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TW201906967A - 黏著劑組成物及附黏著劑層之膜 - Google Patents

黏著劑組成物及附黏著劑層之膜 Download PDF

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TW201906967A
TW201906967A TW107121714A TW107121714A TW201906967A TW 201906967 A TW201906967 A TW 201906967A TW 107121714 A TW107121714 A TW 107121714A TW 107121714 A TW107121714 A TW 107121714A TW 201906967 A TW201906967 A TW 201906967A
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TW
Taiwan
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meth
film
compound
acrylate
wavelength
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TW107121714A
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English (en)
Inventor
小澤昭一
国見信孝
淺津悠司
Original Assignee
日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種黏著劑組成物，係對相位差膜或有機EL發光元件因紫外線所造成的劣化具有良好的抑制功能，且具有良好的濾藍光功能。
本發明之黏著劑組成物係含有滿足下述式(1)之至少1種以上的光吸收性化合物(a)、及滿足下述式(2)之至少1種以上的光吸收性化合物(b)。
ε(405)≧20 (1)
ε(420)≧5 (2) [式中，ε(405)表示波長405nm中之化合物之克吸光係數，ε(440)表示波長440nm中之化合物之克吸光係數，ε(420)表示波長420nm中之化合物之克吸光係數，克吸光係數之單位定義為L/(g．cm)。]

Description

黏著劑組成物及附黏著劑層之膜
本發明係關於黏著劑組成物、及使用該黏著劑組成物之附黏著劑層之膜。
有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置(FPD：平板顯示器)係使用有機EL元件、液晶單元等顯示元件或偏光板等光學膜之各種構件。該等構件所使用之有機EL化合物及液晶化合物為有機物，故會有因紫外線(UV)而劣化之問題。作為解決如此問題之手段，專利文獻1中記載於偏光板之保護膜添加紫外線吸收劑。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2006-308936號公報。
又，已知有機EL化合物及液晶化合物不僅是紫外線，也會因波長405nm附近之短波長的可見光而產 生劣化。
又，近年來，液晶顯示器等顯示裝置中，長時間觀看顯示器時會有疲勞及視力降低之問題，作為其對策而要求過濾短波長之可見光(濾藍光)。
本發明之目的在於提供一種附黏著劑層之膜，其用於顯示裝置時具有良好濾藍光功能，且可抑制光短波長之可見光所造成光學膜之劣化，且提供一種黏著劑組成物，其可形成該附黏著劑層之膜。
本發明包括以下發明。
[1]一種黏著劑組成物，係含有滿足下述式(1)之至少1種以上的光吸收性化合物(a)、及滿足下述式(2)之至少1種以上的光吸收性化合物(b)。
ε(405)≧20 (1)
ε(420)≧5 (2)
[式中，ε(405)表示波長405nm中之化合物之克吸光係數，ε(440)表示波長440nm中之化合物之克吸光係數，ε(420)表示波長420nm中之化合物之克吸光係數，克吸光係數之單位定義為L/(g．cm)。]
[2]如[1]所記載之黏著劑組成物，其中，光吸收性化合物(a)為更滿足式(3)之化合物。
ε(405)/ε(440)≧20 (3)
[式中，ε(405)、ε(440)與上述同義。]
[3]如[1]或[2]所記載之黏著劑組成物，其中，光吸收性化 合物(b)為更滿足式(4)之化合物。
ε(420)/ε(440)≧4 (4)
[式中，表示波長440nm中之化合物之克吸光係數，ε(440)表示波長440nm中之化合物之克吸光係數。]
[4]如[1]至[3]中任一項所記載之黏著劑組成物，其中，光吸收性化合物(a)之極大吸收波長的最大值與光吸收性化合物(b)之極大吸收波長的最大值之差通常為3nm以上。
[5]如[1]至[4]中任一項所記載之黏著劑組成物，更含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)及交聯劑(B)。
[6]如[5]所記載之黏著劑組成物，其中，光吸收性化合物(a)與光吸收性化合物(b)之合計含量相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份為0.01至20質量份。
[7]如[5]或[6]所記載之黏著劑組成物，其中，交聯劑(B)之含量相對於(甲基)丙烯酸樹脂(A)100質量份為0.01至10質量份。
[8]一種光學積層體，係含有如[1]至[7]中任一項所記載之黏著劑組成物所形成之黏著劑層、及樹脂膜。
[9]如[8]所記載之光學積層體，其中，樹脂膜為選自相位差膜及偏光膜中之至少1種膜。
[10]一種光學積層體，係含有如[1]至[7]中任一項所記載之黏著劑組成物所形成之黏著劑層、偏光膜、及相位差膜。
[11]如[8]至[10]中任一項所記載之光學積層體，其中，黏著劑層之厚度為0.1至30μm。
[12]如[8]至[11]中任一項所記載之光學積層體，其中，黏 著劑層滿足下述式(4)。
A(405)≧0.5 (4)
[式中，A(405)表示波長405nm中之黏著劑層之吸光度。][13]如[12]所記載之光學積層體，其中，黏著劑層更滿足下述式(5)。
A(420)≧0.1 (5)
[式中，A(420)表示波長420nm中之黏著劑層之吸光度。]
[14]如[13]所記載之光學積層體，其中，黏著劑層更滿足下 述式(6)。
A(440)≦0.1 (6)
[式中，A440表示波長440nm中之黏著劑層之吸光度。]
[15]一種顯示裝置，係含有如[8]至[14]中任一項所記載之光學積層體。
本發明提供一種附黏著劑層之膜，其具有良好濾藍光功能且可抑制短波長可見光所造成的光學膜之劣化。又提供一種黏著劑，係可形成該附黏著劑層之膜。
1‧‧‧本發明之黏著劑所形成之黏著劑層
2‧‧‧樹脂膜
3‧‧‧分離膜
7、60‧‧‧接著劑層
7a‧‧‧黏著劑層
8‧‧‧保護膜
9‧‧‧偏光膜
10‧‧‧光學膜
10A、10B、10C‧‧‧光學積層體
40‧‧‧光學膜
50、50a‧‧‧1/4波長相位差層
70‧‧‧1/2波長相位差層
80‧‧‧正C層
30‧‧‧發光元件
第1圖係表示本發明之光學膜一例之概略剖面圖。
第2圖係表示本發明之光學膜一例之概略剖面圖。
第3圖係表示本發明之光學膜一例之概略剖面圖。
第4圖係表示本發明之光學膜一例之概略剖面圖。
本發明之黏著劑組成物係含有：滿足下述式(1)之1種以上的光吸收性化合物(a)、及滿足下述式(2)之1種以上的光吸收性化合物(b)。
ε(405)≧20 (1)
ε(420)≧5 (2)
[式中，ε(405)表示波長405nm中之化合物之克吸光係數，ε(420)表示波長420nm中之化合物之克吸光係數，克吸光係數之單位定義為L/(g．cm)。]
ε(405)之值越大之化合物越容易吸收波長405nm之光，且不阻礙顯示裝置之色彩表。若ε(405)之值未滿20L/(g．cm)，則為了展現相位差膜或有機EL發光元件因紫外線或短波長之可見光所造成劣化之抑制功能，要增加黏著劑組成物中的光吸收性化合物(a)之含量。若黏著劑組成物中之光吸收性化合物(a)的含量增加，則光吸收性化合物(a)會滲出或分散不均，會使光吸收功能不充分。ε(405)之值較佳為20L/(g．cm)以上，更佳為30L/(g．cm)以上，又更佳為40L/(g．cm)以上，且通常為500L/(g．cm)以下。
又，克吸光度係數可依實施例所記載之方法測定。
ε(420)之值越大之化合物越容易吸收波長420nm之光。若ε(420)之值未滿5，則會增加黏著劑組成物中的光吸收性化合物(b)之含量。若黏著劑組成物中的光 吸收性化合物(b)之含量增加，則光吸收性化合物(b)會滲出或分散不均，會使光吸收功能不充分。ε(420)之值較佳為5L/(g．cm)以上，更佳為10L/(g．cm)以上，又更佳為20L/(g．cm)以上，且通常為500L/(g．cm)以下。
光吸收性化合物(a)較佳為進一步滿足式(3)之化合物。
ε(405)/ε(440)≧20 (3)
[式中，ε(405)、ε(440)與上述同義。]
ε(405)/ε(440)之值越大之化合物越不會阻礙顯示裝置之色彩表現，且可吸收405nm附近之光並抑制相位差膜或有機EL元件等顯示裝置之光劣化。ε(405)/ε(440)之值較佳為20以上，更佳為40以上，又更佳為70以上，特佳為80以上。
光吸收性化合物(b)較佳為進一步滿足式(4)之化合物。
ε(420)/ε(440)≧4 (4)
[式中，表示波長440nm中之化合物之克吸光係數，ε(440)表示波長440nm中之化合物之克吸光係數。]
ε(420)/ε(440)之值越大之化合物越不會阻礙顯示裝置之色彩表現，可吸收420nm附近之光並抑制相位差膜或有機EL元件等顯示裝置之光劣化。因此，ε(420)/ε(440)之值較佳為4以上，更佳為6以上，又更佳為10以上，特佳為20以上。
光吸收性化合物(a)之極大吸收波長的最大 值與光吸收性化合物(b)之極大吸收波長的最大值之差通常為3nm以上，較佳為4nm以上，更佳為5nm以上，且通常為100nm以下。
滿足上述式(1)、式(2)的至少一者之光吸收性化合物較佳為分子內具有部花青素構造之化合物。分子內含有部花青素構造之化合物是指分子內含有-(N-C=C-C=C)-所示部分構造之化合物，可舉例如部花青素系化合物、花青系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物等。分子內具有部花青素構造之化合物更佳為式(I)所示的化合物(以下亦稱為化合物(I))。
[式中，R1及R5各自獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至25之烷基、可具有取代基之碳數7至15之芳烷基、碳數6至15之芳基、雜環基，該烷基或芳烷基所含之-CH2-可經-NR1A-、-SO2-、-CO-、-O-或-S-取代。
R1A表示氫原子或碳數1至6之烷基。
R2、R3及R4各自獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至6之烷基、可具有取代基之芳香族烴基或可具有取代基之芳香族雜環基，該烷基所含之-CH2-可經-NR1B-、-O-、-S-取代。
R1B表示氫原子或碳數1至6之烷基。
R6及R7各自獨立地表示氫原子、碳數1至25之烷基 或拉電子基，或R6及R7可互相連結形成環構造。
R1及R2可互相連結形成環構造，R2及R4可互相連結形成環構造，R3及R6可互相連結形成環構造，R6及R7可互相連結形成環構造。]
R1及R5所示碳數1至25之烷基可舉出、甲基、乙基、正丙基、異丙基、2-氰基丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、正己基、1-甲基丁基、3-甲基丁基、正辛基、正癸基、2-己基-辛基等。
R1及R5所示碳數1至25之烷基可具有之取代基可舉出以下群A所記載之基。
群A：可舉出硝基、羥基、羧基、磺基、氰基、胺基、鹵原子、碳數1至6之烷氧基、碳數1至12之烷基矽基、碳數2至8之烷基羰基、*-Ra1-(O-Ra2)t1-Ra3(Ra1及Ra2各自獨立地表示碳數1至6之烷二基，Ra3表示碳數1至6之烷基、s1表示1至3之整數)所示之基等。
碳數1至12之烷基矽基可舉出甲基矽基、乙基矽基、丙基矽基等單烷基矽基；二甲基矽基、二乙基矽基、甲基乙基矽基等二烷基矽基；三甲基矽基、三乙基矽基、三丙基矽基等三烷基矽基。
碳數2至8之烷基羰基可舉出甲基羰基、乙基羰基等。
鹵原子可舉出氟原子、氯原子、溴原子等。
R1及R5所示碳數7至15之芳烷基可舉出苄基、苯基乙基等，芳烷基所含-CH2-經-SO2-或-CO-取代 者可舉出2-苯基乙酸乙酯基等。
R1及R5所示碳數7至15之芳烷基可具有之取代基可舉出上述群A所記載之基。
R1及R5所示碳數6至15之芳基可舉出苯基、萘基、蔥基等。
R1及R5所示碳數6至15之雜環基可舉出吡啶基、吡咯啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、噁唑基、吡咯基、噻唑基及呋喃基等碳數3至9之芳香族雜環基。
R1A及R1B所示碳數1至12之烷基可舉出甲基、乙基、正丙基、異丙基、2-氰基丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、正己基等。
R2、R3及R4所示碳數1至6之烷基可舉出與R1B所示碳數1至6之烷基相同者。
R2、R3及R4所示碳數1至6之烷基可具有之取代基可舉出上述群A所記載之基。
R2、R3及R4所示芳香族烴基可舉出苯基、萘基、蔥基等碳數6至15之芳基；苄基、苯基乙基等碳數7至15之芳烷基。
R2、R3及R4所示芳香族烴基可具有之取代基可舉出上述群A所記載之基。
R2、R3及R4所示芳香族雜環可舉出吡啶基、吡咯啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、噁唑基、吡咯基、噻唑基及呋喃基等碳數3至9之芳香族雜環基。
R2、R3及R4所示芳香族雜環可具有之取代基可舉出 上述群A所記載之基。
R6及R7所示碳數1至25之烷基可舉出與R1及R5所示碳數1至25之烷基相同者。
R6及R7所示拉電子基可舉例如氰基、硝基、鹵原子、經鹵原子取代之烷基、式(I-1)所示之基。
*-X1-R11 (I-1)
[式中，R11表示氫原子或碳數1至25之烷基，該烷基所含之亞甲基之至少1個可經氧原子取代。
X1表示-CO-、-COO-、-OCO-、-CS-、-CSS-、-COS-、-NR12CO-或CONR13-。
R12及R13各自獨立地表示氫原子、碳數1至6之烷基或苯基。]
鹵原子可舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
經鹵原子取代之烷基可舉例如三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟第二丁基、全氟第三丁基、全氟戊基及全氟己基等全氟烷基等。經鹵原子取代之烷基的碳數通常為1至25。
R6及R7可互相連結形成環構造，R6及R7所形成的環構造可舉例如米氏酸構造、巴比妥酸構造、5,5-二甲基-1,3-環己二酮構造等。
R11所示碳數1至25之烷基可舉出與R1及R5所示烷基相同者。
R12及R13所示碳數1至6之烷基可舉出甲基、乙基、 正丙基、異丙基、2-氰基丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、正己基等。
R2及R3互相鍵結所形成之環構造可舉出含有與R2鍵結之氮原子之含氮環構造，例如4至14員環之含氮雜環。R2及R3互相連結所形成之環構造可為單環或多環。具體而言可舉出吡咯啶環、吡咯啉環、咪唑啶環、咪唑啉環、噁唑啉環、噻唑啉環、哌啶環、嗎啉環、哌嗪環、吲哚環、異吲哚環等。
R1及R2互相鍵結所形成之環構造係含有R1及R2鍵結之氮原子之含氮環構造，可舉例如4至8員環之含氮雜環。R1及R2互相連結所形成之環構造可為單環或多環。具體而言可舉出與R2及R3互相連結所形成之環構造相同者。
R2及R4互相鍵結所形成之環構造可舉出4至14員環之含氮環構造，較佳為5員環至9員環之含氮環構造。R2及R4互相鍵結所形成之環構造可為單環或多環。該等環可具有取代基，如此環構造可舉出與由前述R2及R3所形成之環構造所例示者相同者。
R3及R6互相連結所形成之環構造係R3-C=C-C=C-R6形成環之骨架之環構造。可舉例如苯基等。
光吸收性化合物(a)較佳為R2及R3互相連結形成環構造之化合物(I)。R2及R3互相連結形成環構造之化合物(I)可舉出式(I-A)所示之化合物。
光吸收性化合物(b)較佳為R2及R4互相連結形成環構造之化合物(I)、以及R6及R7互相連結形成環構造之化合物(I)。R2及R4互相連結形成環構造之化合物(I)可舉出式(I-B)所示化合物。R6及R7互相連結形成環構造之化合物(I)可舉出式(I-C)所示之化合物等。
[式(I-A)、式(I-B)、式(I-C)中，R1、R3、R4、R5、R6及R7分別與上述同義。
環W1及W2表示含氮環。環W3表示環狀化合物。]
環W1及W2表示含有作為環構成單元的氮原子之含氮環。環W1及W2可為單環或多環，可含有氮以外之雜原子(例如氧原子、硫原子)作為環構成單元。環W1及W2較佳為各自獨立為5員環至9員環之環。
環W3可含有氮原子、氧原子、硫原子等雜原子作為環構成單元。環W1及W3之較佳者為5員環至9員環之環。
式(I-A)所示化合物(I)之較佳者為式(I-A-1)所示之化合物。
[式(I-A)中，R1、R4、R5、X1及X2分別與上述同義。
A1表示-CH2-、-O-、-S-、-NR1C-或=N-。
R1C表示氫原子或碳數1至12之烷基。
R14及R15各自獨立地表示氫原子或碳數1至12之烷基。]
R1C、R14及R15所示碳數1至12之烷基可舉出與R1A及R1B所示碳數1至12之烷基相同者。
式(I-B)所示化合物之較佳者為式(I-B-1)所示化合物及式(I-B-2)所示化合物。
[式(I-B-1)中，R1、X1及X2分別與上述同義。
R16各自獨立地表示氫原子或碳數1至12之烷基、芳基。]
R16所示碳數1至12之烷基可舉出與R1A及R1B所示碳數1至12之烷基相同者。
R16所示芳基可舉出苯基、萘基、蔥基等碳數6至15之芳基等。
[式(I-B-2)中，R3、R5、R6及R7分別與上述同義。
R30表示氫原子、氰基、硝基、鹵原子、巰基、胺基、碳數1至12之烷基、碳數1至12之烷氧基、碳數6至18之芳香族烴基、碳數2至13之醯基、碳數2至13之醯基氧基或碳數2至13之烷氧基羰基。
R31表示碳數1至12之烷基、碳數1至12之烷氧基、巰基、碳數1至12之烷基硫基、可具有取代基之胺基或雜環基。]
R30所示鹵原子可舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
R30所示碳數2至13之醯基可舉出乙醯基、丙醯基及丁醯基等。
R30所示碳數2至13之醯基氧基可舉出甲基羰基氧基、乙基羰基氧基、丙基羰基氧基、丁基羰基氧基等。
R30所示碳數2至13之烷氧基羰基可舉出甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、丁氧基羰基等。
R30所示碳數6至18之芳香族烴基可舉出苯基、萘基、聯苯基等碳數6至18之芳基；苄基、苯基乙基等碳數7 至18之芳烷基。
R30所示碳數1至12之烷基可舉出與R14所示碳數1至12之烷基相同者。
R30所示碳數1至12之烷氧基可舉出甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基等。
R30之較佳者為碳數1至12之烷基、碳數1至12之烷氧基、胺基或巰基。
R31所示碳數1至12之烷基可舉出與R14所示碳數1至12之烷基相同者。
R31所示碳數1至12之烷氧基可舉出與R30所示碳數1至12之烷氧基相同者。
R31所示碳數1至12之烷基硫基可舉出甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、丁基硫基、戊基硫基、己基硫基等。
R31所示可具有取代基之胺基可舉出胺基；N-甲基胺基、N-乙基胺基等經1個碳數1至8之烷基取代之胺基；N,N-二甲基胺基、N,N-二乙基胺基、N,N-甲基乙基胺基等經2個碳數1至8之烷基取代之胺基等。
R31所示雜環可舉出吡咯啶基、哌啶基、嗎啉基等碳數4至9之含氮雜環基等。
式(I-C)所示化合物之較佳者為式(IC-1)所示化合物。
[式(I-C-1)中，R1、R2、R3及R5分別與上述同義。
R17、R18、R19、Rq各自獨立地表示氫原子或可具有取代基之碳數1至12之烷基、芳烷基、芳基，該烷基或芳烷基所含之-CH2-基可經-NR1D-、-C(=O)-、-C(=S)-、-O-、-S-取代，R17及R18可互相連結形成環構造，R18及R19可互相連結形成環構造，R19及Rq可互相連結形成環構造。m、p、q各自獨立地表示0至3之整數。]
化合物(I)可舉出以下所記載之化合物等。
光選擇吸收化合物(a)可由化合物(I)中適當地選擇滿足上述式(1)之化合物。
光選擇吸收化合物(b)可由化合物(I)中適當地選擇滿足上述式(2)之化合物。
光吸收性化合物(a)及光吸收性化合物(b)之合計含量在黏著劑組成物100質量%中通常為0.01至15質量%，較佳為0.05至10質量%，更佳為0.1至5質量%。
光選擇吸收化合物(a)與光選擇吸收化合物(b)之質量比(光選擇吸收化合物(a)/光選擇吸收化合物(b))通常為0.01至20，較佳為0.05至10。
本發明中，構成黏著劑層之黏著劑例如可使用丙烯酸系、橡膠系、胺甲酸乙酯系、聚矽氧系、聚乙烯醚系等具有基礎聚合物之黏著劑。該等之中，以高耐熱性、耐光性之觀點來看，構成本發明之光學膜之黏著劑層較佳為含有(甲基)丙烯酸系樹脂作為基礎聚合物之黏著劑組成物所形成。
本發明之黏著劑組成物較佳為進一步含有樹脂、交聯劑及矽烷化合物，更佳為進一步含有抗靜電劑。
(甲基)丙烯酸系樹脂較佳為以源自於(甲基)丙烯酸酯之構成單元為主成分(較佳為含有50質量%以上)之聚合物。源自於(甲基)丙烯酸酯之構造單元可含有一種以上源自於(甲基)丙烯酸酯以外之單體之構造單元(例如源自於具有極性官能基之單體之構造單元)。又，本說明書中，(甲基)丙烯酸可為丙烯酸或甲基丙烯酸之任一者，其他如(甲基)丙烯酸酯等情形之「(甲基)」亦為同義。
(甲基)丙烯酸酯可舉出下述式(I)所示(甲基)丙烯酸酯。
[式(I)中，R1表示氫原子或甲基，R2表示碳數1至14之烷基或碳數7至20之芳烷基，該烷基或該芳烷基之氫原 子可經碳數1至10之烷氧基取代。]
式(I)中，R2之較佳者為碳數1至14之烷基，更佳為碳數1至8之烷基。
式(I)所示(甲基)丙烯酸酯可舉出：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯基、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等(甲基)丙烯酸之直鏈狀烷酯；(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸異戊酯等(甲基)丙烯酸之分枝狀烷酯；(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸環十二烷酯、(甲基)丙烯酸甲基環己酯、(甲基)丙烯酸三甲基環己酯、(甲基)丙烯酸第三丁基環己酯、α-乙氧基丙烯酸環己酯等(甲基)丙烯酸之含脂環骨架之烷酯；(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸之含芳香環骨架之酯等。
又，可舉出於(甲基)丙烯酸烷酯中的烷基導入取代基之含取代基之(甲基)丙烯酸烷酯。含取代基之(甲基)丙烯酸 烷酯之取代基係取代烷基之氫原子的基，其具體例包括苯基、烷氧基、苯氧基。含取代基之(甲基)丙烯酸烷酯具體而言可舉出(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基聚(乙二醇)酯等。
該等(甲基)丙烯酸酯可分別單獨使用，亦可使用相異之複數者。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳為含有：源自於均聚物之玻璃轉移溫度Tg未滿0℃之(甲基)丙烯酸烷酯(a1)之構成單元、及源自於均聚物之Tg為0℃以上之(甲基)丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。此係有利於提高黏著劑層之高溫耐久性。(甲基)丙烯酸烷酯之均聚物之Tg例如可採用POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience)等之文獻值。
(甲基)丙烯酸烷酯(a1)之具體例包括丙烯酸乙酯、丙烯酸正及異丙酯、丙烯酸正及異丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正及異己酯、丙烯酸正庚酯、丙烯酸正及異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正及異壬酯、丙烯酸正及異癸酯、丙烯酸正十二烷酯等烷基之碳數為2至12左右之(甲基)丙烯酸烷酯。
(甲基)丙烯酸烷酯(a1)可僅使用1種或併用2種以上。以積層於光學膜時之追隨性或重加工性之觀點來看，其中較佳為丙烯酸正丁酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸2-乙基己酯等。
(甲基)丙烯酸烷酯(a2)為(甲基)丙烯酸烷酯(a1)以外之(甲基)丙烯酸烷酯。(甲基)丙烯酸烷酯(a2)之具體例包括丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸第三丁酯等。
(甲基)丙烯酸烷酯(a2)可僅使用1種或併用2種以上。以高溫耐久性之觀點來看，(甲基)丙烯酸烷酯(a2)中較佳為含有丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯等，更佳為含有丙烯酸甲酯。
式(I)所示源自於(甲基)丙烯酸酯之構造單元在(甲基)丙烯酸系樹脂所含的全構造單元中較佳為50質量%以上，更佳為60至95質量%，又更佳為65至95質量%以上。
源自於(甲基)丙烯酸酯以外之單體之構造單元較佳為源自於具有極性官能基之單體之構造單元，更佳為源自於具有極性官能基之(甲基)丙烯酸酯之構造單元。極性官能基可舉出羥基、羧基、取代或無取代胺基、環氧基等雜環基等。
具有極性官能基之單體可舉出：(甲基)丙烯酸1-羥基甲酯、(甲基)丙烯酸1-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸1-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸1-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸1-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥基己酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸 3-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸3-羥基己酯、(甲基)丙烯酸3-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸4-羥基己酯、(甲基)丙烯酸4-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸2-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸5-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸5-羥基己酯、(甲基)丙烯酸5-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸5-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸5-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸6-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸6-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸7-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸7-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸7-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸8-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸8-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸8-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸8-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸9-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸9-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十二烷酯、丙烯酸10-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十二烷酯、(甲 基)丙烯酸12-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸14-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸14-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸15-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸15-羥基十七烷酯等具有羥基之單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基烷酯(例如(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯)、馬來酸、馬來酸酐、延胡索酸、巴豆酸等具有羧基之單體；丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、己內酯改質丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、2,5-二氫呋喃等具有雜環基之單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯等具有取代或無取代胺基之單體。
以(甲基)丙烯酸酯聚合物與交聯劑之反應性之觀點來看，其中較佳為具有羥基或/及羧基之單體，更佳為含有具有羥基及羧基之單體的任一者。
具有羥基之單體較佳為丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸3-羥基丙酯、丙烯酸4-羥基丁酯、丙烯酸5-羥基戊酯、丙烯酸6-羥基己酯。尤其藉由使用丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸4-羥基丁酯及丙烯酸5-羥基戊酯而可得到良好的耐久性。
具有羧基之單體較佳為使用丙烯酸。
以預防可積層於黏著劑層外表面之分離膜的剝離力驟升之觀點而言，較佳為實質上不含具有胺基之單體。在此實質上不含者是指構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之全構成單元100重量份中為0.1重量份以下。
(甲基)丙烯酸酯聚合物中，源自於具有極性官能基之單體之構造單元之含量相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物之全構造單元100質量份，較佳為20質量份以下，更佳為0.5質量份以上15質量份以下，又更佳為0.5質量份以上10質量份以下，特佳為1質量份以上7質量份以下。
(甲基)丙烯酸酯聚合物中，源自於具有芳香族基之單體之構造單元之含量相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物之全構造單元100質量份較佳為20質量份以下，更佳為4質量份以上20質量份以下，又更佳為4質量份以上16質量份以下。
源自於(甲基)丙烯酸酯以外之單體之構造單元可舉出源自於苯乙烯系單體之構造單元、源自於乙烯基系單體之構造單元、源自於分子內具有複數的(甲基)丙烯醯基之單體之構造單元、源自於(甲基)丙烯醯胺系單體之構造單元等。
苯乙烯系單體可舉出苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等鹵苯乙烯； 硝基苯乙烯；乙醯基苯乙烯；甲氧基苯乙烯；及二乙烯基苯。
乙烯基系單體可舉出乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、2-乙基己酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等脂肪酸乙烯基酯；氯乙烯、溴乙烯等鹵乙烯基；偏二氯乙烯等鹵亞乙烯基；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯啶酮、乙烯基咔唑等含氮雜芳香族乙烯基；丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯等共軛二烯；及丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈。
分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體可舉出1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等分子內具有2個(甲基)丙烯醯基之單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等分子內具有3個(甲基)丙烯醯基之單體。
(甲基)丙烯醯胺系單體可舉出N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(5-羥基戊基)(甲基)丙烯醯胺、N-(6-羥基己基)(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-側氧基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(2-側氧基-1-咪唑啶基)乙基](甲基)丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸、N-(甲氧基甲基) 丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-乙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-丙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基乙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基丙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-[2-(2-甲基丙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-(2-丁氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1,1-二甲基乙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺等。其中較佳為N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺及N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺。
(甲基)丙烯酸樹脂(A)之重量平均分子量(Mw)較佳為50萬至250萬。重量平均分子量為50萬以上則會提高在高溫環境中黏著劑層之耐久性，容易抑制被黏著體與黏著劑層間之浮翹剝離、或黏著劑層之凝集破壞等缺點。重量平均分子量為250萬以下時，以將黏著劑組成物加工為例如薄片狀(塗布於基材)時塗布性之觀點係為有利。以兼具黏著劑層之耐久性及黏著劑組成物之塗布性之觀點來看，重量平均分子量較佳為60萬至180萬，更佳為70萬至170萬，特佳為100萬至160萬。又，重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)之比所示的分子量分佈 (Mw/Mn)通常為2至10，較佳為3至8，更佳為3至6。重量平均分子量可藉由膠體滲透層析法而分析，為標準聚苯乙烯換算之值。
(甲基)丙烯酸樹脂(A)在溶解於乙酸乙酯且形成濃度20質量%之溶液時，在25℃中黏度較佳為20Pa．s以下，更佳為0.1至15Pa．s。若為該範圍之黏度則以將黏著劑組成物塗布於基材時的塗布性之觀點來看係為有利。又，黏度可藉由Brookfield黏度計而測定。
(甲基)丙烯酸樹脂(A)之玻璃轉移溫度(Tg)例如為-60至20℃，較佳為-50至15℃，又更佳為-45至10℃，尤其可為-40至0℃。Tg若為上限值以下則有利於提高黏著劑層對被黏著體基材之潤濕性，若為下限值以上則有利於提高黏著劑層之耐久性。又，玻璃轉移溫度可藉由示差掃描熱量計(DSC)而測定。
(甲基)丙烯酸樹脂(A)例如可藉由溶液聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法等公知方法而製造，尤其較佳為溶液聚合法。溶液聚合法較佳可舉例如以下方法：將單體及有機溶媒混合並在氮氣環境下添加熱聚合起始劑，在40至90℃，較佳為50至80℃左右之溫度條件下攪拌3至15小時左右。為了控制反應，可在聚合中連續性或間歇性地添加單體或熱聚合起始劑。該單體或熱起始劑可為添加於有機溶媒之狀態。
聚合起始劑係使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑等。光聚合起始劑可舉出4-(2-羥基乙氧基)苯基(2- 羥基-2-丙基)酮等。熱聚合起始劑可舉出2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥基甲基丙腈)等偶氮系化合物；月桂基過氧化物、第三丁基氫過氧化物、過氧化苯甲醯、過氧化苯甲酸第三丁酯、異丙苯氫過氧化物、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二丙酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化新戊酸第三丁酯、(3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物等有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等無機過氧化物等。又，亦可使用併用過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等。
聚合起始劑之比例相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂之單體之總量100質量份為0.001至5質量份左右。(甲基)丙烯酸系樹脂之聚合係可使用通過活性能量線(例如紫外線等)之聚合法。
有機溶媒可舉出甲苯、二甲苯等芳香族烴類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；丙醇、異丙醇等脂肪族醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等。
樹脂(A)之含量在黏著劑組成物100質量%中通常為60質量%至99.9質量%，較佳為70質量%至99.5質量%，更佳為80質量%至99質量%。
黏著劑組成物可含有交聯劑(B)。該交聯劑(B)係與(甲基)丙烯酸系樹脂(A)中之極性官能基(例如羥基、 胺基、羧基、雜環基等)反應。交聯劑(B)係與(甲基)丙烯酸系樹脂等形成交聯構造，形成有利於耐久性或重加工性之交聯構造。
交聯劑(B)可舉出異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、金屬螫合物系交聯劑等，尤其以黏著劑組成物之適用期及黏著劑層之耐久性、交聯速度等觀點來看較佳為異氰酸酯系交聯劑。
異氰酸酯系化合物較佳為分子內具有至少2個異氰酸基(-NCO)之化合物，可舉例如脂肪族異氰酸酯系化合物(例如二異氰酸六亞甲酯等)、脂環族異氰酸酯系化合物(例如異佛爾酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯)、芳香族異氰酸酯系化合物(例如伸甲苯基二異氰酸酯、伸二甲苯基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等)等。又，交聯劑(B)可為前述異氰酸酯化合物之多元醇化合物之加成物(加成體)[例如甘油、三羥甲基丙烷等之加成物]；與異三聚氰酸酯化物、縮二脲型化合物、聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等加成反應之胺甲酸乙酯預聚物型異氰酸酯化合物等衍生物。交聯劑(B)可單獨使用或組合二種以上使用。該等之中，較具代表性者可舉出芳香族異氰酸酯系化合物(例如伸甲苯基二異氰酸酯、伸二甲苯基二異氰酸酯)、脂肪族異氰酸酯系化合物(例如二異氰酸六亞甲酯)或該等多元醇化合物(例如甘油、三羥甲基丙烷)之加成物、 或異三聚氰酸酯體。交聯劑(B)若為芳香族異氰酸酯系化合物及/或該等之多元醇化合物或異三聚氰酸酯體之加成物，則有利於形成最佳交聯密度(或交聯構造)、或可提高黏著劑層之耐久性。尤其若為伸甲苯基二異氰酸酯系化合物及/或該等多元醇化合物之加成物，則例如即使將黏著劑層施加於偏光板時等，亦可提高耐久性。
交聯劑(B)之含量相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份通常為0.01至15質量份，較佳為0.05至10重量份，更佳為0.1至5重量份。
矽烷化合物(D)可舉例如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等。
矽烷化合物(D)可為聚矽氧寡聚物。聚矽氧寡聚物之具體例係以單體彼此組合之形式表示如下。
3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含巰基丙基之寡聚物；巰基甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲 基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含巰基甲基之寡聚物；3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含3-環氧丙氧基丙基之共聚物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含甲基丙烯醯氧基丙基之寡聚物；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基 矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含丙烯醯氧基丙基之寡聚物；乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含乙烯基之寡聚物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含胺基之共聚物等。
矽烷化合物(D)可為下述式(d1)所示之矽烷化合物。黏著劑組成物若含有下述式(d1)所示之矽烷化合物，則可進一步提高密著性(或接著性)，故可形成耐剝離性良好之黏著劑層。尤其在高溫環境下將黏著劑層施加於 (或積層)透明電極或玻璃時，亦可維持密著性(或接著性)並顯示高耐久性。
(式中，B表示碳數1至20之烷二基或碳數3至20之二價脂環式烴基，構成前述烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-可取代為-O-或-CO-，R7表示碳數1至5之烷基，R8、R9、R10、R11及R12各自獨立地表示碳數1至5之烷基或碳數1至5之烷氧基)
式(d1)中，B表示亞甲基、伸乙基、三亞甲基、四亞甲基、六亞甲基、七亞甲基、八亞甲基等碳數1至20之烷二基；伸環丁基(例如1,2-伸環丁基)、伸環戊基(例如1,2-伸環戊基)、伸環己基(例如1,2-伸環己基)、伸環辛基(例如1,2-伸環辛基)等碳數3至20之二價脂環式烴基、或構成該等烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-經-O-或-CO-取代之基。較佳之B為碳數1至10之烷二基。R7表示甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基等碳數1至5之烷基，R8、R9、R10、R11及R12各自獨立地表示前述R7所例示之碳數1至5之烷基、或甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基等碳數1至5之烷氧基。較佳之R8、R9、R10、R11及R12各自獨立地為碳數1至5之烷氧基。該等矽烷化合 物(D)可單獨使用或組合二種以上使用。
具體的前述式(d1)所示之矽烷化合物可舉例如(三甲氧基矽基)甲烷、1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三乙氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,3-雙(三乙氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三乙氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,5-雙(三乙氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,6-雙(三乙氧基矽基)己烷、1,6-雙(三丙氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三乙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三丙氧基矽基)辛烷等雙(三C1-5烷氧基矽基)C1-10烷烴；雙(二甲氧基甲基矽基)甲烷、1,2-雙(二甲氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙基矽基)乙烷、1,4-雙(二甲氧基甲基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基乙基矽基)丁烷、1,6-雙(二甲氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙基矽基)己烷、1,8-雙(二甲氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙基矽基)辛烷等雙(二C1-5烷氧基C1-5烷基矽基)C1-10烷烴；1,6-雙(甲氧基二甲基矽基)己烷、1,8-雙(甲氧基二甲基矽基)辛烷等雙(單C1-5烷氧基-二C1-5烷基矽基)C1-10烷烴等。該等之中，較佳為1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷等雙(三C1-3烷氧基矽基)C1-10烷烴，尤佳為1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷。
矽烷化合物(D)之含量相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份通常為0.01至10重量份，較佳為0.03至5重量份，更佳為0.05至2重量份，又更佳為0.1至1重量份。若為上述上限值以下則有利於抑制矽烷化合物(D)由黏著劑層的滲出，若為上述下限值以上則容易提高黏著劑層與金屬層或玻璃基板等之密著性(或接著性)，有利於提高耐剝離性等。
黏著劑組成物可進一步含有抗靜電劑。
抗靜電劑可舉出界面活性劑、矽氧烷化合物、導電性高分子、離子性化合物等，較佳為離子性化合物。離子性化合物可舉出慣用者。構成離子性化合物之陽離子成分可舉出有機陽離子、無機陽離子等。有機陽離子可舉例如吡啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。無機陽離子可舉例如鋰陽離子、鉀陽離子、鈉陽離子、銫陽離子等鹼金屬陽離子、鎂陽離子、鈣陽離子等鹼土金屬陽離子等。尤其以與(甲基)丙烯酸系樹脂之相溶性之觀點來看，較佳為吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、鋰陽離子、鉀陽離子。構成離子性化合物之陰離子成分可為無機陰離子及有機陰離子之任一者，但以抗靜電性能之觀點來看較佳為含有氟原子之陰離子成分。含有氟原子之陰離子成分可舉例如六氟磷酸鹽陰離子(PF6-)、雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子[(C6F5)4B-]等。該 等離子性化合物可單獨使用或組合二種以上使用。尤佳為雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子[(C6F5)4B-]。
以黏著劑組成物形成的黏著劑層之抗靜電性能的經時安定性之觀點來看，較佳為室溫為固體之離子性化合物。
抗靜電劑之含量相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份例如為0.01至20質量份，較佳為0.1至10質量份，又更佳為1至7質量。
黏著劑組成物可含有1種或2種以上之溶劑、交聯觸媒、增黏劑、塑化劑、軟化劑、顏料、防鏽劑、無機填料、光散射性微粒子等添加劑。
<黏著劑層及附黏著劑層之光學膜之構成以及製造方法>
本發明包括前述黏著劑組成物所構成之黏著劑層。例如該黏著劑層係可藉由將前述黏著劑組成物溶解或分散於溶劑並形成含溶劑之黏著劑組成物，接著將其塗布於光學膜或離形膜表面，並使其乾燥而形成者。
又，本發明包括一種光學積層體，係含有樹脂膜、及積層於該樹脂膜的至少一面之前述黏著劑層。
第1圖至第4圖所呈示之示意剖面圖係表示含有由本發明之黏著劑組成物所形成之黏著劑層的光學積層體之一例。
第1圖所記載的附黏著劑層之樹脂膜10係樹脂膜2及於該光學膜單面積層黏著劑層1之光學膜。又，樹脂膜2可積層於黏著劑層1之兩面。
第2圖所記載之光學積層體10A係含有保護膜8、接著劑層7、偏光膜9、黏著劑層1、樹脂膜2之積層體。
第3圖所記載之光學積層體10B及第3圖所記載光學積層體10C係含有保護膜8、接著劑層7、偏光膜9、黏著劑層1、光學膜40、黏著劑層7a、液晶單元30之積層體，且光學膜40具有多層構造。黏著劑層7a可為公知的黏著劑層或由本發明之黏著劑所形成之黏著劑層。
第1圖所示的附黏著劑層之樹脂膜10係樹脂膜2及於該光學膜單面積層有黏著劑層1之光學膜。又，樹脂膜2可積層於黏著劑層1之兩面。
將黏著劑層1積層於樹脂膜2表面時，可於樹脂膜2之貼合面及/或黏著劑層1之貼合面形成底塗層，可進行電漿處理、電暈處理等表面活化處理。
附黏著劑層之樹脂膜10可含有積層於黏著劑層1的外表面之分離膜(剝離膜)3。該分離膜通常在使用黏著劑層20時(例如積層於透明導電極或玻璃基板時)剝離去除。分離膜例如可在聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等各種樹脂所構成的膜之形成有黏著劑層1之面實施聚矽氧處理等脫模處理。
附黏著劑層之光學膜10係可藉由將構成上述黏著劑組成物之各成分溶解或分散於溶劑形成含溶劑之 黏著劑組成物，接著將其於樹脂膜2表面塗布、乾燥而形成黏著劑層1而得者。又，附黏著劑層之光學膜1係可藉由於分離膜之脫模處理面以與上述相同方式形成黏著劑層1，將該黏著劑層1積層(轉印)於光學膜2表面而得者。
黏著劑層之厚度通常為0.1至30μm，以附黏著劑層之光學膜之耐久性及附黏著劑層之光學膜之重加工性等觀點來看，較佳為3至30μm，又更佳為5至25μm。黏著劑層之厚度若為上述上限值以下則重加工性良好，若為上述下限值以上則耐久性良好。
黏著劑層在23℃的儲藏彈性模數通常為100MPa以上，較佳為300MPa以上，更佳為500MPa以上，較佳為10000MPa以下。黏著劑層之儲藏彈性模數可使用市售黏彈性測定裝置，例如REOMETRIC公司製的黏彈性測定裝置「DYNAMIC ANALYZER RDA II」而測定。
黏著劑層較佳為滿足下述式(4)。
A(405)≧0.5 (4)
[式中，A(405)表示波長405nm中的黏著劑層之吸光度。]
A(405)之值越大表示波長405nm中之吸收越高，若A(405)之值未滿0.5則波長405nm中之吸收低，在紫外線下容易產生有機EL元件等顯示裝置或相位差膜之劣化。A(405)之值較佳為0.6以上，更佳為0.8以上，特佳為1.0以上。
黏著劑層較佳為進一步滿足下述式(5)。
A(420)≧0.1 (5)
[式中，A(420)表示波長420nm中的黏著劑層之吸光度。]
A(420)之值越大表示波長420nm中之吸收越高，若A(420)之值未滿0.1則波長420nm中之吸收低，在紫外線下容易產生有機EL元件等顯示裝置或相位差膜之劣化。A(420)之值較佳為0.1以上，更佳為0.15以上，特佳為0.2以上。
黏著劑層較佳為進一滿足步下述式(6)。
A(440)≦0.1 (6)
[式(6)中，A(440)表示波長440nm中的黏著劑層之吸光度。]
A(440)之值越小表示波長440nm中之吸收越低，若A(440)之值超過0.1則有損及顯示裝置中良好色彩表現之傾向。又，由於顯示裝置之發光受到阻礙，故亮度亦會降低。A(440)之值較佳為0.05以下，更佳為0.04以下，特佳為0.03。
黏著劑層較佳為滿足下述式(7)及式(8)之至少一者。
A(405)/A(440)≧5 (7)
A(420)/A(440)≧1 (8)
[式中，A(405)表示波長405nm中的黏著劑層之吸光度，A(440)表示波長440nm中黏著劑層之吸光度，A(420)表示波長420nm中黏著劑層之吸光度]
A(405)/A(440)之值表示波長405nm之吸收之大小相對於波長440nm中吸收之大小，該值越大表示在405nm附近之波長域具有特別之吸收。A(405)/A(440)之值較佳為10以上，更佳為30以上，特佳為60以上。
A(420)/A(440)之值表示波長420nm之吸收之大小相對於波長440nm中吸收之大小，該值越大表示在420nm附近之波長域具有特別之吸收。A(420)/A(440)之值較佳為1.5以上，更佳為2以上，特佳為3以上。
<樹脂膜>
構成本發明之光學積層體10之樹脂膜2較佳為光學膜。光學膜是指具有將光線穿透、反射、吸收等光學功能之膜。
樹脂膜2可為單層構造或多層構造。單層構造之光學膜可舉出偏光片、相位差膜、增亮膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、集光膜。多層構造之光學膜可舉出偏光板、相位差板、前述所記載的單層構造之光學膜之積層體等。積層單層構造之光學膜時可隔著接著劑層或黏著劑層來實施。
樹脂膜2較佳為相位差膜、偏光板。
<相位差膜>
相位差膜是指顯示光學各向異性之光學膜，可舉例如藉由將聚乙烯醇系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、烯烴系樹脂、環烯烴系 樹脂、苯乙烯系樹脂、聚碸及聚醚碸等碸系樹脂、聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯、液晶聚酯樹脂、含有三乙酸纖維素之纖維素系樹脂、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯系樹脂、丙烯酸樹脂等所構成之樹脂膜延伸至1.01至6倍左右而得之延伸膜。其中較佳為將環烯烴系樹脂膜、纖維素系樹脂膜、聚酯系樹脂膜及聚碳酸酯膜進行單軸延伸或雙軸延伸而成之樹脂膜。又，本說明書中，相位差膜包括零相位差膜，亦包括稱為單軸性相位差膜、低光彈性模數相位差膜、廣視角相位差膜等之膜。
又，本說明書中，相位差膜包括零相位差膜，亦包括稱為單軸性相位差膜、低光彈性模數相位差膜、廣視角相位差膜等之膜。
零相位差膜是指正面相位差Re與厚度方向相位差Rth皆為-15至15nm，且光學各向同性之膜。零相位差膜可舉出纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂(鏈狀聚烯烴系樹脂、聚環烯烴系樹脂等)或聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂所構成之樹脂膜，以容易控制相位差值且容易取得之點來看，較佳為纖維素系樹脂或聚烯烴系樹脂。零相位差膜亦可作為保護膜使用。零相位差膜可舉出fujifilm股份有限公司所販售之“Z-TAC”(商品名)、KONICA MINOLTA OPTO股份有限公司所販售之“ZEROTAC(註冊商標)”、日本ZEON股份有限公司所販售之“ZF-14”(商品名)等。
<相位差膜>
相位差膜是指顯示光學各向異性之光學膜，可舉例如藉由將聚乙烯醇系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、烯烴系樹脂、環烯烴系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚碸及聚醚碸等碸系樹脂、聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯、液晶聚酯樹脂、含有三乙酸纖維素之纖維素系樹脂、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯系樹脂、丙烯酸樹脂等所構成之樹脂膜延伸至1.01至6倍左右而得之延伸膜。其中較佳為將環烯烴系樹脂膜、纖維素系樹脂膜、聚酯系樹脂膜及聚碳酸酯膜進行單軸延伸或雙軸延伸之樹脂膜。又，本說明書中，相位差膜包括零相位差膜，亦包括稱為單軸性相位差膜、低光彈性模數相位差膜、廣視角相位差膜等之膜。
又，本說明書中，相位差膜包括零相位差膜，亦包括稱為單軸性相位差膜、低光彈性模數相位差膜、廣視角相位差膜等之膜。
零相位差膜是指正面相位差Re與厚度方向之相位差Rth皆為-15至15nm，且光學性相等之膜。零相位差膜可舉出纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂(鏈狀聚烯烴系樹脂、聚環烯烴系樹脂等)或聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂所構成之樹脂膜，以容易控制相位差值且容易獲得此點來看，較佳為纖維素系樹脂或聚烯烴系樹脂。零相位差膜亦可使用作為保護膜。零相位差膜可舉出fujifilm股份有限公司所販售之“Z-TAC”(商品名)、KONICA MINOLTA OPTO股份有限公司所販售之“ZEROTAC(註冊商標)”、日本ZEON 股份有限公司所販售之“ZF-14”(商品名)等。
相位差膜是指顯示光學各向異性之光學膜，可舉例如藉由將聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚環烯烴、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯、乙酸纖維素、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯等所構成之高分子膜延伸至1.01至6倍左右而得之延伸膜等。其中較佳為將聚碳酸酯膜或環烯烴系樹脂膜經單軸延伸或雙軸延伸之高分子膜。又，本說明書中，相位差膜包括零相位差膜，亦包括稱為單軸性相位差膜、低光彈性模數相位差膜、廣視角相位差膜等之膜。
藉由液晶性化合物之塗布、配向而展現光學各向異性之膜、或藉由無機層狀化合物之塗布而展現光學各向異性之膜可舉出稱為溫度補償型相位差膜之膜、JX日礦日石能源股份有限公司所販售之“NH FILM”(商品名；傾斜配向棒狀液晶之膜)、fujifilm股份有限公司所販售之“WV FILM”(商品名；傾斜配向圓盤狀液晶之膜)、住友化學股份有限公司所販售之“VAC FILM”(商品名；完全雙軸配向型之膜)、住友化學股份有限公司所販售之“new VAC FILM”(商品名；雙軸配向型之膜)等。
零相位差膜是指正面相位差Re與厚度方向之相位差Rth皆為-15至15nm，且光學各向同性之膜。零相位差膜可舉出纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂(鏈狀聚烯烴系樹脂、聚環烯烴系樹脂等)或聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂 所構成之樹脂膜，以容易控制相位差值且容易取得之點來看，較佳為纖維素系樹脂或聚烯烴系樹脂。零相位差膜亦可使用作為保護膜。零相位差膜可舉出fujifilm股份有限公司所販售之“Z-TAC”(商品名)、KONICA MINOLTA OPTO股份有限公司所販售之“ZEROTAC(註冊商標)”、日本ZEON股份有限公司所販售之“ZF-14”(商品名)等。
本發明之光學膜中，相位差膜較佳為使聚合性液晶化合物硬化而成之相位差膜。
藉由液晶性化合物之塗布、配向而展現光學各向異性之膜可舉出：第一形態：相對於支撐基材在水平方向配向棒狀液晶化合物之相位差膜；第二形態：相對於支撐基材在垂直方向配向棒狀液晶化合物之相位差膜；第三形態：棒狀液晶化合物在面內以螺旋狀改變配向方向之相位差膜；第四形態：傾斜配向圓盤狀液晶化合物之相位差膜；及第五形態：相對於支撐基材在垂直方向配向圓盤狀液晶化合物之雙軸性相位差膜。
例如有機電致發光顯示器中使用之光學膜適用第一形態、第二形態、第五形態。或亦可將該等積層使用。
相位差膜為聚合性液晶化合物支配向狀態 中聚合物所構成之層(以下亦稱為「光學各向異性層」)時，相位差膜較佳為具有反向波長分散性。反向波長分散性是指短波長之液晶配向面內相位差值之小於長波長之液晶配向面內相位差值之光學特性，較佳為相位差膜滿足下述式(9)及式(10)。又，Re(λ)表示相對於波長λnm之光之面內相位差值。
Re(450)/Re(550)≦1 (9)
1≦Re(630)/Re(550) (10)
本發明之光學膜中，相位差膜為第一形態且具有反向波長分散性時，由於會降低顯示裝置顯示黑時之著色，故較佳，前述式(9)中更佳為0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93。又更佳為120≦Re(550)≦150。
相位差膜為具有光學各向異性層之膜時，聚合性液晶化合物可舉出液晶手冊(液晶手冊編集委員會編、丸善股份有限公司於平成12年10月30日發行)之「3.8.6 NETWORK(完全交聯型)」、「6.5.1液晶材料b.聚合性向列型液晶材料」所記載的化合物中具有聚合性基之化合物；以及日本特開2010-31223號公報、日本特開2010-270108號公報、日本特開2011-6360號公報、日本特開2011-207765號公報、日本特開2011-162678號、日本特開2016-81035號公報、國際公開第2017/043438號公報、及日本特表2011-207765號公報所記載之聚合性液晶化合物。
由聚合性液晶化合物之配向狀態中的聚合 物製造相位差膜之方法可舉例如日本特開2010-31223號公報所記載之方法。
第2形態時，正面相位差值Re(550)可調整為0至10nm之範圍，較佳為0至5nm之範圍，厚度方向之相位差值Rth可調整為-10至-300nm之範圍，較佳為-20至-200nm之範圍。表示厚度方向之折射率各向異性之厚度方向之相位差值Rth可由將面內之快軸作為傾斜軸並傾斜50度所測定相位差值R50及面內之相位差值R0而計算。亦即，厚度方向之相位差值Rth係由面內之相位差值R0、將快軸作為傾斜軸並傾斜50度所測定之相位差值R50、相位差膜之厚度d、及相位差膜之平均折射率n0，藉由以下述式(11)至(13)而求nx、ny及nz，可將該等代入式(14)並計算。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (14)
R0=(nx-ny)×d (11)
R50=(nx-ny')×d/cos() (12)
(nx+ny+nz)/3=n0 (13)
在此，=sin-1[sin(40°)/n0]
ny'=ny×nz/[ny 2×sin2()+nz 2×cos2()]1/2
相位差膜可為具有二層以上之多層膜。可舉例如在相位差膜之單面或兩面積層保護膜者、或將二個以上相位差膜隔著黏著劑或接著劑而積層者。
光學膜40為積層二個以上相位差膜之多層膜時，含有本發明之光學膜之光學積層體之構成可舉出如第3圖所示構成，該構成係含有光學膜40，該光學膜40係將對穿透光賦予1/4波長分相位差之1/4波長相位差層50、及對穿透光賦予1/2波長分相位差之1/2波長相位差層70隔著接著劑或黏著劑60而積層者。又，亦可舉出如第4圖所示構成，該構成係含有光學膜40，該光學膜40係將1/4波長相位差層50a及正C層80隔著接著劑層或黏著劑層而積層者。
第3圖之賦予1/4波長分相位差之1/4波長相位差層50、及對穿透光賦予1/2波長分相位差之1/2波長相位差層70可為上述第一形態之光學膜或第五形態之光學膜。第3圖之構成時更佳為至少一者為第五形態。
第4圖之構成時，1/4波長相位差層50a較佳為上述第一形態之光學膜，更佳為進一步滿足式(7)、式(8)。
偏光膜可舉出於經單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向碘或二色性染料等二色性色素之膜等。偏光膜例如可以日本特開2000-338329號公報、或日本特開2012-159778號公報等公知方法而製造。
亦可為於偏光膜之單面或兩面隔著接著劑設置保護膜之偏光板。接著劑係使用公知的接著劑，可為水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑。
保護膜較佳為具有透光性之熱塑性樹脂所形成之膜。 具體而言可舉出聚烯烴系樹脂；纖維素系樹脂；聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；或該等之混合物、共聚物等所構成之膜。於偏光膜兩面設置保護膜時，所使用保護膜可為相異熱塑性樹脂所構成之膜或相同熱塑性樹脂所構成之膜。
<偏光板>
偏光板係以在構成其之偏光片之單面或兩面黏貼有保護膜之狀態下使用者居多。通常於其一面形成有黏著劑層。又，積層有偏光板及相位差膜之橢圓偏光板係以於偏光片之單面或兩面黏貼有保護膜之狀態隔著。於如此橢圓偏光板形成黏著劑層時，通常在其相位差膜側形成黏著劑層。
偏光片係具有以下性質之膜，亦即吸收具有與其吸收軸平行之振動面之線性偏光，並穿透具有與吸收軸正交(與穿透軸平行)之振動面之線性偏光，例如可使用於聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向二色性色素之膜。二色性色素可舉例如碘或二色性有機染料等。
聚乙烯醇系樹脂係可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂進行皂化而得。聚乙酸乙烯酯系樹脂可舉例如屬於乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯、可與乙酸乙烯酯共聚之單體(例如不飽和羧酸、烯烴、乙烯基醚、不飽和磺酸、具有銨基之(甲基)丙烯醯胺等)與乙酸乙烯酯之共聚物等。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度通常為85至100莫耳%，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質，例如可為以醛類改質之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度通常為1000至10000，較佳為1500至5000。又，聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度可根據JIS K 6726而求取。
通常將聚乙烯醇系樹脂所製膜者使用作為偏光片之原料膜使用。聚乙烯醇系樹脂可以公知方法製膜。原料膜之厚度通常為1至150μm，考慮延伸容易度等較佳為10μm以上。
偏光片係例如施行：對原料膜進行單軸延伸之步驟、以二色性色素將膜染色並吸附該二色性色素之步驟、以硼酸水溶液處理膜之步驟、及將膜進行水洗之步驟，最後進行乾燥而製造。偏光片之厚度通常為1至30μm，以附黏著劑層之樹脂膜1之薄膜化之觀點來看，較佳為20μm以下，更佳為15μm以下，尤其為10μm以下。
保護膜較佳為透明的熱塑性樹脂膜。熱塑性樹脂膜可舉例如乙酸纖維素樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂等樹脂所構成之膜。
偏光片與保護膜之黏貼係使用公知的接著劑。接著劑可為水系接著劑或活性能量硬化型接著劑。
以控制光徑等目的而使用集光膜，可為稜鏡陣列薄片或透鏡陣列薄片、附點薄片等。
增亮膜係以提高應用偏光板之液晶顯示裝置中的亮度為目的而使用者。具體而言可舉出將折射率之各向異性互相相異之薄膜積層複數片並以反射率產生各向異性之方式所設計之反射型偏光分離薄片，膽固醇狀液晶聚合物之配向膜或於基材膜上支撐該配向液晶層之圓偏光分離薄片等。
本發明之附黏著劑層之樹脂膜較佳為依序含有偏光板、黏著劑層、相位差膜之積層膜。
含有本發明之黏著劑組成物所形成之黏著劑層之光學積層體可積層於有機EL元件、液晶單元等顯示元件而用於有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置(FPD：平板顯示器)。
(實施例)
以下藉由實施例及比較例進一步詳細說明本發明。實施例及比較例中之「%」及「份」在未有另外說明時為「質量%」及「質量份」。
又，以下之例中，重量平均分子量及數量平均分子量之測定如下：於凝膠滲透層析法(以下稱為GPC)裝置(GPC-8120，TOSOH股份有限公司製)，管柱為4支「TSK gel XL(TOSOH股份有限公司製)」及「Shodex GPC KF-802(昭和電工股份有限公司製)」1支共計5支串聯配置，溶析液係使用四氫呋喃，以試料濃度5mg/mL、試料導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘之條件進行，藉由標準聚苯乙烯換算而計算。
<丙烯酸樹脂之調製>
根據表1所示組成藉由以下方法而調製丙烯酸樹脂(A)及丙烯酸樹脂(B)。
[聚合例1]：丙烯酸樹脂(A)之調製
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機之反應容器加入作為溶媒之乙酸乙酯81.8份、作為單體(A-1)之丙烯酸丁酯70.4份、丙烯酸甲酯20.0份、及丙烯酸2-苯氧基乙酯8.0份與丙烯酸2-羥基乙酯1.0份與丙烯酸0.6份之混合溶液，一邊以氮氣取代裝置內的空氣使其不含氧，一邊將內溫升至55℃。其後添加將偶氮雙異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於乙酸乙酯10份之溶液總量。添加起始劑後以該溫度保持1小時，接著一邊將內溫保持在54至56℃一邊將乙酸乙酯以添加速度17.3份/hr連續添加於反應容器內，在丙烯酸樹脂濃度成為35%之時間點停止乙酸乙酯之添加，進一步以該溫度保溫至開始添加乙酸乙酯起經過12小時為止。最後添加乙酸乙酯並以丙烯酸樹脂濃度成為20%之方式調節，而調製丙烯酸樹脂之乙酸乙酯溶液。所得丙烯酸樹脂之GPC之聚苯乙烯換算之重量平均分子量Mw為142萬，Mw/Mn為5.2。將其作為丙烯酸樹脂(A)。
[聚合例2]：丙烯酸樹脂(B)之調製
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機之反應容 器加入作為溶媒之乙酸乙酯81.8份、作為單體(A-1)之丙烯酸丁酯96.0份及作為單體(A-3)之丙烯酸4.0份之混合溶液，一邊以氮氣取代裝置內的空氣使其不含氧，一邊將內溫升至55℃。其後添加將偶氮雙異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於乙酸乙酯10份之溶液總量。添加起始劑後以該溫度保持1小時，接著一邊將內溫保持在54至56℃一邊將乙酸乙酯以添加速度17.3份/hr連續添加於反應容器內，在丙烯酸樹脂濃度成為35%之時間點停止乙酸乙酯的添加，進一步以該溫度保溫至開始添加乙酸乙酯起經過12小時為止。最後添加乙酸乙酯並以丙烯酸樹脂濃度成為20%之方式調節，而調製丙烯酸樹脂之乙酸乙酯溶液。所得丙烯酸樹脂之GPC之聚苯乙烯換算之重量平均分子量Mw為75萬6000，Mw/Mn為4.1。將其作為丙烯酸樹脂(B)。
表1中，單體組成之欄中之符號分別為以下單體。
[單體(A-1)]
BA：丙烯酸丁酯。
MA：丙烯酸甲酯。
PEA：丙烯酸2-苯氧基乙酯。
[單體(A-2)]
HEA：丙烯酸2-羥基乙酯。
[單體(A-3)]
AA：丙烯酸。
使用前述所製造之丙烯酸樹脂調製黏著劑組成物，並使用其製作實施例及比較例之光學膜。交聯劑、矽烷化合物及光選擇吸收性化合物係分別使用下述者。
[交聯劑(B)]
CORONATE L：甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成體之乙酸乙酯溶液(固形分濃度75%)，日本POLYURETHANE股份有限公司製。
TAKENATE D-110N：二甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物之乙酸乙酯溶液(固形分濃度75%)，三井化學股份有限公司製(以下簡稱為「D110N」)。
[矽烷化合物]
KBM-403：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，液體，信越化學工業股份有限公司製(以下簡稱為「KBM-403」)。
[光選擇吸收性化合物] <測定克吸光係數ε>
為了測定所得化合物之克吸光係數而將光吸收性化合物溶解於2-丁酮。將所得溶液放入石英槽，將石英槽設置於分光光度計UV-2450(島津製作所股份有限公司製)， 以雙光束法以1nm step 300至800nm之波長範圍測定吸光度。由所得吸光度之值、溶液中的光吸收性化合物濃度、石英槽之光徑計算每個波長之克吸光係數。
ε(λ)=A(λ)/CL
[式中，ε(λ)表示波長λnm中之化合物之克吸光係數L/(g．cm)，A(λ)表示波長λnm中的吸光度，C表示濃度g/L，L表示石英槽之光徑cm。]
[合成例1]
使設置有戴氏冷卻管、溫度計及攪拌機之300mL四口燒瓶內成為氮氣環境，加入丙二醛二苯胺鹽酸鹽(東京化成工業股份有限公司製)20g、1,3-二甲基巴比妥酸(東京化成工業股份有限公司製)13.3g、甲醇46g，於室溫開始攪拌。將三乙基胺(和光純藥工業股份有限公司製)8.6g由滴入漏斗花費30分鐘滴入，於室溫中持續攪拌1小時。其後使用油浴將內溫升溫至65℃，沸點迴流1小時。反應結束後將內溫冷卻至室溫，濾取所析出之結晶，進一步以甲醇清洗該濕結晶。將清洗後之濕結晶以40℃減壓乾燥，藉此而得到18.5g橙色粉末之UVA-M-01。產率 為84%。
進行1H-NMR解析，因觀測到以下波峰而可確認UVA-M-01的生成。
1H-NMR(DMSO-d6)δ(ppm)：3.07(s,6H),7.04-7.07(m,1H),7.26-7.32(m,4H),7.43(dd,1H),8.07(d,1H),8.55(d,1H),11.4(s,1H)。
[合成例2]
使設置有戴氏冷卻管、溫度計之100mL四口燒瓶內成為氮氣環境，加入UVA-M-01之粉末2.0g、嗎啉(和光純藥工業股份有限公司製)1.6g、2-丙醇(Nacalai Tesque股份有限公司製)10g，以磁攪拌器攪拌。以油浴加溫並於內溫83℃沸點迴流3小時，反應結束後冷卻至室溫。濾取所析出之結晶，將該濕結晶以2-丙醇合計清洗4次後，以40℃減壓乾燥，藉此而得1.6g的橙色粉末之UVA-01。產率為82%。
又，使用分光光度計UV-2450(島津製作所股份有限公司製)測定極大吸收波長(λmax)，λmax=406nm(2-丁酮中)，ε(405)之值為314L/(g．cm)，ε(420)之值為85L/(g．cm)，ε(440)之值為1.3L/(g．cm)。
進行1H-NMR解析，因觀測到以下波峰而可確認UVA-01之生成。
1H-NMR(CDCl3)δ(ppm)：3.27(s,3H),3.29(s,3H),3.50-3.59(m,4H),3.72-3.78(m,4H),7.19-7.32(m,2H),7.95-8.06(m, 1H)。
[合成例3]
使設置有戴氏冷卻管、溫度計之100mL四口燒瓶內成為氮氣環境，加入UVA-M-01之粉末2.0g、二乙基胺(東京化成工業股份有限公司製)1.4g、2-丙醇(Nacalai Tesque股份有限公司製)10g，以磁攪拌器攪拌。以油浴加溫並於內溫52℃保溫5小時，反應結束後冷卻至室溫。使用減壓蒸發器去除2-丙醇，將所得油狀物供於管柱層析法(二氧化矽凝膠)精製，而得1.1g的橙色粉末之UVA-02。產率為58%。又，使用分光光度計UV-2450(島津製作所股份有限公司製)測定極大吸收波長(λmax)，λmax=404nm(2-丁酮中)，ε(405)之值為303L/(g．cm)，ε(420)之值為81L/(g．cm)，ε(440)之值為1.9L/(g．cm)。
進行1H-NMR解析，因觀測到以下波峰而可確認UVA-02之生成。
1H-NMR(CDCl3)δ(ppm)：1.26-1.37(m,6H),3.34(s,3H),3.35(s,3H),3.43-3.56(m,4H),7.27-7.39(m,2H),8.04(d,1H)。
[合成例4]
使設置有戴氏冷卻管、溫度計之200mL四口燒瓶內成為氮氣環境，加入參考專利文獻(日本特開2014-194508)合成之UVA-M-02粉末10g、乙酸酐(和光純藥工業股份有限公司製)3.6g、氰基乙酸2-乙基己基(東京化成工業股份有限公司製)6.9g、及乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)60g，以磁攪拌器攪拌。於內溫25℃將DIPEA(東京化成工業股份有限公司製)4.5g由滴入漏斗花費1小時滴入，滴入結束後於內溫25℃進一步保溫2小時。反應結束後使用減壓蒸發器去除乙腈，供於管柱層析法(二氧化矽凝膠)精製，將含有UVA-03之流出液使用減壓蒸發器去除溶媒，而得黃色結晶。將該結晶以60℃減壓乾燥，藉此而得4.6g的黃色粉末之UVA-03。產率為50%。
以與上述相同方法求取克吸光度係數，ε(405)之值為47L/(g．cm)，ε(420)之值為1.5L/(g．cm)。亦即式(UVA-03)所示化合物係相當於光選擇吸收化合物(a)。
進行1H-NMR解析，因觀測到以下波峰而確認UVA-03之生成。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.87-0.94(m,6H),1.32-1.67(m,8H),1.59-1.66(m,2H),2.09(quin,2H),3.00(m,5H),3.64(t,2H),4.10(dd,2H),5.52(d,2H),7.87(d,2H)。
[合成例5]
於設置有戴氏冷卻管、溫度計之200mL四口燒瓶內，在氮氣環境中加入參考專利文獻(日本特開2014-194508)合成之UVA-M-02粉末10g、乙酸酐(和光純藥工業股份有限公司製)3.6g、氰基乙酸2-辛基己基(東京化成工業股份有限公司製)10g、及乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)60g，以磁攪拌器攪拌。於內溫25℃將DIPEA(東京化成工業股份有限公司製)4.5g由滴入漏斗花費1小時滴入，滴入結束後於內溫25℃進一步保溫2小時。反應結束後使用減壓蒸發器去除乙腈，供於管柱層析法(二氧化矽凝膠)精製，將含有UVA-04之流出液使用減壓蒸發器去除溶媒，而得黃色結晶。將該結晶以60℃減壓乾燥，藉此而得4.6g的黃色粉末之UVA-04。產率為56%。
使用分光光度計UV-2450(島津製作所股份有限公司製)測定吸收極大值波長(λmax)，λmax=386nm(2-丁酮中)，ε(405)之值為45L/(g．cm)，ε(420)之值為2.1L/(g．cm)，ε(440)之值為0.3L/(g．cm)。亦即式(UVA-04)所示化合物係相當於光選擇吸收化合物(a)。
所得光吸收性化合物之克吸光係數測定之 結果示於表2。又，表2中的「-」是指未有ε(440)之吸收。
<黏著劑組成物及黏著劑薄片之調製> (a)黏著劑組成物之調製(製造例1至39)
混合下述表2所記載之丙烯酸樹脂、光選擇吸收性化合物(紫外線吸收劑)、交聯劑及矽烷化合物，而製作黏著劑組成物。又，表2中各成分添加量係相對於前述聚合例1至11所製作丙烯酸樹脂中之固形分100質量份的質量份。又，交聯劑及光選擇吸收性化合物係分別作為2-丁酮溶液而添加於丙烯酸樹脂中。
(a-1)實施例1至4及比較例1至5之黏著劑組成物之調製
根據表2所示處方，相對於丙烯酸樹脂(A)之固形分100質量份以表2所示各別量摻配交聯劑、矽烷化合物及光選擇吸收性化合物。進一步以固形分濃度成為14%之方式添加2-丁酮，使用攪拌機(yamato科學股份有限公司製Three-One Motor)在300rpm攪拌混合30分鐘，而調製各黏著劑組成物。
(a-2)實施例5至8及比較例6之黏著劑組成物之調製
除了將丙烯酸樹脂(A)變更為丙烯酸樹脂(B)以外，以與前述實施例1至4及比較例1至8之相同方法並根據表3所示處方而調製各黏著劑組成物。
(b)黏著劑薄片之製作
於實施脫模處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(LINTEC公司製SP-PLR382050，以下簡稱為「分隔片」)之脫模處理面，以乾燥後黏著劑層之厚度成為20μm之方式使用塗敷器塗布前述(a)所調製的各黏著劑組成物，以100℃乾燥1分鐘而製作黏著劑薄片。
<黏著劑層之吸光度測定>
為了測定所得黏著劑層之吸光度，將黏著劑層貼合於玻璃並剝離分隔片後，於黏著劑層貼合環烯烴聚合物(COP)膜(日本ZEON股份有限公司製ZF-14)，而製作黏著劑層評價用積層體。將所製作之黏著劑層評價用積層體設置於 分光光度計UV-2450(島津製作所股份有限公司製)，以雙光束法以1nm step 300至800nm之波長範圍測定吸光度。所製作的黏著劑層之吸光度示於表4。
<光學積層體之製作(實施例9至16、比較例7至12)>
光學積層體之製作所使用的聚合物膜、裝置及測定方法係如下述。
．環烯烴聚合物(COP)膜使用日本ZEON股份有限公司製的ZF-14。
．電暈處理裝置使用春日電機股份有限公司製的AGF-B10。
．電暈處理係使用上述電暈處理裝置，以輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘之條件進行1次。
．偏光UV照射裝置使用USHIO電機股份有限公司製的附偏光片單元之SPOT CURE SP-7。
．雷射顯微鏡使用OLYMPUS股份有限公司製的LEXT。
．高壓水銀燈使用USHIO電機股份有限公司製的uniQure VB-15201BY-A。
．面內相位差值係使用雙折射測定裝置(王子計測機器股份有限公司製的KOBRA-WR)而測定。
．膜厚係使用日本分光股份有限公司製的橢圓偏光儀M-220而測定。
光學各向異性層或積層體等之製造係使用以下所示「光配向膜形成用組成物」、「摩擦配向性聚合物組成物」、「含有聚合性液晶化合物之組成物」、及「偏光板」。
<光配向膜形成用組成物之調製>
將下述構造之光配向性材料5份及環戊酮(溶劑)95份之成分混合，將所得混合物於80℃攪拌1小時，藉此而得光配向膜形成用組成物。下述光配向性材料係以日本特開2013-33248號公報所記載之方法合成。
<含有聚合性液晶化合物之組成物A之調製>
將下述構造之聚合性液晶化合物A、聚丙烯酸酯化合物(調平劑)(BYK-361N；BYK-Chemie公司製)、及下述聚 合起始劑與溶劑之成分混合，而得含有聚合性液晶化合物之組成物。
聚合性液晶化合物A(12.0份)：
聚合性液晶化合物A係以日本特開2010-31223號公報所記載之方法合成。聚合性液晶化合物A之極大吸收波長λmax(LC)為350nm。
聚合起始劑(0.72份)：2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(IRGACURE 369；Ciba Specialty Chemicals公司製)。
調平劑(0.12份)：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司製)。
溶劑：環戊酮(100份)。
[實施例8] <偏光板之製造>
將厚度30μm之聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%以上)以乾式延伸單軸延伸至約4倍，進一步在保持繃緊狀態下於40℃之純水中浸漬40秒後，於碘/碘化鉀/水之重量比為0.044/5.7/100之染色水溶液中以28℃ 浸漬30秒並進行染色處理。其後於碘化鉀/硼酸/水之重量比為11.0/6.2/100之硼酸水溶液中以70℃浸漬120秒。接著以8℃純水清洗15秒後，在以300N張力保持之狀態下，以60℃乾燥50秒，接著以75℃乾燥20秒，而得於聚乙烯醇膜吸附配向碘之厚度12μm之偏光片。
於所得偏光片與環烯烴聚合物膜(COP，日本ZEON股份有限公司製之ZF-4，無UV吸收特性，30μm)間注入水系接著劑，以夾輥使其貼合。一邊將所得貼合物之張力保持於430N/m，一邊以60℃乾燥2分鐘，而得單面具有環烯烴膜作為保護膜之42μm之偏光板。又，上述水系接著劑係於水100份添加羧基改質聚乙烯醇(Kuraray股份有限公司製；Kuraray POVAL KL318)3份、及水溶性聚醯胺環氧樹脂(Sumika Chemtex股份有限公司製；Sumirez Resin 650；固形分濃度30%之水溶液)1.5份而調製。
用以下方式測定所得偏光板之偏光度Py及單體穿透率Ty。
使用於分光光度計(UV-2450；島津製作所股份有限公司製)裝設偏光片鏡架的裝置，以雙光束法以2nm step 380至680nm之波長範圍測定穿透軸方向之單體穿透率(T1)及吸收軸方向之單體穿透率(T2)。使用下述式(p)以及(q)計算各波長中的單體穿透率、偏光度，進一步根據JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行視感度修正，而計算視感度修正單體穿透率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)。其結果獲得視 感度修正單體穿透率Ty為43.0%、視感度修正偏光度Py為99.99%之吸收型偏光板。
單體穿透率Ty(%)={(T1+T2)/2}×100 (p)
偏光度Py(%)={(T1-T2)/(T1+T2)}×100 (q)
<光學各向異性層之製造>
將環烯烴聚合物膜(COP，日本ZEON股份有限公司製ZF-14)使用電暈處理裝置(AGF-B10，春日電機股份有限公司製)以輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘之條件進行1次處理。於實施電暈處理之表面以棒塗布器塗布光配向膜形成用組成物，以80℃乾燥1分鐘，使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份有限公司製)以100mJ/cm2之累積光量實施偏光UV曝光。以橢圓偏光儀測定所得配向膜之膜厚為100nm。
接著於配向膜上使用棒塗布器塗布先前所調製的含有聚合性液晶化合物之組成物A所構成之塗布液，以120℃乾燥1分鐘後，使用高壓水銀燈(uniQure VB-15201BY-A，USHIO電機股份有限公司製)，將含有聚合性液晶化合物之組成物由塗布面側照射紫外線(氮氣環境下，波長313nm中的累積光量：500mJ/cm2)，藉此形成含有光學各向異性層1之光學膜。以雷射顯微鏡測定所得光學各向異性層1之膜厚為2μm。
於所得光學膜之光學各向異性層1側貼合製造例2所製作之黏著劑組成物後，使用電暈處理裝置 (AGF-B10，春日電機股份有限公司製)以輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘之條件貼合於經1次處理之偏光板。此時以使相對於偏光板之吸收軸的光學各向異性層之慢軸的關係成為45°之方式積層，而形成圓偏光板。其後剝離基材之COP膜，藉此而得於偏光板轉印光學各向異性層1之光學積層體1(圓偏光板1)。所得光學積層體1之厚度為64μm。
為了測定光學積層體1之光學特性，藉由轉印於玻璃而製作測定用樣品。藉由雙折射測定裝置(KOBRA-WR；王子計測機器股份有限公司製)而測定該樣品之波長450nm、波長550nm以及波長630nm之相位差值。以分光光度計(UV-2450；島津製作所股份有限公司製)測定穿透率。又，於光源側配置偏光稜鏡，藉此成為完全線性偏光，藉由將該線性偏光照射於測定用樣品而測定。此時係與光學積層體之偏光板側之穿透軸平行地入射線性偏光，藉此測定偏光板穿透方向之波長405nm中光學積層體之穿透率Tp(405)、偏光板穿透方向之波長420nm中光學積層體之穿透率Tp(420)、偏光板穿透方向之波長440nm中光學積層體之穿透率Tp(440)。其結果示於表5。
[實施例9至16、比較例7至12]
分別使用下述表3所記載之黏著劑組成物，以與前述實施例9相同方法製作轉印有光學各向異性層之光學積層體(圓偏光板)。以與實施例9相同方法測定所得光學積層 體(圓偏光板)之光學特性。
<光學積層體之評價>
對上述所製作之光學積層體進行光學耐久性試驗、耐熱試驗、耐濕熱試驗及耐熱衝擊試驗並評價。又，各試驗係根據以下方法進行。
光學耐久性試驗(表4中記載為「SWOM」)：日光耐候試驗機(Suga試驗機股份有限公司製：型號SUNSHINE WEATHER METER S80)投入光學積層體，照射100小時後，測定波長450nm、波長550nm以及波長630nm之相位差值。由光學耐久性試驗前後之相位差值變化根據以下基準評價。結果示於表4。
[光學耐久性試驗之評價基準]
A：光學耐久性試驗前後之Re變化未滿1。
B：光學耐久性試驗前後之Re變化為1以上且未滿5。
C：光學耐久性試驗前後之Re變化為5以上。
耐熱試驗(表4中記載為「耐熱」)：於恆溫槽(ESPEC股份有限公司製：型號PL-3KT)投入光學積層體，以溫度85℃之乾燥條件下分別放置250小時、500小時後，目視觀察光學積層體之外觀狀態，根據以下評價基準評價。結果示於表4。
[耐熱試驗之評價基準]
A：500小時後之樣品幾乎未見浮翹、剝離、發泡等外觀變化。
B：250小時後之樣品幾乎未見浮翹、剝離、發泡等外觀變化。
C：250小時後之樣品明顯確認到浮翹、剝離、發泡等外觀變化。
耐濕熱試驗(表4中記載為「耐濕熱」)：於恆溫槽(ESPEC股份有限公司製：型號PH-4KT)投入光學積層體，以溫度60℃、相對濕度90%分別放置250小時、500小時後，目視觀察光學積層體之外觀狀態，根據以下評價基準評價。結果示於表5。
[耐濕熱試驗之評價基準]
A：500小時後之樣品幾乎未見浮翹、剝離、發泡等外觀變化。
B：250小時後之樣品幾乎未見浮翹、剝離、發泡等外觀變化。
C：250小時後之樣品明顯確認到浮翹、剝離、發泡等 外觀變化。
由表5之結果可知：未添加光選擇吸收性化合物之比較例7及12、及單獨添加光選擇吸收化合物之比較例8及比較例9中，Tp(420)之值超過50%，濾藍光功能較低。
由表6之結果可知：未添加光選擇吸收性化合物之比較例7及11中，光學耐久性試驗後之Re(450)之值大幅變化為為10以上，係未能抑制光學膜之劣化。又，單獨添加光吸收性化合物(a)之比較例10、11中，光學耐久性試驗後之Re(450)之值未滿5，雖可抑制光學膜之劣化但仍未能充分抑制。
另一方面，添加有光吸收性化合物(a)及光吸收性化合物(b)之實施例9至16中，光學耐久性試驗後之Re(450)之值未滿1，可充分抑制光學膜之劣化。又，各耐久試驗後亦未產生浮翹、剝離、發泡等，亦無外觀變化，可知耐 久性優異。
使用本發明之黏著劑組成物之附黏著劑層之膜係具有良好的濾藍光功能且可抑制光學膜之劣化。
(產業利用性)
使用本發明之黏著劑組成物之附黏著劑層之膜係具有良好的顯示特性，且可抑制光學膜之劣化。

Claims (15)

  1. 一種黏著劑組成物，係含有滿足下述式(1)之至少1種以上的光吸收性化合物(a)、及滿足下述式(2)之至少1種以上的光吸收性化合物(b)；ε(405)≧20 (1) ε(420)≧5 (2)式中，ε(405)表示波長405nm中之化合物之克吸光係數，ε(440)表示波長440nm中之化合物之克吸光係數，ε(420)表示波長420nm中之化合物之克吸光係數，克吸光係數之單位定義為L/(g．cm)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之黏著劑組成物，其中，光吸收性化合物(a)為更滿足式(3)之化合物；ε(405)/ε(440)≧20 (3)式中，ε(405)、ε(440)與上述同義。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之黏著劑組成物，其中，光吸收性化合物(b)為更滿足式(4)之化合物；ε(420)/ε(440)≧4 (4)式中，表示波長440nm中之化合物之克吸光係數，ε(440)表示波長440nm中之化合物之克吸光係數。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之黏著劑組成物，其中，光吸收性化合物(a)之極大吸收波長的最大值與光吸收性化合物(b)之極大吸收波長的最大值之差通常為3nm以上。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之黏著劑組成 物，更含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)及交聯劑(B)。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之黏著劑組成物，其中，光吸收性化合物(a)與光吸收性化合物(b)之合計含量相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份為0.01至20質量份。
  7. 如申請專利範圍第5或6項所述之黏著劑組成物，其中，交聯劑(B)之含量相對於(甲基)丙烯酸樹脂(A)100質量份為0.01至10質量份。
  8. 一種光學積層體，係含有由如申請專利範圍第1至7項中任一項所述之黏著劑組成物所形成之黏著劑層、及樹脂膜。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之光學積層體，其中，樹脂膜為選自相位差膜及偏光膜中之至少1種膜。
  10. 一種光學積層體，係含有由如申請專利範圍第1至7項中任一項所述之黏著劑組成物所形成之黏著劑層、偏光膜、及相位差膜。
  11. 如申請專利範圍第8至10項中任一項所述之光學積層體，其中，黏著劑層之厚度為0.1至30μm。
  12. 如申請專利範圍第8至11項中任一項所述之光學積層體，其中，黏著劑層滿足下述式(4)；A(405)≧0.5 (4)式中，A(405)表示波長405nm中之黏著劑層之吸光度。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之光學積層體，其中，黏著劑層更滿足下述式(5)； A(420)≧0.1 (5)式中，A(420)表示波長420nm中之黏著劑層之吸光度。
  14. 如申請專利範圍第10或11項所述之光學積層體，其中，黏著劑層更滿足下述式(6)；A(440)≦0.1 (6)式中，A440表示波長440nm中之黏著劑層之吸光度。
  15. 一種顯示裝置，係含有如申請專利範圍第8至14項中任一項所述之光學積層體。
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