TW201201994A - A pellicle for lithography and a method for manufacturing the same - Google Patents

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201201994 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係_在製造例如大型積體電路、超 等之半導體裝贼液晶顯示面板時，作( 等的防塵罩而使用之微影顧薄膜組件 【先前技術】 在製造例如大型積體電路(LSD、超大型積體電路等之半導體 裝置或液晶顯示面板時，半導體晶κ或液晶顯示面板用之 t,透如光罩或初縮遮罩（以下在本說明書中統稱為4 罩』）之曝光模板而進行照光，藉此將光罩之圖案轉印至半導體 晶圓或液晶齡面板狀母基板，俾能形解導雜置或液晶顯 示面板之圖案。 Μ 因此，當透過光精轉體晶圓或液晶顯示面板母基板進行 照光時，任何附著至光罩上之異物（例如灰塵粒子）皆合反 ，收曝光’致使轉印到半導體晶賊液晶顯示面板母基&上之圖 案變形，且圖案的邊緣部分變得模糊；不僅如此，下方表面 鱗污而變暗黑，從而使半導體晶_液晶顯示面板母基板之尺 =、.品質及外觀等受損。於是，無法如所期望之方式將光罩的圖 案轉印至半導體晶圓絲晶顯示面板母基板上，半導體晶圓或液 晶顯示面板母基板之效能降低，因醉導體晶圓或液晶顯示面板 母基板之產率無可避免地變差。 β為解決适些問題，半導體晶圓或液晶顯示面板母基板之曝光 操作通常在無塵室内進行。然而，即使如此，亦極難完全地防止 異物附著至鮮之表面上’故通常儀稱為防塵薄膜組件、對於 光罩表面上之曝光具有高穿透率之防塵罩，以施行半導體晶圓或 液晶顯示面板母基板之曝光操作。 一般而言，防塵薄膜組件係藉由將防塵薄膜貼附至防塵薄膜 組件框架之-表面上加以製作，其包含下列步驟：藉由將防塵薄 201201994 於曝光具有高穿透較材料所製成，例如像硝酸纖維素 之纖維素系樹脂、氟化樹脂或其類似物)材::: ί=件;g由;J錄鋼、聚乙烯或其類似物所製成之防 ;或者糊例如丙烯酸樹脂、石烟樹脂、 ^樹&权黏讀’將防塵雜朗於防麟齡件框架之該一 ，面上。接著形成由聚丁烯（polybutene)樹脂、聚乙酸乙酯 獻ί rryl aeetate)觸、壓克力細旨、或補獅等所組成之 毐者，層，並在防塵薄膜組件框架之相對表面上，將光 件框架，以及麵著繼上設置肋賴黏著劑層之 齡（例如，參見日本專利申請案公開號雜-2携23 ，j國專利第4861402號、日本專利申請案公開號第63_277〇7號、 曰本專利申請案公開號第7-168345號）。 在將如此建構之防塵薄膜組件安裝於光罩表面上、並透 半導體晶圓或液晶顯示面板母基板曝光之情況巾，由於 ίΪίίί之異物係附著錄塵薄膜組件之表面，而未直接_ 表面，故可藉由以此—使光線賴在形成於光罩上之 的方式投射曝光，避免受到例如灰塵粒子之異物所影響。一 _再者’為了降低由設置於光罩上之防塵細組件岐義之封 間與防塵薄膜組件外部之_壓力差，可在防塵薄臈1 部分上形鋪除壓力差之小孔，錢置過絲，用以防止 所定㈡空氣中所含之異物進入由防塵薄膜組件及光罩 由於防塵薄膜一般係由薄樹脂片所構成，故為以使防塵 不，下垂之方式由防塵薄膜組件框架支撐防塵薄膜，必須在施加 預定張力至防塵薄膜時，將防塵薄膜貼附至防塵薄膜組件框架。 因此，在使用一般採用之具有矩形截面之^^塵薄膜組件的 ，於’防塵薄膜已被貼附至防塵薄膜組件框架之後，施加至 薄膜之張力無可避免地使防塵薄膜組件框架變形而向内翹曲。 4 201201994 此種防塵_組件框架之向喃 塵薄膜組件框架中、且-般用於製造印刷電路有長邊長之防 大型防塵薄膜組件中尤為顯著。衣、電路板、液晶顯示器等 另一方面，為了降低光罩之製造成本，必 罩曝光區域，但由於防塵薄膜組 置大之光 域會=、，故必雜魏馆麟膜光區 猎由例如以增加防塵薄膜組件框苹 内趣曲交形。 的方式，可技術性地解決上述問題。;、:„加其剛性 i、綱梅域的需 薄膜組件框架外部的需求來加以歧，因此运至防塵 之各侧邊皆具有織定後之直線形，以滿足上膜組件框架 再者，吾人已提出藉由形成具有較 材 ί!膜=’而減，塵薄膜組件框架之=ί㈡ 金所‘防^=^=^=^=銘合 此種解決方法並不切實際。 相、，且件之成本，故 心九νΐ少防塵薄膜組件框架之—曲變形，日本真㈣ 對相對側中之每一者具有向外凸出之 主乂 =部岔相對側上具有凹入部’各凹入部具有向内中凹陷之二:中 狀，在凹入部之相對侧上具有直線形部，在=弧形 組件框架之後’因此種貼附而使防塵薄膜組件框= 可以恤附於防塵薄膜組件框_ 用於大量生膜組件框架之形狀，但此方法不適合 201201994 =4二望二膜防塵薄 同。因此，在防塵薄膜中》·^^程度無可避免地會有所不 薄膜中之張力小於地向_曲變形；而在防塵 仍保持向外龜曲變形;使^ f件框架之侧邊 4286 194祙妲山十士、+ 更將防塵，專膜貼附於以曰本專利第 係至少相對側中;二形一f二塵薄：:框斤亦然’該框架 =央部之，具二= 考肩二人部之相對側上具有直線形部。—般而言，在 m對於光罩的貼附誤差、及其他類似因子 尺寸之容差(tol_)，丄= ^罩之圖案區域仍洛於安全而留有餘裕的程度。㈣，由 ίΐίΓίϊϋ*機械變形而產生向外祕變形’故在設計防 形並不考慮防塵薄膜組件框架之向外魅曲變 竿之防應舰f i ί驗件框架之侧邊因施加於防麟膜組件框 =之防塵薄膜之張力小於設計張力而向外凸出之情況中，存在卷 ίΐ組件時，防塵薄膜組件框架干擾用於將防塵級： 光罩之防塵薄膜組件貼附裝置、或光罩曝光裝置中之運 送裝置等的風險。 ^ 例如’在揭露於日本專利第4,354,789號之一般防塵薄膜組件 ^附裝置中’防塵馳組件係使防麟酿件框架之—長邊朝下 :置而成，因此，，防塵薄膜組件框架之一長邊向外凸出之情況 中，當吾人將防塵薄膜組件設置於防塵薄膜組件貼附裝置中時， 向外凸出之防塵薄膜組件框架之一長邊即向内變形，致使防塵薄 膜存在相當大的起皺風險。 6 201201994 【發明内容】 :ίίϋϊ：：ί的在於提供—種微防塵薄膜組件， 其即使 在防塵薄膜之張力分佈相當不均時光罩之暖 :褶附至防塵薄膜組件^^ *法本塵薄膜組件之製造 者财實質上ΐί =塵薄膜，調整該防塵薄膜i張力二卜 件框架之該對長邊之張力，大於盆、7 二使八/0防塵溥膜組 邊之張力，藉由將防塵薄膜貼附;; 換成具ί實質上直線 製造====== 其具有至少—對平行長邊及—對短邊，臈^件框架， ^ «ϊίΓί"^' ，細;框架之力:使其沿 201201994 中者。因此，在防 件框架之長邊向外_=1目=洛處’便產生迫使防塵薄膜組 產二===== 邊之變形所滅2動㈣產生之防蘭酿個架之該對長 架之;以實= 塵薄膜組件框架之橫截面、直沭形。因此，在不增加防 塵薄膜組===== .膜組件 況中， 地防止J! 2一者皆包含：中央區域’包含防塵薄膜=件框架之短邊之中央 即使防塵薄膜之張力分佈相當地偏;故 塵薄膜施加至防塵薄膜組件框架_所期望之張力分佈’且由防 膜組件設置於防Ϊ薄膜=== 俾使防 塵/專膜組件框架之一長邊朝下方之，声^击, * ,_r 架之長邊並不會向内變形，故可^由於防塵_組件框 在本發明之較佳“中防塵薄臈產生皺褶。 f薄膜組件框架之各短邊之相對端部附=上=:方 狀；及複數個巾間輯，各位於中 質上直線形 兩者之間，且具有使得巾+ S '、/、中一缟部附近區域 暢連接之凹入圓iit 及該端部附近區域其中一者可順 中央較佳態樣’由於防塵薄膜組件框架之短邊之 此一使付中央區域及其中-端部附近區域能夠順暢=== 8 201201994 苒去II換防麟膜組件框架之短邊，以便更呈直線形狀。 的防mi發明之雜健樣，由_近短叙相對端部 可準破^1件框架之端部附近區域具有實質上直線形，故不僅 =;===之=:=防塵薄膜組 件框架。心、疋位因此’可以尚準確性製造防塵薄膜組 且古f本ί狄更佳態樣係將防塵、帛膜組件框架設計成俾使 半徑大於具有外凸圓弧= 弧形形:順暢地連接中央區域之外凸圓 防靡更佳態樣中’防㈣膜之張力分佈，係藉由在將 時框塵薄膜組件框架之前，使防塵薄膜固定於-臨 -對:對侧機械方式位移臨時框架之至少 -對佳態樣中，當以機械方式位雜時框架之至少 的負载量，咖咐部之位 力 對!邊之中央部 所構ί本發明之更佳態射，貞獅雌置由貞鮮元（—U) 而變if 及其他目的及特徵’將由下列參照附圖之說明 【實施方式】 =1為根據本發明較佳實施例之 ϊί:==:;;係用於製造防塵薄膜= 201201994 對短^H者在央部之中央區域 士之^區域i2b則具有凹入圓弧形狀 及具有㈣上直細嫌之射：端部附近區域 之各;1區;1=^ ’/補在絲方向上平行於^ 薄==:於= 短邊！2皆具有實質上直_。千U之各長邊U及各 被执由+Ϊ案人麟行之研究得知：尤佳之防塵_組件框架 可更順暢地連接中央區域12a之外凸圓弧形與中間區域12b 之凹入圓弧形。 圖2為顯示當防塵薄膜組件框架1〇係根據此較佳實施例加以 組件框塵f膜膜組件框架時，防塵薄膜 在圖1及2中’由於防塵薄膜20係在已被施加一預定張力後貼 ，於防塵薄膜組件框架1G ’故具有外凸圓弧形之防㈣膜电件柩 ^1〇之各短邊12的中央區域12a’因受到由防塵薄膜2〇所施加之張 力而向内變形藉此將防塵薄膜組件框架10之各短邊的中央區域 12a轉換成實質上直線形狀。另一方面，防塵薄膜組件框架忉之各 長邊11，因受到由防塵薄膜2〇所施加之張力而向内變形；然而， 201201994 ίίϊ其幅邊12具有實壯直_狀之防_驗件框架10之 之各】，ιίί邊1 曰1ΐ變形量極小。因此，防塵薄膜組件框架10 各長邊11之纟史开》夏在可接受之範圍内。 圖3摘示使麟本發明較佳實棚巾之卩轉触組件製造 祕將_薄卿貼附於防麟酿件框架1G ;而圖4 為>。圖3中之A-A線切開之橫截面示意圖。 如圖3及4所不，防塵薄膜組件製造設備包含平台3〇， lifii防塵薄膜貼附層31及由隔離件（未圖示）加以保護: 之防塵薄膜組件框架1〇。平台3〇可藉由升降機構 α向上下移動。 如y及4所示，防塵薄膜組件製造設備在其四角落處 ΓΐΓί _支撐部22 ’且將已安胁塵薄膜2G以便加以拉伸之 3 ί四角落部設置於防塵薄膜支撐部22上。將固持部 23 5又置於臨時框架21之各侧邊之中央部。 ，，構以施加負载至固持部23、並使對應固持部23在垂直於 jH21其中一侧邊之方向上移位之負載施加裝置25,係藉由 連接邛26而連接至固持部23之每一者。 ϋ載施加裝置25包含：台座27，其可在垂直於臨時框架 ^镜側之方向上手動或自動地移動；及負載檢測裝置烈，其 I膜目關Ϊ之台座27上、且用以檢測施加至其上已安裝防塵 “故^以拉伸之臨時框架21之對應固持部23的負載。在此 m ’ ί使用負载單元作為負載檢測裝置28;再者，根據此 塵減組件製造設備包含顯示裝置（未圖示），該顯 =裝^係用於顯不因負載施加裝置25之移 21之各固持部23之壓縮力或張力。 叶午 ^此，藉由使各台座27在垂直於臨時框架21之對應側邊之 =士移位而使臨框架21變形，藉此改變在臨時框架21之長 及姉ϊ方向上施加於防塵細2G之張力，則負載檢測裝置 時框架2丨在其長轴方向及短軸方向上之位移量、以及 ^框* 21之長轴方向及短軸方向上施加於防塵薄膜20之張 11 201201994 力 在此實施例中，儘管在臨時框架21之長輛 Ϊ力2口薄膜2〇之張力係由負載檢測裝置28加以檢V ^^ 座27 s移動以控制施加於防塵薄膜2 二 〇 21之長軸方㈣瓣細架 臨的ΐ/。21之雖糾上平行雜麟驗翻架^之 ㈣^所述方式，當吾人判定施加於防塵薄膜20之張力，在臨味 二二之上大於她_21之短軸方向上時藉由 i使其上已安裝防㈣膜組件框_之平台3〇t 7觸被瞻臨時框 1中！：二貼附於防塵薄膜組件框架1〇之 31 3〇^ ： 务社二二専膜彼此以一微小角度相接觸，以防止* 乳留存於防_膜貼附層31與防塵薄膜2G之間的空防止二 框架：二(二不2 j刀除防塵薄膜20位於防塵薄膜組件 -的。卩刀，於疋兀成防塵薄膜組件之製作。 *八欲I顯ΐ 一由，塵薄膜20施加至防塵薄膜組件框架1 〇之茫 中所塵薄臈製造方法

__組件框架1G 之伽力τ2乃細餅欲拉伸i臨 架10之每一長邊u薄膜0中產生的張力施加至防塵薄膜組件框 12 201201994 之，力，作用力τι大於作用力T2，因此，防塵薄膜組件框架ι〇 之母-短邊12的向内變形或移位均大於其每_長邊i i的向内變 形或移位。 因此，在本實施例中，由於防塵薄膜組件框架1〇之每一短邊 12在其中央區域12a處均有向外突出之圓弧形狀，該短邊^之中 央區域12a便被施加自防塵薄膜2〇之作用力T1而向 ，如 ^使每—短邊12位於—料直線上而與短邊12之相對角落相 運接。 質直i开之圓弧形狀的中央區域i2a以及具有實 端部順暢連接之具有内凹之圓弧 2狀=中間S域12b亦向内移位。因此，具有防塵薄膜2()貼附至 Ϊ一T塵薄膜組件框架1G之每—短邊12便經過轉換而且 有一實質直線的形狀。 又工喝将?吳阳丹 丸丄另：Ϊ面’由於朝向防塵薄膜組件框架内側之作用力T2 =由防塵雜20施加至防塵薄馳件 ，狀之長邊u ’防塵薄敵件框架1G 二 移。然而，由於彎曲動量Μ係由短邊i 便向内位 件框二2;;:::;==使防塵薄膜組 使防塵薄膜組件购1()之4 # 所產生之力量乃與 此，防塵薄膜組件框架1G之每°作動相互抵鎖。因 接受的範圍内。 邊11的向内變形可抑制在可 短邊12二中此，巧^塵薄膜組件框架10之該對 出之圓弧形狀，每_位於中3其中央部）具有-向外突 具有内凹之圓弧形狀，位、售112a之相對側的中間區域12b 域12c形成具有實質直線形狀。另—之^面對附近之端部附近區 上，使防塵薄膜20 至if薄膜組件框㈣之一表面 力刀佈！下述方式加以控制，亦即使平行 13 201201994 於防塵薄膜組件框架10之長邊u 於防塵薄膜組件框架w 上的張力大於平行 的張力T1便使得防塵薄膜組件且件框a之短邊12 直線，而防塵薄膜組件框㈣之^ = 12 _而實質成為 防塵薄膜組件框架1〇之長邊j=被防塵薄臈2〇施加至 ίο之每-角落，俾使防塵薄膜 長邊U向外位移之力= 銷產生而使防塵細組件框架10之 10之tt戶ϋ由於在防塵薄膜20貼附之後，防塵薄膜組件框竿 轉換，俾使其成為實質矩形，如此^保ΐ 面精、^ = ’而不需藉由增加防塵薄膜組件框架1G之樺i面 10等等具有較高剛性的材料來形成防塵薄膜組件框架 膜組件便可輕易用於防塵薄膜組件晴以 驗Π ί張力分佈不均而使張力小於所設計的張力時，防塵 件架10之短邊12便無法轉換成為實質直線而仍且有向 H之凸形。然而’由於防塵薄膜組件係通 g J件貼附裝置内，即傭塵薄膜組件框架i。之—長邊 方塵薄膜20亦不會因防塵薄膜組件框架1〇之短邊u 具有向外突出的形狀而產生起皺的風險。 x主 操作例及比較例 下面將說明一操作例及數個比較例以便更清楚地說明本發明 之技術優點。 操作例1 利用一機械程序生產一鋁合金製之防塵薄膜組件框架10，其 具有如圖1之形狀。該防塵薄膜組件框架為一實質矩形橫截面形、 201201994 狀，其外部尺寸為20〇〇mm*2500mm，内部尺寸為 =Τ*246°聰，且防塵薄膜組件框架10之每二長邊11均為實 質直線形狀。 可仗遭u枸為貫 另一方面，防塵薄膜組件框架1〇之每一 5 R72〇1o L〇〇r之每Γ中間區域12b均具有内凹之圓弧形狀，其 ίί开1Γ 相對的’每—端部附近區域以均具有實質 此處’防塵薄膜組件框架10之每一短邊 組件框架1G之短邊12的相對端部3角 ::匕爾均與其外部具有相同的形狀，使得短邊12具有i 。防塵薄膜組件框架的高度為6 5麵。每—角落的有内 為半徑2mm，其外侧則為半徑6mm。 菩薄膜組件框架1〇的清洗及乾燥程序。接 者’防塵_組件框架H)之—表關塗佈 : ，著膜組件框架1G之另—表面=== ^=caiCo.，Ltd·生產之石夕黏著齊κ產品名稱鹏7〇〇)以 =罩至防塵薄膜組件框架10的黏著劑。接著，將防塵薄= 框架10加熱以硬化石夕黏著劑。 、、午 進一步利用狹縫塗佈處理將一具有矩形形狀 (2200mm*2580mm*22mm)之石英基板塗佈以八純泊咖 ^Ltd.生產之氟聚合物（產品名稱：CYT〇p)以形成一塗 ^形成之塗佈層便貼附至與石英基板具有相同之外尺寸的; ίΠ框架Μ上’剝除石英基板，如此產生具有―厚度之防 如此產生之貼附在欲進行拉伸之臨時框架2〇上的防塵薄膜2〇 ，固定紐塵薄膜組件製造設備上之防麟膜支撐部2如 3及圖4所示。 固 此處，四個負載施加裝置25係經調整，以使位於臨時框架21 15 201201994 之每一短邊的中心區域的負載施加裝置25所施加至防塵薄膜2〇 之張力為位於臨時框架21之每一長邊的中心區域的負載施加裝置 25所施加至防塵薄膜20之張力的2.5倍。 另=方面’將形成為具有防塵薄膜貼附層31以及由一隔離件 ^未顯不）保護之光罩黏著層32的防塵薄膜組件框架1〇放置於 平台30之上表面處。接著，上置有防塵薄膜組件框架1〇之平台 3J)便利用升降機構35緩慢上升，而使防塵薄膜貼附層31與防塵 溥膜20相接觸，藉此使防塵薄膜2〇貼附至防塵薄膜組件框架1〇 之一表面上。此時，防塵薄膜貼附層31以及防塵薄膜2〇乃以微 小角度彼此相接觸，以防止空氣在防塵薄膜貼附層以及防塵薄 膜20之間的空間產生。 在防塵薄膜貼附層31以及防塵薄膜20彼此完全貼合之後， 超出放置於平台30上之防塵薄膜組件框架1〇外的防塵薄膜2〇的 不需要的部分便可利用切刀（未顯示）切掉並加以移除，藉此 成防塵薄膜組件。 如圖2所示，如此產出之防塵薄膜組件之防塵薄膜組件框架 1〇的每一長邊11均些微朝内變形，但防塵薄膜組件框架1〇之^ 一短邊12則具有實質直線形狀。 如此產出之防塵薄膜組件被放置於一機械平台上，而一固定 有Mitutoyo Corporation所生產之針盤量規之支架則沿著一峻鋼靠 的桿子移動，故可每隔50mm測量一次防塵薄膜組件框架1〇的开 狀此處，當作標準之與桿子相接的表面已先經拋光處理，故立 平直度乃等於或低於0.05mm。 、 結果，吾人可發現，防塵薄膜組件框架1〇之每一長邊u的 中央部之向内偏折的量為1.5_，而防塵薄膜組件框架1〇之每一 短邊12之外表面對連接短邊12之相對端部之角落的直線偏 於或低於±0.3mm。 比較例 如圖6所示，吾人利用機械處理生產一鋁合金製之防塵 組件框架10 ’其具有矩形橫截面及實質直線的邊。該防塵薄思 16 201201994

件框架ίο為一實質矩形横截面形狀，其外部尺寸 2000mm*2500mm，内部尺寸為 196〇mm*246〇mnJ 框架K)的高度為6.5職。防塵薄膜組件框架 方塵离專^^牛 部均為半徑2mm，其外部則為半徑6職。㈣角洛的内 防塵薄膜20糊與用於操作例巾的相同步驟， =附至如此產出之防塵薄膜組件框架i。，藉此產出一防 如此產出之防塵薄膜組件之防塵薄膜組件 所示之形狀。因此’吾人可發現防塵薄膜組件'm? 防塵薄膜組件框架1G之每—長邊η的中央部_移形’ 12, t ^ 向則！光區域在長軸方向減少了約5_，在短軸方 比較例2 右如!例1中的方式來生產一防塵薄膜組件，利用具 同比較例1中使用之_防塵薄膜20，以及m如 至防塵薄膜組件框架10而不調整防塵薄膜Wi 如此產出之防塵薄膜組件的防塵薄膜組 所示之形狀。因此，吾人可發現防塵薄膜 ^ ^薄膜組件框㈣之每-長邊η的中央部向内=地伽 纖蝴娜12州部則向内移 向則;曝光區域在長軸方向減少了約3咖’在短軸方 及比較例1和比較例2中可以發現，將防塵薄膜 11在打調整’使其平行於防塵薄膜組件框架10之長邊 在八長轴方向上的張力大於平行於防塵薄膜組件框架忉之^豆 17 201201994 短i方向上的張力，再將固定於欲拉伸之臨時框架21 地防止光罩之之—表面’便可有效 之曝先Q域減少，該防塵薄膜組 短邊12之中央區域12a包含短邊12之中央部且有向外 j之圓弧形狀、其中央區域12a之相 ^ :卜 =有内凹娜形狀、且每，附近區域12e具有; 然而本Γ=ίϊ:特定實施例以及操作例來進行說明及描述。 ;/人應庄思本發明對所設定之安排的細節完全不作任 不偏離所附加之專利巾請範__及修改均為可用。、 1。勺歹人佳實施例及操作例1中，防塵薄顺件框架· 成^立、直線形狀之長邊11以及短邊12 ’該短邊12之組 位於中^ ^含其中央部具有向外突出的圓弧形狀， 矿π *1央£域12之相對側上的每一中間區域i2b具有内凹之圓 2有實質_寸近之每一端部附近區域i2c 阶然形成如此形狀的每—短邊12並非必須。 :邻上iq之每—短邊12亦可有如此的形狀··使其相 ϊ=〇之:力所， 葬·— 力所引起之防塵薄膜組件框架1〇的期望變形。且， it之相對端部㈣落與複數條短直線連接，可形 成具有夕角度之防塵薄膜組件框架1G之每—短邊12。 作負例及操作例1中’雖然負載單元係用於當 ί 使用負載單元當作負載檢測裝置28並非必 ί利檢測裝置。且，臨時框架21之位移量可直 _載檢測裝置28 ’或者亦可利用檢 、負載施加裝置25之移·便可得知_鹤21之位移量。 設有i鹿操作例1中’雖然張力是施加到上 向及f的臨時框架21上，以便在臨時框架21之長軸方 向及=方!伸，同時施加張力到臨時框架21之長軸方 〇及短軸方向並非必須，可以僅施加張力到上設有防塵薄膜2〇的 201201994 設有_膜 21的相騎的額義，喊臨時轉臨時框架 上產生在防塵薄膜中的浮士缺"、之長軸方向及短軸方向 每-邊的中央部的固持部、3，而:時臨t框架21之 短軸方向上產絲__ [架2! J長軸方向及 臨.架2^每j的又固f部並將固持部23以垂直於 及短軸方向上之防塵薄膜if $可在臨時框架21之長軸 之每一邊之中中^生張力。且’只要臨時框架21 每一邊之持部23可設置在辦框架21之 來自時框==邊=整，以使 負載施加褒置25(位於臨時張力為來自 加至防塵薄膜20在臨時^ 區域處)所施 而，並不需將防塵_2〇1張力軸倍。然 在臨時框架21之导點方^ Π 3調整成知加至防塵薄膜2〇 框架2!之短軸方;施力口至防塵薄膜2〇在臨時 f、Λ赠舰加至防塵薄膜2〇的張力分佈固 2等〇^°時框架21的剛性、臨時框㈣之每一短邊突出的耐受量 六八發明，微影用之防塵薄膜組件即使是在防塵薄膜之張 :避免例如貼附防塵薄膜至防塵薄膜組件框架時產=而f 且’根據本發明，亦可提供—微侧之防蘭敵件的製造 19 201201994 方法，其即使是在防塵薄膜之張力分佈十分不均的情況下，仍 預防光罩之曝光區域減少，其亦可避免例如貼附 薄膜組件框_枝生爐而失敗。 #、主防麈 【圖式簡單說明】 一立圖1為根據本發明較佳實施例之防塵薄膜組件框架之平面 示意圖，該防塵薄膜組件框架係用於製造防塵薄膜組 i 塵薄膜組件尚未貼附防塵薄膜。 八 圖2為顯 示意圖。 示已貼附防塵薄膜之圖丨之防塵薄膜組件框架的平面 圖3為顯示使用於本發明較佳實施例中之防塵薄膜制& 设備’其制於將防麟膜蘭於防麟膜組件框架。衣1^ 圖4為沿圖3中之A-A線切開之橫截面示意圖。 。圖5為顯示由防塵薄膜施加至防塵薄膜組件框架之張力分佈 圖。圖6為使用於比較中之防塵薄膜組件框架形狀之平面示意 架形所製造之防塵薄膜組件之防塵薄膜組件框 架形。中所製造之防㈣膜組件之防塵薄膜組件框 【主要元件符號說明】 10防塵薄膜組件框架 11防塵薄膜組件框架之長邊 12防塵薄膜組件框架之短邊 12a防塵薄膜組件框架之中央區域 12b防塵薄膜組件框架之中間區域 12c防塵薄膜組件框架之端部^區域 20 201201994 20防塵薄膜 21 臨時框架 22防塵薄膜支撐部 23固持部 25負載施加裝置 26連接部 27台座 28負載檢測單元 30 平台 31防塵薄膜貼附層 32光罩黏著層 35 升降機構

Claims (1)

1. 201201994 七、申請專利範圍 1.一 對邊則在其—中央部具有形狀; 的縱長方6上[ίί》佈胁膽，使其在該防塵_之該長邊 ϊίίϊΐϊ大於該防塵薄膜之該短邊的縱長方向上的張 料種用防塵薄膜組件，包含—防塵薄臟架，其至少呈有-=長邊:該對平行長邊的每-邊均具有直 二==塵薄膜至該防塵薄膜框架 膜框朱之該職邊乃被雜献雜絲雜。 ^1獅狀微影时㈣敝件，其中該防塵 ίί ίίΐΐϊ邊之每—邊均具有—中央區域，其包含該防塵 i相對側之具有内凹圓弧形狀的中間區域；以及位於 母-該短叙-端部附近之具有直線形狀的端部附近區域。 3中 圍第2項所述之微影用防塵薄膜組件，其中該每一 ==有_::圓弧形狀而可使該中央區域以及-該端 m月專利範圍第2項所述之微影用防塵薄膜組件，其中該每- ^㈣^圓弧形狀之中間區域的半徑乃大於具有向外突出圓弧形 狀的該中央區域的半徑的三分之一（1/3)。 5 t申請專利範圍第3項所述之微影用I1 方塵薄膜組件，其中該每一 f圓弧形狀之巾間區域的半徑乃大於具有向外突出圓孤形 狀的該中央區域的半徑的三分之一（1/3)。 胳一種微影用防塵薄膜組件的製造方法，其步驟包含提供一防塵薄 具丄其至少具有一對平行長邊以及至少一對短邊，該對平行 長邊的每一邊均具有直線形狀，該對短邊的每一邊則在其一中央 22 201201994 部具有向外突出的形狀；貼附一 使其在雜塵_縣之該張力分佈乃經調整， 薄膜框架之驗邊的縱長方向上的張力大於該防塵 附至之該防塵薄膜框架的該對短邊轉貼 ί 之製造方 域，其包含該防塵薄膜框竿之之母一邊均具有一中央區 狀的中央部；位於該中央區域向外突出的圓孤形 間區域；以及位於每一該短邊=之具有内凹圓弧形狀的中 部齡邊之卩附近之具有直線形狀的端 8.如申請專利範圍第7項所述之傅马由〜由# 法，財該每-中間區域牛之製造方 區域以及-該端部附近區域可;弧驗而可使該中央 i·如項所述之微影用防塵薄膜組件之製造方 時;:時框架上，並機械性地使該臨 該張力分佈< 央部變形，#此調整該防塵薄膜之 5如Z項所述之微影驗塵賴組件之製造方 Si防塵薄膜至該防塵薄膜框架之前，先 時;i 架上’並機械性地使該臨 (邊形，藉此調整該防塵薄膜之 請專利範圍第8項所述之微影用防塵薄膜組件之製造方 法’其步敎包含在_該_薄駐鱗麵酿架之前，先 23 201201994 上，並機械性地使該臨 藉此調整該防塵薄膜之 將該防塵薄翻定至—欲拉 _架之至少一對相對邊的中 架 該張力分佈。 、|趸形， ㈣㈣麻件之製造方 地變形時，該臨時“之相對邊之該中央部已機械性 係經用以檢測位移量二二二：，對邊之該中央部的位移量 框架之該至少-對相對邊置或㈣檢測施加至該臨時 控制。 、#之負載的位移量檢測裝置戶斤 13.如申請專利範圍第1〇 法，其中當觀辦框架之雜顧肋件之製造方 係經用以檢測位移量ί 一;載二;邊之該中央部的位移量 =機少-對相對邊之該 地變形時，該臨二=目f邊之該中央部已韻性 係經用以檢測位移邊之該中央部的位移量 = 相對邊之該中央部之負載的位移量檢測裝置所 八、圖式 24