TW201139566A - Colored composition, inkjet ink, color filter and method of producing the same, solid-state image sensor and display device - Google Patents
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Description
201139566 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於著色組成物、喷墨用墨水、彩色濾鏡及 其製造方法以及固態影像感測器與顯示裝置。 【先前技術】 近年來,對於液晶顯示器(LCD),尤其是彩色液晶 顯示器之需求已隨著個人電腦及大尺寸液晶TV的發展而 提高。預期有機EL顯示器亦由於改良影像品質的需要而 將變得普遍。由於數位相機及裝備相機之蜂巢式電話正在 普及,所以對固態影像感測器(諸如CCD影像感測器) 的需求亦顯著提高。 彩色濾鏡為此等顯示器或光學元件中使用的關鍵裝 置,且希望在改良影像品質的同時,降低製造彩色濾鏡之 成本。彩色濾鏡典型地包含紅色(R)、綠色(G)及藍色 (B)三種原色之著色圖案,且此等著色圖案將通過顯示裝 置或影像感測器之光分成三種原色。 用於彩色濾、鏡之染料一般需要滿足以下要求。 詳言之,染料需要:在色彩再現方面具有良好的光譜 特性;不使固態影像感測器呈現光學無序(〇ptical disorder),諸如光學密度不均勻(會造成光散射而降低液 晶顯示器之對比度)或顏色不均勻/粗糙;對裝置使用所處 之環i兄條件呈現穩固性(robustness),諸如良好的耐熱性、 耐光性及耐濕性,具有允許薄膜成形之大莫耳吸光係數·, 201139566 及其類似特性。 —在彩色濾鏡之製造中,已使用顏料分散法。由可固化 物製造的彩色魏(其中顏料藉枝微 化喊财,可㈣著色組成轉由顏料分 褽備)由於利用顏料而對光或熱具有穩定性。 鮮微影製財,藉由職塗機、滾塗機或其類似物 ρ二射敏感性組成物施加於載體上,乾燥塗膜且使乾塗膜 ^党圖案曝光及顯影來形成著色像素(coloredPixeis)。可 艮據,色據鏡中使用的顏色種數、藉由重複此等製程多次 獲得色濾鏡。由於在光微影中使用光來形成圖案(藉 ^所得_案具有優異的位置精確度),所以光微影已廣泛 ,於製造大尺寸高解析度彩色濾、鏡之方法。近年來, 二已尤其適宜祕製造需要進—步提高解析度之固態 影像感測器。 如上所提及’近年來不斷地需要進—步提高固態影像 感測器之彩色濾鏡的解析度。 然而,在習知顏料分散法中,因粗糙顏料粒子造成顏 不均勻或其類似原因而難以進一步改良解析度。因此, 2要精細®案之領域中,諸如_影像感測器,使用顏 =散法執行光微影變得困難。另—方面,在液晶顯示器 項域中’使雜料分散法之光郷所製造的彩色據鏡具 、、?二了問題.諸㈣*度因㈣粒刊起錄射而降低或 a濁量增加,但此料色魏呈現❹㈣級及耐熱性。 除了光微影之外,已提出藉由喷墨排出彩色墨水來形 4 201139566 成著色層(著色像素)之方法 見例如日本專利申請宰早為k々色,絲之方法(多 第2〇〇4_339332號)ft月公開(JP-A)帛你752〇5號及 黑\自細孔噴嘴噴射墨水液滴❼直接施加 ,水於來記財符 卜 墨頭之f法之優點在於,可以高生產力及良好操作性Ξ 造大尺寸如色魏,而產生的噪聲低4藉由噴墨法製造 衫色^鏡中’使用藉由顏料分散法所製備的喷墨用墨水。 作為藉由顏料分散法製備的噴墨用墨水,已提出例如用於 製造彩⑸慮鏡之喷墨用墨水,所述墨水包含齡劑組分、 顏料及溶劑,所述溶劑在室溫下具有丨8〇r至26crc之沸點 及0.5 mmHg或0.5 mmHg以下之蒸氣壓(參見例如Jp:A 第 2002-201387 號)。 當藉由顏料分散法製備的喷墨用墨水用於製造彩色 濾鏡時,由於喷嘴因顏料凝聚而頻繁發生堵塞,^以^要 改良排墨穩定性(discharge stability)。另外,藉由諸如換 拭或清洗之復原插作得到的墨水排放狀態之可復原性傾向 於降低。此外’可能存在墨水排放偏離正確方向之情況, 這是由於在執行擦拭期間,喷嘴表面被凝聚的顏料刮擦之 故。 當使用染料代替顏料時,在用於固態影像感測器之彩 色濾鏡的情況下可預期解析度因克服顏色不均勻/粗槪= 問題而提高;且在用於液晶顯示器或有機EL顯示器之彩 色濾鏡的情況下’可預期對比度或混濁度方面的光學性^ 201139566 改良。另外’在使用染料之喷墨方法中,喷墨穩定性一般 良好’且墨水排放狀態可藉由執行擦栻或清洗而輕易復 原’甚至當因墨水黏度增加造成喷嘴堵塞時也是如此。 在所述情況下,已考慮使用一種染料作為染料(參見 例如JP-Α第6-75375號)。然而,含有染料之可固化組成 物最近出現以下問題。 (1) 與顏料相比’染料一般呈現較差耐光性及耐熱 性。詳言之,染料之光學性質可能因IT〇 (氧化銦錫)濺 鍍期間的高溫而改變,氧化銦錫常用作液晶顯示器(LCD) 或平板顯示器(FPD)之電極。 (2) 因為染料傾向於抑制自由基聚合反應,所以難以 藉由使用自由基聚合反應作為固化手段之系統設計可固化 著色組成物。 (3) 由於普通染料在鹼性水溶液或有機溶劑(在下文 中亦簡稱為溶劑)中具有低溶解度,所以難以獲得具有所 要光譜之可固化組成物。 ⑷因為祕常與可固化著色組祕巾的其他组分相 互作用,所以難以調整固化部分或未固化部分之溶解度(顯 影性(developability ))。 (5)當染料具有低莫耳吸光係數(ε)時,必須添加 大量染料且必須減少可ϋ化著色組成物巾其他組分之量, 諸如可聚合化合物(單體)、黏合劑、光聚合引發劑或其類 似物之量。因此,組成物之可固化性、固化後之耐執性或 固化或未固化部分之顯影性可能降低。 一 6 201139566 由於此等問題’所以難以使用染料形成用於彩色濾鏡 之可呈現高解析度、優異薄膜成形能力及優異穩固性的著 色圖案。 另外’因為固態影像感測器之彩色濾鏡必須成形為薄 膜(例如達到1微米或小於1微米之厚度),所以必須在可 固化組成物中添加大量染料,由此誇大如上所提及之問題。 就所述問題而言,已提出選擇引發劑類型或增加引發 劑之量的多種方法(參見例如Jp_A第2〇〇5_316〇12號)。 已提出一種製造彩色濾鏡之方法,其中在加熱載體的 同時使形成於載體上之著色圖案曝光以引起聚合反應,同 時提而曝光溫度以增加系統中之聚合比率(參見例如曰本 專利第3309514號)。 ^ 已提出一種製造彩色濾鏡之方法,其中彩色濾鏡在顯 影與熱處理之間曝光,藉此抑制彩色濾鏡之變形(參見例 如 JP-A 第 2006-258916 號)。 已研究使用二吡咯亞甲基染料的可固化著色組成物 及染料化合物(鑒於其適用於彩色濾鏡之光譜性質)(參見 例如 JP-A 第 2008-292970 號)〇 " 為了克服彩色濾鏡在製造期間昇華之缺點,已提出一 種彩色it鏡,其包含分子中具有三苯甲烧染料的聚合物作 為染料(參見例如曰本專利第3736221號)。 除了上述問題之外,用於彩色濾鏡之含染料著色組成 物具有染料所特有的以下問題。 (6)施加不同顏色期間的染料滲透 201139566 田由使用木枓的者色組成物形成 渗入先前已成形的不同顏色圖牵h麻、圆騎木枓易 色兄人 川顔色圖案(或層)中,由此引起顏 (7)鹼性顯影期間的染料溶離 在使用染料之著色組成物中,必須添加大量毕料且因 有利於光微影性質之組分的含量相對減少。因此,著 =成=敏=下降且圖案易在曝露於少量光之區域中 脫洛。另外,祕生有缺_圖案成形,諸如赚性顯影 期間^料溶離科能獲得圖案之所要雜絲色密度。 ⑴由於熱處理造成的熱擴散(顏(c〇i〇r transfer)) 1使㈣料的著色組祕巾,當錢絲之後執行熱 理時,在鄰近像素之間或在鄰近層之間易發生顏色轉 移。顏色轉移可引起顏色混合。 除了上述問題之外,存在如下所述的另一問題。 (9)顯影之後的顯影殘餘物(Devd〇pment代.〇 (殘留於載體或不同顏色之層上的顯影殘基) 顯影殘餘物可殘留於載體上或先前已成形的不同顏 色之圖案(或層)_L。在任-情況中,顯影殘餘物可引起 顏色混合。 在問題⑷至(9)中,尤其問題⑷、⑴及⑼ 傾向於成為顏色混合之原因,其可顯著抑制敏感度之改 良,敏感度之改良近年來為固態影像感測器所需要。 JP-A第2008-292970號揭露源自二吡咯亞甲基染料所 8 201139566 • - r -- 特有的光吸收性質之光譜特性。然而’Jp-A第2008-292970 號未提及諸如以下問題:鹼性顯影期間染料之溶離、染料 之滲透、因熱處理造成的染料之熱擴散(顏色轉移)或殘 留顯影殘餘物。 曰本專利第3736221號揭露由包含三苯甲烷染料的聚 合物之特性所產生的抑制昇華之作用。然而,日本專利第 3736221號未提及諸如以下問題:鹼性顯影期間染料之溶 離、染料之滲透、因熱處理造成的染料之熱擴散(顏色轉 移)或形成顯影殘餘物。 【發明内容】 本發明已考慮到所述情況,且旨在實現以下目標。 確切而言,本發明旨在提供一種可形成著色膜之著色 組成物’其中鹼性顯影期間的染料溶離得到抑制,染料滲 得到抑制,因熱處理造成的染料之熱擴散(顏色轉移) 知·到抑制且顯影殘餘物形成得到抑制。 本毛明亦旨在提供能夠形成著色像素之噴墨用墨 水,所述著色像素呈現優異耐熱性及優異排墨穩定性。 胃此外,本發明旨在提供一種彩色濾鏡,其中染料之滲 d到抑制’因熱處理造成的染料之熱擴散(顏色轉移) 抑制’且因顯影殘基造成的彥員色混合得到抑制,所述 么/f鏡呈現優異耐m造彩色絲之方法;具有彩 '思兄之固態影像感測器;及顯示裝置。 本發明者已對二°比°各亞曱基染料化合物進行研究,真 201139566 =此發現”料製成具有至少—種特定 時’諸如染料渗人不同顏色之展+歸姑|之夕聚體 溶離、因熱處理造成的熱擴散θ(顏^移染料之 留的顯影殘餘物問題可得到抑制1 .’、影之後殘 此外,本發明者已發現當 量分佈(分散度)·’除了特定分子量之外 =同顏色之層中、驗性顯影期間染料之溶離因 邊成的熱擴散(顏色轉移)及顯影之 & 問題可得義著_。 H该餘物 而且,本發明者已發現當其他類型之染料化合物之分 子量及分散度賴整而在相畴定範_時,可實現相似 作用。 雖然JP-A第2008-292970號揭露染料多聚體(在其分 子中具有二苯曱烷染料之聚合物),但未提及本發明所提出 之問題。因此,由第2008-292970號之教示不可能找 到解決如上所提及之問題的方法。 以下為用於解決本發明所提出之問題的特定實施 例。然而,本發明不限於此等特定實施例。 <1> 一種著色組成物,其包括具有鹼溶性基團 (alkali-soluble group)之染料多聚體作為染料,所述染料 多聚體之重量平均分子量(Mw)為5,〇〇〇至2〇,〇〇〇且分 散度(重量平均分子量(Mw) /數目平均分子量(Μη)) 為 1.00 至 2.50。 <2>如<1>所述之著色組成物,更包括可聚合化合 201139566 -—· - *— 物、聚合引發劑及溶劑。 <3>如<1>或<2>所述之著色組成物 聚《•有㈣料/公克幻錢料/公紅雜= value) ° i^九二ί二+任1所述之著色組成物,其中所 體^括由以下式(A)、式W或式⑹表 早7°中之至少—者’或為由下式⑼表示之染
式(Α) 芙圍,ι中J·在式(Α).中’ XA1表示藉由聚合形成的鍵聯 二矣—瓜二foup);LA1表示單鍵或二價鍵聯基團;染 3=料化合物移除數量為1個氫原子至㈣ 個虱原子陳-❹減料獲 藉由聚合形成的鍵聯基團;= 核基’X表不 啊卷圏·L表不早鍵或二價鍵聯基團; 鐘之整數;且染料與1^2可藉由共價鍵、離子 鍵或配位鍵中之任一者彼此連接; 201139566 -x B1 ίΒ1 A_.~^ 料— LB2-X' B2 式(B) nil 其中,在式(B)中,XB1表示藉由聚合形成的鍵聯基 團;LB1表示單鍵或二價鍵聯基團;A表示能夠藉由離子鍵 或配位鍵鍵結至染料之基團;染料表示具有能夠藉由離子 鍵或配位鍵鍵結至A之基團的染料化合物,或藉由自染料 化合物移除數量為1個氫原子至m個氫原子之任一或多個 氫原子獲得的染料殘基;XB2表示藉由聚合形成的鍵聯基 團;LB2表示單鍵或二價鍵聯基團;m表示0至3之整數; 且染料與LB2可藉由共價鍵、離子鍵或配位鍵中之任一者 被此連接, *--染料一LC1--* 式(c) 其中,在式(C)中,Lel表示單鍵或二價鍵聯基團; 且染料表示藉由自染料化合物移除任何兩個氫原子獲得的 染料殘基; 12 01201139566 式⑼ f染料j 其中,在式(D)中,LD1表示m價鍵聯基團;m表 示2至100之整數;且染料表示藉由自染料化合物移除任 一個氫原子獲得的染料殘基。 <5> -種自如<1〉至<4>中任一項所述之著色組成物 形成的彩色濾鏡。 ♦ -種包括如<i>至<4>中任一項所述之著色組成 物的喷墨用墨水。 <7> —種製造彩色濾鏡之方法,所述方法包括. 將如=> 至<4〉中任-項所述之著色組成物施加 體上以形成著色層; # 經由光罩使著色層曝光;及 使曝光之著色層顯影以形成著色圖案。 <8> 一種製造彩色渡鏡之方法,所述方法包括· ,供具有由隔板所界定之壓下部分的载體 藉由喷墨將如<6>所述之喷累 部分上’藉此形成彩色滤鏡之著·;^水液滴施加於壓下 器。種匕括如<5>所述之彩色據鏡之固態影像感測 叙顯示裝置。 根據本發明,可提供一種 物,其中驗性顯影_㈣料膜之著色組成 抑制,染料渗透得 13 201139566 到抑制’因熱處理造成的染料之熱擴散(顏色轉移)得到 抑制且顯影殘餘物形成得到抑制。 根據本發明,亦可提供能夠形成著色像素的喷墨用黑 水’所述著色像素呈現優異耐熱性及優異排墨穩定性。t 此外’根據本發明,可提供一種彩色濾鏡,其中染料 之滲透得到抑制,因熱處理造成的染料之熱擴散(顏色轉 移)得到抑制,且因顯影殘餘物造成的顏色混合得到抑制, 所述彩色濾鏡呈現優異对熱性;製造彩色濾鏡之方法;具 有彩色濾鏡之固態影像感測器;及顯示裝置。 " 【實施方式】 在下文中,本發明之著色組成物、喷墨用墨水、彩色 濾鏡及製造彩色濾鏡之方法以及固態影像感測器與顯^ Ϊ的詳情將參考本發明之代表性例示性實施例來描述 而,本發明不限於此等實施例。 w <著色組成物> 本發明之著色組成物含有具有鹼溶性基團之染 聚體作為染料,所述染料多聚體之重量平均分子量% 為5,000至20,_且分散度(重量平均分子量(μ : 目平均分子Μη))為l.oo至2 5〇(在下文中 定染料多聚體,,)。 為特 在下文中,分散度(重量平均分子量(Mw) 均分子量(Μη))紐稱為“分散度(Mw/Mn),,。 當具有上述構型之著色組成物用於形成著色膜時,驗 201139566 w v γ喜* 性顯影期間^料溶解、染料之滲人、因 料之熱擴散(聽轉移)及齡彡紐物之 ^^ 此外,本發明之著色組成物能夠形成具有m (耐熱性及耐光性)及優異儲存穩定性之著色膜。‘ 鑒於此等原因,本發明之著色組成 法或喷墨法製紗色魏。 自有效麟本伽之作用的酿來看,著色M成物 佳為含有敎練乡㈣及触織性化合物之負型 性作用)或正型(正性作用;)著色感光性組成物。、 自尤其有效發揮本發明之作用的觀點來看,著色組 物較佳為含有做純多聚體、聚合彳丨發劑(其為輕射敏 感性化合物)、可聚合單體及溶劑之負型著色感光性虹成 (可固化著色組成物)。 本發明之著色組成物之另一形式可為例如含有特定 染料多聚體、及溶劑與可聚合化合物中之至少一者的 用墨水。 、 藉由使用喷墨用墨水,可形成具有優異耐熱性之著色 像素,且可改良喷射穩定性。 在下文令,首先描述特定染料多聚體。 〈特定染料多聚體> 本發明使用的特定染料多聚體為重量平均分子量 (MW)為 5,000 至 20,000 且分散度(Mw/Mn)為 1 〇〇 至 2.50且含有鹼溶性基團之染料多聚體。 藉由滿足上述關係’由本發明之著色組成物形成的著 15 201139566 色膜可在抑制以下方面實現改良:鹼性顯影期間的染料溶 離’染料滲入,因熱處理造成的染料之熱擴散(顏色轉移) 及顯影殘餘物形成。 當著色組成物形成著色膜時,若重量平均分子量 (Mw)小於5,000,則會抵制因熱處理造成的染料之熱擴 散(顏色轉移),染料滲入,耐鹼溶性(resistance to alkali dissolution)及耐溶劑性。 若重量平均分子量高於20,000,則會尤其不利地影響 顯影殘餘物之形成。 重量平均分子量必須為5,000至20,000’較佳為5,0〇〇 至16,000 ’且更佳為6 〇〇〇至12,〇〇〇。 此外,當著色組成物形成著色膜時,若分散度 (Mw/Mn)高於2.50,則其會不利地影響因熱處理造成的 染料之熱擴散(顏色轉移),染料滲入,耐鹼溶性及耐溶劑 性。 分散度(Mw/Mn)必須為1.00至2.50,較佳為1〇〇 至2.20,且更佳為l.oo至2.00。 重量平均分子量及分子量分佈用藉由凝膠渗透層析 (gel permeation chromatography ; GPC )法,用量測裝置(商 標名:HLC-8220GPC,顯影溶劑:NMP,偵測:RI,基於 聚苯乙烯轉化值,由Tosoh Corporation製造)量測的值表 示0 在本發明中’用於將染料多聚體之重量平均分子量 (Mw)調整為5,000至20,000之範圍的手段之實例包含調 201139566 1聚σ引發劑之罝或鏈轉移劑之量的手段或在染料多聚體 合成期間調整反應溫度之手段。 計 内 計 内 詳σ之以了t合染料單體及另一可聚合單體之總量 聚σ引叙劑之里較佳為在2莫耳%至3〇莫耳%之範圍 且更佳為在2莫耳%至2〇莫耳%之範圍内。 此外’以可聚合染料單體及另—可聚合單體之總量 鏈轉移劑之1較佳為在i莫耳%至2〇莫耳%之範圍 且更佳為在2莫耳%至15莫耳%之範圍内。 、雖ΛΛ:反應度視欲用聚合引發劑之類型而變化,但反 較佳為調整為某—溫度,在所述溫度下聚合引發劑 在Μ分鐘至l2G分軸之半衰期。舉例而言,當 01 (商標名’由Wako pure Chemical Ind她ies有限公司 j)用作聚合引發劑時,反應溫度較佳為在峨至赃 之範圍内’且更佳為在7〇。(:至85t之範圍内。 此外,在本發明中,用於將染料多聚體之 整為⑽S2.5Q之範_手段之實例可為藉 由改交再沈澱溶#|之_或量來罐分散度之手段。 =言之’難為選擇欲使用之可聚合染料單
=再沈聽劑。料,更佳選擇對祕多㈣ Z ==選擇合適的容劑能夠降低可聚合染料單‘ 聚體之Γ0’且亦能夠選擇性排除在染料多 强二里刀+具有較低分子量的染料多聚體。因 卢方= 提及之合適溶劑在降低染料多聚體之分散 又方面尤”有效。雖然視可聚合染料單體之類型而定,但 17 201139566 車乂佳為使用低級醇(例如曱醉、乙龄及異丙醇)、乙腈及1 類似物。兩種或兩種以上溶劑之組合亦較佳。 此外,再沈澱溶劑之量較佳為染料多聚體之聚合反應 溶液(或當重複再沈澱時染料多聚體之溶液)之量(以質 量計)的1至100倍,更佳2至50倍。 此外’染料多聚體之聚合反應溶液(或當重複再沈搬 時染料多聚體溶液)更佳以至i倍量(以質量計)的 再沈澱溶劑稀釋。以此方式,可有效移除可聚合染料單體 且降低分散度。 此外’重複再沈澱過程較佳亦為調整分散度之手段。 在此情況下,可在相同條件或不同條件下重複再沈澱。 夕本說明書中之“染料多聚體”指的是具有染料架構 之多聚體,其最大吸收波長在400奈米至780奈米之範圍 内,且其不受特別限制,只要最大吸收波長在上述特定範 圍内即可。 染料架構之實例較佳為包含單次曱基、二次曱基、三 二^:基、花青、部花青、二氰基苯乙烯基、二苯基曱烷、 三苯基曱烷、咕噸(xanthene)、芳酸菁(squarylimn)、喹 酞酮、單偶氮、雙偶氮(bisazo)、二偶氮(disazo)、三偶 氮(trisazo)、喹酞酮、蒽醌、蒽吡啶酮、茈、二酮基吡咯 並吼P各、異啊琳、醜菁、f亞胺、二。惡嗓及二吼洛亞曱 基染料架構、及其金屬錯合物。 在本說明書中’最大吸收波長為使用紫外線-可見光 (%)刀光光度計(商標名:UV3100,由Shimadzu 201139566
Corporation製造)在乙酸乙酯溶液(濃度:ΐχΐ〇_6莫耳/ 么升’光授長度.10毫米)巾量測的吸收光譜值。 本發明之染料多聚體具有鹼溶性基團。 ,驗溶性基團之實例包含縣、膦酸基及績酸基。其中 幾基較佳。 自適用於光《彡法(賴贱)之觀 值較佳為Μ毫莫耳/公克至3.0毫莫猶 0 7毫毫莫耳/公克至2.5毫莫耳/公克,且尤佳為 0.7耄莫耳/公克至2·〇毫莫耳/公克。 體、寡本聚發:及之聚特合定:料多一 ^ 至二:==成由例一方法⑴ 於此描述。^秘万心成。然而,本發明不限 =去(1).藉由均聚反應合成可聚合 法 聚合=體可的為二由均:可反二^ 團引入染料多聚體中來合成其之方J合::應將驗溶性基 藉由可聚合染料單體(可具有或可=染料多聚體已 均聚反應合成。 、有鹼溶性基團)之 -單C藉由至少一個可聚合染料單體盘另-可聚 此方法可為使用可聚合染料料早體之方法 溶性基團之單體㈣法;或可為少—種具有驗 田t合物反應將鹼溶性 201139566 ^團引入*料多聚體中的方法,所述染料多聚體 ^-種可料賴频與至少-健他可聚合*體: 單體)之共聚合反應合成。 方法(3):藉由聚合物反應將染料結構(染料 引入聚合物化合物中來合成可聚合染料單體之方法土 此方法可為經由聚合物反應將染料結構(染 ,入具有驗溶性基團之聚合物化合物中的方法,或為^由 聚合物反應將染料結構(染料殘基)引入聚合物化合物(可 具有或可不具有驗溶性基團)中的方法。 方法(4):經由鍵聯鏈(linking Chain)將兩種或兩種 以上染料結構(染料殘基)彼此連接的方法 此方法可為經由具有鹼溶性基團之鍵聯鏈將兩種或 1種以上染料結構(染料殘基)彼此連接之方法;經由鍵 ^將兩種或兩種以上染料結構(染料殘基)與具有驗溶 土團之結構單元彼此連接之方法;或可為經由鍵聯鏈將 ^種或兩種以上染料結構(祕殘基)彼此連接且隨後將 驗溶性基®狀所得彳b合物巾的紐。 本·^明之特技料乡聚體據為絲物絲合物,且 ^藉由方法⑴或方法⑺獲得的寡聚物或聚合物。 m本發明中的染料多聚體經由共聚合反應(方法 、、九M _ ’共聚單體不受特別限制,只要其可與可聚合 染料單體共聚合即可。 酯 /、聚單體之實例包含苯乙烯化合物、紐單體、其 酿胺、醯亞胺或酸針、及乙烯基化合物。 20 201139566 苯乙稀化合物之實例包含苯乙烯、α-曱基苯乙稀、經 基苯乙烯、對氣曱基苯乙烯及間氯曱基笨乙烯。 α,β-不飽和叛酸之實例包含丙烯酸、曱基丙稀酸、順 丁烯二酸、反丁稀二酸、衣康酸(itaconic acid)、檸康暖 (citraconic acid)、曱基反丁稀二酸及1-丁炔-2,3,4-三曱酸。 不飽和叛酸酯之實例包含α,β-不飽和叛酸之甲酯、乙 醋、2-經乙醋、丙醋、丁醋、辛醋、十二烧g旨、2,2,6,6-四 曱基-4-哌啶酯、1,2,2,6,6-五曱基-4-哌啶酯及2-[3-(2-苯並 三唑基)-4-羥基苯基]乙酯。 不飽和羧酸之醯胺之實例包含α,β-不飽和羧酸之曱基 醯胺、二曱基醯胺、乙基醯胺、二乙基醯胺、丙基醯胺、 二丙基醯胺、丁基醯胺、二丁基醯胺、己基醯胺、辛基醯 胺及苯基醯胺。 不飽和羧酸之醯亞胺之實例包含順丁烯二醯亞胺、衣 康酸醯亞胺、N-丁基順丁烯二醯亞胺、n-辛基順丁烯二醯 亞胺及Ν·苯基順丁烯二醯亞胺。 乙烯基化合物之實例包含乙酸乙烯酯、Ν-乙烯基咔唑 及Ν-乙烯基π比υ各σ定酮。 雖然可聚合染料單體相對於共聚單體之共聚比 聚合染料單體之類型*變化,但共聚單體之量卿於⑽ 公克可聚合染料單體較佳為5公克至1〇,〇〇〇公克, 5公克至1,000公克,且尤佳為5公克至丨⑻公克。 本發明使用的“具有鹼溶性基團之染料多聚體,,較 佳為具有驗溶性基團之㈣多聚體,所述染料多聚體具^ 21 201139566 由以下式(A)、式(B)及式(c)表示的結構單元中之 至少-者;或具有驗溶性基團且由式⑼表 聚體。 (由式(A)表示之結構單元) *--^XA1-
j_A1
I 染料 甘其t/在式中’ XA1表示藉由聚合形成的鍵聯 基團;L表示單鍵或二價鍵聯基團;㈣表示藉由自染 料化合物移除數量為1個氫原子至(1+m)個氫原子中的 任一或多個氫原子獲得的染料殘基;χΑ2表示藉由聚合形 成的鍵聯基團;LA2表示單鍵或二價鍵聯基團;m表示〇 至3之整數;且染料與I/2可藉由共價鍵、離子鍵或配位 鍵中之任一者彼此連接; 在式(A)中,XA1與XA2各自獨立地表示藉由聚合形 成的鍵聯基團’亦即形成對應於藉由聚合反應形成之主鏈 之重複單元的一部分。由兩個符號*指示之部分為重複單 元。 xA1及xA2之貫例各自獨立地包含藉由經取代或未經 取代之不飽和伸乙基之聚合反應形成的鍵聯基團及藉由環 狀醚之開環聚合反應形成的鍵聯基團,且藉由不飽和伸乙 22 201139566 基之聚合反應形成的鍵聯基團較佳。鍵聯基團之特定實例 包含以下基團,但本發明之藉由聚合反應形成的鍵聯基團 不限於此。 在(X-1)至(X-15)中,*表示欲連接至LA1或La2 之部分。
在式(A)中,LA1及LA2各自獨立地表示單鍵或二價 23 201139566 鍵聯基團。LA1及lA2之實例各自獨立地包含 未經取代之直鏈、分支鏈或環狀伸烧 子之經取代或未經取代之
Cbdto、,代或未經取代之雜環鍵聯基團、 下六、m 矣-、视-、_C(=〇>、so_、_s〇2-、由 由下式m类-式C )表不之鍵聯基團、 團連接而形成的_基團(例如雕)^個基 發明價簡基®不受制限制,只要可發揮本 ♦
C〇〇 (R\
式(3) 式(2) 式(4) 雜式!至(4)中,R2表示氣原子、烧基、芳基或 '展土 表示虱原子或取代基。k表示〇至4之整數。 在式(2)至式(4)中,*表示欲鍵結至式(1)中之_c(r1>cH2 基團的位點,且**表示欲鍵結至式⑴中之L2或染料(當 n=0時)的位點。 在式(A)中,m表示〇至3之整數。當瓜表示2或 24 201139566 2以上時,兩個或兩個以上之χΑ2可彼此相同或不同。類 似地,當m表示2或2以上時,兩個或兩個以上之lA2可 彼此相同或不同。 m較佳為表示〇至2之整數,更佳為Q或丨,且尤佳 為0 〇 在式(A) _,染料表示藉由自染料化合物移 為Η固氫原子至(1+m)個氫原子之任—或多個氫原^ 得的染料殘基。 & 染料較佳為表示藉由自任何染料化合物移除數量為j 個氫原子至(l+m)個氫原子之—或多個氫原子所得的染 料殘f",所述任何染料化合物是由下列所構成的族群中選 .單-人曱基染料、二次甲基染料、三次曱基染料、花青 ;染料2花青染料'二氰基苯乙稀基染料、二苯基甲燒二 笨基曱烷染料、咕噸染料、芳酸箐染料、喹酞酮染 =、單偶氮染料、雙偶氮染料、二偶氮染料、三偶氮染料 染料、蒽醌染料、蒽吡啶酮染料、茈染料、二酮基 一咯並吡咯染料、異吲哚啉染料、酞菁染料、甲亞胺染料、 -惡嗪染料及二吡咯亞甲基染料。 配位在式(Α)中,染料與1/2可藉由共價鍵、離子鍵或 接。鍵中之任一者連接,但較佳為經由離子鍵或配位鍵連 (由式(B)表示之結構單元) 25 201139566
式(B) m 中’ XB1表示藉由聚合形成的鍵聯基團; L表不單鏠或二價鍵聯基團;a表示能夠藉由離子鍵或配 位鍵鍵U轉之基團;染料表*具有能夠藉⑽子鍵或 配位鍵鍵結i人之基_染料化合物,或藉由自染料化合 物移=數量為丨個氫原子至瓜個氫原子之任一或多個氮原 子得的^殘基;XB2表示#由聚合形成賴聯基團; 。表干早鍵或一知鍵聯基團;m表示〇至3之整數;且 染料與LB2可藉由共價鍵、離子鍵或配位鍵中之任一者彼 此連接; A1式」B)中之XB1、LB1及m分別具有與式(A)中之 XA1、LA1&m相同的定義’且較佳範圍亦相同。 式(B)中之χΒ2及LB2分別具有與式(A)中之χΑ2 及LA2相同的定義,且較佳範圍亦相同。 式(B)中由A表示之基團可為任何基團,只要其可 藉由離子鍵或配位鍵鍵結至染料即可,且能夠離子鍵結之 基團可為陰離子基團或陽離子基團。陰離子基團較佳為具 有12或小於12之pKa,更佳7或小於7之pKa,且更佳 5或小於5之pKa的陰離子基團,諸如羧基、二氧鱗基、 磺酸基、醯基磺醯胺基或磺醯亞胺基。陰離子基團可藉由 26 201139566 =子鍵或配位鍵鍵結染料中之Ma或雜環基,且 離子鍵鍵結至Ma。陰離子基曰 給出,但本發明不限於在下文中 席子、烧基、繼峨i謝,R表示氣
e * e ρ 0-^..0: ㊀ Ο σνρ-:ο· ΦQe 6 Θ
Rvc-tFl R / olvSMO Θ.Φo:s-”o R. Φ-Ν- os-δ
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R Jo"s"o ΘΓΝ-0S ΊΓΟ RV6IR e 'sos-”o 細兩,B)中由A表示之陽離子基團較佳為經取代或; 2其:之ΐ陽離子(例如經取代或未經取代之銨基團、1 ^ 全鑷基團、鏑·基團或鱗基團),尤佳為經取代. 27 201139566 銨基團。 在式(B)巾,m表示〇至3之整數。當阳表示2或 2以上時,兩個或兩個以上之χΒ2可彼此相同或不同。類 似地,當m表示2或2以上時,兩個或兩個以上之lB2可 彼此相同或不同。 m較佳為表示〇至2之整數,更佳為q或丨,且尤佳 為0 〇 式(B)中之染料表示染料化合物或藉由自染料化合 物移除數量為1個氫料至„!錢原子之任一或多個氮原 子獲得的_雜。純化合物之㈣包含如有關式(A) 中之染料的段落中所描述之染料化合物。 在式(B)中,染料與LB2可藉由共價鍵、離子鍵或 配位鍵中之任一者(藉由離子鍵或配位鍵)彼此鍵結。 (由式(C)表示之結構單元) *—-染料一LC1* 式(c) 其中二在式(C)中’ Lei表示單鍵或二價鍵聯基團; 且木料表不藉由自染料化合物移除任何兩個氫原子所得的 染料殘基。 在式(C)中,染料表示二價染料殘基。 染料較佳為藉由自染料化合物移除兩個氫原子獲得 28 201139566 的染料殘基,所述染料化合物是由下列所構成的族雜士、 出:單次甲基染料、二次曱基染料、三次甲基染料、从選 染料、部花青染料、二氰基苯乙烯基染料、二笨美甲=月 料、三笨基甲、=料、芳酸菁染料、‘: 料、單偶氮染料、雙偶氮=料、二偶氮染料、三偶氮染料、、 喹酞酮染料、蒽醌染料、蒽吡啶酮染料、茈染料、二^ 吡咯並吡咯染料、異吲哚啉染料、駄菁染料、甲亞胺染=基 二噁嗪染料及二吡咯亞曱基染料。 卞; 式(C)中之lC1具有與式(A)中之LA1相同的定義, 且較佳範圍亦相同。 (共聚合組分) 本發明之染料多聚體可僅由以式(A)、式(b)或式 (c)表示之結構單元形成(在此情況下,由式(A)、式(B) 或式(C)表示之結構單元中含有鹼溶性基團),或可由以 式(A)、式(B)及式(C)表示之結構單元中之至少一 者及另一結構單元形成(在此情況下,由式(A)、式(B) 及式(C)表示之結構單元中之至少一者與另一結構單元 之任一者或兩者含有驗溶性基團)。 除由式(A)、式(B)或式(c)表示之結構單元以 外的結構單元較佳為在其侧鏈上具有鹼溶性基圑(諸如羧 基、膦酸基或續酸基)之結構單元。 以下為除由式(A)、式(B)或式(C)表示之結構 單元以外的結構單元之特定實例,但本發明不限於此。 29 201139566 (H-l) (H-2) ch3 "CHg-C»·" I:. co2h -CH2-C-
C02H (H-3) CF3 —CHn^C— ·. 2 1 co2h (H-4) (H-5) h2c_ <〇Η —r CH 2- 6:- -CH^-C--
i〇2H i〇2H CHj-C-- (H-7)
! C02H-cU («:8)
.C〇2H —c—c— 。乂 H上0 ) ϊο2η (H-ll) ch3 (H-9) •C.—C-
'C02H (H-12) ch3 i2-c- 丨 co2h
(H-13) U —0Ηό~0- I OH ch3 -ch2-c- 60NH,
CH3 I *CH2~C (H-18) (H-16)
CH3 -CH9-C- /CH3 、义. (H-20) ch3 一
O^OH (H-21) ch3 -CH9-C- CH3 -ch2-c ‘丄 q v.i2,v —CH?-C- (由式(D)表示之染料多聚體) 30 201139566 染料)w式⑼ 在式(D)中,LD1表示m價鍵聯基團;m表示2至 〇〇之t數,且染料表示藉由自染料化合物移除任一個氫 原子獲得的染料殘基。 __ m較佳為表示2 i⑽,更絲示2至40,且尤佳表 示2至1〇。 田1η表不2時,由ld1表示之二價鍵聯基團之實例較 佳為^ 3具有1至3〇個碳原子之經取代或未經取代之直 鏈、分支鏈或環狀伸烷基(例如亞曱基、伸乙基、三亞曱 基伸丙基或伸丁基)、具有6至30個碳原子之經取代或 未、’王取代之伸^Γ基(例如伸苯基或萘基)、經取代或未經取 代之雜環鍵聯基團、_CH2=CH2_、_〇_、_s_、-NR_、_c(=〇)_、 -SO-、-s〇2_、及由兩個及兩個以上此等基團連接而形成的 鍵聯基團(例如_N(R)C(=0)…_oc(=0)_、C(=0)N(R)_、 -C(=0)0-或_N⑻C(=0)N(R)_)。R表示氫原子、燒基 基或雜環基。 m價鍵聯基團之實例(其十111為3或大於3)包含具 有經取代或未經取代之伸芳基之鍵聯基團(例如i,3,5_伸 苯基、1,2,4-伸苯基或1,4,5,8-萘基)、雜環鍵聯基團(例如 1,3,5-三嗪基)、伸烷基鍵聯基團或其類似基團作為中心母 核且經以上提及之二價鍵聯基團取代而形成。 式(D)中之染料具有與式(A)巾之染料相同的定 201139566 義,但式⑼中之染料限於單價殘基。 (由式Ο)表示之染料單體) 本發明之特定染料單體由下式 體之聚合反應獲得。染料單體亦較佳為==單
Ri染料一(L2)rt—(lV4=
-QH 2 式(l) 基。l/表示·^素原^、烷基2或芳 -c(=0)0-、由下式⑵表示之基團、由下^0)=2) 基團或由下式(4)表示之基團eL2表 ^ (3)表不之 及η各自獨立地表示〇或卜㈣基團° m 氣原子、減、芳基或雜^基r"表_料殘基^表示 且較==料具有與式⑷中之染料相同的定義, COO-*
S〇2—-N —% (R3)k 式⑷ (R3)k式(2) 00 Μ — (R3)k式(3) 在式⑵至式⑷中,R2表示氫原子、烧基、芳A 或雜環基。R3表示氫原子或取代基。k表示Q至4之整數土。 在式(2)至式(4)中,*表示欲鍵結至式⑴中之·c(r1)=cH2 32 201139566 基團的位點,且**表示欲鍵結至式(丨)中之L2或染料(當 n=〇時)的位點。 2亦即,由式(1)表示之染料單體為藉由將由 表示之可聚合基團引入染料化合物 中獲得的化合物。 此外’當m及η為〇時、C(R1)=CH2直接引入染料化 合物中。 在式(1)中’ R1表示氫原子、鹵素原子、烷基或芳 基。當R1表示烷基或芳基時,Ri可經取代或未經取代。 當R1表示烧基時’其較佳為經取代或未經取代之直 鏈、分支鏈或環狀烷基,更佳具有1至36個碳原子,且甚 至更佳具有1至6個碳原子。烧基之實例包含曱基、乙基、 丙基、丁基、辛基、異丙基及環己基。 當R表示芳基時,其較佳為經取代或未經取代之芳 基,更佳具有6至18個碳原子’甚至更佳具有6至14個, 且更佳具有6至12個碳原子。芳基之實例包含苯基及萘基。 當R1表示經取代烷基或經取代芳基時,取代基之實 例包含鹵素原子(例如氟、氣、溴或碘)、烷基(較佳為具 有1至24個碳原子,且更佳具有1至12個碳原子之院基', 例如甲基、乙基、丙基、丁基、異丙基、第三丁基、2乙 基己基、十二烧基、環丙基、環戊基、環己基或金剛烧基)、 芳基(較徒為具有6至24個碳原子,且更佳具有6 ^ 12 個碳原手之芳基,例如苯基或萘基)、雜環基(較佳為具有 1至24個破原子’且更佳具有1至12個碳原子之雜劈'某, 33 201139566 例如2-噻吩基、4-吼啶基、2-吱。南基、2_♦定基、卜比啶基、 2-苯並噻唑基、1-咪唑基、^吡唑基或笨並三唑小基)、矽 烷基(較佳為具有3至24個碳原子,且更佳具有3至12 個碳原子之矽烷基,例如三甲基矽烷基、三乙基矽烷基、 二丁基矽烷基、第三丁基二甲基矽烷基或第三己基二曱基 石夕院基)、經基、氰基、确基、續酸基、膦酸基、叛基、燒 氧基(較佳為具有1至24個碳原子,更佳具有1至12個 碳原子,且更佳具有1至6個碳原子之烷氧基,例如曱氧 基、乙氧基、1-丁氧基、2-丁氧基、異丙氧基、第三丁氧 基、十#二烧基氧基或環絲基’例如環絲基或環己氧 基)、芳氧基(較佳為具有6至24個碳原子,且更佳具有 6至12個碳原子之芳氧基’例如苯氧基< i蔡氧基)、雜 環氧基(較佳為具有1 JL 24個碳原子,且更佳具有i至 12個碳原子之雜環氧基,例如r苯基四唾·5_氧基或2_四 氫娘喃氧基)、魏A基(難為具有U24個碳原子, 且更佳具有1至12個碳原子之魏氧基,例如三曱基石夕燒 氧基魏氧基或二苯基甲基魏氧基)、 醯氧基(較佳為具有2至24個碳原子,且更佳罝有2至 個碳原子之醯氧基,例如乙醯氧基、特戊醯氧基、笨甲 醯氧基或十二醯氧基)、烧氧基基(較佳為具有2至 24個碳原子’更佳具有2至12個碳原子,且更佳具有2 氧基,例如乙氧基,炭氧基或第三 繼(例如環己_氧基)、 方氧基域基(較佳為具有7至%個碳原子且更佳具有 34 201139566 7至12個碳原子之芳氧基羰氧基,例如苯氧基羰氧基广 胺甲醯基氧基(較佳為具有1至24個碳原子,更佳具有1 至12個碳原子,且更佳具有丨至6個碳原子之胺甲醯基氧 基,例如N,N-二曱基胺甲醯基氧基、N_丁基胺甲醯基氧 基、N-苯基胺曱醯基氧基或队乙基善苯基胺甲醯基氧 基)、胺磺醯基氧基(較佳為具有1至24個碳原子,更佳 具有1至12個碳原子’且更佳具有丨至6個碳原子之胺磺 醯基氧基,例如N,N-二乙基胺磺醯基氧基或N_丙基胺磺 酿基氧基)、院基續醯基氧基(較佳為具有丨至24個碳原 子,更佳具有1至12個碳原子,且更佳具有丨至6個碳原 子之烷基磺醯基氧基,例如甲基磺醯基氧基、十六烷基磺 醯基氧基或環己基~醯基氧基)、芳基續醯基氧基(較佳為 具有6至24個碳原子,且更佳具有6至12個碳原子之芳 基磺醯基氧基,例如苯基磺醯基氧基)' 醯基(較佳為具有 1至24個碳原子,且更佳具有i至12個碳原子之醯基, 例如甲醯基、乙醯基、特戊醯基、苯曱醯基、十四醯基或 環己醯基), 烧氧幾基(較佳為具有2至24個碳原子,更佳具有2 至12個奴原子,且更佳為具有2至6個碳原子之烧氣截 基,例如曱氧減、乙氧、十八烧氧幾基或環己氧幾 基)、芳氧叛基(較佳為具有7至24個碳原子,且更佳為 具有7至12個奴原子之芳氧幾基,例如苯氧綠基)、胺^ 酿基(較佳為具有1至24個碳原子,且更佳為具有i至 12個碳原子之胺甲醯基,例如胺曱醯基、N,N-二^基胺曱 35 201139566 醯基、N-乙基-N-辛基胺曱醯基、ν,Ν-二丁基胺曱醯基、 Ν-丙基胺曱醯基、Ν-苯基胺曱醯基、Ν-甲基-Ν-苯基胺甲 醯基或Ν,Ν-一環己基胺甲醯基)、胺基(較佳為具有24個 或小於24個碳原子’且更佳為具有12個或小於12個碳原 子之胺基,例如胺基、甲胺基、Ν,Ν-二丁基胺基、四癸基 胺基、2-乙基己基胺基或環己基胺基)、苯胺基(較佳為具 有6至24個碳原子,且更佳為具有6至12個碳原子之苯 胺基,例如苯胺基或Ν-曱基苯胺基)、雜環胺基(較佳為 具有1至24個碳原子,且更佳為具有!至12個碳原子之 雜環胺基,例如4-吡啶基胺基)、羧醯胺基(carb〇namid〇) (較佳為具有2至24個碳原子,且更佳為具有2至12個碳 原子之敌醯胺基,例如乙醯胺基、苯曱醯胺基、十四醯胺 基、特戊醯胺基或環己醯胺基)、脲基(較佳為且右 乏 24個碳原子,且更佳為具有!至12個碳原子’^脲基,例 如脈基、N,N-一甲基脈基或N-苯基腺基)、醯亞胺基(較 佳為具有20個或小於20個碳原子,且更佳為具有^個或 小於12個奴原子之醯亞胺基,例如丁二醯亞胺基或ν一 鄰苯二醯亞胺基)、烷氧羰基胺基(較佳為具有2至24個 碳原子’且更佳為具有2至12個碳原子之烷氧羰基胺基, 例如曱氧羰基胺基、乙氧羰基胺基、第三丁氧羰基胺基、 十八烷氧羰基胺基或環己氧羰基胺基)、芳氧羰基^基>(較 佳為具有7至24個碳原子,且更佳為具有7至12個碳廣 子之芳氧羰基胺基,例如苯氧羰基胺基)、磺醯胺基(較德 具有1至24個碳原子’且更佳為具有!至12個碳原子之 36 201139566 m-- W Λ « ^ 磺醯胺基,例如^烷磺醯胺基、丁烷磺醯胺基、苯磺醯胺 基、十六烷磺醯胺基或環己烷磺醯胺基)、胺磺醯基胺基(較 佳為具有1至24個碳原子,且更佳為具有i至12個碳原 子之胺磺醯基胺基,例如N,N-二丙基胺磺醯基胺基或N_ 乙基-N-十二烧基胺磺醯基胺基)、偶氮基(較佳為具有j 至24個碳原子’且更佳為具有丨至12個碳原子之偶氮基, 例如苯偶氮基或3-吡唑基偶氮基)、烷硫基(較佳為具有i 至24個碳原子,且更佳為具有丨至12個碳原子之烷硫基, 例如曱硫基、乙硫基、辛硫基或環己硫基)、芳硫基(較佳 為具有6至24個碳原子,且更佳具有6至12個碳原子之 芳硫基’例如苯硫基)、雜環硫基(較佳為具有1至24個 石反原子,且更佳為具有1至12個碳原子之雜環硫基,例如 2-苯並噻唑基硫基、2·吡啶基硫基或^苯基四唑基硫基)、 烷基亞磺醯基(較佳為具有1至24個碳原子,且更佳為具 有1至12個奴原子之烧基亞續醯基,例如十二烧亞績醯 基), , 芳基亞磺醯基(較佳為具有6至24個碳原子,且更 佳為具有6至12個碳原子之芳基亞磺醯基,例如苯亞磺醯 基)、烷基績醯基(較佳為具有1至24個碳原子,且更佳 為具有1至12個碳原子之烷基磺醯基,例如曱磺醯基、乙 磺醯基、丙磺醯基、丁磺醯基、異丙磺醯基、2-乙基己基 %醯基、十六磺醯基、辛磺醯基或環己基磺醯基)、芳基磺 醯基(較佳為具有6至24個碳原子,且更佳為具有6 ^ I2個碳原子之芳基石黃醯基,例如苯俩基4卜蔡基石黃酿 37 201139566 基)、胺磺醯基(較佳為具有24個或小於24個碳原子,且 更佳為具有16個或小於16個碳原子之胺磺醯基,例如胺 續酿基、N,N-二丙基胺磺醯基、N-乙基-N-十二烷基胺續醯 基、N-乙基_N_苯胺磺醯基或N—環己基胺磺醯基)、磺酸 基、膦酿基(較佳為具有1至24個碳原子,且更佳為具有 1至12個碳原子之膦醯基,例如苯氧基膦醯基、辛氧基膦 醯基或苯基膦醯基)及膦醯基胺基(較佳為具有丨至24 個碳原子,且更佳為具有丨至12個碳原子之膦醯基胺基, 例如二乙氧基膦醯基胺基或二辛氧基膦醯基胺基)。 在以上提及之取代基中,函素原子、烷基、芳基、羥 基、磺酸基團、膦酸基團、羧酸基團、烷氧基、芳氧基、 烷氧基羰氧基、環烷基羰氧基、芳氧基羰氧基、胺曱醯基 氧基、胺磺醯基氧基、烷基磺醯基氧基、芳基磺醯基氧基、 醯基、烷氧羰基、芳氧羰基、胺甲醯基、羧醯胺基、醯亞 胺基、磺醯胺基、胺磺醯基胺基及胺磺醯基較佳;烷基、 芳基、羥基、磺酸基、膦酸基、羧酸基、烷氧基、芳氧基、 烷氧基羰氧基、芳氧基羰氧基、胺甲醯基氧基、胺磺醯基 氧基、烧基%醯基氧基、芳基績醯基氧基、醯基、烧氧数 基、芳氧羰基、胺f醯基、羧醯胺基、磺醯胺基、胺確醯 基胺基及胺續醯基更佳;羥基、續酸基團、膦酸基團、缓 酸基團、烷氧基、芳氧基、烷氧基羰氧基、芳氧基羰氧基、 胺甲醯基氧基、胺磺醯基氧基、烷基磺醯基氧基、芳基石黃 醯基氧基、醯基、烷氧羰基及芳氧羰基更佳;且羥基、磺 酸基團、羧酸基團、烷氧基、烷氧基羰氧基、胺甲醯基氧 38 201139566 基、胺雜基氧基、絲俩基氧基、喊魏氧裁基尤 其較佳。 在以上提及之尤其較佳取代基中,績酸基團、羧酸基 團、烷氧基、烷氧基羰氧基、烷基磺醯基氧基及烷氧羰基 更佳;雜基®、紐基團、絲基麟氧羰基更佳;且 磺酸基團、羧酸基團及烷氧基尤其較佳。 在式(1)中,R1較佳為表示氫原子、烷基或芳基, 尤佳表示虱原子或烧基。 在式(1)中,當由Rl表示之經取代烷基及經取代芳 基之取代基為可進-步經取代之基團時,可經取代之基團 可由一或多個如上所提及之可相同或不同之取代基取代。 在式⑴中 ’ L1 表示·Ν(Κ2)(:(=〇)_、_〇c(=〇)、 -C(=〇)N(R2>、-C(=〇)〇_、由下式⑴表示之基團、由下 式(3)表示之基_由下式⑷表示之基團。在此等式 中,R表示虱原子、烧基、芳基或雜環基。 在式(1) + ’由R2表示之絲、芳基及雜環基之實 例包含如上賴之絲、絲⑽環基作為由…表示之經 取代烧基及經取代芳基之取代基,且其較佳實施例亦相同。 】由R2表示之烧基、芳基及雜環基可經在上文關於由 R表示之取代基的段落中描述之取代基取代,且春此等芙 團經兩滅兩似上取代絲代時,崎取代^彼此才土目 同或不同。 39 201139566 中之L1表示。
式(2) R2 /=VC〇~N 式⑴
式(4) 严此處’ R表不氫原子、烧基、芳基或雜環基,r3表示 氫原子或取代基’且k表示G至4之整數。*表示欲鍵结至 式(1)中之-(:(111)==0¾的位點,且**表示欲鍵結至式〇) 中之L2或染料(當n=〇時)的位點。 R具有與式(1)中之R2相同的定義,且較佳實施例 亦相同。 R3表示氫原子或取代基。由R3表示之取代基之實例 包含上文對於由R1表示之經取代燒基及經取代芳基所述 之取代基’且較佳實施例亦相同。k表示〇、卜2、3或4。 當k表不2、3或4時,R3可彼此相同或不同。 3田由R3表示之取代基為可進一步經取代之基團時, 由R3表示之取代基可經一或多個如R1之取代基描述之取 弋土取代’且當由R3表示之取代基經兩個或兩個以上取代 基取代時’此等取代基可彼此相同或不同。 由合成觀點來看,L1較佳為表示-N(R2)C(=〇)-、 〇C(~〇)·、_C(=〇)N(R2)-或-C(=〇)〇-,更佳表示-〇C(=〇)_、 C(~〇)N(R2)-或-C(=0)0-,且更佳表示-C(=0)N(R2)-或 -C(=〇)〇、。 201139566 在下文中,將描述式(1)中之L2。 L2表不將L1或(當m=〇時)與染料連接 之二價鍵聯基團。 L2之實例較佳為包含伸烷基、伸芳烷基、伸芳基、 -0-、-C(=0)-、-〇C(=0)_、_oc卜〇)〇、〇s〇2、 -0C(=0雕,、罐,、娜50)c(=〇)、 -N(R50)C(=O)〇- > -N(R50)C(=〇)N(R^). , .N(R^)S〇2., -N(r5g)S〇2N(r51)_、_S_、_s_s_、_s〇_、_s〇2_、_s〇2N(R5〇)_ 及-so2o。兩個或兩個以上此等二價鍵聯基團可連接而形 成二價鍵聯基團。 R50及R51各自獨立地表示氫原子、烧基、芳基或雜環 基:由R50及R51表示之烧基、芳基及雜環基包含如由Rl 表示之取代基描述的絲、綠及雜環基,且較佳實施例 亦相同。R50及R51之烧基、芳基及雜環基可經Rl取代基 中所述之取代基取代’且當經兩個或㈣以上取代基取代 時,彼等取代基可與所有其他取代基相同或不同。 、當L2表示伸烷基、伸芳烧基或伸芳基時,此等基團經 取代或未經取代。當此等基團經取代時,取代基可為如r1 取代基中所述之取代基。當由L2表示之基團經兩個或兩個 以上取代基取代時,此等取代基可彼此相同或不同。 當L2表示伸烷基、伸芳烷基或伸芳基時,具有i至 η個碳原子之伸烧基、具有6 i 18個碳原子之伸芳院基 及具有6至18個碳原子之伸芳基較佳,具有丨至8個碳原 子之伸燒基、具有6至16個碳原子之料减及具有6 41 201139566 至12個碳原子之伸芳基更佳,且具有丨至6個碳原子之伸 烧基及具有6至12個碳原子之伸芳烷基尤佳。 L1與L2之組合較佳為以下實施例,其中Ll表示 -N(R2)C(=0)-、-〇C(=〇)-、_C(=0)N(R2)^ <(=〇)〇,且 L表示具有1至12個碳原子之伸院基、具有6至a個碳 原子之伸芳烷基、具有6至18個碳原子之伸芳基、具有2 至18個碳原子之烷基硫醚基、具有2至18個碳原子之烷 基羧醯胺基或具有2至18個碳原子之烷基胺基羰基;更佳 為以下實施例,其中L1表示-〇C(=〇)-、-C(=〇)N(R2)-或 -C(=0)0-,且L2表示具有1至8個碳原子之伸烷基、具有 6至16個碳原子之伸芳烷基、具有6至12個碳原子之伸 芳基、具有2至12個碳原子之烷基硫醚基、具有2至12 個碳原子之烷基羧醯胺基或具有2至12個碳原子之烷基胺 基羰基;且更佳為以下實施例,其中L1表示-C(=0)N(R2)-或-C(=0)〇-,且l2表示具有1至6個碳原子之伸烷基、具 有6至12個碳原子之伸芳烷基、具有2至6個碳原子之烷 基硫趟基、具有2至6個碳原子之烷基羧醯胺基或具有2 至6個碳原子之烷基胺基羰基。 以下為式(1 )中由表示之可 聚合基團之實例。然而,本發明不限於此等實例。 42 201139566
NH Ο
NH 〇·丄丫八 CH3 Ο
ch2
NH
VtH Ο =ch2 0;=^ • Λ h3c (染料殘基) 如上所述,式(A)、式(B)、式(C)、式(D)及式 (1)中之染料較佳為表示藉由自染料化合物移除一或多個 數量為1至(m+1)個氫原子獲得的染料殘基,所述染料 化合物是由下列所構成的族群中選出:單次曱基染料、二 次曱基染料、三次曱基染料、花青染料、部花青染料、二 氰基苯乙烯基染料、二苯基曱烷染料、三苯基曱烷染料、 咕噸染料、芳酸菁染料、喹酞酮染料、單偶氮染料、雙偶 氮染料、二偶氮染料、三偶氮染料、喹酞酮染料、蒽醌染 43 201139566 料、蒽吡啶酮染料、茈染料、二酮基吡咯並吡咯染料、異 吲哚啉染料、酞菁染料、曱亞胺染料、二噁嗪染料及二吡 咯亞曱基染料。 詳言之,二吡咯亞曱基染料之實例包含由下式(5) 或下式(6)表示之二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物。 然而,本發明不限於此。 二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物由式(5)表示 R6 R10 R7
在式(5)中,R4至R9各自獨立地表示氩原子或取代 基,且R1Q表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基。 Ma表示金屬原子或金屬化合物。X1表示能夠鍵結至Ma 之基團,X2表示中和Ma之電荷的基圑,且X1與X2可彼 此鍵結以與Ma —起形成5、6或7員環。此外,由式(5) 表示之二吡咯亞曱基金屬錯合物化合物包含互變異構體。 由式(5)表示之二吡咯亞曱基金屬錯合物化合物中 移除一或兩個氫原子以形成染料殘基的位點不受特別限 44 201139566 制9。然而,由合成適合性之觀點來看,位點較佳為r4至 R9中之一或兩者,更佳為及4、]16、117及]19中之一 且更,為R4及Μ中之一或兩者。 一者 一當具有鹼溶性基團之染料單體或結構單元用於將鹼 溶性基團!|人本發明之特定染料多聚體中時,由式⑸表 不2之二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物中之R4至R10、X1及 X2所表示之-❹個取代基可具有齡性基團。在此 代基中’ R至R9及X1中之任一者較佳,r4、R6、R R9中之任-者更佳,且R4及R9中之任-者更佳。 由式(5)表示之二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物 具有除驗紐基_外之官,只要本發明之 弱即可。 ⑴ I ,Lf、R之實例包含齒素原子(例如敦、氯或漠)、烷 :山(較佳為具有1至48個碳原子,且更佳為具有1至24 個碳原子之直鏈、分支鏈或環狀絲,例如甲基、乙某、 、第三丁基、戊基、己基、庚基:辛 “其丨二、十一燒基、十六烧基、環、環戊基、 ϋ 土個Λ ί μ金剛炫基)、烯基(較佳為具有2 如乙烯广其了更佳具有2至18個碳原子之烯基,例 如乙烯基、方基或3-丁稀小基)、芳基(較佳為具有6至 48個碳原子,且更佳a且右6 5 w 八 如減钱以μ為具有 個碳原子之芳基,例 如本基或秦基)、雜環基(較佳為具有 且更佳為具有1至18個❹子之雜〜個厌原千 4-峨、2-规、之f ,例如2♦分基、 厶密疋基、L吡啶基、2-苯並噻唑、 45 201139566 1-咪唾、1_咣唑或笨並三唑小基)、矽烷基(較佳為具有3 至38個碳原子,且更佳為具有3至18個碳原子之矽烷基, 例如三曱基矽烷基、三乙基矽烷基、三丁基矽烷基、第三 丁基二曱基矽烷基或第三己基二曱基矽烷基)、羥基、氰 基、硝基、烷氧基(較佳為具有1至48個碳原子,且更佳 為具有1至24個碳原子之烷氧基’例如甲氧基、乙氧基、 1-丁氧基、2-丁氧基、異丙氧基、第三丁氧基、十二烷基 氧基或環烷氧基,例如環戊氧基或環己氧基)、芳氧基(較 佳為具有6至48個碳原子,且更佳為具有6至24個碳原 子之芳氧基,例如苯氧基或μ萘氧基)、雜環氧基(較佳 為具有1至32個碳原子,且更佳為具有!至18個碳原子 之雜壤氧基’例如丨_笨基四唑_5_氧基或2_四氫哌喃氧 基)、矽烷氧基(較佳為具有丨至32個碳原子,且更佳為 具f 1至18個碳原子之矽烷氧基,例如三曱基矽烷氧基、 第三丁基二曱基矽烷氧基或二苯基曱基矽烷氧基)、醯氧基 (較佳為具有2至48個碳肝,且更佳為具有2至24個碳 原子之醯氧基’例如乙醯氧基、特戊酿氧基、苯甲醯氧基 或十-醯氧基)、烧氧基幾氧基(較佳為具有2至48個碳 原子,且更佳為具有2至24個碳原子之燒氧基M氧基,例 =士氧基魏基、第三T氧基数氧基或環烧氧基羧氧基( 如紅氧紐氧基))、芳氧基幾氧基(較佳為具有7至32 :石反原子’且更佳為具有7至24個碳原子之芳氧基幾氧 基,例如笨氧基魏氧基)、胺曱酿基氧基(較佳為具有i 至48個碳原子’且更佳為具有i至以個碳原子之胺甲酿 46 201139566 w>v> j. / 基氧基,1如N,N-二甲基胺甲醯基氧基、N_丁基胺曱醯基 氧基、N_苯基胺曱醯基氧基或N-乙基苯基胺曱醯基氧 基)、胺磺醯基氧基(較佳為具有 1至32個碳原子,且更 佳為具有1至24個碳原子之胺磺醯基氧基,例如ν,ν—二 乙基胺磺醯基氧基或N-丙基胺磺醯基氧基)、烷基磺醯基 氧基(較佳為具有1至38個碳原子,且更佳為具有1至 24個碳原子之烷基磺醯基氧基,例如曱基磺醯基氧基、十 六烷基磺醯基氡基或環己基磺醯基氧基), 芳基續醯基氧基(較佳為具有6至 3 2個碳原子,且 更佳為具有6至24個碳原子之芳基磺醯基氧基,例如苯基 續醯基氧基)、醯基(較佳為具有1至48個碳原子,且更 佳為具有1至24個碳原子之醯基,例如曱醯基、乙醯基、 特戊醯基、本曱酿基、十四醯基或環己酿基)、烧氧幾基(較 佳為具有2至48個碳原子,且更佳為具有2至24個碳原 子之烷氧羰基,例如曱氧羰基、乙氧羰基、十八烷氧羰基、 環己氧羰基或2,6-二-第三丁基-4-曱基環己氧羰基)、芳氧 Μ基(較佳為具有7至32個碳原子,且更佳為具有7至 24個礙原子之芳氧羰基,例如苯氧羰基)、胺曱醯基(較 佳為具有1至48個碳原子,且更佳為具有1至24個碳原 子之胺曱醯基,例如胺曱醯基、N,N_二乙基胺曱醯基、N_ 乙基-N-辛基胺甲醯基、N,N_二丁基胺曱醯基、义丙基胺甲 醯基、N-苯基胺曱醯基、N_甲基_N_苯基胺曱醯基或n,N_ 二環己基胺甲醯基)、胺基(較佳為具有32個或小於32 個碳原子,且更佳為具有2 4個或小於2 4個碳原子之胺基, 201139566 例如胺基、曱胺基、n,n-二丁基胺基、四癸基胺基、2_乙 基己基胺基或環己基胺基)、苯胺基(較佳為具有6至32 個碳原子,且更佳為具有6至24個碳原子之苯胺基,例如 苯胺基或N-甲基苯胺基)、雜環胺基(較佳為具有i至32 個碳原子,且更佳為具有1至18個碳原子之雜環胺基,例 如4-吡啶基胺基)、羧醯胺基(較佳為具有2至48個碳原 子,且更佳為具有2至24個碳原子之羧醯胺基,例如乙醯 胺基、苯? _基、十四_基、特舰胺基或環己醯胺 基)、腺基(較佳為具有1至32個碳原子,且更佳為具有 1至24個碳原子之脲基,例如脲基、N,N_二曱基腺基或 N-苯基脲基)、醯亞胺基(較佳為具有36個或小於36個 碳原子,且更佳為具有24個或小於24個碳原子之醯亞胺 基’例如N-丁二醯亞胺基或N-鄰苯二醯亞胺基)、烧氧幾 基細基(較佳為具有2至48個碳原子,且更佳為且有2 至24個碳原子之烷氧羰基胺基,例如曱氧羰基胺基、乙氧 羰基胺基、第三丁氧羰基胺基、十八烷氧羰基胺基或環己 氧幾基胺基)、芳氧幾基胺基(較佳為具有7至32個碳原 子,且更佳為具有7至24個碳原子之芳氧羰基胺基,例如 苯氧羰基胺基)、磺醯胺基(較佳為具有1至48個碳原子, 且更佳為具有1至24個碳原子之磺醯胺基,例如曱烷磺醯 胺基、丁烷磺醯胺基、苯磺醯胺基、十六烷磺醯胺基或環 己烷磺醯胺基)、胺磺醯基胺基(較佳為具有1至48個碳 原子,且更佳為具有1至24個碳原子之胺磺醯基胺基,例 如N,N-二丙基胺磺醯基胺基或N-乙基-N-十二烷基胺磺醯 48 201139566 基胺基)、偶氮基(較佳為具有1至32個碳原子,且更佳 為具有1至24個碳原子之偶氮基,例如苯偶氮基或3-。比 唑基偶氮基)、 烧硫基(較佳為具有1至48個碳原子,且更佳為具 有1至24個碳原子之烷硫基,例如曱硫基、乙硫基、辛硫 基或環己硫基)、芳硫基(較佳為具有6至48個碳原子, 且更佳為具有6至24個碳原子之芳硫基,例如苯硫基)、 雜環硫基(較佳為具有1至32個碳原子,且更佳為具有! 至18個碳原子之雜環硫基,例如2_苯並噻唑基硫基、2_ °比°定基硫基或1-笨基四唑基硫基)、烷基亞績醯基(較佳 為具有1至32個碳原子,且更佳為具有1至24個碳原子 之烧基亞磺醯基,例如十二烷亞磺醯基)、芳基亞磺醯基(較 佳為具有6至32個碳原子,且更佳為具有6至24個碳原 子之芳基亞續醯基,例如苯亞續醯基)、烧基續醯基(較佳 為具有1至48個碳原子’且更佳為具有1至24個碳原子 之燒基磺醯基’例如甲磺醯基、乙磺醯基、丙磺醯基、丁 磺醯基、異丙磺醯基、2_乙基己基磺醯基、十六磺醯基、 辛磺醯基或環己基磺醯基)、芳基磺醯基(較佳為具有6 至48個碳原子,且更佳為具有6至24個碳原子之芳基磺 醯基,例如苯磺醯基或1-萘基磺醯基)、胺磺醯基(較佳 為具有32個或小於32個碳原子’且更佳為具有24個或小 於24個碳原子之胺磺醯基’例如胺磺醯基、N,N-二丙基 胺磺醯基、N-乙基-N-十二烷基胺磺醯基、N_乙基_N_苯胺 磺醯基或N-環己基胺磺醯基)、磺酸基、膦醯基(較佳為 49 201139566 具有1至32個碳原子’且更佳為具有1至24個碳原子之 膦醯基,例如苯氧基膦醯基、辛氧基膦醯基或苯基膦醯基) 及膦醯基胺基(較佳為具有1至32個碳原子,且更佳為具 有1至24個碳原子之膦醯基胺基’例如二乙氧基膦醯基胺 基或二辛氧基膦醯基胺基)。 在此等基團中,R4及R9較佳為表示烷基胺基、芳基 胺基、羧醯胺基、脲基、醯亞胺基、烷氧羰基胺基或磺醯 胺基,更佳為表示羧酿胺基、脲基、烷氧羰基胺基或磺醯 胺基,更佳為表示羧醢胺基、脲基、烷氧羰基胺基或磺醯 胺基,且尤佳為表示羧醯胺基或脲基。 在此等基團中,R5及R8較佳為表示烷氧羰基、芳氧 羰基、胺曱醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、腈基、醯亞 胺基或胺甲醯基磺醯基,更佳為表示烧氧羰基、芳氧羰基、 胺曱醯基、烷基磺醯基、腈基、醯亞胺基或胺甲醯基磺醯 基,尤佳為表示烷氧羰基、芳氧羰基、胺曱醯基、腈基、 醯亞胺基或胺甲醯基磺醯基,且尤佳為表示烷氧羰基、芳 氧羰基或胺甲醯基。 在此等基團中,R及R7較佳為表示經取代或未經取 代之,基、經取代或未經取代之芳基或經取代或未經取代 之雜%基’且更佳為表示經取代或未經取代之絲或經取 代或未經取代之芳基。 备R及R7表示烷基時,烷基之實例較佳為包含具有 1至12個碳軒之經取代絲縣代 狀絲,更特定言之,舉例而言,烧基可為甲基支= 50 201139566
· A 正丙基、異丙基、環丙基、正丁基、異丁基、第二丁其、 環丁基、環戊基、環己基或节基;更佳為^含具^ U 個碳原子之經取代或未經取代之分支鏈或環狀烷基,更特 定而言,例如異丙基、環丙基、異丁基、第三丁基、環丁 基、壤戊基或環己基;甚至更佳為包含具有i至l2個碳原 子之經取代或未經取代之第二或第三烷基,更特定言之, 例如異丙基、環丙基、異丁基、第三丁基、環丁基及環己 基。 ^ 當R6及R7表示芳基時,芳基之實例較佳為包含經取 代或未經取代之苯基及經取代或未經取代之萘基,且更佳 為包含經取代或未經取代之苯基。 當R6及R7表示雜環基時,雜環基之實例較佳為包含 經取代或未經取代之2-噻吩基、經取代或未經取代之4_0比 0定基、經取代或未經取代之3-°比咬基、經取代或未經取代 之2-吡啶基、經取代或未經取代之2-呋喃基、經取代或未 經取代之2-嘧啶基、經取代或未經取代之2·苯並嚷唑基、 經取代或未經取代之1-咪唑基、經取代或未經取代之]-吡 嗤基及經取代或未經取代之苯並三吐-1-基;且更佳為包含 經取代或未經取代之2-°塞吩基、經取代或未經取代之4-»比 咬基、經取代或未經取代之2-呋喃基、經取代或未經取代 之2-嘧啶基及經取代或未經取代之1-吡啶基。 在式(5)中,Ma表示金屬原子或金屬化合物。金屬 原子或金屬化合物可為任何金屬原子或金屬化合物,只要 其可形成錯合物即可,且其實例包含二價金屬原子、二價 51 201139566 金屬氧化物、二價金屬氫氧化物及二價金屬氣化物。
Ma 之特定實例包含 Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、 Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co 及 Fe ;金屬氣化物,包含 Αία、 InCl、FeC卜 TiCl2、SnCl2、SiCl2及 GeCl2 ;金屬氧化物, 包含TiO及VO ;及金屬氫氧化物,包含si(OH)2。 其中,由錯合物之穩定性、光譜性質、耐熱性、耐光 性、製造適合性及其類似性質之觀點來看,金屬原子或金 屬化合物較佳為 Fe、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、
Co、TiO 或 VO ’ 更佳為 Zn、Mg、
Ni
Ni、Co或v〇,尤佳為Zn、Cu、Co或VO,且最佳為Zn 此外,在式(5)中,:R10表示氫原子、鹵素原子、冬 基、芳基或雜環基,且較佳為表示氫原子。 式(5)中之X1可為任何基團,只要其能夠鍵結」 Ma即可,且其特定實例包含水、醇類(例如曱醇、乙g 及丙醇)以及 “Metal Chelates” [1] Takeichi Sakaguchi ϊ
Ky〇hei Uen。(1995 Nankod。),“Metal Chelates” [: (1996)» "Metal Chelates" [3] (1997)中所述之化合物及; 類似物。其中,由製造適合性之觀點來看,水、羧酸化1 物及醇類較佳,且水及羧酸化合物更佳。 —在式(5)中,由X2表示的“中和Ma之電荷的基團,, 2例較佳為包含_素原子、經基、魏基團、膦酸基( 基團。由製造適合性之觀點來看,齒素原子、羥基 齩基團及磺酸基團較佳,且羥基及羧酸基團更佳。 在式(5)中,χΐ與X2可彼此鍵結以與Ma 一起形) 52 201139566 5 6或7員環。5、6或7員環可為飽和或不飽和環。此外, 5、6,7員環可由碳原子單獨形成,或可為具有至少一個 選自氮原子、氧原子及/或硫原子之原子的雜環。 在由式(5)表示之化合物之一較佳實施例中,R4至 R9各自獨立地為如上所述之R4至R9之較佳實施例,Rl0 為如上,述之RlG之較佳實施例,Ma表示Zn、Cu、Co或 VO,X表不水或羧酸化合物,χ2表示羥基或羧酸基團, 且X1與X2可彼此鍵結以形成5或6員環。 二°比°各亞甲基金屬錯合物化合物由式(6)表示
在式(6)中,RU及R!6各自獨立地表示烷基、烯基、 芳基、雜環基、烷氧基、芳氧基、烷基胺基、芳基胺基或 雜環胺基。:R12至R15各自獨立地表示氫原子或取代基。r1<7 表示虱原子、ί素原子、烧基、芳基或雜環基。Ma表示 金屬原子或金屬化合物。χ2及χ3表示NR(R表示氫原子、 燒基、婦基、芳基、雜環基、醯基、院基續醯基或芳基續 53 201139566 醯基)、氮原子、氧原子或硫原子。γΐ及γ2表示NR (R 表示氫原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、醯基、烷基磺 酿基或芳基磺醯基)、氮原子或碳原子。R11與Y1可彼此鍵 結以形成5、6或7員環,且R16與Y2可彼此鍵結以形成5、 6或7員環。X1表示能夠鍵結至Ma之基團,且a表示〇、 1或2。此外,由式表示之二吡咯亞甲基金屬錯合物 化合物包含互變異構體。 雖然由式(6)表示之二吡咯亞甲基金屬錯合物化合 物中移除一或兩個氫原子以形成染料殘基的位點不受特別 限制,但為一或兩個選自Rii至Rn、xi、及¥1至γ2之位 其中,由合成適合性之觀點來看,一或兩個選自R11 至R及X之位點較佳,一或兩個選自Rll、r13、r14及 R16之位點更佳,且一或兩個選自Ru&Rl6之位點尤佳。 虽利用具有鹼溶性基團之染料單體或具有鹼溶性基 團之結構單元將鹼溶性基團引入本發明之特定染料多聚體 中時,一或多個選自由式(6)表示之二t»比咯亞曱基金属 合物化合物之f至Rn、χ1、及γ1至γ2之取代基可^ 驗溶性基團。在此等取代基中,R11至R16及χΐ中之任一 者較佳’以m w中之任一者更佳,且r11及 r16中之任一者尤佳。 由式(6)表示之二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物亦 可具有除鹼溶性基團以外之官能基,只要本發明之作用 削弱即可。 54 201139566 •j\ji / pyu. R12至R15具有與式(5)中之r^r8相同的定義, 且較佳實施例亦相同。Rn具有與式⑸中之rIG相同的 定義,且較佳實關亦相同。Ma具有與式⑸中之吣 相同的定義,且較佳範圍亦相同。 更特定言之,關於式(6)中之R12至Rl5,R!2及Ru ,佳,示烧氧羰基、芳氧m基、胺甲醯基、烧基橫醯基、 芳基%醯基、腈基、醯亞縣或胺㈣基俩基,更佳為 表不烧氧.基、芳氧幾基、胺曱醯基、烧基確醯基、猜基、 ,亞fee基或基,尤佳為表示烧氧魏基、芳氣 祕、胺曱醯基、腈基、輕胺基或胺甲醯基續醯基,且 尤佳表不烷氧羰基、芳氧羰基或胺曱醯基。 R及R較佳為表示經取代或未經取代之烧基、經取 =或未經取代之芳基或經取代或未經取代之雜環基,且更 »為表示經取代或未經取代之炫基或經取代或未經取代之 =基。可提及式(5)中之R6及R7之特定實例作為烷基、 方基及雜環基之更佳實例。 在式(6)中,R"及Ri6各自較佳為表示烷基(較佳 為/、有1至36個碳原子,更佳具有1至12個碳;^ 碑刀支鏈或環狀烷基,諸如曱基、乙基、丙基、異丙基、 I基、異丁基、第三丁基、己基、2-乙基己基、十^烧^、 環丙基、環戊基、環己基或1-金剛烷基)、烯基(較"^為 具有2至24個碳原子,且更佳為具有2至12個碳原子之 稀基’諸如乙烯基、芳基或3-丁烯-1-基)、芳基(較传為 有6至36個碳原子,且更佳為具有6至18個碳原子之 55 201139566 芳基,諸如苯基或萘基)、雜環基(較佳為具有丨至24個 碳原子,且更佳為具有1至12個碳原子之雜環基,諸如 2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、2-吡啶基、2_ 苯並噻唑、1-咪唑、1-吡唑或笨並三唑―丨·基)、烷氧基(較 佳為具有1至36個碳原子,且更佳為具有}至18個碳原 子之炫氧基,諸如曱氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、己 氧基、2-乙基己氧基、十二烷基氧基或環己氧基)、芳氧基 (較佳為具有6至24個碳原子,且更佳為具有丨至18個碳 原子之芳氧基,諸如苯氧基或萘氧基)、烷基胺基(較佳為 具有1至36個碳原子,且更佳為具有i至18個碳原子之 烷基胺基,諸如甲胺基巫,巧妝娄^牧丞、巳 基、2_乙基己胺基、異丙胺基、第三丁胺基、第三辛胺基 環己基胺基、N,N-二乙胺基、N,N-二丙胺基、邮_二_^ 基或N-甲基-N-乙胺基)、芳基胺基(較佳為具有6至, 個碳原子,且更佳為具# 6至18個韻子之芳基胺基,〗 如笨胺基、萘基絲' __二苯胺基或N_乙基·N_苯胺基 或雜環胺基(較佳為具有丨至24個碳原子,且更佳為具; 1至12個碳原子之雜環胺基,諸如2-胺基如各、3_胺基口 唑、2-胺基吡啶或3_胺基吡啶)。 在^基團巾,Rn及Rl6各自較佳為表示烧基、丈 ^ = 環基、絲胺基、芳基胺基或雜環胺基,^ 、縣、芳基或雜環基,更佳為表示烧基、 旆基或方基,且尤佳為表示烷基。 在式⑷中,當由RnARl6表示之絲、縣、芳 56 201139566 基、雜環基、烷氧其、艺#甘 步:取代:;二基== ,式(6)中’ χ2及X3各自表示NR、氮原子、氧原 或瓜原子° R表示氫好、絲(較佳為具有丨至% 個碳原子,且更料具有1至12個碳原子之直鏈、分支鏈 或環狀院基,例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異 I基、第二丁基、己基、2-乙基己基、十二烷基、環丙基、 環戊基、環己基或1-金剛烷基)、烯基(較佳為呈 24個碳原子,且更佳為具有2至12個碳原子之烯基,例 如乙烯基、芳基或3-丁烯-1-基)、芳基(較佳為具有6至 36個奴原子’且更佳為具有6至18個碳原子之芳基,例 如苯基或萘基)、雜環基(較佳為具有1至24個碳原子, 且更佳為具有1至12個碳原子之雜環基,例如2_嘆吩基、 4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、1-吡啶基、2_苯並嗟哇基、 1-咪°坐基、1-°比嗤基或苯並三°坐-1-基)、醯基(較佳為具有 1至24個碳原子,且更佳為具有2至18個碳原子之酿基, 例如乙酿基、特戍酿基、乙基己基本甲酿基或環己醯 基)、烧基續醯基(較佳為具有1至24個碳原子,且更佳 為具有1至18個碳原子之烷基磺醯基’例如曱磺酿基、乙 續醯基、異丙確醯基或環己基續醢基)或芳基續酿基(較 佳為具有6至24個碳原子,且更佳為具有6至18個碳原 57 201139566 子之芳基磺醯基,例如苯磺醯基或萘基磺醯基)。 由R表示之烷基、烯基、芳基、雜環基、醯基、烷基 磺醯基或芳基磺醯基可經如對於下式(丨)之R!之取代基 所述的取代基中之任一者取代,且當所述基團經多個取代 基取代時,此等取代基可彼此相同或不同。 在式(6)中’ γΐ及Y2表示NR、氮原子或碳原子, 且R具有與由X2及X3表示之\尺的尺相同之定義,且較 佳實施例亦相同。 ^在,(6)中,Rl1及Y1可彼此鍵結以與碳原子一夫 形成5員環(例如環戊燒、„比„各咬、四氫吱喃、二氧_ ^烧、四氫"塞吩、轉H β塞吩、㈣、苯並咬如 苯並噻吩)、6員環(例如環己烷、哌啶、哌嗪、嗎啉、Ε 氫派°南、,噪院、硫化環戊烧(pentameth—fide)、 塞烧、f κ、°辑、料、或令㈣)或7 I % (例如環庚烧或六亞曱基亞胺)。 及γ2可彼此鍵結以與碳原子 成产四:〈二°被戊燒、°叫°定、四氫°夫喃、二氧雜与 戍燒、四虱°塞吩、。比^各、.咗 ^ 6 ;",d" ' 氫㈣、二。惡烧、硫化環戊定,。秦、嗎琳、E ,, ,, . 一塞炫·、本、α底〇定、口底嗥 亞:) 啉)或7員環(例如環庚烧或六亞” 在式(6)中,當由R„Ayl❹ 或7員環可經取代時,1 形成之5、! 具了經如對於式⑴之R1之取# 58 201139566 基所述的取代基中之任一者取代,且當所述基團經雨個或 兩個以上取代基取代時,此等取代基可彼此相同或不同。 在式(6)中,χΐ表示能夠鍵結至Ma之基團,且其 特定實例包含式(5)中由χΐ表示之基團,且較佳實施例 亦相同。a表示〇、ι或2。 在由式(6)表示之化合物之一較佳實施例中,R!2至 各自獨立地為式(5)中R5至R8之任一較佳實施例, Rl7為式(5)中R10之任一較佳實施例,Ma表示Zn、cu、 =〇或VO,X2表示NR(R表示氫原子或烷基)、氮原子或 氧 1原子,X3表示]SfR (R表示氫原子或烷基)或氧原子, Y1表不NR(R表示氫原子或烷基)、氮原子或碳原子,γ2 表不氮原子或碳原子,Rii及Ri6各自獨立地表示烷基、芳 基、雜環基、烷氧基或烷基胺基,χΐ表示經由氧原子鍵結 之基團’且a表示0或1。R11與γΐ可彼此鍵結以形成5 員或6員環,或Ri6與γ2可彼此鍵結以形成5或6員環。 u在由式(6)表示之化合物之一更佳實施例中,Rl2至 R 5各自獨立地表示由式(5)表示之化合物中R5至^8之 任一較佳實施例,R17表示式(5)中Rl〇之任一較佳實施 例,Ma表示Zn,X2及X3表示氧原子,γ1表示νη,、γ2 表示氮原子,R11及R16各自獨立地表示絲、芳基、雜環 基、烷氧基或烷基胺基,X1表示經由氧原子鍵結之基團: 且a表不〇或pr11與Y1可彼此鍵結以形成5或6員環, 或R16與Y2可彼此鍵結以形成5或6員環。 、义 由膜厚度之觀點來看,由式(5)及式(6)表示之二 59 201139566 吡咯亞甲基金屬錯合物化合物之莫耳吸收係數較佳為儘可 能地高。由改良色純度之觀點來看,最大吸收波長(?unax) 較佳為在520奈米至580奈米之範圍内,且更佳為在53〇 奈米至570奈米之範圍内。最大吸收波長及莫耳吸收係數 藉由分光光度計(商標名:UV_24〇〇PC,由Shimadzu Corporation製造)來量測。 由溶解度之觀點來看,由式(5)及式(6)表示之二 °比口各亞甲基金屬錯合物化合物之熔點較佳為不太高。 由式(5)及式(6)表示之二吡咯亞曱基金屬錯合物 化合物可藉由美國專利第4,774,339號及第5,433,896號、 曰本專利申請案早期公開(jp_A)第2001-240761號及第 2002-155052 號、日本專利第 3614586 號;Aust j chem, 1965,11,1835-1845,J. H. Boger 等人,Heteroatom Chemistry,第1卷,第5期,389 (1990)中所述之方法及其 類似方法來合成。詳言之,可應用jp_A第2008-292970號 之段落[0131]至段落[0157]中所述之方法。 (特定染料多聚體之例示性化合物) 以下為本發明中使用的特定染料多聚體之例示性化 合物。然而,本發明不限於此等例示性化合物。 在例示性化合物中,“wt%”指的是“質量%”。 201139566 ^f\J Μ. I ^ ^/λΛ.
例示性化合物 a (wt%) b (wt%) 1-1 100 0 1-2 95 5 1-3 90 10 1-4 88 12 1-5 85 15 1-6 82 18 1-7 80 20 1-8 78 22 1-9 75 25 1-10 70 30
I:i 61 201139566 例示性化合物 a (wt%) b+c (wt%) 2-1 83 17 2-2 77 23 2-3 71 29 2-4 65 35 2-5 60 40 a (mol-%) = b (mol-%)
例示性化合物 a (wt%) b (wt%) 3-1 100 0 3-2 91 9 3-3 85 15 3-4 80 20 3-5 77 23 62 201139566 -JVJl /^Ull
例示性化合物 a (wt%) b+c (wt%) 4-1 83 17 4-2 72 28 4-3 65 35 4-4 61 39 4-5 57 43 a (mol,%) = b (mol·%) 63 201139566
例示性化合物 a (wt%) b+c (wt%) 5-1 65 35 5-2 73 27 a (mol-%) = b (mol-%)
64 201139566 1 / pyii
例示性化合物 a (wt%) b (wt%) 7-1 64 36 7-2 70 30
例示性化合物 a (wt%) b (wt%) 8-1 86 14 8-2 81 19 65 201139566
例示性化合物 a (wt%) b (wt%) 9-1 64 36 9-2 71 29
例示性化合物 a (wt%) b (wt%) 10-1 84 16 10-2 79 21 66 201139566 JU 1 / 7JJ11
.0^0
co2h
例示性化合物 a (wt%) b (wt%) 12-1 84 16 12-2 75 25 (特定染料多聚體之合成實例) 在下文中,將闡明合成特定染料多聚體之一些例示性 化合物的方法之實例。然而,本發明不限於此。 67 201139566 合成例示性化合物1-4 將5.0公克下列染料單體1、0.68公克曱基丙烯酸及 240毫克鏈轉移劑正十二烷硫醇(n_dodecanethiol)溶於32 毫升丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)中,接著在氮氣下, 在85°C下攪拌,且向其中添加542毫克2,2,-偶氮雙(2-曱基 丙酸二曱酯)。隨後,以2小時間隔時間進一步添加24〇毫 克2,2'-偶氮雙(2-曱基丙酸二甲酯)兩次,且使溫度升至 9(TC ’接著再騎2小時。反應完叙後,逐滴添加反應 洛液至4⑻毫升乙腈中。藉由過渡收集所得晶體以得到例 示性化合物1-4 (4.8公克)。 以^鮮體i可藉由例如爪A第2齡29297〇號中 所述之合成方法合成。 化cr物之重里平均分子量可藉由調整鏈轉移劑之量 ==控制’且分散度可藉由改變再沈澱溶劑之類
68 201139566 將20公克下列染料單體2、5別公克甲基丙稀酸及 52〇毫克鏈轉移劑硫經蘋果酸溶於⑼毫升丙二醇單甲轉 (PGMEA)中’接著在I氣下,| 85。〇下擾拌,且向其中 添加1·2公克2,2’-偶氮雙(2-甲基兩酸二甲酯)。隨後,以2 小時間隔時間進一步添加1.2公克2,2,_偶氮雙(2·曱基丙酸 二曱酯)兩次,且使溫度升至9(TC,接著再攪拌2小時。 反應完成之後,逐滴添加反應溶液至2,〇〇〇毫升乙腈中。 藉由過濾、收集所得晶體以得到例示性化合物2_3 (21.2公 克)。由AcO之質子岭消失的1HNMR光譜可確認染料單 體經由配位鍵鍵結至主鏈羧酸,如例示性化合物2_3中所 示。 此外,以下染料單體2亦可例如根據Jp_A第 2008-292970號中所述之合成方法合成。化合物之重量平 均分子量可藉由調整鏈轉移劑之量及反應溫度來控制,且 分散度可藉由改變再沈澱溶劑之類型及量來控制。
69 201139566 將6.5公克以下染料單體4、3.5公克甲基丙稀酸及42〇 毫克鏈轉移劑正十二烷硫醇溶於4〇毫升曱基赛路蘇 (methyl cellosolve)中,接著在氮氣下,在攪摔 且向其中添加478毫克2,2,-偶氮雙(2_甲基丙酸二甲醋)。 隨後,以2小時間隔時間進一步添加478毫克2,2,偶氮雙 (2-曱基丙酸二甲醋)兩次’且使溫度升至9〇〇c,接著再授 拌2小時。反應完成之後,藉由蒸發移除溶劑且所得殘餘 物懸浮於曱財。藉由過濾收集所得晶體崎到例示性化 合物4-3 ( 8.0公克)。 以下染料單體4可例如根據日本專利第3?36221號中 戶斤述之合成方法來合成。化合物之重量平均分子量可藉由 調整鏈轉㈣之量及反應溫度來控制,且分散度可藉^改 變與沈澱溶劑之類型及量來控制。 曰
染料單體4 在本發θ之著色組成物巾m料多聚體可單獨或 以其兩種或兩種以上之組合形式使用。此外,特定染料及 201139566 1 / 除特定染料以外之_可在本發明之著色組成财組合使 用。除特定染料多聚體以外之染料之實例將在下文中描述。 特定染料多聚體之含量(當使用兩種或兩種以上染料 多聚體時,為總含量)以本發明之著色組成物之總固體含 量計較佳為在(U質量%至7Q質量%之_内,更佳為在 1質量%至65質量%之範圍内,且尤佳為在5質量%至6〇 質量%之範圍内。 當使用特定杂料多聚體及除特定染料多聚體以外之 染料時,其總固體含量以著色組成物之總固體含量計較佳 為在1質量%至70質量%之範圍内,更佳為在質量% 至65質量%之範圍内,且尤佳為在4〇質量〇/〇至6〇質量% 之範圍内。由減小膜厚度之觀點來看,本發明之特定染料 多聚體對於增加染料相對於著色組成物之總固體含量之量 尤其有效。 為了進一步改良所得著色膜之光譜性質,其他著色劑 (顏料或染料)亦可組合用於本發明之著色組成物中。 顏料之特定實例包含(但不限於)染料索引(Color
Index)顏料紅 9、19、38、43、97、122、123、144、149、 166、168、177、179、180、192、215、216、208、217、 220、223、224、226、227、228、240 ;顏料藍 15、15:6、 16、22、29、60、64 ;顏料綠 7、36、58 ;顏料黃 20、24、 86、8卜 83、93、108、109、110、117、125、137、138、 139、147、148、153、154、166、168、185 ;顏料橙 36 及顏料紫23。 71 201139566 =料之狀實例包含(但不限於)_㈣酸性紅 、87、92、122、486 ;溶劑紅 8、24、83、109、125、 I散紅6〇、72、犯、2〇6 ;驗性紅12、27 ;酸性藍9、 I29 249 ’ 溶劑藍 25、35、36、55、67、70 ;分 f/7576、8卜㈣鲁則^意鹼性藍卜?、 L 酸性綠18 ;溶劑綠3 ;鹼性綠1 ;酸性黃38、99 ; 'ιϋ 25、88、89、146 ;分散黃 42、60、87、198 及驗 性百21。 使用二=顏Γ以其兩種或兩種以上之組合形式 <可聚合化合物> 色組成物較佳為含有可聚合化合物。 之可;^ 佳為具有至少—個烯系不飽和雙鍵 和:iti:呈:選自具有至少-個末端烯系不飽 合物。 個或_以上末輯u飽和鍵之化 明中產業領域中已熟知,且可用於本發 此等可聚合化合物具有單體 三聚體及寡聚物)、㈣一聚體 及豆丘聚物之b丨^物或其絲物之化學形式。單體 嫌酉〔农康於、丁ir不飽和竣酸(例如丙稀酸、甲基丙 甘ηΓ婦酸、異丁稀酸或順丁稀二酸)、立醋及 料之!旨紐與脂衫元醇化合物 瓜成之自日Λ不飽和_與賴多價胺化合物形成之酿 72 201139566 ^υι /ypu 胺。此外,較佳為亦使用具有親核性取代基(諸如經基、 胺基或巯基)之不飽和羧酸酯或醢胺與單官能或多官能異 氰酸酯或環氧基之加成物、及具有親核性取代基(諸如經 基、胺基或酼基)之不飽和羧酸酯或醯胺與單官能或多官 能羧酸之脫水縮合物。此外’具有親電子取代基(諸如異 氰酸酯基或環氧基)之不飽和羧酸酯或醯胺與單官能或多 官能醇、胺或硫醇之加成物、及具有可分離取代基(諸如 鹵素基團或曱苯磺醯氧基)之不飽和羧酸酯或醯胺與單官 能或多官能醇、胺或硫醇之經取代反應產物亦較佳。另外, 不飽和叛酸經不飽和膦酸、苯乙婦、乙婦醚或其類似物 換的化合物群亦可為另一實例。 脂族多元醇化合物與不飽和叛酸之酯的單體之特a 實例包含丙烯酸酯、曱基丙烯酸酯及衣康酸醋。 ^ 丙烯酸酯之實例包含乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇一 丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、丁二醇二丙稀峻喃了 丙一醇·一丙稀酸S旨、新戍一醇二丙缚酸醋、三經曱基内广 三丙烯酸酯、三羥曱基丙烷三(丙烯醯基氧基丙基)醚、 羥曱基乙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、環己一 醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、異戊四醇二丙烯^ 酯、異戊四醇三丙烯酸酯、異戊四醇四丙烯酸酯、二異= 四醇二丙烯酸酯、二異戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇2丙 烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、 梨糖醇六丙烯酸酯、三(丙烯醯基氧基乙基)異氰尿醆酯、 聚醋丙烯ISa春聚物及異氰尿酸EO修飾之三丙烯酸略。 73 201139566 曱基丙稀酸醋之實例包含丁二醇二曱基丙烯酸酯、三 乙二醇二甲基丙烯酸醋、新戊二醇二曱基丙烯酸酯、三& 甲基丙烧三甲基丙烯酸醋、三羥甲基乙烷三曱基丙歸酸 酯、乙二醇二曱基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二曱基丙烯酸酯、 己二醇二曱基丙燁酸醋、異戊四醇二曱基丙烯酸酯、異戊 四醇三甲基丙烯酸酯、異戊四醇四曱基丙烯酸酯、二異戊 四醇二曱基丙烯酸酯、二異戊四醇六甲基丙烯酸酯、山梨 糖醇三曱基丙烯酸酯、山梨糖醇四曱基丙烯酸酯、雙[對(3_ 曱基丙稀酿氧基-2-經基丙氧基)笨基]二曱基曱烧及雙[對 (甲基丙烯醯氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烧。 衣康酸醋之實例包含乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣 康酸酯、1,3-丁二醇二衣康酸酯、ι,4_丁二醇二衣康酸酯、 丁二醇二衣康酸酯、異戊四醇二衣康酸酯及山梨糖醇四衣 康酸酯。巴豆酸醋之實例包含乙二醇二巴豆酸酯、丁二醇 一巴豆酸酯、異戊四醇一巴豆酸酯及山梨糖醇四巴豆酸 醋。異巴豆酸醋之實例包含乙二醇二異巴豆酸酯、異戊四 醇二異巴豆酸醋及山梨糖醇四異巴豆酸酯。順丁烯二酸酉旨 之貫例包含乙二醇二順丁稀二酸g旨、三乙二醇二順丁稀二 酸酯、異戊四醇二順丁烯二酸酯及山梨糖醇四順丁稀二酸 酯。 欲使用之其他酯之較佳實例包含曰本經審查專利申 請公開案(JP-B)第51-47334號及jp_A第57-196231號 中所述之脂族醇酯;JP-A第59-5240號、第59-5241號及 第2-226149號中所述之含有芳族主鏈之彼等酯及jp_A第 74 201139566 j〇i/ypn 1-165613號中所述之含有胺基之彼等酯。以上提及之酯單 體可混合使用。 另外,亦可使用含有酸基團之單體,且其實例包含(曱 基)丙烯酸、異戊四醇三丙烯酸酯丁二酸單酯、二異戊四醇 五丙烯酸酯丁二酸單酯、異戊四醇三丙烯酸酯順丁烯二酸 單醋、一異戊四醇五丙稀酸醋順丁烯二酸單醋、異戊四醇 二丙烯酸酯鄰苯二曱酸單酯、二異戊四醇五丙烯酸酯鄰苯 一甲酸單®旨、異戊四醇三丙烯酸酿四氫醜酸單g旨及二異戊 四醇五丙稀酸醋四鼠醜酸單酯。詳言之’由顯影性及敏感 度之觀點來看,異戊四醇三丙烯酸酯丁二酸單醋較佳。 脂族多價胺化合物與不飽和羧酸形成的醯胺之單體 之特定實例包含亞曱基雙丙烯醯胺、亞甲基雙曱基丙稀醯 胺、1,6·六亞曱基雙丙烯醯胺、1,6-六亞曱基雙曱基丙烯醯 胺、二伸乙基三胺參丙烯醯胺、二曱苯雙丙烯醯胺及二曱 苯雙曱基丙烯醯胺。其他較佳醯胺單體之實例包含jp_B第 54-21726號中所述的具有伸環己基結構之彼等單體。 換言之,藉由使用異氰酸酯與羥基之加成反應產生的 胺基甲酸酯型可加成聚合化合物亦較佳,且其特定實例包 含JP-B第48-41708號中所述的在一個分子中含有兩個或 兩個以上可聚合乙烯基之胺基曱酸乙烯酯化合物,其藉由 將由下式(A)表示之含有羥基之乙烯基單體加成至在一 個分子中具有兩個或兩個以上異氰酸酯基團之聚異氰酸酯 化合物中而獲得。 75 201139566 (R1G 及 R11 表示 H<CH3) 諸如JP-A第51-37193號、JP-B第2-32293號及第 2-16765號中所述之胺基曱酸酯丙烯酸酯;或JP-B第 58-49860 號、第 56-17654 號、第 62-39417 號及第 62-39418 號中所述的具有基於環氧乙烷架構之胺基曱酸酯化合物亦 較佳。若使用如JP-A第63-277653號、第63-260909號及 第1-105238號中所述的在分子中具有胺基結構或硫醚結 構的可加成聚合化合物,則可獲得呈現優異感光速度之光 可聚合組成物。 其他實例包含多官能丙烯酸酯或曱基丙烯酸酯,諸如 藉由環氧樹脂與(甲基)丙稀酸反應獲得的聚酯丙稀酸酯及 環氧丙烯酸酯,諸如JP-Α第48-64183號、JP-B第49-43191 號及第52-30490號中所述之彼等物質;jp_B第46_43946 號、第1-40337號及第1-40336號中所述之特定不飽和化 合物;及JP-A第2-25493號中所述之基於乙烯基膦酸之化 合物。在某些情況下,亦宜使用JP-A第61_22〇48號中所 述的含有全氟烷基之結構。亦可使用J〇umalQfthe Adhesion Society 〇f Japan,第 20 卷,第 7 期第 3〇〇 3〇8 頁(1984)中所述之化合物作為光可固化單體。 化人合化合物之詳情,糾轉、欲組合使用的 力:之量或其類似情况可根據著色組成 物之以性質來任意地確^舉例而言 選擇可聚合化合物。 很_下方面來 由敏感度讀點㈣,每好含錢多錢和基團之 76 201139566 結構更佳’且二官能或二官能以上之結構典型地較佳。此 外’為了增加影像部分(亦即固化膜)之強度,三官能或 三官能以上之化合物較佳,且藉由組合使用具有不同官能 基數目或不同種類之可聚合基團的化合物(例如丙烯酸 醋、甲基丙烯酸酯、苯乙烯化合物及乙烯醚化合物)來控 制敏感度及強度之方法亦有效。由固化敏感度之觀點來 看,較佳為使用具有兩個或兩個以上(曱基)丙烯酸酯結構 之化合物,更佳為使用具有三個或三個以上(曱基)丙烯酸 酯結構之化合物,且最佳為使用具有四個或四個以上(曱基) 丙烯酸酯結構之化合物。由未曝光部分之固化敏感度及顯 於性之觀點來看,含有缓基或E〇修飾結構之化合物較 佳。由曝光部分之固化敏感度及強度之觀點來看,較佳為 使用含有胺基曱酸酯鍵之化合物。 在與者色組成物中之其他組分(例如樹脂、光聚人引 發劑及顏料)的相容性及分散度方面,可聚合化合物i選 擇及使用亦為重要因素。舉例而言,相容性可藉由使用= 有低純度之化合物或藉由組合使用兩種或兩種以上化人^ 而得以改良。為了改良對基板之黏著力,亦可選擇特三妗 構。 、、” 口 鑒於上述内容,較佳實例包含雙酚A二而、陡私 叼歸酸j旨、雔 盼A二丙烯酸醋EO修飾產物、三經曱基兩广_ 又 酯、三羥曱基丙烷三(丙烯醯基氧基丙基)鍵、:二丙稀酸 烷三丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、異戊四 土 、異戊四醇三丙烯酸酯、異戊四醇四丙缚酸 醇二丙烯酸 酯 酯 77 201139566 四醇、二異戊四醇五丙烯_、二異戊四醇六 丙,酸酿、山梨糖醇三丙稀酸醋、山梨糖醇四丙婦酸醋、 山梨糖醇五丙烯_旨、山梨糖醇六丙烯_、三(丙稀醯基 氧基乙基)異二聚氰酸酯、異戊四醇四丙浠酸酯修飾產 物、二異戊四醇六丙烯酸酯E〇修飾產物及異戊四醇三丙 ,酸醋丁L旨。市售產物之較佳實例包含絲甲酸醋 寡聚物UAS-10及UAB_14〇(皆為商標名’由Nipp〇nPaper
Industnes有限公司製造)、DPHA-40H (商標名,由Nippon Kayaku 有限公司製造)、UA-306H、UA-306T、UA_306I、 AH-600、T-600 及 AI-600 (皆為商標名,由 Kyoeisha
Chemical有限公司製造)及UA-7200 (商標名,由 Shin-Nakamura Chemical 有限公司製造)。 其中,雙酚A二丙烯酸酯EO修飾產物、異戊四醇三 丙烯酸酯、異戊四醇四丙烯酸酯、二異戊四醇五丙烯酸酯、 二異戊四醇六丙烯酸酯、三(丙烯醯基氧基乙基)異三聚氰 酸酯、異戊四醇四丙烯酸酯;EO修飾產物、二異戊四醇六 丙烯酸酯EO修飾產物及異戊四醇三丙烯酸酯丁二酸單酯 更佳。作為市售產物,DPHA_4〇H (商標名,由Nippon
Kayaku 有限公司製造)及 UA_3〇6H、UA-306T、UA-306I、 AH-600、T-600 及 AI-600 (皆為商標名,由 Kyoeisha
Chemical有限公司製造)更佳。 可聚合化合物之含量以本發明之著色組成物之固體 含量計較佳為1質量%至9〇質量%,更佳為5質量%至80 質量%,且更佳為10質量〇/〇至7〇質量%。 78 201139566 〈聚合引發劑> ^發明之著色組成物可含有聚合引發劑。 ^色組成純佳為含有統合引發劑作為聚合引發 劑’其為輕射敏感性化合物。 光聚合引發縣遇光分解則丨發及促進可聚合組分 (堵如上述可聚合化合物)之聚合反應的化合物。詳言之, 光聚合引發劑較佳為吸收波長在3⑻奈米至細奈米之範 圍内的光之化合物。 ’… 光聚合引發劑除了如上所述引發光聚合反應的性質 外’亦可具有引發熱聚合反應的性質。 此外,光聚合引發劑可單獨或以其兩種或兩種以上之 組合形式使用。 本發明使用的光聚合引發劑之實例包含有機鹵化化 合物、噁二唑化合物、羰基化合物、縮酮化合物、安息香 化合物、吖咬化合物、有機過氧化物化合物、偶氮化合物、 香豆素化合物、疊氮化合物、茂金屬化合物、六芳基聯咪 唑化合物、有機硼酸酯化合物、二磺酸化合物、肟化合物、 鏽鹽化合物、醯基膦(氧化物)化合物及烷基胺基化合物。 以下為各別化合物之詳情。 有機鹵化化合物之特定實例包含諸如Wakabayaslii等 人,“Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969);美國專利 第 3,905,815 號、JP-B 第 46-4605 號、JP-A 第 48-36281 號、 第 55-32070 號、第 60_239736 號、第 6M69835 號、第 61-169837 號、第 62-58241 號、第 62-212401 號、第 63-70243 79 201139566 號或第 63-298339 號;m.P. Hutt “Journal of Heterocyclic
Chemistry” 1 (第3期),(1970)中所述之彼等化合物或其 類似物。詳言之,可提及經三鹵甲基取代之噁唑化合物及 均三°秦化合物。 均三嗓化合物更佳為至少一個經單、二或三齒素取代 之曱基鍵結至均三嗪環之均三嗪衍生物。其特定實例包含 2.4.6- 參(單氯曱基)-均三嗪、246_參(二氯甲基)均三嗪、 2.4.6- 參(三氣曱基)-均三嗪、2_曱基_4,6_雙(三氣曱基)均三 嗪、2-正丙基-4,6-雙(三氣曱基)_均三嗪、2_(α,α,卜三氯乙 基)-4,6-雙(三氣曱基)-均三嗪、2_苯基_4,6_雙(三氣曱基)均 二嗪、2-(對甲氧基苯基)_4,6-雙(三氣甲基)_均三嗪、2-(3,4-環氧苯基)-4,6-雙(三氣曱基)_均三嗪、2_(對氣苯基)4,6_雙 (三氯甲基)-均三嗪、2-[1-(對甲氧基苯基)_2,4_ 丁二烯 基]-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2_苯乙烯基_4,6_雙(三氣甲 基)-均三嗪、2-(對曱氧基苯乙烯基)_4,6_雙(三氣曱基)均三 嗪、2-(對異丙氧基笨乙烯基)_4,6_雙(三氣曱基)_均三嗪、 2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氣曱基)_均三嗪、2_(4_曱氧基萘 基)_4,6-雙(三氯曱基)-均三嗪、2_苯硫基_4 6_雙(三氣甲基)_ 均三嗪、2-苯甲硫基-4,6-雙(三氣曱基)_均三嗪、2,4,6參(二 >臭曱基)-均二嗪、2,4,6-參(三;臭曱基)_均三嗪、2_曱基_4,卜 雙(二廣曱基)-均二°秦及2-甲氧基_4,6-雙(三溴曱基)_均三 °秦。 噁二唑化合物之實例包含2_三氯曱基_5_苯乙烯基 -1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基_5_(氰基苯乙烯基H,3,4•噁二 201139566
Μ. I 0坐、2-二氣甲基-5-(萘-1-基)-1,3,4_。惡二吨及三氣甲基 -5-(4-苯乙烯基)苯乙烯基_ι,3,4-噁二唑。 ι 羰基化合物之實例包含二苯曱酮及二笨甲嗣衍生 物’諸如米歇勒氏酮(Michler’s ketone)、2-甲基二苯甲嗣、 3-曱基二苯曱酮、4-曱基二苯曱酮、2-氯二苯曱_、4_溴二 本曱酮或2-敌基一本甲酮,苯乙酮衍生物,諸如2 一^甲 氧基-2·苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、^羥基環己基 笨基_、α-經基-2-曱基笨基丙酮、[經基小曱基乙美(對 異丙基苯基)酮、1-羥基-1-(對十二烷基苯基)酮、2甲基 _(4L(曱硫基)苯基)-2-(N-嗎啉基)_ι_丙g同、^•三氣甲^ -(對丁基苯基)酮或2-苄基-2-二曱胺基_4_(]^_嗎啉基)苯丁 酮;噻噸酮(thioxanthone)及噻噸_衍生物,諸如2乙某 噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、2-氣噻噸酮、2,4_二甲基噻噸嗣"; 2,4-—乙基噻噸酮或2,4-二異丙基噻噸酮;及苯曱酸酯衍生 物,諸如對一曱基胺基苯曱酸乙酯或對二乙基胺基苯曱酸 乙酉旨。 縮酮化合物之實例包含苄基甲基縮酮及苄基_p_甲氧 基乙基乙基縮醒·。 安息香化合物之實例包含間安息香異丙醚、安息香異 丁醚、安息香甲醚及甲基鄰苯曱醯基苯甲酸酯。 吖啶化合物之實例包含9-苯基吖啶及吖啶某 庚烷。 土 有機過氧化物化合物之實例包含三甲基環己酮過氧 化物、乙醯基丙酮過氧化物、1,1·雙(第三丁基過氧基)_3,3,5_ 201139566 己烷、U-雙(第三丁基過氧基)環 -丁基過氧基)τ;^、Α過氧 & 2,2-又(第 苯、氯過氧化二異丙基苯25第; 燒、氫過氧化U,3,3㈣基丁^^^2,5-二甲基己 苯、過氧化二異丙苯、2 5_二‘ 苐三丁基異丙 =苯_、過氧化2,4,二:=:2 乙化一碳酸二2_乙基己酯、過氧化二碳酸二_2、 ^(3 氧土丁基S日)、過氧化乙酸笛二 其 =2酸基輯、過氧化新癸酸第三;基;:曰過 辛W二τ基酯、過氧化月桂 魏縣)二”酮、3,3'从四·(第三己^ $基ς本曱嗣、3,3,,4,4,_四_(對異丙基異丙笨 基)二本甲酮、絲二(過氧化二氫二鄰苯二甲酸第三丁Ϊ 醋)及縣二(過氧化二氫二鄰苯二甲酸第三己基醋)。基 香豆素化合物之實例包含3-曱基-5-胺基_((均三嗪-2-基)胺基)-3-苯基香豆素、3ϋ二乙胺基((均三噪_2基) 胺基)-3·苯基香豆纽3_了基_5二¥祕((均三嗓_2·基) 胺基)-3-苯基香豆素。 疊氮化合物之實例包含諸如美國專利第2,848 328 號、第2,852,379號及第wg,853射所述祕等有機疊 82 201139566 氮化合物’及2,6-雙(4-疊氮亞苄基)_4—乙基環己酮 (BAC-E)。 茂金屬化合物之實例包含多種二茂鈦化合物,諸如 JP-A 第 59-152396 號、第 61-151197 號、第 63-41484 號、 第2-249號、第2-4705號及第5_83588號中所述之彼等物, 例如二環戊一烯基-Ti-雙-苯基、二環戊二稀基_丁丨_雙_2,6-二氣苯-1-基、一3衣戊一稀基-Ti-雙-2,4-二氟苯-1-基、二環 戊二烯基-Ti-雙-2,4,6-三氟笨+基、二環戊二烯基雙 -2,3,5,6-四氟笨-1_基、二環戊二紼基-Ti-雙-2,3,4,5,6-五氟苯 -1-基、二甲基環戊二稀基-Ti-雙-2,6-二|L苯-1-基、二曱基 環戊二烯基-Ti-雙-2,4,6-三氟笨_丨_基、二甲基環戊二烯^ -Ti-雙-2,3,5,6-四氟本-1-基、二甲基環戊二婦基雙 _2,3,4,5,6-五氟本-1-基,及鐵芳烴錯合物,諸如】卩_八第 1-304453號及第M52109號中所述之彼等物。 六芳基聯咪唑化合物之實例包含諸如JP_B第6 29285 號、美國專利第3,479,185號、第4,311,783號及第4,622,286 號中所述之彼等多種化合物。其特定實例包含2,2,_雙(鄰氯 苯基)-4,4f,5,5,-四笨基聯咪唑、2,2,雙(鄰溴笨基)_4^ $心 四苯基聯味唾、2,2,-雙(鄰,對-二氣苯基)_4,4,,5,5,_四笨’基聯 咪唑、2,2匕雙(鄰氯苯基)_4,4,,5,5,-四(間曱氧基苯基)^ 。坐、2,2’-雙(鄰,鄰’-二氯苯基)-4,4’,5,5’_四苯基聯咪唑、22匕 雙(鄰硝基苯基)-4,4’,5,5’-四笨基聯咪唑、2,2,-雙(鄰曱基苯 基)_4,4’,5,5’-四苯基聯咪唑及2,2,-雙(鄰三氟笨基)_4,4,,5 5,_ 83 201139566 有機硼酸酯化合物之特定實例包含有機硼酸酯,諸如 在例如 JP-Α 第 62-143044 號、第 62-150242 號、第 9-188685 號、第 9-188686 號、第 9-188710 號、第 2000-131837 號、 第2002-107916號及第2002-116539號、日本專利第 2764769 號及 Kunz,Martin “Rad Tech '98. Proceeding April 19_22, 1998, Chicago”中所述之彼等物;有機硼疏錯 合物或有機硼氧锍錯合物,諸如Jp_A第6_157623號第 6-175564號及第6_175561號中所述的彼等物;有機硼錤錯 合物,諸如JP-A第6-175554號及第6-175553號中所述之 彼等物;有機硼鱗錯合物,諸如Jp_A第9_18871〇號中所 述之彼等物;及有機硼過渡金屬配位錯合物’諸如Jp_A 第 6-348011 號、第 7_128785 號、第 7_14〇589 號、第 7 3〇6527 號及第7-292014號中所述之彼等物。 二續酸化合物之實例包含諸如JP-A第61-166544號及 2002-328465中所述之彼等化合物。 將化合物之實例包含諸如J c s Perkin Η (1979) 1653-1660 ; J.C.S. Perkin II (1979) 156-162 ; Journal of
Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232 及 JP-A第2000-66385號中所述之彼等化合物;及諸如Jp_A 第2000-80068號及pCT曰本翻譯專利公開案第 2004-534797號中所述之彼等化合物。 鏽鹽化合物之貫例包含重I鹽,諸如S j schlesinger,
Photogr. Sci. Eng·,18, 387 (1974)及 T.S. Bal 等人,Polymer, 21,423 (1980)中所述之彼等物;铵鹽及其類似物,諸如美 84 201139566
國專利第4,069,055號、JP_A第4_365〇49號令所述之彼等 物’鹽’諸如美國專利第4,069,〇55號及第4,〇69,〇56號 中所述之彼·#物,及錤鹽,諸如Ep_A第1〇4,143號及Jp_A 第2-150848號及第2-296514號中所述之彼等物。 可用於本發明之鎭鹽為二芳基鐫鹽。由穩定性之觀點 來看’ 一务基錤鹽較佳為經兩個或兩個以上供電子基團(諸 如烷基、烷氧基或芳氧基)取代。 本發明可使用的疏鹽之實例包含諸如Ep_A第37〇,693 號、第 390,214 號、第 233,567 號、第 297,443 號及第 297,442 號、美國專利第4,933,377號、第4161,811號、第4 760 013 號、第孽4號及第2,833,827號、及^國專利第 2,904,626號、第3,6G4,58G號及第3,6〇4,581號中所述之彼 等鏽鹽。由穩定性及敏感度之觀點來看,銃鹽較佳為經吸 電子基團(electron-withdrawing group)取代。吸電子基團 較佳為具有南於〇之哈米特值(Hammett value)。較佳吸 電子基團之實例包含鹵素原子及叛酸基團。 ^另外,其他較佳銃鹽之實例包含具有一擁有香豆素或 蒽醌結構之取代基且吸收波長在3〇〇奈米或3〇〇奈米以上 之光的三芳基銃鹽。另一較佳錡鹽為具有芳氧基或芳硫基 作為取代基且吸收波長為3〇〇奈米或300奈米以上之光的 三芳基疏鹽。 錄鹽化合物之實例亦包含諸如j V. Crivello等人,
Macromolecules,10(6),1307 (1977)及 J.V. Crivello 等人,J. Polymer Sci. P〇lymer Chem.編,17, 1047 (1979)中所述之彼 85 201139566 等石西錄(selenonium)鹽,及諸如 C.S. Wen ¥A,Teh,Proc. Conf. Rad. Curing ASIA,第 478 頁 Tokyo, Oct(1988)中所 述之彼等胂鏽(arsonium)鹽。 醯基膦(氧化物)化合物之實例包含IRGACURE 819、DAROCURE4265 及 DAROCURETPO(皆為商標名, 由BASF製造)。 烷基胺基化合物之實例包含具有二烷基胺基苯基之 化合物及烷基胺化合物,諸如JP-A第9-281698號、JP-A 第6-19240號及第6-19249號之段落[0047]中所述的彼等 物。具有二烷基胺基苯基之化合物之特定實例包含諸如對 二曱基胺基苯曱酸乙酯之化合物,及諸如對二乙胺基苯曱 酿或9-久洛雷。定基甲酿(9-julolidylcarbaldehyde)之二烧 基胺基苯基甲醛,且烷基胺化合物之特定實例包含三乙醇 胺、二乙醇胺及三乙胺。 上述引發劑可視情況用作光聚合引發劑。由曝光敏感 度之觀點來看’有機_化化合物之三嗪化合物(均三嗪化 合物)、縮酮化合物、安息香化合物、茂金屬化合物、六芳 基聯咪唑化合物、肟化合物、醯基膦(氧化物)化合物或 六烷基胺基化合物更佳;至少一種由下列所構成的族群中 選出的化合物尤佳:三嗪化合物、肟化合物、六芳基聯咪 唑化合物及烷基胺基化合物;且肟化合物最佳。 詳言之,當本發明之著色組成物用於形成固態影像感 測器之彩色濾鏡之著色像素時,組成物中顏料之濃度就調 配物而言提高,藉此’光聚合引發劑之量減少崎低敏感 86 201139566 度。此外,當使用步進曝光機(stepper)進行曝光時,使 用產生含有鹵素之化合物(諸如三嗪化合物)的引發劑會 造成設備腐蝕。考慮到此等問題,肟化合物為滿足敏感度 及其他效能的較佳光聚合引發劑。詳言之,吸收波長為365 奈米之光的肟化合物最佳。 在本發明中,由敏感度、隨時間之穩定性及加熱後期 間之染色的觀點來看,在肟化合物中,由下式(d)表示之 化合物較佳。諸如IRGACURE OXE-01及OXE-02 (商標 名,由BASF Japan製造)之其他化合物亦較佳。
在式(d)中,R22及X22各自獨立地表示單價取代基, A22表示二價有機基團,Ar表示芳基,且η表示i至^之 整數。 就提高敏感度而言,R22較佳為醯基。詳言之,乙醯 基、丙醯基、苯曱醯基或曱苯基較佳。 由增強敏感度及抑制超時加熱造成之染色的觀點來 看,A22較佳為未經取代之伸烷基、經烧基(例如曱基、 乙基、第三丁基或十二烷基)取代之伸烷基、經烯基(例 如乙烯基或烯丙基)取代之伸烷基、或經芳基(例如苯基、 87 201139566 茴香基、萘基、蒽基'菲基或苯乙 對甲苯基、二T苯基、 烯基)取代之伸烷基。 由敏感度及抑制超時加熱造成之染色的觀點來看,Ar 較佳為經取代絲經取代之苯基。當Αι_為經取代之苯基 時’取代基較佳為i素基團,諸如氟原子、氣原子、漠原 子或破原子。 由改良/谷劑浴解度及長波長範圍内之吸收效率的觀 點來看,X22較佳為可具有取代基之烷基、可具有取代基 之芳基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可 具有取代基之烷氧基、可具有取代基之芳氧基、可具有取 代基之烧基硫氧基、可具有取代基之芳基硫氧基或可具有 取代基之胺基。 此外,式(d)中之η較佳為表示1至2之整數。 以下為適用於本發明之著色組成物的肪化合物之特 定實例,但本發明不限於此。 88 201139566
以組成物之總固體含量計,光聚合引發劑在本發明之 著色組成物中的含量較佳為在0.1質量%至50質量%之範 圍内,更佳為在0.5質量%至30質量%之範圍内,且尤佳 為在1質量%至20質量%之範圍内。當光聚合引發劑之含 量在上述範圍内時,可實現良好的敏感度及圖案可成形性 89 201139566 (pattern formability)。 <一疊氮萘醌(naphthoquinonediazide)化合物〉 當本發明之著色組成物為正型(正作用性)著色感光 性組成物時,本發明之著色組成物中較佳為包含二疊氮萘 m化合物作為輻射敏感性化合物。 二疊氮萘醌化合物為具有至少一個鄰二疊氮醌基團 之化合物,且其實例包含鄰二疊氮萘醌-5-磺酸酯、鄰二疊 氮萘跟:5_磺酸醯胺、鄰二疊氮萘醌_4_磺酸酯及鄰二疊氮萘 醌4-¾酸醯胺。此等酯或醯胺化合物可藉由例如已知方 法,使用:Ρ·Α帛2-8465G號及第3_49437號中所述之由式 (I)表示的酚化合物來製備。 在本發明之著色組成物為正型著色感光性組成物之 月况下一這氮萘酿•化合物在著色組成物中之含量較佳為 在2質量%至5G f量%之範_,且更佳為在2質量%至 3〇質量%之範圍内。 <驗溶性樹脂> 本發明之著色組成物較佳為進 脂。當著色組成物包含_愧時,顯影性有及圖;= 形性可得以改良。 一了成 =容性樹脂為線性有機聚合物且可適當地選自在分 分子)ΪΪ!?'酸系共聚物或苯乙烯共聚物形成主鏈之 :酸酯基或磺酸醋基)的鹼溶性樹脂。其中,(可溶二二 冷劑中且可由碰性水料顯狀細旨更佳。; 201139566 v ji f y%jii. 舉例而3,已知自由基聚合、 件(諸如溫度、==性f脂之聚合反應條 :: 驗項技術者確定,且此等條件可經由實 上且龍之線性有機聚合物較佳為在其側鏈 丙;酸此::’二:’且其實例包含曱基丙烯酸共聚物、 s 共聚物、丁_絲物、順丁晞二 醋化之順丁埽二酸共聚物;及在其侧鏈上 ;ΐί2Γ:素衍生物;及藉由將酸酐添加至含經 ㈣純,之,(甲細烯酸與可與 聚合之另—單體的共聚物適用作驗溶性樹 曰口 ’、(曱基)丙烯酸共聚合之所述單體之實例包含(甲基) 丙烯酸絲S旨、(曱基)_酸芳基^旨及乙職化合物。(甲 基)丙烯酸烧基醋及(曱基)丙烯酸芳基醋之特定實例包含 (t甲基)丙烯酸甲醋、(甲基)丙烯酸乙醋、(曱基)丙烤酸丙 醋、、(甲基)丙烯酸丁酉旨、(甲基)丙婦酸異丁酷、(甲基)丙稀 酸戊,、(曱基)丙烯酸己_、(甲基)丙烯酸辛_、(甲基)丙 烯酉欠笨自曰、(曱基)丙烯酸苄酯、(曱基)丙烯酸曱苯酯、(曱 基)丙烯酸萘酯及(甲基)丙烯酸環己酯。乙烯基化合物之實 例包含苯乙烯、α-曱基苯乙烯、乙烯基曱苯、曱基丙烯酸 縮水甘油酯' 丙烯腈、乙酸乙烯酯、Ν_乙烯基吡咯啶酮、 曱基丙稀酸四氫糠酯、聚苯乙烯大分子單體及聚曱基丙烯 酸甲酯大分子單體。 91 201139566 鹼溶性樹脂較佳為藉由聚合單體組分獲得的聚合物 U)’其中包含由下式(ED)表示之化合物(在下文中亦 稱作”醚二聚體”)作為基本單體組分。 〇丫式⑽) 0R1 or2 在式(ED)中,Ri及R2各自獨立地表示氫原子或可 具有取代基之具有1至25個碳原子之烴基。 因為本發明之著色組成物含有聚合物(a),所以由組 成物开〉成的固化塗膜之耐熱性及透明度可進一步得以改 良。 在表示醚二聚體之式(ED)中,由Rl及R2表示的可 具有取代基之具有1至25個碳原子之烴基不受特別限制, 且其實例包括直鏈或分支鏈烷基,諸如曱基、乙基、正丙 基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、第三戊基、硬 脂醯基、月桂基或2-乙基己基;芳基,諸如笨基;環脂族 基’諸如環己基、第三丁基環己基、二環戊二烯基、三環 癸基、異冰片基、金剛烧基或2-曱基-2-金剛烧基;經烧氧 基取代之烷基’諸如1-曱氧基乙基或1-乙氧基乙基;及經 %•基取代之院基’諸如节基。其中’取代基尤佳為不易由 酸或熱分離之一級碳或二級碳之基團,由耐熱性之觀點來 看’諸如曱基、乙基、環己基或苄基較佳。 92 201139566 醚二聚體之特定實例包括:二甲基-2,2’-[氧基雙(亞曱 基)]雙-2-丙烯酸酯、二乙基-2,2’-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙 烯酸酯、二(正丙基)-2,2’-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、 二(異丙基)-2,2’-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、二(正丁 基)-2,2'-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異丁 基)-2,24氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三丁 基)-2,2'-[氧基雙(亞曱基)雙-2-丙烯酸酯、二(第三戊 基)-2,2’-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、二(硬脂醯 基)-2,2’-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、二(月桂 基)-2,2’-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、二(2-乙基己 基)-2,2’-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、二(1-甲氧基乙 基)-2,2’-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(1-乙氧基乙 基)-2,2'-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、二苄基-2,2’-[氧 基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、二苯基-2,24氧基雙(亞曱基)] 雙-2-丙烯酸酯、二環己基-2,2’-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯 酸酯、二(第三丁基環己基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯 酸酯、二(二環戊二烯基)-2,24氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸 酯、二(三環癸基)-2,2’-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、二 (異冰片基)-2,2’-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、二金剛烷 基-2,2’-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(2-曱基-2-金剛 烷基)-2,24氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯及其類似物。 其中,二曱基-2,2’-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、 二乙基-2,2’-[氧基雙(亞曱基)]雙-2-丙烯酸酯、二環己基 -2,2’-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯及二苄基-2,2’-[氧基 93 201139566 雙(亞曱基)]雙_2_丙辦r酸g旨較佳。 此等醚二聚體可單獨或以其兩種或兩種以上組合形 式使用。 何生自由式(ED)表示之化合物的結構可藉由納入用 於共聚合之其他單體而形成。 其中’(曱基)丙烯酸节醋/(曱基)丙烯酸共聚物或(曱基) 丙稀酸节醋/(曱基)丙稀酸/其他單體之多組分共聚物尤 佳。其他實例包括藉由包含甲基丙烯酸2邊基乙醋形成之 共,物及!Ρ·Α第7-140654號中所述之絲物,諸如(曱基) 丙稀酉夂基丙§旨/聚苯乙烯大分子單體/曱基丙稀酸节醋/ 甲基丙稀酸共聚物、丙烯酸2名基·3·苯氧基丙S旨/聚曱基 丙稀酸甲s旨大分子單體/?基丙稀酸¥g|/曱基丙烯酸共聚 甲基_酸2_誠乙g旨/聚苯乙敎分子單體/甲基丙 :酸甲醋/甲基丙烯酸共聚物及甲基丙烯酸2_經基乙崎 本乙稀大分子單體/曱基丙烯酸狗旨/甲基丙烯酸共聚物。 明广此f ’具材聚合基H雜樹脂可用於改良本發 月之者色組成物之交聯效率。 之驗ΐΐΓίί麵丙基、(f基)丙_基絲氧基烧基 可聚:美團二用作具有可聚合基團之鹼溶性樹脂。具有 ♦ 口基團之鹼溶性樹脂之較佳實例包含: 酸riiir旨基與QH基團預先反應,但留下-個異氰 美夕曰ΐί 使含有(甲基)丙_基之化合物與含有緩 二騎㈣脂反賴得的含有 酸酉旨修飾之丙烯酸系樹脂; &鍵之錢基甲 94 201139566 ·』υ 由含有羧基之丙烯酸系樹脂與分子中具有環氧基及 可聚合雙鍵之化合物反應獲得的含有不飽和基團之丙稀酸 系樹脂; 由酸側位型環氧丙烯酸酯樹脂、含有〇H基團之丙稀 酸系樹脂及具有可聚合雙鍵之二元酸酐反應獲得的含有可 聚合雙鍵之丙烯酸系樹脂; 由含有OH基團之丙烯酸系樹脂、異氰酸酯及具有可 聚合基團之化合物反應獲得的樹脂;及 藉由驗性處理在其侧鏈上含有酯基團之樹脂獲得的 樹脂,所述酯基團在α-或β_位置具有離去基(諸如鹵素原 子或磺酸酯基)’如JP_A第2002-229207號及第 2003-335814號中所述。 鹼溶性樹脂之酸值較佳為在3〇毫克K〇H/公克至2〇〇 逵克ΚΟΗ/公克之範圍内,更佳為在5〇毫克K〇H/公克至 150毫克ΚΟΗ/公克之範圍内,且最佳為在7〇毫克K〇H/ 公克至120毫克ΚΟΗ/公克之範圍内。 鹼溶性樹脂之重量平均分子量(Mw)較佳為在2,〇〇〇 至50,〇〇〇之範圍内,更佳為在5 〇〇〇至3〇,〇〇〇之範圍内, 且最佳為在7,000至20,〇〇〇之範圍内。 以組成物之總固體含量計,鹼溶性樹脂在著色組成物 中的含量較佳為在1質量%至15質量〇/〇之範圍内,更佳為 在2質量%至12質量%之範圍内,且尤佳為在3質量%至 10質量。/〇之範圍内。 (鹼溶性酚樹脂) 95 201139566 當本發明之著色組成物為正型著色感光性組成物 時,鹼溶性酚樹脂可用作黏合劑。在本發明之著色感光性 組成物為正型域物之航下,宜祕溶性崎脂。驗溶 性酚樹脂之實例包括清漆型酚醛樹脂及乙烯基聚合物。 清漆型酚醛樹脂之實例包括由酚與醛在酸催化劑存 在下縮合獲得的產物。酚類之實例包括苯酚、曱苯酚、乙 苯酚、丁笨酚、二曱苯酚、苯基笨酚、兒茶酚、間苯二酚、 連苯三紛、萘驗及雙紛A。 醛類之實例包括曱醛、聚甲醛、乙醛、丙醛及苯曱醛。 酚類及醛類可單獨或以其兩種或兩種以上之組合形 式使用。 清漆型酴酿樹脂之特定實例包括間甲苯盼、對甲苯酴 或其混合物與福馬林(formalin)之縮合物。 清漆型酚醛樹脂之分子量分佈可藉助於例如分餾來 控制。此外,具有酚系羥基之低分子量組分(諸如雙酚c 或雙酚A)可在清漆型酚醛樹脂中混合。 <交聯劑> 本發明之著色組成物可含有交聯劑。 交聯劑不受特別限制’只要所述膜藉由交聯反應固化 即可。交聯劑之實例包括:(a)環氧樹脂;三聚氰胺 化合物、胍胺(guanamine)化合物、甘脲基化合物或腺化 合物’其各自經至少一個選自羥曱基、烷氧基曱基及醯氧 基曱基之基團取代;及(c)苯酌·化合物、萘驗化合物或經 基蒽化合物’其各自經至少一個選自經甲基、烧氧基曱基 96 201139566 多官能環氧樹脂較佳為 及醯氧基甲基之基團取代。其中 作為交聯劑。 U)環氧餘不受_限制, Π。其實例包括含有二價縮水甘油 ;醇=:二縮水甘_、乙二醇二縮水鑛、 丁一知一細水甘_、己二醇二縮水甘⑽、二經基聯苯 二縮水甘油基鄰笨二甲酸醋及ν,ν_二縮水 甘油基本胺;含有三價縮水甘油基之低分子量化合物,盆 由二經甲基丙烧三縮水甘_、三㈣基祕三縮水甘油 酸及Τη曰sP-PA三縮水甘㈣表示;含有四價縮水甘油基之 低分子量化合物,其由異戊四醇四縮水甘_及四經甲基 雙盼Α_水甘_表示;含衫價縮水甘油基之低分子 量化合物,諸如二異戊四醇五縮水甘油醚及二異戊四醇六 縮水甘油醚;及含有縮水甘油基之高分子量化合物其由 (曱基)丙烯酸聚縮水甘油酯及2,2-雙(羥基曱基)丁醇之 1,2-環氧基-4-(2-環氧乙烷基)環己烷加成物表示。 交聯劑(b)中的取代基(選自羥曱基、烷氧基曱基 及醯氧基甲基)數目在三聚氰胺化合物之情況下為2至6, 且在甘脲化合物、胍胺化合物或脲化合物之情況下為2至 4。取代基數目在三聚氰胺化合物之情況下較佳為5至6, 且在甘脲化合物、胍胺化合物或脲化合物之情況下較佳為 3至4。 在下文中,(b)三聚氰胺化合物、胍胺化合物、甘脲 化合物及脲化合物可統稱為關於(b)之化合物(含有羥甲 97 201139566 基之化合物、含有烧氧基甲基之化合物或含有醯氧基曱基 之化合物)。 關於(b)之含有羥曱基之化合物藉由將關於(b)之 含有烧氧基曱基之化合物在諸如氫氣酸、硫酸、确酸或甲 磺酸之酸催化劑存在下在乙醇中加熱獲得。關於(b)之含 有醯氧基曱基之化合物藉由將關於之含有羥曱基之化 合物與酿基氣化物在驗性催化劑存在下在擾拌的同時混合 而獲得。 口 具有上述取代基且關於(b)之化合物之特定實例將 在下文中出示。
二,氰胺化合物之實例包括續曱三聚氰胺、六曱I 基甲基三聚氰胺、六經曱三聚⑽中之1至5個經曱基海 曱氧基甲基化之化合物或其混合物、六曱氧基乙基三聚賓 胺、六醯氧基甲基三聚氰胺及六羥曱三聚氰胺中之1至 個經甲基、麵氧基曱基化之化合物或其混合物。 胍胺化合物之實例包括四經曱基胍胺、 胍胺、四㈣,胍胺中之健甲基”氧基甲 之化合物或其合物、四甲氧基乙基胍胺、四 胍胺及四Μ基胍胺中之丨至3她曱基經 之化合物或其混合物。 孔土 Τ悉1丨 甘脲化合物之實例包括喃甲基甘脲、
甘脲、四經甲基甘脲中之1至3贿基經甲氧 ^化合物或其混合物、及贿甲基甘脲中之ι 基經酿氧Μ基化之化合物或其混合物。 個W 98 201139566 脲化合物之實例包括四羥曱基脲、四曱氧基曱基脲、 四羥曱基脲中之1至3個羥曱基經曱氧基曱基化之化合物 或其混合物及四曱氧基乙基脲。 關於(b)之化合物可單獨或以其組合形式使用。 交聯劑(c)(亦即苯酚化合物、萘酚化合物或羥基蒽 化合物,其經至少一個選自羥曱基、烷氧基甲基及醯氧基 曱基之基團取代)不僅有利於抑制與面塗層光致抗蝕劑之 互混,而且藉由熱交聯進一步提高膜強度,類似於如上所 述之交聯劑(b)之情況。 在下文中,此等化合物可統稱為關於(c)之化合物 (含有羥甲基之化合物、含有烷氧基甲基之化合物或含有醯 氧基曱基之化合物)。 羥甲基、醯氧基曱基及烷氧基甲基在交聯劑中 之數目應為每分子至少兩個。由熱交聯性質及儲存穩定性 之觀點來看,酚系化合物較佳,其中充當架構之酚系化合 物之2位及4位皆經取代。此外,作為充當架構之萘酚化 &物或赵基蒽化合物,其中基團之鄰位及對位皆經取 代之化合物較佳。充當架構之酚化合物之3位或5位可經 取代或未經取代。此外,在充當架構之萘酚化合物中,除 〇H基團之鄰位以外的位置可經取代或未經取代。 〃關於(c)之含有羥曱基之化合物由在酚系OU基團之 鄰位^恤具錢料德合物作騎始㈣與福馬林在 諸如氫氧化鈉、氫氧化鉀、氨或氫氧化四烧基鐘之臉性催 化劑存在下反應而獲得。 99 201139566 關於(C)之含有烷氧基甲基之化合物藉由將關於(c) 之含有經甲基之化合物在諸如氫氯酸、硫酸、石肖酸或甲續 酸之酸催化劑存在下在乙醇中加熱而獲得。 關於(C)之含有醯氧基曱基之化合物由關於(C)之 含有羥曱基之化合物與醯基氯化物在鹼性催化劑存在下反 應而獲得。 交聯劑(C)之架構化合物之實例包括苯酚化合物、 萘酚化合物及羥基蒽化合物,其中酚系OH基團之鄰位或 對位未經取代,諸如苯酚、曱苯酚之異構體、2,3-二曱苯 酚、2,5-二曱苯酚、3,4-二曱苯酚、3,5-二曱苯酚、雙酚(諸 如雙酚A)、4,4,-雙羥基聯苯、TRISP-PA(商標名,由Honshu Chemical Industry有限公司製造)、萘酚、二羥基萘及2,7_ 二羥基蒽。 交聯劑(c)之特定實例包括三羥曱基苯酚、三(曱氧 基曱基)苯酚、三羥曱基苯酚中之1至2個羥甲基經曱氧基 曱基化之化合物、三羥曱基_3_曱苯酚、三(曱氧基曱基)_3_ 曱苯酚、三經曱基-3-甲苯酚中之1至2個羥甲基經甲氧基 甲基化之化合物、諸如2,6-二羥曱基-4-曱苯酚之二羥曱基 曱苯酚、四羥曱基雙酚A、四甲氧基甲基雙酚A、四羥曱 基雙酚A中之1至3個羥曱基經曱氧基曱基化之化合物、 四羥曱基-4,4’-雙羥基聯苯、四曱氧基曱基_4,4,_雙羥基聯 苯、TrisP-PA之六羥甲基化合物、TrisP-PA之六曱氧基曱 基化合物、TrisP-PA之六羥曱基化合物中的i至5個羥曱 基經曱氧基曱基化之化合物及雙羥基甲基萘二醇。 100 201139566 提及1,6-二羥基曱基-2,7-二羥基蒽作為羥基蒽化合物 之一實例。 含有醯氧基甲基之化合物之實例包括上述含有羥曱 基之化合物中之一部分或所有羥曱基經醯氧基曱基化之化 合物。 在此等化合物中,較佳為三經曱基笨齡、雙經基曱基 -對甲苯酚、四羥曱基雙酚A、TrisP-PA之六羥甲基化合物 (由Honshu Chemical Industry有限公司製造),及上述化合 物中的羥曱基經烷氧基曱基取代或經羥甲基與烷氧基曱基 取代之酚化合物。 關於U)之此等化合物可單獨或以其兩種或兩種以 上之組合形式使用。 當本發明之著色組成物含有交聯劑時,交聯劑之總含 量以組成物之總固體含量(質量)計較佳為 ^ 至質=’=。為5質量%至心量%,且尤料7質量% 當交聯劑之總含量在上述特定範圍内時 化部分之足夠固化度及足夠溶解性 = 的固化度不足及未固化部分中的溶解性顯著 <溶劑> Λ 本發明之著色組成物可含有溶劑。 本發明之著色细成物之應用不受特別限 體而言,本發明之著声細士 & 帝],而且,具 考邑,,且成物可用於例如藉 製造彩色濾、鏡或藉由__造彩色从衫法來 101 201139566 宜視情況使用溶 另外,鑒於所要應用或其類似情況 劑或其他添加劑。 藉由光微影法 下文將說明本發明之著色組成物用於 製造彩色濾鏡之情況。 、光微影法所用的本發明著色組成物(呈著色感光性組 成物形式的著色組成物)較佳為包括溶劑。 溶劑之實例包括選自以下有機溶劑之液體,且溶劑可 基於著色組成物中各別組分之溶解性及可塗性來選擇。欲 使用之溶劑不受特別限制,只要其滿足所述性質即可,但 較佳為在考慮安全性之後加以選擇。 溶劑之特定實例包括酯類,諸如乙酸乙酯、乙酸正丁 酉曰、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、丙酸丁酯、丁 酸異丙賴、丁酸乙酯、丁酸丁酯、氧乙酸曱酯、氧乙酸乙 酿、氧乙酸丁酯、曱氧基乙酸曱酯、曱氧基乙酸乙酯、曱 氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、3_氧 丙酸甲酯、3-氧丙酸乙酯、3-曱氧基丙酸甲酯、3-曱氧基 丙酸乙酯、3_乙氧基丙酸曱酯、3-乙氧基丙酸乙酯、2-氧 丙酸甲酯、2-氧丙酸乙酯、2-氧丙酸丙酯、2-曱氧基丙酸 甲酯、2-曱氧基丙酸乙酯、曱氧基丙酸丙酯、2-乙氧基 丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-氧基-2-曱基丙酸甲酯、 2~氧基·2-甲基丙酸乙酯、2_曱氧基_2_曱基丙酸甲酯、2-乙 氧基-2-曱基丙酸乙酯 、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸 丙酉旨 '乙醯乙酸曱酯、乙醯乙酸乙酯、2-側氧基丁酸甲酯 及2_侧氧基丁酸乙酯; 102
201139566 ^J\J L· / ^^flL 醚類,諸如二乙二醇二曱醚、四氫呋喃、乙二醇單曱 醚、乙二醇單⑽、乙二醇甲喊乙酸δ旨(乙二醇單曱醚乙 酸酯)、乙二醇乙醚乙酸酯(乙二醇單乙醚乙酸酯)、二乙 一醇單曱醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二 醇單乙趟乙酸g曰、一乙二醇單丁_乙酸酯、丙二醇甲醚、 丙一醇單曱鱗乙酸g旨、丙二醇乙_乙酸g旨及丙二醇丙謎乙 酸酯,酮類,諸如甲基乙基酮、環己酮、2_庚酮及3_庚酮; 及芳烴’諸如甲苯及二甲苯。 ^其中’ 3_乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙二 醇乙醚乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、 3_曱氧基丙酸曱酯、2-庚酮、環己酮、二乙二醇單乙醚乙 酸醋、二乙二醇單丁醚乙酸酯、丙二醇曱醚及丙二醇單甲 醚乙酸酯(PGMEA)更佳。 士雖然此等溶劑可單獨使用,但由紫外線吸附劑及鹼溶 性樹脂之溶解性、塗佈表面之改良或其類似物之觀點來 看’亦較佳為使用兩種或兩種以上溶劑之混合物。在此情 況*下,選自3-乙氧基丙酸曱酯、3_乙氧基丙酸乙酯、乙二 醇乙醚乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二曱醚、乙酸丁酯、 3甲氧基丙酸曱酯、2_庚酮、環己酮、乙基卡必醇乙酸酯、 丁基卡必醇乙酸醋、丙二醇曱醚及丙二醇甲醚乙酸酯的兩 種或兩種以上之混合溶液尤佳。 旦。》谷劑在本發明之著色組成物中的含量較佳為在50質 里^至90質量%之範圍内,更佳在60質量%至95質量% 之範圍内’且最佳在70質量%至90質量%之範圍内。由 103 201139566 抑制外來物質出現之觀點來看,溶劑之含量宜在上 範圍内。 此外’當著色組成物用於藉由喷墨 時,下文中將描述,由可固化性之觀點來看,』二 (=。讀佳純低,且在某时_巾可根本不使用溶劑 <界面活性劑> 至本二Ϊ二塗:生之觀點來看,可將多種界面活性劑添加 本發月之者色种。諸如氟界面活性劑 面活性劑、陽離子的界面活性 ' 蜉〜1各種界 劑亦可用作界面活性劑。 之,虽本發明之著色組成物含有氟界面,、壬如 成物的液體性質(:1 得,改二進^^ 佈溶液形成膜Π二有氣界面活性劑之著色組成物的塗 =膜時,塗佈溶液對於欲塗 ==;=,藉此改良= 甚至當以少量液體形:厚度為幾膜, 尤佳為在7質上量%至30質量%之範圍内,: , 質篁/〇至25質之範圍内。氟含旦/ 圍内的氣界面活性劑可有效形成厚度不均勻:受= 104 201139566 ui 膜及減少塗佈溶液之使用量,且亦在著色組成物中呈現良 好溶解性。 氟界面活性劑之實例包括MEGAFAC F171、 MEGAFAC F172、MEGAFAC F173、MEGAFAC F176、 MEGAFAC F177、MEGAFAC F141、MEGAFAC F142、 MEGAFAC FI43、MEGAFAC FI44、MEGAFAC R30、 MEGAFAC F437、MEGAFAC F479、MEGAFAC F482、 MEGAFAC F780、MEGAFAC F781 (皆為商標名,由 DIC Corporation 製造)、FLUORAD FC430、FLUORAD FC431、 FLUORAD FC171 (皆為商標名,由 Sumitomo 3M Limited. 製造)、SURFLON S-382、SURFLON SC-HU、SURFLON SC-103' SURFLON SC-104'SURFLON SC-105' SURFLON SC-1068 > SURFLON SC-381 > SURFLON SC-383 > SURFLON SC393、SURFLON KH-40(皆為商標名,由 Asahi Glass有限公司製造)及CW-1(商標名,由AstraZeneca K.K. 製造)。 非離子界面活性劑之特定實例包括甘油丙氧基化物 (glycerol propoxylate )、聚氧乙烯月桂醚、聚氧乙烯硬脂醯 醚、聚氧乙烯油醚、聚氧乙烯辛基苯醚、聚氧乙烯壬基苯 醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、去水山 梨糖醇脂肪酸酯(PLURONIC L10、L31、L61、L62、10R5、 17R2、25R2、TETRONIC 304、701、704、撕、904、150R1, 皆為商標名,由BASF Japan製造)。 陽離子界面活性劑之特定實例包括酞菁衍生物(商標 105 201139566 名:EFKA-745,由Morishita&有限公司製造)、有機矽氧 烷聚合物KP341 (商標名,由Shin-Etsu Chemical有限公 司製造)、(曱基)丙烯酸(共)聚合物p〇LYFL〇WN〇·75、 Νο·90 及 No.95 (商標名,由 Kyoeisha Chemical 有限公司 製造)及W001 (商標名,購自Yusho有限公司)。 陰離子界面活性劑之特定實例包括W004、W005及 W017 (商標名,皆購自Yusho有限公司)。
聚矽氧界面活性劑之實例包括TORAY SILICONE DC3PA、TORAY SILICONE SH7PA、TORAY SILICONE DC 11 PA、TORAY SILICONE SH21 PA、TORAY SILICONE SH28PA、TORAY SILICONE SH29PA、TORAY SILICONE SH;30PA、TORAY SILICONE SH8400(皆為商標名,由 Toray Silicone 有限公司製造)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、 TSF-444(4)(5)(6)⑺6、TSF-4460、TSF-4452 (皆為商標名, 由 Momentive Performance Materials Inc.製造)、KP341 (商 標名,由Shin-Etsu Silicone有限公司製造)及Βγκ323 BYK330 (皆為商標名,由BYKChemie製造)。 ’ 界面活性劑可早獨或以其兩種或兩種以上之組合形 式使用。 > <聚合抑制劑> 關,本發明之著色組成物,需要添加少量聚合抑制劑 以便在著色組成物之製造或儲存期間抑制可聚合化合物之 不當熱聚合反應。 本發明可使用的聚合抑制劑之實例包括氫醌、對曱氧 106
201139566 Μ. I 基苯酚、二第三丁基-對曱苯酚、連苯三酚(pyrogallol)、 第三丁基兒茶酚、笨醌、4,4,-硫雙(3_曱基-6-第三丁基苯 酚)、2,2’-亞曱基雙(4-曱基_6_第三丁基苯酚)及队亞硝基苯 基羥胺鈽(I)鹽。 以組成物之總質量計,聚合抑制劑之添加量較佳為約 0.01質量。/〇至約5質量%。 〈添加劑> 本發明之著色組成物在必要時可含有各種添加劑,例 如填充劑、除上述化合物外的高分子量化合物、黏著促進 劑三抗氧化劑、紫外線吸附劑及聚集抑制劑。此等添加劑 之實例包含JP-A帛2G08-29297G號之聽編號[0274]至 [0276]中所述之添加劑。 <著色組成物之製備方法> 在本伽之著色組成物之製财,以上提及之組成物 =可=合在-起,或可在各組分溶解於溶射之後依次 ^ H組分之順序或㈣組成物之操作條件不受特別 製:二組分可在單一步驟中溶於溶劑中來 以便當$用‘二為兩種或兩種以上溶液來製備 成=使U成物(塗佈)時混合此等溶如製備所述組 清写」/備之組成物可在使用前用過s、器進行過濾、,過 佳為_微米至3繼,且⑽ 本發明之著色組成物宜用於形成液晶顯示器(LCD) 107 201139566 ==像?測器(例如CCD * CM〇S)之彩色滤鏡或 離乂者色像素。詳言之,著色組成物宜用於形成固 心衫像感測n (諸如CCDACMC)S)之 。 時,ί二色組成物用於藉由例如光微影法製造:色濾鏡 之Μ μ之組成物尤其適用於形成固態影像感測器 ^色慮f,其中著色圖案成形為具有微小尺寸(mi_e 猶)之溥膜,且亦需要良好的矩形橫截面輪靡。 二3成彩Μ鏡之像素圖案尺寸(當以垂直 於基板之方向看時,像素圖案之側邊之長 例如在〇·5微米至2 〇微米之範圍内”夺: ,像素圖案之面積如此之小以致敏感度傾向於 这尤其是由於因—種顏色滲人或轉移至另―種顏錄 物形成所致的分色性質之下降。當有 至1J微米(尤其0.5微米至1.嶋)範圍;未 所述問題更為突出。 间門之尺寸時, 就此^言,當使用本發明之著色組成物時 現良好圖案可成形性及顏色混合或顏 ^備呈 受抑制且殘餘物形成受抑制的彩色渡鏡,入) 之尺寸為2微米或小於2微米時也是如此。田考色像素 -般而言’使賤料的著色組成物易 這是由於在塗佈雜巾輯容_人 =混合’ 之圖案(或層)中的性質。此外, =不同顏色 f要大量染料,藉此,有利於光微影性i的組二:且成物 量減少。因此,形成的圖宰可自t γ刀之相對含 案&存在缺陷,諸如圖案在因 108 201139566 的曝光量不足之部分處的脫落,因驗性顯 r魅々i崎而不能獲得所要魏或所絲色密度,及 二:二J况。此外,當在形成膜之後進行熱處理時,使用 !轉二色===,間或鄰近層之間的顏 、然而’藉由使用含有特定染料多聚體之本發明之 組成物’可製造著色膜(彩色濾、鏡),其中染料所特有之以 下問題得到顯著抑制,諸如染料渗入先前施加之=層乂 中,鹼性顯影期間染料溶解及因熱處理造 色轉朴同時維持與在使用染料情況下等效的^明政度(顏 <彩色濾鏡及其製造方法> 本毛明之彩色遽鏡藉由使用本發明之著色組成物形 成。因此’本發明之彩色遽鏡可抑制因顏色渗入、顏色韓 移及顯影殘餘物形成所致的顏色混合。此外,本發明之^ 色滤鏡亦呈現優異耐熱性。 在下文中,將描述使用本發明之著色組成物 影法形成彩色濾鏡之方法,。 可使用JP-A f 2008_292970號之段落編號[〇 [續]中所述的方法作為使財發明之著色組成物 微影法形成圖案之方法。 詳言之’所述方法包括藉由施加著色組成物於載體上 來形成著色層之步驟(“著色層形成步驟,’),經由光罩 所形成著色祕叙步驟(“曝光倾,,)及顯影曝 色層以形成著色圖案之步驟(“顯影步驟,,)。包括此等步 109 201139566 騾之方法亦稱為製造本發明之彩色濾鏡的方法。 <著色層形成步驟> 在製造本發明之彩色濾鏡之方法中, 塗、注塗或滾塗之塗佈方法將本發明之 載體上,藉此形成塗層。視情況對塗層 後乾燥以形絲色層(著色層形成步驟)。〃烤且隨 製造本發明之彩色缝之方法中使 包括欲用於液晶顯示器裝置及其類 載:二:例 灰玻璃、卿酸玻璃註冊商=:)驗: 載體;欲用於影像感測!!及其類 獲付的 板,例一及輔助金屬氧二之導 板。此等純可具有界定纽錢素之黑缺( f 對上層之雜、抑鑛f之驗歧餘表^了文, 塗層可視情況形成於此等載體上。 一底 當藉由旋塗將著色組成物施加於 著色組成物之前將合適有機溶劑滴加於載體上 組成物之施加用量。 彳日讀從而減少著色 預烘烤之條件可包含使用熱 至喊下加熱約G.5分鐘至15分^、相將载體在 由著色組成物形成的著色層之厚 擇。-般而言’著色層之厚度較佳 ' 選 来之範圍内,更佳為在〇3微f .糾至5.0微 微水至2.5之範圍内,且最佳 110 201139566 為在0.3微米至5微米之範圍内。本文提及的著色層之 厚度為在執行預烘烤之後量測的膜厚度。 <曝光步驟> 接著’在本發明之彩色濾鏡之製造方法中,將載體上 形成之著色層經由光罩曝露於光或照射(曝光步驟)。 用於曝露之光或照射較佳為g_線、h-線、i-線、KrF 或ArF ’且尤佳為i-線。當i-線用於曝光時’曝光劑量較 佳為100毫焦耳/平方公分至1〇 〇〇〇毫焦耳/平方公分。 其他可用照射源之實例包括超高壓、高壓、中壓或低 壓水銀燈、化學燈、碳弧燈、氙氣燈、金屬鹵化物燈、可 見光及紫外線雷射源、螢光燈、鎢絲燈及日光。 (使用雷射源之曝光步驟) 當雷射源用於曝光步驟時,紫外線雷射可用作光源。 雷射為激射光波放大之縮寫。雷射之振盪器及放大器利用 具有粒子數反轉之物質中存在的誘發放光之現象,且藉助 於光波之放大及振盪產生具有甚至更高相干性及定向性之 單色光。雷射之激發介質之實例包括晶體、玻璃、液體、 杂料及氣體’且在紫外線區域中具有振靈波長之已知雷射 (諸如固體雷射、液體雷射、氣體雷射或半導體雷射)可用 於此等介質中。由雷射輸出及振盈波長之觀點來看,其中 固體雷射及氣體雷射較佳。 ’ 就可在使用雷射源之曝光步驟中使用的雷射之波長 而言,具有較佳為300奈米至38〇奈米且更佳為3〇〇奈米 至360奈采之波長的紫外線雷射較佳,這是因為此範圍内 111 201139566 之波長對應於對抗蝕劑(著色組成物)敏感之波長。 詳言之’較佳為可使用Nd:YAG雷射(第三諧波:355 奈米)’其為具有極高輸出之相對較便宜之固體雷射;及準 分子雷射(XeCl : 308奈米,XeF : 353奈求)。 對目標(著色層)之曝光劑量較佳為在丨毫焦耳/平方 公分至100毫焦耳/平方公分之範圍内,且更佳為在丨毫焦 耳/平方公分至50毫焦耳/平方公分之範圍内。由形成圖案 之生產力之觀點來看,此曝光劑量範圍較佳。 可在使用雷射源之曝光步驟中使用的曝光設備不受 特別限制,且其實例包括市售設備,諸如CALUST〇 (商 標名,由V Technology有限公司製造)、egis (商標名, 由V Technology有限公司製造)及DF22〇〇G (商標名由
Dainippon Screen Mfg.有限公司製造),且較佳亦可使用豆 他設備。 發光二極體(LED)及雷射二極體(LD)可用作有效 照射源。詳言之,當必須使用紫外線照射源時,可使用紫 外線LED及紫外線LD。舉例而言,Nichia公司將且有波 長範圍在365 |米與42〇奈米之間的主發射光譜之紫外線 LED推向市場。當想要甚至更短波長時,可❹美國 第6,084,250號中所揭露之LED,其可發射中心在3〇〇太 米與370奈米之間的有效照射。其他紫外線led亦: 且可發射不同紫外線範圍之照射。本發明中的有效= 較佳為UV-LED且尤佳為峰值波長為34〇奈米至37〇'太= 之UV-LED。 不米 112 201139566 m由於紫外線#射呈财好的平行度,所以可在無光罩 圖㈣光°⑼,在随曝光躺使用光罩 因圖案之線性度可得以進—步改良而較佳。 在後續顯影處理之前’可使用熱板或烘箱將曝光著色 s在70C至180。(:下加熱〇·5分鐘至15分鐘。 此,,可在允許氮氣在腔室㈣動的同時進行曝光以 抑制者色層中染料之氧化性褪色。 <顯影步驟> 、P迎後’使用顯影溶液將曝光著色層(顯影步驟)顯影。 以此方式可形成負型或正型著色圖案(抗姻彳圖案)。 顯影溶液可為各種有機溶劑或鹼性水溶液之組合,只 要其溶解著色射之未㈣科且秘朗化部分^可Γ =顯影劑溶液為驗水驗時,為雖驗性濃度以使 付pH值為11至13,更佳為11.5至12.5。詳言之,氫氧 化四乙錢之濃度已調整為帽!質量%至1〇質^,較佳 為0.01負里%至5質量%之驗性水溶液可用作顯影溶液。 顯影時間較佳為在30秒至3〇〇秒,更佳為在3〇秒至 12〇秒之範圍内。顯影溫度較佳為20。(:至4(Tc,且更佳為 顯影可使用槳式系統、淋灑系統、噴麗系統或其類似 物執行。 八 、在用鹼性水溶液顯影之後較佳為用水進行洗滌。洗滌 方法宜根據用途選擇,且一實例為沖洗處理,其藉由在 轉/分鐘至500轉/分鐘之旋轉速度下旋轉載體、(^如石夕晶 113 201139566 圓基板之)的同時,自位於載體之旋轉中心之上方的喷射 嘴供應淋灑形式的純水。 之後’著色圖案可視情況進行後加熱及/或後曝光以加 速著色圖案之固化(後固化步驟)。 <後固化步驟> 在本發明中,在藉由上述顯影形成圖案之步驟之後, 較佳為進行後固化步驟用於進一步固化所得圖案。 可藉由加熱(後加熱)及/或曝光(後曝光,諸如紫外 線照射)進行後固化,且所得圖案進一步經固化以在用於 後續顏色之著色®案的著色層形成躺抑制圖案溶解,或 改良所得彩色滤鏡之像素之耐溶劑性。 驟。後固化步雜佳為進行紫外線騎之紫外線照射步 -茶外踝照射梦驟- ^外線=射步驟中’藉由後曝光進行圖案固化【 ^之’關如紫外光(紫外光) 理之曝絲细料/平衫分]的 焦耳/平方公分]照射已在圖荦形& + 倍“、、射劑f 圖案。藉由在圖案形成步顯影_ 熱處理之間用紫外光照射顯影圖案= 預定二將描: 地抑制後續加熱期間的顏色轉移。若此步驟中 受到抑制。 ^近層之_顏色轉移巧 紫外光之照射劑量較佳為圖案形成步驟中的❹ 114 201139566 量之12倍至200倍,且更佳為15倍至100倍。 可用g-線、h-線、i-線、Krj?、ArF、紫外光、電子束、 X射線或其類似物,較佳為用g_線、h_線、k線或紫外光 且尤佳用紫外光進行後曝光。當用紫外光(uv固化)進 行照射時,較佳為在20。(:至50°C (較佳為在25。(:至4(TC) 之低溫下進行。紫外光之波長較佳為包括2〇〇奈米至3〇〇 奈米之波長範圍。高壓水銀燈、低壓水銀燈或其類似物可 用作光源。照射時間在1〇秒至18〇秒之範圍内,較佳為在 20秒至120秒之範圍内,且更佳在3〇秒至6〇秒之範圍内。 A?、射紫外光之光源可為例如超高壓水銀燈、高壓水銀 燈、低壓水銀燈、遠紫外線燈或其類似物。其中,較佳為 以下光源:照射的紫外光包括波長為275奈米或275奈米 以下之光的紫外光,及可照射之光在275奈米或小於奶 奈1波長下的光之照射照度[毫瓦/平方公分]為所述光在所 有糸外光之波長下的光之積分照射照度的5%或5%以上。 藉由將紫外光中波長為275奈米或275奈米以下之光的昭 射照度調整為5%或5%以上,抑制著色像素之間或鄰近丄 層與下層之間_色轉移之作用及改良耐光性之作用可得 以進步改I。自此等觀點來看,較佳為藉纟使賴圖案 形成步驟中所進行之曝光所用的光源(亮線,諸如^)、 不同之光源進行紫外線照射之後曝光。詳古之,宜使用古 壓水銀燈、健水缝或其鐘物。出於滅,光: 275奈米或小於275奈米波長下的照射照度[毫瓦坪方 較佳為光在所有紫外光波長下之積分照射照度的 115 201139566 以上。此外’希望光在275奈米或小於275奈米波長下的 照射照度之上限為25%或25%以下。 ‘積分照射照度”指的是照射光中所包含的各別光 波長之照度之總和(面積)’其顯示為圖中所繪曲線之面 積’圖中在各光譜波長(通過單位面積/單位時間之照射能 量;[毫瓦/平方公分])下的照度表示縱轴且光之波長[奈米] 表示橫轴。 後曝光中使用的紫外光之積分照射照度較佳為200毫 瓦/平方公分或200毫瓦/平方公分以上。若積分照射照度 ,200毫瓦/平方公分或2〇〇毫瓦/平方公分以上,則抑制 著色像素之間或鄰近上層與下層之間的顏色轉移及改良耐 光性之作用可得以更有效較良。毅照射照度較佳為 250毫瓦/平方公分至2,〇〇〇毫瓦/平方公分,更佳為3〇〇毫 瓦/平方公分至1,〇〇〇毫瓦/平方公分。 此外,較佳為用熱板或烘箱在…(^^至30(rc之溫度 下且更佳為在15G°C至25Gt之溫度下進行後加熱。後加熱 之時間較佳為在3G秒至3G,_秒之範_,且更佳為在 60秒至1,〇〇〇秒之範圍内。 在後固化步驟中,後曝光與後加熱可組合進行,且任 Γί可在另I者之前進行。然而,較佳為在後固化之前進 後曝光,這是因為可在後加齡驟期_底部轨下垂 卷邊所致_案形狀變形可藉由執行後曝光促進圖案固化 加以抑制。 由此獲得之著色圖案構成彩色紐之著色像素。 116 201139566 ^υι lyyu :=之後晴驟),次數對應於彩 本發明之著色組成物可容易用已知 於塗佈設備之噴射單除塗: «備道早兀、塗佈設備之内部或其類似物也 ^ 了南效地移除著μ成物,宜朗 中所包含的上述溶劑。 r者色組成物 此外,JP-Α 第 7_128867 號、第 7_146562 號、第 8-278^ 说、第 2000-273370 號、第 2006_8514〇 號、第 2〇〇6 29ιι9ι #u ' % 2007-2101 ^ ^ % 2007-2102 #u . % 2007-281523 號及其類似讀t所叙清潔紐較佳為亦可用作清潔及 移除本發明之著色組成物的清潔液體。 較佳為使用烷二醇單烷基醚羧酸酯或烷二醇單烷基 醚作為清潔液體。 & ;^劑可單獨或以其兩種或兩種以上之組合形式使用。 當兩種或兩種以上溶劑混合時,包含具有羥基之溶劑 及不具有羥基之溶劑的混合溶劑較佳。具有羥基之溶劑與 不具有經基之溶劑的質量比較佳為1/99至99/1,更佳為 10/90至90/10 ’且尤佳為2〇/8〇至8〇/2〇。混合溶劑尤佳為 丙二醇單曱醚乙酸酯(PGMEA)與丙二醇單甲醚(PGME) 之/扣合>谷劑,其中混合比為60/40。 為了提高清潔液體對著色組成物之滲透性,清潔液體 117 201139566 述界面活繼為可包含於著色紐撕的界面 除了以上提及之方法之外,亦存在 作為製造彩色濾鏡之方法。 ^法之方法 藉由喷墨法製造彩色濾鏡之方法不受 ^下步驟:製備具有由隔板所界定之凹陷:之= f虞喷墨法將本發明之著色組成物之液滴(特卜 如田权本發明之喷墨用墨水)沈積於凹陷部分中 形成彩色滤鏡之著色像素。舉例而言,可使用JPA曰第 號之段落編號_4]至_中所述的方法。 作為透^導色f鏡可進一步包含氧化姻錫(ΙΤ0)層 _方_^° 之實例包括連續式低 方法、真找積方法及電漿cvd方法。 :=法為了使糊鏡之損壞減至最小,尤佳使用 <喷墨用墨水> t 之ΐ墨用墨水含有本發明之著色組成物。 性及耐用墨水可用於形成呈現優異牢度(财熱 ^ )、儲存穩定性及噴射穩定性之著色像素。 、、六劑^=噴墨用墨水較佳為含有特定染料多聚體,及 >谷劑及可聚合化合物中之至少一者。 劑。劑:二之巧用t可含有或可不含有溶 噴^用墨水之一個實例為其中可聚合物化 118 201139566 合物也用作溶劑之墨水。 <溶劑:> 溶劑沒有特別限制,只要其滿足各別組分之溶解度或 溶劑彿點之要求即可,但較料考慮下文贿之黏合劑之 /奋解度、可塗佈性及安全性來選擇溶劑。溶劑之特定實例 包括JP-Α第2009-13206 !虎之第[0030]段至第[〇_]段所述 之溶劑。 此外,本發明之著色組成物中可包含之前述溶可 作溶劑。 曰/合劑之含量以噴墨用墨水之總質量計較佳為在3〇質 至90質量%範圍内,且更佳為5〇質量%至9〇質量%。 含量為30質量%或3〇質量%以上時,可維持一個 ^素中之墨水沈積量,且墨水可有利地濕式擴散於 中。當溶劑含量為90質量%或90質量%以下日夺,可掊 ^水中除溶劑外之組分之量不低於指定含量,所述电分用 能膜(例如像素)。因此,當形成彩色濾鏡時,形 素所必需之墨水量*應過大。舉例而言,當藉由喷 广法在隔板所界定之凹陷部分中沈積墨水時,可、 攸凹陷部分流出或與形成相鄰像素之墨水混合。土7 自墨水自噴嘴之喷射性質及墨水對於載體之潤濕性 的硯點出發,本發明之喷墨用墨水較佳為含 7 劑之高沸點溶劑。 s有選自上返溶 溶劑沸點較佳為在13(TC至28(TC範圍内。 若溶劑沸點為13〇。(:或13(TC以上,則可進一步改_ 119 2〇Π39566 像素形狀之平面内均勻性。 右溶劑濟點為280t4 28〇1:以下,則可進一步改良 錯由預供烤移除溶劑之能力。 溶觸點意謂在〗個大氣顧力τ <黏合劑> 為了難墨水之減、硬度或細似㈣,黏合劑可 ^况添加至本發明之喷墨用墨水巾。黏合劑可為僅由自 f無Ϊ聚合之樹脂形成的黏合樹脂,•簡單地藉由乾燥固 H為了使墨水卿紅塗膜具有足夠強度、耐久 ίίϊί性’較料使料销时墨方法於載體上形成 ’、/、之後經由聚合反應固化的黏合劑。舉例而言,可 使用可藉由水合固化之黏合劑,例如在曝露於可見光、紫 外光、電子束或其類似輻射時聚合及固化之可光固化黏合 劑,及在加熱時聚合及固化之熱固性黏合劑。 此外,可用於本發明之著色組成物中之黏合劑可用作 本發明之喷墨用墨水^之黏合樹脂。 <交聯劑> 本發明之噴墨用墨水可含有交聯劑。 作為父聯劑,且使用 General Introduction to Epoxy Resins, Basic Edition I» ( The Japan Society of Epoxy Resin Technology,2003年11月19日發佈)之第3章所述之固化 120 201139566 劑。舉例而言,多官能羧酸軒或多官能_可用 〈界面活性劑> 墨用墨ΐ可進-步含有界面活性劑。 1 /生蜊之較佳實例包括揭露於ΤΡ Δ楚 號之第[0021]段中之界面活及;7-216276 2003-337424及⑴咖⑻號中於Μ第 =著色組一量計較佳為== 二性劑可 〈添加劑> 可視情況添加於本發明之喷墨用墨水巾之添加劑包 括JP_A第2000-310706號之第[〇〇58]至[⑼7!]段中 添加劑。 <製備噴墨用墨水之方法> 本發明之噴墨用墨水可藉由製備喷墨用墨水之已知 方法來製備。 在製備可聚合化合物之溶液期間,當待使用之物質在 溶劑中具有低溶解度時,諸如加熱或超音波處理之處理可 在可聚合化合物不會引起聚合反應之範圍内進行。 本發明之喷墨用墨水之物理性質不受特別限制,只要 此等性質在噴墨用墨水可自喷墨頭喷射之範圍内即可,但 自實現穩定噴射的觀點出發,噴射期間之墨水黏度較佳為 121 201139566 :2 m 30 m:a.s、更佳 2 mpa s 至 2〇 之範圍 内。此卜备使用設備噴射喷墨用墨水 溫度較佳為在2(TC至㈣^ 墨水 、、田产較H _^/1&_捕貫質上怪定。當設備 ;方Γίί度’從而可喷射具有較高黏度之 墨水另-方面,由於__之高溫,墨水可發 及/或=合反應’或墨水中之溶劑可在墨 面上蒸發而引起噴嘴堵夷。x噴嘴衣 至8〇t範圍内。▲目此’ S又備溫度較佳為在20。(: =減為在轉t㈣墨水之溫度為坑的同 時,用常用E型黏度計(例如繼〇L = SANGYO有限公司製造)量測的值。 由順 自改良對於非滲透性基板之龍性及改良喷射穩 性的觀點出發,本發明之喑黑 " ± 料用墨水在25C下的表面張力 (靜態表面張力)較佳為在2〇毫牛頓/米至*毫牛頓/米範 佳為20毫牛頓,米至35毫牛頓/米。當藉由設備 喷射喷墨用墨树,難為使噴墨水之溫度在耽至 帆範__實質该定,且翁綱之表面張力較佳 為在20 mN/m至40 mN/m範圍内。為了以某種程度的精 確度,持喷墨用墨水之溫度,較佳為使肢備有墨水溫度 债測單元、墨水加誠冷卻單元及控料元(響應於經偵 測之墨水溫絲㈣加熱或冷卻)的設備。或者,亦較佳 為提供根據墨水溫度控制施加於噴射喷墨用墨水之單元之 能量且降低喷墨用墨水之物理性質改變所產生的影響的單 元〇 122 201139566 ,面張力為根據Wilhermy方法’在25。(:之液體溫度 及60/oRH下,用常用表面張力計(例如,商標 名由Ky〇Wa Interface Science有限公司製造)量測的值。 為了在噴墨用墨水沈積於载體上之後,在載體上濕式 ^政的同時維持噴墨水之有利形狀,較佳為將沈積於 ^板上,後㈣墨用墨水之液體性質維持在預定範圍内。 ^此較佳為維持載體及/或載體鄰近區域之溫度在預定範 =。或者,亦可藉由例如增加載體下的工作台的熱容量 來有=降低因溫度變化引起之影響。 靜Ϊ糟^墨法使用本發明之喷墨用墨水來製造彩色 Ϊ二’ 之儲存穩定性很優異且墨水之聚集或分解得 飛當連續或間斷噴射墨水時,例如偏離墨水 嘴^用法噴射墨水之喷射缺陷可得到抑制。此外, 自=良好的復原性質,在暫停—段時間後,及 目無去進仃噴射之狀態之復原性質。 的方㈣本發明之喷‘錢墨讀造彩色滤鏡 方法不叉特別限制,且例如可使 號之第陶]擊概所述之♦ A 4細-250188 <本發明之彩色濾鏡之用途> 本發明之彩色濾鏡可適用於( ,:便攜終端,例如液晶顯示器、有::以: 日日投影儀、遊戲機及行動電話 ·‘、、不窃、文 導航儀,及尤其彩色顯^話如例如數位相機及 此外,本發明之彩色濾鏡可較佳為用作數位相機、數 123 201139566 位視訊相機、内視鏡及行動電話巾所用之⑽影像感測 器及CMOS㊉像感湘之固態影像感測器的彩色淚鏡。詳 言之’彩色魏適用於可含有超過—百萬 度CCD裴置或CM0S裝置。 ^ <固態影像感測器> 本發明之固態影像感測器包括本發明之彩色減鏡。 本發明之固態影像感測器特別適合用作數位;機、數 位視訊相機、内視鏡及移動電話中所用之ccd影像感測 器或CMOS影像感測器。其中,本發明之固態影像感測器 尤其適合用作具有超過—百萬個像素之高解析度之⑽ 影像感測器或CMOS影像感測器。 固態影像感測器之組態不受特別限制,只要其包括本 發明之彩色濾鏡且起固態影像感測器之作用即可:且其實 例為包括龍、多個光電二鐘(構成光接收區域且^移 在載體上形成之由乡晶_或其類似物製得之電極)、在其上 形成之本發明之彩色濾鏡及在其上戦之微透鏡的組態。 此外’在具有本發明之彩色遽鏡之相機系統中,雲於 木料之變色性質,相機透鏡或紅外線截止膜舰) 較佳為具有二向色塗佈玻璃蓋片、微透鏡或其類似物。此 外,玻璃蓋片或微透鏡之材料較佳為具有吸收_細或 400 nm以下之部分或全部紫外光之光學性質。此外,為了 抑制因染料氧化㈣起之變色,相齡統較佳為具有降低 ^色滤鏡透氧性的結構。舉_言,雛為魏氣密封相 機系統之部分或整個主體。 124 201139566 <顯示裝置> 本發明之顯示裝置包括本發明之彩色濾鏡。 本發明之顯示裝置之實例尤其包括液晶顯示器 (LCD)、有機EL顯示器、液晶投影儀、遊戲機之顯示裝 置、便攜終端(例如行動電話)之顯示裝置、數位相機之 顯示裝置及汽車導航儀之顯示裝置’且彩色顯示裝置尤其 適合。 顯示裝置之定義及各顯示裝置之解釋描述於例如 Electronic Display Device (Akio Sasaki, Kogyo Chosakai
Publishing 有限公司,i99〇”、“Display Device (Sumiaki Ibuki,Sangyo Tosho Publishing 有限公司,1989)” 及其類似 文獻中。 液晶顯示裝置描述於例如“Next Generation Liquid Crystal Display Techniques (Tatsuo Uchida, Kogyo Chosakai Publishing有限公司,1994)”中。可應用本發明之液晶顯示 裝置不受特別限制,且本發明可應用於例如“Next
Generation Liquid Crystal Display Techniques” 中描述的各 種液晶顯示裝置。 本發明之彩色濾鏡可尤其有效地用於彩色TFT液晶 顯示裝置中。彩色TFT液晶顯示裝置描述於例如“Color TFT Liquid Crystal Display (Kyoritsu Shuppan 有限公司, 1996)”中。此外,本發明可應用於具有較寬視角之液晶顯 示裝置’例如共平面切換(IPS)系統或多區域垂直排列 (MVA)系統、或 STN、TN、VA、OCS、FFS、R-OCB 及 125 201139566 其類似物。 本發明之純魏,村應狀 COA U, (c〇1〇r_mter 〇n Arra;f};;^ 在COA型液晶顯示裝置中,除上述常規需求外 鏡層需要献相介鶴所必需之性w,例如低介電g 及對移除液之抗性。認為彩色;錄_作曝露光之紫外 射的透射村藉由卿進行曝光之方法或聊著色像素之 顏色或膜厚度來增加。因此,著色像素之固化性得到改良, 且可在沒有切削、剝落或不均勻的情況下形成著色像素, 從=改良對TFT基板上直接或間接提供之著色層之移除液 的抗性。蚊此等原因,本發明之彩色魏咖於c〇a 型液晶顯tf裝置。為了實現低介電常數,可在彩色遽鏡層 上提供樹脂塗層。 在COA系統所形成之著色層中,為了將安置於著色 層上之ITO電極與安置於著色層下方之驅動基板之末端電 連接,需要形成導電路徑,例如具有約丨微米至15微米邊 長之矩形通孔或u形凹陷區域。導電路徑之尺寸(亦即側 邊長度)較佳為5微米或5微米以下,且可根據本發明形 成具有5微米或5微米以下尺寸之導電路徑。 此等影像顯示系統描述於例如“ EL, PDP,LCD Display - Latest Trends of Technology and Markets (Research Study Division of Toray Research Center, Inc., 2〇01)”之第43頁及其類似文獻。 除本發明之彩色濾鏡外,本發明之液晶顯示裝置還包 126 201139566 -—· - X--- 括各種類型的其他組件,例如電極基板、偏光膜、相位差 膜、背光、間隔層及視角補償膜。本發明之彩色濾鏡可應 用於包含此等已知組件的液晶顯示裝置。 此等組件之細節描述於例如“ '94 Market of Liquid Crystal Display Related Materials And Chemicals (Kentaro Shima,CMC Publishing 有限公司,1994)” 及 “2003 Current State And Perspective Of Liquid Crystal Related
Market (第 2 卷,Ryokichi Omote,Fuji Chimera Research Institute, Inc.,2003)” 。 背光描述於例如 SID meeting Digest 1380 (2005) (A. Konno 等人)及 Monthly Display, 2005 年 12 月,第 18-24 頁 (Hiroyasu Shima)及第 25-30 頁(Takaaki Yagi)。 當本發明之彩色濾鏡用於液晶顯示裝置中時,與已知 的三波長冷陰極管組合可獲得高對比度。然而,當與紅色、 綠色及藍色LED光源組合用作背光時,可獲得呈現高亮 度、高色純度及優異顏色再現性之液晶顯示裝置。 根據本發明之著色組成物、喷墨用墨水、彩色濾、鏡及 製備彩色濾鏡之方法、固態影像感測器及顯示裝置的細節 已藉由說明各種實施例而描述如上。然而,本發明不限於 此等實施例’且可在不偏離本發明主旨之情況下對其夂 種修改及變動。 ' ^ 實例 下文將參考以下實例進一步詳細描述本發明。以下 例中提供之材料、試劑、比率、儀器、操作及其類似者可 127 201139566 在不偏離本發明範疇之情況下經適當修改。因此,本發明 決不受限於以下特定實例。在以下實例中’除非另外明確 說明’否則“%”及“份,,分別是指“質量%,,及“質量 份” 。 [實例1] 〇)製備抗蝕劑溶液A (負型) 將以下組分混合並溶解以製備抗蝕劑溶液A。 -丙二醇單甲醚乙酸酯:5.20份 -環己酮·· 52.60份 -黏合劑:30.50份 (曱基丙烯酸苯曱酯/曱基丙烯酸/曱基丙烯酸2-羥乙 酯共聚物,莫耳比=60:20:20,平均分子量:30200 (以聚 苯乙烯計),41%環己酮溶液) -二異戊四醇六丙烯酸酯:10.20份 -聚合抑制劑(對曱氧基苯酚):〇·〇〇6份 -含氟界面活性劑(商標名:F-475,由DIC Corporation 製造):0.80份 -光聚合引發劑:4-苯並氧雜環戊烷-2,6-雙(三氣曱 基)-均三嗪(商標名:TAZ-107,由MidoriKagaku有限公 司製造).0.58份。 (2)製備具有底塗層之玻璃基板 使用0.5% NaOH水溶液對玻璃基板(商標名: CORNING 1737)進行超音波洗滌,接著用水洗滌及脫水 烘烤(200°C/20分鐘)。接下來,在玻璃基板上,用旋轉塗 128 201139566
乾燥後厚度,且藉由在22(TC下加埶i小時 风不疋 製備具有底塗層之玻璃基板。從而 (3 )製備著色組成物 將以下組分混合,分散並溶解以製備著色組成物。 -環己酮:1.133份 -曱基丙烯酸苯甲酯/曱基丙烯酸共聚物(2〇%CyH溶 液)(莫耳比=70:30,重量平均分子量:30,000) : 1.009份 -可聚合單體(商標名:KAYARAD DPHA,由Nippon Kayaku有限公司製造):3.84份 -含氟界面活性劑(1% CyH溶液)(商標名: SOLSPERSE 20000,由 AstraZeneca K.K.製造):0.125 份 -肟光聚合引發劑(以下結構):0.087份 -染料多聚體(例示性化合物1-4,重量平均分子量 (Mw) : 5200,分散度(Mw/Mn) 1.66) : 0.183 份 -顏料藍15:6分散體:2.418份 (固體濃度:17.70%,顏料濃度:11.80%) -非離子性界面活性劑··甘油丙氧基化物(1% CyH 溶液):0.048份
129 201139566 -製備C.I.顏料藍15:6分散體 藉由以下方法製備C.I.顏料藍15:6分散體。 …混合U.8質量份之C.I.顏料藍15:6 (平均粒徑:55 奈求)、5.9質量份之顏料分散劑Βγ-161 (商標名,由Βγκ 製造)及82.3質量份2PGMEA,並用珠磨機(beadmm) (氧化錄珠粒直徑:0.3絲)將其分散3小時,從而製備 顏料分散體。此後,魏備有降壓機構之高壓分散設備 (ΝΑΝ〇·300〇_1〇,商標名,由 Nipp〇n BEE Chemicai 有限 公司製造)以500公克/分鐘之流速在2,〇〇〇千克/立方公分 之壓力下對經混合溶液進行分散處理。此分散處理重複 次以獲得顏料分散體(CU.顏料藍15:6分散體)。藉由動態 光散射方法用量測設備(NAN〇TRAC υρΑ_Εχΐ5〇,商標 名,由Nikkiso有限公司製造)量測所得顏料分散體之顏 料之平均初始粒徑。顏料之平均初始粒徑為24奈米。 (4)曝露及顯影著色組成物(形成著色圖案) 用旋轉塗佈機將步驟⑴巾獲得之著色組成物施加 於步驟(2)中在玻璃基板上形成之底塗層上,直至乾燥後 厚度為0.6微米,且將塗膜在100°Ct預烘烤12〇秒。 隨後,使用曝光設備(UX3100-SR,商標名,由Ushi〇, Inc.製造)’以200毫焦耳/平方公分之曝光劑量,經由1有 2微米線寬之光罩使塗膜曝露於具有365奈米波長之光。 在曝光後’用顯影劑溶液(CD-2000,商標名,由FujiFilm
Electronics Materials有限公司製造)在25°C之條件下顯影 130 201139566 塗膜40秒。接著, 燦以獲得著色圖案 在用流動水沖洗3〇秒後 進行噴霧乾 圖案300秒以使其固化(後 此後,在20(TC下加熱著色 烘烤)。 案之玻璃基板(藍色單色彩色濾 因此獲得具有著色圖 鏡)。 (5)評估 之估耐驗溶性、耐溶劑性、因熱擴散引起 料顯影殘餘物之形成及顯影殘餘物或染 ^在其他顏色中之滲入(渗入不同顏色之著色圖案中)。評 估結果顯不於表1至5中。 、 [抗驗溶性] 別4測在步驟⑷+翻烤後之塗狀光譜透射 射Α)及在曝光部分經顯影後之塗膜之光譜透射 1 t复射Β)。藉由光譜透射Α與光譜透射Β之間的差別 ^計^染料殘餘比(%),且將結果用作評估耐驗溶性之指 標。染料殘餘比愈接近%,耐驗溶性就愈好。 [耐溶劑性] 、…測置在步驟(4)中後烘烤後之著色圖案之光譜透射 (光譜透射A)。將步驟(丨)中獲得之抗蝕劑溶液a施加 於著色圖案(彩色滤鏡)上直至厚度為1微米,接著經受 預供烤。用顯影劑溶液(CD-2000,商標名,由Fuji Fi^
Electronics Materials有限公司製造)在23°C之條件下進行 顯影120秒’且再次量測光譜透射(光譜透射B)。藉由光 131 201139566 譜透射A與光譜透射B之間的差別來計算染料殘餘比 (%)’且將結果用作評估财溶継之指標。染料殘餘比愈 接近100%,耐溶劑性就愈好。 [因熱擴散引起之顏色轉移] 將用於形成底塗層之透明溶液(CT_2000L,商標名, 由Fuji Film Electronics Materials有限公司製造)施加於步 驟(4)中製備之彩色濾鏡上直至乾燥膜厚度為丨μιη,且 乾燥以形成透明膜。此後,使透明膜在200。〇下經受熱處 理5分鐘。在加熱後,用顯微光譜學系統(lcf_15〇〇m, 商標名,由Otsuka Electronics有限公司製造)量測緊鄰著 色圖案形成之透明膜之吸光度。計算所得透明膜之吸光度 值與加熱前量測之著色圖案之吸光度值的比率[% ],其用作 評估顏色轉移之指標。 •評估標準_ 向鄰近像素之顏色轉移(%) A :向鄰近像素之顏色轉移<1% B : 1%<向鄰近像素之顏色轉移u〇% C : 10%^向鄰近像素之顏色轉移幻0% D .向鄰近像素之顏色轉移>30% [在基板上形成之顯影殘餘物] 用掃描電子顯微鏡(商標名·· Hitachi超高解析度場發 射掃描電子顯微鏡S-4800,x20,000)檢查在步驟(4)中 顯影後之著色圖案之未曝光部分。根據以下標準對結果進 行感官評估。 132 201139566 A·著色圖案在顯影後無殘餘物 B:著色圖案在顯影後存在_些殘餘物 C•著色圖案不能顯影 [顯影殘餘物/染料在其他顏色中之、參入] =轉塗佈機將以下著色組成物(:)施力 中在玻璃基板上形成之底塗層上 微米’且在戰下職烤120秒。接 備(UX31〇〇-SR,商標名,τ者藉由使用曝光設 隹㈣古、、 由UShl〇,Inc.製造),以200毫 膜表面^^^曝^劑太量’在不用光罩之情況下使整個塗 =r_’商標名,由==: 有限公司製造)在坑之條件下顯影塗膜4〇秒。 者在用流動水沖洗30秒後,進行噴霧乾燥。此後,在 下進行後鱗15分鐘’且量測麵之紐透射(光 曰、A)。此外,用旋轉塗佈機將以上步驟(3)中製備 3色組成物塗佈於塗膜上直至乾驗厚度為Q 6微米, 100C下預烘烤120秒。用顯影劑溶液(CD 2〇〇〇,商 下,由 Fuji Film Electronics Materials 有限公司製造)在 之條件下在不進行曝光之情況下顯影塗膜40秒。接 在用流動水沖洗3G秒後,進行噴霧乾燥且量測光譜透 、’(光谱透射B)。根據光譜透射A與光譜透射B之間的 差別,計算透射率降低量之絕對值(T%降低量),且將其 用作評估㈣麵餘物/純在其他顏色巾之滲人之指標。 -評估標準- 133 201139566 f〜殘餘物/染料在其他顏色中之滲人(τ%降低) • τ°/°降低量< 1% Β · P/oST%降低量 €5% C · τ%降低量> 5% 者色紐·成物G - 旦將40份C.I.顏料綠36與C.I·顏料黃 219 之 30/70 [質 里比]混合物、50份分散劑DISPERBYK-161 (商標名:由 ΒΥΚ製造,3〇%溶液)及11〇份溶劑丙二醇單曱醚混合, 且用珠磨機分散15小時以製備顏料分散體(ρι)。 混合顏料分散體(Ρ1)及以下組分且攪拌以製備著色 組成物G。 <組成物> -染料(顏料分散體(Ρ1)) : 350份 -聚合引發劑(躬·光聚合引發劑)(商標名:CGI_124, 由 BASF Japan 製造):30 份 TO-1382 : 25 份 (可聚合化合物’含羧基五官能丙烯酸酯,由T〇ag〇sd 有限公司製造) -二異戊四醇六丙烯酸酯:30份 -溶劑(PGMEA) : 200 份 -基板助黏劑(3_甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽 烷):1份 [實例2至實例33及比較實例丨至比較實例27] 除了將實例1之染料多聚體換成表1至表5中所述之 134 201139566 染料多聚體’以與實例i相同之方式評 及比較實例1至比較實例27。 m例至貫例33 千均刀子1 (Mw>在本發明中,藉助 : 重量平均分子量,聚合反應為使___節 分子量之相對容易方式。 特疋而s,在氮氣氛圍下,以聚合引發劑/鏈轉移劑之 固定比率(2/1 ’莫耳比)’在聚合引發劑相對於可聚合染 料單體(及共聚合組分單體)之總莫耳數之3莫耳%/6 莫耳%及9莫耳%的3個點進行初步實驗之聚合反應。接 著藉由GPC量測反應液體以獲得各指定重量平均分子量 (Mw) ° 基於此等3個點繪製校正曲線,且計算獲得所要重量 平均分子量(Mw)所需之聚合引發劑及鏈轉移劑之量, 藉此可合成具有所要重量平均分子量(Mw)之染料多聚 體。當在此校正曲線範圍内無法獲得所要重量平均分子量 (Mw)時,可藉由已知的分子量控制方法,例如藉由改變 反應溫度、溶劑種類、聚合引發劑或鏈轉移劑、或反應濃 度來調節重量平均分子量(Mw)。 特定而言,在實例1至實例33中,如上所述,計算 聚合引發劑之量及鏈轉移劑之量’使得自校正曲線獲得之 重量平均分子量(Mw)在5,000至20,000之範圍内,藉 此藉由進行聚合反應將重量平均分子量(Mw)調節至5,0〇〇 135 201139566 至20,000之範圍内(同樣適用於實例2-1、實例3-1及實 例 3-2)。 在比較實例1至比較實例27中’如上所述,計算聚 合引發劑之量及鏈轉移劑之量’使得自校正曲線獲得之重 量平均分子量(Mw)小於5,000,藉此藉由進行聚合反應 將重量平均分子量(Mw)調節至小於5,000。或者,計算 聚合引發劑之量及鏈轉移劑之量,使得自校正曲線獲得之 重量平均分子量(Mw)超過20,000,藉此藉由進行聚合 反應將重量平均分子量(Mw)調節至超過20,000。 在實例及比較實例中’藉由確定是否進行再沈澱、改 變再沈澱溶劑之種類及量及改變進行再沈澱之次數來調節 分散度(Mw/Mn)。 特定而言’在實例1至實例33中,藉由用PGMEA/ 曱醇(1/1 ’體積比)將聚合反應溶液稀釋至聚合反應液體 3倍體積之量,並用量為溶液約2〇至1〇〇倍之乙腈(或乙 腈/曱醇混合溶劑,體積比7/3)使此溶液進行再沈澱來調 節分散度至所要分散度。 當未獲得所要分散度時,將自再沈澱獲得之染料多聚 體溶解於THF (或環己酮、PGMEA)中,THF之量為染 料多聚體重量之3至5倍,且用量為溶液約2〇至1〇〇倍之 乙腈(或乙腈/曱醇混合溶劑,體積比7/3)使此溶液進行 再沈澱。重複再沈澱,直至分散度(Mw/Mn)被調節至丨〇〇 至2.50 (同樣適用於以下實例2_卜實例3_丨及實例3_2)。 在比較實例1 i比較實例27巾,藉由不進行再沈澱或藉由 136 201139566 36179pif 濃縮反應液體而將分散度(Mw/Mn)調節至超過2.50。
137 201139566 J-a6r~I9c I< 基板上之 顯影殘餘 物 C c < < < < < < < < < < < c < 戚被舞: *® nr> "^0 < < < < < < C C < < < < < C c Q 财溶劑性 in σ\ 〇\ 〇\ OO 〇\ ON 〇\ o o o o 〇 o o o o o o o o o o o 〇 o OO 姨 t 〇〇 〇\ c\ σ\ ON σ\ OO σ\ C\ 〇\ ON σ\ 〇\ 〇\ 〇\ OO 〇\ OS 〇\ 〇\ 〇\ o o o o o o 〇\ Os 酸值 (毫莫耳/ 公克) (N 1—Η (N OO τ 一"H ON 〇\ r—H 〇\ O) r™H r—H (N OO OO t-H o vo 寸 uo t < 〇\ Os r-H OO O) t-H i-H OO OO r-H ν〇 H OO r"H 分散度 Mw/Mn . 」 VO Η OO O) r- O) r—H i—H f—H 艺 r—H OO (N r-H OO rn H r-H OO OO 等 (N o —— CN 〇\ 〇\ ? 重量平均 分子量 (Mw) 5200 5820 6700 7300 8400 8510 9020 9180 10500 11800 13200 14000 1 15500 16700 19800 4010 實例1 實例2 實例3 實例4 in |實例6 實例7 實例8 實例9 實例10 實例11 實例12 實例13 實例14 實例15 比較實例1 201139566 J'a6-9e < < < CQ CQ PQ U U ο u Q Q υ PQ PQ < < < PQ PQ g r-H OO oo (N 艺 〇 o 〇 o 〇 H s; On oo oo C^· OO 〇\ OO Os o o o o o ON 1.99 2.04 1.82 ΓΟ oo r~H 1.83 〇\ r*H 1.94 1.55 1.77 1.88 1.99 2.82 3.51 2.61 |2.78 2.90 1.99 1.68 1.71 2.81 3.11 4890 4680 4890 8110 12800 16800 21800 25000 38100 20090 20200 比較實例2 比較實例3 比較實例4 比較實例5 比較實例6 比較實例7 比較實例8 比較實例9 比較實例10 比較實例11 比較實例12 6- 201139566 宜6卜19£ (N< 基板上之 顯影殘餘 物 << < < c < PQ PQ U U 由熱擴散 引起之顏 色轉移 < < < < U Q P PQ PQ 财溶劑性 〇\ oo 〇\ OO σ\ oo 〇\ m oo ON as oo OO a\ 缺 as 〇\ On On 〇\ 〇\ 〇\ 〇\ o o r- oo oo oo 〇\ 酸值 (毫莫耳/ 公克) fN (N r-H r—H (N CN <N »—H (N (N t-H (N CO m r4 CN vo m (N (N (N c4 分散度 Mw/Mn r~"H 卜 t—H oo H uo Os O) So oi 'O V〇 (N oo t-H 00 VO 01 重量平均 分子量 (Mw) 6100 8820 9210 10300 11890 4810 4700 8210 20100 22200 m 1 CN 實例16 實例17 實例18 實例19 實例20 比較實例13 比較實例14 比較實例15 比較實例16 比較實例17 201139566 J'a6srn 基板上之 顯影殘餘 物 < < < < < PQ « PQ u U 戚被餘 nr» C < < 〇 Q Q PQ PQ 对溶劑性 〇\ 〇〇 〇\ oo OS OO 〇\ ON ON oo ON oo oo Os 耐鹼溶 性 〇\ 〇\ 〇\ σ\ σ\ 〇\ 〇\ 〇 o ss oo oo oo Q\ 酸值 (毫莫耳/ 公克) 〇〇 (N in VO (N oo CN CN r4 (N VO (N oo 00 01 oi (N 分散度 Mw/Mn t> τ-Η 卜 Η So τ-Η 1—H f—H in r-H On O) i—H So (N v〇 <N oo OO VO (N 重量平均 分子量 (Mw) 6100 8820 9210 10300 11890 4810 4700 8210 20100 22200 m 1 寸 實例21 實例22 實例23 實例24 實例25 比較實例18 比較實例19 比較實例20 比較實例21 比較實例22 201139566 呈6卜19£ 寸< •Μ澈 < C < < < c < < < 威被舞: *® t\r> *^&3 < < < < < < < < < 财溶劑性 'Ο 〇\ oo OO ON OO OS ON 〇\ 00 Os Os OO OO as 对驗溶性 .——— 〇\ σ\ a\ ON a\ 〇\ 〇 〇 00 〇· 卜 00 00 00 σ\ 酸值 (毫莫耳/ 公克) 〇〇 00 (Ν 55 CN 1 H 00 CN '1 < <N m r〇 <N 'Ο OO 1—Η m τ__·Η OO 00 01 分散度 Mw/Mn Γ < 卜 r··丨 H So 琴 1—H 产H O) r < CN VO v〇 <N 00 重量平均分 子量(Mw) _i 6100 8820 9210 10300 11890 4810 4700 8210 20100 ±1 cn 1 m r-H 1 1 < 1 1 <N 1 OO 1 〇\ r*H 1 〇 1 t—^ (N CN T—H 實例26 實例27 實例28 實例29 實例30 比較實例23 比較實例24 比較實例25 實例31 201139566 J-a6z.l9e w # < < υ U 旋域截: *® ΠΓ> < < < u 耐溶劑性 VO On ΟΟ 〇\ ΟΟ Ον 而十驗溶性 Os ΟΟ 酸值 (毫莫耳/ 公克) Η ΟΟ ΟΟ 〇\ 〇\ α\ ΟΟ ι-Η 分散度 Mw/Mn 等 ? ι—Η ι—Η ΟΟ (Ν 重量平均分 子量(Mw) 8000 15100 ι_ 52100 3600 ±1 < 實例32 實例33 比較實例26 比較實例27 201139566 表5中所示之例示性化合物A為日本專利第3736221 號中所述之聚合物A (具有以下結構之染料單體、2_丙烯 醯胺-2-曱基丙磺酸、曱基丙烯酸2-羥乙酯及曱基丙烯酸之 共聚物)^
如表1至表5中所示,證明實例1至實例33 (其中使 用經控制可具有特定性質之本發明染料多聚體)與比較實 例1至比較實例27相比呈現優越的耐鹼溶性及耐溶劑性。 此外,所述實例在因熱擴散引起之顏色轉移、基板或其他 顏色上形成殘餘物及染料滲入抑制方面呈現良好的結果, 從而證明抑制顏色混合之顯著效應。 此外,出乎意料地發現塗佈溶液(著色組成物)(其 中使用經控制可具有特定性質之本發明染料多聚體)呈^見 ^的塗佈適祕,其在塗佈表面上形成很少的裂缝或顏 〇不均勻。 在如上解釋之實例i至實例33中,在玻璃基板上形 144 201139566 _ (藍色彩色親)。然而,可藉 至貫例33之方法形成藍色觀、用已知方法 ^例1 形成綠色遽鏡及用已知方法自紅色抗_形成劑 分別在基板基板,其上形成 ,鏡而 :‘、:ί顏色之衫色濾鏡之固態影像感測器可抑制毕 器呈現優異的顏色再現性及敏祕。卜_讀感測 [實例2-1] (1)製備著色組成物(正型) -乳酸乙酯(EL) : 30份 -樹脂P-1 (參見下文):3 〇份 _二疊氮萘醌N_1 (參見下文):1.8份 =恥劑(六甲氧基經曱基化三聚氰胺):0.6份 -光酸產生劑(TAZ_107,商標名,由Mid〇ri u 有限公司製造):1.2份 -合氟界面活性劑(F_475,商標名,由DIC c〇rp〇rati〇n 製造):0.0005份 -染料(例示性化合物丨4 ’平均分子量:52〇〇,分散 度:1.66) : 〇.3 份 將以上組分混合並溶解以獲得著色組成物(正型)。 樹脂IM及二疊氮萘醌化合物N-1根據以下方法來合 145 201139566 (2) 合成樹脂P-l 將7〇.0公克甲基丙烯酸苯甲醋、公克甲基丙稀 酸、17.0公克甲基丙烯酸2-羥乙酯及όοο公克2_曱氧基丙 醇置於三頦燒瓶中,且將攪拌器、回流冷凝器及溫度計連 接於所述燒瓶。在氮氣流下於65。〇下,添加催化劑量之聚 合引發劑(V-65,商標名,由Wak。pure Chemicai Μ論⑹ 有限公司製造)並半10小時。將所得樹脂溶液在劇烈擾 拌下滴入20公升離子交換水中,從而獲得白色粉末。將白 色粉末在40 C下真空乾燥24小時,從而獲得樹脂pq。藉 由fpc分別量測到重量平均分子量(Mw)及數量平均^ 子量(Μη)為 28,〇〇〇 及 ιι,〇〇〇。 (3) 合成二疊氮萘醌化合物Ν-1 將 42.45 a 克 TrisP-PA (由 Honshu Chemical Industry =限公司製造)、61.80公克二疊氮鄰萘酿石黃醯氣及3〇〇 毫升丙酮置於三頸燒瓶中,且在室溫下經i小時向其中滴 24.44公克二乙胺。滴完後,將反應溶液進一步擾拌2 2、時,且在攪拌下將所得反應溶液倒入大量水中。藉由抽 =過據來㈣在水巾作為沈澱物形成之二疊氮萘醌績酸 你且在4GC下真空乾燥24小時’從而獲得感光性化合 物 N-1。 合物1 艮據實例1之方法來評似上方法中所獲得之著色化 正型)。著色組成物在改良耐鹼溶性、耐溶劑性、抑 ϋ熱擴散引起之顏色轉移、抑制基板或 殘餘物之形成及抑觸料渗人方面呈現良好結果。4 146 201139566 [實例3-1及3_2] ^製備用於形成隔板之暗色組成物) 藉由以下方法來製備暗色組成物K1。 2 +所示之4稱取K顏料分散體1(碳黑)及丙 _ ,且在2代(饥)下麟,並在150 轉刀,里下㈣1G分鐘。在進—錢拌混合物的同時,稱 取曱基乙基_ (2·頂)、黏合劑2、賊單曱idpha 溶液:2广雙(三氣曱基}_6_[4,_(N,N_雙乙氧基艘基甲基〕胺 基3溴本基]-均二嗓及界面活性劑〗,並以此順序在Μ。。 (士2°C)下添加,並在4(rc (±2。〇在15〇轉/分鐘下攪拌 混合物30分鐘。表6中所述之量是以質量計,且具體組成 如下。 顏料分散體ι> -石反黑(Nipex 35,商標名,由 EvonikDegussa Japan 有限公司製造)·· 13.1% •分散劑(以下化合物Bl) : 0.65% -聚合物(曱基丙烯酸笨曱酯/曱基丙烯酸之無規共聚 物=72/28 (莫耳比),分子量:37〇〇〇) ·· 6 72% -丙二醇單曱醚乙酸酯:79.53% 147 201139566 Η Ν
>=〇 化合物Β1
<黏合劑2> -聚合物(甲基丙烯酸苯甲酯/曱基丙烯酸之無規共聚 物= 78/22 (莫耳比),分子量:38000) : 27% -丙二醇單甲醚乙酸酯:73% <DHPA溶液> -二異戊四醇六丙烯酸酯(含5000毫升聚合抑制劑 MEHQ,KAYARAD DPHA,商標名,由 Nippon Kayaku 有限公司製造):76% -丙二醇單曱醚乙酸酯:24% <界面活性劑1> -具有以下結構1之化合物:30% -曱基乙基酮:70% 結構1 148 201139566 (GH2r-eH)4r-ψΦ —(CH2-CH)'x:
I2~〇4 〇(P〇)7H
—(GH2-CH)广'〇4 P(EO)7H (N=6,x=55,y=5,Mw=33940,Mw/Mn=2.55,p〇 : 氧化丙烯,EO :氧化乙烯) 表6 暗色組成物 Κ1 κ顏料分散體1 (碳黑)- : ~ 25 丙二醇單曱醚乙酸酯 8 2-丁酮 53 巍合劑2 9.1 氫醌單曱醚 0.002 i5pha溶液 4.2 2,4-雙(三氣甲基)_644’-(N,N-雙乙氧基羰基甲基)胺 基·3'-漠苯基]-均三嗪 0.16 「春面活性劑1 ' ~ 0.044 (形成隔板) 用UV洗滌機洗滌無鹼玻璃基板,接著用刷子及清潔 劑洗滌,隨後用純水進行超音波洗滌。藉由在12(rc下進 行熱處理3分鐘來穩定基板表面之狀態。 在冷卻基板至23°C後,用具有槽形噴嘴之玻璃基板塗 佈機(MH-1600,商標名,由FASAsia製造)將暗色組成 物K1施加於玻璃基板上。隨後,用VCD (vacuum drying machine,真空乾燥機,由Tokyo Ohka Kogyo有限公司製 149 201139566 造)乾燥部分溶劑30秒以消除塗層之溶解性,且在120¾ 下預烘烤3分鐘以形成厚度為2.3微米之暗色組成物層 K1。 在氮氣氛圍下,以300毫焦耳/平方公分之曝光量、20 微米之隔板寬度及100微米之間隔寬度,用具有超高壓水 銀燈之近接曝光機(由Hitachi High-Technologies公司製 造)進行圖案曝光,同時以垂直方式置放基板及光罩(具 有影像圖案之石英曝光光罩),其中光罩表面與暗色組成物 層K1之間的間隔為200微米。 此後,用喷淋喷嘴喷灑純水以均句潤濕暗色組成物層 K1之表面,且在23 C及0.04兆*帕之扁平喷嘴壓力下用 KOH顯影劑(含非離子性界面活性劑,商標名:cdh 由 FUJIFILM Electronic Materials 有限公司製造,稀釋 1〇< 倍)進行噴淋顯影80秒,從而獲得圖案化影像。隨後藉逢 在9.8兆帕之壓力下用超高壓喷嘴喷射超純水來移除殘每 物。此後,在大氣壓力及25〇〇毫焦耳/平方公分之曝^ :本=成暗色組成物層K1之基板一側進行後曝 传產物在㈣快2贼下加熱5G钱,從 學密度為4.〇及開口寬度為⑽微米之具有销 (用於賦予墨水排斥性之電漿處理) 150 201139566 氣體流速:80標準立方公分/分鐘(seem) 壓力:40帕 RF功率:50瓦 處理時間:30秒 (製備紫(V )墨水(violet ink )) 混合表7中所示之組分並攪拌1小時。此後,在減壓 下使用平均孔徑為0.25微米之微濾器過濾混合物,從而製 備紫墨水(墨水V-1及墨水V-2)。 所用組分的細節如下。 -染料:例示性化合物2-3 (平均分子量:8,820,分 散度:1.77,酸值:2.65毫莫耳/公克) _ DPCA-60 (KAYARAD DPCA,商標名,由 Nippon Kayaku有限公司製造,經已内酯改質之二異戍四醇六丙烯 酸酯) -KF-353 (由Shin-Etsu Chemical有限公司製造,經聚 醚改質之聚矽氡油) 表7 類別 物質 實例3-1 實例3-2 墨水V-1 墨水V-2 溶劑 環己酮 69.95% 79.95% 單體 DPCA-60 20% 10% 界面活性劑 KF-353 0.05% 0.05% 染料 例示性化合物2-3 10% 10% 墨水黏度(毫帕·秒) 9 5.3 表面張力(毫牛頓/米) 25.2 29 151 201139566 (量測黏度及表面張力) 在以下條件下用E型黏度計(re-80L,商標名,由 TokiSangyo有限公司製造)量測所獲得之墨水之黏度,同 時維持墨水溫度為25°C。 量測條件 -轉子:134° 34'xR24 -量測時間:2分鐘
-量測溫度:25°C 用表面張力a十(CBVB-A3,商標名,由Kyowa Interface Science有限公司製造)量測墨水之表面張力。 (量測對比度之方法) 將置放擴散板(diffusion plate)之冷陰極管用作背光 單元’且將單色基板置放於兩個起偏振片(porax_15N, 商才示名,由Luceo有限公司製造)之間。藉由將光通過平 行女置之起偏振片時之光色度γ值除以光通過交叉安置之 起偏振片時之光色度γ值來計算對比度。用彩色亮度計 (BM·5A ’商標名,由Topcon Corporation製造)量測色度。 卓色基板猎由以下方法來製備。 藉由喷墨法或旋轉塗佈法將用於形成彩色濾鏡之墨 水(墨水V-1及墨水V-2)施加於玻璃基板上以形成固體 膜’且以用於形成彩色濾鏡之類似方式在1〇〇。〇下預烘烤 所述固體膜2分鐘,並在220。(:下後烘烤30分鐘,從而形 成厚度為2微米之膜。 彩色亮度計之量測角設定為1。,且在一定視野(直 152 201139566 徑:5毫米)下對樣品進行量測。當兩個起偏振片平行安 置而不置放樣品時,背光之光量設定為400坎德拉/平方 来。 在上述方法中獲得之單色基板(2種類型)中之每— 者的對比度分別大於50,000。 (製備ITO層) 隨後’藉由在200°C之膜表面溫度下濺鍍ITO (氧化 銦錫)15分鐘而在上述方法中獲得之單色基板上形成厚度 為1500埃之ΓΓΟ膜,從而獲得具有IT0膜之彩色濾鏡基 板。 (在ΙΤΟ濺鍍之前及之後光譜特徵的改變) 使用UV-Vis吸收光譜儀(V-570 ’商標名,由JASCO Corporation製造)獲得400至700奈米波長範圍内之光譜 透射曲線。當濺鍍之前及之後最大峰值下的光譜透射量的 改變很小時’表明實現了良好的耐熱性。IT0濺鍍之前及 之後的基板顯示可忽略的光譜形狀改變,證明良好的耐熱 性。 [比較實例3-1] 將 17.5 質量份 C. I.顏料紫 23 (由 DainichiseikaColor & Chemicals mfg有限公司製造)與2.5質量份顏料分散體 (化合物B1)及80質量份溶劑(1,3-丁二醇二乙酸醋,下 文稱為1,3-BGDA)及MMPGAC (乙二醇單曱醚乙酸醋) 合併,且在預混後用電動磨(motor mill) (M-50,商標名, 由Eiger Japan製造)(其利用直徑為0,65 mm之氧化錄珠 153 201139566 粒)在80%之填充率及9米/秒之圓周速度(peripheral speed)下分散混合物25小時,從而製備紫色顏料分散體。 (製備用於比較實例之墨水) 藉由使用上述方法中製備之顏料分散體來製備具有 表8中所示之組成的顏料墨水。 在表 8 中,DPS 100 是指 KAYARAD DPS 100,商標 名,由Nippon Kayaku有限公司製造;TMPTA是指 KAYARAD TMPTA,商標名,由 Nippon Kayaku 有限公司 製造;界面活性劑是指先前所述之界面活性劑1 ;且V-40 是指偶氮雙(環己烧-1-甲腈),由Wako Pure Chemical Industries有限公司製造。 表8 類別 物質 比較實例3-1 比較墨水V 溶劑 l,3-環己酮 23.90% MMPGAC 20% 單體 DPS100 20% TMPTA 無 界面活性劑 界面活性劑1 0.10% 顏料 用於V的顏料分散體 35% 引發劑 V-40 1% (製造供評估用之彩色濾鏡的方法) 用喷墨印表機(DMP-2831,商標名,由Fujifilm Dimatix公司製造)將上述方法中製備之墨水喷射入由基 板上形成之隔板所界定之部分中(由突出部分圍繞之凹陷 154 201139566 部分)’隨後在烘箱中在100°c下加熱2分鐘。此後,將所 得產物置於烘箱中並在22(TC下靜置30分鐘,從而製備單 色彩色濾鏡。 (評估墨水之儲存穩定性) 將上述方法中製備之各顏色之墨水儲存在50°C恆溫 室中’且在30天後量測墨水黏度。基於製備不久後之墨水 黏度與儲存30天後之墨水黏度之間的差異(%)來評估墨 水之儲存穩定性’所述差異藉由{(儲存3〇天後之黏度—製 備不久後之黏度)/製備不久後之黏度} x丨〇〇來計算。評估標 準如下。 A :製備之前及之後的墨水黏度的差異小於1〇〇/〇。 B .製備之前及之後的墨水黏度的差異為1〇%至小於 20%。 、 C:製備之前及之後的墨水黏度的差異為2〇%至小於 30%。 、 D :製備之前及之後的墨水黏度的差異為3〇%或3〇% 以上。 (評估連續喷射穩定性) 藉由用噴墨印表機(DMP-2831,商標名,由Fujifilm
Dimatix Inc.製造)在10千赫之喷射頻率下進行3〇分鐘連 續噴射來評估上述方法中製備之墨水之噴射穩定性,所述 印表機使用以10皮升(pL)之液滴量噴射墨水~之墨盒(head cartridge)。評估標準如下。 A:可進行連續喷射而沒有問題。 155 201139566 B:觀察到輕度喷射障礙,但在喷射期間恢復正常狀 態’此為幾乎可接受的。 c:觀察到喷射障礙且在喷射期間不恢復正當壯能 然而,藉由進行維護可恢復正常狀態。 d .觀察到嘴射j1早礙且在喷射期間不恢復正常狀雜。 藉由進行維護不能恢復正常狀態。 “ 噴墨印表機(DMP-2831 )之維護藉由淨化(藉由加 壓=墨碩内之墨水而強制墨水自喷嘴喷射)、吸墨(藉由接 觸清潔墊來吸收喷嘴表面之墨水)來進行。 (評估暫停後之喷射穩定性) 藉由用喷墨印表機(DMP-2831,商標名,由Fujifilm Dimatbclnc.製造)(所述印表機使用以1〇皮升之液滴量喷 =墨水之墨盒)在10千赫之喷射頻率下進行5分鐘喷射; 2噴射崎停Μ小時;及在相同條件下再次開始喷射來 §上述方法中製備之墨水之喷射穩定性。評估標準如下。 A·可在接受喷射指令後進行喷射而沒有問題。 纟接又喷射指令後不久觀察到輕度喷射障礙,但 在噴射_恢復正f狀態,此為幾乎可接受的。 離。=歸到嘴射障礙且在嘴射期間不能恢復正常狀 然而,稭由進行維護可恢復正常狀熊。 態。射障礙且在嘴射期‘能恢復正常狀 * 進订、准°蒦不此恢復正常狀態。 壓噴^卩表機(跡2831 )之“藉由淨化(藉由加 I噴墨頭内之墨水而強制墨水自噴嘴嘴射)、吸墨(藉由接 156 201139566 觸清潔墊來吸收喷嘴表面之墨水)來進行。 (評估耐熱性) 將上述方法中製備之各顏色之彩色濾鏡置於烘箱 中’在230°C下加熱’且在靜置1小時後量測彩色濾鏡之 色調。用UV-560 (商才示名’由JASCO Corporation製造) 量測色調,且根據以下標準評估在評估之前及之後的AEa 值0 A : AEa 小於 5。 B : AEa為5至小於15。 C : AEa為5或5以上。 (評估耐化學性) 將上述方法中製備之各顏色之彩色濾鏡浸沒於化學 溶液(N-曱基吡咯啶酮、2-丙醇、5%硫酸水溶液、5%氫 氧化鈉水溶液)中,且根據以下標準用UV-560 (商標名, 由JASCO公司製造)1測浸沒之前及之後的彩色滤鏡的 色調。 A : AEa 小於 5 0 B : AEa為5炱小於15。 C : AEa為5或5以上。 喷墨用墨水及彩色慮鏡之坪估標準顯示於表9中。 157 201139566 表9 連續喷射穩定性 暫停後之喷射穩定性 耐化學性 (N-甲基吡咯啶酮) 耐化學性 (5%硫酸水溶液) 耐化學性 (5%氫氧化鈉水溶液)
評估J員目 — 墨水^存穩定性 而寸熱性 而寺化學性 (2-丙醇) 穩定:二=性本= 之彩色驗現與使用顏料形成之==水製造 化學性及耐難。 战认色,慮制樣良好的耐 穩』實實例呈現較― 標準之::公開案、專利申請案及技術 宏、直41+ ▲ ^> 考,其併入程度就如同將各個別公開 寻利申輯或技術標準敎地及_地併人以供參考 158 201139566 【圖式簡單說明】 無 【主要元件符號說明】 無
Claims (1)
- 201139566 七、申請專利範圍: 種著色組成物’其包括具有驗溶性基團之举料夕 ,染料’所述染料鳩具有土 量平均分子量(Mw)及⑼…· ;20,:0:=重 分子量(Mw) /數目平均分子量(Mn))。X里、’均 2. 如申請專利範圍第巧所述之著色組成物, 可聚合化合物、聚合引發劑及溶劑。 3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之著 物,其中所述染料多聚體臭有0.5毫莫耳/公克至3暮戍 耳/公克之酸值。 ·毫莫 4·如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述# 色組成物,其中所述染料多聚體包括由以下式(八)、式$ 或式(C)表示之結構單元中之至少一者,或為由下 表示之染料多聚體: -ΧΑ1- 染料· ic 式(A) m 其中,在所述式(A)中,XAi表示藉由聚合形 鍵聯基團,LA1表示單鍵或二價鍵聯基團;染料表示料 自染料化合物移除數量為1個氫原子至(1+m)個氫^ 的任一或多個氫原子獲得的染料殘基;ΧΑ2表示藉由^人 160 201139566 形成之鍵聯基團;LA2表示單鍵或二價鍵聯基團;m表示0 至3之整數;且所述染料與所述LA2可藉由共價鍵、離子 鍵或配位鍵中之任一者彼此連接;A,-普料 -L·82 式(B) -X52」:ήί' 其中,在式(Β)中,XB1表示藉由聚合形成之鍵聯基 團;LB1表示單鍵或二價鍵聯基團;A表示能夠藉由離子鍵 或配位鍵鍵結至染料之基團;染料表示具有能夠藉由離子 鍵或配位鍵鍵結至A之基團的染料化合物,或藉由自染料 化合物移除數量為1個氫原子至m個氫原子之任一或多個 氫原子獲得的染料殘基;XB2表示藉由聚合形成之鍵聯基 團;LB2表示單鍵或二價鍵聯基團;m表示0至3之整數; 且所述染料與所述LB2可藉由共價鍵、離子鍵或配位鍵中 之任一者彼此連接; *--染料·一L^1--式(c) 其中,在式(C)中,Lei表示單鍵或二價鍵聯基團; 161 01 201139566 藉由自染料化合物移除任何兩個氫原子獲得的 式(D) (染料) 其中,在式(D)中,LD1表示 示2至1〇〇之整數;且染料表示藉由自二,基團;m表 何一個氫原子獲得的染料殘基。 木;;匕合物移除任 5. -種由如_料利軸第丨項至第 述之著色組祕形朗純麵。 W任-項所 6. —種喷墨用墨水,其包括如申 第4項中任—項所述之著色組成物/__第1項至 ’’種製造彩色遽鏡之方法,所述方法包括. 將如申請專利範圍第i項至第4項中任· 色組成物施加於載體上以形成著色層; 考 經由光罩將所述著色層曝光;及 使曝光的所述著色層顯影以形成著色圖案。 8. —種製造彩色濾鏡之方法,所述方法包括: 提供具有由隔板界定之壓下部分的载體;及’ 藉由噴墨將如申請專利範圍第6項所述之喷墨用墨水 ^液滴施加於所述壓下部分上,藉此形成所述彩^滤^之 著色像素。 ~ 9. -種m態影像感測ϋ ’其包括⑹申請專利範圍第5 項所述之彩色濾鏡。 162 201139566 10. —種顯示裝置,其包括如申請專利範圍第5項所 述之彩色濾鏡。 163 201139566 四、 指定代表圖: (一) 本案之指定代表圖:無 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明:無 五、 本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵 的化學式: 無 2 201139566 * 36179pifl 修正日期:100年7月11曰 爲第100110763號中文說明書無劃線修正頁 (L子4染料)m式(D) 其中,在式(D)中,LD1表示m價鍵聯基團;m表 示2至100之整數;且染料表示藉由自染料化合物移除任 一個氫原子獲得的染料殘基。 <5> —種自如<1>至<4>中任一項所述之著色組成物 形成的彩色濾鏡。<6> -種包括如<1〉至<4>中任一項所述之著色組成 物的喷墨用墨水。 <7〉種製造形色攄鏡之方法,所述方法包括: 將如<i>至<4>中任一項所述之著色組成物施加 體上以形成著色層; 經由光罩使著色層曝光;及 使曝光之著色層顯影以形成著色圖案。 <8> —種製造彩色濾鏡之方法,所述方法包括: 提供具有由隔板所界定之凹陷部分的载體;及 籍由,墨將如<6>所述之喷墨用墨水液滴施加於凹陷 邛为上,藉此形成彩色遽鏡之著色像素。 <9> —種包括如<5>所述之彩色濾、鏡之關影像感測 太心Γ魏括如<5>所叙彩色濾、鏡之顯示裝置。 本發明之作用 物 ’可提供—種可形成著色膜之著色組成 /、中驗性顯影_㈣料溶離得到抑制,染料渗透得 13 201139566 36179pifl 爲第100110763號中文說明書無劃線修正頁 修正日期:1〇〇年7月11曰 到抑制,因熱處理造成的染料之熱擴散(顏色轉移)得到 抑制且顯影殘餘物形成得到抑制。 根據本發明,亦可提供能夠形成著色像素的喷墨用墨 水,所述著色像素呈現優異耐熱性及優異排墨穩定性。此外’根據本發明,可提供一種彩色濾鏡,其中染料 之渗透得到抑制,因熱處理造成的染料之熱擴散(顏色轉 移)得到抑制,且因顯影殘餘物造成的顏色混合得到抑制, 所述彩色濾鏡呈現優異耐熱性;製造彩色濾鏡之方法;具 有彩色遽鏡之固態影像感測器;及顯示裝置。 【實施方式】 在下文中,本發明之著色組成物、喷墨用墨水、彩色 t鏡,製造彩色濾、鏡之方法以及固態影像感測器與顯示裝 的详情將參考本發明之代表性例示性實施例來描述。然 而,本發明不限於此等實施例。 <著色組成物>取Μ本發明之著色組成物含有具有鹼溶性基團之染料 兔體作為轉’所縣料多聚體之重量平均分子量(从 至2G,_騎散度(重量平均分子 f干均分子量(Mn))為⑽至2.5G( 定染料多雜,,)。 W下文中亦稱為 均分度(重量平均分子量(MW) /數目. ))亦被稱為“分散度(Mw/Mn),,。 田/、上述構型之著色組成物用於形成著色膜時,^ 14 201139566 - j〇i/ypnl 修正曰期:ιοο年7月11曰 爲第100110763號中文專利範圍無劃線修正本 【圖式簡單說明】 無 【主要元件符號說明】 無159 201139566 joi /ypm 爲第100110763號中文專利範圍無劃線修正本 修正日期:1〇〇年7月11日 七、申請專利範圍: 1. -種著色組成物,其包括具有驗溶性基團之染料多 聚體作為純,所述染❹紐具有5侧至' 量平均分子量(MW)及⑽至2.50之分散度(重量平; 分子量(Mw) /數目平均分子量(Mn))。 2·如申請專利範圍第i項所述之著色組成物,更包括 可聚合化合物、聚合引發劑及溶劑。 比項所述之著色組成物,其中所 述染枓多㈣具有0.5毫莫耳/公克至3 Q毫莫耳/公克之酸 值。 4.如申請專利範圍第i項至第3項中任一項所述 色組成物,其中所述染料多聚體包括由以下式(a)、式 或式(C)表示之結構單元中之至少—者, 二 表示之染料多聚體: —”、’下式(D) € -xA1- LA1 I -染料… L 式(A) m 其中’在所述式(A)中,XA1表示#由聚合形成之 鍵聯基團;LA1表示單鍵或二價鍵聯基團;染料表示藉由 自染料化合物移除數量為1個氫原子至(1+m)個氫原子 的任一或多個氫原子獲得的染料殘基;xa2表示藉由聚合 160 201139566 ' 36179pifl 爲第100110763號中文專利範圍無劃線修正本 修正日期:1〇〇年7月11日 形成之鍵聯基團;LA2表示單鍵或二價鍵聯基團;m表示0 至3之整數;且所述染料與所述LA2可藉由共價鍵、離子 鍵或配位鍵中之任一者彼此連接; B1 -X B1 A—染料---- •LB2——X52 式(B)m 其中,在式(B)中,XB1表示藉由聚合形成之鍵聯基 團;LB1表示單鍵或二價鍵聯基團;A表示能夠藉由離子鍵 或配位鍵鍵結至染料之基團;染料表示具有能夠藉由離子 鍵或配位鍵鍵結至A之基團的染料化合物,或藉由自染料 化合物移除數量為1個氫原子至m個氫原子之任一或多個 氫原子獲得的染料殘基;XB2表示藉由聚合形成之鍵聯基 團;LB2表示單鍵或二價鍵聯基團;m表示0至3之整數; 且所述染料與所述LB2可藉由共價鍵、離子鍵或配位鍵中 之任一者彼此連接; 染料·—LC1--* 式(C) 其中,在式(C)中,Lei表示單鍵或二價鍵聯基團; 161 201139566 Mm 100110763 修正日期:100年7月U日 =?藉由自染料化合物移除任何兩個氯原子獲得的 (L D1染料) m 式(D) 示2至、(D)中’ L〇1表示m價鍵聯基團;m表 何-個氮原子獲得的示藉由自染料化合物移除任 述之著色&1 Μ _ f任—項所 笛㈣錢墨水,其包括如”專職圍第1項至 弟4項中任一項所述之著色組成物。 7. -種製造彩色遽鏡之方法,所述方法包括: 將如申請專利範圍第i項至第4項中任一項所述之著 色組成物施加於載體上以形成著色層; 經由光罩將所述著色層曝光;及 使曝光的所述著色層顯影以形成著色圖案。 8. —種製造彩色濾鏡之方法,所述方法包括: 提供具有由隔板界定之凹陷部分的載體;及 藉由喷墨將如申請專利範圍第6項所述之喷墨用墨水 之液滴施加於所述凹陷部分上,藉此形成所述彩色濾鏡之 著色像素。 9. 一種固態影像感測器,其包括如申請專利範圍第5 項所述之彩色濾鏡。 162 201139566 - 36179pitl 爲第100110763號中文專利範圍無劃線修正本 修正日期:1〇〇年7月11曰 10. —種顯示裝置,其包括如申請專利範圍第5項所 述之彩色濾鏡。 Ο163
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