TW201538064A - 伺服器系統及其控制方法 - Google Patents

Abstract

一種伺服器系統，包括至少一機櫃、至少一偵測模組、至少一冷卻單元及管理單元。各機櫃包括至少一容置空間，且各容置空間可供放置一伺服器主機；各偵測模組結合各機櫃，用以偵測各機櫃內之各容置空間是否存在伺服器主機；至少一冷卻單元用以冷卻各機櫃；管理單元用以判斷各偵測模組所偵測到各機櫃內之伺服器主機之數量，以控制至少一冷卻單元分別地調整對各機櫃之冷卻效率。

Description

伺服器系統及其控制方法

本發明是關於一種伺服器系統及其控制方法，特別是一種能偵測每個機櫃內之伺服器主機數量以調整其冷卻效率之伺服器系統及其控制方法。

一般伺服器系統是以多個伺服器主機所組成，藉以增加伺服器系統之整體資料處理速度及儲存空間。依據該些伺服器主機之數量不同，該些伺服器主機會被分配在一個或多個機櫃（rack）中；而每個機櫃分隔有多個容置空間，每個容置空間可供放置單一個伺服器主機。

由於伺服器主機在運作時會產生大量的熱，為了避免機櫃內部過熱而影響伺服器主機，因此針對機櫃之冷卻設計格外重要。習知設計是針對每個機櫃設置獨立之冷卻模組，或是以統一之中央空調系統設置連接每個機櫃之冷卻管路，來達到較佳之冷卻效果。

然而，每個機櫃中所放置之伺服器主機之數量並不一定相同，可能會因為設置需求、故障維修等因素而有所增減；因此，每個機櫃所需要之冷卻效率也不盡相同。在此狀態下，若是對每個機櫃提供相同之冷卻效率，反而會增加電量消耗，提高伺服器系統運作之成本。

因此，如何能得知各個機櫃內所放置之伺服器主機之數量，分別地調整每個機櫃之冷卻效率，實為一值得研究之課題。

本發明之主要目的是在提供一種能偵測每個機櫃內之伺服器主機數量，以調整其冷卻效率之伺服器系統。

為達成上述之目的，本發明之伺服器系統包括至少一機櫃、至少一偵測模組、至少一冷卻單元及管理單元。各機櫃包括至少一容置空間，且各容置空間可供放置一伺服器主機；各偵測模組結合各機櫃，用以偵測各機櫃之各容置空間內是否存在伺服器主機；至少一冷卻單元用以冷卻各機櫃；管理單元用以判斷各偵測模組所偵測到各機櫃內之伺服器主機之數量，以控制至少一冷卻單元分別地調整對各機櫃之冷卻效率。

本發明更提供一種伺服器系統之控制方法，該方法包括下列步驟：偵測各機櫃內之各容置空間是否存在伺服器主機；判斷各機櫃內之伺服器主機之數量；以及依據各機櫃內之伺服器主機之數量，控制至少一冷卻單元分別地調整對各機櫃之冷卻效率。

藉此設計，本發明之伺服器系統能夠依據每個機櫃中放置之伺服器主機多寡，對應調整各機櫃之冷卻效率，以節省不必要之電力消耗，節省伺服器系統運作時之成本花費。

為能讓 貴審查委員能更瞭解本發明之技術內容，特舉出具體實施例說明如下。

請參考圖1是本發明之伺服器系統1之示意圖。

如圖1所示，本發明之伺服器系統1包括至少一機櫃10、至少一偵測模組20、至少一冷卻單元30及管理單元40。各機櫃10包括至少一容置空間11，各容置空間11可供放置一伺服器主機（圖未示）。各機櫃10依據設計需求不同，能夠採用框架結構或板材隔成一個或多個容置空間11。

如圖1所示，各偵測模組20結合各機櫃10，且偵測模組20電性連接管理單元40，用以偵測各機櫃10之各容置空間11內是否存在伺服器主機，並將偵測結果傳送至管理單元40。在本發明之一實施例中，偵測模組20結合在機櫃10內之一側，但本發明不以此為限。

以下請一併參考圖1及圖2。圖2是本發明之伺服器系統1之偵測模組20結合機櫃10之示意圖。如圖1及圖2所示，偵測模組20包括基座21及至少一接近感測器22。基座21包括複數容置槽211，各容置槽211可供設置接近感測器22，且各容置槽211之位置對應該機櫃10內之各容置空間11；而在設計上，相鄰二個容置槽211之間距D不小於伺服器主機之高度，以便於每個容置空間11都能對應一個容置槽211，但本發明不以此為限。

各接近感測器22分別與管理單元40電性連接。在本發明之一實施例中，各接近感測器22可拆卸地設置於容置槽211；也就是說，使用者可以選擇性地將接近感測器22插設在基座21之所需位置之容置槽211中，並且可拆卸之設計讓接近感測器22便於更換。此處接近感測器22能採用金屬感測器、光感測器、聲波感測器或其他能偵測物體存在與否之感測元件。

冷卻單元30用以冷卻各機櫃10，冷卻單元30電性連接管理單元40。在本發明之一實施例中，冷卻單元30能夠採用分別設置於每個機櫃10內之冷卻模組，例如風扇或獨立空調系統，或是採用統一之中央空調系統並設置連接至每個機櫃10之冷卻管路，但本發明不以此為限。

管理單元40用以判斷各偵測模組20所偵測到各機櫃10內之伺服器主機之數量，以控制冷卻單元30分別地調整對各機櫃10之冷卻效率。管理單元40能夠依據各偵測模組20之所有接近感測器22之偵測結果，來判斷各機櫃10內之伺服器主機之數量。而在確認各機櫃10內之伺服器主機之數量後，管理單元40即可對應控制冷卻單元30，依據各機櫃10內伺服器主機之數量多寡，對應調整各機櫃10所需之冷卻效率，以節省不必要之電力消耗。在本發明之一實施例中，管理單元40能夠採用一電腦裝置或控制電路板來執行上述功能，但本發明不以此為限。

請參考圖3是本發明之伺服器系統之控制方法之流程圖。需注意的是，以下雖配合圖1所示之伺服器系統1為例說明本發明之伺服器系統之控制方法，但本發明並不以此為限。如圖3所示，本發明之伺服器系統之控制方法包括步驟S1至步驟S3。以下將詳細說明該方法之各個步驟：

步驟S1：偵測各機櫃10內之各容置空間11是否存在伺服器主機。

藉由結合各機櫃10之各偵測模組20，能夠偵測各機櫃10之各容置空間11內是否存在伺服器主機，並將偵測結果傳送至管理單元40。

步驟S2：判斷各機櫃10內之伺服器主機之數量。

管理單元40能接收各偵測模組20之偵測結果，來判斷各機櫃10內所存在之伺服器主機之數量。

步驟S3：依據各機櫃10內之伺服器主機之數量，控制至少一冷卻單元30分別地調整對各機櫃10之冷卻效率。

管理單元40在判斷各機櫃10內之伺服器主機之數量後，能依據各機櫃10內之伺服器主機之數量不同，控制至少一冷卻單元30分別地調整對各機櫃10之冷卻效率。

請參考圖4是執行本發明之伺服器系統之控制方法之示意圖。如圖4所示，在本發明之一實施例中，假設伺服器系統100包括第一機櫃110a及第二機櫃110b，第一機櫃110a包括多個第一容置空間111a，且第二機櫃110b包括多個第二容置空間111b。在第一機櫃110a內之所有第一容置空間111a均設置伺服器主機150，而第二機櫃110b內僅有部分第二容置空間111b設置伺服器主機150。

第一偵測模組120a之各第一接近感測器122a及第二偵測模組120b之各第二接近感測器122b均以金屬感測器為例。當任一第一容置空間111a或第二容置空間111b內置入伺服器主機150後，對應該第一容置空間111a設置之第一接近感測器122a或第二容置空間111b設置之第二接近感測器122b會偵測到伺服器主機150之存在，而產生感測訊號；該些感測訊號會傳送至管理模組140，以供判斷第一機櫃110a及第二機櫃110b內之伺服器主機150之數量。

在本實施例中，管理模組140能判斷第一機櫃110a內之5個第一容置空間111a均存在伺服器主機150，而第二機櫃110b內之5個第二容置空間111b僅存在3個伺服器主機150。也就是說，第一機櫃110a因該些伺服器主機150運作所產生之熱，會大於第二機櫃110b因該些伺服器主機50運作所產生之熱。

因此，管理模組140會依據第一機櫃110a及第二機櫃110b所偵測到之伺服器主機150之數量，控制冷卻單元130分別對第一機櫃110a及第二機櫃110b提供不同之冷卻效率。假設在第一機櫃110a內之所有第一容置空間111a滿載伺服器主機150之狀態下，冷卻單元130所提供之冷卻效率為100%；由於在第二機櫃110b內僅有3/5之第二容置空間111b存在伺服器主機150，因此冷卻單元130能夠調降對第二機櫃110b所提供之冷卻效率，例如對第二機櫃110b所提供之冷卻效率為60%，即可達到較佳之冷卻效果，但本發明不以此為限。

需注意的是，上述僅為實施例，而非限制於實施例。譬如 此不脫離本發明基本架構者，皆應為本專利所主張之權利範圍，而應以專利申請範圍為準。

1‧‧‧伺服器系統
10‧‧‧機櫃
11‧‧‧容置空間
20‧‧‧偵測模組
21‧‧‧基座
211‧‧‧容置槽
22‧‧‧接近感測器
30‧‧‧冷卻單元
40‧‧‧管理單元
D‧‧‧間距
100‧‧‧伺服器系統
110a‧‧‧第一機櫃
111a‧‧‧第一容置空間
110b‧‧‧第二機櫃
111b‧‧‧第二容置空間
120a‧‧‧第一偵測模組
122a‧‧‧第一接近感測器
120b‧‧‧第二偵測模組
122b‧‧‧第二接近感測器
130‧‧‧冷卻單元
140‧‧‧管理模組
150‧‧‧伺服器主機
S1~S3‧‧‧步驟

圖1是本發明之伺服器系統之示意圖。 圖2是本發明之伺服器系統之偵測模組結合機櫃之示意圖。 圖3是本發明之伺服器系統之控制方法之流程圖。 圖4是執行本發明之伺服器系統之控制方法之示意圖。

1‧‧‧伺服器系統

11‧‧‧容置空間

21‧‧‧基座

22‧‧‧接近感測器

40‧‧‧管理單元

10‧‧‧機櫃

20‧‧‧偵測模組

211‧‧‧容置槽

30‧‧‧冷卻單元

Claims (9)

1. 一種伺服器系統，包括： 至少一機櫃，各該機櫃包括至少一容置空間，且各該容置空間可供放置一伺服器主機； 至少一偵測模組，各該偵測模組結合各該機櫃，用以偵測各該機櫃之各該容置空間內是否存在該伺服器主機； 至少一冷卻單元，用以冷卻各該機櫃；以及 一管理單元，用以判斷各該偵測模組所偵測到各該機櫃內之該伺服器主機之數量，以控制該至少一冷卻單元分別地調整對各該機櫃之冷卻效率。
2. 如申請專利範圍第1項所述之伺服器系統，其中各該偵測模組包括一基座及至少一接近感測器，該基座包括供設置該接近感測器之複數容置槽，且各該容置槽之位置對應該機櫃之各該容置空間。
3. 如申請專利範圍第2項所述之伺服器系統，其中各該接近感測器為一光感測器、一金屬感測器或一聲波感測器。
4. 如申請專利範圍第2項所述之伺服器系統，其中相鄰二個該容置槽之間距不小於該伺服器主機之高度。
5. 如申請專利範圍第2項所述之伺服器系統，其中該接近感測器係可拆卸地設置於該容置槽。
6. 一種伺服器系統之控制方法，應用於一伺服器系統，該伺服器系統包括至少一機櫃及用以冷卻各該機櫃之至少一冷卻單元，各該機櫃包括至少一容置空間，各該容置空間可供放置一伺服器主機，該方法包括下列步驟： 偵測各該機櫃內之各該容置空間是否存在該伺服器主機； 判斷各該機櫃內之該伺服器主機之數量；以及 依據各該機櫃內之該伺服器主機之數量，控制該至少一冷卻單元分別地調整對各該機櫃之冷卻效率。
7. 如申請專利範圍第6項所述之伺服器系統之控制方法，其中藉由至少一接近感測器偵測各該機櫃內之各該容置空間是否存在該伺服器主機。
8. 如申請專利範圍第7項所述之伺服器系統之控制方法，其中各該接近感測器為一光感測器、一金屬感測器或一聲波感測器。
9. 如申請專利範圍第7項所述之伺服器系統之控制方法，其中該至少一接近感測器可選擇性地對應設置在該至少一容置空間內。