[go: up one dir, main page]

TW201811926A - 光敏樹脂組成物、光敏材料、彩色濾光片及顯示器裝置 - Google Patents

光敏樹脂組成物、光敏材料、彩色濾光片及顯示器裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW201811926A
TW201811926A TW106123548A TW106123548A TW201811926A TW 201811926 A TW201811926 A TW 201811926A TW 106123548 A TW106123548 A TW 106123548A TW 106123548 A TW106123548 A TW 106123548A TW 201811926 A TW201811926 A TW 201811926A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
chemical formula
substituted
carbon atoms
resin composition
Prior art date
Application number
TW106123548A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI642731B (zh
Inventor
李在容
梁承秦
柳璋鉉
李多美
朴鍾鎬
朴相均
金載駿
李修蓮
Original Assignee
Ｌｇ化學股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ｌｇ化學股份有限公司 filed Critical Ｌｇ化學股份有限公司
Publication of TW201811926A publication Critical patent/TW201811926A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI642731B publication Critical patent/TWI642731B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00—Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/04—Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
    • C09B11/10—Amino derivatives of triarylmethanes
    • C09B11/24—Phthaleins containing amino groups ; Phthalanes; Fluoranes; Phthalides; Rhodamine dyes; Phthaleins having heterocyclic aryl rings; Lactone or lactame forms of triarylmethane dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/78—Ring systems having three or more relevant rings
    • C07D311/80—Dibenzopyrans; Hydrogenated dibenzopyrans
    • C07D311/82—Xanthenes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B1/00—Dyes with anthracene nucleus not condensed with any other ring
    • C09B1/16—Amino-anthraquinones
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00—Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/04—Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00—Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/04—Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
    • C09B11/10—Amino derivatives of triarylmethanes
    • C09B11/12—Amino derivatives of triarylmethanes without any OH group bound to an aryl nucleus
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0033—Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0033—Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
    • C09B67/0034—Mixtures of two or more pigments or dyes of the same type
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

本發明提供一種光敏樹脂組成物與包含其的彩色濾光片。本說明書是有關於一種包含由化學式1表示的化合物、與由化學式2表示的化合物的光敏樹脂組成物與包含其的彩色濾光片。

Description

光敏樹脂組成物與包含其的彩色濾光片
本說明書是有關於一種光敏樹脂組成物與包含其的彩色濾光片。
近年來，對於彩色濾光片，要求以高亮度、高對比率（contrast ratio）為特徵的性能。另外，顯示元件開發的主要目的之一在於由色純度的提升帶來的顯示元件性能的差別化及製造步驟上的生產性的提升。
先前，用作彩色濾光片的著色劑的顏料類型是以粒子分散狀態存在於彩色光阻劑中，因此，難以藉由調節顏料粒子的尺寸與分佈來調節亮度及對比率。於為顏料粒子的情況下，於彩色濾光片內凝聚，溶解及分散性差，由於凝聚（aggregation）的大粒子而引起光的多重散射（multiple scattering）。已指出此種偏光的光的散射是使對比率降低的主要原因。為了藉由顏料的超微粒化及分散穩定化來提升亮度及對比率，正在不斷地進行努力，但就用以實現高色純度的顯示裝置用色座標的著色劑的選定而言，自由度受限。另外，使用已開發出的著色材料、尤其是顏料的顏料分散法於提升使用其的彩色濾光片的色純度、亮度及對比率的方面已達到極限。因此，要求開發可提高色純度、且提升色彩再現、亮度及對比率的著色劑或者包含其的光敏樹脂組成物。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開平9-87534號公報
[發明所欲解決的課題] 本發明是有關於一種光敏樹脂組成物、使用其所製造的彩色濾光片。
[解決課題之手段] 本發明的一實施態樣提供一種包含由下述化學式1表示的化合物、與由下述化學式2表示的化合物的光敏樹脂組成物。 [化學式1][化學式2] [(RSiO1.5)n ] 化學式1中， LA 及LB 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為直接鍵結或碳數1～10的伸烷基， RA ～RF 可彼此相同亦可不同，分別獨立地選自由氫、重氫、鹵素原子、硝基、經取代或未經取代的碳數1～30的直鏈或分支鏈的烷基、經取代或未經取代的碳數1～30的烷氧基、經取代或未經取代的碳數6～30的單環或多環的芳基、及經取代或未經取代的碳數1～30的單環或多環的雜芳基所組成的群組中， R1 ～R6 可彼此相同亦可不同，分別獨立地選自由氫、重氫、鹵素原子、經取代或未經取代的碳數1～6的直鏈或分支鏈的烷基、及經取代或未經取代的碳數1～6的烷氧基、磺酸基、磺酸酯基、磺酸鹽基、-SO2 NHR7 基及-SO2 NR8 R9 所組成的群組中， R7 ～R9 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為直鏈或分支鏈的碳數1～10的烷基， X1 ～X5 可彼此相同亦可不同，分別獨立地選自由氫、重氫、陰離子性基、羥基、經取代或未經取代的碳數1～30的烷基、經取代或未經取代的碳數6～30的單環或多環的芳基、及經取代或未經取代的碳數1～30的單環或多環的雜芳基所組成的群組中， 所述X1 ～X5 的至少一個為陰離子性基， RAA 及RBB 可彼此相同亦可不同，分別獨立地選自由氫、重氫、經取代或未經取代的碳數1～30的烷基、經取代或未經取代的碳數1～30的烷氧基、經取代或未經取代的碳數6～30的單環或多環的芳基、經取代或未經取代的碳數1～30的單環或多環的雜芳基、鹵素原子、硝基、苯氧基、羧基、羧酸酯基、羧酸鹽基、烷氧基羰基、羥基、磺酸基、磺酸酯基、磺酸鹽基、-SO2 NHR'及-SO2 NR''R'''所組成的群組中， a及b可彼此相同亦可不同，分別獨立地為0～4的整數， 於a及b為2以上的情況下，括號內的結構可彼此相同亦可不同， R'、R''及R'''可彼此相同亦可不同，分別獨立地為碳數1～30的烷基， 化學式2中， n為4以上的偶數， R由-(L1 )n1 -R7 表示， 多個R可彼此相同亦可不同， L1 為直接鍵結、-O-、-S-或碳數1～30的伸烷基， n1為1～5的整數， 於n1為2以上的情況下，L1 可彼此相同亦可不同， R7 為氫、重氫、-OH、環氧基（epoxide group）、-SH、-NH2 、、-N=C=O、-C=C-、碳數1～30的經取代或未經取代的烷基、碳數6～30的芳基或者碳數1～30的雜環基。
另外，本發明的一實施態樣提供一種使用所述光敏樹脂組成物所製造的光敏材料與包含其的彩色濾光片。
[發明的效果] 關於本發明的一實施態樣的光敏樹脂組成物，於形成彩色濾光片用圖案的情況下，當於圖案內實現孔（hole）時，可使感度降低並且提高亮度。 另外，本發明的一實施態樣的光敏樹脂組成物即使感度低，圖案與基板的密著力亦優異。
以下，對本說明書進行更詳細的說明。 本說明書中，於設為某部分「包含」某構成要素的情況下，只要無特別相反的記載，則該情況並非意味著排除其他構成要素，而是指可更包含其他構成要素。 根據本說明書的一實施態樣，提供一種包含由所述化學式1表示的化合物、與由所述化學式2表示的化合物的光敏樹脂組成物。
本說明書中，「經取代或未經取代的」這一用語是指經選自包含重氫、鹵素原子、烷基、烯基、烷氧基、環烷基、芳基烯基、芳基、芳基氧基、芳烷基、芳烯基、烷基胺基、芳烷基胺基、芳基胺基、雜芳基、咔唑基、丙烯醯基、丙烯酸酯基、醚基、腈基、硝基、羥基、氰基、含有N原子、O原子、S原子或P原子中的一個以上的雜芳基及陰離子性基的群組中的一個以上的取代基所取代或者不具有任何取代基。
本說明書中，所述烷基可為直鏈或分支鏈，並無特別限定，碳數可為1～30。作為具體例，可列舉甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第三丁基、戊基、己基及庚基等，但並不限定於該些。 本說明書中，所述烯基可為直鏈或分支鏈，并無特別限定，碳數可為2～25。作為具體例，可列舉二苯乙烯（stylbenyl）基、苯乙烯（styrenyl）基等芳基經取代而成的烯基，但並不限定於該些。 本說明書中，所述烷氧基可為直鏈或分支鏈，并無特別限定，碳數可為1～30。 本說明書中，環烷基并無特別限定，碳數可為3～20，尤其可為環戊基、環己基。 本說明書中，作為鹵素原子的例子，可列舉氟、氯、溴或碘。
本說明書中，芳基可為單環式芳基或多環式芳基。 於所述芳基為單環式芳基的情況下，并無特別限定，碳數可為6～40。具體而言，作為單環式芳基，可列舉苯基、聯苯基或聯三苯基等，但並不限定於此。 於所述芳基為多環式芳基的情況下，并無特別限定，碳數可為10～40。具體而言，作為多環式芳基，可列舉萘基、蒽基、菲基、芘基、苝基、䓛基或茀基等，但並不限定於此。 於所述茀基被取代的情況下，可成為、等螺茀基，(9,9-二甲基茀基)及(9,9-二苯基茀基)等經取代而成的茀基。但是，並不限定於此。
本說明書中，雜環基為含有N、O、P、S、Si及Se中的一個以上作為異種原子的雜環基，碳數並無特別限定。根據一實施態樣，所述雜環基的碳數為1～30。作為雜環基的例子，可列舉吡啶基、吡咯基、嘧啶基、噠嗪基、呋喃基、噻吩基、咪唑基、吡唑基、噁唑基、異噁唑基、噻唑基、異噻唑基、三唑基、噁二唑基、噻二唑基、二噻唑基、四唑基、吡喃基、噻喃基、吡嗪基、噁嗪基、噻嗪基、二噁烯基（dioxinyl）、三嗪基、四嗪基、喹啉基（quinolinyl）、異喹啉基、喹啉基（quinolyl）、喹唑啉基、喹噁啉基、萘啶基、吖啶基、呫噸基、啡啶基、二氮雜萘基、三氮雜茚基、吲哚基、吲哚啉基、吲嗪基、酞嗪基、吡啶并嘧啶基、吡啶并吡嗪基、吡嗪并吡嗪基、苯并噻唑基、苯并噁唑基、苯并咪唑基、苯并噻吩基、苯并呋喃基、二苯并噻吩基、二苯并呋喃基、咔唑基、苯并咔唑基、二苯并咔唑基、吲哚并咔唑基、茚并咔唑基、啡嗪基、咪唑并吡啶基、啡噁嗪基、啡啶基、啡啉（phenanthroline）基、啡噻嗪（phenothiazine）基、咪唑并啡啶基、苯并咪唑并喹唑啉基或者苯并咪唑并啡啶基等，但並非僅限定於該些。
本說明書的一實施態樣中，所述雜環基的形成環的元素的數量為3～60。另外於一實施態樣中，所述雜環基的形成環的元素的數量為3～40。進而於一實施態樣中，所述雜環基的形成環的元素的數量為3～20。
本說明書中，所述雜芳基為含有O、N、S或P作為異種原子的芳香族的雜環基，並無特別限定，碳數可為1～30。作為雜環基的例子，可列舉噻吩基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、噻唑基、噁唑基、噁二唑基、三唑基、吡啶基、聯吡啶基、三嗪基、吖啶基（acridyl）、噠嗪基、喹啉基、異喹啉基、吲哚基、咔唑基、苯并噁唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、苯并咔唑基、苯并噻吩基、二苯并噻吩基、苯并呋喃基及二苯并呋喃基等，但並非僅限定於該些。本說明書中，雜芳基除了為芳香族以外，可應用關於所述雜環基的說明。
本說明書中，伸烷基是指於烷烴（alkane）中有兩個鍵結位置的基團。所述伸烷基可為直鏈、分支鏈或環鏈。伸烷基的碳數並無特別限定，可為2～25。
本說明書中，伸芳基（arylene）除了為二價基以外，可應用關於所述芳基的說明。
本說明書中，伸雜芳基除了為二價基以外，可應用關於所述雜芳基的說明。
本說明書中，鄰接的基團彼此鍵結而形成經取代或未經取代的環，是指形成經取代或未經取代的脂肪族烴環、經取代或未經取代的芳香族烴環、經取代或未經取代的脂肪族雜環、經取代或未經取代的芳香族雜環或者該些的縮合環。
本說明書中，所謂脂肪族烴環，為並非芳香族的環，是指僅包含碳原子與氫原子的環。 具體而言，作為脂肪族烴環的例子，可列舉環丙烷、環丁烷、環丁烯、環戊烷、環戊烯、環己烷、環己烯、1,4-環己二烯、環庚烷、環庚烯、環辛烷、環辛烯等，但並非僅限定於該些。
本說明書中，所謂芳香族烴環，是指僅包含碳原子與氫原子的芳香族的環。本說明書中，作為芳香族烴環的具體例，可列舉苯、萘、蒽、菲、苝、螢蒽（fluoranthene）、聯伸三苯、萉、芘、稠四苯、䓛、稠五苯、茀、茚、苊、苯并茀、螺茀等，但並非僅限定於該些。
本說明書中，所謂脂肪族雜環，是指含有雜原子中的一個以上的脂肪族環。具體而言，作為脂肪族雜環的例子，可列舉氧雜環丙烷（oxirane）、四氫呋喃、1,4-二噁烷（1,4-dioxane）、吡咯啶、哌啶、嗎啉（morpholine）、氧雜環庚烷（oxepan）、氮雜環辛烷（azocane）、硫雜環辛烷（thiocane）等，但並非僅限定於該些。
本說明書中，所謂芳香族雜環，是指含有雜原子中的一個以上的芳香族環。具體而言，作為芳香族雜環的例子，可列舉吡啶、吡咯、嘧啶、噠嗪、呋喃、噻吩、咪唑、吡唑、噁唑、異噁唑、噻唑、異噻唑、三唑、噁二唑、噻二唑、二噻唑、四唑、吡喃、噻喃、二嗪、噁嗪、噻嗪、戴奧辛（dioxin）、三嗪、四嗪、異喹啉、喹啉、氫醌（quinol）、喹唑啉、喹噁啉、萘啶、吖啶、啡啶、二氮雜萘、三氮雜茚、吲哚、吲嗪（indolizine）、苯并噻唑、苯并噁唑、苯并咪唑、苯并噻吩、苯并呋喃、二苯并噻吩、二苯并呋喃、咔唑、苯并咔唑、二苯并咔唑、啡嗪、咪唑并吡啶、啡噁嗪、啡啶、吲哚并咔唑、茚并咔唑等，但並非僅限定於該些。
本說明書中，所述脂肪族烴環、芳香族烴環、脂肪族雜環及芳香族雜環可為單環，亦可為多環。
本說明書的一實施態樣中，LA 及LB 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為直接鍵結或碳數1～10的伸烷基。 一實施態樣中，LA 及LB 分別為伸丙基。
本說明書的一實施態樣中，RA ～RF 可彼此相同亦可不同，分別獨立地選自由氫、重氫、鹵素原子、硝基、經取代或未經取代的碳數1～30的烷基、經取代或未經取代的碳數1～30的烷氧基、經取代或未經取代的碳數6～30的單環或多環的芳基、及經取代或未經取代的碳數1～30的單環或多環的雜芳基所組成的群組中。 一實施態樣中，RA ～RF 為氫。 根據本說明書的一實施態樣，R1 ～R6 可彼此相同亦可不同，分別獨立地選自由氫、重氫、經取代或未經取代的碳數1～6的直鏈或分支鏈的烷基、磺酸基、磺酸鹽基、-SO2 NHR7 基及-SO2 NR8 R9 所組成的群組中。 R7 ～R9 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為直鏈或分支鏈的碳數1～10的烷基。 根據本說明書的一實施態樣，R1 ～R6 可彼此相同亦可不同，分別獨立地選自由氫、重氫、經取代或未經取代的碳數1～6的直鏈或分支鏈的烷基及磺酸鹽基所組成的群組中。
本說明書的一實施態樣中，X1 ～X5 可彼此相同亦可不同，分別獨立地選自由氫、重氫、陰離子性基、羥基、經取代或未經取代的碳數1～30的烷基、經取代或未經取代的碳數6～30的單環或多環的芳基、及經取代或未經取代的碳數1～30的單環或多環的雜芳基所組成的群組中，所述X1 ～X5 的至少一個為陰離子性基。
本說明書的一實施態樣中，所述陰離子性基為選自由-OH、-SO3 - 、-SO3 H、-SO3 - Z+ 、-CO2 H、-O2 - Z+ 、-CO2 Ra 、-SO3 Rb 及-SO3 NRc Rd 所組成的群組中的至少一者，Z+ 表示N(Re )4 + 、Na+ 或K+ ，Ra ～Re 分別獨立地為選自由經取代或未經取代的碳數1～30的直鏈或分支鏈的烷基、經取代或未經取代的碳數6～30的單環或多環的芳基、及經取代或未經取代的碳數1～30的單環或多環的雜芳基所組成的群組中的至少一者。 根據本說明書的另一實施態樣，所述陰離子性基可為-SO3 - 或-SO3 - Na+ 。 所述陰離子性基可以其自身具有陰離子，或者亦可與其他陽離子一併以錯合化合物的形態存在。因而，根據經取代的陰離子性基的個數，化學式1的化合物的分子的總電荷之和可改變。於本發明的化合物的一個胺基中具有陽離子，因此，分子的總電荷之和可具有從自經取代的陰離子性基的個數減去1所得的值的陰離子至0的值。
本說明書的一實施態樣中，R'、R''及R'''可彼此相同亦可不同，分別獨立地為碳數1～30的烷基。
本說明書的一實施態樣中，L1 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為直接鍵結、-O-、-S-或碳數1～30的伸烷基。 一實施態樣中，L1 為-O-。 一實施態樣中，L1 為亞甲基、伸乙基或伸丙基。 本說明書的一實施態樣中，R1 為氫、重氫、-OH、環氧基、-SH、碳數1～30的經取代或未經取代的烷基、碳數6～30的芳基或者碳數1～30的雜環基。 一實施態樣中，R7 為-SH。 一實施態樣中，R7 為環氧基。 一實施態樣中，R7 為苯基。
本說明書的一實施態樣中，所述R可由下述化學式2-a～化學式2-e的任一者表示。 [化學式2-a][化學式2-b][化學式2-c][化學式2-d][化學式2-e]
一實施態樣中，所述R可由所述化學式2-b及化學式2-c的任一者表示。 本說明書的一實施態樣中，由所述化學式2表示的化合物可為荒川化學工業股份有限公司的SQ506。 本說明書的一實施態樣中，由所述化學式2表示的化合物可為信越化學工業股份有限公司的KBM-503。
本說明書的一實施態樣中，所述光敏樹脂組成物可更包含黏合劑樹脂、多官能性單體、光起始劑及溶媒。
所述黏合劑樹脂若為可顯示出由樹脂組成物所製造的膜的強度、顯影性等物性者，則並無特別限定。 作為所述黏合劑樹脂，能夠使用賦予機械強度的多官能性單體與賦予鹼溶解性的單體的共聚樹脂，亦可更包含本技術領域中通常所使用的黏合劑。 一實施態樣中，作為所述黏合劑樹脂，可列舉丙烯酸系黏合劑樹脂。
作為賦予所述膜的機械強度的多官能性單體，可列舉選自包含不飽和羧酸酯類、芳香族乙烯基類、不飽和醚類、不飽和醯亞胺類及酸酐的群組中的任一者以上。 作為所述不飽和羧酸酯類的具體例，選自由(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-氯丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸醯基辛基氧基-2-羥基丙酯、丙三醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇)甲醚(甲基)丙烯酸酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸1,1,1,3,3,3-六氟異丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、α-羥基甲基丙烯酸甲酯、α-羥基甲基丙烯酸乙酯、α-羥基甲基丙烯酸丙酯及α-羥基甲基丙烯酸丁酯所組成的群組中，但並非僅限定於該些。 作為所述芳香族乙烯基類的單體的具體例，選自由苯乙烯、α-甲基苯乙烯、(鄰、間、對)-乙烯基甲苯、(鄰、間、對)-甲氧基苯乙烯及(鄰、間、對)-氯苯乙烯所組成的群組中，但並非僅限定於該些。 作為所述不飽和醚類的具體例，選自由乙烯基甲醚、乙烯基乙醚及烯丙基縮水甘油醚所組成的群組中，但並非僅限定於該些。 作為所述不飽和醯亞胺類的具體例，選自由N-苯基馬來醯亞胺、N-(4-氯苯基)馬來醯亞胺、N-(4-羥基苯基)馬來醯亞胺及N-環己基馬來醯亞胺所組成的群組中，但並非僅限定於該些。 作為所述酸酐，可列舉馬來酸酐、甲基馬來酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐等，但並非僅限定於該些。
作為所述賦予鹼溶解性的單體，若為包含酸基者，則並無特別限定，例如較佳為使用選自由(甲基)丙烯酸、巴豆酸、衣康酸、馬來酸、富馬酸、馬來酸單甲酯、5-降冰片烯-2-羧酸、鄰苯二甲酸單-2-((甲基)丙烯醯氧基)乙酯、琥珀酸單-2-((甲基)丙烯醯氧基)乙酯、ω-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯所組成的群組中的一種以上，但並非僅限定於該些。
根據本說明書的一實施態樣，所述黏合劑樹脂的酸值為50 KOH mg/g～130 KOH mg/g，重量平均分子量為1,000～50,000。
所述多官能性單體為擔負藉由光而形成光阻劑圖像的作用的單體，具體而言，可為選自由丙二醇甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇丙烯酸酯四乙二醇甲基丙烯酸酯、雙苯氧基乙醇二丙烯酸酯、三羥基乙基異氰脲酸酯三甲基丙烯酸酯、三甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、二苯基季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯及二季戊四醇六甲基丙烯酸酯所組成的群組中的一種或兩種以上的混合物。
所述光起始劑若為藉由光而使自由基產生來催化交聯的起始劑，則並無特別限定，例如可為選自由苯乙酮系化合物、聯咪唑系化合物、三嗪系化合物及肟系化合物所組成的群組中的一種以上。
作為所述苯乙酮系化合物，可列舉2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)-苯基-(2-羥基-2-丙基)酮、1-羥基環己基苯基酮、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丁醚、安息香丁醚、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-甲基-(4-甲硫基)苯基-2-嗎啉基-1-丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁烷-1-酮、2-(4-溴-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁烷-1-酮或2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-1-酮等，但並不限定於此。
作為所述聯咪唑系化合物，可列舉2,2-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(3,4,5-三甲氧基苯基)-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2,3-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4,5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑等，但並不限定於此。
作為所述三嗪系化合物，可列舉3-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}丙酸、3-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}丙酸1,1,1,3,3,3-六氟異丙酯、2-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}乙酸乙酯、2-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}乙酸2-環氧基乙酯、2-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}乙酸環己酯、2-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}乙酸苄酯、3-{氯-4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}丙酸、3-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}丙醯胺、2,4-雙(三氯甲基)-6-對甲氧基苯乙烯基-均三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(1-對二甲基胺基苯基)-1,3,-丁二烯基-均三嗪、2-三氯甲基-4-胺基-6-對甲氧基苯乙烯基-均三嗪等，但並不限定於此。
作為所述肟系化合物，可列舉1,2-辛二酮、-1-(4-苯硫基)苯基、-2-(鄰苯甲醯基肟)（汽巴-嘉基（Ciba-Geigy）公司製造，CGI124）、乙酮、-1-(9-乙基)-6-(2-甲基苯甲醯基-3-基)-、1-(O-乙醯基肟)（CGI242）、N-1919（艾迪科（Adeka）公司製造）等，但並不限定於此。
作為所述溶媒，可列舉選自由丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、四氫呋喃、1,4-二噁烷、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲基乙醚、氯仿、二氯甲烷、1,2-二氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、1,1,2-三氯乙烯、己烷、庚烷、辛烷、環己烷、苯、甲苯、二甲苯、甲醇、乙醇、異丙醇、丙醇、丁醇、第三丁醇、2-乙氧基丙醇、2-甲氧基丙醇、3-甲氧基丁醇、環己酮、環戊酮、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、甲基溶纖劑乙酸酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲醚及二丙二醇單甲醚所組成的群組中的一種以上，但並非僅限定於該些。
本說明書的一實施態樣中，以所述光敏樹脂組成物中的固體成分的總重量為基準，由所述化學式1表示的化合物的含量為0.1重量份～50重量份， 由所述化學式2表示的化合物的含量為0.01重量份～10重量份， 所述黏合劑樹脂的含量為1重量份～60重量份， 所述光起始劑的含量為0.1重量份～20重量份， 所述多官能性單體的含量為0.1重量份～50重量份。
所謂所述固體成分的總重量，是指自樹脂組成物中去除溶媒後的成分的總重量之和。固體成分及各成分的以固體成分為基準的重量份的基準可藉由液相層析法或氣相層析法等本領域中所使用的通常的分析手段進行測定。
本說明書的一實施態樣中，所述光敏樹脂組成物可更包含染料及顏料的至少一者。 染料與顏料均為擔負吸收所需範圍的波長而呈現出顏色的作用者，根據對溶媒的溶解度可區分為染料與顏料。染料是指對溶媒的溶解度大而容易溶解者，顏料是指溶解度相對低而難以溶解者。 另外，所述染料可為選自包含蒽醌系染料、四氮雜卟啉系染料及三芳基甲烷系染料的群組中的至少一者。 另外，所述蒽醌系染料可由下述化學式3表示。 [化學式3]所述化學式3中， R11 及R12 分別獨立地為選自由胺基、烷基胺基、二烷基胺基、苯基胺基及二苯基胺基所組成的群組中的至少一者。
另外，根據本說明書的一實施態樣，所述蒽醌系染料可為選自下述化合物中的任一者。
另外，根據本說明書的一實施態樣，所述四氮雜卟啉系染料可選自下述化合物。
另外，根據本說明書的一實施態樣，所述三芳基甲烷系染料可為選自下述化合物中的任一者。
另外，本說明書的一實施態樣中，所述顏料為藍色顏料。 所述藍色顏料作為藍色有機顏料，例如可包含C.I.顏料藍15、C.I.顏料藍15：3、C.I.顏料藍15：4、C.I.顏料藍15：6、C.I.顏料藍60等。 一實施態樣中，所述顏料可包含銅酞青系顏料。 另外，所述藍色染料作為藍色染料，例如可包含甲基系染料、蒽醌系染料、偶氮系染料、三芳基甲烷系染料、酞青系染料等。 另外，所述藍色顏料作為藍色色澱顏料，例如可包含藉由色澱化劑來使如所述般的藍色顏料色澱化而成者等。作為色澱化劑，並無特別限定，例如可使用磷鎢酸、磷鉬酸、磷鎢鉬酸、單寧酸、月桂酸、3,4,5-三羥基苯甲酸、鐵氰化物、亞鐵氰化物等。 作為具體的藍色色澱顏料的例子，可列舉：C.I.顏料藍1、C.I.顏料藍1：2、C.I.顏料藍2、C.I.顏料藍3、C.I.顏料藍8、C.I.顏料藍9、C.I.顏料藍10、C.I.顏料藍12、C.I.顏料藍14、C.I.顏料藍17：1、C.I.顏料藍18、C.I.顏料藍19、C.I.顏料藍24、C.I.顏料藍24：1、C.I.顏料藍53、C.I.顏料藍56、C.I.顏料藍56：1、C.I.顏料藍61、C.I.顏料藍61：1、C.I.顏料藍62、C.I.顏料藍63、C.I.顏料藍78等。
本說明書的一實施態樣中，所述光敏樹脂組成物更包含分散劑，所述分散劑可包含含有由下述化學式11表示的重複單元或由下述化學式12表示的重複單元的聚合體。 [化學式11][化學式12]化學式11及化學式12中， R301 及R401 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為氫或碳數1～10的烷基， R302 、R303 、R402 及R403 可彼此相同亦可不同，可分別獨立地為氫、碳數1～30的烷基、碳數6～30的芳基或碳數1～30的雜芳基，或者 R302 與R303 或者R402 與R403 彼此鍵結而形成經取代或未經取代的環， Ar3 及Ar4 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為直接鍵結、碳數1～10的伸烷基、由-[CH(R311 )-CH(R312 )-O]x -CH(R313 )-CH(R314 )-或-[(CH2 )y1 -O]z -(CH2 )y2 -表示的二價連結基， R311 ～R314 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為氫或碳數1～10的烷基， x為1～18的整數，於x為2以上的情況下，括號內的結構可彼此相同亦可不同， y1及y2可彼此相同亦可不同，分別獨立地為1～5的整數， z為1～18的整數，於z為2以上的情況下，括號內的結構可彼此相同亦可不同， Q為選自由直接鍵結、碳數1～10的伸烷基、碳數6～30的伸芳基、-CONH-、-COO-及碳數1～10的醚基所組成的群組中的任一個或兩個以上連結而成的連結基。
一實施態樣中，以所述樹脂組成物中的固體成分的總重量為基準，可以0.5重量份～50重量份而含有所述分散劑。 根據本說明書的一實施態樣，所述樹脂組成物可更包含抗氧化劑。 根據本說明書的一實施態樣，以所述樹脂組成物中的固體成分的總重量為基準，所述抗氧化劑的含量為0.1重量份～20重量份。
根據本說明書的一實施態樣，所述樹脂組成物更包含選自由光交聯增感劑、硬化促進劑、密著促進劑、界面活性劑、熱聚合防止劑、紫外線吸收劑、分散劑及調平劑所組成的群組中的一種或兩種以上的添加劑。 根據本說明書的一實施態樣，以所述樹脂組成物中的固體成分的總重量為基準，所述添加劑的含量為0.1重量份～20重量份。
作為所述光交聯增感劑，可使用選自由以下化合物所組成的群組中的一種以上：二苯甲酮、4,4-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基胺基二苯甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、3,3,4,4-四(第三丁基過氧化羰基)二苯甲酮等二苯甲酮系化合物；9-茀酮、2-氯-9-茀酮、2-甲基-9-茀酮等茀酮系化合物；硫雜蒽酮、2,4-二乙基硫雜蒽酮、2-氯硫雜蒽酮、1-氯-4-丙基氧基硫雜蒽酮、異丙基硫雜蒽酮、二異丙基硫雜蒽酮等硫雜蒽酮系化合物；氧雜蒽酮、2-甲基氧雜蒽酮等氧雜蒽酮系化合物；蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、第三丁基蒽醌、2,6-二氯-9,10-蒽醌等蒽醌系化合物；9-苯基吖啶、1,7-雙(9-吖啶基)庚烷、1,5-雙(9-吖啶基戊烷)、1,3-雙(9-吖啶基)丙烷等吖啶系化合物；苄基、1,7,7-三甲基-雙環[2,2,1]庚烷-2,3-二酮、9,10-菲醌等二羰基化合物；2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦等氧化膦系化合物；4-(二甲基胺基)苯甲酸甲酯、4-(二甲基胺基)苯甲酸乙酯、2-正丁氧基乙基-4-(二甲基胺基)苯甲酸酯等苯甲酸酯系化合物；2,5-雙(4-二乙基胺基亞苄基)環戊酮、2,6-雙(4-二乙基胺基亞苄基)環己酮、2,6-雙(4-二乙基胺基亞苄基)-4-甲基-環戊酮等胺基增效劑；3,3-羰基乙烯基-7-(二乙基胺基)香豆素、3-(2-苯并噻唑基)-7-(二乙基胺基)香豆素、3-苯甲醯基-7-(二乙基胺基)香豆素、3-苯甲醯基-7-甲氧基-香豆素、10,10-羰基雙[1,1,7,7-四甲基-2,3,6,7-四氫-1H,5H、11H-C1]-苯并吡喃并[6,7,8-ij]-喹嗪-11-酮等香豆素系化合物；4-二乙基胺基查耳酮、4-疊氮基亞苄基苯乙酮等查耳酮化合物；2-苯甲醯基亞甲基、3-甲基-b-萘并噻唑啉。
所述硬化促進劑是為了提高硬化及機械強度而使用者，具體而言，可使用選自由2-巰基苯并咪唑、2-巰基苯并噻唑、2-巰基苯并噁唑、2,5-二巰基-1,3,4-噻二唑、2-巰基-4,6-二甲基胺基吡啶、季戊四醇-四(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇-三(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇-四(2-巰基乙酸酯)、季戊四醇-三(2-巰基乙酸酯)、三羥甲基丙烷-三(2-巰基乙酸酯)及三羥甲基丙烷-三(3-巰基丙酸酯)所組成的群組中的一種以上。
作為本說明書中所使用的密著促進劑，可選擇甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基二甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基二甲氧基矽烷等甲基丙烯醯基矽烷偶合劑中的一種以上來使用，作為烷基三甲氧基矽烷，可選擇辛基三甲氧基矽烷、十二烷基三甲氧基矽烷、十八烷基三甲氧基矽烷等中的一種以上來使用。
所述界面活性劑為矽系界面活性劑或氟系界面活性劑，具體而言，作為矽系界面活性劑，可使用畢克化學（BYK-Chemie）公司的畢克（BYK）-077、畢克（BYK）-085、畢克（BYK）-300、畢克（BYK）-301、畢克（BYK）-302、畢克（BYK）-306、畢克（BYK）-307、畢克（BYK）-310、畢克（BYK）-320、畢克（BYK）-322、畢克（BYK）-323、畢克（BYK）-325、畢克（BYK）-330、畢克（BYK）-331、畢克（BYK）-333、畢克（BYK）-335、畢克（BYK）-341v344、畢克（BYK）-345v346、畢克（BYK）-348、畢克（BYK）-354、畢克（BYK）-355、畢克（BYK）-356、畢克（BYK）-358、畢克（BYK）-361、畢克（BYK）-370、畢克（BYK）-371、畢克（BYK）-375、畢克（BYK）-380、畢克（BYK）-390等，作為氟系界面活性劑，可使用迪愛生（DIC）（大日本油墨化學（DaiNippon Ink & Chemicals））公司的F-114、F-177、F-410、F-411、F-450、F-493、F-494、F-443、F-444、F-445、F-446、F-470、F-471、F-472SF、F-474、F-475、F-477、F-478、F-479、F-480SF、F-482、F-483、F-484、F-486、F-487、F-172D、MCF-350SF、TF-1025SF、TF-1117SF、TF-1026SF、TF-1128、TF-1127、TF-1129、TF-1126、TF-1130、TF-1116SF、TF-1131、TF1132、TF1027SF、TF-1441、TF-1442等，但並非僅限定於該些。
作為所述抗氧化劑，可列舉選自由受阻酚（Hindered phenol）系抗氧化劑、胺系抗氧化劑、硫系抗氧化劑及膦系抗氧化劑所組成的群組中的一種以上，但並非僅限定於該些。 作為所述抗氧化劑的具體例，可列舉：磷酸、磷酸三甲酯或磷酸三乙酯等磷酸系熱穩定劑；2,6-二-第三丁基-對甲酚、十八烷基-3-(4-羥基-3,5-二-第三丁基苯基)丙酸酯、四雙[亞甲基-3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]甲烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)苯、3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基亞磷酸二乙酯、2,2-硫代雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,6-g,t-丁基苯酚4,4'-亞丁基-雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、4,4'-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)或雙[3,3-雙-(4'-羥基-3'-第三丁基苯基)丁酸]二醇酯（Bis[3,3-bis-(4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl)butanoicacid]glycol ester）等受阻酚（Hindered phenol）系的一次抗氧化劑；苯基-α-萘基胺、苯基-β-萘基胺、N,N'-二苯基-對苯二胺或N,N'-二-β-萘基-對苯二胺等胺系的二次抗氧化劑；二月桂基二硫化物、二月桂基硫代丙酸酯、二硬脂基硫代丙酸酯、巰基苯并噻唑或四甲基秋蘭姆二硫化物四雙[亞甲基-3-(月桂基硫代)丙酸酯]甲烷等硫系的二次抗氧化劑；或者三苯基亞磷酸酯、三(壬基苯基)亞磷酸酯、三異癸基亞磷酸酯、雙(2,4-二丁基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯（Bis(2,4-ditbutylphenyl)Pentaerythritol Diphosphite）或(1,1'-聯苯基)-4,4'-二基雙亞膦酸四[2,4-雙(1,1-二甲基乙基)苯基]酯（(1,1'-Biphenyl)-4,4'-Diylbisphosphonous acid tetrakis[2,4-bis(1,1-dimethylethyl)phenyl]ester）等亞磷酸酯系的二次抗氧化劑。
作為所述紫外線吸收劑，可使用2-(3-第三丁基-5-甲基-2-羥基苯基)-5-氯-苯并三唑、烷氧基二苯甲酮等，但並不限定於此，若為本領域中通常所使用者，則均能夠使用。
作為所述熱聚合防止劑，例如可包含選自由對苯甲醚、對苯二酚、鄰苯二酚（pyrocatechol）、第三丁基兒茶酚（t-butyl catechol）、N-亞硝基苯基羥基胺銨鹽、N-亞硝基苯基羥基胺鋁鹽、對甲氧基苯酚、二-第三丁基-對甲酚、鄰苯三酚、苯醌、4,4-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基酚)、2,2-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、2-巰基咪唑及啡噻嗪（phenothiazine）所組成的群組中的一種以上，但並非僅限定於該些，亦可包含本技術領域中通常已知者等。
所述分散劑可藉由以下方法來使用：以預先對顏料進行表面處理的形態使其內部添加於顏料中的方法、或者使其外部添加於顏料中的方法。作為所述分散劑，能夠使用化合物型、非離子性、陰離子性或陽離子性分散劑，可列舉氟系、酯系、陽離子系、陰離子系、非離子系、兩性界面活性劑等。該些可分別使用，或者亦可將兩種以上組合使用。
具體而言，作為所述分散劑，可列舉選自由聚烷二醇及其酯、聚氧伸烷基多元醇、酯環氧烷加成物、醇環氧烷加成物、磺酸酯、磺酸鹽、羧酸酯、羧酸鹽、烷基醯胺環氧烷加成物及烷基胺所組成的群組中的一種以上，但並不限定於此。
所述調平劑可為聚合物性，亦可為非聚合物性。作為聚合物性的調平劑的具體例，可列舉聚乙烯亞胺、聚醯胺胺、胺與環氧化物的反應產物，作為非聚合物性的調平劑的具體例，包含非聚合物含硫化合物及非聚合物含氮化合物，但不限定於此，若為本領域中通常所使用者，則均能夠使用。
本說明書的一實施態樣提供一種光敏樹脂組成物，其包含由下述化學式15表示的化合物、由下述化學式2表示的化合物、染料及分散劑，且所述染料為三芳基甲烷系染料。 [化學式15][化學式2]化學式15中，所述R1 ～R6 、RA ～RD 、RAA 、RBB 及X1 ～X5 的定義及化學式2的定義參照上文所提及的。
本說明書的一實施態樣提供一種使用所述樹脂組成物所製造的光敏材料。 更詳細而言，提供一種藉由適當的方法將本發明的一實施態樣的樹脂組成物塗佈於基材上而成的薄膜或圖案形態的光敏材料。 作為所述塗佈方法，並無特別限制，可使用噴霧法、輥塗法、旋塗法等，通常可廣泛使用旋塗法。另外，於形成塗膜之後，視情況亦可於減壓下去除一部分殘留溶媒。
作為用於使本說明書的樹脂組成物硬化的光源，例如可列舉發出波長為250 nm～450 nm的光水銀蒸汽弧（arc）､碳弧､Xe弧等，但未必限定於此。
本說明書的樹脂組成物可用於薄膜電晶體液晶顯示器（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT LCD）彩色濾光片製造用的顏料分散型光敏材料、薄膜電晶體液晶顯示器（TFT LCD）或有機發光二極體的黑色矩陣形成用光敏材料、外塗層形成用光敏材料、柱狀間隔物（colomn spacer）光敏材料、光硬化性塗料、光硬化性墨水、光硬化性接著劑、印刷板、印刷配線板用光敏材料、電漿顯示器面板（Plasma Display Panel，PDP）用光敏材料等，其用途並無特別限制。
根據本說明書的一實施態樣，提供一種包含所述光敏材料的彩色濾光片。 所述彩色濾光片包含所述光敏樹脂組成物。將所述光敏樹脂組成物塗佈於基板上，形成塗佈（coating）膜，對所述塗佈膜進行曝光、顯影及硬化，藉此可形成彩色濾光片。
本說明書的一實施態樣的樹脂組成物可提供一種於圖案內實現孔（hole）時，使感度降低並且能夠實現高亮度的彩色濾光片。 所述基板可為玻璃板、矽晶圓及聚醚碸（Polyethersulfone，PES）、聚碳酸酯（Polycarbonate，PC）等塑膠基材的板等，其種類並無特別限制。 所述彩色濾光片可包含紅色圖案、綠色圖案、藍色圖案、黑色矩陣。
另外，根據一實施態樣，所述彩色濾光片可更包含外塗層。 於彩色濾光片的彩色畫素之間，出於提升對比度的目的，可配置被稱為黑色矩陣的格子狀的黑色圖案。作為黑色矩陣的材料，可使用鉻。該情況下，可利用以下方式：使鉻蒸鍍於玻璃基板整體上，藉由蝕刻處理來形成圖案。但是，考慮到步驟上的高成本、鉻的高反射率、由鉻廢液引起的環境污染，可使用利用能夠進行微細加工的顏料分散法的樹脂黑色矩陣。
本說明書的一實施態樣的黑色矩陣可使用黑色顏料或黑色染料作為著色劑。例如可單獨使用碳黑，亦可將碳黑與著色顏料混合使用，此時，由於將遮光性不足的著色顏料加以混合，故而有如下優點：即使著色劑的量相對增加，膜的強度或者對基板的密著性亦不會降低。
提供一種包含本說明書的彩色濾光片的顯示器裝置。 所述顯示器裝置可為電漿顯示器面板（Plasma Display Panel，PDP）、發光二極體（Light Emitting Diode，LED）、有機發光元件（Organic Light Emitting Diode，OLED）、液晶顯示器（Liquid Crystal Display，LCD）、薄膜電晶體液晶顯示器（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，LCD-TFT）以及陰極射線管（Cathode Ray Tube，CRT）的任一者。
以下，為了對本說明書進行具體說明，列舉實施例來詳細地說明。但是，本說明書的實施例能夠變形為各種其他形態，本說明書的範圍不可解釋為限定於以下記載的實施例。本說明書的實施例供於對本領域中有平均知識者更完整地說明本說明書。
化合物的合成 為了製造本說明書的一實施態樣的光敏樹脂組成物，藉由下述般的反應式1來生成化合物1。 [反應式1]將5 g的A-1（8.710 mmol）、8.233 g的B-1（34.838 mmol）、4.815 g的K2 CO3 （34.5838 mmol）放入100 ml的N-甲基吡咯啶酮（N-Methyl Pyrrolidone，NMP）中，於95℃下攪拌12小時。之後，於減壓下去除溶媒，將200 ml的水放入析出物中並攪拌1小時。另外，於減壓下對析出物進行過濾，並於80℃下使其乾燥12小時。之後，藉由管柱層析法使已乾燥的析出物分離。（溶析液（Eluent）-MC：MeOH） 結果，可獲得6 g的化合物1（3.322 mmol），產率為72%。 結果如下所述。 離子化模式=：大氣壓化學遊離（Atmospheric Pressure Chemical Ionization，APCI）+：m/z=949[M+H]+，準確質量（Exact Mass）：948 所述化合物1的1 H-NMR的測定結果如下所述。1 H NMR(500 MHz,二甲基亞碸（dimethylsulfoxide，DMSO）,ppm):8.03(m,11H), 7.69～7.18(m,10H), 6.99～6.95(t,1H), 6.80～6.01(dd,1H), 5.93～5.85(dd,1H), 4.06～3.79(m,4H), 3.72～3.60(m,4H), 2.17～1.70(m,16H)
[反應式2]如所述反應式2般，將1.43 g的C‐1（2.732 mmol）、2.99 g的B‐1（9.490 mmol）、1.31 g的K2 CO3 （9.490 mmol）放入20 ml的NMP中，於95℃下攪拌12小時。之後，於減壓下去除溶媒，將200 ml的水放入析出物中並攪拌1小時。另外，於減壓下對析出物進行過濾，並於80℃下使其乾燥12小時。之後，藉由管柱層析法使已乾燥的析出物分離。（溶析液（Eluent）-MC：MeOH） 結果，可獲得1.622 g的化合物2（1.912 mmol），產率為70%。 離子化模式=：APCI+：m/z=977[M+H]+，準確質量（Exact Mass）：976
[反應式3]如所述反應式3般，將1.608 g的D-1（2.732 mmol）、2.99 g的B-1（9.490 mmol）、1.31 g的K2 CO3 （9.490 mmol）放入20 ml的NMP中，於95℃下攪拌12小時。之後，於減壓下去除溶媒，將200 ml的水放入析出物中並攪拌1小時。另外，於減壓下對析出物進行過濾，並於80℃下使其乾燥12小時。之後，藉由管柱層析法使已乾燥的析出物分離。（溶析液（Eluent）-MC：MeOH） 結果，可獲得1.526 g的化合物3（1.622 mmol），產率為59%。 離子化模式=：APCI+：m/z=963[M+H]+，準確質量（Exact Mass）：962
[反應式4]如所述反應式4般，將289.5 g的酸性紅（Acid Red）（7.388 mmol）、8.1 g的B-1（25.8 mmol）、4.09 g的K2 CO3 （29.554 mmol）放入100 ml的NMP中，於95℃下攪拌12小時。之後，於減壓下去除溶媒，將鹽水（brine）100添加於析出物中並攪拌1小時。然後，於減壓下對析出物進行過濾，並於80℃下使其乾燥12小時。 結果，可獲得7.3 g的以化合物4為主產物的著色劑（6.945 mmol），產率為94%。
實驗例 以下述表1般的比率製作實施例1～實施例4及比較例1～比較例4。各構成的投入單位為克（g）。
[表1]
基板的製作 將所製作的化合物旋塗（spincoating）於蒸鍍有SiNx 的玻璃（5 cm×5 cm）上，於110℃下進行70秒預烘（prebake）而形成膜。將形成有膜的基板與光罩（photo mask）之間的間隔設為300 μm，使用曝光器對基板整面照射30 mJ/cm2 的曝光量。 之後，利用顯影液（KOH，0.04%）對經曝光的基板顯影55秒，於230℃下進行20分鐘後烘（post bake）而製作基板。
孔的尺寸測定 利用顯微分光光度計（奧林巴斯（Olympus）光學工業（股）製造，OSPSP200）以1000倍的倍率對於所述般的條件下製作的基板測定孔的內側長度。
密著力的測定 利用顯微分光光度計（奧林巴斯（Olympus）光學工業（股）製造，OSPSP200）對於所述般的條件下製作的基板進行測定。 [表2]
如所述表1所示，可知於使用包含由所述化學式1表示的化合物與由所述化學式2表示的化合物此兩者的實施例1～實施例4的光敏樹脂組成物來製造彩色濾光片的情況下，微細圖案密著力優異。 將對所述微細圖案密著力測定所得的結果示於圖1。
無
圖1表示對使用了本發明的一實施態樣的光敏樹脂組成物的彩色濾光片圖案與比較例的微細圖案的密著力進行測定所得的結果。

Claims (18)

  1. 一種光敏樹脂組成物，其包含：由下述化學式1表示的化合物、與由下述化學式2表示的化合物； [化學式1][化學式2] [(RSiO1.5)n ] （化學式1中， LA 及LB 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為直接鍵結或碳數1～10的伸烷基， RA ～RF 可彼此相同亦可不同，分別獨立地選自由氫、重氫、鹵素原子、硝基、經取代或未經取代的碳數1～30的烷基、經取代或未經取代的碳數1～30的烷氧基、經取代或未經取代的碳數6～30的單環或多環的芳基、及經取代或未經取代的碳數1～30的單環或多環的雜芳基所組成的群組中， R1 ～R6 可彼此相同亦可不同，分別獨立地選自由氫、重氫、鹵素原子、經取代或未經取代的碳數1～6的直鏈或分支鏈的烷基、經取代或未經取代的碳數1～6的烷氧基、磺酸基、磺酸酯基、磺酸鹽基、-SO2 NHR7 基及-SO2 NR8 R9 所組成的群組中， R7 ～R9 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為直鏈或分支鏈的碳數1～10的烷基， X1 ～X5 可彼此相同亦可不同，分別獨立地選自由氫、重氫、陰離子性基、羥基、經取代或未經取代的碳數1～30的烷基、經取代或未經取代的碳數6～30的單環或多環的芳基、及經取代或未經取代的碳數1～30的單環或多環的雜芳基所組成的群組中， 所述X1 ～X5 的至少一個為陰離子性基， RAA 及RBB 可彼此相同亦可不同，分別獨立地選自由氫、重氫、經取代或未經取代的碳數1～30的烷基、經取代或未經取代的碳數1～30的烷氧基、經取代或未經取代的碳數6～30的單環或多環的芳基、經取代或未經取代的碳數1～30的單環或多環的雜芳基、鹵素原子、硝基、苯氧基、羧基、羧酸酯基、羧酸鹽基、烷氧基羰基、羥基、磺酸基、磺酸酯基、磺酸鹽基、-SO2 NHR'及-SO2 NR''R'''所組成的群組中， a及b可彼此相同亦可不同，分別獨立地為0～4的整數， 於a及b為2以上的情況下，括號內的結構可彼此相同亦可不同， R'、R''及R'''可彼此相同亦可不同，分別獨立地為碳數1～30的烷基， 化學式2中， n為4以上的偶數， R由-(L1 )n1 -R7 表示， 多個R可彼此相同亦可不同， L1 為直接鍵結、-O-、-S-或碳數1～30的伸烷基， n1為1～5的整數， 於n1為2以上的情況下，L1 可彼此相同亦可不同， R7 為氫、重氫、-OH、環氧基、-SH、-NH2 、、-N=C=O、-C=C-、碳數1～30的經取代或未經取代的烷基、碳數6～30的芳基或者碳數1～30的雜環基）。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的光敏樹脂組成物，其中所述陰離子性基為選自由-OH、-SO3 - 、-SO3 H、-SO3 - Z+ 、-CO2 H、-O2 - Z+ 、-CO2 Ra 、-SO3 Rb 及-SO3 NRc Rd 所組成的群組中的至少一者， Z+ 表示N(Re )4 + 、Na+ 或K+ ， Ra ～Re 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為選自由經取代或未經取代的碳數1～30的烷基、經取代或未經取代的碳數6～30的單環或多環的芳基、及經取代或未經取代的碳數1～30的單環或多環的雜芳基所組成的群組中的至少一者。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的光敏樹脂組成物，其中所述R為由下述化學式2-a～化學式2-e的任一者表示者； [化學式2-a][化學式2-b][化學式2-c][化學式2-d][化學式2-e]。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的光敏樹脂組成物，其更包含：黏合劑樹脂、多官能性單體、光起始劑及溶媒。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的光敏樹脂組成物，其中以所述光敏樹脂組成物中的固體成分的總重量為基準，由所述化學式1表示的化合物的含量為0.1重量份～50重量份，由所述化學式2表示的化合物的含量為0.01重量份～10重量份，所述黏合劑樹脂的含量為1重量份～60重量份，所述光起始劑的含量為0.1重量份～20重量份，所述多官能性單體的含量為0.1重量份～50重量份。
  6. 如申請專利範圍第4項所述的光敏樹脂組成物，其更包含染料及顏料的至少一者。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的光敏樹脂組成物，其中所述染料為選自包含蒽醌系染料、四氮雜卟啉系染料及三芳基甲烷系染料的群組中的至少一者。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的光敏樹脂組成物，其中所述蒽醌系染料為由下述化學式3表示者； [化學式3]（所述化學式3中， R11 及R12 分別獨立地為選自由胺基、烷基胺基、二烷基胺基、苯基胺基及二苯基胺基所組成的群組中的至少一者）。
  9. 如申請專利範圍第7項所述的光敏樹脂組成物，其中所述蒽醌系染料為選自下述化合物中的任一者；。
  10. 如申請專利範圍第7項所述的光敏樹脂組成物，其中所述四氮雜卟啉系染料為選自下述化合物中的任一者；。
  11. 如申請專利範圍第7項所述的光敏樹脂組成物，其中所述三芳基甲烷系染料為選自下述化合物中的任一者； 。
  12. 如申請專利範圍第4項所述的光敏樹脂組成物，其更包含分散劑，所述分散劑為包含含有由下述化學式11表示的重複單元或由化學式12表示的重複單元的聚合體者； [化學式11][化學式12]（化學式11及化學式12中， R301 及R401 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為氫或碳數1～10的烷基， R302 、R303 、R402 及R403 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為氫、碳數1～30的烷基、碳數6～30的芳基或碳數1～30的雜芳基，或者 R302 與R303 或者R402 與R403 彼此鍵結而形成經取代或未經取代的環， Ar3 及Ar4 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為直接鍵結、碳數1～10的伸烷基、由-[CH(R311 )-CH(R312 )-O]x -CH(R313 )-CH(R314 )-或-[(CH2 )y -O]z -(CH2 )y -表示的二價連結基， R311 ～R314 可彼此相同亦可不同，分別獨立地為氫或碳數1～10的烷基， x為1～18的整數，於x為2以上的情況下，括號內的結構可彼此相同亦可不同， y為1～5的整數， z為1～18的整數，於z為2以上的情況下，括號內的結構可彼此相同亦可不同， Q為選自由直接鍵結、碳數1～10的伸烷基、碳數6～30的伸芳基、-CONH-、-COO-及碳數1～10的醚基所組成的群組中的任一個或兩個以上連結而成的連結基）。
  13. 一種光敏樹脂組成物，其包含：由下述化學式15表示的化合物、由下述化學式2表示的化合物、染料及分散劑，且所述染料為三芳基甲烷系染料； [化學式15][化學式2]（化學式15中，所述R1 ～R6 、RA ～RD 、RAA 、RBB 及X1 ～X5 的定義及化學式2的定義參照申請專利範圍第1項中的定義）。
  14. 如申請專利範圍第13項所述的光敏樹脂組成物，其中所述三芳基甲烷系染料為選自下述化合物中的任一者； 。
  15. 如申請專利範圍第13項所述的光敏樹脂組成物，其中所述分散劑為包含含有由下述化學式11表示的重複單元或由化學式12表示的重複單元的聚合體者； [化學式11][化學式12]（化學式11及化學式12中， 所述R301 、R302 、R303 、R401 、Ar3 、Ar4 、R311 ～R314 、x、y、z及Q的定義參照申請專利範圍第12項中的定義）。
  16. 一種光敏材料，其使用如申請專利範圍第1項至第15項中任一項所述的樹脂組成物所製造。
  17. 一種彩色濾光片，其包含如申請專利範圍第16項所述的光敏材料。
  18. 一種顯示器裝置，其包含如申請專利範圍第17項所述的彩色濾光片。
TW106123548A 2016-07-26 2017-07-14 光敏樹脂組成物、光敏材料、彩色濾光片及顯示器裝置 TWI642731B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
??10-2016-0094916 2016-07-26
KR1020160094916A KR102131481B1 (ko) 2016-07-26 2016-07-26 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 컬러필터

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201811926A true TW201811926A (zh) 2018-04-01
TWI642731B TWI642731B (zh) 2018-12-01

Family

ID=61076577

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106123548A TWI642731B (zh) 2016-07-26 2017-07-14 光敏樹脂組成物、光敏材料、彩色濾光片及顯示器裝置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6601780B2 (zh)
KR (1) KR102131481B1 (zh)
CN (1) CN107656421B (zh)
TW (1) TWI642731B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI848196B (zh) * 2019-12-27 2024-07-11 日商大日本印刷股份有限公司 四氮雜卟啉化合物、墨水組合物、膜、光學材料、光學膜、顯示器表面膜、及顯示裝置

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102092439B1 (ko) * 2016-07-26 2020-03-23 주식회사 엘지화학 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 컬러필터
KR102156478B1 (ko) * 2018-04-05 2020-09-16 주식회사 엘지화학 잔텐계 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 및 디스플레이 장치
WO2019194384A1 (ko) * 2018-04-05 2019-10-10 주식회사 엘지화학 잔텐계 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 및 디스플레이 장치
KR102314483B1 (ko) * 2018-06-22 2021-10-19 주식회사 엘지화학 화합물, 중합체, 색재 조성물, 수지 조성물, 컬러필터 및 디스플레이 장치
KR102662536B1 (ko) * 2018-12-06 2024-04-30 주식회사 엘지화학 색재 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 및 디스플레이 장치
JP7324046B2 (ja) * 2019-05-20 2023-08-09 東友ファインケム株式会社 着色樹脂組成物

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0987534A (ja) 1995-09-25 1997-03-31 Konica Corp インクジェット記録液
JP2006071890A (ja) 2004-09-01 2006-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法
JP2006078602A (ja) 2004-09-07 2006-03-23 Fuji Photo Film Co Ltd 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5109437B2 (ja) * 2007-03-27 2012-12-26 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP2009237151A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Fujifilm Corp カラーフィルタ用着色硬化性組成物、及びカラーフィルタ
TWI496840B (zh) * 2009-03-30 2015-08-21 Sumitomo Chemical Co Dye composition
JP5515714B2 (ja) * 2009-12-16 2014-06-11 Ｊｓｒ株式会社 着色組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP5962042B2 (ja) * 2011-02-28 2016-08-03 住友化学株式会社 着色硬化性樹脂組成物
WO2012128318A1 (ja) 2011-03-23 2012-09-27 三菱化学株式会社 着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機ｅｌ表示装置
JPWO2013011687A1 (ja) * 2011-07-19 2015-02-23 日本化薬株式会社 カラーフィルター用着色樹脂組成物
JP5785810B2 (ja) * 2011-07-28 2015-09-30 住友化学株式会社 着色硬化性樹脂組成物
TWI428698B (zh) * 2011-11-25 2014-03-01 Chi Mei Corp 感光性樹脂組成物、黑色矩陣、彩色濾光片及其液晶顯示元件
JP5953754B2 (ja) * 2012-01-13 2016-07-20 住友化学株式会社 着色硬化性樹脂組成物
JP5924089B2 (ja) * 2012-04-11 2016-05-25 Jsr株式会社 感放射線性着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子
WO2014035203A1 (ko) * 2012-08-31 2014-03-06 주식회사 엘지화학 스티릴계 화합물, 상기 스티릴계 화합물을 포함하는 색재, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 상기 감광성 수지 조성물로 제조된 감광재, 상기 감광재를 포함하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치
JP6065596B2 (ja) * 2013-01-16 2017-01-25 Jsr株式会社 感放射線性着色組成物、着色硬化膜及び表示素子
JP6179121B2 (ja) * 2013-02-20 2017-08-16 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色剤、着色組成物、およびカラーフィルタ
JP6209499B2 (ja) 2014-03-18 2017-10-04 富士フイルム株式会社 着色硬化性樹脂組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、化合物およびカチオン
CN105278245B (zh) * 2014-07-03 2020-11-06 东友精细化工有限公司 着色固化性树脂组合物
JP2017198815A (ja) * 2016-04-27 2017-11-02 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用着色組成物及びカラーフィルタ
KR102092438B1 (ko) * 2016-07-26 2020-03-23 주식회사 엘지화학 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 컬러필터
KR102092439B1 (ko) * 2016-07-26 2020-03-23 주식회사 엘지화학 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 컬러필터

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI848196B (zh) * 2019-12-27 2024-07-11 日商大日本印刷股份有限公司 四氮雜卟啉化合物、墨水組合物、膜、光學材料、光學膜、顯示器表面膜、及顯示裝置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018018080A (ja) 2018-02-01
KR102131481B1 (ko) 2020-07-07
CN107656421B (zh) 2020-07-17
CN107656421A (zh) 2018-02-02
JP6601780B2 (ja) 2019-11-06
KR20180012094A (ko) 2018-02-05
TWI642731B (zh) 2018-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI631422B (zh) 光敏樹脂組成物、光敏材料、彩色濾光片及顯示器裝置
TWI675830B (zh) 二苯并哌喃類化合物、含有該二苯并哌喃類化合物的著色劑組成物及含有該二苯并哌喃類化合物的樹脂組成物
TWI669346B (zh) 光敏樹脂組成物、光敏材料、彩色濾光片及顯示器裝置
JP6579452B2 (ja) 化合物、これを含む色材組成物、及びこれを含む樹脂組成物
TWI642731B (zh) 光敏樹脂組成物、光敏材料、彩色濾光片及顯示器裝置
JP6380867B2 (ja) 化合物およびこれを含む色材組成物およびこれを含む樹脂組成物
JP6604606B2 (ja) 化合物、これを含む色材組成物およびこれを含む樹脂組成物
TW202014475A (zh) 化合物、著色劑組成物、光阻、彩色濾光片以及顯示裝置
TW202024244A (zh) 光敏樹脂組成物、光阻、彩色濾光片以及顯示裝置
TWI636979B (zh) 化合物、包含其的著色劑組成物與包含其的樹脂組成物、彩色濾光片及顯示器裝置
TWI761701B (zh) 著色劑組成物、光阻、彩色濾光片以及顯示裝置
TWI725631B (zh) 感光性樹脂組成物、光阻、彩色濾光片以及顯示裝置
CN110557947A (zh) 喹酞酮系化合物、包含其的感光性树脂组合物、感光材料、滤色器以及显示装置
KR102718652B1 (ko) 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 디스플레이 장치
TWI705063B (zh) 二苯并哌喃系化合物、著色劑組成物、感光性樹脂組成物、感光材、彩色濾光器以及顯示裝置
TW202024243A (zh) 感光性樹脂組成物、光阻、彩色濾光片以及顯示裝置
KR20200069057A (ko) 색재 조성물, 감광성 수지 조성물, 감광재, 컬러필터, 및 디스플레이 장치
TW201943714A (zh) 二苯并哌喃類化合物、包括其的感光性樹脂組成物、感光材、彩色濾光片及顯示裝置