
測定裝置：VertScan(註冊商標)(菱化系統股份有限公 司製，型號R5500G)
物鏡(倍率)：2.5倍
測定範圍：3700×2800μm
解析度：640×480畫素
測定模式：Wave mode
面校正：4次處理
(5)貼合步驟
調製相對於水100重量份而言含有5重量份的聚乙烯醇(PVA)的水系接著劑作為接著劑。
將上述所得之長條的偏光膜10繼續傳送的同時，在其兩面供應上述調製的接著劑的同時，將作為第一保護膜(前面側)的厚度約20μm的三乙醯基纖維素膜以及作為第二保護膜(背面側)的厚度約25μm的三乙醯基纖維素膜，使用一對貼合滾輪，貼合於偏光膜10的兩面。貼合條件如下所述。
傳送速度：4m/min
貼合滾輪：硬度72.5°、橡膠製(材質)、直徑100mm
貼合壓力：0.45MPa
接著劑供應量(每面)：15mL/min
然後，一邊繼續傳送貼合有第一保護膜及第二保護膜的偏光膜，一邊使其通過乾燥爐，藉此在80℃乾燥5分鐘(藉此使接著劑硬化)，製作偏光板。
將第一保護膜及第二保護膜藉由接著劑貼合於偏光膜並乾燥(硬化)後的積層體中，第一保護膜的厚 度約為20μm，第二保護膜的厚度約為25μm，接著劑(接著劑層)的厚度約為50nm，偏光膜(偏光鏡)的厚度約為12μm。
針對所得之偏光板，從前面側(第一保護膜側)藉由目視確認有無以反射光的濃淡顯現的條紋狀的不均勻(以下簡稱為「條紋」)，結果外觀上無法確認條紋的產生。該偏光板的穿透率(視感度校正穿透率)為43.3%，偏光度(視感度校正偏光度)為99.97%。視感度校正穿透率及視感度校正偏光度，係使用分光光度計(日本分光(股)製「V7100」)，根據JIS Z 8729而測定。將該等的結果表示於表1。再者，於表1中，偏光板的外觀上，藉由目視無法確認條紋的產生者為「○」，可確認者為「×」。
再者，將上述所得之偏光板切出10cm×5cm的小片，浸漬於二氯甲烷600mL，在室溫進行30分鐘超音波處理，將貼合的第一保護膜及第二保護膜溶解除去。對於該等的保護膜被除去的偏光膜，將前面側(第一保護膜曾經貼合的側)的表面，且附著有接著劑的偏光鏡的表面，在相對於其延伸方向而言的垂直方向掃描，將附著有接著劑的偏光鏡的表面凹凸進行線測定。將結果表示於第6圖。由該測定結果，起伏的大小(附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差)為276nm。而且，從該測定結果求取其凹凸間距離之結果為791μm。將結果表示於表1。
又，表面凹凸的測定，用以下條件進行。
測定裝置：VertScan(註冊商標)(菱化系統股份有限公 司製，型號R5500G)
物鏡(倍率)：2.5倍
測定範圍：3700×2800μm
解析度：640×480畫素
測定模式：Wave mode
面校正：4次處理
〈實施例2〉
在實施例1的上述操作中，除了於(5)貼合步驟中，調製相對於水100重量份而言含有6重量份的聚乙烯醇(PVA)的水系接著劑作為接著劑，並使用該接著劑以外，其餘與實施例1同樣地製作偏光板。對所得之偏光板，與實施例1同樣地，測定評價條紋的產生(目視)、穿透率、偏光度、起伏的大小及凹凸間距離。將結果表示於表1及第7圖。
〈實施例3及比較例1〉
在實施例1的上述操作中，除了於(5)貼合步驟中，調製將聚乙烯醇的含有濃度變更為如表1所示之水系接著劑作為接著劑，並使用該接著劑以外，其餘與實施例1同樣地製作偏光板。對所得之偏光板，與實施例1同樣地，測定評價條紋的產生(目視)、穿透率、偏光度、起伏的大小及凹凸間距離。將結果表示於表1及第8圖(實施例3)、第10圖(比較例1)。
〈實施例4及比較例2〉
在實施例1的上述操作中，除了於(4)乾燥步驟中，將乾燥溫度變更為如表1所示，於(5)貼合步驟中，調製將聚 乙烯醇(PVA)的含有濃度變更為如表1所示之水系接著劑作為接著劑，並使用該接著劑以外，其餘與實施例1同樣地製作偏光板。對所得之偏光板，與實施例1同樣地，測定評價條紋的產生(目視)、穿透率、偏光度、起伏的大小及凹凸間距離。將結果表示於表1及第9圖(實施例4)、第11圖(比較例2)。
如同由表1可理解，起伏的大小(附著有接著劑的偏光鏡的表面之高低差)為280nm以下的實施例1至4，就偏光板的外觀上，無法確認條紋(以反射光的濃淡顯現的條紋狀的不均勻)的產生。相反地，起伏的大小為280nm以上的比較例1、2，就偏光板的外觀上，確認有條紋的產生。雖本發明不限定於此，但特別是實施例1、2，可得到極高偏光度。
[產業上的利用可能性]
本發明的偏光板，可使用於各種光學用途，例如可廣泛地使用來作為畫像顯示裝置之偏光的供給元件，或作為偏光的檢測元件。

Claims (5)

  1. 一種偏光板，其係包含偏光鏡及於偏光鏡的至少單面藉由接著劑所貼合的保護膜，其中，除去保護膜時，將附著有接著劑的偏光鏡的表面，在相對於偏光鏡的吸收軸方向而言的垂直方向掃描，將附著有接著劑的偏光鏡的表面凹凸進行線測定，從測定結果，由相對於表面的平均線而言，最高凸部的頂點之高度、與分別鄰接最高凸部的2個凹部中較深的凹部的底部之深度的合計所求得之起伏的大小為280nm以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中，保護膜的厚度為85μm以下。
  3. 一種偏光板的製造方法，其中，該偏光板係包含偏光鏡及於偏光鏡的至少單面藉由接著劑所貼合的保護膜，該製造方法包括：於偏光鏡的至少單面，藉由接著劑而貼合保護膜；以及使貼合有保護膜的偏光鏡硬化；其中，將保護膜藉由接著劑而貼合並硬化後，除去保護膜時，將附著有接著劑的偏光鏡的表面，在相對於偏光鏡的吸收軸方向而言的垂直方向掃描，將附著有接著劑的偏光鏡的表面凹凸進行線測定，從測定結果，由相對於表面的平均線而言，最高凸部的頂點之高度、與分別鄰接最高凸部的2個凹部中較深的凹部的底部之深度的合計所求得之起伏的大小為280nm以下。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之偏光板的製造方法，其中，將保護膜藉由接著劑而貼合並硬化後的保護膜的厚度為85μm以下。
  5. 一種畫像顯示裝置，包括：液晶胞或有機電激發光元件及申請專利範圍第1或2項所述之偏光板。
TW106119772A 2016-06-17 2017-06-14 偏光板及其製造方法，以及畫像顯示裝置 TWI625560B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016-120822 2016-06-17
JP2016120822A JP6166431B1 (ja) 2016-06-17 2016-06-17 偏光板およびその製造方法ならびに画像表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201809749A TW201809749A (zh) 2018-03-16
TWI625560B true TWI625560B (zh) 2018-06-01

Family

ID=59351436

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107114035A TW201830065A (zh) 2016-06-17 2017-06-14 偏光板及其製造方法，以及畫像顯示裝置
TW106119772A TWI625560B (zh) 2016-06-17 2017-06-14 偏光板及其製造方法，以及畫像顯示裝置

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107114035A TW201830065A (zh) 2016-06-17 2017-06-14 偏光板及其製造方法，以及畫像顯示裝置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6166431B1 (zh)
KR (2) KR101828213B1 (zh)
CN (1) CN107340558B (zh)
TW (2) TW201830065A (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019020718A (ja) * 2017-07-20 2019-02-07 住友化学株式会社 光学シート
JP7025166B2 (ja) * 2017-09-28 2022-02-24 住友化学株式会社 偏光板及びその製造方法、並びに表示装置
US11703709B1 (en) * 2021-02-02 2023-07-18 Meta Platforms Technologies, Llc Optical element with linear polarizer
JP2023087830A (ja) * 2021-12-14 2023-06-26 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法及び製造装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06138319A (ja) * 1992-10-27 1994-05-20 Kuraray Co Ltd Ｐｖａ系フィルム及び光学用フィルム
JPH06138320A (ja) * 1992-10-27 1994-05-20 Kuraray Co Ltd Ｐｖａ系フィルム及び光学用フィルム
JP2000249832A (ja) * 1999-03-01 2000-09-14 Nitto Denko Corp 偏光フィルム、偏光板及び光学部材
JP2015152911A (ja) * 2014-02-19 2015-08-24 住友化学株式会社 偏光性積層フィルム及び偏光板の製造方法
TW201534998A (zh) * 2014-02-27 2015-09-16 Sumitomo Chemical Co 偏光板的製造方法及偏光板

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5348823B2 (ja) * 2004-11-02 2013-11-20 日本合成化学工業株式会社 偏光膜用ポリビニルアルコール系フィルム、偏光膜、および偏光板
JP2009298144A (ja) * 2008-05-14 2009-12-24 Taisei Plas Co Ltd 複数金属形状物の接合複合体とその製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06138319A (ja) * 1992-10-27 1994-05-20 Kuraray Co Ltd Ｐｖａ系フィルム及び光学用フィルム
JPH06138320A (ja) * 1992-10-27 1994-05-20 Kuraray Co Ltd Ｐｖａ系フィルム及び光学用フィルム
JP2000249832A (ja) * 1999-03-01 2000-09-14 Nitto Denko Corp 偏光フィルム、偏光板及び光学部材
JP2015152911A (ja) * 2014-02-19 2015-08-24 住友化学株式会社 偏光性積層フィルム及び偏光板の製造方法
TW201534998A (zh) * 2014-02-27 2015-09-16 Sumitomo Chemical Co 偏光板的製造方法及偏光板

Also Published As

Publication number Publication date
KR20170142895A (ko) 2017-12-28
CN107340558A (zh) 2017-11-10
TW201809749A (zh) 2018-03-16
KR20180019019A (ko) 2018-02-22
KR101828213B1 (ko) 2018-02-09
TW201830065A (zh) 2018-08-16
CN107340558B (zh) 2020-03-06
JP6166431B1 (ja) 2017-07-19
JP2017223900A (ja) 2017-12-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5831249B2 (ja) 偏光フィルムとその製造方法及び偏光板
TWI443389B (zh) 偏光板之製造方法
TWI758250B (zh) 偏光膜的製造方法
TWI625560B (zh) 偏光板及其製造方法，以及畫像顯示裝置
TW201728916A (zh) 偏光膜之製造方法
CN100501464C (zh) 偏振光膜的制造方法、偏振光片及光学叠层体
CN100397110C (zh) 偏振膜及其制造方法、偏振器以及光学层合体
JP6359003B2 (ja) 偏光フィルムの製造装置及び製造方法、並びに偏光フィルム
JP4483329B2 (ja) 偏光フィルムの製造方法
JP4581689B2 (ja) 偏光フィルムの製造方法
JP2022065070A (ja) 偏光板の製造方法
TW202136392A (zh) 偏光膜的製造方法
JP2017223956A (ja) 偏光板およびその製造方法ならびに画像表示装置
JP7489867B2 (ja) 偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルムの製造装置
TW202441225A (zh) 偏光薄膜及偏光薄膜之製造方法
JP7624852B2 (ja) 偏光フィルムの製造方法
TW202244146A (zh) 偏光膜的製造方法及製造裝置
JP6400171B2 (ja) 偏光フィルムの製造装置及び製造方法、並びに偏光フィルム
WO2023153186A1 (ja) 偏光子の製造方法
TW202200356A (zh) 偏光膜之製造方法