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TW201906732A - 光學膜 - Google Patents

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TW201906732A
TW201906732A TW107121712A TW107121712A TW201906732A TW 201906732 A TW201906732 A TW 201906732A TW 107121712 A TW107121712 A TW 107121712A TW 107121712 A TW107121712 A TW 107121712A TW 201906732 A TW201906732 A TW 201906732A
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film
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小橋亜依
阪上智恵
小澤昭一
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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種光學膜，係對於紫外線及波長405nm左右之短波長的可視光顯示高吸收選擇性，而對相位差膜或有機EL發光元件由於紫外線及短波長的可視光所引起之劣化具有良好的抑制機能。
該光學膜含有滿足下述式(1)之光選擇吸收層A及滿足下述式(2)之光選擇吸收層B。
A(350)≧0.5 (1)
A(405)≧0.5 (2)
〔式(1)中，A(350)表示在波長350nm的吸光度。
式(2)中，A(405)表示在波長405nm的吸光度。〕

Description

光學膜
本發明是關於光學膜。
在有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置(FPD：平板顯示器)中，係使用有機EL元件、液晶元件等顯示元件或偏光板等光學膜等各式各樣的構材。由於此等構材使用的有機EL化合物及液晶化合物等為有機物，故經由紫外線(UV)之照射容易有劣化的問題發生。為了解決此種問題，例如，在專利文獻1中記載在偏光板的保護膜中，添加了對370nm以下波長域的紫外線吸收性能優良的紫外線吸收劑之偏光板。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2006-308936號公報
又，近年顯示裝置已經邁向薄型化，正進行開發將聚合性液晶化合物配向/光硬化而成的液晶系相位 差膜。此等的液晶系相位差膜或有機EL發光元件已知不僅經由紫外線照射會劣化，即使在400nm左右的短波長可視光中也會有劣化之傾向。然而，在專利文獻1中記載的偏光板，即使在370nm以下波長域的紫外線吸收性能優良，在400nm左右的可視光吸收性能卻低，對液晶系相位差膜或有機EL發光元件的劣化抑制會有不足之情形。又，在近年的顯示裝置中要求具有更良好的顯示特性。
本發明是提供一種光學膜，係藉由對波長350nm等的紫外線及對波長405nm左右短波長的可視光呈現高吸收選擇性，而對於相位差膜或有機EL發光元件由於紫外線或短波長的可視光引起的劣化具有良好抑制機能之光學膜。
[1]一種光學膜，係含有滿足下述式(1)之光選擇吸收層A及滿足下述式(2)的光選擇吸收層B。
A(350)≧0.5 (1)
A(405)≧0.5 (2)
〔式(1)中，A(350)表示在波長350nm的吸光度。
式(2)中，A(405)表示在波長405nm的吸光度。〕
[2]如[1]中記載的光學膜，係更滿足下述式(3)
A(440)≦0.1 (3)
〔式(3)中，A(440)表示在波長440nm的吸光度。〕
[3]如[1]中記載的光學膜，係更滿足下述式(4)
A(405)/A(440)≧5 (4)
〔式(4)中，A(405)表示在波長405nm的吸光度，A(440)表示在波長440nm的吸光度。〕
[4]如[1]至[3]中任一項記載的光學膜，其中，光選擇吸收層A是由含有樹脂(A1)及光選擇吸收化合物(B1)之樹脂組成物所形成的層，樹脂(A1)是選自纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及環烯烴系樹脂的至少1種樹脂。
[5]如[4]中記載的光學膜，其中，相對於樹脂(A1)100質量份，光選擇吸收化合物(B1)的含量為0.01至20質量份。
[6]如[1]至[5]中任一項記載的光學膜，其中，光選擇吸收層B為具有光選擇吸收機能的黏著劑層。
[7]如[6]中記載的光學膜，其中，具有光選擇吸收機能的黏著劑層是由含有(甲基)丙烯酸系樹脂(a)、交聯劑(b)及光選擇吸收化合物(c)的黏著劑組成物所形成之黏著劑層。
[8]如[7]中記載的光學膜，其中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)100質量份，交聯劑(b)的含量為0.01至15質量份。
[9]如[7]或[8]中記載的光學膜，其中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)100質量份，光選擇吸收化合物(c)的含量為0.01至15質量份。
[10]如[7]至[9]中任一項記載的光學膜，其中，光選擇吸收化合物(c)是滿足式(5)的化合物。
ε(405)≧20 (5)
〔式(5)中，ε(405)表示在波長405nm的化合物之克吸光係數。克吸光係數的單位是L/(g．cm)。〕
[11]如[7]至[10]中任一項記載的光學膜，其中，光選擇吸收化合物(c)是滿足式(6)的化合物。
ε(405)/ε(440)≧20 (6)
〔式(6)中，ε(405)表示在波長405nm的化合物之克吸光係數，ε(440)表示在波長440nm的化合物之克吸光度係數。〕
[12]如[7]至[11]中任一項記載的光學膜，其中，光選擇吸收化合物(c)是分子內具有部花青素(merocyanine)結構的化合物。
[13]一種顯示裝置，含有[1]至[12]的光學膜。
[14]一種光學膜，係滿足下述式(1)及下述式(2)。
A(350)≧0.5 (1)
A(405)≧0.5 (2)
〔式(1)中，A(350)表示在波長350nm的吸光度。
式(2)中，A(405)表示在波長405nm中的吸光度。〕
本發明的光學膜，藉由對於350nm等的紫外線及405nm左右的短波長可視光顯示高吸收選擇性，而對於相位差膜或有機EL發光元件由於紫外線而引起之劣化具有良好的抑制機能。又，本發明的光學膜，即使在耐候性試驗後對於波長405nm左右的短波長可視光亦顯示高吸收選擇性，可以保持抑制起因於紫外線或短波長可視光所引起之劣化。在顯示裝置中使用本發明的光學膜之情形， 可以賦與良好的顯示特性與耐久性。
1‧‧‧光選擇吸收層A
2‧‧‧光選擇吸收層B
5‧‧‧黏著劑層
6‧‧‧液晶單元
7、60‧‧‧接著劑層
7a‧‧‧黏著劑層
8‧‧‧保護膜
9‧‧‧偏光膜
10、10A、10B、10C‧‧‧光學積層體
30‧‧‧液晶單元
40‧‧‧光學膜
50、50a‧‧‧1/4波長相位差層
60‧‧‧接著劑層
70‧‧‧1/2波長相位差層
80‧‧‧正C層
第1圖係表示本發明的光學膜之層構成的一個例子。
第2圖係表示含有本發明的光學膜之光學積層體的層構成的一個例子。
第3圖係表示含有本發明的光學膜之光學積層體的層構成之一個例子。
第4圖係表示含有本發明的光學膜之光學積層體的層構成之一個例子。
[實施發明之最佳形態]
本發明的光學膜是含有：滿足下述式(1)之光選擇吸收層A及滿足下述式(2)之光選擇吸收層B。
A(350)≧0.5 (1)
A(405)≧0.5 (2)
〔式(1)中，A(350)表示在波長350nm的吸光度。
式(2)中，A(405)表示在波長405nm的吸光度。〕
<光選擇吸收層A>
光選擇吸收層A是滿足上述式(1)。A(350)的值較大表示在波長350nm的吸收較高，A(350)的值未滿0.5時，在波長350nm的吸收低，則抑制紫外線所致的相位差膜或有機EL元件等顯示裝置的劣化效果小。A(350)的值，較 佳的是0.5以上，更佳的是0.8以上，特佳的是1.0以上。
光選擇吸收層A是由含有樹脂(A1)及光選擇吸收化合物(B1)的樹脂組成物(以下，有稱為「樹脂組成物(1)」的情形。)所形成的層，樹脂(A1)是以選自纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及環烯烴系樹脂中之至少1種樹脂為佳。
作為纖維素系樹脂者，較佳的是纖維素酯系樹脂，即，纖維素中羥基的至少一部份是被乙酸酯化的樹脂，也可為一部份被乙酸酯化，一部份以其他的酸酯化之混合酯。纖維素酯系樹脂，較佳的是乙醯纖維素系樹脂。作為具體的乙醯纖維素系樹脂者，可以列舉：三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等。
乙醯纖維素的原料綿可以使用在發明協會公開技法2001-1745等習知的木漿或棉絨等纖維素原料。又，乙醯纖維素可以使用木材化學180至190頁(共立出版，右田他，1968年)等之中記載的方法而合成。
作為三乙醯基纖維素的市售品者，可以列舉：富士膜公司製的商品名「UV-50」、「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「UZ-TAC」等。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂者，可以列舉：甲基丙烯酸烷酯或丙烯酸烷酯的單聚物，或甲基丙烯酸烷酯與丙烯酸烷酯之共聚合物等。作為甲基丙烯酸烷酯者，具體可以列舉：甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙 烯酸丙酯等，作為丙烯酸烷酯者，具體的分別可以列舉：丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯等。在該等(甲基)丙烯酸系樹脂中，可以使用作為泛用的(甲基)丙烯酸系樹脂之市售品。作為(甲基)丙烯酸系樹脂者，也可使用稱為耐衝擊(甲基)丙烯酸樹脂者。
又，作為(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例者，也可以列舉：三菱螺螢股份公司的「ACRYPET VH」、「ACRYPET VRL 20A」等。
作為聚酯系樹脂者，係在主鏈中具有酯鍵結的重覆單元的聚合物樹脂，一般是藉由多元羧酸或其衍生物與多元醇或其衍生物之聚縮合而可以得到。
作為提供聚酯的多元羧酸或其衍生物者，可以列舉：對苯二甲酸、間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、2,6-萘二羧酸、二苯基二羧酸、二苯基碸二羧酸、二苯氧基乙烷二羧酸、二羧酸5-磺酸鈉等芳香族二羧酸；草酸、琥珀酸、己二酸、癸二酸、二聚酸、馬來酸、富馬酸等脂肪族二羧酸；1,4-環己烷二羧酸等脂環族二羧酸；對羥基苯甲酸等羥酸，及，此等的衍生物。作為二羧酸的衍生物者，例如可以列舉：對苯二甲酸二甲酯、對苯二甲酸二乙酯、對苯二甲酸2-羥基乙酯甲酯、2,6-萘二羧酸二甲酯、間苯二甲酸二甲酯、己二酸二甲酯、馬來酸二乙酯、二聚酸二甲酯等酯化物。其中，就成型性、處理性的觀點，以使用對苯二甲酸、間苯二甲酸、2,6-萘二羧酸、1,4-環己烷二羧酸，及此等的酯化物為佳。
作為提供聚酯的多元醇或其衍生物者，可以列舉：乙二醇、二乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、新戊二醇等脂肪族二羥基化合物；二乙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、聚四亞甲基二醇等聚氧基烷二醇；1,4-環己烷二甲醇、螺二醇等脂環族二羥基化合物、雙酚A、雙酚S等芳香族二羥基化合物，及此等的衍生物。其中，就成型性、處理性的觀點，以使用乙二醇、二乙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、1,4-環己烷二甲醇為佳。
作為聚酯系樹脂者，例如，可以列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸三亞甲酯、聚萘二甲酸三亞甲酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己烷二甲酯等。其中，以聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯為佳。
作為聚醯胺系樹脂者，係在作為主鏈的重覆單元中含有醯胺鍵結之聚合物樹脂，例如：芳香環骨架為藉由醯胺鍵結所鍵結的芳香族聚醯胺(aramid)或脂肪族骨架為藉由醯胺鍵結所鍵結的脂肪族聚醯胺等。一般可以藉由多元羧酸或其衍生物與多元胺之聚合反應等而得到。
作為提供聚醯胺的多元羧酸或其衍生物者，可以列舉：對苯二甲酸氯化物、2-氯-對苯二甲酸氯化物、間苯二甲酸二氯化物、萘二羰基氯化物、聯苯基二羰基氯化物、聯三苯基二羰基氯化物等。
作為提供聚醯胺的多元胺者，例如，可以列舉：4,4’-二胺基二苯基醚、3,4’-二胺基二苯基醚、4,4’-二胺基二苯基碸、3,3’-二胺基二苯基碸、2,2’-二(三氟甲基)-4,4’-二胺基聯苯、9,9-雙(4-胺基苯基)芴、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)芴、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙(4-胺基苯基)六氟丙烷等，較佳的，可以列舉：4,4’-二胺基二苯基碸、3,3’-二胺基二苯基碸、2,2’-二(三氟甲基)-4,4’-二胺基聯苯、9,9-雙(4-胺基苯基)芴、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)芴、1,4-環己烷二胺、1,4-降冰片烯二胺。
聚醯亞胺系樹脂是在重覆單元中含有醯亞胺鍵結的樹脂。作為聚醯亞胺系樹脂者，可以列舉：將二胺類與四羧酸二酐作為起始原料，藉由聚縮合而可以得到縮合型聚醯亞胺等。作為二胺類者，可以使用：芳香族二胺類、脂環式二胺類、脂肪族二胺類等。作為四羧酸二酐者，可以使用：芳香族四羧酸二酐、脂環式四羧酸二酐、非環式脂肪族四羧酸二酐等。二胺類及四羧酸二酐分別可以單獨使用，也可以併用2種以上。替代四羧酸二酐，也可以使用選自酸氯化物等四羧酸化合物類似物之四羧酸化合物當作起始原料。
作為環烯烴系樹脂者，例如，可以列舉：具有由降冰片烯或多環降冰片烯系單體類環狀烯烴(環烯烴)所成的單體單元之熱塑性樹脂(熱塑性環烯烴系樹脂)。如環烯烴系樹脂，也可以使用上述環烯烴的開環聚合物或2 種以上的環烯烴之開環共聚合物的加氫物，也可以是環烯烴與鏈狀烯烴，或具有如乙烯基的聚合性雙鍵之芳香族化合物等的加成聚合物。在環烯烴系樹脂中，也可以導入極性基。
使用環烯烴與鏈狀烯烴及/或具有乙烯基的芳香族化合物之共聚合物構成第一保護膜的情形，作為鏈狀烯烴者，可以列舉：乙烯或丙烯等，又作為具有乙烯基的芳香族化合物者，可以列舉：苯乙烯、α-甲基苯乙烯、核烷基取代苯乙烯等。此等共聚合物中，由環烯烴所成的單體單元可為50莫耳%以下，但較佳的是15至50莫耳%左右。特別是，使用環烯烴與鏈狀烯烴與具有乙烯的芳香族化合物之三元共聚合物構成第一保護膜之情形，由環烯烴所成的單體單元可為較上述者少的量。在該等三元共聚合物中，由鏈狀烯烴所成的單體單元，通常是5至80莫耳%，由具有乙烯基的芳香族化合物所成之單體單元，通常是5至80莫耳%。
作為環烯烴系樹脂者，可以使用適當的市售品。例如，可以列舉：聚塑膠股份公司所販售的「TOPAS」、由JSR股份公司所販售的「ARTON」、由日本ZEON股份公司所販售的「ZEONOR」及「ZEONEX」、由三井化學股份公司所販售的「APPEL」(以上，均為商品名)等。
樹脂(A1)在23℃的貯藏彈性率E，通常是在100MPa以上，較佳的是500MPa以上，更佳的是1000MPa以上，以在100000MPa以下為佳。若樹脂(A1)的貯藏彈 性率高，則可以抑制本發明的光學膜放置在高溫環境時的收縮或尺寸變化。
光選擇吸收化合物(B1)是在波長350nm之吸收高的化合物，例如可以列舉紫外線吸收劑。作為紫外線吸收劑者，雖無特別限定，但例如，可以列舉：羥基二苯甲酮系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、三系紫外線吸收劑等有機系紫外線吸收劑。更具體的，可以列舉：5-氯-2-(3,5-二-二級-丁基-2-羥基苯基)-2H-苯并三唑、(2-2H-苯并三唑-2-基)-6-(直鏈及側鏈十二烷基)-4-甲基酚(methylphenol)、2-羥基-4-苄基氧基二苯甲酮、2,4-苄基氧基二苯甲酮等。
紫外線吸收劑也可以使用市售品，例如，作為三系紫外線吸收劑者，可以列舉：Chemipro Kasei股份公司製的「Kemisorb 102」、ADEKA股份公司製的「ADK STAB LA 46」、「ADK STAB LAF 70」、日本BASF公司製的「TINUVIN 109」、「TINUVIN 171」、「TINUVIN 234」、「TINUVIN 326」、「TINUVIN 327」、「TINUVIN 328」、「TINUVIN 928」、「TINUVIN 400」、「TINUVIN 460」、「TINUVIN 405」、「TINUVIN 477」(任一者均為商品名)等。作為苯并三唑系紫外線吸收劑者，可以列舉：ADEKA股份公司製的「ADK STAB LA 31」及「ADK STAB LA 36」(任一者均為商品名)、住化Chemtex股份公司製的「Sumisorb 200」、「Sumisorb 250」、「Sumisorb 300」、 「Sumisorb 340」及「Sumisorb 350」(任一者均為商品名)、Chemipro Kasei股份公司製的「Kemisorb 74」、「Kemisorb 79」及「Kemisorb 279」(任一者均為商品名)、BASF公司製的「TINUVIN 99-2」、「TINUVIN 900」及「TINUVIN 928」(任一者均為商品名)等。
紫外線吸收劑也可以併用2種以上。
又，紫外線吸收劑也可以是無機系紫外線吸收劑。作為無機系紫外線吸收劑者，可以列舉：氧化鈦、氧化鋅、氧化銦、氧化錫、滑石、高嶺土、碳酸鈣、氧化鈦系複合氧化物、氧化鋅系複合氧化物、ITO(摻錫氧化銦)、ATO(摻銻氧化錫)等。作為氧化鈦系複合氧化物者，例如，可以列舉：二氧化矽、經摻雜氧化鋁的氧化鋅等。此等的無機系紫外線吸收劑可以使用1種，或併用2種以上。又，也可以併用有機系紫外線吸收劑與無機系紫外線吸收劑。
相對於樹脂(A1)100質量份，光選擇吸收化合物(B1)的含量通常是0.01至20質量份，較佳的是0.05至15質量份，更佳的是0.1至10質量份。
樹脂組成物(1)，進一步，也可以含有：溶劑、塑劑、有機酸、色素、帶電防止劑、界面活性劑、滑劑、難燃劑、填充劑、橡膠粒子、相位差調整劑。
光選擇吸收層A是使用習知的成形加工法即可由樹脂組成物(1)形成之膜。作為成形加工法者，可以列舉：壓縮成形法、轉移成形法、射出成形法、擠壓成形法、吹塑成形法、粉末成形法、FRP成形法、澆鑄塗佈法(例如， 流延法)、壓延成形法、熱壓法等。由於可提高得到的膜之平滑性，而得到良好的光學均一性，故以擠壓成形法或澆鑄塗佈法為佳。成形條件是因應所使用的樹脂組成或種類而可以適當地設定。
光選擇吸收層A的厚度，通常是1至500μm，較佳的是5至300μm，更佳的是10至150μm，又更佳的是10至100μm，特佳的是10至50μm。光選擇吸收層A，可以是未延伸者，也可以是已延伸者。光選擇吸收層A為已延伸的情形，可以是單軸延伸，也可以是雙軸延伸。延伸倍率，通常是1.01至10倍，較佳的是1.01至6倍。有關延伸方向，可以是在長度方向、寬度方向、厚度方向、斜方向等，各個方向或在次元中進行。
光選擇吸收層A在23℃的貯藏彈性率E’，通常是在100MPa以上，較佳的是300MPa以上，更佳的是500MPa以上，又更佳的是1000MPa以上，特佳的是3000MPa以上。下限雖是無制限，但通常是在100000MPa以下。
光選擇吸收層A在23℃的貯藏彈性率，可使用實施例中記載的方法測定。
<光選擇吸收層B>
光選擇吸收層B是滿足上述式(2)。A(405)的值較大則表示在波長405nm的吸收較高，A(405)的值未達0.5時，在波長405nm的吸收低，則抑制紫外線所致的相位差膜或 有機EL元件等顯示裝置之劣化效果小。A(405)的值，較佳的是0.6以上，更佳的是0.8以上，特佳的是1.0以上。下限雖無特別制限，但通常是在10.0以下。
光選擇吸收層B，只要滿足上述式(2)即可為形成光學膜的任何層，但以具有光選擇吸收機能的黏著劑層為佳。具有光選擇吸收機能的黏著劑層係由黏著劑組成物(以下，有稱為「黏著劑組成物(2)」之情形。)所形成。
光選擇吸收層B的厚度，通常是0.1μm至50μm，較佳的是1μm至30μm，更佳的是4μm至20μm。
黏著劑組成物(2)是以含有(甲基)丙烯酸系樹脂(a)、交聯劑(b)及光選擇吸收化合物(c)之黏著劑組成物為佳。
<(甲基)丙烯酸系樹脂(a)>
(甲基)丙烯酸系樹脂(a)是將源自(甲基)丙烯酸酯的結構單元當作主成分(較佳的是含有50質量%以上)之聚合物為佳。源自(甲基)丙烯酸酯的結構單元，也可含有一種以上的源自(甲基)丙烯酸酯以外之單體的結構單元(例如，源自具有極性官能基之單體的結構單元)。又本說明書中，(甲基)丙烯酸係指丙烯酸或甲基丙烯酸的任一者，此外，所謂(甲基)丙烯酸酯等之時的「(甲基)」也有相同的意思。
作為(甲基)丙烯酸酯者，可以列舉：下述式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯
〔式(I)中，R1表示氫原子或甲基，R2表示碳數1至14的烷基或碳數7至20的芳烷基，該烷基或該芳烷基的氫原子，也可以用碳數1至10的烷氧基取代。〕
式(I)中，R2較佳的是碳數1至14的烷基，更佳的是碳數1至8的烷基。
作為式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯者，可以列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等(甲基)丙烯酸之直鏈狀烷酯；(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸異戊酯等(甲基)丙烯酸之分枝狀烷酯；(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸環十二烷酯、(甲基)丙烯酸甲基環己酯、(甲基)丙烯酸三甲基 環己酯、(甲基)丙烯酸三級丁基環己酯、α-乙氧基丙烯酸環己酯等(甲基)丙烯酸之含有脂環骨架之烷酯；(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸之含有芳香環骨架之酯；等。
又，也可以列舉：在(甲基)丙烯酸烷酯之烷基導入取代基之含有取代基的(甲基)丙烯酸烷酯。含有取代基的(甲基)丙烯酸烷酯之取代基係取代烷基的氫原子之基，其具體例包含：苯基、烷氧基、苯氧基。作為含有取代基之(甲基)丙烯酸烷酯者，具體的，可以列舉：(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基聚(乙二醇)等。
此等(甲基)丙烯酸酯，除了可以分別單獨使用之外，也可以使用不同的複數種。
(甲基)丙烯酸系樹脂(a)係以含有源自均聚物的玻璃轉移溫度Tg為未達0℃的丙烯酸烷酯(a1)之結構單元，及源自均聚物的Tg為0℃以上的丙烯酸烷酯(a2)之結構單元為佳。含有源自丙烯酸烷酯(a1)的結構單元及源自丙烯酸烷酯(a2)的結構單元，係有利於提高黏著劑層的高溫耐久性。(甲基)丙烯酸烷酯的均聚物之Tg，可以採用例如POLYMER HANDBOOK(Willey-Interscience)等的文獻值。
作為丙烯酸烷酯(a1)的具體例者，可以列舉： 丙烯酸乙酯、丙烯酸正及異丙酯、丙烯酸正及異丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正及異己酯、丙烯酸正庚酯、丙烯酸正及異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正及異壬酯、丙烯酸正及異癸酯、丙烯酸正十二烷酯等烷基之碳數為2至12左右之丙烯酸烷酯等。
丙烯酸烷酯(a1)，可以只單獨使用1種也可以併用2種以上。其中，從將光選擇吸收層B積層在其他層時的可追隨性或再加工性之觀點而言，以丙烯酸正丁酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸2-乙基己酯等為佳。
丙烯酸烷酯(a2)是丙烯酸烷酯(a1)之外的丙烯酸烷酯。作為丙烯酸烷酯(a2)的具體例者，可以列舉：丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異冰片酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸三級丁酯等。
丙烯酸烷酯(a2)，可以只單獨使用1種也可以併用2種以上。其中，從高溫耐久性的觀點而言，丙烯酸烷酯(a2)是以含有丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異冰片酯等為佳，以含有丙烯酸甲酯為更佳。
源自以式(I)所示的(甲基)丙烯酸酯結構單元，在(甲基)丙烯酸系樹脂(a)所含有的全結構單元之中，係以50質量%以上為佳，以60至95質量%為較佳，以65至95質量%以上為更佳。
作為源自(甲基)丙烯酸酯以外的單體之結構單元，係以源自具有極性官能基之單體的結構單元為佳，以源自具有極性官能基之(甲基)丙烯酸酯的結構單元為更 佳。作為極性官能基者，可以列舉：羥基、羧基、有取代或無取代胺基、環氧基等雜環基等。
作為具有極性官能基的單體者，可以列舉：(甲基)丙烯酸1-羥基甲酯、(甲基)丙烯酸1-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸1-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸1-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸1-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥基己酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸3-羥基己酯、(甲基)丙烯酸3-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸4-羥基己酯、(甲基)丙烯酸4-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸2-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸5-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸5-羥基己酯、(甲基)丙烯酸5-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸5-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸5-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸6-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸6-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸7-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸7-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸7-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸8-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸8-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸8-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸8-羥基 十二烷酯、(甲基)丙烯酸9-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸9-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十二烷酯、丙烯酸10-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸14-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸14-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸15-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸15-羥基十七烷酯等具有羥基之單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基烷酯(例如，(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯)、馬來酸、馬來酸酐、富馬酸、巴豆酸等具有羧基的單體；丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、己內酯改質丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、2,5-二氫呋喃等具有雜環基之單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺 基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯等有取代或無取代胺基之單體。
其中，從(甲基)丙烯酸酯聚合物與交聯劑的反應性觀點而言，以具有羥基的單體或具有羧基的單體為佳，以含有羥基的單體及具有羧基的單體之任一種為更佳。
作為具有羥基的單體者，係以丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸3-羥基丙酯、丙烯酸4-羥基丁酯、丙烯酸5-羥基戊酯、丙烯酸6-羥基己酯為佳。特別是以使用丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸4-羥基丁酯及丙烯酸5-羥基戊酯可以得到良好的耐久性。
作為具有羧基的單體者，係以使用丙烯酸為佳。
從積層在黏著劑層的外表面而可以防止隔離膜的剝離力亢進之觀點而言，(甲基)丙烯酸系樹脂(a)，實質上是以不含源自具有胺基之單體的結構單元者為佳。在此實質上不含的意思，係指在構成(甲基)丙烯酸系樹脂(a)的全結構單元100質量份中，為0.1質量份以下。
源自具有極性官能基的單體結構單元之含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)的全結構單元100質量份，較佳的是20質量份以下，較佳的是0.5質量份以上15質量份以下，更佳的是0.5質量份以上10質量份以下，特佳的是1質量份以上7質量份以下。
源自具有芳香族基的單體之結構單元之含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)的全結構單元100質量份，較佳的是20質量份以下，更佳的是4質量份以上20質量 份以下，又更佳的是4質量份以上16質量份以下。
作為源自(甲基)丙烯酸酯之外的單體之結構單元者，也可以列舉：源自苯乙烯系單體之結構單元、源自乙烯基系單體之結構單元、源自在分子內具有複數的(甲基)丙烯醯基的單體之結構單元、源自(甲基)丙烯醯胺系單體之結構單元等。
作為苯乙烯系單體者，可以列舉：苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等鹵化苯乙烯；硝基苯乙烯；乙醯基苯乙烯；甲氧基苯乙烯；及，二乙烯基苯。
作為乙烯基系單體者，可以列舉：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、酪酸乙烯酯、2-乙基己酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等脂肪酸乙烯酯；氯化乙烯、溴化乙烯等鹵化乙烯；偏二氯乙烯等偏鹵化乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯啶酮、乙烯基咔唑等含氮雜芳香族乙烯；丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯等共軛二烯；及，丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈。
作為在分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基的單體者，可以列舉：1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙 二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等在分子內具有2個(甲基)丙烯醯基之單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等分子內具有3個(甲基)丙烯醯基之單體。
作為(甲基)丙烯醯胺系單體者，可以列舉：N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(5-羥基戊基)(甲基)丙烯醯胺、N-(6-羥基己基)(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-側氧基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(2-側氧基-1-咪唑烷基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸、N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-乙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-丙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(1-甲基乙氧基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(1-甲基丙氧基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(2-甲基丙氧基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、N-(2-丁氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(1,1-二甲基乙氧基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺等。其中，以N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、 N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺及N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺為佳。
(甲基)丙烯酸樹脂(a)的重量平均分子量(Mw)，較佳的是50萬至250萬。重量平均分子量為50萬以上時，於高溫環境中黏著劑層的耐久性會提高，容易抑制被著體與黏著劑層之間的漂浮剝離，或黏著劑層的凝集破壞等的不適合現象。重量平均分子量為250萬以下時，將黏著劑組成物加工，例如作成薄片狀(塗佈在基材)時的塗佈性觀點方面有利。從黏著劑層的耐久性及黏著劑組成物的塗佈性兼具的觀點而言，重量平均分子量是以60萬至180萬為佳，更佳的是70萬至170萬，特佳的是100萬至160萬。又，以重量平均分子量(Mw)與數平均分子量(Mn)之比所表示的分子量分布(Mw/Mn)，通常是2至10，較佳的是3至8，更佳的是3至6。重量平均分子量可以藉由凝膠滲透層析而分析，係標準聚苯乙烯換算值。
(甲基)丙烯酸樹脂(a)，係溶解在乙酸乙酯中，作成濃度為20質量%的溶液時，25℃的黏度以20Pa．s以下為佳，以在0.1至15Pa．s為更佳。在該範圍的黏度時，從將黏著劑組成物(2)塗佈在基材之際的塗佈性觀點而言為有利。又，黏度可以是藉由Brookfield黏度計而測定。
(甲基)丙烯酸樹脂(a)的玻璃轉移溫度(Tg)，例如是-60至20℃，較佳的是-50至15℃，更佳的是-45至10℃，特佳的也可以是-40至0℃。Tg是在20℃以下時，會有利於提高對黏著劑層的被著體基材之濕濡性，在-60 ℃以上時，有利於黏著劑層的耐久性之提高。又，玻璃轉移溫度是可以藉由示差掃描熱量計(DSC)來測定。
(甲基)丙烯酸樹脂(a)，例如，藉由：溶液聚合法、塊狀聚合法、懸濁聚合法、乳化聚合法等習知方法即可製造，特別是以溶液聚合法為佳。作為溶液聚合法者，例如，可以列舉：將單體及有機溶媒混合，於氮氣環境下，添加熱聚合起始劑，於40至90℃，較佳的是在50至80℃左右之溫度條件下，攪拌3至15小時左右的方法。為了控制反應，於聚合中，也可以連續地或間歇地添加單體或熱聚合起始劑。該單體或熱起始劑也可以是添加在有機溶媒中的狀態。
作為聚合起始劑者，係使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑等。作為光聚合起始劑者，可以列舉：4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。作為熱聚合起始劑者，可以列舉：2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲酯戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥基甲基丙腈)等偶氮系化合物；月桂基過氧化物、三級丁基氫過氧化物、過氧化苯甲醯、三級丁基過氧化苯甲酸酯、異丙苯氫過氧化物、二異丙基過氧化二碳酸酯、二丙基過氧化二碳酸酯、三級丁基過氧化新癸酸酯、三級丁基過氧化三甲基乙酸酯、(3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物等有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等無機過氧化物等。又， 也可以使用併用過氧化物與還元劑之氧化還原系起始劑等。
相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂之單體總量100質量份，聚合起始劑的比率係0.001至5質量份左右。(甲基)丙烯酸系樹脂的聚合，也可以使用藉由活性能量線(例如紫外線等)的聚合法。
作為有機溶媒者，可以列舉：甲苯、二甲苯等芳香族烴類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；丙醇、異丙醇等脂肪族醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等。
在黏著劑組成物(2)100質量%中，(甲基)丙烯酸系樹脂(a)的含量通常是60質量%至99.9質量%，較佳的是70質量%至99.5質量%，更佳的是80質量%至99質量%。
<交聯劑(b)>
交聯劑(b)是與(甲基)丙烯酸系樹脂(a)中的極性官能基(例如羥基、胺基、羧基、雜環基等)反應。交聯劑(b)是與(甲基)丙烯酸系樹脂等形成交聯結構，並形成有利於耐久性或再加工性的交聯結構。
作為交聯劑(b)者，可以列舉：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑等，特別是從黏著劑組成物(2)的適用期及黏著劑層的耐久性，交聯速度等之觀點而言，以異氰酸酯系交聯劑為 佳。
作為異氰酸酯系化合物者，係以分子內至少具有2個異氰酸基(-NCO)之化合物為佳，例如，可以列舉：脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯等)、脂環族異氰酸酯系化合物(例如異佛爾酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯)、芳香族異氰酸酯系化合物(例如伸甲苯基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等)等。又交聯劑(b)，也可以是前述異氰酸酯化合物與多元醇化合物之加成物(加成體)[例如，藉由甘油、三羥甲基丙烷等之加成物]，與三聚異氰酸酯化合物、縮二脲型化合物、聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等的加成反應而得的胺基甲酸酯預聚合物型的異氰酸酯化合物等衍生物。交聯劑(B)可以單獨或組合二種以上而使用。其中，代表性的可以列舉：芳香族異氰酸酯系化合物(例如伸甲苯基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯)，脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯)或此等與多元醇化合物(例如，甘油、三羥甲基丙烷)之加成物或三聚異氰酸酯體。交聯劑(b)是芳香族異氰酸酯系化合物及/或此等與多元醇化合物，或三聚異氰酸酯的加成體時，由於有利於最適交聯密度(或交聯結構)的形成，而能提高黏著劑層的耐久性。特別的是，甲苯二異氰酸酯系化合物及/或此等與多元醇化合物之加成體時，例如即使在偏光板使用黏著劑層之情形 等，也可以提高耐久性。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)100質量份，交聯劑(b)的含量通常是0.01至15質量份，較佳的是0.05至10質量份，更較佳的是0.1至5質量份。
<光選擇吸收化合物(c)>
光選擇吸收化合物(c)是選擇性地吸收波長405nm的光之化合物，以滿足式(5)的化合物為佳，又以滿足式(6)的化合物為更佳。
ε(405)≧20 (5)
〔式(5)中，ε(405)表示在波長405nm化合物的克吸光係數。克吸光係數的單位是L/(g．cm)。〕
ε(405)/ε(440)≧20 (6)
〔式(6)中，ε(405)表示在波長405nm化合物的克吸光係數，ε(440)是表示在波長440nm化合物的克吸光度係數。〕
又，克吸光度係數是以在實施例中記載的方法來測定。
ε(405)值較大的化合物較容易吸收波長405nm的光，易呈現抑制由於紫外線或短波長的可視光所引起之劣化的機能。ε(405)的值未達20L/(g．cm)時，為了對於相位差膜或有機EL發光元件呈現抑制由於紫外線或短波長的可視光引起之劣化的機能，故光吸收選擇層B中的光選擇吸收化合物(c)之含量會増大。光選擇吸收化合物(c)的含量増大時，光選擇吸收化合物(c)會滲出或分散不均 勻而有光吸收機能不足之情形。ε(405)的值以在20L/(g．cm)以上為佳，在30L/(g．cm)以上更佳，以40L/(g．cm)以上又更佳，通常是在500L/(g．cm)以下。
ε(405)/ε(440)的值較大之化合物，不會阻礙顯示裝置的色彩呈現，而吸收405nm左右之光可以抑制相位差膜或有機EL元件等顯示裝置之光劣化。ε(405)/ε(440)的值以在20以上為佳，40以上更佳，70以上又更佳，80以上為特佳。
又，光選擇吸收化合物(c)以在分子內含有部花青素結構的化合物為佳。作為含有部花青結構之化合物者，是在分子內含有-(N-C=C-C=C)-所示之部分結構的化合物，例如，可以列舉：部花青素系化合物、花青素(cyanine)系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物等。光選擇吸收化合物(c)是以部花青素系化合物、花青素系化合物或苯并三唑系化合物為佳。
作為光選擇吸收化合物(c)者，係以式(I)所示的化合物(以下，有稱為化合物(I)之情形。)為佳。
〔式中，R1及R5是各自獨立地表示氫原子、可具有取代基的碳數1至25之烷基、可具有取代基的碳數7至15之芳烷基、碳數6至15的芳基、雜環基，該烷基或芳烷基所含有的-CH2-，也可以被取代成-NR1A-、-CO-、-SO2-、-O- 或-S-。
R1A表示是氫原子或碳數1至6的烷基。
R2、R3及R4是各自獨立地表示：氫原子、可具有取代基的碳數1至6之烷基、可具有取代基的芳香族烴基或可具有取代基的芳香族雜環基，在該烷基中所含的-CH2-，也可被取代成-NR1B-、-CO-、-SO2-、-O-或-S-。
R1B表示氫原子或碳數1至6的烷基。
R6及R7是各自獨立地表示氫原子、碳數1至25的烷基或電子吸引性基，但R6及R7也可以互相連結而形成環結構。
R1及R2也可以互相連結而形成環結構，R2及R3可以互相連結而形成環結構，R2及R4也可以互相連結而形成環結構，R3及R6也可以互相連結而形成環結構。〕
作為R1及R5所示的碳數1至25的烷基者，可以列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、2-氰基丙基、正丁基、三級丁基、二級丁基、正戊基、正己基、1-甲基丁基、3-甲基丁基、正辛基、正癸基、2-己基-辛基等。
作為R1及R5所示的碳數1至25之烷基可具有的取代基者，可以列舉：以下群A中記載的基。
群A：可以列舉：硝基、羥基、羧基、磺基、氰基、胺基、鹵原子、碳數1至6的烷氧基、碳數1至12的烷基矽基、碳數2至8的烷基羰基、*-Ra1-(O-Ra2)t1-Ra3(Ra1及Ra2是各自獨立地表示碳數1至6的烷二基，Ra3表示碳數1至6的烷基，s1表示1至3的整數。)所示之基等。
作為碳數1至12的烷基矽基者，可以列舉：甲基矽基、乙基矽基、丙基矽基等單烷基矽基；二甲基矽基、二乙基矽基、甲基乙基矽基等的二烷基矽基；三甲基矽基、三乙基矽基、三丙基矽基等三烷基矽基。
作為碳數2至8的烷基羰基者，可以列舉：甲基羰基、乙基羰基等。
作為鹵原子者，可以列舉：氟原子、氯素原子、溴原子等。
作為R1及R5所示的碳數7至15之芳烷基者，可以列舉：苄基、苯基乙基等。作為芳烷基中所含的-CH2-為被置換成-SO2-或-COO-之基者，可以列舉：2-苯基乙酸乙酯等。
作為R1及R5所示的碳數7至15之芳烷基可具有的取代基者，可以列舉：在上述群A中記載的基。
作為R1及R5所示的碳數6至15之芳基者，可以列舉：苯基、萘基、蒽基等。
作為R1及R5所示的碳數6至15之芳基可具有的取代基者，可以列舉：上述群A中記載的基。
作為R1及R5所示的碳數6至15之雜環基者，可以列舉：吡啶基、吡咯啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、噁唑基、吡咯基、噻唑基及呋喃基等碳數3至9之芳香族雜環基。
作為R1A及R1B所示的碳數1至6之烷基者，可以列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、三級- 丁基、二級-丁基、正戊基、正己基等。
作為R2、R3及R4所示的碳數1至6之烷基者，可以列舉與R1B所示的碳數1至6之烷基相同者。
作為R2、R3及R4所示的碳數1至6之烷基可具有的取代基者，可以列舉：在上述群A中記載的基。
作為R2、R3及R4所示的芳香族烴基者，可以列舉：苯基、萘基、蒽基等碳數6至15的芳基；苄基、苯基乙基等碳數7至15之芳烷基。
作為R2、R3及R4所示的芳香族烴基可具有的取代基者，可以列舉：在上述群A中記載的基。
作為R2、R3及R4所示的芳香族雜環者，可以列舉：吡啶基、吡咯啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、噁唑基、吡咯基、噻唑基及呋喃基等碳數3至9之芳香族雜環基。
作為R2、R3及R4所示的芳香族雜環可具有的取代基者，可以列舉：在上述群A中記載的基。
作為R6及R7所示的碳數1至25之烷基者，可以列舉：與R1及R5所示的碳數1至25之烷基相同者。
作為R6及R7所示的碳數1至25的烷基可具有的取代基者，可以列舉：在上述群A中記載的基。
作為R6及R7所示的電子吸引性基者，例如，可以列舉：氰基、硝基、鹵原子、經鹵原子取代的烷基、在式(I-1)所示的基。
*-X1-R11 (I-1)
〔式中，R11表示氫原子或碳數1至25的烷基，該烷基中所含之亞甲基的至少1個可置換成氧原子。
X1表示：-CO-、-COO-、-OCO-、-CS-、-CSS-、-COS-、-NR12CO-或CONR13-。
R12及R13是各自獨立地表示氫原子、碳數1至6的烷基或苯基。〕
作為鹵原子者，可以列舉：氟原子、氯原子、溴原子，碘原子。
作為經鹵原子取代的烷基者，例如，可以列舉：三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟二級丁基、全氟三級丁基、全氟戊基及全氟己基等的全氟烷基等。作為以鹵原子所取代的烷基之碳數，通常是1至25。
作為R11所示的碳數1至25之烷基者，可以列舉：與R1及R5所示的烷基相同者。
作為R12及R13所示的碳數1至6之烷基者，可以列舉：與R1A所示的碳數1至6所示的烷基相同者。
R6及R7可相互連結形成環結構，作為由R6及R7形成的環結構者，例如，可以列舉：米氏酸(Meldrum's acid)結構、巴比妥酸(barbituric acid)結構、雙甲酮(Dimedone)結構等。
作為R2及R3相互鍵結而形成的環結構者，係含有與R2鍵結的氮原子之含氮環結構，例如，可以列舉：4至14員環的含氮雜環。R2及R3相互連結而形成的環結 構，也可以是單環，也可以是多環。具體的，可以列舉：吡啶環、吡咯啉環、咪唑烷(Imidazolidine)環、咪唑啉(Imidazoline)環、噁唑啉環、噻唑啉環、哌啶環、嗎啉環、哌嗪環、吲哚環、異吲哚環等。
作為R1及R2相互鍵結而形成的環結構者，係含有與R1及R2鍵結的氮原子之含氮環結構，例如，可以列舉：4至14員環(較佳的是4至8員環)之含氮雜環。R1及R2相互連結而形成的環結構，可以是單環，也可以是多環。具體的，可以列舉：與R2及R3相互連結而形成的環結構相同者。
作為R2及R4相互鍵結而形成的環結構者，可以列舉：4至14員環的含氮環結構，而是以5員環至9員環的含氮環結構為佳。R2及R4相互鍵結而形成的環結構，可以是單環，也可以是多環。此等的環也具有取代基，作為此種環結構者，可以列舉：與前述由R2和R3形成的環結構之例示者相同者。
作為R3及R6相互連結而形成的環結構者，可以列舉：R3-C=C-C=C-R6為形成環骨架之環結構者。例如，苯基等。
作為R2與R3相互連結而形成環結構的式(I)所示之化合物者，可以列舉式(I-A)所示的化合物，作為R2及R4相互連結而形成環結構的式(I)所示之化合物者，可以列舉式(I-B)所示之化合物等。
〔式(I-A)、式(I-B)中，R1、R3、R4、R5、R6及R7分別表示與上述相同的意義。
環W1及環W2是各自獨立地表示含氮環。〕
環W1及環W2表示含有氮原子作為環的結構單元的含氮環。環W1及環W2，可以是單環，也可以是多環，也可以含有氮以外的雜原子作為環的結構單元。環W1及環W2是各自獨立，以5員環至9員環的環為佳。
式(I-A)所示的化合物，係以式(I-A-1)所示的化合物為佳。
〔式(I-A)中，R1、R4、R5、R6及R7，分別表示與上述相同意義。
A1表示-CH2-、-O-、-S-或-NR1D-。
R14及R15是各自獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基。
R1D表示氫原子或碳數1至6的烷基。〕
式(I-B)所示的化合物，係以式(I-B-1)所示的 化合物及以式(I-B-2)所示的化合物為佳。
〔式(I-B-1)中，R1、R6及R7分別是與上述相同的意義。
R16是各自獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基、芳基。〕
〔式(I-B-2)中，R3、R5、R6及R7分別表示與上述相同的意義。
R30表示氫原子、氰基、硝基、鹵原子、巰基、胺基、碳數1至12的烷基、碳數1至12的烷氧基、碳數6至18的芳香族烴基、碳數2至13的醯基、碳數2至13的醯氧基或碳數2至13的烷氧基羰基。
R31表示碳數1至12的烷基、碳數1至12的烷氧基、巰基、碳數1至12的烷基硫基、可具有取代基的胺基或雜環基。〕
作為R30所示的鹵原子者，可以列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
作為R30所示之碳數2至13之醯基者，可以列舉：乙 醯基、丙醯基及丁醯基等。
作為R30所示的碳數2至13的醯氧基者，可以列舉：甲基羰基氧基、乙基羰基氧基、丙基羰基氧基、丁基羰基氧基等。
作為R30所示的碳數2至13的烷氧基羰基者，可以列舉：甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、丁氧基羰基等。
作為R30所示的碳數6至18的芳香族烴基者，可以列舉：苯基、萘基、聯苯基等的碳數6至18之芳基；苄基、苯基乙基等的碳數7至18的芳烷基。
作為R30所示的碳數1至12之烷基者，可以列舉：與R14所示的碳數1至12之烷基相同者。
作為R30所示的碳數1至12的烷氧基者，可以列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基等。
R30是以碳數1至12的烷基、碳數1至12的烷氧基、胺基或巰基為佳。
作為R31所示的碳數1至12之烷基者，可以列舉：與R14所示的碳數1至12的烷基相同者。
作為R31所示的碳數1至12的烷氧基者，可以列舉：與R30所示的碳數1至12的烷氧基相同者。
作為R31所示的碳數1至12的烷基硫基者，可以列舉：甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、丁基硫基、戊基硫基、己基硫基等。
作為R31所示的可具有取代基之胺基者，可以列舉： 胺基；N-甲基胺基、N-乙基胺基等經1個碳數1至8的烷基所取代之胺基；N,N-二甲基胺基、N,N-二乙基胺基、N,N-甲基乙基胺基等經2個碳數1至8之烷基所取代之胺基；等。
作為R31所示的雜環者，可以列舉：吡咯啶基、哌啶基、嗎啉基等碳數4至9的含氮雜環基等。
作為R3及R5互相連結形成環結構，且R2及R4互相鍵結形成環結構之式(I)所示的化合物者，可以列舉：式(I-C)所示的化合物等。
〔式(I-C)中，R1、R5及R7表示與上述相同意義。
R21、R22是各自獨立地表示氫原子、碳數1至12的烷基或羥基。
X2及X3是各自獨立，表示-CH2-或-N(R25)=。
R25表示氫原子、碳數1至25的烷基、可具有取代基之芳香族烴基。〕
作為R25所示碳數1至25的烷基者，可以列舉：與R1所示的碳數1至25的烷基相同者。
作為R25所示的芳香族烴基者，可以列舉：苯基、萘基等芳基：苄基、苯基乙基等芳烷基：聯苯基等，以碳數6至20的芳香族烴基為佳。作為R25所示的芳香族烴基可 具有的取代基者，可以列舉：羥基等。
R3及R6是各自獨立，以電子吸引性基為佳。
作為R1及R2互相連結形成環結構，且R3及R6互相鍵結形成環結構的式(I)所示的化合物者，可以列舉：式(I-D)所示的化合物等。
〔式(I-D)中，R4、R5、R7表示是與上述相同意義。
R25、R26、R27及R28是各自獨立地表示氫原子、可具有取代基的碳數1至12之烷基、羥基、芳烷基。〕
作為R25、R26、R27及R28所示的碳數1至12的烷基者，可以列舉：與R1A及R1B所示的碳數1至12之烷基相同者。作為R25、R26、R27及R28所示的碳數1至12之烷基可具有的取代基者，可以列舉：羥基。
作為R25、R26、R27及R28所示的芳烷基者，可以列舉：苄基、苯基乙基等碳數7至15之芳烷基。
作為R6及R7相互連結形成環結構的化合物(I)者，可以列舉：式(I-E)所示的化合物等。
〔式(I-E)中，R1、R3、R4、R5是分別表示與上述相同的意 思。
環W3表示環狀化合物。
環W3是5員環至9員環的環，也可含有氮原子、氧原子、硫原子等雜原子作為環的結構單元。
式(I-E)所示的化合物，係以式(IE-1)所示的化合物為佳。
〔式(I-C-1)中，R1、R2、R3及R5，分別表示與上述相同意義。
R17、R18、R19、Rq是各自獨立地表示氫原子或可具有取代基之碳數1至12的烷基、芳烷基、芳基，該烷基或芳烷基中所含的-CH2-基也可被取代成-NR1D-、-C(=O)-、-C(=S)-、-O-、-S-，R17及R18可互相連結而形成環結構，R18及R19也可以互相連結而形成環結構，R19及Rq也可以互相連結而形成環結構。m、p、q是各個獨立表示0至3的整數。〕
作為式(I)所示的化合物者，可以列舉以下的化合物。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)100質量份，光選擇吸收化合物(c)的含量通常是0.01至20質量份，較佳的是0.05至15質量份，更佳的是0.1至10質量份，又更佳的是0.1至5質量份。
黏著劑組成物(2)，更可含有矽烷化合物(d)。 作為矽烷化合物(d)者，例如，可以列舉：乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等。
矽烷化合物(d)也可以是聚矽氧寡聚物。聚矽氧寡聚物的具體例係如下述以單體相互間的組合形式來表示。
3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有巰基丙基之寡聚物；巰基甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有巰基甲基的寡聚物；3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚合物、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚合物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚合物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚合物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚合物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚合物、3- 環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚合物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚合物等含有3-環氧丙氧基丙基的共聚合物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有甲基丙烯醯氧基丙基的寡聚物；3-丙烯醯基氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯基氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯基氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯基氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯基氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯基氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯基氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯基氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有丙烯醯基氧基丙基的寡聚物；乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四乙氧 基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有乙烯基的寡聚物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚合物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚合物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚合物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚合物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚合物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚合物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚合物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚合物等含有胺基之共聚合物等。
矽烷化合物(d)也可以是下述式(d1)所示的矽烷化合物。黏著劑組成物(2)含有下述式(d1)所示的矽烷化合物時，由於對於基材或玻璃、透明電極等可以更提高密著性，可以形成在高溫環境下不易產生漂浮剝離或發泡等之耐久性良好的光選擇吸收層B。
(式中，B表示碳數1至20的烷二基或碳數3至20的二價脂環式烴基，構成前述烷二基及前述脂環式烴基的-CH2-，也可被取代成-O-或-CO-，Rd7表示碳數1至5的烷基，Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12是各自獨立地表示碳數1至5的烷 基或碳數1至5的烷氧基。)
式(d1)中，B表示：亞甲基、伸亞基、三亞甲基、四亞甲基、六亞甲基、七亞甲基、八亞甲基等碳數1至20之烷二基；伸環丁基(例如1,2-伸環丁基)、伸環戊基(例如1,2-伸環戊基)、伸環己基(例如1,2-伸環己基)、伸環辛基(例如1,2-伸環辛基)等碳數3至20之二價脂環式烴基；或構成此等烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-係被取代成-O-或-CO-之基。較佳的B是碳數1至10的烷二基。Rd7表示甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、二級丁基、三級丁基、戊基等碳數1至5之烷基；Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12是各自獨立地表示前述R21中例示的碳數1至5之烷基、或甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、二級丁氧基、三級丁氧基等碳數1至5之烷氧基。較佳的Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12是各自獨立為碳數1至5之烷氧基。此等矽烷化合物(d)可以單獨或組合二種以上使用。
作為具體的前述式(d1)所示的矽烷化合物者，例如，可以列舉：(三甲氧基矽基)甲烷、1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三乙氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,3-雙(三乙氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三乙氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,5-雙(三乙氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,6-雙(三乙氧基矽基)己烷、1,6-雙(三丙氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三乙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三丙氧基矽基)辛烷等雙(三C1-5烷氧 基矽基)C1-10烷烴；雙(二甲氧基甲基矽基)甲烷、1,2-雙(二甲氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙基矽基)乙烷、1,4-雙(二甲氧基甲基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基乙基矽基)丁烷、1,6-雙(二甲氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙基矽基)己烷、1,8-雙(二甲氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙基矽基)辛烷等雙(二C1-5烷氧基C1-5烷基矽基)C1-10烷烴；1,6-雙(甲氧基二甲酯矽基)己烷、1,8-雙(甲氧基二甲酯矽基)辛烷等雙(單C1-5烷氧基C1-5烷基矽基)C1-10烷烴等。此等之中，以1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷等雙(三C1-3烷氧基矽基)C1-10烷烴為佳，特別是，以1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷為佳。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)100質量份，矽烷化合物(d)的含量通常是0.01至10質量份，較佳的是0.03至5質量份，更佳的是0.05至2質量份，又更佳的是0.1至1質量份。當在上述上限值以下時，有利於抑制矽烷化合物(d)由黏著劑層滲出，當在上述下限值以上時，易提高黏著劑層與金屬層或玻璃基板等之密著性(或接著性)，有利於提高耐剝離性等。
黏著劑組成物(2)更可含有帶電防止劑。
作為帶電防止劑者，可以列舉：界面活性劑、矽氧烷化合物、導電性高分子、離子性化合物等，而以離子性化 合物為佳。作為離子性化合物者，係列舉慣用的物質。作為構成離子性化合物的陽離子成分者，可以列舉：有機陽離子、無機陽離子等。作為有機陽離子者，例如可以列舉：吡啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。作為無機陽離子者，例如，可以列舉：鋰陽離子、鉀陽離子、鈉陽離子、銫陽離子等鹼金屬陽離子；鎂陽離子、鈣陽離子等鹼土金屬陽離子等。特別是與(甲基)丙烯酸系樹脂的相溶性觀點而言，以吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、鋰陽離子、鉀陽離子為佳。作為構成離子性化合物的陰離子成分者，可以是無機陰離子及有機陰離子的任一種，但從帶電防止性能的觀點上，以含有氟原子的陰離子成分為佳。作為含氟原子的陰離子成分者，例如，可以列舉：六氟磷酸鹽陰離子(PF6 -)、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子[(C6F5)4B-]等。此等離子性化合物可以單獨或組合二種以上而使用。特別以雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子[(C6F5)4B-]為佳。
就由黏著劑組成物(2)所形成的黏著劑層之帶電防止性能的經時安定性觀點而言，以在室溫是固體的離子性化合物為佳。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)100質量份， 帶電防止劑的含量例如是0.01至20質量份，較佳的是0.1至10質量份，更佳的是1至7質量份。
黏著劑組成物(2)可以含有：溶劑、交聯觸媒、黏著賦與劑(tackifier)、塑劑、軟化劑、顏料、防銹劑、無機填充料、光散射性微粒子等添加劑之1種或2種以上。
本發明的光學膜是含有光選擇吸收層A及光選擇吸收層B之光學膜。由於具有光選擇吸收層A及光選擇吸收層B之故，本發明的光學膜也滿足上述式(1)及上述式(2)。
又，本發明的光學膜係以滿足下述式(3)為佳。
A(440)≦0.1 (3)
〔式(3)中，A(440)表示在波長440nm的吸光度。〕
A(440)的值較小表示在波長440nm的吸收低，A(440)的值超過0.1時，會有損害顯示裝置中之良好色彩表現的傾向。又由於會阻礙顯示裝置的發光，故亮度也會降低。A(440)的值，較佳的是0.05以下，更佳的是0.04以下，特佳的是0.03。下限雖是無特別限制，但通常是在0.00001以上。
又，本發明的光學膜係以滿足下述式(4)為佳。
A(405)/A(440)≧5 (4)
〔式(4)中，A(405)表示在波長405nm的吸光度，A(440)表示在波長440nm的吸光度。〕
A(405)/A(440)的值，表示在波長405nm的吸收大小相對於在波長440nm的吸收大小，此值愈大表示在405nm左右的波長區越有特異性吸收。A(405)/A(440)的值是以在10以上為佳，以在30以上為更佳，特佳的是在60以上。
將本發明的光學膜所具有之層構成的一個例子在第1圖中表示。本發明的光學膜，如第1圖所示，可以是光選擇吸收層A與光選擇吸收層B直接積層，也可以是光選擇吸收層A與光選擇吸收層B之間具有其他的層。
光選擇吸收層B是具有光選擇吸收機能之黏著劑層的情形，也可以含有積層在光選擇吸收層B外表面的隔離膜(剝離膜)。此隔離膜通常是在使用光選擇吸收層B之時(例如於光學膜40上積層時)被剝離除去。隔離膜，例如，可為在由聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯(Polyarylate)等各種樹脂所構成之膜形成光選擇吸收層10的面，經實施聚矽氧處理等離型處理者。
本發明的光學膜，係將光選擇吸收層A與光選擇吸收層B黏貼而可以得到。
光選擇吸收層B為具有光選擇吸收機能的黏著劑層之情形，例如，將構成上述黏著劑組成物(2)的各成分溶解或分散到溶劑中成為含有溶劑的黏著劑組成物，接著，將此塗布在光選擇吸收層A的表面並乾燥而形成光選擇吸收層B，即可得到本發明的光學膜。又本發明的光學膜，係在隔離膜的離型處理面與上述同樣操作而形成光選擇吸收層 B，藉由將此光選擇吸收層B積層(轉印)到光選擇吸收層A的表面也可獲得。在光選擇吸收層A與光選擇吸收層B之間，也可以隔著其他的膜或層而積層。即使並非直接積層的情形，本發明也可以呈現優良的光學特性及耐久性。
第2圖至第4圖表示含有本發明的光學膜之光學積層體的層構成之一個例子。
在第2圖中記載的光學積層體10A，係含有保護膜8、接著劑層7、偏光膜9、接著劑層7、光選擇吸收層A、光選擇吸收層B之積層體。
在第3圖中記載的光學積層體10B及在第4圖中記載的光學積層體10C，係含有保護膜8、接著劑層7、偏光膜9、接著劑層7、光選擇吸收層A、光選擇吸收層B、光學膜40、黏著劑層7a、發光元件30(液晶單元、OLED單元)之積層體，光學膜40是具有多層結構之光學積層體。
光選擇吸收層A，是以設在比光選擇吸收層B更近觀看側(與發光元件相反側)之位置為佳。
光學膜40係具有透過、反射、吸收光線等光學機能之膜，可以是單層的膜，也可以是多層的膜。光學膜40，例如，可以列舉：偏光膜、相位差膜、亮度提升膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、集光膜、窗膜(windown film)等，而以偏光膜、相位差膜或此等的積層膜為佳。
相位差膜是顯示光學異方性的光學膜，例如，可以列舉：將藉由將聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚環烯烴、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、 聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯、乙醯基纖維素、乙烯-乙酸乙烯酯共聚合體皂化物、聚氯化乙烯酯等構成的高分子膜藉由延伸到1.01至6倍左右而得到的延伸膜等。其中，以將聚碳酸酯膜或環烯烴系樹脂膜經單軸延伸或雙軸延伸而得的高分子膜為佳。又，本說明書中，相位差膜包含零延遲膜，亦包含稱為單軸性相位差膜、低光彈性率相位差膜、廣視野角相位差膜等之膜。
藉由液晶性化合物的塗布/配向而呈現光學異方性之膜或藉由無機層狀化合物的塗布而呈現光學異方性之膜係被稱為溫度補償型相位差膜之膜，可以列舉：由JX液晶膜(股)所販售的「NH膜(商品名；棒狀液晶為傾斜配向之膜)」、由富士薄膜股份公司所販售的「WV膜”(商品名；圓盤狀液晶為傾斜配向的膜)」、由住友化學股份公司所販售的「VAC膜(商品名；完全雙軸配向型之膜)」、「new VAC膜”(商品名；雙軸配向型之膜)」等。
零延遲膜是指正面延遲Re與厚度方向的延遲Rth均為-15至15nm，稱為光學上的等方性膜。作為零延遲膜者，可以列舉：由纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂(鏈狀聚烯烴系樹脂、聚環烯烴系樹脂等)或聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂所構成的樹脂膜，從零延遲值之控制容易，也容易取得之觀點，係以纖維素系樹脂或聚烯烴系樹脂為佳。零延遲膜也可以作為保護膜來使用。作為零延遲膜者，可以列舉：由富士薄膜股份公司所販售的“Z-TAC”(商品名)、由柯尼卡美能達股份公司所販售的“ZeroTAC(註冊商標)”、 由日本ZEON股份公司所販售的“ZF-14”(商品名)等。
本發明的光學膜中，相位差膜是以將聚合性液晶化合物硬化而成的相位差膜為佳。
作為藉由液晶性化合物的塗布/配向而呈現光學異方性之膜，可列舉：第一形態：棒狀液晶化合物對於支持基材為沿水平方向配向之相位差膜，第二形態：棒狀液晶化合物對於支持基材為沿垂直方向配向之相位差膜，第三形態：棒狀液晶化合物在面內沿螺旋狀變化配向方向之相位差膜，第四形態：圓盤狀液晶化合物為傾斜配向的相位差膜，第五形態：圓盤狀液晶化合物對於支持基材沿垂直方向配向的雙軸性相位差膜。
例如，作為在有機電致發光顯示器中使用的光學膜，適合使用第一形態、第二形態、第五形態。或也可將此等積層而使用。
相位差膜為由在聚合性液晶化合物的配向狀態下之聚合物所成之層(以下，有稱為「光學異方性層」的情形)之情形，相位差膜以具有逆波長分散性為佳。逆波長分散性係指在短波長之液晶配向面內相位差值成為小於在長波長的液晶配向面內相位差值的光學特性，較佳的是，相位差膜是滿足下述式(7)及式(8)。又，Re(λ)表示對波長λnm的光之面內相位差值。
Re(450)/Re(550)≦1 (7)
1≦Re(630)/Re(550) (8)
在本發明的光學膜中，相位差膜為第一形態且具有逆波長分散性之情形，於顯示裝置的黑顯示時之著色降低因而佳，在前述式(7)中，若0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93則更佳。又以120≦Re(550)≦150為佳。
相位差膜為具有光學異方性層之膜的情形，聚合性液晶化合物可列舉在液晶便覽(液晶便覽編集委員會編，丸善(股)日本平成12年10月30日發行)的「3.8.6網路(完全交聯型)」、「6.5.1液晶材料b.聚合性向列型液晶材料」中所記載之化合物中具有聚合性基之化合物，及，在日本特開2010-31223號公報、日本特開2010-270108號公報、日本特開2011-6360號公報、日本特開2011-207765號公報、日本特開2016-81035號公報、國際公開第2017/043438號及日本特表2011-207765號公報中記載的聚合性液晶化合物。
由在聚合性液晶化合物的配向狀態下之聚合物製造相位差膜的方法，例如可以列舉在日本特開2010-31223號公報中記載的方法。
第2形態的情形，正面相位差值Re(550)只要調整在0至10nm的範圍，較佳為0至5nm之範圍即可，厚度方向的相位差值Rth只要調整在-10至-300nm的範圍，較佳為-20至-200nm的範圍即可。表示厚度方向的折射率異方性之厚度方向之相位差值Rth，係由將面內的進 相軸傾斜50度當作傾斜軸而測定之相位差值R50與面內的相位差值R0而可以算出。即，厚度方向的相位差值Rth，係由面內的相位差值R0、將進相軸傾斜50度當作傾斜軸而測定之相位差值R50、相位差膜的厚度d、及相位差膜的平均折射率n0，藉由以下的式(10)至(12)而求得nx、ny及nz，將此等代入式(9)中而可以算出。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (9)
R0=(nx-ny)×d (10)
(nx+ny+nz)/3=n0 (12)
在此，
相位差膜可為具有二層以上之多層膜。例如，可以列舉：在相位差膜的單面或兩面積層保護膜者，或二層以上之相位差膜為隔著黏著劑或接著劑而積層者。
光學膜40為積層二層以上的相位差膜之多層膜的情形，作為含有本發明的光學膜之光學積層體的構成，如第3圖所示，可以列舉包含將對透過光賦與1/4波長份的相位差之1/4波長相位差層50與對透過光賦與1/2波長份的相位差之1/2波長相位差層70，隔著接著劑或黏著劑60而積層的光學膜40之構成。又，如第4圖所示，可以列舉：包含將1/4波長相位差層50a與正C層80，隔 著接著劑層或黏著劑層而積層的光學膜40之結構。
第3圖的賦與1/4波長份之相位差的1/4波長相位差層50，及對透過光賦與1/2波長份的相位差之1/2波長相位差層70，可以是上述第一形態的光學膜也可以是第五形態的光學膜。在第3圖的構成之情形，以至少一方為第五形態更佳。
第4圖的構成之情形，1/4波長相位差層50a是以上述第一形態的光學膜為佳，以更滿足式(7)、式(8)為更佳。
相位差膜的厚度，通常是0.1至100μm。相位差膜為多層的情形，只要合計的厚度是0.2至200μm即可。
偏光膜是指具有由入射的自然光取出直線偏光機能之膜，例如，可以列舉：使聚乙烯基醇系樹脂膜吸著配向碘或二色性的有機染料等二色性色素而得之偏光膜。聚乙烯基醇系樹脂可藉由將聚乙酸乙烯基系樹脂皂化而得。作為聚乙酸乙烯基系樹脂者，除了乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯之外，可以列舉：可與乙酸乙烯酯共聚合的單體與乙酸乙烯酯之共聚合物等。作為可與乙酸乙烯酯共聚合之單體者，可以列舉：不飽和羧酸、烯烴、乙烯基醚、不飽和磺酸、具有銨基的丙烯醯胺等。
聚乙烯基醇系樹脂的皂化度，通常是85莫耳%至100莫耳%，較佳的是98莫耳%以上。聚乙烯基醇系樹脂也可以是經改質者，例如，可為經醛改質的聚乙烯 基甲醛或聚乙烯基乙醛等。聚乙烯基醇系樹脂的聚合度，通常是1,000至10,000，較佳的是1,500至5,000。
作為偏光膜之原材膜者，通常是使用由聚乙烯基醇系樹脂製造之膜者。聚乙烯基醇系樹脂，可以用習知的方法製膜。前述原材膜的膜厚，通常是1至150μm，若考慮延伸的容易度等，該膜厚較佳的是10μm以上。
偏光膜，例如，對於原材膜實施單軸延伸的步驟、以二色性色素將膜染色使吸著此二色性色素的步驟、以硼酸水溶液處理膜的步驟，及，將膜水洗進行的步驟，最後加以乾燥即可製造。偏光膜的膜厚通常是1至30μm。
偏光膜至少一面，係以隔著接著劑設有保護膜之偏光板為佳。
作為接著劑者，係使用習知的接著劑，也可以是水系接著劑，也可以是活性能量線硬化型接著劑。
作為水系接著劑者，可以列舉：慣用的水系接著劑(例如，由聚乙烯基醇系樹脂水溶液構成的接著劑、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑、醛化合物、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多元金屬鹽等交聯劑等)。此等之中，可以適合使用由聚乙烯基醇系樹脂水溶液構成的水系接著劑。又，使用水系接著劑的情形，係將偏光膜與保護膜貼合之後，以實施除去水系接著劑中含有的水的乾燥步驟為佳。乾燥步驟後，例如也可以設有在20至45℃程度的溫度中熟化之熟化步驟。由水系接著劑所形成的接著劑層，通常 是0.001至5μm。
上述活性能量線硬化性接著劑，係指經照射紫外線或電子線等活性能量線而硬化的接著劑，例如，可以列舉：含有聚合性化合物及光聚合起始劑的硬化性組成物、含有光反應性樹脂的硬化性組成物、含有黏著劑樹脂及光反應性交聯劑的硬化性組成物等，較佳的是紫外線硬化性接著劑。
使用活性能量線硬化性接著劑的情形，係將偏光膜與保護膜貼合之後，因應必要進行乾燥步驟，其次，進行藉由照射活性能量線使活性能量線硬化性接著劑硬化之硬化步驟。活性能量線的光源雖無特別限定，但以波長400nm以下具有發光分布之紫外線為佳。由活性能量線硬化性接著劑所形成的接著劑層，通常是0.1至10μm。
作為貼合偏光膜與保護膜的方法，可以列舉：在此等至少任一方的貼合面，實施皂化處理、電暈處理、電漿處理等表面活性化處理之方法等。在偏光膜的兩面黏貼保護膜的情形，用以黏貼保護膜之接著劑，也可以是同種類的接著劑也可以是不同種類的接著劑。
作為保護膜者，係以具有透光性的熱塑性樹脂所形成之膜為佳。具體的可以列舉：由聚烯烴系樹脂；纖維素系樹脂；聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；或此等的混合物、共聚合物等所構成之膜。在偏光膜的兩面設有保護膜的情形，使用的保護膜可以是由不同熱塑性樹脂所構成之膜，也可以是由相同的熱塑性樹脂所構成之膜。 又，光選擇吸層A也可兼作為保護膜使用。
偏光板較佳的結構成，是在偏光膜的至少一面隔著接著劑層而積層有保護膜的偏光板。保護膜只在偏光膜之一面積層的情形，以在觀看側積層為更佳。在觀看側積層的保護膜，係以由三乙醯纖維素系樹脂或環烯烴系樹脂構成的保護膜為佳。保護膜也可以是未延伸膜，也可以是具有沿任意方向延伸的相位差。在觀看側積層的保護膜表面也可以設置硬塗層或防眩層等表面處理層。
保護膜為在偏光膜的兩面積層之情形，平板側(與觀看側相反側)的保護膜，係以由三乙醯纖維素系樹脂、環烯烴系樹脂或丙烯酸系樹脂構成的保護膜或相位差膜為佳。相位差膜也可以是後述的零遲延膜。
在偏光板與平板之間，也可以更積層其他之層或膜。作為有機EL顯示器用的圓偏光板使用之情形，具有1/4波長相位差層與1/2波長相位差層之相位差層，以積層上述的逆波長分散性之1/4波長層為佳。從薄膜化的觀點而言，相位差層以液晶系相位差膜為佳。
窗膜是指可彎曲性顯示器等可彎曲液晶顯示裝置之前面板，一般是配置在顯示裝置的最表面配置。窗膜，例如可以列舉：由聚醯亞胺樹脂構成的樹脂膜。窗膜，例如，也可以是含有聚醯亞胺及二氧化矽之樹脂膜等有機材料與無機材料之混合膜。又，窗膜可在其表面配置用以賦與表面硬度、防汚性或耐指紋性機能之硬塗層。作為窗膜者，例如，可以列舉在日本特開2017-94488號中記載 的膜等。
本發明的光學膜可積層在有機EL元件、液晶單元等顯示元件，而使用在有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置(FPD：平板顯示器)。其中，將積層有本發明的光學膜與偏光膜之光學積層體適用在有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置，可以同時具有良好的顯示特性與耐久性的性質而為較佳。
[實施例]
以下，例示實施例及比較例進一步具體地說明本發明，但本發明並不侷限於此等之例子。例中，表示含量乃至使用量之%及份，若無特別限定則是表示質量基準。
(合成例1)光選擇吸收性化合物(1)的合成
將設置有戴氏冷卻管(Dimroth condenser)、溫度計的200mL-四口燒瓶內作成氮氣環境，放入參考專利文獻(日本特開2014-194508)而合成之式(aa)所示的化合物10份、乙酸酐(和光純藥工業股份公司製)3.6份、氰基乙酸2-乙基己酯(有稱為DIPEA之情形；東京化成工業股份公司製)6.9份、及乙腈(和光純藥工業股份公司製)60份，以磁力攪拌 器攪拌。於內溫25℃將DIPEA(東京化成工業股份公司製)4.5份花1小時自滴下漏斗滴下，滴下終了後於內溫25℃再保溫2小時。反應終了後，使用減壓蒸發器除去乙腈，供管柱層析(矽膠)精製，將含有式(aa1)所示的光選擇吸收性化合物(1)之流出液，使用減壓蒸發器除去溶媒，而得到黄色結晶。藉由60℃減壓乾燥該結晶，得到為黄色粉末的光選擇吸收性化合物4.6份。收率是50%。
進行1H-NMR解析，藉由觀測到以下的波峰，確認生成光選擇吸收性化合物1。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.87-0.94(m，6H)，1.32-1.67(m，8H)，1.59-1.66(m，2H)，2.09(quin，2H)，3.00(m，5H)，3.64(t，2H)，4.10(dd，2H)，5.52(d，2H)，7.87(d，2H)
<克吸光係數ε測定>
為了測定所得光選擇吸收性化合物(1)之克吸光係數，將光選擇吸收性化合物(1)溶解於2-丁酮中。將得到的溶液(濃度；0.007g/L)放入1cm的石英小管中，將石英小管置於分光光度計UV-2450(島津製作所股份公司製)中，藉由雙光束法測定1nm步距300至800nm波長範圍之吸光度。由得到的吸光度值、溶液中的光吸收性化合物濃度、石英小管的光路長，使用下述式算出各波長的克吸光係數。
ε(λ)=A(λ)/CL
〔式中，ε(λ)表示在波長λnm之化合物的克吸光係數L/(g．cm)，A(λ)表示在波長λnm的吸光度，C表示濃度g/L，L 表示石英小管的光路徑長度cm。〕
光選擇吸收性化合物(1)之克吸光度係數，係ε(405)的值為47L/(g．cm)，ε(440)的值是0.1L/(g．cm)以下，ε(405)/ε(440)的值是80以上。
(合成例2)光選擇吸收性化合物(2)的合成
將設置有戴氏冷卻管、溫度計及攪拌機的300mL-四口燒瓶內作成氮氣環境，放入丙二醛二苯胺鹽酸鹽(東京化成工業(股)製)20份、巴比特酸1,3-二甲酯(東京化成工業(股)製)13.3份、甲醇46份，在室溫開始攪拌。將三乙基胺(有稱為「TEA」之情形；和光純藥工業(股)製)8.6份花30分鐘由滴下漏斗滴下，在室溫持續攪拌1小時。之後，使用油浴使內溫昇溫到65℃，於沸點回流1小時。反應終了後將內溫冷卻到室溫，濾取析出的結晶，再以甲醇洗浄該濕結晶。將洗浄後的濕結晶在40℃減壓乾燥，得到成為橙色粉末的化合物(aa2)18.5g。收率是84%。
進行1H-NMR解析，由觀測到以下的波峰， 確認生成化合物(aa2)。
1H-NMR(DMSO-d6)δ(ppm)：3.07(s，6H)，7.04-7.07(m，1H)，7.26-7.32(m，4H)，7.43(dd，1H)，8.07(d，1H)，8.55(d，1H)，11.4(s，1H)
在將設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內作成氮氣環境，放入2.0份的化合物(aa2)、嗎啉(和光純藥工業(股)製)1.6g、2-丙醇(有稱為「IPA」的情形；Nacalai Tesque(股)公司製)10份，以磁力攪拌器攪拌。在油浴中加溫至內溫83℃ 3小時進行沸點回流，反應終了後冷卻到室溫。濾取已析出的結晶，將該濕結晶以2-丙醇共計洗浄4次後，藉由在40℃減壓乾燥而得到橙色粉末之式(aa3)所示的化合物(光選擇吸收化合物2)1.7g。收率為85%。
進行1H-NMR解析，由觀測到以下的波峰，確認已生成化合物(aa3)。
1H-NMR(CDCl3)δ(ppm)：1.72-1.74(m，6H)，3.32(s，3H)，3.33(s，3H)，3.49-3.61(m，4H)，7.28-7.37(m，2H)，7.98-8.09(m，1H)
以與上述相同的方法，求得光吸收化合物(2)的克吸光度係數，ε(405)值是314L/(g．cm)，ε(440)值是1.3L/(g．cm)，ε(405)/ε(440)值是241.5。
(合成例3)光選擇吸收性化合物(3)的合成
在設有戴氏冷卻管、溫度計的200mL-四口燒瓶內，於氮氣環境中，放入参考日本特開2014-194508合成之式(aa)所示的化合物10g、乙酸酐(和光純藥工業股份公司製)3.6g、氰基乙酸2-丁基辛酯(東京化成工業股份公司製)10g、及乙腈(和光純藥工業股份公司製)60g，以磁力攪拌器攪拌。在內溫25℃將DIPEA(東京化成工業股份公司製)4.5g以1小時滴到所得到的混合物中之後，在內溫25℃再保溫2小時，之後，使用減壓蒸發器除去乙腈，供管柱層析(矽膠)精製，將含有式(aa4)所示化合物的流出液，使用減壓蒸發器除去溶媒，可得到黄色結晶。將該結晶藉由60℃減壓乾燥，得到成為黄色粉末之式(aa4)所示的化合物(光選擇吸收化合物(3))4.6g。收率是56%。
以與上述相同的方法求得克吸光度係數，式(aa4)所示的化合物之ε(405)值是45L/(g．cm)，ε(420)值是2.1L/(g．cm)。
<光選擇吸收層A的製作>
(製造例1)光選擇吸收層(A-1)的製作
將由三乙酸纖維素(乙醯基取代度：2.87；富士膜和光純藥股份公司 商品名「三乙酸纖維素」))，與Sumisorb 350 (相對於三乙酸纖維素100質量份為3質量份)，及溶媒(二氯甲烷與乙醇的混合物，質量比87：13)所構成的醯化纖維素(cellulose acylate)溶液(固形分濃度：10質量%)投入混合罐中，攪拌使各成分溶解。使用塗佈器將得到的溶解物均勻地流延至玻璃支撐體，在40℃的烘箱中乾燥10分鐘後，再於80℃烤箱中乾燥10分鐘。乾燥後，將得到的膜自玻璃支撐體剝離，而得到具有光選擇吸收能之光學膜(光選擇吸收層(A-1))。乾燥後的光學膜之膜厚是30μm。
將得到的光選擇吸收層(A-1)裁剪成5mm×30mm大小。以使所裁斷的光選擇吸收層(A-1)之長邊成為拉伸方向的方式，使用IT計測控制(股)公司製的動黏彈性測定裝置「DVA-220」，於夾器間隔2cm把持，拉伸與收縮之頻率設定成10Hz，昇溫速度設定成10℃/分，求取在溫度23℃至200℃之貯藏彈性率E’。在23℃之貯藏彈性率E’是3600MPa。
將得到的光選擇吸收層(A-1)裁剪成30mm×30mm大小，以黏著帶固定在打孔的金屬板，將此當作樣品。使用分光光度計(UV-2450：島津製作所股份公司製)測定作成的樣品在波長300至800nm範圍之吸光度，並測定波長350nm的吸光度。波長350nm的吸光度是在5.0以上。
(製造例2)光選擇吸收層(A-2)的製作
將由三乙酸纖維素(乙醯基取代度：2.87；富士膜和光 純藥股份公司 商品名「三乙酸纖維素」)、TINUVIN 460(相對於三乙酸纖維素100質量份為2質量份)及溶媒(二氯甲烷與乙醇的混合物，質量比90：10)所構成的醯化纖維素溶液(固形分濃度：7質量%)投入到混合罐，攪拌並溶解各成分。使用塗佈器將得到的溶解物均勻地流延至玻璃支撐體，在40℃的烘箱乾燥10分鐘後，再於80℃的烘箱中乾燥10分鐘。乾燥後，將得到的膜從玻璃支撐體剝離，可以得到具有光選擇吸收能之光學膜(光選擇吸收層(A-2))。乾燥後的光學膜之膜厚是13μm。
將得到的光選擇吸收層(A-2)裁剪成5mm×30mm的大小。以使所裁剪的光選擇吸收層(A-2)之長邊成為拉伸方向的方式，使用IT計測控制(股)公司製的動黏彈性測定裝置「DVA-220」，於夾器間隔2cm把持，拉伸與收縮的頻率設成10Hz，昇溫速度設定10℃/分鐘，求得溫度23℃至200℃的貯藏彈性率E’。在23℃之貯藏彈性率E’是3500MPa。
將得到的光選擇吸收層(A-2)裁剪成30mm×30mm大小，以黏著帶固定在打孔的金屬板，將此當作樣品。使用分光光度計(UV-2450：島津製作所股份公司製)測定作成的樣品在波長300至800nm範圍之吸光度，波長350nm的吸光度是1.34。
<光選擇吸收層B的製作>
(合成例4)(甲基)丙烯酸系樹脂的合成
在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中，放入混合將乙酸乙酯81.8份、丙烯酸丁酯70.4份、丙烯酸甲酯20.0份、丙烯酸2-苯氧基乙酯8.0份、丙烯酸2-羥基乙酯1.0份及丙烯酸0.6份混合而得到的溶液作為溶媒。反應容器內的空氣以氮氣取代後，使內溫定成為60℃。之後，添加將偶氮二異丁腈0.12份溶解到乙酸乙酯10份而得之溶液。保持在同溫度中1小時之後，一面保持內溫在54至56℃，一面將乙酸乙酯以17.3份/Hr之添加速度，以使聚合物的濃度成為約35%之方式連續添加到反應容器內。從添加乙酸乙酯開始經過12小時將內溫保持在54至56℃之後，以使聚合物濃度調整成20%之方式添加乙酸乙酯，可得到(甲基)丙烯酸系樹脂的乙酸乙酯溶液(1)。(甲基)丙烯酸系樹脂的重量平均分子量Mw是139萬，重量平均分子量Mw與數平均分子量Mn之比Mw/Mn是5.32。
又，重量平均分子量及數平均分子量的測定，係在GPC裝置中將4根「TSK gel XL(東曹(股)製)」，及1根「Shodex GPC KF-802(昭和電工(股)製)」，共計5根以串連方式連接配置作為管柱，使用四氫呋喃作為溶出液，在試料濃度5mg/mL、試料導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘的條件下進行，藉由換算標準聚苯乙烯而算出。
(合成例5)(甲基)丙烯酸系樹脂黏著劑組成物(1)的合 成
在合成例4得到的(甲基)丙烯酸系樹脂之乙酸乙酯溶液(1)(樹脂濃度：20%)中，相對於該溶液的固形分100份，以交聯劑0.4份、矽烷化合物0.4份、及合成例1合成的光選擇吸收性化合物(1)2份加以混合，再以使固形分濃度成為14%之方式添加乙酸乙酯而得到黏著劑組成物(1)。又，上述交聯劑的調配量是有效成分之質量份數。
又，在合成例5使用的交聯劑及矽烷化合物是如以下所述。
交聯劑：甲苯二異氰酸酯的三羥甲基丙烷加成物的乙酸乙酯溶液(固形分濃度75%)，由東曹(股)公司取得之商品名「Coronate L」。
矽烷化合物：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，取自信越化學工業(股)之商品名「KBM 403」。
(製造例3)光選擇吸收層(B-1)的製作
使用塗佈器以使乾燥後的厚度成為20μm之方式將合成例5調製的黏著劑組成物(1)塗布在經實施離型處理的聚對苯二甲酸乙二酯膜構成的隔離膜〔由Lintec(股)公司取得之商品名「PLR-382190」〕之離型處理面，在100℃乾燥1分鐘而製作黏著劑層(1)(光選擇吸收層(B-1)。
藉由層壓機將得到的黏著劑層(1)黏貼在23μm的環烯烴膜後，在溫度23℃，相對濕度65%的條件中熟化7天，而得到附黏著劑之光學膜。其次，將附黏著 劑的光學膜裁剪成30mm×30mm大小，黏貼於無鹼玻璃〔康寧公司製的商品名“EAGLE XG”〕，而得到樣品。使用分光光度計(UV-2450：島津製作所股份公司製)測定得到的樣品波長300至800nm範圍之吸光度。在波長405nm的吸光度是0.94。又，環烯烴膜及無鹼玻璃在405nm的吸光度分別幾乎是0。
(合成例6)(甲基)丙烯酸系樹脂黏著劑組成物(2)的合成
除了光選擇吸收化合物係以合成例2得到的光選擇吸收化合物(2)取代之外，其餘係與合成例5同樣操作而得到(甲基)丙烯酸系樹脂黏著劑組成物(2)。
(製造例4)光選擇吸收層(B-2)的製作
除了黏著劑組成物係以合成例6得到的(甲基)丙烯酸系樹脂黏著劑組成物(2)取代之外，其餘係與製造例3相同操作，製作黏著劑層(2)(光選擇吸收層(B-2)。
藉由層壓機將得到的黏著劑層(2)黏貼在23μm的環烯烴膜後，於溫度23℃，相對濕度65%的條件熟化7天，得到附黏著劑之光學膜。其次，將附黏著劑的光學膜裁剪成30mm×30mm大小，黏貼在無鹼玻璃〔康寧公司製的商品名“EAGLE XG”〕而得到樣品。使用分光光度計(UV-2450：島津製作所股份公司製)測定所得樣品之波長300至800nm範圍的吸光度。波長405nm的吸光度是0.83。又，環 烯烴膜及無鹼玻璃在405nm的吸光度分別幾乎是0。
(合成例7)(甲基)丙烯酸系樹脂黏著劑組成物(3)的合成
除了光選擇吸收化合物係以合成例3得到的光選擇吸收化合物(3)取代之外，其餘係與合成例5相同操作，得到(甲基)丙烯酸系樹脂組成物(3)。
(製造例5)光選擇吸收層(B-3)的製作
除了黏著劑組成物係以合成例7得到的(甲基)丙烯酸系樹脂黏著劑組成物(3)取代之外，其餘係與製造例3相同操作，製作黏著劑層(3)(光選擇吸收層(B-3))。
藉由層壓機將得到的黏著劑層(3)與23μm的環烯烴膜黏貼後，於溫度23℃，相對濕度65%的條件下熟化7天，得到附黏著劑的光學膜。其次，將附黏著劑的光學膜裁剪成30mm×30mm的大小，黏貼在無鹼玻璃〔康寧公司製的商品名“EAGLE XG”〕而得到樣品。使用分光光度計(UV-2450：島津製作所股份公司製)測定得到的樣品在波長300至800nm範圍之吸光度。波長405nm的吸光度是1.89。又，環烯烴膜及無鹼玻璃在405nm的吸光度分別幾乎是0。
(實施例1)：光學膜(1)的製作
在製造例1得到的光選擇吸收層(A-1)的單面實施電 暈放電處理後，藉由層壓機黏貼製造例3得到的光選擇吸收層(B-1)。之後，在溫度23℃，相對濕度65%的條件下熟化7天，可以得到含有光選擇吸收層(A-1)與光選擇吸收層(B-1)之光學膜(1)。
(實施例2)：光學膜(2)的製作
除將光選擇吸收層(B-1)係以製造例4得到的光選擇吸收層(B-2)取代之外，其餘係與實施例1同樣操作，得到含有光選擇吸收層(A-1)與光選擇吸收層(B-2)之光學膜(2)。
(實施例3)：光學膜(3)的製作
除了光選擇吸收層A係以製造例2得到的光選擇吸收層(A-2)取代，而光選擇吸收層(B-1)係以製造例5得到的光選擇吸收層(B-3)取代之外，其餘係與實施例1同樣操作，得到含有光選擇吸收層(A-2)與光選擇吸收層(B-3)之光學膜(3)。
(實施例4)：光學膜(4)的製作
除了光選擇吸收層(B-1)係以製造例5得到的光選擇吸收層(B-3)取代之外，其餘係與實施例1相同操作，得到含有光選擇吸收層(A-1)與光選擇吸收層(B-3)之光學膜(4)。
(比較例1)
藉由層壓機將製造例3得到的黏著劑層(1)與23μm的 環烯烴膜黏貼之後，於溫度23℃，相對濕度65%的條件熟化7天，得到附黏著劑之光學膜。
<光學膜的吸光度測定>
將實施例1得到的光學膜(1)裁剪成30mm×30mm的大小，將光選擇吸收層(B-1)與無鹼玻璃〔康寧公司製的商品名“EAGLE XG”〕黏貼並當作樣品。使用分光光度計(UV-2450：島津製作所股份公司製)測定作成的樣品之波長300至800nm範圍的吸光度。將光學膜(1)的波長350nm、波長405nm及波長440nm的吸光度結果在表1中表示。又，無鹼玻璃的波長350nm、波長405nm及波長440nm的吸光度幾乎是0。
將吸光度測定後的樣品，在63℃ 50%濕度條件下投入陽光氣候計(Suga試驗機股份公司製)中24小時，實施24小時的耐候性試驗。取出的樣品之吸光度以與上述相同之方法測定。由測定的吸光度，根據下述式，求得在350nm及405nm之樣品的吸光度保持率。將結果在表1中表示。吸光度保持率越高，表示光選擇吸收機能不會劣化而有良好的耐候性。
吸光度保持率=(耐久試驗後的A(405)/耐久試驗前的A(405))×100
吸光度保持率=(耐久試驗後的A(350)/耐久試驗前的A(350))×100
分別使用光學膜(2)、光學膜(3)、光學膜(4) 及比較例1得到的附黏著劑層之膜取代光學膜(1)，進行同樣的評估。將結果在表1中表示。
本發明的光學膜，在波長350nm左右的光吸收機能與在波長405nm左右的光吸收機能良好。因而，將本發明的光學膜積層在相位差膜或有機EL元件時，由於可以遮蔽紫外線與短波長的可視光二者的光，故具有抑制相位差膜或有機EL元件劣化的機能。又，本發明的光學膜即使在耐候性試驗後，波長350nm左右的光吸收機能及波長405nm左右的光吸收機能仍良好，故具有良好的耐候性(耐久性)。又，本發明的光學膜，在波長440nm左右之光吸收性能低，不會阻礙液晶顯示裝置的發光而可能表現良好的色彩。
[產業上的利用可能性]
本發明的光學膜，適合在液晶平板及液晶顯示裝置中使用。

Claims (14)

  1. 一種光學膜，係含有滿足下述式(1)之光選擇吸收層A及滿足下述式(2)之光選擇吸收層B，A(350)≧0.5 (1) A(405)≧0.5 (2)式(1)中，A(350)表示在波長350nm之吸光度，式(2)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜，係更滿足下述式(3)A(440)≦0.1 (3)〔式(3)中，A(440)表示在波長440nm之吸光度〕。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜，係更滿足下述式(4)A(405)/A(440)≧5 (4)式(4)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度，A(440)表示在波長440nm之吸光度。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學膜，其中，光選擇吸收層A是由含有樹脂(A1)及光選擇吸收化合物(B1)之樹脂組成物所形成之層，樹脂(A1)為選自纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及環烯烴系樹脂的至少1種樹脂。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之光學膜，其中，相對於樹脂(A1)100質量份，光選擇吸收化合物(B1)的含量係 0.01至20質量份。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之光學膜，其中，光選擇吸收層B為具有光選擇吸收機能之黏著劑層。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之光學膜，其中，具有光選擇吸收機能之黏著層為由含有(甲基)丙烯酸系樹脂(a)、交聯劑(b)及光選擇吸收化合物(c)之黏著劑組成物所形成的黏著劑層。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之光學膜，其中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)100質量份，交聯劑(b)的含量為0.01至15質量份。
  9. 如申請專利範圍第7或8項所述之光學膜，其中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(a)100質量份，光選擇吸收化合物(c)的含量為0.01至20質量份。
  10. 如申請專利範圍第7至9項中任一項所述之光學膜，其中，光選擇吸收化合物(c)是滿足式(5)的化合物ε(405)≧20 (5)式(5)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數，克吸光係數的單位是L/(g．cm)。
  11. 如申請專利範圍第7至10項中任一項所述之光學膜，其中，光選擇吸收化合物(c)是滿足式(6)的化合物ε(405)/ε(440)≧20 (6)式(6)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數，ε(440)表示在波長440nm的克吸光係數。
  12. 如申請專利範圍第7至11項中任一項所述之光學膜，其中，光選擇吸收化合物(c)是在分子內具有部花青素(Merocyanine)結構的化合物。
  13. 一種顯示裝置，係含有申請專利範圍第1至12項中任一項所述之光學膜。
  14. 一種光學膜，係滿足下述式(1)及下述式(2)A(350)≧0.5 (1) A(405)≧0.5 (2)式(1)中，A(350)表示在波長350nm的吸光度，式(2)中，A(405)表示在波長405nm的吸光度。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020140190A (ja) * 2019-02-22 2020-09-03 住友化学株式会社 積層体、及び画像表示装置
KR20210012896A (ko) * 2019-07-26 2021-02-03 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 광학 적층체 및 이의 제조방법
JP2021026086A (ja) * 2019-08-02 2021-02-22 日東電工株式会社 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP2021099479A (ja) * 2019-12-23 2021-07-01 住友化学株式会社 光学積層体および画像表示装置
JP2021099477A (ja) * 2019-12-23 2021-07-01 住友化学株式会社 光学積層体および画像表示装置
JP2021099478A (ja) * 2019-12-23 2021-07-01 住友化学株式会社 光学積層体および画像表示装置
JP2021099480A (ja) * 2019-12-23 2021-07-01 住友化学株式会社 光学積層体および画像表示装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004102223A (ja) 2002-07-15 2004-04-02 Fuji Photo Film Co Ltd 有機ｅｌディスプレイ素子用フィルター
JP2006308936A (ja) 2005-04-28 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd 偏光板および液晶表示装置
JP5945393B2 (ja) * 2011-09-30 2016-07-05 日東電工株式会社 粘着シート
JP5786016B2 (ja) * 2012-12-27 2015-09-30 富士フイルム株式会社 偏光板保護フィルム、偏光板、並びに液晶表示装置
JP6065169B1 (ja) * 2015-02-18 2017-01-25 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
KR102449955B1 (ko) * 2015-04-30 2022-10-04 미요시 유시 가부시끼가이샤 플라스틱 렌즈
WO2017047234A1 (ja) * 2015-09-17 2017-03-23 株式会社ポラテクノ 有機エレクトロルミネセンス表示装置
CN108136745B (zh) * 2015-12-08 2021-01-08 东丽株式会社 叠层膜
JP6753118B2 (ja) * 2016-04-06 2020-09-09 東レ株式会社 光学フィルム
KR101955765B1 (ko) * 2016-08-31 2019-03-07 삼성에스디아이 주식회사 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치

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