TW201210701A - Nozzle head - Google Patents

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201210701 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種喷嘴頭，用於使一基板表面歷經至 J一第一羌質及一第二先質之連串表面反應，且明確地係 種依據申请專利範圍第1項前言之喷嘴頭。 【先前技術】 在先前技藝中，數種型式之裝置、喷嘴頭、及喷嘴係 依據原子層沉積方法（ALD)之原理，用於使一基板表面歷經 至少一第一先質及一第二先質之連串表面反應。在Ald之 應用中’典型地係於各個不同階段中，將二氣態先質導入 ALD反應器中。該等先質係與該基板表面有效地反應，以 達成一成長層沉積。該等先質階段典型地係由一鈍氣沖洗 階段接續、或分隔’該鈍氣沖洗階段可在分離導入其他先 質之前’自該基板表面消除多餘之先質。因此，一 ALD製 程需使流至該基板表面之先質依序交替。這種由交替表面

反應、及其間之沖洗階段組成的重複序列，係一典型之ALD 沉積循環。 用於連續操作ALD之先前技藝裝置，通常包括一喷嘴 頭’其具有一個或更多第一先質喷嘴，用於使該基板表面 歷經該第一先質，一個或更多第二先質喷嘴，用於使該基 板表面歷經該第二先質，一個或更多沖洗氣體通道’及一 個或更多排放通道，用於排放該二先質及沖洗氣體，其配 置順序如下：至少一第一先質喷嘴、一第一排放通道、一 201210701 沖洗氣體通道、一排放通道、一第二先質喷嘴、一排放通 道、一沖洗氣體通道、及一排放通道，可選擇性地重複複 數次。此先前技藝噴嘴頭之問題在於，其包括數個不同喷 嘴及通道，如此將使該噴嘴頭複雜化，且相當地大。該喷 嘴較佳地可相關於該基板而運動，以生成多個成長層。 另一型式連續ALD用先前技藝喷嘴頭之交替地連串包 括：一第一先質喷嘴、一沖洗氣體通道、一第二先質喷嘴、 及一沖洗氣體通道，可選擇性地重複複數次。在此先前技 藝喷嘴頭中，每一該等先質喷嘴及沖洗氣體通道各設有一 入口及一出口’使該先質及該沖洗氣體皆使用同一喷嘴供 應與排放。因此’並無分離之排放通道。此先前技藝喷嘴 頭之問題在於’沖洗氣體將洩漏至該先質喷嘴，使該先質 濃度將稀釋。是以，該喷嘴頭無法在該先質喷嘴全身長上、 或在該喷嘴頭整個輸出面上，提供一均勻氣體供應。更， 結構將因每一該等喷嘴皆具有入口及出口，而顯複雜。亦， 此喷嘴頭可相對於該基板運動’以生成多個成長層。 【發明内容】 是以，本發明之目的係提供一種噴嘴頭及裝置，以解 決上述先前技藝問題。可藉由依據申請專利範圍第丨項特 徵部之-喷嘴頭’達成本發明之目的，其特徵在於：該喷 嘴頭包括至少一第一連接元件，用於將第一先質自某一第 一先質喷嘴導引至某一或更多其他第一先質喷嘴。 申明專利範圍依附項將描述本發明之較佳實施例。 201210701 本發明之基本構想為，二個或更多第一先質喷嘴係互 相連接，使供應至某一第一先質噴嘴之該第一先質。可又 導引至另一、或著二個或更多其他第一先質喷嘴。這可藉 由在某一第一先質喷嘴之至少一出口與另一第一先質喷嘴 之至少一入口之間提供一流體連接而達成。該流體連接可 設有一連接元件，配置於某一第—先質喷嘴之至少一出口 與另一第一先質喷嘴之至少一入口之間。該連接元件可包 括一個或更多輸送管、通道、或導管，以導引該先質。同 樣地’二個或更多第二先質喷嘴可互相連接，使供應至某 一第二先質喷嘴之該第二先質。可又導引至另一、或著二 個或更多其他第二先質噴嘴。 本發明之優點在於：一喷嘴之構造可更為簡單。由於 先質可自某一噴嘴供應至另一個，無需對該喷嘴頭之每一 喷嘴提供一先質供應連接，而達成此優點。更，由於可將 某一噴嘴之多餘先質導引至另一喷嘴’因此僅有較少先質 材料需自該喷嘴頭排放，因此該等先質材料之使用將變得 更有效率。 【實施方式】 第1圖係顯示一裝置之一實施例剖視圖，其用於依據 ALD之原理，使一基板6之一表面4歷經至少一第一先質a 及一第二先質β之連串表面反應。第一與第二先質A與b 可為ALD中所使用之任何氣態先質，譬如臭氧、三曱基鋁 (TMA)、水、四氣化鈦（TiCh)、二乙基鋅（DEZ)，或者先質 201210701 亦可為電漿，譬如氨氣、氬、氧氣、氮氣、氫氣、或二氧 化碳電漿。該裝置包括一處理室26，其内具有一氣體環境 14。氣體環境14可包括譬如氮等鈍氣、或乾空氣、或適合 用作為ALD方法中沖洗空氣之任何其他氣體。亦，電漿可 用於沖洗，其譬如為氮或氬電漿 括電漿。沖洗氣體源係連接至處理室36，以將沖洗氣體供 應至處理室26中。一喷嘴頭2係配置於處理室26内。該 喷嘴頭包括一輸出面5、用於使基板6之表面4歷經第一 先質Α之一個或更多第一先質喷嘴g、用於使基板6之表 面4歷經第二先質β之一個或更多第二先質喷嘴1〇。該袭 置尚包括一供應構件，用於將第一及第二先質α、β供應至 喷嘴頭2，以及一排放構件，用於將第一及第二先質a、β 自喷嘴頭2排放。如第ιΑ圖中所顯示者，該等第一及第二 喷嘴係交替地相繼配置，以當基板6與喷嘴頭2互相相對 運動時，使基板6之表面4歷經第一先質a與第二先質B 之交替表面反應。可設置該裝置，使喷嘴頭2可譬如前後 運動’且基板2靜止不動。另一選擇為，喷嘴頭2係呈靜 態’且基板6運動’亦或基板6與噴嘴頭2:者皆可運動。 基板6可為㈣於該處理室中之—分離基板，且藉批次製 程處理4者另-選擇地將基板配置成，輸送通過處理室 26。亦可將該裝置構成為’用於捲繞式製程，使一撓性基 板自某—滾子經由處理室26輸送至另—滾子、或自任 源經由處理室2 fi & $ & v μ 26而至任何貯器，且藉處理室26内之喷嘴 頭2處理。 月 7 201210701 先質喷嘴8、1 〇較佳地係呈細長型。第一先質喷嘴8 設有一第一通道3，其沿第一先質喷嘴8之縱向方向延伸 且包括一第一開放部9，該第一開放部係沿第一通道3延 伸且開向喷嘴頭2之輸出面5。第二先質噴嘴1〇設有一第 二通道7,其沿第二先質喷嘴1〇之縱向方向延伸且包括一 第一開放部11，該第二開放部係沿第二通道7延伸且開向 喷嘴頭2之輸出面5。如第1Β圖中所顯示者，第一先質喷 嘴8包括一第一入口 18，用於將第一先質Α供應至第一通 道3’及二第一出口 20’用於在第一先質Α之表面反應後， 將該第二先質自第一通道3排出。相似地，第二先質喷嘴 W包括一第二入口 22’用於將第二先質8供應至第二通道 7,及二第二出口 24，用於在第二先質β之表面反應後， 將該第二先質自第二通道7排出。在本實施例中，入口 18、 22係配置於第-與第二通道3、7身長之中間處，且出口 20、24係配置於第一及第二通道3 ' 7之對立末端，如第 1Β圖中所顯不者。'然而’請注意到，第一及第二通道3、7 中亦可有一個或更多入口 18、22，及一個或更多出口 2〇、 24 入口 18、22及出口 20、24亦可位於第一及第二通道 3、7中之任何其他位置。 如第1Α圖及第“圖中所顯示者第一及第二噴嘴8、 二藉冲洗氣體通道）2而互相分離’開向處理室Μ中圍 繞噴嘴頭2之裔髀Λ ^ _ 、 长*兄14、及喷嘴頭2之輸出面5。沖洗 軋體通道12係形成 紙為’延伸於第—與第二先質喷嘴8、10 之間的缺口。缺口〗 i ζ因此可對包括有沖洗氣體之氣體環境 201210701

14提供-流體連接。該等缺口係形成第_與第二先質喷嘴 8' 10之間的沖洗氣體通道12，以使第—與第二喷嘴8、 10及第一與第二先質a、b互相分離。在第1A圖及第1B 圖中，喷嘴頭2係設置如一格柵狀構造，其中第一及第二 先質喷嘴8、1〇形成桿件’且沖洗氣體通道12形成該等桿 件之間的缺口。先質喷嘴8、1〇係藉複數個連接器33而互 相接合ϋ而’請注意到，沖洗氣體通道12亦可藉一個或 更多通道、孔洞、或導管而設置’其可具有對氣體環境14 ，-被動式流體連接、或至少部分地開向氣體環境14。該 等通道可相似於第一及第二通道3、7。 在一較佳實施例中，第一先質喷嘴8係配置成，可在 輸出面5處於一第一壓力下操作，且第二先質喷冑1〇係配 置成’可在輸出面5處於一第二壓力下操作。氣體環境" 係設置於，高於該第一與第二壓力之一第三壓力。是以， 氣體環境14中之沖洗氣體將流動至沖洗氣體通道12，且 使第-與第二先質A、B保持分離。某些沖洗氣體亦將自喷 嘴頭2輸出面5與基板6表面4之間的沖洗氣體通道流動 至第一及第二通道3、7。該第一、第二、與第三壓力可低 於正常氣壓（NTP;l巴，〇。〇,或者大致相等於正常氣壓 或咼於正常氣壓、或甚至為真空。該等喷嘴與氣體環境之 壓力差係關鍵要素。該第一及第二壓力係於噴嘴頭2之輸 出：5處量測，且該第一及第二通道中之麗力可不同於』 第一及第二壓力、正常地高於該第一與第二壓力。 第2圖係顯示喷嘴頭2之另一實施例，其中噴嘴頭2 9 201210701 設有一分離沖洗氣體容器39 ’圍繞喷嘴頭2配置。沖洗氣 體容器39内具有一氣體環境16。在第2圖中，沖洗氣體 容器39係配置至喷嘴頭2處，且該沖洗氣體容器内之氣體 環境包括沖洗氣體。在本實施例中，第一與第二先質嘴嘴 8、10係與第1A圖與第1B圖之先質喷嘴相似，因此無需 再詳細說明。在第2圖中，第一與第二先質喷嘴8、1〇之 間設有—沖洗氣體通道1 2，用於使基板6表面4歷經一沖 洗氣體，且使第一與第二先質A、B互相分離。沖洗氣體通 道12係與第一及第二先質喷嘴8、10平行延伸之一通道。 沖洗氣體通道12係配置成，經由延伸自沖洗氣體容器39 以至沖洗氣體通道12之複數個導管35，而與沖洗氣體容 器39之氣體環境丨6被動式流體連接◊一沖洗氣體源可連 接至沖洗氣體容器39，以將沖洗氣體供應至沖洗氣體容器 3 9中冲洗氣體通道12亦可藉由以被動式流體連接至沖 洗軋體容器39、且至少部分地開向喷嘴頭2輸出面5之一 ^或更夕缺口、孔洞、或開口而形成。輸出面5之邊緣區 尚設有額外沖洗氣體通道12,如第2圖中所顯示者。這些 額外冲洗乳體通道12係使噴嘴頭2、且明確地為該喷嘴頭 輸出面5’與周圍氣體環境相分離使得可為防止先質氣 體抓動至周圍氣體環境，而亦將喷嘴帛2選擇性地用於大 氣壓力下。該蓉链^ 寻頸外冲洗氣體通道可分離地設於該輸出面

之每一邊緣區，或"^Γ Μ „L 凡j延伸成位在邊緣區上、且圍繞整個輸 出面5之環圈。 '、 本實施例中，第一先質喷嘴§係配置成，可在 201210701 輸出面5處於一第一壓力下操作，且第二先質喷嘴ι〇係配 置成’可在輸出面5處於一第二壓力下操作。沖洗氣體容 器39係以相同於第1A圖及第1B圖實施例中之方式，配置 成高於該第一與第二壓力之一第三壓力。第一及第二喷嘴 8、10亦可在結合第1A圖及第1β圖作描述之相似壓力下 操作。當該第三壓力高於該第一與第二壓力時，該沖洗氣 體容器可提供沖洗氣體通道12 一靜態沖洗氣體供應。更請 注意到，帛2圖之喷嘴頭2亦可構成為，使沖洗氣體通道 12與圍繞喷嘴頭2之氣體環境14作流體連接。因此，導 g 35可連接至軋體環境14，以代替沖洗氣體容器39。該 等先質及沖洗氣體可經由流體連接供應至噴嘴頭2。另一 選擇為，喷嘴頭2設有一個或更多先質、及/或沖洗氣體容 盗、瓶件、或相似物，使得當該喷嘴頭運動時，該等先質 及/或將與該噴嘴一同運動。這種配置可使對一運動噴嘴頭 2作困難流體連接之數量有所減少。 亦可使用任何類型之先質噴嘴及沖洗氣體通道構成第 1A圖、第1B圖、及第2圖之發明。藉由二個或更多分離 孔洞、開口、或著可對氣體環境14或一分離沖洗氣體容器 39提供一連體連接之任何類型特點，形成該等沖洗氣體通 道。第1A圖、第1B圖、及第2圖之實施例允許將沖洗氣 體用於互相分離之先質喷嘴，而無需主動地供應沖洗氣 體’及使用相同於先質喷嘴8、10之喷嘴結構。 構成一第2圖喷嘴頭之一先前技藝方式係提供—第— 先質喷嘴’具有至少一第一入口及至少一第一出口，— 11 201210701 一先質噴嘴’具有至少一第二入口及至少一第二出口，及 一沖洗氣體通道，介於該等第一與第二先質喷嘴之間，該 沖洗氣體通道具有僅_個或更多第三人口且不具出口。該 -種喷嘴將重複-或更多次’以形成_喷嘴頭。自該等第 三入口供應至該沖洗氣體通道之沖洗氣體係經由該等第— 及第一先質喷嘴之第一及第二出口排放。 第3圖係顯示另一實施例，其中喷嘴頭2具有與第ia 圖及第1B圖噴嘴頭相同類型之構造。請注意到，該喷嘴頭 亦可依不同於第3圖中之某些其他方式構成。喷嘴頭2包 括二個或更多第-先質喷嘴8’用於使該基板表面歷經第 —先質A，及二個或更多第二先質噴嘴1〇，用於使基板6 表面4歷經第二先質Ββ第一先質噴嘴8包括至少一第一 入口 18,用於供應第一先質A ’及至少—第一出口2〇,用 於排出第-先質A。在第3圖中’第一先質喷嘴頭8包括 —第—入口 18,設於細長型第一先質噴嘴8之一末端，及 —第—排放口 20,設於第一先質喷嘴8之另一末端。相似 地，第二先質喷嘴1〇包括一第二入口 22，設於細長型第 二先質噴嘴10之一末端’用於供應第二先質B，及一第二 ^玫口 24，設於第二先質喷嘴1〇之另一末端，用於排出 第二先質Β»入口 18、22及出口 20、24亦可依據譬如第 1B圖中所示之其他方式定位，每一喷嘴8、ι〇中亦可有二 個或更多入口及出口。更如稍後將說明者，亦可將該喷嘴 頭構成為，使先質喷嘴8、10不包括任何出口 2〇、24，但 該嘴嘴頭設有一個或更多分離排放通道。 12 201210701 在第3圖中，噴嘴頭2設有複數個第一連接元件 用於將第-先質A自某-第-先質噴嘴8導引至某一或更 多其他第-先質噴冑8。喷嘴頭2尚設有複數個第二連接 元件32,用於將第二先質B自某一第二先質噴嘴ι〇導引 至某一或更多其他第二先質喷嘴1〇。連接元件3〇、U較 佳地包括一輸送管、一管道、一封閉通道或一導管以及 在一個或更多第一先質喷嘴8、或者二個或更多第二先質 喷嘴10 t 提供一流體連接的任1可其他必要組件。如第3 圖中所顯示者，某一第一先質喷嘴8之第一出口 2〇係以第 一連接元件30連接至另一第一先質喷嘴8之第一入口 18, 以將第-先質A自該某一第一先質喷嘴8導引至該另一第 -先質喷嘴8。相似地，某一第二先質噴嘴1〇之第二出口 24係以至少一第二先質喷嘴1〇連接至另一第二先質喷嘴 10之第二入口 22”·以將第二先質該某一第二先質喷嘴 1〇導引至該另一第二先質喷嘴1〇。依據上述者，其構想係 串連二個或更多先質噴冑8、1〇,使先質可相繼流通過二 個或更多先質噴嘴8、1〇。 3圖中所顯示者之某些其 其中每一連接元件30、32 請注意到，亦可依不同於第 他方式來配置連接元件3〇、32， 係設於二個或更多先質喷嘴8或1〇之間。第一連接元件 30可配置於某一第一先f喷嘴8與二個或更多其他第一先 第一先質喷嘴8 。亦，第二連接 質喷嘴8之間，以將第一先質A自該某一 導引至該二個或更多其他第一先質噴嘴8 元件32可配置於某一 第二先質噴嘴10與二個或更多其他 13 201210701 第二先質噴嘴10之間，以將第二先質B自該某一第二先質 喷嘴1〇導引至該二個或更多其他第二先質喷嘴10。 第3圖及如上述之實施例係提供可提升先質a、B材料 效率之方式。當供應先質A、B至喷嘴8、10時，某些先質 ' B將不與反應基板6表面4起反應，但通常供應一過量 先質Α、β。是以，供應至先質通道8、1〇之先質a、B中， 至'少部分不與基板6表面起反應。在先前技藝中，此超量 先質A、B將視為廢料而排放。第3圖之實施例允許超量之 先質A、β用於某些其他先質喷嘴8、1 〇中。亦請注意到， 可根據喷嘴頭2之構造，依不同方式，與連接元件30、32 形成流體連接。更請注意到，當先質自某一先質喷嘴8、 10導引至另一個時，將有一壓力降。 第一連接元件3〇可配置於一個或更多第一先質喷嘴8 與至少另一第一先質喷嘴8之間。是以，可使用第一連接 疋件30’將某一第一先質嘴嘴8連接至數個其他第—先質 噴嘴8，或數個第一先質喷嘴8連接至某一其他第—先質 噴嘴8,或著數個第一先質喷嘴8連接至數個其 質嘖0、乐一无 __ 在某—實施例中，喷嘴頭2包括二個或更多第 /連接7G件30,介於二第一先質喷嘴8之間。是 4争自宜 哲 ’无*負 排於： 質喷嘴8導引至另一第一先質喷嘴8,及 喷嘴碩2因此可包括二個或更多此種二第一先質喷 Μ目互連接元件。可使用第二連接元件32 m ^ ® ^ 取相同方式 按弟一先質噴嘴10。 第4圖係顯示一實施例之概略視圖其中該噴嘴頭包 14 201210701 括複數個第一先質噴嘴8、複數 於細長型先質喷嘴8、10之間的1嘴10、及介 先質喷嘴8、10包括一供應通道 < 體通道12。 嘴8、10之縱向方向延伸。先質噴嘴8、·。、：型先質喷 通道42、46，沿細長型先質嘴嘴8、iq G尚包括一排放 其大致與供應通道40、44平行且鄰接，：：向方向延伸’ *姑妨止防藉使用真空或吸力 來排放先質Α、Β。第一先質嘴嘴8 a 第一供應通道40 及一第一排放通道42,且同時第二先f 買噴嘴10包括一第 一供應通道44及一第二排放通道46。 _ 40因此’第4圖係顯 不一實施例，其中供應通道40、44盥排妨、孟谷 a兴排放通道42、46係 提供至同-先質喷嘴8M。，且藉一隔牆52而互相分離。 然而，請注意到，排放通道42、46亦可形成為，配置於一 先質喷嘴8、10或供應通道40、44與沖洗氣體通道“之 間的一分離結構部件。 供應通道40、44設有至少一入口，用於經由喷嘴頭2 之輸出面5來供應先質A、B。最好將該等入口配置成，可 沿供應通道40、44之全身長供應先質A、B。此外，排放 通道42、46設有至少一出口，用於排放先質a、B。最好 將該等出口配置成，可沿排放通道42、46之全身長排放先 質A、B。因此，該入口與該出口可為分別沿供應通道4〇、 44與排放通道42、46延伸之一縱向開口。另一選擇為， 供應通道40、44與排放通道42、46可包括，分別沿供應 通道40、44與排放通道42、46身長之成組入口與出口。 可由第4圖中看出，供應通道40、44及排放通道42、46 15 201210701 至少部分地開向輸出面5。供應通道40、44設有一供應開 口 47、48 ’沿供應通道4〇、44之縱向方向延伸且開向輪 出面5。亦，排放通道42、46設有一排放開口 43 ' 45，沿 排放通道42、46之縱向方向延伸且開向輸出面5。先質噴 嘴8、10或供應通道4〇、44係配置成，大致垂直於輸出面 5地供應先質A、B’及先質喷嘴8、10或排放通道42、46 係配置成’大致垂直於輸出面5地排放先質a、B。如此將 因垂直氣體流有助於破壞基板表面上之氣體層，而可提升 該等先質之表面反應。 请注意到，第4圖之實施例亦可構成為，使供應通道 40、44為先質喷嘴8、10之部分’但排放通道42、46則 為一分離部件。基本構想在於，喷嘴頭2包括，位在輪出 面5上之複數個先質喷嘴8、10、複數個沖洗氣體通道ι2、 及複數個排放通道42、46 ’其連串順序如下：至少一第一 先質喷嘴8、一第一排放通道42、一沖洗氣體通道12、一 第二先質喷嘴10、一第二排放通道46、及一沖洗氣體通道 12’可選擇性地重複複數次。這與供應通道4〇、44與排放 通道42、46是否為同-結構部件無關。沖洗氣體通道12 可與第1A圖、第1B圖、第2圖、及笛，丄 及第3圖實施例中所顯 示者相同地設置’或者沖洗氣體通道1 9 ~Γ 士 rfB iL firt· U可設有與先質噴嘴 8、10或供應通道40、44同類型之喑 〈赁嘴。是以’沖洗氣體 通道12可配置成，與一沖洗氣體環$彳^ 1 _ 长哽14、16作被動式流 體連接’以使基板6表面4歷經—沖本 '先氣體，如第U圖、 第1Β圖、及第2圖中所顯示者。該、、由、+产 $落冲洗氣體環境係圍繞喷 201210701 嘴頭2之氣體環境14、或一分離沖洗氣體容器39。某—或 更多第-先質噴嘴8係配置《，在輸出面5處於一第—壓 力下操作’某-或更多第二先f喷嘴1()係配置成，在輸出 面5處於一第二壓力下㈣，及該沖《氣料境係配置 成，高於該第一與第二壓力之一第三壓力。亦可在第彳圖 實施例中該供應通道與該排放通道之間的輸出面5處，量 測該等第一及第二壓力。 第5圖係顯示一實施例，其中喷嘴頭2包括一反應空 間50，設於供應通道4〇、44與排放通道42、46之間。反 應空間50係開向輸出面5，以使基板6表面4歷經先質a、 B。第5圖係顯示出，相似於第4圖者之一先質喷嘴，其中 排放通道42、46係形成至先質喷嘴8。然而，請注意到， 反應空間50亦可設於僅具有供應通道4〇、44之一先質嘴 嘴8、10與一分離排放通道42、46之間。反應空間5〇係 配置於供應通道4〇、44與排放通道42、46之間。反應空 間50係配置成，大致沿供應通道4〇、44之全身長延伸， 且介於輸出面5、與供應及排放通道40、44、42、46之間。 反應空間50係配置成，使先質a、b配置成自供應通道4〇、 44經由反應空間50而流動至排放通道42、46，且先質A、 B之表面反應將在反應空間50處發生。 第4圖中喷嘴頭2包括’位在輸出面5上之複數個先 質噴嘴8、10、複數個沖洗氣體通道12、及複數個排放通 道42、46，其連串順序如下：至少一第一先質噴嘴8、一 第一排放通道42、一沖洗氣體通道12、.一第二先質喷嘴 17 201210701 1 ο、一第二排放通道46、及—沖洗氣體通道丨2，可選擇性 地重複一或更多次。該喷嘴頭亦可構成為，包括第3圖實 施例中所顯示之一個或更多連接元件3〇、32。是以，接續 於某一第一先質喷嘴8或第一供應通道4〇後之某一或更多 第一排放通道42係連接至某一或更多其他第一先質喷嘴8 或第一供應通道40,以將第一先質A導引至該某一或更多 其他第-先質喷嘴8或第一供應通道4〇。相似地，接續於 某第一先質喷嘴10或第二供應通道44後之某一或更多 第二排放通道46係連接至某一或更多其他第二先質喷嘴 10或第二供應通道44’以將第二先質B導引至該某一或更 多其他第二先質噴嘴8或第二供應通道“。 以上說明應可顯示，第1A圖、第1B圖、第2圖 '第 圖及第4圖中揭露及顯示之所有實施例，可相互結合。 熟於本項技藝者應可明白，隨著技術優勢，可依各種 :實現本發明之構想。本發明及其實施例並非以上述範 為限，而可在申請專利範圍之範嘴内變化。 【圖式簡單說明】 明本::上係參考隨附圖丨’結合較佳實施例來更詳細地說 阳本發明，其中： 第1A圖係一喷嘴頭之-實施例概略剖視圖； 第圖係第U圖裝置之喷嘴頭上視圖； 第2圖係一喷嘴頭之另一實施例概略剖視圖； 第3圖係第1A圓之嘴嘴頭又一實施例概略上視圖； 18 201210701 第4圖係顯示一喷嘴頭更一實施例概略剖視圖；及 第5圖係顯示一喷嘴頭之一喷嘴某一實施例剖視圖。 【主要元件符號說明】 2 喷嘴頭 3 第一通道 4 表面 5 輸出面 6 基板 7 第二通道 8 第一先質喷嘴 9 第一開放部 10 第二先質喷嘴 11 第二開放部 12 沖洗氣體通道 14 氣體環境 16 氣體環境 18 第一入口 20 第一出口 22 第二入口 24 第二出口 26 處理室 30 第一連接元件 32 第二連接元件 19 201210701 33 連接器 35 導管 39 沖洗氣體容器 40 第一供應通道 42 第一排放通道 43 排放開口 44 第二供應通道 45 排放開口 46 第二排放通道 47 供應開口 48 供應開口 50 反應空間 52 隔牆 A 第一先質 B 第二先質 20 ⑧

Claims (1)

1. 201210701 七、申請專利範圍： 1. —種喷嘴頭（2)，用於使一基板（6)之一表面（4)歷 經至少一第—先質（A)及一第二先質（B)之連串表面反應， 該喷嘴頭（2)具有一出口面（5)，包括： 二個或更多第一先質喷嘴（8)，用於使該基板（6)之該 表面（4)歷經該第一先質（A)，該第一先質喷嘴（8)具有至少 一第一入口（18)，用於供應該第一先質（A)， 其特徵在於： 該噴嘴頭（2)包括至少一第一連接元件（30)，用於將該 第一先質（A)自某一該等第一先質喷嘴（8)導引至某一或更 多其他該等第一先質喷嘴（8)。 2. 如申請專利範圍第1項所述之喷嘴頭（2)，其中， 該第一先質噴嘴（8)包括至少一第一入口（18)，用於供應該 第一先質（A)’及至少一第一出口（2〇)，用於排出該第一先 質（A)’以及在於該第二先質喷嘴（1〇)包括至少一第二入口 (22)，用於供應該第二先質（B)，及至少一第二出口（24)， 用於排出該第二先質（B)。 3. 如申請專利範圍第2項所述之喷嘴頭（2)，其中， 某一或更多該等第一先質噴嘴（8)之至少一第一出口（2〇) 係藉該至少一第一連接元件（3〇)連接至某一或更多其他該 等第一先質喷嘴（8)之至少一第一入口（18)。 4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之噴嘴頭 (2)，其中，該至少一第一連接元件（3〇)係配置於某一或更 多該等第一先質噴嘴（8)與某一或更多其他該等第—先質 21 201210701 喷嘴（8)之間。 5. 如申請專利筋囹@ 1 = 4 i 月判乾圍第i至4項中任一項所述之 (2)’其中，該第一連接亓彼广 項 質噴嘴⑻與某二或更多其他該等第一先質噴嘴⑻之間先 或者該第-連接元件（3G)係配置於某二或更多該等第 質喷嘴⑻與某-其他該等第一先質喷嘴⑻之間。 6·如申請專利範圍第！至5項中任—項所述之嘴嘴頭 (2)，其中，該喷嘴頭（2)包括二個或更多第一連接元件 (30)，用於作流體連接，使三個或更多該等[先質嘴嘴 (8)相繼地互相連接。 7.如申請專利範圍第丨至6項中任一項所述之噴嘴頭 (2)，其中，該喷嘴頭（2)包括二個或更多該等第二喷嘴（1〇) 及至少一第二連接元件（32)，用於將某一或更多該等第二 先質噴嘴（10)自該第二先質（B)導引至某一或更多其他該 等第二先質喷嘴（10)。 人 8_如申請專利範圍第2至7項中任一項所述之噴嘴頭 (2)，其中，某一或更多該專第二先質喷嘴（1〇)之至少一第 二出口（24)係藉至少一該等第二先質噴嘴（1〇)連接至某一 或更多其他該等第二先質喷嘴（10)之至少一第二入口 (22)。 9.如申請專利範圍第7或8項所述之噴嘴頭（2)，其 中，該第二連接元件（32)係配置於某一或更多該等第二先 質喷嘴（10)與某一或更多其他該等第二先質喷嘴（1〇)之 間。 201210701 10. 如申請專利範圍第7至9項中任一項所述之喷嘴 頭（2)，其中，該喷嘴頭（2)包括二個或更多第二連接元件 (32)，用於作流體連接，使三個或更多該等第二先質喷嘴 (1 〇)相繼地互相連接。 11. $申請專利範圍第1項所述之喷嘴頭（2)，其中， 該喷嘴頭（2)包括，位在該輸出面（5)上之複數個先質喷嘴 (8 1〇)、複數個沖洗氣體通道（12)、及複數個排放通道 (42 ’ 46)，其連串順序如下：至少一第一先質喷嘴（8)、一 第一排放通道（42)、一沖洗氣體通道（12)、一第二先質喷 嘴（ίο)、一第二排放通道（46)、及一沖洗氣體通道（12)， 可選擇性地重複一或更多次。 12. 如申4專利範圍第丨丨項所述之喷嘴頭（2 )，其 中，該先質喷嘴（8, 10)包括一供應通道（4〇, 44)，沿該細 長型先質喷嘴（8，1〇)之縱向方向延伸。 13. 如申請專利範圍第12項所述之喷嘴頭（？），其 中，該排放通道（42, 46)係設 〜货、°又主該先質喷嘴（8，10)且沿該 細長型先質喷嘴（8，1〇)之縱向方& „ a ^ 况门万向延伸，其大致平行於該 供應通道（40，44)。 如中請專利範圍第12或13項所述之喷嘴頭⑺， 其中，該至少一第一連接元件(3〇)係配置於某一或更多該 等第一排放通道（42)與某—或更多該等第-供應通道⑽ 之間。 15.如中請專利範圍第12至14項中任—項所述之喷 嘴頭⑺，其中’該噴嘴頭⑵尚包括至少一第二連接元件 23 201210701 (32)，配置於某一或更多該等第二排放通道（46)與某—或 更多該等第二供應通道（46)之間。 16. 如申請專利範圍第1至15項中任一項所述之噴嘴 頭（2)，其中’該等第一與第二先質噴嘴（8，1〇)係互相交 替地配置。 17. 如申請專利範圍第1至16項中任一項所述之噴嘴 頭（2) ’其中’該噴嘴頭（2)包括某一或更多該等沖洗氣體 通道（12)’用於使該基板（6)之該表面（4)歷經一沖洗氣 體’該沖洗氣體通道（12)係配置於該等第一與第二先質嘴 嘴（8’ 10)之間，以及在於該喷嘴頭尚包括至少—第三 連接το件，配置於二個或更多分離之該等沖洗氣體通道（I?) 之間’以使至少部分之該沖洗氣體循環。 18. 如申請專利範圍第1至17項中任一項所述之喷嘴 頭（2)，其中，該第一與第二連接元件（3〇, 32)各包括—輸 送管、一管道、一封閉通道或一導管。 19. 如申請專利範圍第1至16項中任一項所述之喷嘴 頭（2)，其中，該喷嘴頭（2)包括至少一該等沖洗氣體通道 (12)，配置於該等第一與第二先質喷嘴（8, 1〇)之間，且配 置成以被動式流體連接至一沖洗氣體源（14，16)，使該基 板（6)之該表面（4)歷經一沖洗氣體。 20·如申請專利範圍第19項所述之喷嘴頭（？），其 中，該沖洗氣體源係圍繞該喷嘴頭（2)之氣體環境（14)，或 一分離沖洗氣體容器（1 6 )。 21.如申請專利範圍第19或20項所述之噴嘴頭（2)， ⑧ 24 201210701 其中，某一或更多該等第一先質喷嘴係配置成，在該輸 出面（5)處於·一第一壓力下操作，及某一或更多該等第二先 質噴嘴（10)係配置成，在該輪出面（5)處於一第二壓力下操 作，以及該沖洗氣體源（14，16)係配置成，高於該第一與 第二壓力之一第三壓力。 22.如申請專利範圍第1至21項中任一項所述之噴嘴 頭（2)，其中，至少一該等第一先質喷嘴（8)係相串聯，使 該先質α)可自某一該等第—先質喷嘴（8)導引至某— 多其他該等先質喷嘴（8)。 25