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TW201223908A - Plasma display device - Google Patents

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TW201223908A
TW201223908A TW100125248A TW100125248A TW201223908A TW 201223908 A TW201223908 A TW 201223908A TW 100125248 A TW100125248 A TW 100125248A TW 100125248 A TW100125248 A TW 100125248A TW 201223908 A TW201223908 A TW 201223908A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
glass
less
plasma display
glass plate
display device
Prior art date
Application number
TW100125248A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazutaka Ono
shusaku Akiba
Yuichi Kuroki
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Publication of TW201223908A publication Critical patent/TW201223908A/zh

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    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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    • C03C21/001Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
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Description

201223908 六、發明說明: 【明戶斤廣^冬奸々貝3 技術領域 本發明係有關於一種電漿顯示裝置。 背景技術 行動電話’可搞式資訊終端機(PDA) ’筆記型電腦等之 行動機器上搭載有液晶顯示(LCD)裝置等之薄型顯示裝 置。在該顯示裝置中’在顯示面板之前方,設有被稱為前 面板或前面過濾器之覆蓋玻璃板’且使用者係透過前述覆 蓋玻璃板觀看顯示面板之顯示(例如,參照專利文獻〗)。 覆蓋玻璃板主要是以提高顯示裝置之美觀及強度,防 止衝擊破損等為目的而設置。覆蓋玻璃板大多是在表層之 至少一部份上設有壓縮應力層之化學強化玻璃板,以便提 高耐損傷性。化學強化玻璃之製造方法包括有’例如離子 交換法等。 在離子交換法中,將玻璃浸潰於處理液中,將包含在 玻璃表層中之小離子半徑的離子(例如,Na離子)置換為大 離子半徑的離子(例如’ κ離子)’藉此在玻璃表層設置麼縮 壓力層。 先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1 :特開2007-11210號公報 【發明内容】 3 201223908 發明概要 發明欲解決之課題 另方面’近年來’針對家庭用電視等擱置型之機器, 液晶顯示(LCD)裝置及電裝顯示裝置等之大晝面化正在進 展中’與饤動機H相比’其畫面尺寸變得極大。 與搭躲行動機器上者相比,搭載於如此之大晝面(例 如,對角線長度81加(32英忖)以上)之顯示冑置上之覆蓋玻 gΛ > A Α φ積^ X ’希望使板厚度變薄,以便抑制隨 著大面積化之質量增加。 又,為了提高顯示裝置之畫質,考慮在顯示面板之顯 示側上貼附覆蓋玻璃板。藉此使顯示面板與覆蓋玻璃板之 間沒有%知之空隙’且可抑制空隙與顯示面板之界面及空 隙與覆蓋玻璃板之界面中之光的反射。 但疋,當在顯不面板之顯示側上貼附覆蓋玻璃板時, 會有由於構成顯示面板之破璃基板與覆蓋玻璃板之間的熱 膨脹差而產生翹曲之情況。 特別是電聚顯示裝置,由於與LCD裝置不同,係具有 自發光型之顯示面板’因此在顯示動作時易成高溫。因此, 由於上述熱膨脹差而容易產生鍾曲等,電锻顯示裝置之美 觀及顯不品質亦料受簡害。該影響在覆蓋玻璃板之面 積(對角線長度)越大時越顯著。 但疋,記載於上述專利文獻丨之顯示裝置是以搭載於行 動機盗上為前提,且是小型之顯示裝置,因此在覆蓋玻璃 板之對角、線長度為81em(32英忖)以上日寺無法成為可充分 ⑧ 4 201223908 減低翹曲之構造。 本發明係有鑑於上述課題而作成者,且其目的為提供 一種可提高晝質且可同時減低大面積薄覆蓋玻璃板之翹曲 的電漿顯示裝置。 用以欲解決課題之手段 為了解決上述目的,本發明提供一種電漿顯示裝置, 係包含電漿顯示面板及覆蓋玻璃板者,該電漿顯示面板具 有玻璃基板,該覆蓋玻璃板係貼附在該電漿顯示面板之顯 示側上,該電漿顯示裝置之特徵在於: 前述覆蓋玻璃板具有81cm(32英吋)以上之對角線長 度,1.5mm以下之厚度,且 前述覆蓋玻璃板之平均熱膨脹係數係在50〜350°C之範 圍内,且係前述玻璃基板之平均熱膨脹係數的80〜120%。 表示上述數值範圍之「〜」,除有特別規定者外,係以 包含以記載於其前後之數值作為下限值及上限值之意義來 使用,且在以下本說明書中「〜」係以同樣的意義使用。 發明效果 藉由本發明,可提供一種可提高畫質且可同時減低大 面積薄覆蓋玻璃板之麵曲的電漿顯示裝置。 圖式簡單說明 第1圖是本發明之一實施形態之電漿顯示裝置的側面 截面圖。 第2圖是第1圖之正面圖。 第3圖是顯示熔融鹽(KN〇3)中之Li含量(質量%)與化學 201223908 強化處理後之破璃之表面壓縮應力S(MPa)之關係的圖。 第4圖是顯示玻璃中之Zr〇2含量(mol%)與化學強化處 理後之玻璃之維氏硬度(HV)之關係的圖。 【實施方式】 用以實施發明之形態 以下參照圖式說明關於用以實施本發明之形態。又, 本發明不限於後述之實施形態,且在不脫離本發明之範圍 的情形下’可將各種變形及置換加入後述實施形態中。 第1圖是本發明一實施形態之電漿顯示裝置之概略側 面圖。如第1圖所示,電漿顯示裝置10包含電漿顯示面板20 及覆蓋玻璃板30。覆蓋玻璃板30具有比電漿顯示面板20大 之面積,且使用者係透過覆蓋玻璃板30觀看電漿顯示面板 20之顯示。 (電漿顯示面板) 電漿顯示面板20可為一般之構造,例如,如第1圖所 示’以2片玻璃基板21、22及設於2片玻璃基板21、22間之 螢光體層23等構成。電漿顯示面板20之熱膨脹係數主要是 以玻璃基板21、22之熱膨脹係數決定。 2片玻璃基板21、22之内面24、25上以預定圖案預先形 成透明電極膜等。2片玻璃基板21、22間封入有稀有氣體(例 如氖及氦等)等。 該電漿顯示面板20透過透明電極膜施加電壓於稀有氣 體,藉此產生紫外線,使螢光體層23發出螢光,並顯示影 像。 ⑧ 6 201223908 玻璃基板21、22由於在電漿顯示面板2〇之製造程序中 被加熱,故以應變點溫度高之玻璃(例如,應變點為57〇。〇 左右之玻璃)形成。因此,可抑制由熱收縮(構造缓和)產生 之圖案偏移。 此外,玻璃基板21、22在電漿顯示面板2〇之製造程序 中,為了縮小與用以密封玻璃基板21、22之周邊部而使用 之玻料的熱膨脹差,大多以熱膨脹係數大之玻璃(典型地, 50〜350 C之範圍内之平均熱膨脹係數(以下,僅稱為「平均 熱膨脹係數」為83\1〇力。(:左右之玻璃)形成。此外,2片玻 璃基板21、22可為不同組成,但是為了減少製造成本,且 減低由熱膨脹差引起之勉曲,宜為同一組成。 製造玻璃基板21、22之方法係,首先,將複數玻璃原 料調配以配合目標,並將它連續地投入熔解爐中,且加熱 至1500〜1600°C並熔融。接著,將該熔融玻璃成形為預定之 板厚,徐冷後切斷,即得到玻璃基板21、22。 在此,將熔融玻璃成形為預定之板厚之成形方法沒有 特別限制,但是有例如漂浮法及融合法等。在漂浮法中, 將炼融玻璃連續地供應至浴槽内之熔融金屬(例如,熔融錫) 之浴面,成形為帶板狀。在融合法中,將熔融玻璃連續地 供應至截面大略V字形之流槽的内部,並使由流槽溢出至兩 側之熔融玻璃在流槽下緣合流成形為帶板狀。 此外’在本實施形態中,雖然是使用2片玻璃基板21、 22 ’但是亦可使用樹脂基板等之透光性基板取代其中任一 者°又’其中,亦包含樹脂基板等之透光性基板作為玻璃 2〇!2239〇8 基板。因此,可提高電漿顯示面板20之可撓性。此外,樹 脂基板由於耐熱性及耐藥品性低,故在形成透明電極膜等 時難以進行加熱處理及藥品處理f。又,由於樹脂基板與 玻璃基板或覆蓋玻璃板之熱膨脹差大,故容易產生翹曲。 因此,宜使用2片玻璃基板21、22。 (覆蓋玻璃板及其周邊構件) 覆蓋玻璃板30主要是以提高電漿顯示裝置1〇之美觀及 強度,防止衝擊破損等為目的設置^覆蓋玻璃板3〇係貼附 在電跟顯示面板20之顯示側(前側)上。 例如,覆蓋玻璃板30係透過具有透光性之黏著膜,貼 附在電漿顯示面板20之顯示側上。黏著膜可為一般之構 造’並適當選定其材質及形狀等。 如此,藉由在覆蓋玻璃板30與電漿顯示面板2〇間作成 沒有空隙之構成,可抑制習知空隙與覆蓋玻璃板3〇(或電漿 顯不面板20)之界面之光的反射。結果,可提高電漿顯示裝 置10之畫質。此外,對電漿顯示裝置1〇之薄型化亦有貢獻。 覆蓋玻璃板30具有前面31及背面32,該前面31為射出 來自電漿顯示面板20之光者,該背面32為入射來自電漿顯 示面板20之光者。前面31或/及背面32上亦可設有機能膜 40。又,在第1圖中,機能膜4〇設置在前面31上。 機能膜40具有,例如,防止周圍光之反射,防止衝擊 破損,屏蔽電磁波,屏蔽近紅外線,補償色調,或/及提高 耐傷性等之機能。 機能膜40 ’例如’亦可藉將樹脂製之膜貼附在覆蓋玻 201223908 璃板30上形成。或者,機能膜40亦可藉蒸鍍法,濺鍍法, CVD法等之薄膜成形法形成。 機能膜40可為一般的構造,並依用途適當選擇其厚度 及形狀等。 在覆蓋玻璃板30之背面32上’沿周緣部之至少一部份 設有裝飾層(decorative layer)50。該裝飾層50可配置以成包 圍電漿顯示面板20之外周。 裝飾層50係用以提高覆蓋玻璃板30,進而提高電漿顯 示裝置10之設計性及裝飾性而設置。例如,若裝飾層50著 色成黑色,則電漿顯示裝置10為斷路狀態時,包含覆蓋玻 璃板30之周緣部,由覆蓋玻璃板3〇之前面31完全射不出 光。因此’電漿顯示裝置10之外觀會呈賦予使用者銳利之 印象,且美觀會提升。 裝飾層50之形成方法沒有限制,例如,可將含有有機 顏料粒子或無機顏料粒子之墨水塗布在覆蓋玻璃板3〇上, 藉對其進行紫外線照射或加熱燒成而形成。墨水係,例如, 藉使有機顏料粒子或無機顏料粒子混合、分散在有機媒液 中來調製。 (覆蓋玻璃板之材質及特性等)
由薄型化、輕量化之觀點來看,覆蓋玻璃板30之厚度 係1.5mm以下,較佳的是i.3mm以下,且更佳的是UrnmW 下。又,由處理性之觀點來看’覆蓋玻璃板3〇之厚度較佳 的是0.5mm以上。 由大面積之觀點來看’覆蓋玻璃板3〇之對角線長度l 201223908 係81cm(32英吋)以上,較佳的是94cm(37英吋)以上,且更 佳的是101cm(40英忖)以上。 覆蓋玻璃板30之平均熱膨脹係數(JIS R3102)係在 50〜350°C之範圍内,且係電漿顯示面板20用之破璃基板 21、22之平均熱膨脹係數的80〜120%。在此,「電毁顯示面 板用之玻璃基板」係表示在電衆·顯示面板具有2片玻璃基板 時’其兩者之玻璃基板之意。即,電漿顯示面板之2片玻璃 基板具有不同之平均熱膨脹係數時,玻璃基板之平均熱膨 脹係數對電漿顯示面板2〇用之玻璃基板21 ' 22之平均熱膨 脹係數之任一者都是8〇〜120%。 藉令覆蓋玻璃板30之平均熱膨脹係數為上述範圍,可 充分地減低覆蓋玻璃板3〇與玻璃基板21、22之熱膨脹差, 且可使對角線長度32英吋(約81.3cm)以上之覆蓋玻璃板3〇 的熱變形充分地變小。更好之範圍是85〜115%,特別好之 範圍是90〜11〇〇/〇。 具體而言’例如,在電漿顯示裝置10之顯示動作時可 減低產生熱時之翹曲。或者,在電漿顯示裝置1〇之製造程 序中,可減低以熱硬化型黏著劑固定電漿顯示面板2〇與覆 蓋玻璃板30時之翹曲。此等結果在覆蓋玻璃板3〇及玻璃基 板21、22等之面積(對角線長度)變越大時越顯著。 為了減低翹曲,覆蓋玻璃板3〇之玻璃基板21與玻璃基 板22可以同一組成之材料形成。若為同一組成,則可削減 製造成本。 此外’為了提南耐損傷性,覆蓋玻璃板30宜為業經化學 201223908 強化處理而在表層之至少一部份設有壓縮應力層之化學強 化玻璃板。化學強化處理之方法有’例如離子交換法等。 在離子交換法中,將玻璃板浸潰在處理液中,將包含 在玻璃板之表層中之小離子半徑的離子(例如,Na離子)置 換為大離子半徑的離子(例如,K離子),藉此在玻璃板表層 設置壓縮壓力層。 處理液係使用硝酸鉀(KN〇3)熔融鹽等。具體之條件係 隨玻璃板之厚度而不同,但是典型的是使玻璃板浸潰於 400〜550°C之KN〇3熔融鹽2〜20小時。由經濟上之觀點來 看,較佳的是以400~500°C,2〜16小時之條件浸潰,更佳的 是浸潰時間為2〜10小時。 化學強化處理前之覆蓋玻璃板30沒有特別限制,但 是,較佳的是例如具有下述組成之玻璃A〜玻璃D。 (玻璃A) 以氧化物基準之莫耳百分率表示,玻璃A含有55〜70% 之Si02、5〜15%之Al2〇3、4〜20%之Na20、1〜15%之MgO, 且該等成分之合計量係85%以上。 玻璃A之50〜350°C範圍内之平均熱膨脹係數典型地是 66xl〇_7〜100x10_7/°C。此外,由於壓縮應力層厚度t非常小, 故使玻璃A化學強化而成之化學強化玻璃板的平均熱膨脹 係數與化學強化前之玻璃A之平均熱膨脹係數大略相同。 (玻璃B) 以氧化物基準之莫耳百分率表示,玻璃B含有5〇〜74% 之Si〇2、1〜10%之Al2〇3、6〜14%之Na20、3〜15%之K20、 11 201223908 2〜15%之MgO、0〜10%之CaO、0〜5%之Zr02,且Si〇2及 Al2〇3 之含量的合計係75%以下,Na20及K20之含量的合計係 12〜25%,MgO及CaO之含量的合計MgO+CaO係7〜15%。該 玻璃B亦可為下述之玻璃B1〜B3。 玻璃B1是上述玻璃B,Na20係12%以下,K20係4%以 上,Na20+K20係14%以上,MgO+CaO係8%以上,由 Na20+K20減去Al2〇3含量的差係10%以上,且含有BaO時其 含量小於1%。 在該玻璃B1中,含有SrO或BaO時鹼土族金屬氧化物之 含量的合計亦可為15%以下。 在該玻璃B1中,亦可Si02係60〜70%,Al2〇3係2〜8%, Na20 係 11% 以下,K20 係 6〜12%,MgO 係 4~14%,CaO 係 0〜8%,Zr02係0〜4%,Na20+K20係 16〜20%。 玻璃B2是上述玻璃B,Si02係60〜70%,Al2〇3係2〜8%, K20係8%以下,MgO係6%以上,Na20+K20係18%以下,且 K20含量乘1 ·7者與Na20含量之和Na20+1.7K20小於19%。 玻璃B3是上述玻璃B,Si02係63%以上,Al2〇3係3°/〇以 上,Na20係8%以上,K20係8%以下,MgO係6〜14%,CaO 係 0〜1%,Zr〇2係 1~4%,Na2〇+K2〇係 14~17%。 在該玻璃B3中,K2〇含量乘1.7者與Na20含量之和,即 Na20+1.7K20亦可小於19%。 依據該等玻璃B(B1〜B3),由於κ2〇含量非常高,故化 學強化之離子交換速度不用使之過大,就可使壓縮應力層 厚度t增大。因此’化學強化處理後,不用另外實施研磨處 ⑧ 12 201223908 理,就可一面使表面壓縮應力S小於例如l〇50MPa —面增大 壓縮應力層厚度t。 在使玻璃B化學強化而成之化學強化玻璃板中,壓縮應 力層厚度t以大於20μιη為佳。20μηι以下時則恐有容易產生 裂縫之虞。更佳的是30μηι以上,特佳的是40μιη以上,典型 的是45μιη以上或50μΓη以上。 在使玻璃Β化學強化而成之化學強化玻璃板中,表面壓 縮應力S典型地係300MPa以上,且小於1050MPa。小於 300MPa時恐有容易產生裂縫之虞。在使玻璃B1化學強化而 成之化學強化玻璃板中,表面壓縮應力S典型地係300MPa 以上,且小於750MPa,且在使玻璃B2或玻璃B3化學強化而 成之化學強化玻璃板中,表面壓縮應力S典型地係700MPa 以上,且小於1050MPa。 玻璃B之玻璃轉移點Tg(以下僅稱為Tg)在玻璃B1中典 型的是540〜610°C,在玻璃B2、B3中典型的是580〜640°C。 玻璃B之黏度成為1 〇4dPa. s之溫度τ4(以下僅稱為T4)係 以1190°C以下為佳。大於1190。(:時則玻璃之成形恐有變困 難之虞。典型的是118(TC以下。 玻璃B之黏度成為102dPa,s之溫度Τ2(以下僅稱為T2)係 以1650°C以下為佳。大於1650。(:時恐有熔融變困難,未融 物等之製品缺點變多之虞’或熔融設備恐有變高價之虞。 典型的是1600°C以下。 玻璃B之失透溫度以在前述溫度丁4以下為佳。如果不是 如此’則例如使用漂浮法時恐有產生失透且成形會變困難 13 201223908 之虞。在此,失透溫度是在將玻璃保持其溫度15小時時失 透析出之溫度的最高值。 玻璃B之比重p係以2·6以下為佳。大於2.6時電漿顯示裝 置10之輕量化恐有不足之虞。 玻璃Β之50〜350 °C之平均熱膨脹係數α典型的是 80χΗΓ7〜13〇xl(T7/°C。此外,由於壓縮應力層厚度t非常小, 故使玻璃B化學強化而成之化學強化玻璃板的平均熱膨脹 係數與化學強化前之玻璃B之平均熱膨脹係數α大略相同。 玻璃Β中,玻璃Β1係適用於化學強化處理後,不用另 外實施研磨處理,就可一面使表面壓縮應力1】、於例如 750MPa並一面增大壓縮應力層厚度t之情況的態樣。玻璃 B2及玻璃B3係適用於錯硫酸鹽進行玻璃製造時之澄清之 情況的態樣。 接著,關於玻璃B之組成,除非特別事先聲明,否則使 用莫耳百分率表示含量來說明。
SiCb是構成玻璃之骨架之成分且是必要的。小於5〇% 時作為玻璃之穩定性會降低,或耐候性會降低。較佳的是 60%以上。又,在玻璃B2中是6〇%以上,較佳的是62%以上, 而在玻璃B3中是63%以上。
Si〇2大於74%時玻璃之黏性會增大且熔融性會顯著地 降低。較佳的是70%以下,典型的是68%以下。此外,在玻 璃B2中Si02是70%以下。
Al2〇3是使離子交換速度提高之成分,且是必要的。小 於1%時離子交換速度會降低。較佳的是2%以上,典型的是 14 201223908 3%以上。此外,在玻璃B2中八丨2〇3是2%以上,而在玻璃扪 中是3%以上。
Al2〇3大於1 〇%時玻璃之黏性會變高且均質之熔融會變 困難。較佳的是9%以下,更佳的是8%以下,典型的是7〇/〇 以下。此外,在玻璃B2中Abo;是8〇/〇以下。
Si〇2及Ab〇3之含量的合計大於75%時在高溫之玻璃黏 性會增大’且熔融會變困難。典型的是72°/。以下。此外, 較佳的是該合計為66%以上。小於66%時恐有不易得到穩定 之玻璃,或有耐候性容易降低之虞,則典型的是68%以上。
Na2〇係藉離子交換形成壓縮應力層,且使破璃之溶融 性提高之成分,且是必要的。小於6%時藉離子交換形成所 希望之壓縮應力層會變困難。較佳的是7%以上,典型的是 8%以上。此外,在玻璃B3中Na20係8%以上。
NasO大於14%時,隨著Tg應變點會變低,或耐候性會 降低。較佳的是13%以下’典型的是12%以下。此外,在破 璃B1中Na2〇係12%以下’較佳的是11%以下,典型的是1〇0/。 以下。 K2〇係使炼融性提高之成分,且同時係用以使化學強4匕 中之離子交換速度變大以便得到所希望之表面壓縮應力s 與壓縮應力層厚度t的成分,且是必要的。小於3%時炼融十生 會降低,或離子交換速度會降低。典型的是4%以上。此外^ 在玻璃B1中K2〇係4%以上,較佳的是5%以上,更佳的是6〇/ 以上’典型的是7%以上。又,Κ2〇之質量百分率表示含量 典型的是3%以上。 15 201223908 Κ:2〇大於15%時耐候性會降低。較佳的是12%以下,典 型的是11%以下。此外,在玻璃82、玻璃以 下,較佳是7%以下,典型的是6%以下。
NaiO及Κ2〇之含量的合計r2〇小於丨2%時會變得無法 得到所希望之離子交換特性。較佳的是13%以上,更佳的 是14%以上。此外’在玻璃b卜玻璃B3中r2〇係14%以上’ 而在玻璃B1中較佳的是16%以上,更佳的是16.5%以上,典 型的是17%以上。 R2〇(Na2〇及K20之合計量)大於25%時,以玻璃之耐候 性為首之化學上耐久性會變低。較佳的是22%以下,更佳 的是20%以下’典型的是19%以下。此外,為了使玻璃之鹼 度降低且使由硫酸鹽所致之澄清性提高等,在玻璃Β2中 R20是18%以下,而在玻璃Β3中是17%以下。 為了使玻璃之鹼度降低且使由硫酸鹽所致之澄清性提 高,在玻璃B2中令前述Na20+1.7K20小於19%。在玻璃B3 中Na20+1.7K20亦是以小於19%較佳。此外,「使玻璃之鹼 度降低且使由硫酸鹽所致之澄清性提高」是指,就由硫酸 鈉所致澄清之情形而言,係指使硫酸鈉之分解溫度在1500 °C程度以下。 由前述R20(Na20及K20之合計量)減去A1203含量之差 r2o—ai2o3係以10%以上為佳。小於1 〇%時恐有壓縮應力層 厚度t變小之虞。壓縮應力層厚度t變小可推測是由於隨著Tg 而應變點變高的緣故。又,在玻璃B1中’ R2O —Al2〇3係10% 以上。 ⑧ 16 201223908 由Si〇2及Al2〇3之含篁的合計減去R2〇(Na2〇及κ2〇之合 計量)之差係以60%以下為佳。大於60%時恐有前述丁2大於 1650°C且熔融變困難之虞。 由於LhO是使應變點降低且容易引起應力緩和,結果 無法得到穩定了的壓縮應力層之成分,故以不含有為佳, 而即使含有之情況下,其含量係以2°/。以下為佳,更佳的是 0.05%以下,特佳的是小於0.01%。 此外,LbO在化學強化處理時會有溶出至kn〇3等之熔 融鹽中之情況,因此使用含有Li之炼融鹽進行化學強化處 理時表面壓縮應力S會顯著地降低。即,本發明人發現,使 用不含Li之KN〇3,含有0.005質量%、〇.〇1質量%、〇 〇4質 量%之1^的KNO3,以450°C6小時之條件進行後述材料例19 之玻璃之化學強化處理後,結果如第3圖所示,只要熔融鹽 含有0.005質量%之Li則表面壓縮應力就會顯著地降低。因 此,由該觀點來看,以不含Li20為佳。 K2〇之含量與驗金屬氧化物之含量之合計的比以〇 25 以上為佳,更佳的是0.4以上,典型的是大於0.5。 驗土族金屬氧化物是使溶融性提高之成分,且同時是 隨著Tg對應變點之調節有效之成分。 由於BaO在驗土族金屬氧化物中使離子交換速度降低 之效果最大’所以較佳的是不含BaO,或即使含有之情況 下其含量以小於1 %為佳,而在玻璃B1中即使含有之情況下 係必須小於1%。
SrO亦可依需要含有之,但是與MgO、CaO相比,由於其 17 201223908 使離子交換速度降低之效果大,故即使含有之情況下係以小 於1%為佳。 含有SrO或BaO時該等之含量的合計以3%以下為佳,更 佳的是小於2%。
MgO及CaO係使離子交換速度降低之效果較小者,且 至少必須含有2%以上之MgO。
MgO小於2%時熔融性會降低。較佳是4%以上,更佳的 是6。/。以上,典型的是6.5%以上。此外,在玻璃B2、玻璃B3 中,MgO是6%以上’較佳的是6.5°/。以上,典型的是1〇%以上。
MgO大於15%時離子交換速度會降低。較佳的是14%以 下,更佳的是13.5%以下。此外,在玻璃則中,MgO是以 13%以下特佳’典型的是12%以下,在玻璃B3中MgO是14% 以下。 含有CaO時,其含量典型的是1%以上。其含量大於1〇% 時離子交換速度會降低》較佳的是8°/。以下,典型的是6%以 下。此外,在玻璃B2中即使含有CaO之情況下其含量典型 的是1%以下,而在玻璃B3中必須是1%以下。 含有CaO時,MgO與CaO之含量的比是以1以上為佳。 更佳的是1.1以上。
MgO及CaO之含量的合計MgO+CaO是7〜15%,典型的 是8%以上,在玻璃B1中必須是8%以上。此外,MgO及CaO 之質量百分率表示之含量的合計典型的是5.1%以上。
MgO+CaO與Al2〇3含量之比係以1.2以上為佳,典型的 是1.5以上。 ⑧ 18 201223908 鹼土族金屬氧化物之含量的合計R 〇係以大於2 %且 15%以下為佳。2%以下時炼融性會降低,或應變點之調節 會變困難。較佳的是4%以上,更佳的是6<)/。以上,典型的是 8%以上。大於15%時恐有離子交換速度會降低,變得容易 失透,或應變點變成過低之虞。 除了玻璃B3以外,在玻璃b中Zr〇2不是必要的,但是 為了增加離子交換速度亦可含有在到達5%之範圍内。大於 5%時增大離子交換速度之效果會飽和,且,會有產生熔融 性惡化而未熔融物殘留在玻璃中之情形。此外,如第4圖所 示,藉使其含有Zr02,化學強化處理後之玻璃之維氏硬度 會增大。且順帶一提,除了後述材料例5、9、10之玻璃以 外,(1)以莫耳百分率表示,含有64.0%之Si02、5.4%之 Al2〇3、9.6%之Na20、9.1%之K20、5.4%之MgO、4.0%之 CaO、2,5%之Zr02的玻璃,(2)以莫耳百分率表示,含有64.0% 之Si〇2、5.3%之Al2〇3、9.6%之Na20、9.1%之K20、5.2%之 MgO、4.0%之CaO、2.7%之Zr02的玻璃,(3)以莫耳百分率 表示,含有66.8%之Si02'11_〇%之Al2〇3、13.1°/。之Na2〇、 2.5%之K20、6.1%之Mg〇、0.6%之CaO的玻璃中,亦同樣 地看到在第4圖顯示之傾向。Zr〇2係4°/。以下較佳’典型的 是2%以下。含有Zr02之情況下,其含量係〇·5%以上較佳, 典型的是1%以上。 在玻璃B3中,Zr〇2是必要的’且含有1〜4%。典型的是 1.5〜3%。 雖然玻璃B係本質上由以上說明之成分構成’但是在不 19 201223908 損害玻璃B之效果之範圍内,亦可含有其他成分。含有如此 成分時,該等成分之含量的合計係以1〇%以下為佳,典蜇 的是5%以下。以下,就上述其他成分例示性地說明。 為了提咼玻璃在高溫之溶融性,有時可含有到例如2/° 之ZnO,但是較佳的是1%以下。以漂浮法製造等情形時係 以0.5°/。以下為佳。大於0.5°/。時恐有在漂浮成形時還原而成 為製品缺點。典型的是不含Zn〇。 為了提高在高溫之熔融性或玻璃強度,有時亦可含有 至例如1%之&〇3。大於1%時恐有不易得到均質之玻璃,且 玻璃之成形會變困難之虞。典型的是不含82〇3。 由於Ti〇2會使存在玻璃中之Fe離子(Fe2+、Fe3+)之氧化 還原狀態變化而可見光透過率會變化則玻璃恐有著色之 虞’所以較佳的是即使含有係在1%以下為佳,典型的是不 含有之。 又’亦可適當含有S03、氣化物、氟化物等,作為玻璃 熔融時的澄清劑。但是,為了提高畫質,較佳的是儘可能 減少如混入作為在可見光區域有吸收之Fe2〇3、NiO、Cr203 等原料中之不純物的成分,且各自以質量百分率表示,較 佳的是0.15%以下,更佳的是0.05%以下。 (玻璃C) 以氧化物基準之莫耳百分率表示,玻璃C含有68〜80% 之 Si02、4〜10%之 a12〇3、5〜15% 之 Na2O、0~l%之 K2〇、4〜15% 之MgO、0〜1%之zr〇2,且Si〇2及Al2〇3之含量的合計 Si〇2+Al2〇3係 85°/。以下。 ⑧ 20 201223908 該玻璃C中,Al2〇3較佳的是4.5%以上。此外,在該玻 璃C中,Si02+Al203較佳的是75%以上。又,該玻璃C中, 更佳的是Si02係70〜75%,Al2〇3係5%以上,Na20係8%以 上,MgO係 5〜12%,Si02+Al203係77〜83%。 此外,在該玻璃C中,不含有CaO,或亦可含有CaO之 情況下其含量小於1%。 又,更佳的是,在該玻璃C中,含有CaO、SrO、BaO 及Z r Ο 2中之任Η固以上之成分時該等4成分之含量的合計係 小於1.5%。 依據該玻璃C,可經化學強化法充分提高強度,並且可 抑制以在使用化學強化後之玻璃時附之壓痕為起點之裂縫 的產生(伸展)。 在使玻璃C化學強化而成之化學強化玻璃板中,表面壓 縮應力S較佳的是550MPa以上,且典型的是1200MPa以下。 在使玻璃C化學強化而成之化學強化玻璃板中,壓縮應 力層厚度t較佳的是大於ΙΟμηι ’且典型的是70μπι以下。 使玻璃C化學強化而成之化學強化玻璃板較佳的是即 使以維氏硬度計之維氏壓子施加5kgf=49N之力亦不會受 損。更佳的是即使施加7kgf之力亦不會受損’特佳的是即 使施加lOkgf之力亦不會受損。 玻璃C之玻璃轉移點Tg較佳的是400°C以上。小於400 °C時離子交換時表面壓縮應力會緩和’而恐有無法得到充 分之應力之虞。 玻璃C之黏度成為102dPa.s之溫度T2係以1750°c以下為 21 201223908 佳。 玻璃c之黏度成為104dPa.s之溫度ι係以135〇它以下為 佳。 玻璃C之比重p係以2.50以下為佳。 玻璃C之揚氏模數E係以68GPa以上為佳,小於68(3ρ& 時玻璃之耐裂性或破壞強度等恐有不足之虞。 玻璃C之帕松比〇係以0.25以下為佳。大於〇.25時玻璃 之耐裂性恐有不足之虞。 玻璃C之50〜350 °C之平均熱膨脹係數α典型的是 57χ10_7〜81xl(T7/°C。此外,由於壓縮應力層厚度“卜常小, 故玻璃C化學強化而成之化學強化玻璃板的平均熱膨脹係 數與化學強化前之玻璃C之平均熱膨脹係數α大略相同。 接著,關於玻璃C之組成,除非特別事先聲明,否則使 用莫耳百分率表示含量來說明。
Si〇2是構成玻璃之骨架之成分且是必要的。又,也是 使玻璃表面上帶傷時之裂縫之產生減低的成分。小於68% 時作為玻璃之穩定性或耐候性或耐切削性會降低。較佳的 是70%以上。SiCb大於80%時玻璃之黏性會增大且熔融性會 降低。較佳的是75%以下。
Al2〇3是使離子交換性能及耐切削性提高之成分且是 必要的。小於4%時無法藉離子交換得到所希望之表面壓縮 應力值、應力層深度。較佳的是4.5%以上,更佳的是5%以 上。大於10%時玻璃之黏性會變高且均質之熔融會變困難。
Si〇2及Al2〇3之含量的合計Si〇2+Al2〇3大於85%時在高 ⑧ 22 201223908 溫之玻璃黏性會增大,且熔融會變困難。較佳的是83。/0以 下。此外’ Si〇2+Al2〇3較佳的是75%以上。小於75%時帶有 壓痕時之财裂性會降低。更佳的是77%以上。
NazO係藉離子交換使形成壓縮應力層,或使玻璃之炼 融性提高之成分,且是必要的。小於5¾時藉離子交換形成 所希望之壓縮應力層會變困難。較佳是8%以上。Na20大於 15%時耐候性會降低。此外,會容易由壓痕產生裂縫。 K2〇雖然不是必要的但是為了增大離子交換速度,可含 有至1%。大於1%時容易由壓痕產生裂縫。
MgO雖係可能使離子交換速度降低之成分,但亦為抑 制裂縫之產生,或使熔融性提高之成分,且是必要的。小 於4%時黏性會增大且熔融性會降低。較佳的是5%以上。大 於15%時會容易變成失透。較佳的是12%以下。 雖然Zr〇2不是必要的,但是為了降低在高溫之黏性’ 或為了增大表面壓縮應力,可含有在到達1%之範圍内。大 於1%時,由壓痕產生裂縫之可能性恐有升高之虞。 雖然玻璃C係本質上由以上說明之成分構成,但是在不 損。破璃C之效果之範圍内,亦可含有其他成分。含有如此 成刀時,該等成分之含量的合計係以5y。以下為佳,典梨的 疋3/〇以下。以下,就上述其他成分例示性地說明。 為了 k兩玻璃在南溫之熔融性,有時可含有到例如2% 之Zn〇,但是較佳的是1%以下。以漂浮法製造等情形時係 以〇·5°/。以下為佳。大於〇 5%時恐有在漂浮成形時還原而成 為製品缺點之虞。典型的是不含ZnO。 23 201223908 為了提高在高溫之溶融性或玻璃強度,有時亦可含有 至例如小於1 %範圍内之B2〇3。含1 %以上時恐有不易得到均 質之玻璃,且玻璃之成形變困難之虞,或耐切削性恐有降 低之虞。典型的是不含b2o3。 由於Ti〇2藉與存在玻璃中之Fe離子共存,恐有會使可 見光透過率降低,將玻璃著色為褐色之虞,所以較佳的是 即使含有係為1%以下,典型的是不含有之。 由於Li2〇是使應變點降低而容易引起應力緩和,結果 無法得到穩定之壓縮應力層之成分,故以不含有為佳,而 即使含有之情況下,其含量係以小於1%為佳,更佳的是 0.05%以下,特佳的是小於〇 〇i〇/〇。 此外,LisO在化學強化處理時會有溶出至反]^〇3等之熔 融鹽中之情況,因此使用含有Li之熔融鹽進行化學強化處 理時表面壓縮應力S會顯著地降低。即,本發明人發現,使 用不含Li之KN〇3,含有0 005質量%、〇〇1質量%、〇 〇4質 量%之Li的KN〇3,以450°C6小時之條件進行後述材料例76 之玻璃之化學強化處理後,結果只要熔融鹽含有〇〇〇5質量 %iLi則表面壓縮應力就會顯著地降低。因此,由該觀點來 看,以不含Li20為佳。 為了提高在高溫之熔融性,或不易引起失透,Ca〇亦 可含有在小於1%之範圍内。含1%以上時離子交換速度或對 產生裂縫之耐性會降低。典型的是不含Ca〇。
SrO亦可依需要含有,但是與^^§〇、Ca〇相比,由於使 離子交換速度降低之效果大,故即使含有之情況下係以小 24 201223908 於1°/。為佳。典型的是不含SrO。 由於BaO在鹼土族金屬氧化物中使離子交換速度降低 之效果最大,所以較佳的是不含BaO,或即使含有情況下 其含量係以小於1%為佳。 含有SrO或BaO時該等之含量的合計以1%以下為佳,更 佳的是小於0.3%。 含有CaO、SrO、BaO及Zr〇2中之任1個以上時該等4成 分之含量的合計係以小於1.5%為佳。含1.5%以上時離子交 換速度恐有降低之虞。典型的是1%以下。· 亦可適當含有SO3、氣化物、氟化物等,作為玻璃之炫 融時的澄清劑。但是,為了提高晝質,較佳的是儘可能減 少如混入作為在可見光區域有吸收之Fe2〇3、NiO、Cr2〇3 等原料中之不純物的成分,且各自以質量百分率表示,車交 佳的是0.15%以下,更佳的是0.05%以下。 (破璃D) 以氧化物基準之莫耳百分率表示,玻璃D含有61〜660/。 之Si〇2、6〜12%之Al2〇3、7〜13%之MgO、9~17%之Na2〇、 〇〜7°/。之Κ_2〇 ’且含有Zr〇2時其含量為0.8%以下。 接著,關於玻璃D之組成,除非特別事先聲明,否則使 用莫耳百分率表示含量來說明。
Si〇2是構成玻璃之骨架之成分且是必要的。小於61% 時帶有壓痕時容易引起強度之降低,玻璃表面上帶傷時會 容易產生裂縫,耐候性降低’比重變大,或液相溫度上升 且玻璃變不穩定。較佳的是61.5%以上,更佳的是62%以 25 201223908 上,特佳的是63%以上。Si〇2大於66%時τ2或Τ4會上升且玻 璃之熔解或成形會變困難。較佳的是65.5%以下。欲進一步 抑制玻璃表面上帶有壓痕時之強度降低時之Si02典型的是 63〜65%。此外,Si〇2之質量百分率表示含量典型的是小於 64% 〇
Al2〇3是使離子交換性能及耐候性提高之成分且是必 要的。小於6%時容易在帶有壓痕時引起強度之降低,或無 法藉離子交換得到所希望之表面壓縮應力S、應力層厚度 t。較佳為6.5%以上’更佳的是7%以上’特佳的是7.5%以上。 大於12%時Τ'2或I會上升且玻璃之熔解或成形會變困難,或 液相溫度會升高且容易變成失透。較佳的是11 ·5%以下。 Si〇2及Al2〇3之含量的合計較佳是71%以上。小於71% 時恐有在帶有壓痕時容易引起強度之降低之虞。典型的是 大於72%。
MgO雖係可能使離子交換速度降低之成分,但亦為 制裂縫之產生’或使熔融性提高之成分,且是必要的。 於7%時T2或I會上升且玻璃之熔解或成形會變困難。較 的是7.5%以上,更佳的是8%以上。大於13%時液相溫度 上升且容易變成失透。較佳的是12 5%以下,更佳的是1 以下。欲進-步抑制玻璃表面上帶有壓痕時之強度 之MgO典型的是8〜11%。 _
Na20係藉離子交換使形成壓縮應力層,或使 融性提高之成分,Η β ν Φ^ 且疋必要的。小於9%時藉離子交 所希望之壓縮應力層錢困難。較佳是9.5%以上,更佳 26 201223908 是ίο%以上’特佳的是1() 5%以上。Na2〇大於i7%時耐候性 會降低,或容易由壓痕產生裂縫。較佳為16%以下。 K2o雖'然不是必要的但是使離子交換速度增大之成 分’亦可含有至7%。大於7%時會容易由壓痕產生裂縫。較 佳的是6·5%以下’更佳的是編下。含有Κ2〇時其含量較 佳的是0.5%以上。 3有Κ2〇時,Νε12〇及ho之含量的合計較佳的是 22%以下。大於㈣㈣候性會降低或容易由壓痕產生裂 縫。較佳的是21%以下,更佳的是纖以下。又,化〇較佳 的是14%以上,典型的是15%以上。 奴進步抑制玻璃表面上帶有壓痕時之強度降低時, 典型的是Na2〇是U〜16%,Κ2〇^〜5%,R2〇(Na2〇及κ2〇之 έ畺)疋15 17/〇,而IQ含量小於3%時^^2〇典型的是 13.5〜16%。 右人提同Tg之情況等,較佳的是由R2〇(Na2〇及κ2〇之合 計量)減去αι2ο3含量之差r2〇—Al2〇3係小於】〇%。 由於Zr〇2可能使在麵上帶有壓痕時之強度降低,故 不疋必要成分’但是為了降低在高溫之黏性,或為了增大 表面壓縮應力,亦可含有在到達0.8%之範圍内。大於0.8。/。 時’谷易在玻璃上帶有壓痕時引起強度之降低或容易由 壓痕產生裂縫。較佳的是〇7%以下,更佳的是〇6%以下, 特佳的是0.55%以下。 雖然玻璃D係本質上由以上說明之成分構成,但是在不 指害本發明之目的之範圍β,亦可含有其他成分。含有如 27 201223908 此成分時’該等成分之含量的合計係以5%以下為佳,典髮 的疋3〇/°以下。特佳的是Si〇2、Al2〇3、Mg〇、Na20及K2O之 合計量的合計為98%以上。以下,就上述其他成分例示性 地說明。 為了使在南溫之溶融性提南,或不易引起失透,可含 有CaO、Sro及Bao,但是離子交換速度或對裂縫產生之耐 性恐有降低之虞。有Ca0、Sr0及Ba0中之任丨個以上時各成 分之含量較佳的是1%以下,更佳的是0.5%以下。又,此時 該等3成分之含量的合計較佳的是1%以下,更佳的是〇5%以 下。 為了提高玻璃在高溫之熔融性有時可含有Zn〇,而此 時之含量較佳的是1%以下。以漂浮法製造時係以〇5%以下 為佳。大於0.5%時恐有在漂浮成形時還原而成為製品缺點 之虞。典型的是不含ZnO。 為了提高在高溫之熔融性或玻璃強度,有時亦可含有 至例如小於1 %範圍内之B2〇3。含1 %以上時恐有不易得到均 質之玻璃,且玻璃之成形變困難之虞,或耐切削性恐有降 低之虞《典型的是不含b2〇3。 由於Ti〇2藉與存在玻璃中之以離子共存,而恐有使可 見光透過率降低,將玻璃著色為褐色之虞,所以較佳的是 即使含有係為1%以下,典型的是不含有之。 由於Li2〇是使應變點降低而容易引起應力緩和,結果 無法得到穩定之壓縮應力層之成分,故以不含有為佳,而 即使含有之情況下’其含量係以小於丨%為佳,更佳的是 ⑧ 28 201223908 0.05%以下,特佳的是小於〇〇1〇/〇。 亦可適當含有SC)3、氣化物、氟化物等,作為玻璃之熔 融時的澄清劑。但是,為了提高觸控面板等顯示裝置之觀 看性,較佳的是儘可能減少如混入作為在可見光區域具有 吸收之Fe2〇3、NiO、〇2〇3等原料中之不純物的成分,且各 自以質量百分率表示,較佳的是0.15。/。以下,更佳的是〇1% 以下,特佳的是0.05%以下。 實施例 以下’藉實施例等具體地說明本發明,但是本發明不 受限於該等例子。 (覆盍玻璃板之材料) (材料例1〜57) 材料例1〜37之玻璃係滿足上述玻璃b之組成者,材料例 38〜57之玻璃係上述玻璃b之比較例,且係與上述玻璃b不 同之組成者。材料例84係有關上述玻璃D,且係滿足上述玻 璃D之組成者。 就材料例1〜17、19〜35、38〜47、84,適當選擇氧化物、 氫氧化物、碳酸鹽 '硝酸鹽等一般使用之玻璃原料,使其 成為在表1〜5及表19之由Si02至Zr02(或者Li20或Ti02)之欄 中以莫耳百分率表示顯示的組成,且秤量成400g作為玻 璃,又,雖然未顯示在前述組成中,係就已添加了以S03 換算計相當於0.4質量%之硫酸鈉之物進行了混合。接著, 置入白金製坩堝,投入1600。(:之電阻加熱式電爐中,熔融3 小時,脫泡,均質化後,倒入型材,在預定溫度下徐冷, 29 201223908 得到了玻璃磚。從該玻璃磚切斷 '磨削成尺寸 40mmx40mm,厚度為0.8mm ’最後將兩面加工成鏡面,得 到了板狀之玻璃。 此外’表中之「R2〇-Al」係由前述尺2〇(1^2〇及κ2〇 之含量)減去Al2〇3含量者,且「Na+1.7K」係Na2〇含量與將 K2〇含量乘1.7倍之和’又,對應於表1〜5及表19之莫耳百分 率表示組成之質量百分率表示組成顯示在表7〜11及表2〇。 此外,材料例18、36、37、48〜57係未進行如此炼融者, 而材料例47係另外準備之鈉鈣石英玻璃之例子。 就s亥等玻璃進行如下之化學強化處理。即,將該等破 璃分別浸潰在450°C之ΚΝΟ3熔融鹽中6小時,進行了化學強 化處理。就各玻璃,利用折原製作所社製之表面應力計 FSM-6000測定了表面壓縮應力S(單位:Mpa)及壓縮應力層 之厚度t(單位· μιη)。結果顯示於表1〜6之該攔。如由表明 確地可知使用玻璃Β者之S係300MPa以上且1024MPa以 下,且t係45μηι以上,並產生有所希望之壓縮應力層。 此外’材料例18、36、37、牝〜57、84之§、t係由組成 藉計算求得。 又,就材料例5、40、47、84測定了玻璃轉移點Tg(單 位.C)、黏度成為102dPa.s之溫度A(單位:t)、黏度成為 l〇4dPa.s之溫度T4(單位:°C)、比重p、平均熱膨脹係數以(單 位:1〇-7/。〇。此外,就材料例I9、2〇測定了Tg、τ2、τ4、 α ’而就材料例24〜26測定了 Tg、α。結果顯示於表之該搁中。 又,就其他材侧,藉計算φ組成求得料值。結果顯示於 30 201223908 表中。 此外,就材料例卜4〜10、15〜17、19〜35、40、43-47、 84,如下地進行了有關失透之試驗。即,進行了將玻璃保 持於溫度T415小時時在玻璃產生失透之試驗。表中之「D」 欄之〇分別表示在上述試驗中未產生失透,而X表示產生失 透。又,即使在溫度T4產生失透,在(T4+40°C)不產生失透 者以△表示。 就材料例19〜35如下地進行了有關硫酸鹽分解之試 驗。即,在1350°C及1500°C測定了殘存於玻璃中之S03量, 且算出其差△(單位:質量%)。為了減少玻璃中之氣泡較佳 的是0.08質量%以上。就材料例36、48〜57顯示由組成之△ 推定值。在此△推定值為0.4〜0.9質量%者在表中記為 「0.08」。 31 201223908 [表i] 例 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 St02 Θ7.4 65.2 65.2 63.0 63.5 64.5 66.4 S2.6 633 83.5 ΑΙ,Ο, 3.7 6.0 6.0 5.0 5.0 5.0 3.0 5.7 4.9 4.7 MgO 12.2 9.5 7.5 10.6 8.0 2.7 7.2 9.6 6.1 4.& CaO 1.1 0 20 2.0 4Ό 8.0 4.0 4.0 (0 4.0 SrO 0.6 0 0 0 0 0 0 0 0 0 Nq20 8.t 9.0 9.0 9.3 9.4 9.5 9.3 9.2 9.6 9.7 K20 6.3 9.0 9.0 8.8 8.9 9.0 8.9 8.8 9.1 9.2 ZrOj 0.7 1.3 1.3 1.3 13 1.3 1.3 0 3.0 4.0 RO 13.9 9.5 9.5 12>d 12.0 10.7 11.2 13,6 10.1 8.9 &〇 14.4 18.0 18.0 18.1 18.3 18.5 18.1 18.0 18.7 18.9 R,0-Al 10.7 12.0 12.0 Ilf 13.3 U.5 15.1 12.3 13.7 14.2 Na+1.7K 38.4 40.1 40.1 43.4 43.1 42.2 42.0 44.2 41.9 41.0 S 630 581 566 566 551 4的 466 535 62d 629 t 50 83 70 64 57 49 57 61 56 56 Tg 579 582 567 579 572 554 54d 5$1 587 604 T2 1549 1588 1565 1520 1518 1520 1520 1520 1520 1520 T, 1125 1163 1151 noe 1097 1093 1094 1098 1117 1122 0 o 一 一 〇 o o o o o X P 2.59 2.48 2.50 2.52 2.53 2.54 2.51 2.49 2S8 2.58 a 90 100 101 104 105 107 104 106 105 104 ⑧ 32 201223908 [表2] 例 Π 12 13 14 15 16 17 1θ 19 20 SiOj 62.9 62.4 64.8 66.7 69.4 62.9 64.1 52.0 64.5 β55 αι,〇3 5.0 S.0 5.0 3.6 ί.Ο 5.0 5,0 9.0 6Ό 5.0 MgO 8.8 9,7 6.6 12.1 6.5 ΙΟ.β 9,5 14.0 11.0 12.0 CaO 4.0 4.0 4.0 U 4.0 4.0 4.0 0 0 0 SrO 0 0 0 0.6 0 0 0 α 0 0 NaxO 6.4 7.4 9.4 11.0 9.2 7.4 9.2 10.0 12.0 10.0 KaO 9.6 10.2 8.Θ 4.2 8.7 8.9 6.9 14.0 4.0 5.0 Zrt>2 J.3 !_3 1.3 0.7 1.3 1.3 1.3 1.0 25 2.5 RO 12.8 13.7 10.6 137 10.5 14.6 13 5 14.0 11.0 12.0 R20 17.9 17.6 18.3 15.3 17.9 18.3 16,1 24.0 16.0 15.0 RjO-AI 12.9 12.6 13.3 11.6 16.9 11.3 11.1 15.0 10.0 100 Na+UK 24.7 24.7 24.5 18,1 24,0 22.5 20.9 33.8 16.8 18.5 S 526 436 626 743 391 529 648 56β 1023 890 t 60 57 eo 48 56 47 4β β8 46 48 Tz 592 582 580 555 546 605 592 597 no 632 1520 1540 1560 1512 1520 1520 1520 Η71 1575 1589 T4 1112 1114 1126 1088 1083 ”13 1104 1089 U68 1177 D — - 一 一 Ο Ο Ο 一 Ο Ο P 2.53 2.51 2.50 2.50 2.49 2.53 2.52 2.56 2.53 2.52 a 105 104 104 93 102 99 S7 129 91 87 A 一 — 0.08 ΟΛΟ 33 201223908 [表3] 例 21 22 23 24 25 2Θ 27 28 29 30 Si02 64.5 66.5 67.0 61.0 61.0 ai.o 61.0 61.0 62.0 62.0 Α',ο, 5.0 4.0 4.0 8.0 8.0 8.0 8.0 8.0 7.0 8.0 MgO 13.0 12.5 12.0 6.5 8.5 10.5 as 105 10.5 10.5 CaO 0 0 0 4.0 2.0 0 2.0 0 1‘0 0 SrO 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 N«t0 9.5 8.6 a.e 12.0 12.0 12.0 11.0 11.0 12.D 12.0 K20 5.5 5.9 5,9 6.0 6.0 6.0 7,0 7,0 5.0 6.0 Zr02 23 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2,5 2.5 2.5 1.5 RO 13.0 12.5 12.0 10.5 10.5 10.5 10.S 10 5 11.5 10.5 FtjO 15.0 14.5 14.5 16.0 16.0 ia.o 18.0 1B.0 170 1β.Ο r2o-ai !0.0 10.5 10.5 10.5 10.5 10.5 10.5 10,5 10.0 10.0 Na+1.7K 1Θ.9 18.6 18.6 22.2 22.2 22,2 22.9 22.9 20.5 22.2 S 860 782 790 937 977 1001 $10 931 953 958 t 45 50 50 46 52 60 55 62 SO 61 Tg 628 628 627 60! eie 628 eoe 608 61) 594 Ts 1566 1581 1589 1555 1563 1571 1573 1581 1554 15β4 丁4 1165 1174 1179 1150 1160 1170 1172 1182 1152 "71 D X A Δ 0 o X o X 〇 o P 2.53 2.52 2.5! 2.5fi 2.56 255 2.56 2.55 2.55 2.52 a 89 87 87 99 99 too 101 100 97 100 厶 0.09 0.10 0.10 0.00 0.02 0.03 0.02 0.04 0.02 0.03 ⑧ 34 201223908 [表4] 例 31 32 33 34 35 36 37 3β 3d 40 Si02 63.0 62.0 83.5 62.0 64.0 70.0 65 68.0 70.0 65.2 AIA β5 7.0 6.5 7.0 5.5 5.5 5 6.0 1.0 6.0 MgO 11,0 12.0 11.0 11.5 12.5 7.0 12 0 1.0 8.0 CaO 0.5 0 0 0 0 0 0 9.0 1.0 7.0 SrO 0 0 0 0 0 0 0 0 0 1.0 Na20 11.0 11.0 12.0 12.0 10.5 12.5 10 10.5 11.0 5.0 KjO 5.5 β.0 4.5 5.0 5.0 35 5 60 13.0 6.5 Zr〇2 2.5 2.0 25 2.5 2.5 1.5 2 0.5 3.0 1.3 u,o 0 0 0 0 0 0 1 0 0 0 RO 11.5 12.0 η.ο 11.5 12.5 7.0 12 9.0 2.0 16.0 r2o 16.5 Ί7.0 ie.5 17.0 15.5 16.0 15 16.5 240 11.5 R,〇-Ai 10.0 10.0 10.0 10.0 10.0 10.5 10 10.5 23.0 5.5 Na+1.7K 20.4 21.2 19.7 20.5 19.0 18.5 1Β.5 207 33.1 1β·1 S 91B 905 9$7 977 895 1024 Θ11 649 597 409 t 52 57 51 53 49 51 37 33 65 39 Tg 61Θ 609 614 612 623 599 582 567 527 645 1棚 Τ5Β7 1568 1棚 1562 1642 1527 1572 1560 15S9 1165 1164 ηβο 1157 1160 118S 1113 U1B 1116 1178 0 Ο X X X X - — 一 — Ο P 2.54 153 2.54 255 2.53 2.46 2.52 2.50 2.49 2.55 a 94 97 94 9β 91 89 90 98 119 34 Δ 0.04 0.04 0.04 003 0.03 ο.οβ — - — - 35 201223908 [表5] 例 41 42 43 44 45 46 47 46 49 50 SiOj 66.5 6Θ.1 04.7 63.6 62.2 63.5 71.6 70.0 70.0 63.$ A_A 3.6 3.6 5.0 5.0 5.0 5.0 0.9 5.5 6.5 S3 M«0 120 11.9 11.0 15.9 13.2 11.9 5.9 6.0 6.0 12.2 CbO 4.4 1.1 4,0 4.0 4.0 4.0 β.5 0 0 0.2 SrO 0.G 0.G 0 0 0 0 0 0 0 0 NazO 8.0 13.8 9.1 5.4 5.4 7.4 12.9 13.5 12.5 15.6 k,〇 4.2 24 4.9 4.9 8.9 6.9 0.3 3.5 3.5 32 Zr〇2 0.6 0·β 1.3 1.3 t.3 1.3 0 1.5 1.5 0 HO 17.0 13.6 15.0 i9.d 17.2 15.9 14.4 6.0 6.0 12.4 RjO 12.2 16.1 14.0 10.3 UJ3 14.3 13-2 17.0 te.o 18.8 R2〇-AI Θ.6 12.5 9.D 5.3 93 9.3 12.4 11.5 d.s 13.5 Na*H.7K 15.1 t7.7 17.4 13.7 20.5 19.1 13.4 19.5 18·$ 21.0 S 688 749 737 499 437 620 Θ8β 1035 1086 880 t 30 39 35 27 43 40 15 53 51 56 Tg 802 518 605 652 617 605 540 5ΘΘ 60S 558 1511 1476 1520 1520 1520 1520 1480 1638 16β6 1514 TA 1093 1052 Π0Θ 1126 1125 1115 109d 1177 1206 1073 D — — K X X X 〇 - — - P 2.52 2.51 2.52 2.53 2.54 2.53 2.49 2.46 ZM 2.48 a 85 95 89 7β 93 91 - 92 68 105 Δ - <0.07 0.08 <007 ⑧ 36 201223908 [表6] 例 51 52 53 54 55 56 57 Si〇2 64.2 62.6 64.1 64.8 69.0 75.3 67,0 ai2〇3 5.3 8.3 8.4 5.3 4.6 3.e 6.4 MgO 12.7 Θ.5 4.9 12.1 6.8 6.1 6.4 CaO 0.2 4.6 1.2 0.4 0 0 0 SrO 0 0 0 0 0 0 0 Na2〇 15.0 12.6 13.8 11.0 16.0 11.8 9.4 K20 2.5 2.8 2.4 6.3 3.5 3.2 6.2 Zr〇2 0 26 11 0 0 0 0.5 BZ〇3 0 0 0 0 0.14 0 0 ZnO 0 0 0 0 0 0 3.19 Ti02 0 0 2.5 0 0 0 0.81 RO 12.9 11.1 8.6 12.5 6.8 6.1 6.4 r2o 17.6 15.3 16.3 17.4 19.5 15.1 15.6 r2o-ai 12.3 7.1 7.9 12.0 14.9 1t.5 9.3 Na+1.7K 19.3 17.3 18.0 21.8 21.9 17.3 20.0 S 90S 1059 1312 729 925 917 888 t 51 28 36 62 51 52 58 Tg 567 640 625 593 638 573 589 τζ 1524 1572 1603 1573 1536 1679 1612 T4 1083 1152 555 1133 1079 ”92 1157 0 — 一 — — — — — P 2.48 2.57 2.48 2.46 243 2.39 2.51 a 100 91 89 100 103 85 90 Δ <0.07 0.08 0.08 <0.07 <0.07 0.08 <0.07 37 201223908 [表7] 例 1 2 3 4 5 6 7 β 9 10 SiOj 65.2 60.5 β0·2 59.1 59.2 59.2 62.6 59.2 57.6 57.1 ΑΙ?0, 6.0 9.4 9.4 8.0 7.9 7.Θ 9.2 7.6 7.1 MgO 7.9 5.9 46 6.7 5.0 1.7 4.6 6.1 3.7 3.0 CaO 1.0 0 1.7 1.8 3.5 β.9 3.5 3.5 3.4 3.4 SrO 1.0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 Na20 8.1 8.6 8.6 9.0 9.0 9.0 9.0 9.0 9.0 9.0 KaO 9.6 13.1 13.0 13.0 13.0 13.0 13.0 130 13.0 13.0 Zr02 1.3 2.5 2.5 2.5 2.5 2.4 2,5 0 S.6 7.4 [表8] 例 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 SiOj 58.6 58.1 60.1 65.2 66.1 59.1 607 46.9 60.9 62.2 A'*〇S 7.9 7.9 7.9 6.0 1.6 8.0 «.0 13.8 9.6 8.1 MgO 55 β.1 4,1 7.9 4.1 6.7 6.0 Θ.5 7.0 7.6 CaO 3.5 3.5 3.5 1.0 3.6 3.5 3,5 0 0 0 SrO 0 0 0 1.0 0 0 0 0 0 0 Na20 8,0 7.1 9,0 Π.1 9.0 7.1 9.0 9.3 Π.7 9.8 k2o 14.0 i4.g 13.0 e.s 13.0 13,1 10.2 198 5.Θ 7.4 Zr02 25 2.5 2.5 1.3 2.5 2.5 2.5 1.8 4.B 4,9 [表9] 例 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 Si〇, 61.3 63.4 63.8 55.7 55.9 56.2 55.7 55.9 57.8 57.7 AI,〇, 8.1 6.5 6.5 12.4 12.4 12.5 12.4 12.4 11.1 12.6 MgO 8.3 8.0 7.7 4.0 5.2 6.5 5.2 6.5 6.6 6.6 CaO 0 0 0 3.4 1.7 0 1J 0 0.9 0 SrO 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 Na3〇 9.3 8.5 8.4 11.3 Π.4 11.4 10.4 10.4 11.5 11,5 KjO β.2 8.8 e.s 8.6 8.6 8.7 10.0 10.1 7.3 8.8 Zr〇2 4.9 4.9 4.9 4.7 4.7 4.7 4.7 4.7 4.8 2.9 38 201223908 [表 ι〇] 例 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 SiOt 5S.9 56.1 59.6 5B.0 60.7 66.4 62.3 63.1 63.0 60.9 ΑΙ,Ο, 10.3 11.1 10.4 11.1 8.8 8.Θ 8.1 9.4 1.5 9.5 MgO β.θ 7.5 6.Θ 7.2 7.Θ 4.5 7.7 0 0.6 5.0 CaO 0.4 0 0 0 0 0 1.7 7.8 0_8 6.1 SrO 0 0 0 0 0 0 0 0 0 1.6 Na20 10.6 10.6 11.6 11.6 10.3 12.2 9.9 10.0 10.2 4.Θ K20 8.1 as 6.6 7.3 7.4 5.2 7.5 8.7 18.3 9.5 Zr〇2 4.8 3.8 48 4.8 4.9 2.9 3.9 1.0 5.5 25 Ufi 0 0 0 0 0 0 0.5 0 0 0 [表 11] 例 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 Si02 652 65.2 627 β2.1 59.0 60.6 72.5 66.1 65.7 62.3 AIA 6.0 6.0 β.2 8.3 8.0 8.t 1.5 8.8 10,4 8.8 MgO 7.9 7.9 7.1 10.4 8.4 7.6 4.0 3.8 3.8 7.8 CaO 4.0 1.0 3.6 3.6 3.5 3.6 8.0 0 0 0.2 SrO 1.0 1.0 0 0 0 0 0 0 0 0 Na20 8.1 14.1 9.0 5.4 5.2 7.2 13.5 \z.z 12.1 15.8 K20 6.5 3.5 7.4 7.5 13.2 10.3 0.5 52 5.2 4.9 ZrOj 13 1.3 2.8 2.6 2.5 2.5 0 2.9 29 0 [表 12] 例 51 52 53 54 S5 56 57 Si〇2 63.4 57.9 58,4 62.0 66.1 74 62 ai2o3 8.8 13.0 13,0 8.7 7,5 5 10 MgO 8.2 4.0 3.0 7.7 4.4 4 4 CaO 0.2 4.0 1.0 0.4 0 0 0 SrO 0 0 0 0 0 0 0 Ma2〇 15.3 12.0 13.0 10.9 15.9 12 9 K20 3.9 4.0 3.5 9.5 5.2 5 9 Zr〇2 0 5.0 5.0 0 0 0 1 BA 0 0 0 0 0.15 0 0 ZnO 0 0 0 0 0 0 4 Ti02 0 0 3.0 0 0 0 1 39 201223908 (材料例58〜8 3) 材料例58~75及83之玻璃係滿足上述玻璃C之組成者, 而材料例76~82之玻璃係上述玻璃C之比較例,且係與上述 玻璃C不同之組成者。 就材料例58〜73、76〜79 ' 81、82、83,適當選擇氧化 物、氫氧化物、碳酸鹽或硝酸鹽等一般使用之玻璃原料, 使其成為在表13~表15及表19之由Si〇2至K2〇之攔中以莫耳 百分率表示顯示的組成’且秤量成400g作為玻璃。就已添 加了相當於其質量之0.2%之質量的硫酸鈉於該經秤量者中 進行了混合。接著,將經混合之原料置入白金製坩堝,投 入1650°C之電阻加熱式電爐中,熔融5小時,並進行了脫 泡,均質化。將得到之熔融玻璃倒入型材,在Tg+5〇〇c之溫 度下保持1小時後,以0.5°C/分之速度冷卻至室溫,即得到 玻璃磚。從該玻璃磚切斷、磨削,最後將兩面加工成鏡面, 得到了尺寸30mmx30mm,厚度為1〇mm之板狀玻璃。 此外,表15之材料例80係另外準備之鈉鈣玻璃之例子, 而就表14之材料例74、75係不進行如上述之玻璃之熔融等。 為了參考,材料例58〜83之麵之f量百分率表示組成 顯示在表16〜表18及表20中。 該等玻璃之玻璃轉移點了§(單位:。〇、黏度成為 102dPa_s之溫度T2(單位:。〇、點度成為1〇4dpa s之溫度I(單 位:C)、比重ρ、50〜350〇C之平均熱膨脹係數α(單位:X ΙΟ·7/。。)、揚氏模數Ε(單位:Gpa)、帕松比〇、未強化時之 裂縫產生㈣單位:%)顯示在表中。此外,在表中附加「*」 ⑧ 40 201223908 顯示之資料係由組成計算或推定而求得者。 p〇係使用維氏硬度計施加·gf(4 9N)之負載時的裂縫 產生率,且如下地進行了測定。 使用#1000(1000grit)之磨石磨削板狀破璃厚度 獅〜10_m,然後,《氧化剌磨使其表面為鏡面。i 著’為了去除該經鏡面加卫表面之加工應變,在電阻加熱 型之電爐升溫至大氣壓下之Tg+贼之溫度,維持該溫度i 小時後以0.5°C/分之速度降溫至室溫。此外,升溫係以如到 達Tg之時間為1小時之升溫速度進行。 使用經以上處理之樣本測定了裂縫產生率。即,以在 大氣環境下’溫度20〜28t,露點-30°c之條件,以500gf(4 91s〇 為維氏硬度計之負載打入1〇點維氏壓子,測定了在壓痕四角 產生之裂縫條數。以將該產生之裂縫條數除以可能產生裂縫 條數40作成百分率表示作為裂縫產生率Pq(單位:%)。 未強化時之玻璃之裂縫產生率Pq係以低者較好。由材 料例58〜75及83之玻璃可知係無P()大於5〇%者,而即使在未 強化之狀態亦不易產生裂縫。 接著’就材料例58〜73、76〜82、83之板狀玻璃進行了 如下之化學強化處理。即,將該等玻璃分別浸漬在4〇〇£1(:之 KN〇3熔融鹽中8小時’並進行了化學強化處理。此外,kn〇3 溶融鹽之ΚΝΟ3含有比例為99.7〜100%,NaN03含有比例為 〇〜0.3% 〇 就化學強化處理後之各玻璃,利用折原製作所社製之 表面應力計FSM-6000測定了表面壓縮應力S(單位:河?&)及 201223908 壓縮應力層厚度t(單位:μιη卜結果顯示於表之該欄。 此外’對於材料例58、65、80〜83之上述化學強化處理 後之板狀破壤各2〇片’以大氣壓下,溫度20〜28°C,濕度 40 6〇/°之條件,以5kgf(49N)打入維氏硬皮計之維氏壓子, 以將以此為起點已受損之數除以測定片數之20作成百分率 表示作為破壞率卩1(單位:%)。 相對在材料例58、65、83中玻璃完全沒有受損且?1為 0%’而在材料例80〜82之玻璃中卩,為100%,且全部受損了。 即’可了解玻璃C即使帶有壓痕,受損之風險亦為低。 又’關於材料例58、65、80〜82之玻璃,係另外地準備 了以4mmxl〇mmx厚度imm之形狀將4mmxl0mm之面進行 鏡面精加工’且將其他面加工了 #1000精加工之玻璃。使用 硝酸鉀熔融鹽(KN〇3 : 98〜99.8%,NaN03 : 0_2〜2%)以 425〜450°C對該等玻璃進行了化學強化處理。表面壓縮應力 S及壓縮應力層深度t分別地,在材料例58中為757MPa、 55μπι ’在材料例65中為878MPa、52μιη,在材料例80中為 607MPa、15μηι,在材料例81 中為790MPa、49μπι,在材料 例 82 中為 830MPa、59μπι。 在該等化學強化處理後之玻璃之4mmx 10mm之面的中 心使用維氏硬度計以10kgf(98N)之負載打入維氏壓子,形成 了壓痕。雖然材料例80〜82之玻璃在壓痕形成時受損了,但 是材料例58、65、83卻未受損。 使用帶有該10kgf(98N)之壓痕之材料例58、65、83之樣 本,以跨距30mm進行了 3點彎曲試驗。在n=20之彎曲強度 ⑧ 42 201223908 平均值(單位:MPa)顯示在表13及表19之F欄,但是亦顯示 了即使在帶有壓痕之狀態,經化學強化之材料例58、65、 83之玻璃有400MPa以上之非常高的破壞應力。 [表 13] 例 58 59 60 at 62 63 64 65 €6 S*i〇2 73.0 75.5 73.0 73.0 73.0 73.0 73·2 72.0 72,0 Αΐ2〇, 7.0 4.9 5,0 5.0 7.0 7.0 7.0 6.0 7.0 MgO 6,0 5.9 80 10.0 5.5 5.5 3.5 10.0 10.0 CeO 0 0 0 0 0 0 0 0 D ?r〇2 0 0 0 0 0.5 0.5 0.3 0 a Na2〇 14.0 13.7 14.0 12.0 14.0 14.0 14.0 12.0 11.0 Kz〇 0 0 0 0 0 0 0 0 0 Tg 617 5S6 600 632 625 617 Θ20 647 674 T, 1734 1680« 1642* 1652*» 1696« 1721* 1710* 1711 1687* T, 1256 1105« ”7D* 1187«»- 1214« 1206« 1203— 1256 1225« P 2405 2.392 2.408 2.410 2.417 2.409 2.424 2.412 2.409 Of 79 7fl 80 11 77,25 77.26 77.74 71.71 68 F 70.8 697 70.6 72.9 73 7Z3 74.6 73,1 72,8 a 0.204 0203 0.207 0.207 0.226 0.23 0.216 0.207 0.226 po 10 10 0 0 10 0 5 0 7.5 s 909 699 821 91d 931 964 378 943 915 t 33 34 30 23 33 35 33 24 23 p, 0 0♦ 0♦ 0* 0♦ 0♦ 0* 0 0♦ Γ 495 445φ S0S+ 552* 559« 52私 533* S65 550* 43 201223908 [表 14] 例 67 6Θ Θ9 70 71 72 73 74 75 SiOj 72.0 72.0 72.0 71.7 71.4 70.0 70.1 73.0 77.9 ΑΙΑ 7.0 6.0 Θ.0 7.1 8.2 9.0 Θ.0 9.0 4.Θ MgO 9.0 12.0 14.0 8.1 6.1 7.0 10.3 6.0 5.8 CaO 0 0 0 0 0 0 0 0 0 Zr02 0 0 0 0 0 0 0.63 0 0 Na,0 12.0 10.0 8.0 13.1 14.3 H.O 12.0 12.0 11.5 Κ,Ο 0 0 0 0 0 0 1.0 0 0 Tg 660 678 701 635* 629t 94〇t 634t 612* 628+ T, 1682* 1669* 1679+ 167Φ* 1687* 163脒 1744* 1727+ 乃 1216* 1214* 1231*» 1205V J2M» 1219* 1187^ 1271» 1236k β 2.410 2.415 2.41 Θ 2.41* 2.4H 2.42· 2.44* 2.40* 2.37· a 72 65 57 78· 81* 81* 79* 72<* 70* E 72.3 74.3 73.3 73_ 73* 74· 74+ 71* 6d* σ 0.23 0.218 0.207 0.20* 0.20* 0.20 0.2CH 0.20* 0.20* P〇 15 10 15 223 32.5 35 25 0* 0· $ 974 853 667 933 970 1101 928 1069# 74私 t 25 18 15 31 36 33 27 17* 27芈 P, 0♦ 0* 0♦ 0♦ 0* 0♦ 0♦ 0♦ 0♦ F 579+ 52D4> 430* 584* 578* Q4i* 557* 626* 470* 44 201223908 [表 15] 例 76 77 78 79 80 81 82 Si〇2 71.1 68.3 66.4 66.0 72.0 64.5 66.6 AI2〇3 9.3 6.0 6.0 7.0 1.1 6.0 io.e MgO 4.1 10.5 10.8 11.0 5.5 11Ό 62 CaO 0 0 0 0 8.6 0 0.6 Zr〇2 0 1.3 1.9 0 D 2.S 0 Na20 15.5 12.0 12 0 12.0 12.6 12.0 13.2 K20 0 2.0 3Ό 4.0 02 4.0 2.4 Tg 623* 62d* 623* 596* 540 620 590 了 2 1704Φ 161私 1592* 1609* 1461 1575 1686« T« 1223* 1178* 1168* 1170% 1039 1168 1240* P 2.41* 2.47* 2.50* 2.46* 2.49 2.53 2.46 a 84« 83, B7* 93* 87 91 93 E 73* 74· 75** 74· 73 78 73* σ 0.20* 0.20* 0.20» 0J2O· 0.20» 0.22 0.21* P〇 70 60 82.5 82.5 的 82.5 60 S 943 974 694 B31 713 9β7 843 t 40 29 27 37 10 34 37 p, 100* 100* 100» 100* 100 100 100 F — — — 一 — — — [表 16] 例 56 59 60 61 Θ2 63 64 65 66 Si〇2 70.6 74.1 72.1 72.6 70.2 70.4 69.9 71.1 706 ΑΙΑ 11.5 8.2 8.4 8.4 11.4 11.5 11.4 10.1 11.7 MgO 3.9 3.9 5.3 6.7 3.5 3.6 3.5 6.6 6.6 CaO 0 0 0 0 0 0 0 0 0 Zt02 0 0 0 0 1.0 0.6 1.3 0 0 NasO 14,0 Ι3.Θ 14.3 12.3 13.Θ 13.Θ 13.8 m 1U K,0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 45 201223908 [表π] 例 67 68 69 70 71 72 73 74 75 SiO, 70.4 71.6 72.1 69.8 68.6 67.0 68.5 69.7 76.5 AiA 11-Θ 10.1 10.2 11.7 .13.3 14.6 9.9 14.6 8.0 MgO 5.9 8.0 9.4 5.3 3.9 4.5 6.7 3.S 3.8 CaO 0 0 0 0 0 0 0 0 0 Zr〇2 0 0 0 0 0 0 1.3 0 0 Na20 12.1 10.3 6.3 13,2 H.2 13.8 12.1 11.8 11.7 KjO 0 0 0 0 0 0 1.5 0 0 [表 18] 例 76 77 78 79 80 81 82 Si〇2 674 65.9 63.4 63.5 72.8 61.9 60.9 ai,o3 14.9 9.8 9.7 11.4 1,9 17.1 9.6 MgO 2.6 6.8 69 7.1 3.7 3.9 7.0 CaO 0 0 0 0 8.1 0.6 0.0 Zr02 0 2.5 3.7 0 0 0 4.8 Na2〇 15.1 12.0 11.8 11.9 13.1 12.7 11.7 K20 0 3.0 4.5 6Ό 0.3 3.5 5.9 ⑧ 46 201223908 [表 19] 例 83 84 Si02 72.4 64.3 Al2〇3 6.3 8.0 MgO 8.5 10.5 CaO 0 0.1 Zr02 0 0.5 SrO 0 0.1 BaO 0 0.1 Na2〇 12.8 12.5 K20 0 4.0 Tg 627 607 T2 1741 1607 T4 1267 1184 P 2.41 2.48 a 74 98 E 70 74 σ 0.22 0.2 P〇 0 50 S 892 960 t 24 33 P. 0 100 F 540* - [表 20] 例 83 84 Si02 71.1 60.9 AI2O3 10.3 12.8 MgO 5.6 6.7 CaO 0 0.1 SrO 0 0.2 BaO 0 0.2 Zr02 0 1.0 Na20 13.0 10.8 K20 0 5.9 47 201223908 (實施例1) 在實施例1中,製造第1圖所示之電漿顯示裝置ίο。此 外’在實施例1中,在覆蓋玻璃板3〇未設有機能膜40。 (電漿顯示面板) 準備2片矽酸鋁玻璃基板作為電漿顯示面板用之玻璃 基板。該等玻璃基板含有67%之Si02、5%之Α12〇3、4.5%之
Na20、4.5%之Κ20、3.5%之MgO、6.0%之CaO、4.5%之SrO、 3.50/〇之3&0、1_5%之21'02。該等玻璃基板之在5〇〜350。(:之 範圍内之平均熱膨脹係數係83χ1〇·7Λ:。 在其中一矽酸鋁玻璃基板上,以預定圖案形成透明電 極,並製作前基板。又,在另一矽酸鋁玻璃基板上,以預 定之順序形成透明電極、隔壁、螢光體層,並製作後基板。 然後,貼合前基板與後基板,於其間封入稀有氣體,並製 作電漿顯示面板。令電漿顯示面板之顯示側的對角線長度 為37英叫·(約94cm)。 (覆蓋玻璃板) 準備與電t顯示面板用之玻璃基板同一組成之石夕酸鋁 玻璃基板(厚度1.5mm,對角線長度4〇英吋(約1〇2cm)),作 為覆蓋玻璃板。6亥覆蓋玻璃板之平均熱膨脹係數與電聚顯 示面板用之玻璃基板之平均熱膨脹係數大略相同。 (電毁顯示裝置) 使用黏著劑,將上述覆蓋玻璃板貼附在上述電漿顯示 面板之顯示面側上。黏著劑係使用熱硬化型之黏著劑。如 此,製作電漿顯示裝置。 ⑧ 48 201223908 該電漿顯示裝置之顯示動作時,測定覆蓋玻璃板之平 面度。測定之結果,因覆蓋玻璃板與電漿顯示面板用之玻 璃基板之熱膨脹差非常小’而具有良好之平面度(l.〇mm以 下)(JIS B0021)。 (實施例2) 在實施例2中,除了使用下述化學強化玻璃板作為覆蓋 玻璃板以外,與實施例1同樣地製造電漿顯示裝置。 實施例2之化學強化玻璃板係將具有與於表2中顯示之 材料例19同一組成之玻璃板在保持於450。(:之1〇〇質量%之 硝酸鉀融液中進行了化學強化6小時者。該化學強化玻璃板 之在50〜350°C之範圍内之平均熱膨脹係數係91xlO-7/°C,且 係電漿顯示面板用之玻璃基板之平均熱膨脹係數的110%。 該電漿顯示裝置之顯示動作時,測定覆蓋玻璃板之平 面度。測定之結果’因覆蓋玻璃板與電漿顯示面板用之玻 璃基板之熱膨脹差非常小’而具有良好之平面度(丨力爪爪以 下)。 (實施例3) 在實施例3中,除了使用下述化學強化玻璃板作為覆蓋 玻璃板以外,與實施例1同樣地製造電漿顯示裝置。 實施例3之化學強化玻璃板係將具有與於表13中顯示 之材料例65同一組成之玻璃板在保持於450°C之質量% 之硝酸鉀融液中進行了化學強化10小時者。該化學強化玻 璃板之在50〜350。(:之範圍内之平均熱膨脹係數係72χ10_7/ 。(:,且係電漿顯示面板用之玻璃基板之平均熱膨脹係數的 49 201223908 87%。 該電漿顯示裝置之顯示動作時,測定覆蓋玻璃板之平 面度。測定之結果,可知因覆蓋玻璃板與電漿顯示面板用 之玻璃基板之熱膨脹差非常小,而具有良好之平面度 (1 _0mm以下)0 (比較例1) 在比較例1中’除了使用無鹼玻璃板作為覆蓋玻璃板以 外,與實施例1同樣地製造了電漿顯示裝置。 比較例1之化學強化玻璃之在50〜350°C之範圍内之平 均熱膨脹係數係38x10 /C ’且係構成電聚顯示面板之玻璃 基板之平均熱膨脹係數的46%。 該電漿顯示裝置之顯示動作時,測定覆蓋玻璃板之平 面度。測定之結果,因覆蓋玻璃板與電漿顯示面板用之玻 璃基板之熱膨脹差大,而無法得到良好之平面产。 由本實施例及比較例之結果,推測記载於表卜表2〇之 玻璃中,平均熱賴錄為電_㈣板用之玻璃基板之 平均熱膨脹係數的80〜120%者可得到良好之平#产 產業上之可利用性 藉本發明,由於電漿顯示面板之顯示面側之玻璃基板 與貼附在該電賴示面板之顯示面側上之覆蓋_板的平 =膨脹餘之差被抑制在預定範_,所以可防止覆蓋 玻璃板之勉曲,且在不損害電_示裝置之顯示的情形 下,可得賴蓋玻魏歉 面積薄覆蓋賴板之大晝㈣電_以置_用1 50 201223908 此外,在此引用2010年7月15日申請之日本專利申請案 2010-160957號說明書、申請專利範圍、圖式及摘要之全部 内容,並採用之作為本發明之揭示。 【圖式簡單說明】 第1圖是本發明之一實施形態之電漿顯示裝置的側面 截面圖。 第2圖是第1圖之正面圖。 第3圖是顯示熔融鹽(KN〇3)中之Li含量(質量。/〇)與化學 強化處理後之玻璃之表面壓縮應力S(MPa)之關係的圖。 第4圖是顯示玻璃中之Zr02含量(mol%)與化學強化處 理後之玻璃之維氏硬度(HV)之關係的圖。 【主要元件符號說明】 10…電漿顯示裝置 31.··前面 20…電漿顯示面板 32…背面 21,22…玻璃基板 40…機能膜 23…榮光體層 50…裝飾層 24,25···内面 L···對角線長度 30…覆蓋玻璃板 51

Claims (1)

  1. 201223908 七、申請專利範圍: 1. 種電漿顯示裝置,係包含電漿顯示面板及覆蓋玻璃板 者,該電漿顯示面板具有玻璃基板,該覆蓋玻璃板係貼 附在該電漿顯示面板之顯示側上,該電漿顯示裝置之特 徵在於: 刖述覆蓋玻璃板具有81 cm以上之對角線長度, 1.5mm以下之厚度,且 前述覆蓋玻璃板之平均熱膨脹係數係在5〇〜35(rc 之範圍内’且係前述玻璃基板之平均熱膨脹係數的 80〜120%。 2. 如申請專利範圍第丨項之電漿顯示裝置,其中前述覆蓋 玻璃板係業經化學強化處理而在表層之至少一部份設 有壓縮應力層之化學強化玻璃板。 3. 如申請專利範圍第2項之電漿顯示裝置,其中前述化學 強化處理前之覆蓋玻璃板,以氧化物基準之莫耳百分率 表示,含有55〜70%之Si02、5〜15%之Al2〇3、4〜20%之 Na;jO、1〜15%之MgO,且該等成分之合計量係85。/。以上。 4. 如申請專利範圍第2項之電漿顯示裝置,其中前述化學 強化處理前之覆蓋玻璃板,以氧化物基準之莫耳百分率 表示,含有50〜74%之Si〇2、1〜10%之Al2〇3、6〜14%之 Na2〇、3〜15%之K20、2〜15%之MgO、0〜10%之CaO、 0〜5%之Zr02 ’且Si02及Al2〇3之含量的合計係75%以 下,Na20及K20之含量的合計Na20+K20係12〜25%, MgO及CaO之含量的合計MgO+CaO係7〜15%。 52 ⑧ 201223908 5.如申請專利範圍第2項之電漿顯示裝置,其中前述化學 強化處理前之覆蓋玻璃板,以氧化物基準之莫耳百分率 表示,含有68〜80%之Si02、4〜10%之Al2〇3、5〜15%之 Na20、0〜1%之K20、4〜15%之MgO、0〜1%之Zr02,且 Si02及Al2〇3之含量的合計Si02+Al203係85%以下。 53
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