TW201109175A - Roll of optical sheet material and continuous manufacturing method of liquid crystal display device - Google Patents

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201109175 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種於光學膜之至少單面隔著黏著劑層而 • ^有肋性承載膜之光學薄片構件之捲繞體，以及使用其 之液晶顯示裝置之連續製造方法。 _ 【先前技術】 先前’光學膜之製造商係、以將具有光學膜構件之帶狀製 品捲繞成捲筒之方式連續製造。並且，將光學膜構件交付 組裝光學膜構件與光學顯示單元之液晶面板加工商時，係 將捲筒狀製品衝壓成特定尺寸，將數片衝麼後之薄片狀製 品疊合並抽包而交貨。 然而，上述方法存在如下課題。即，將光學膜片逐片貼 合於液晶單元時，必須逐片設置於裝置上並將剝離膜剝 離’因此步驟時間延長，所需捆包材料等較多，又，其拆 解作業亦較為複雜。 ' 為了解決此種課題，提出有如下製造方法：將捲繞有具 光學膜之帶狀薄片狀製品之捲筒交付液晶面板加工商，以 -系列步驟進行捲筒供給、缺陷檢查、切斷加工及貼合於 液晶顯示裝置（例如專利文獻1等）。又，關於切斷加工，採 用於殘留有承載膜之狀態下將光學膜與黏著劑層切斷之: 切。 干 先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1:國際公開W02008-047712號公報 149142.doc 201109175 【發明内容】 發明所欲解決之問題 然而’對於先前之單月型’係對捲筒狀光學膜進行衝壓 加工後，為了去除切斷面附著之糊，而進行削去端面等之 加工，但如上所述，自捲筒式素材直接貼合之方法由於無 法進行端面加工’因此存在增加由切斷面附著糊引起之缺 陷的問題。進而’於如上所述之製造方法中，以捲筒形式 交付液晶面板加工商時、或交付後長期保管時等，容易較 多產生如下之黏著劑層之缺點：因捲筒之捲緊而於點著劑 層產生褶皺；或黏著劑層所含較小異物亦受到捲筒之捲緊 的影響而變得容易產生稱為凹痕之壓痕；又，若為具有表 面處理之光學構件’則表面處理之形狀會轉印至黏著劑層 等。 因此，本發明之目的在於提供一種亦不易產生切斷面附 著糊之問題，較好的是於以捲筒出貨或保管時，不易產生 捲繞稽敏（橘皮狀態）、凹痕等之光學薄片構件之捲繞體， 以及使用其之液晶顯示裝置之製造方法。 解決問題之技術手段 本發明者專人為了解決上述課題而反覆努力研究，結果 發現：可藉由使用具有特定物性之黏著劑層，而實現上述 目的，從而完成本發明。 即’本發明之光學薄片構件之捲繞體之特徵在於··上述 光學薄片構件於光學膜之至少單面隔著黏著劑層而具有脫 模性承載膜，上述黏著劑層包含丙烯酸系（共）聚合物，於 149142.doc 201109175 23°C、頻率l〇 Hz下施加剪應變（厚度800 μιη，動態應變 0·1%)時之儲存彈性模數為〇.9〜1.2 MPa，拉伸試驗中之斷 裂伸度為500〜2000%，使用2 Kg輥於平滑不鏽鋼 (SUS304 ··廣榮工業公司製造）表面往返加壓1次，貼附後】 分鐘後以300 mm/min之剝離速度180。剝離時之接著力為 3〜15 N/25 mm。 於本發明之光學薄片構件之捲繞體中，若儲存彈性模數 過低，則切斷面附著之糊增多而使保管性變差，若儲存彈 性模數過高，則於濕熱試驗中變得容易發生剝離。又，若 斷裂伸度過小，則於濕熱試驗中變得容易發生剝離，若斷 裂伸度過大，則切斷面附著之糊增多而使保管性變差。進 而，若接著力過大，則切斷面附著之糊增多而使保管性變 差’若接著力過小，則於濕熱試驗中變得容易發生剝離。 其結果為，根據本發明之光學薄片構件之捲繞體，可提供 -種於以捲筒出貨或保管時，不易產生捲繞褶皺、橘皮狀 態、凹痕等，亦不易產生切斷面附著糊之問題的光學薄片 構件之捲繞體。 上文中，上述黏著劑層較好的是凝膠率為7〇〜9〇%，藉 由下述評價方法測定之23〇c下之保持力（Ha)為2〇〇 下。此處，保持力（ΗΑ)係表示將1〇 mmx3〇 mm之光學膜之 上端部10 mmxlO mm隔著黏著劑層並以2 Kg之按壓力貼附 於無鹼玻璃板（康寧1737，厚度〇 7爪⑷上，於5〇c>c、5大 氣壓之條件下進行15分鐘高壓釜處理後，於室溫下放置1 小時後，於光學膜之下端部加载5〇〇 g負重並放置丨小時之 149142.doc 201109175 際’加載負重前後與玻璃板之間的偏移幅度。 若凝膠率在上述範圍内，則可更降低切斷面附著之糊， 亚且可不易發生濕熱試驗中之剝離。又若保持力（Ha)為 上述範圍内，則可更降低切斷面附著之糊，可更提高保管 性。 又，上述脫模性承載膜較好的是包含聚酯系基材。若使 用聚酯系基材，則與其他樹脂膜之情形相比，不易產生膜 之缺陷轉印於黏著劑層而阻礙光學膜之缺陷判定的所謂魚 眼。 另一方面，本發明之液晶顯示裝置之連續製造方法的特 徵在於包括以下步驟：從上述任一項之光學薄片構件之捲 繞體抽出光學薄片構件；將所抽出之光學薄片構件以特定 間隔在殘留有上述脫模性承載膜之狀態下將上述光學膜與 上述黏著劑層切斷；以及將切斷後之光學膜片經由黏著劑 層貼合於液晶單元。 根據本發明之液晶顯示裝置之連續製造方法，由於使用 發揮如上所述作用效果之光學薄片構件之捲繞體，因此可 製成於以捲筒出貨或保管時，不易產生捲繞褶皺、橘皮狀 態、凹痕等，可防止半切部自承載膜翹起，亦不易產生切 斷面附著糊之問題的液晶顯示裝置之連續製造方法。 【實施方式】 本發明之光學薄片構件之捲繞體係將光學薄片構件捲繞 而成之捲繞體’捲繞體中之光學薄片構件於光學獏之至少 單面隔著黏著劑層而具有脫模性承載膜。作為光學膜，只 149142.doc 201109175 要為貼合於液晶單元者則可為任意者，例如可列舉於偏光 元件之單面或雙面具有透明保護膜之偏光板。又，可為於 偏光元件或偏光板上適當積層相位差膜、或其他光學補償 膜者。 貝 黏著劑層包含丙烯酸系（共）聚合物，於231、頻率i〇 Hz 下施加剪應變（厚度800 μηι，動態應變〇.1%)時之儲存彈性 模數為0.9〜1.2 MPa，較好的是0.95〜1.1 MPa。可藉由設為 此種範圍内，使黏著劑之切斷性良好，同時防止濕熱試驗 中之剝離。 關於藉由控制頻率10 Hz下之儲存#性模數可使黏著劑 之切斷性良好之原因尚不明石崔，但推測為：黏著劑於_ 變形時之變形速度與頻率10 Ηζτ之變形速度為相同程 度。若儲存彈性模數較低則所謂產生凹痕之保管性變差， 並且黏著劑之切斷性變差而易於產生切斷面附著糊之狀 態1儲㈣性模數較低則容易發生濕熱試驗中之剝離。 於本發明t，為了㈣財彈性模數，可藉由適當改變 丙烯酸系聚合物之單體種類或黏著劑令所使用之交聯劑的 調配比例或交聯劑之種類，而控制儲存彈性模數。例如， 若交聯劑之調配比例變多，則儲存彈性模數變大，相反若 交聯劑之調配比例變少，則儲存彈性模數變小。 又，黏著劑層之拉伸試驗中之斷裂伸度為5〇〇〜2〇嶋’ 較好的是_〜测％。转料度⑸、，狀濕熱試驗_ 變得容易發生剝離4斷裂伸度過大，則切斷面附著之我 會增多而使保管性變差若斷裂伸度超過-定值，，: 149142.doc 201109175 糊會被刀拉伸而附著’而有切斷面附著之糊增多之傾向。 斷裂伸度之測定方法係將黏著劑層成形為剖面積2 mm2、長度30 mm之圓柱狀，針對該成形體，於23t ' 50% RH之條件下，利用拉伸試驗機，以夾盤間距離⑺ mm、拉伸速度300 mm/rnin進行拉伸試驗。•斷裂伸度表示 利用該拉伸試驗使試驗片斷裂時之伸長率，係根據「斷裂 伸度」（％)=(「斷裂時之試驗片之長度」_「初始長度（ι〇 mm)」）/「初始長度（1〇 mm)」X 1〇〇來計算。 斷裂伸度之控制可藉由適當改變黏著劑中所使用之交聯 劑之調配比例或交聯劑的種類，或適當改變黏著劑中所使 用之單體之調配比例或種類等而進行。例如，若交聯劑之 調配比例變多，麟裂伸度變小，相反若交聯劑之調㈣ 例變少’則斷裂伸度變大。 又，黏著劑層之接著力為3〜15N/25mm，較好的是Μ N/25麵。若接著力過小，則於濕熱試驗中變得容易發生 剝離，若接著力過大，則切斷面附著之糊增多而使保管性 變差。即，切斷刃通常多為金屬，切斷刀進入時若接著 力過大，則糊與切斷刀之密著力會提高而使糊變得容易附 著，對貼附於不鏽鋼後丨分鐘後之接著力進行評價，可藉 由將該值控制在一定範圍内，而改善切斷面附 ； 題。 处，接著力係表示使用2 Kg輥於平滑不 (㈣綱··廣榮工業公司製造）表面往返加壓】次，貼附後 分鐘後以300 mm/min之剝離速度18〇。剝離時之接著力。 149I42.doc 201109175 黏者劑層之接著力之控制可藉由冑當改變黏$劑中使用 之單體之調配比例或種類，或適當改變交聯劑之調配比例 或交聯劑之種類等而進行。例如，若丙烯酸單體之調配比 例變多，則接著力變大，若丙烯酸單體之調配比例變少， 則接著力變小。 黏著劑層之凝膠率較好的是7〇〜9〇%，更好的是 73〜87%。若凝膠率小於該範圍，則黏著劑層中所含之較 小異物亦受到捲筒之捲緊之影響，變得容易產生稱作凹痕 之壓痕’進而將捲繞體長期保存時容易產生黏著劑層之捲 繞褶鈹（橘皮狀態）。又，若凝膠率大於該範圍，則於濕熱 -式驗中變得谷易發生剝離。χ，就抑制光學膜上產生稱作 凹痕之壓痕而使外觀良率下降方面而言，較好的是將凝勝 率控制在上述範圍内。於本發明中，為了控制凝勝率，只 要改變黏著财所使用之交聯劑之調配比例或交聯劑之種 類即可’ Α 了提高凝膠率，較好的是增加交聯劑之調配比 例一或使用單位重3之官能基較大者作為交聯劑。凝膠率 係藉由下述方法測定之值。 <凝膠率> 將樣品製作前之各黏著劑組合物以乾燥後之厚度與各例 相同之方式塗覆於實施聚石夕氧處理之聚對苯二甲酸乙二醋 版’塗覆後於與各例相同之乾燥條件（溫度、時間）下進行 硬化處理’形成黏著劑層’進㈣溫度饥、濕度65% Μ之條件下放置1小時後，測定該黏著劑層之凝膠率。凝 膠率係取敎2g上述黏著劑層，將其包裹於絲測定重量 149142.doc 201109175 (Wa)之氟樹脂（TEMISH NTF-1122，日東電工（股）製造） 中’以黏著劑層不洩漏之方式捆綁後，測定其重量（Wb)， 將其於約40 ml之乙酸乙酯中，於23。(：下浸潰7天，萃取可 溶成分。其後，取出包裹有黏著劑層之氟樹脂，於鋁杯 上’於130C下乾燥2小時，測定包裹有去除可溶成分之黏 著劑層的氟樹脂之重量（Wc)。 由該等之測定值，依據下述式，求出黏著劑層之凝膠率 (重量％)。 凝膠率（重量。/0)={(Wc-Wa)/(Wb-Wa)}xl〇〇 又，就使保管性良好並且不易產生切斷面附著糊之問題 的觀點而言，黏著劑層於23<t下之保持力（Ha)較好的是 200 μΓη以下，更好的是180 μιη以下。 於本發明中，為了控制保持力（Ηα)，只要改變黏著劑中 所使用之父聯劑之調配比例或交聯劑之種類即可，為了減 小保持力（ΗΑ)之冑，較好的是增加交聯劑之調配比例，或 使用單位重量之官能基較大者作為交聯劑。 脫模性承載膜可視需要包含經脫模處理之高分子膜，亦 可發揮作為分隔件之m改善保管性，尤其是改盖長 :保存捲繞體時黏著劑層所產生之捲繞褶皺，並且提；輥 产膜之比例而確保生產性的觀點而τ，承載膜之厚 =的是2〇〜〜，更好的是25—若承載膜薄於 ^。’則保管性變差，若厚於該範圍，則於生產性方面 防止光學膜之切斷端邊自 就半切部分通過捲筒部分時 149l42.doc 201109175 載膜翹起之現象（勉起）的觀點’及半切後自承载膜剝離 先子膜並良好地進行貼合的觀點而言，承載膜之剥離力較 好的是G.04〜0.2 N/50 mm，更好的是^綱15 n/5〇随。 於本發明中，4 了控制剝離力，可更控制承载膜之種類。 具體而言’可根據承載膜之脫模面上所塗佈之聚石夕氧種類 或厚度來控制。再者，承載膜之剝離力係藉由下述方法測 定之值。 <剝離力> 針對將光學薄片構件裁剪成5〇 mm寬度而獲得者，於 23C、剝離速度300 mm/min之條件下將承載膜9〇。剝離， 測定初始接著力。再者，接著力之測定係依據JIS Z 0237 來測定。 作為形成黏著劑層之黏著劑，係使用丙烯酸系（共）聚合 物，但較好的是含有（甲基）丙烯酸烷基酯80重量％以上之 丙烯酸系(共)聚合物。丙烯酸系黏著劑就如下方面而言可 較好地使用：其光學透明性優異，顯示出適當之满濕性、 凝♦ f生及接著性之黏著特性’耐候性或耐熱性等優異。 丙稀酸系黏著劑係以如下者作為基礎聚合物：以（甲基） 丙烯酸烧基自旨之單體單元作為主f架的（甲基）丙烯酸系聚 合物。再者’（曱基）丙烯酸烷基酯係指丙烯酸烷基酯及/或 甲基丙烯酸烧基醋’與本發明之（甲基）為相同含義。作為 構成（f基）丙稀酸系聚合物之主骨架的（甲基）丙烯酸烷基 醋’可例不：直鍵狀或支鏈狀之烷基之碳數丨〜以左右，較 好的疋碳數1〜9者。例如作為上述烷基，可例示：甲基、 s. 149142.doc •11· 201109175 乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己 基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、 十一烷基、異肉豆蔻基、月桂基、十三烷基、十五烷基、 十六烷基、十七烷基、十八烷基等。該等可單獨使用或組 合使用。該等烧基之平均碳數較好的是4〜12。 為了改善接著性或耐熱性，上述（甲基）丙烯酸系聚合物 中，可藉由共聚合而導入1種以上之具有（曱基）丙烯醯基或 乙稀基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基的共聚合單體。 作為上述具有官能基之共聚合單體，例如可列舉：含羥 基單體、含羧基單體、含氮（例如胺基、醯胺基等）單體 等。 作為含羥基單體，例如可列舉：（甲基）丙烯酸2_羥基乙 酉a、（曱基）丙烯酸2-羥基丙酯、（曱基）丙烯酸4_羥基丁酯、 (甲基）丙烯酸6-羥基己酯、（曱基）丙烯酸8_羥基辛酯、（曱 基）丙烯酸10-羥基癸酯、（曱基）丙烯酸12_羥基月桂酯等（曱 基）丙烯酸羥基烷基酯；丙烯酸（4_羥基曱基環己基）曱酯； 聚乙二醇（曱基）丙烯酸酯、聚丙二醇（甲基）丙烯酸酯等聚 烧一醇（甲基）丙稀酸酯；己内醋改質（甲基）丙烯酸酯等。 忒等中，車父好的是（曱基）丙烯酸經基烧基酯。含羥基單體 較好的是用作用以構建與異氰酸酯系交聯劑之交聯點的共 聚合單體。 作為含羧基單體，例如可列舉：（曱基）丙烯酸、（曱基） 丙烯酸羧基乙酯、（曱基）丙烯酸羧基戊酯、衣康酸、順丁 烯一酸、反丁烯二酸、丁烯酸等。該等中，較好的是（曱 149142.doc •12· 201109175 基）丙烯酸，尤其好的是丙烯酸《就耐久性方面而言，較 好的是將含羧基單體用作共聚合單體。 作為含氮單體’例如可列舉：n，n_二甲基胺基乙基（甲 基）丙烯醯胺、N，N-二甲基胺基丙基（甲基）丙烯醯胺、N，N_ 二乙基胺基乙基（甲基）丙嫦酿胺、N，N-二乙基胺基丙基（甲 基）丙烯醯胺等N，N-二烷基胺基烷基（甲基）丙烯醯胺；（甲 基）丙烯酸N，N-二甲基胺基乙酯、（甲基）丙烯酸Ν，Ν·二甲基 胺基丙酯、（甲基）丙烯酸Ν，Ν-二乙基胺基乙酯、（甲基）丙 烯酸Ν，Ν-二乙基胺基丙酯等（甲基）丙烯酸ν,Ν-二烷基胺基 院基酯等含三級胺基單體。又，作為含氮單體，例如可列 舉：馬來醯亞胺、Ν-環己基馬來醯亞胺、Ν-苯基馬來醯亞 胺等馬來醯亞胺系單體；Ν-(曱基）丙烯醯氧基亞甲基琥珀 醯亞胺或Ν-(甲基）丙烯酿基-6-氧基六亞甲基破珀醯亞胺、 Ν-(甲基）丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等琥珀醯亞 胺系單體；（甲基）丙烯醯胺、Ν，Ν-二甲基（甲基）丙烯醯 胺、Ν，Ν-二乙基（甲基）丙烯醯胺、Ν，Ν-二乙基甲基丙烯醯 胺、Ν-甲基（甲基）丙烯醯胺、Ν-乙基（曱基）丙烯醯胺、Ν-己基（曱基）丙烯醯胺、Ν-異丙基（甲基）丙烯醯胺、Ν-羥曱 基（甲基）丙烯醯胺、Ν-曱氧基甲基（曱基）丙烯醯胺、Ν-丁 氧基甲基（甲基）丙烯醯胺等Ν-取代醯胺系單體；（甲基）丙 烯酸第三丁基胺基乙酯等具有二級胺基之單體、雙丙酮 (甲基）丙烯醯胺、Ν-乙烯基乙醯胺、NW-亞甲基雙（曱基） 丙烯酸胺、N-乙稀基己内趨胺、N-丙稀酿基嗎淋、N-丙烯 醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶、N-丙烯醯基吡咯啶、

S 149142.doc -13- 201109175 (曱基）丙烯酸吡啶酯、（曱基）丙烯酸吡咯酯、（曱基）丙烯酸 3-(3-。比啶基）丙酯等。作為上述含氮單體，較好的是含三 級胺基單體’尤其好的是（曱基）丙烯酸N，N-二甲基胺基乙 酯及/或N，N-二曱基胺基丙基（曱基）丙烯醯胺。就耐久性方 面而言’較好的是將含氮單體用作共聚合單體。 作為上述以外之含官能基單體.，可列舉：順丁烯二酸 酐、衣康酸酐等含酸酐基單體；烯丙基磺酸、2_(曱基）丙 烯酿胺基-2-曱基丙磺酸、（甲基）丙烯醯胺基丙磺酸、（曱 基）丙烯酸磺丙酯等含磺酸基單體；丙烯醯基磷酸2_經基乙 醋等含填酸基單體等。 進而，作為上述以外之共聚合單體，可使用含有芳香族 環之（甲基）丙烯酸烷基酯。作為含有芳香族環之（甲基）丙 烯酸烷基酯，例如可列舉：（甲基）丙烯酸苯氧基乙酯、（甲 基）丙烯酸苄酯、（甲基）丙烯酸苯氧基_2_羥基丙酯、苯酚_ 環氧乙烷改質（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸2_萘氧基乙 酯、（甲基）丙烯酸2-(4-甲氧基-i-萘氧基）乙酯、（甲基）丙烯 酸苯氧基丙醋、（甲基）丙烯酸笨氧基乙醋、（曱基）丙婦酸 硫苯醋、（甲基）丙烯酸苯醋、聚苯乙烯（甲基）丙烯酸醋 等。 進而作為上述以外之共聚合單體，亦可使用乙酸乙稀 酯、丙酸乙烯酯、N_乙烯基羧酸醯胺類、苯乙烯、甲基 苯^烯、Ν·乙烯基己内酿胺等乙烯系單體；丙烯腈、甲^ 丙烯腈等腈系單體；（曱基）丙烯酸縮水甘油酯等含環氧美 丙烯酸系單體；甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸醋等醇系： 149142.doc -14· 201109175 烯酸酯單體；氟（曱基）丙烯酸酯、聚矽氧（甲基）丙烯酸 酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯等（曱基）丙烯酸酯系單體等。 (甲基）丙烯酸系聚合物於全部構成單體之重量比率中， 係以（甲基）丙稀酸焼基酯為主成分。（甲基）丙婦酸系聚合 物中之上述共聚合單體之比例並無特別限制，上述共聚合 單體之比例於全部構成單體之重量比率中，宜為〇〜左 右，較好的是〇.〇1〜15°/。左右，更好的是0卜⑺％左右。 該等共聚合單體中，就接著性、耐久性方面而言，較好 的是使用含羥基單體、含羧基單體。該等共聚合單體於黏 著劑組合物含有父聯劑之情形時，成為與交聯劑之反應 點。含羥基單體、含羧基單體等富於與分子間交聯劑之反 應性，可較好地用於提高所獲得之黏著劑層之凝聚性或耐 熱性。 作為共聚合單體，於含有含羥基單體及含羧基單體之情 幵’日守，δ亥等共聚合單體係以上述共聚合單體之比例使用， 較好的是含有含缓基單體（^丨〜⑺重量％及含羥基單體 0.01〜2重量％。含羧基單體更好的是〇 2〜8重量％，更好的 是0.6〜6重量％。含羥基單體更好的是〇〇3〜15重量％，更 好的是0.05〜1重量％。 本發明之（甲基）丙烯酸系聚合物通常使用重量平均分子 量為100萬〜300萬之範圍者。若考慮耐久性尤其耐熱性， 則較好的是使用重量平均分子量為i 5〇萬〜25〇萬者。更好 的是170萬〜250萬，更好的是18〇萬〜25〇萬。若重量平均分 子夏小於100萬，則於耐熱性方面不利。又，若重量平均

S 149142.doc 201109175 分子量多於300萬，則於貼合性、黏著力下降方面不利。 再者，重量平均分子量係指利用GPC(凝膠滲透層析法， gel permeation chromatography)進行測定並以聚苯乙烯換 算而算出之值。 <重量平均分子量之測定> 所獲得之（曱基）丙烯酸系聚合物之重量平均分子量係利 用GPC(凝膠滲透層析法）進行測定。樣品係使用如下者： 將試料溶解於二曱基甲醯胺中製成0.1重量％溶液，將其靜 置一晚後，利用0.45 μπι之薄膜過濾器進行過濾而獲得之 液、浪。 •分析裝置：Tosoh公司製造，HLC-8120GPC •管柱：Tosoh 公司製造，Super AWM-H、AW4000、 AW2500 •管柱尺寸：各 6.0 mmcj)xl50 mm •溶離液：30 mM-溴化鋰、30 mM-磷酸之二曱基甲醯胺 溶液 •流量：0.4 ml/miη •檢測器：示差折射計（RI，differential refractometer) •管柱溫度：40°C •注入量：20 μΐ 此種（曱基）丙烯酸系聚合物之製造可適當選擇溶液聚 合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等眾所周知之 製造方法。又，所獲得之（曱基）丙烯酸系聚合物可為無規 共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等中之任一種。 149l42.doc -16- 201109175 再者，於溶液聚合中’作為聚合溶劑，例如可使用乙酸 乙酉旨、甲苯等。作為具體之溶液聚合例，反應係於氮氣等 惰性氣體之氣流下，添加聚合起始劑，通常以於5〇〜7(rc 左右之溫度下反應5〜30小時左右之反應條件來進行。 自由基聚合中所使用之聚合起始劑、鍵轉移劑、乳化劑 等並無特別限定’可適當選擇使用。再者，（曱基）丙婦酸 系聚合物之重量平均分子量可根據聚合起始劑、鏈轉移劑 之使用量、反應條件而控制’根據該等之種類適當調整其 使用量。 本發明之光學膜用黏著劑組合物中較好的是使用矽烷偶 合劑。上述矽烷偶合劑可適當選擇具有適當官能基者。作 為官能基，可列舉：乙烯基、環氧基、曱基丙烯醯氧基、 胺基、巯基、丙烯醯氧基、乙醯乙醯基、異氰酸酯基、苯 乙烯基、聚硫基等。 作為上述矽烷偶合劑之具體例’可列舉：乙稀基三甲氧 基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ·縮水甘油 氧基丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、丫·甲 基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ_丙烯醯氧基丙基三甲 軋基石夕烧、Ν-β-(胺基乙基）γ-胺基丙基三甲氧基石夕燒、丫 胺基丙基甲氧基矽烷、γ-巯基丙基甲基二甲氧基石夕烧、雔 (二乙氧基矽烷基丙基）四硫化物、γ-異氰酸酯丙基三曱氧 基矽烷等。 上述矽貌偶合劑亦可直接使用市售品。或者亦可向市售 品中添加溶劑或添加劑而使用。作為市售之矽烷偶合劑， S, 149142.doc -17· 201109175 例如可列舉：日本信越有機矽（股）製造之KA系列（商品名 「ΚΑ-1003等」）、曰本信越有機矽（股）製造之ΚΒΜ系列 (商品名「ΚΒΜ-303、ΚΒΜ-403、ΚΒΜ-503等」、日本信越 有機矽（股）製造之ΚΒΕ系列（商品名「ΚΒΕ-402、ΚΒΕ-502、ΚΒΕ-903等」）、東麗（股）製造之sH系列（商品名 「SH6〇2〇、Sh6〇4〇、SH6〇62等」、東麗（股）製造之sz系列 (商品名「SZ6030、SZ6032、SZ6300等」。 上述石夕烧偶合劑之調配量可根據目的而適當選擇適宜 里。上述調配量（重量比）相對於丙烯酸系（共）聚合物，較 好的是0.001〜2.0，更好的是0.005〜2 〇，尤其好的是 0.01〜1.0，最好的是0.02〜0.5。可藉由使上述矽烷偶合劑 之調配量在上述範圍内，而獲得即便於更進一步嚴酷之高 溫、多濕之環境下亦不產生剝離或氣泡的積層膜。 丄又’上述黏著劑、组合物較好的是含有交聯劑。作為上述 父聯劑’可列舉有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。作 為有機系交聯劑，可列舉：環氧系交聯劑、異氰酸I系交 聯劑、亞胺系交聯冑、過氧化物系交聯劑等。該等交聯劑 可使用！種或組合使用2種以上。作為有機系交聯劑’較好 :疋異亂酸醋系交聯劑。多官能性金屬餐合物係多價金屬 ::機化合物共價鍵結或配位鍵結而成者。作 原子’可列HCr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、v Zn、

In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、sr、Ba、M〇、L nr:賈鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子n，可 牛乳”子寺，作為有機化合物，可列舉：炫基醋、醇化 149142.doc 201109175 合物、叛酸化合物、醚化合物、酮化合物等。 基礎聚合物與交聯劑之調配比例並無特別限定，通常相 對於基礎聚合物（固形物成分）100重量份，以1〇重量份左右 以下之比例調配交聯劑（固形物成分）。上述交聯劑之調配 比例較好的是0.001〜10重量份，更好的是〇 〇1〜5重量份， 更好的是0.2〜1.0重量份。 上述交聯劑中，較好的是異氰酸酯系交聯劑。作為異氰 酸酯系交聯劑，可列舉：甲苯二異氰酸酯、二曱笨二異氰 酸酯等芳香族異氰酸酯，異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異 氰酸醋’ 1，6-己二異氰酸酯等脂肪族異氰酸酯等。 更具體而言，例如可列舉：丨，4_ 丁二異氰酸酯、丨，6_己 二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類，環戊二異氰酸 醋、環己二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰 酸酯類’ 2,4-曱苯二異氰酸酯、4,4，_二苯基甲烷二異氰酸 酯、二曱苯二異氰酸酯、聚亞甲基聚笨基異氰酸酯等芳香 族二異氰酸酯類’三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯三聚物 之加成物（曰本聚氨酯工業公司製造，商品名Coronate L)、三羥甲基丙烷/1,6-己二異氰酸酯三聚物之加成物（曰 本聚氣醋工業公司製造，商品名Coronate HL)、1，6-己二 異氰酸酯之異氰尿酸酯體（曰本聚氨酯工業公司製造，商 品名Coronate HX)等異氰酸醋加成物，聚醚聚異氰酸S旨、 聚酯聚異氰酸酯、以及該等與各種多元醇之加成物，經異 氰尿酸酯鍵、縮二脲鍵、脲基甲酸酯鍵等多官能化之聚異 氰酸酯等。 £ 149142.doc 19 201109175 進而，於本發明之黏著劑組合物中可視需要含有其他眾 所周知之添加劑，例如可根據所使用之用途而適當添加著 色劑、顏料等之粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、黏著 性賦予劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗 老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或 有機之填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，可採用 於可控制之範圍内添加還原劑之氧化還原系。 上述光學膜用黏著劑層可藉由塗佈於基材後，進行熱處 理並硬化而形成。本發明之黏著型光學膜係於光學膜之至 少單面藉由上述黏著劑形成黏著劑層者。 作為形成上述黏著劑層之方法，例如可列舉如下方法： 使用經剝離處理之分隔件等作為基材，將上述黏著劑組合 物塗佈於該分隔件，將聚合溶劑等乾燥去除，同時使其硬 化’形成黏著劑層後轉印於光學膜。χ，作為形成上^點 著劑層之方法，例如可列舉如下方法：使用光學膜作為基 ^ ’直接於光學膜上塗佈上述黏著劑組合物，將聚合溶劑 等乾燥去除，同時使其硬化，將黏著劑層形成於光學二 上。再者’塗佈黏著劑時，可適當新添加聚合溶劑以外之 一種以上之溶劑。 /又’製作本發明之黏著型光學❾寺，可於光學膜之表面 形成增黏層（anchor layer)，或實施電暈處理、電漿處理等 各種易接著處理後形成黏著劑層。又，可於黏著劑層之表 面進行易接著處理。 作為上述增黏層之形成材料，較好的是使用選自聚胺基 149l42.doc -20- 201109175 曱酸s旨、聚酯、分子中包含胺基之聚合物類中之增黏劑， 尤其好的是分子中包含胺基之聚合物類。分子中包含胺基 之聚合物類由於表現出分子中之胺基與黏著劑中之羧基等 發生反應或離子性相互作用等相互作用，故而確保良好之 密著性。 作為分子中包含胺基之聚合物類，例如可列舉：聚乙烯 亞胺、聚烯丙基胺、聚乙烯基胺、聚乙烯基吡啶、聚乙烯 基吼Μ、㈣酸二甲基胺基乙料含胺基單體之聚合物 等。 作為黏著劑層之形成方法，可使用各種方法。且體而 言’例如可列舉：㈣、接觸報塗佈、凹版印刷塗佈、反 向塗佈、較式刷塗、噴塗、浸潰親塗、棒塗、刮塗、氣刀 塗佈、簾塗、唇式塗佈、利用模塗佈機等之擠出塗佈法 方法。 之 Λ 、鬥可训恐内微、濕熱試驗 耐久性，黏著劑層之厚度較好 1〇 #又孕乂好的疋5〜5〇 μπι，更好的是 i U〜25 μπι 〇 於本發明中，直至貼合於液晶 ^ X 早70為止，係利用脫模性 承載膜（亦稱為为隔件）保護黏著劑層。 作為分隔件之構成材料， 刊竹例如可列舉··塑膠腹、祕 布、不織布等多孔姑钮 _ 膜、我、 夕孔材抖，網、發泡薄片、金屬落β分姑 之層慶體等，就表面平滑性優 、、及该專 塑膠膜。 ’、方面而s，合適的是使用 作為該塑膠臈，例如可列 取 來乙烯膜、聚丙烯膜、聚 349142.doc -21 · 201109175 丁稀膜、聚丁二埽膜、聚甲基戍稀膜、聚氯乙稀膜、氯乙 稀共聚物膜、聚對苯二f酸乙二醋膜、聚對笨二子酸丁二 醋膜、聚胺基甲酸酯膜'乙烯_乙酸乙烯酯共聚物膜等。 其中，較好的是聚對苯二甲酸乙二醋膜、聚對苯二甲酸丁 二酯膜、聚萘二甲酸乙二酯膜等聚酯系膜。 上述分隔件中亦可視需要進行利用聚石夕氧系、氣系、長 鏈烷基系或脂肪酸醯胺系脫模劑、矽土粉等之脫模及抗污 處理’或塗佈型、捏合型、蒸鍍型等之抗靜電處理。尤： 是’可藉由對上述分隔件之表面適當進行聚石夕氧處理、長 鏈烧基處理、氟處理等剝離處理，而更提高自上述黏著劑 層之剝離性。本發明之黏著劑層合適於分隔件經脫模處理 者，尤其合適於藉由聚矽氧處理進行脫模處理者。 再者，製作上述黏著型光學料所使用之經剥離處理的 薄片可直接用作黏著型光學膜之分隔件，從而可於步驟方 面進行簡化。 作為光學膜，係使用液晶顯示裝置等圖像顯示裝置之形 成時所制者，其賴並無特㈣制。例如，作為光學膜 可列舉偏光板1光板通常使用於㈣元件之單面或雙面 具有透明保護膜者。 偏光元件並無特別限定，可使用各種者。作為偏光元 件’例如可列舉：使聚乙稀醇系膜、部分縮甲酸化聚乙稀 醇系膜 '乙稀-乙酸乙烯酉旨共聚物系部分息化膜等親水性 高分子膜上吸附m二色性染料之二色性物質並進行單轴 延伸者，聚乙稀醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理 149142.doc •22· 201109175 物等多烯系配向膜等。該等中，合適的是包含聚乙烯醇系 膜與蛾等二色性物質之偏光元件。該等偏光元件之厚度並 無特別限制，通常為5〜80 μηι左右。 將聚乙烯醇系膜利用碘染色並進行單軸延伸而成的偏光 元件，例如可藉由如下方式製作：將聚乙烯醇浸潰於碘之 水溶液中進行染色，延伸至原長度之3〜7倍。亦可視需要 浸潰於亦可含有硼酸或硫酸辞、氣化鋅等之碘化鉀等之水 溶液中。進而可視需要於染色前將聚乙烯醇系膜浸潰於水 中進行水洗。除了藉由水洗聚乙烯醇系膜可清洗聚乙烯醇 系膜表面之污垢或抗結塊劑以外，亦具有藉由使聚乙婦醇 系膜膨潤而防止染色不均等不均勾的效果。延伸可於利用 碘進行染色後進行，亦可一面染色一面延伸，X，亦可延 伸後利用峨進行染色。亦可於賴或破化鉀等之水溶液或 水浴中進行延伸。 作為構成透明保護膜之材料，例如可使用透明性、機械 強度、熱敎性、隔水性、等向性等優異之熱塑性樹脂。 作為此種熱塑性樹脂之具體例’可列舉··三乙酿纖维素等 纖維素樹脂、聚酿樹脂、聚趟砜樹脂、聚砜樹脂、聚碳酸 酯樹脂、&醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、（甲 基）丙稀酸樹脂、環狀聚稀煙樹脂（降冰片婦系樹脂）、聚芳 S旨樹脂、聚苯乙稀樹脂、聚乙婦醇樹脂、及該等之混人 物。再者，於偏光元件之單側可藉由接著劑層而貼合透s; 保護膜’但於其他單側，可使用（甲基）丙稀酸系、胺基甲 酸醋系、丙烯酸胺基甲酸酉旨系、環氧系、聚石夕氧系等孰固 I49142.doc -23· 201109175 性樹脂或紫外線硬化型樹脂作為透明保護獏。透明保護膜 中可包含！種以上任意適當之添加劑。作為 可列舉：紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑'脫 扠劑、抗著色劑、阻燃劑、成核齊卜抗靜電劑、顏料、著 色劑等。透明保護財之上述熱難樹脂之含量較好的是 5:〜H)〇重量％，更好的是5〇〜99重量％，更好的是6心 量％ ’尤其好的^^97重量％。於透明保護膜中之上述熱 塑性樹脂之含量為50重量％以下之情形時有無法充分表 現出熱塑性樹脂原本所具有之高透明性等之虞。 又，作為光學膜，例如可列舉反射板或反透射板、相位 差板（包含1/2或1/4等波長板）、視覺補償膜、亮度提昇膜 等有時用於形成液晶顯示裝置等的成為光學層者。該等除 了可單獨用作光學膜以外，亦可於實用時，於上述偏光板 上積層1層或2層以上而使用。 偏光板上積層有上述光學層之光學膜，亦可藉由於液晶 顯不裝置等之製造過程中依次個別積層之方式而形成，預 先積層而製成光學膜者具有如下優點：品質之穩定性或組 裝作業等優異’改善液晶顯示裝置等之製造步驟。積層可 使用黏著層等之適當之接著方法。於上述偏光板與其他光 學層之接著時，其等之光學軸可根據目標相 位差特性等設 為適當之配置角度。 本發明之光學薄片構件之捲繞體合適用於如下用途：令 光本膜之至少單面隔著點著劑層而具有脫模性承載膜之光 學薄片構件被抽出’並以特定間隔半切後貼合於液晶單 149142.doc •24· 201109175 元因此戶斤4半十刀係指在殘留有脫模性承載膜之狀態下 將光學模與黏著劑層切斷之切斷方式4時，黏著劑層較 好的是完全切斷，亦可殘留一部分。此種製造步驟可藉由 本發明之液晶顯示裝置之連續製造方法較好地實施。 即，本發明之液晶顯示裝置之連續製造方法包括如下步 驟.從本發明之光學薄片構件之捲繞體抽出光學薄片構 件’將經抽出之光學薄片構件以特定間隔在⑨留有上述脫 模性承載膜之狀態下將上述光學膜與上述黏著劑層切斷； 以及將切斷後之光學膜片經由黏著劑層貼合於液晶單元。 圖1係表示本發明液晶顯示裝置之連續製造方法之一例的 步驟圖。以下，根據該圖說明各步驟。 (1) 第1捲筒式素材準備步驟（圖1、S1)。準備本發明之捲 繞體作為第1捲筒式素材。第丨捲筒式素材之寬度依賴於光 學顯示單元之貼合尺寸。 (2) 搬送步驟（圖1、S2)。從所準備並已設置之第i捲筒式 素材抽出第1光學薄片構件，搬送至下游側。搬送第1光學 薄片構件之第1搬送裝置例如包括：壓送輥對、張力輥、 方疋轉驅動裝置、蓄能裝置、感測裝置、控制裝置等。第1 干涛片構件具有第1脫模膜，其作為承載膜而發揮功 能。 (3) 第1檢查步驟（圖1、S3)。使用第1缺陷檢查裝置檢查 第1弁與π 予缚片構件之缺陷。作為此處之缺陷檢查方法，可 列與-fcAv / + ;第1光學薄片構件之雙面，利用透射光、反射光進 订圖像攝影、圖像處理之方法；於CCD攝影機與檢查對象 I49142.doc •25- 201109175 物之間，以與作為檢查對象之偏光板之偏光軸成正交偏光 之方式配置（有時稱為〇度交又）檢查用偏光膜，進行圖像攝 影、圖像處理的方法；於CCD攝影機與檢查對象物之間， 以與作為檢查對象之偏光板之偏光軸成特定角度（例如， 大於0度且1〇度以内之範圍）之方式配置（有時稱為χ度交叉） 檢查用偏光膜，進行圖像攝影、圖像處理的方法。再者， 圖像處理之演算法可應用眾所周知之方法，例如可藉由利 用二值化處理之濃淡判定來檢測缺陷。 利用透射光之圖像攝影、圖像處理方法可檢測第丨光學 薄片構件内部之異物。利用反射光之圖像攝影、圖像處理 方法可檢測第^學薄片構件表面之附著異物。利用〇度交 又之圖像攝影、圖像處理方法主要可以亮點之形式檢測表 面異物、污垢、内部異物等。利用χ度交又之圖像攝影、 圖像處理方法主要可檢測裂點。 由第1缺陷檢查裝置所獲得之缺陷資訊在與其位置資訊 (例如位置座標）建立關聯後被發送至控制裝置，可有助於 下述第1切斷裝置之切斷方法。 、 (4)第1切斷步驟（圖1、s4)。第 弟1切斷裝置亚不切斷第}脫 核膜，而疋將第1光學膜及第1黏著劑層切斷(半切)成特定 尺寸。作為切斷方法’例如可列$ :雷射裝置、切判哭、 知之切斷方法等。構成為根據由第丨缺二查 裝置所彳又付之缺陷資句 级u域 以而以避免缺陷之方式進行切斷。 藉此，第1光學薄片構# 缺陷之第以學薄片構件“良率0大幅提昇。構成為包含 專片構件藉由下述第!排除裝置被排除而不 149142.doc • 26 - 201109175 會貼附於光學顯示單元。 (5) 第1光學膜貼合步驟 ^ ^ m ^ 夕鄉（圖1、S5)。一面使用第1剝離裝 置去除第1脫模膜，—而姑田锋，扣人处取， , 面使用第1貼合裝置將已去除該第！ 脫模膜之第1光學膜經由第1黏著劑層貼合於光學顯示單 凡於進灯貼口時’如下所述，利用輕對來失持並壓接第 1光學膜與光學顯示單元。 (6) 清洗步驟（圖！、。本與翻-0口 ―u ) 光子顯不單7L係利用研磨清洗 裝置及水清洗裝置清法盆主工 先其表面。已被清洗之面板藉由搬送 機構搬送直至檢查裝置。搬 I 搬达機構例如包括：搬送用輕、 搬送方向切換機構、旌鳇 〃褥驅動裝置 '感測裝置、控制裝置 ⑺第2捲筒式素材準備步驟（圖卜su)。準備本發明之 2體作為第2捲筒式素材。第2光學薄片構件之積層結構 1先學溥片構件為相同之構成，但並不限定於此。 搬运步驟（圖丨、Sl2)。從所準備並已設置之第2捲筒 出第2光學薄片構件’搬送至下游側。搬送第2光 于薄片構件之第2搬送裝置例如包括：遷送輥對、張力 輥、旋轉驅動裝置、蓄能裝置、感測裝置、控制裝置等。 ⑼第2檢查步驟（圖卜Sl3)。使用第 =Γ構件之缺陷。此處之缺陷檢查== 弟1缺檢查裝置之方法相同。 第2切斷步驟（圖卜叫第2切斷裝置並不切斷第2 脫模膜，而是將第2#與 定尺十^ 弟2黏著劑層切斷（半切）成特 乍為切斷方法，例如可列舉：f射裝置、切割

A 149142.doc -27. 201109175 器、其他眾所周知之切斷方法等。構成為根據由第2缺陷 檢查裝置所獲得之缺陷之資訊而以避免缺陷之方式進行切 斷。藉此，第2光學薄片構件之良率會大幅提昇。構成為 包含缺陷之第2光學薄片構件藉由下述第2排除裝置被排除 而不會貼附於光學顯示單元。 (11) 第2光學膜貼合步驟（圖1、Sl5)e繼而，於第2切斷 步驟後，一面使用第2剝離裝置去除第2脫模膜，一面使用 第2貼合裝置將已去除該第2脫模膜之第2光學膜經由上述 第2黏著劑層而貼合於與光學顯示單元之貼合有第丨光學膜 之面為不同的面上。再者，在將第2光學膜貼合於光學顯 不皁兀之前，藉由搬送機構之搬送方向切換機構而使光學 顯不早兀旋轉90度，從而存在使第1光學膜與第2光學膜成 為正交偏光之關係的情況。於進行貼合時，如下所述，利 用輥夾持並壓接第2光學膜與光學顯示單元。 (12) 光學顯示單元之檢查步驟（圖1、S16)。檢查裝置係 檢查兩面貼附有光學膜之光學顯示單元。作為檢查方法， 可例示對光學顯示單元之兩面進行利用反射光之圖像攝 影、圖像處理的方法。又，作為其他方法，亦可例示：在 CCD攝影機與檢查對象物之間設置檢查用偏光膜之方法。 再者，圖像處理之演算法可應用眾所周知之方&，例如可 错由利用二值化處理之濃淡判定來檢測缺陷。 (13)根據由;^查裝置所獲得之缺陷資訊來進行光學顯示 單元之良品判定。已判定為良品之光學顯示單元被搬送至 下女裝步驟。判定為不良品之情形時，對其實施二次加 149142.doc •28· 201109175 工處理’重新貼附光學膜，然後進行檢查，於判定為良品 時’轉移至安裝步驟；於判定為不良品之情形冑，再次轉 移至二次加工處理或進行廢棄處理。 於以上—系列製造步驟中，可藉由於生產線上連續執行 第1光學臈之貼合步驟與第2光學膜之貼合步驟，而較好地 製造光學顯示單元。 本發明之液晶顯示裝置之形成可根據先前方法來進行。 即’液晶顯示裝置通常係將液晶草元與光學膜、及視需要 將照明系統等構成零件適t組裝並裝人驅動電路等而形 成。關於液晶單元，例如可使用TN(twisted nematic，扭轉 向歹υ型或s™(卿er twisted nematic，超扭轉向列）型1 型' VA(verticaiiy aiigned，垂直排列）型、吻㈣咖 switching，橫向電場切換）型等任意型者。 可形成.⑨液晶單兀之單側或兩側配置有黏著型光學臈 之液晶顯示裝置、或照明系統使用背光或反射板者等適當 之液^顯示裝置。於該情形時，本發明之光學膜可設置於 液晶單元之單側或兩側。於兩側設置有光學膜之情形時， 該等可相同亦可不同。 進而’形成液晶顯示袋置時’例如可將丄層或2層以上之 ㈣板、防眩層、抗反射膜、保護板、棱鏡陣列、透鏡陣 列薄片、光擴散板、背光等適宜零件配置在適 實施例 十鉍月，但本發明並不今 專實施例之限定。再者’各例中之份及%均為重量基马 149142.doc -29- 201109175 實施例等中之評價項目係、利用下述方式測定。 (保管性） 將所製作之附承載膜黏著劑層偏光板捲筒保管3個月。 其後’於圖1所示步驟中貼合1〇〇片，獲得液晶顯示裝篆。 進打所獲得之液晶顯示裝置之外觀檢查（切斷端面以外之 部分），依據以下評價基準進行評價。又，參考例2、3厶 單片系統係將衝壓後之薄片狀製品疊合2〇片並捆包，同掾 地保存3個月。〇為100片中〇片外觀不良，Δ&1〇〇片中卜5 片外觀不良’ X為1〇〇片中6片以上外觀不良。 (切斷面附著糊之狀態） 如上所述’進行於圖1所示步驟中貼合丨〇〇片所獲得之液 晶顯示裝置的外觀檢查（切斷端面附著糊之狀態），依據以 下之評價基準進行評價。〇為i 〇〇片中未達0〜3片外觀不 良，X為100片中3片以上外觀不良。再者，半切之條件係 使用切割刃作為切斷刃，以20 m/min之速度進行切斷。 (濕熱試驗） 將附黏著劑層之偏光板貼附於玻璃板（無鹼玻璃），於 60°C、90% RH之氣體環境中加熱500小時後，目測觀察有 無剝離。 實施例1 將丙烯酸丁酯（BA，butyl acrylate)95份、丙烯酸（AA， acrylic acid)5份、2,2-偶氮雙異丁腈0.1份、乙酸乙酯140份 投入至具備氮導入管及冷卻管之四口燒瓶中’充分進行氮 置換後，於氮氣流下一面攪拌一面於55°C下進行8小時聚 149142.doc •30- 201109175 合反應，獲得重量平均分子量170萬之高分子量聚合物a。 相對於該聚合物溶液之固形物成分100份，調配包含三 經甲基丙炫之甲笨二異氰酸酯加成物的聚異氰酸酯系交聯 劑（製品名Coronate L :日本聚氨酯製造）0.5份、3_縮水甘 油氧基丙基三甲氧基矽烷（製品名KBM403 :日本信越有機 石夕製造）。其次，將點著劑組合物乾燥，以厚度成為25 μηι 之方式利用喷注式塗佈機塗佈於經聚矽氧剝離處理之厚度 38 μπι 的 PET(polyethylene terephthalate,聚對苯二甲酸乙 一醋）製承載膜（製品名MRF3 8:三菱樹脂製造）上，於 15〇t：下乾燥2分鐘’獲得黏著劑層。使上述黏著劑層貼合 於偏光板捲筒，進行轉印’獲得附承載膜/黏著劑層偏光 板捲筒。各層之物性及評價結果示於表1。 再者，偏光板係利用如下方式製作。將厚度8〇 μϊη之聚 乙烯醇膜於速度比不同之捲筒間，於3〇。(：下，於0.3%漢度 之碘溶液中染色1分鐘同時延伸直至3倍。其後，於60。匚 下，於包含4%濃度硼酸、1〇%濃度碘化鉀之水溶液中浸潰 〇. 5分鐘同時進行延伸’至综合延伸倍率為6倍為止。繼 而’於30°C下’於包含1.5%濃度蛾化卸之水溶液中浸潰1〇 秒鐘’藉此清洗後，於5〇°C下乾燥4分鐘而獲得偏光元 件。於該偏光元件之雙面，藉由聚乙烯醇系接著劑貼合經 皂化處理之厚度80 μηι的三乙醯纖維素膜，而製作偏光 板。 <於液晶單元貼合偏光板> 依據圖1所示步驟’使用附承載膜/黏著劑層之偏光板捲

S 149142.doc 201109175 筒，將光學膜貼合於液晶單元。液晶單元係對應於具有玻 璃基板之32吋電視者，光學膜之尺寸為4〇〇mmx7〇〇mm。 實施例2 除了於實施例i中將聚異氰酸醋系交聯劑之添加量變更 為0·3份以外，以與實施例丨相同之條件，獲得附承載膜/黏 著劑層之偏光板捲筒後，貼合於液晶面板上。各層之物性 及評價結果示於表1。 實施例3 除了於實施例1中將聚合物A改變更為聚合物B以外，以 與貫施例1相同之條件，獲得附承載膜/黏著劑層之偏光板 捲筒後，貼合於液晶面板上。各層之物性及評價結果示於 表1。再者’聚合物B係利用如下方式聚合。 將丙烯酸丁酯（BA)99份、丙烯酸4-羥基丁酯（HBA，4_ hydroxyl butyl aCrylate)l份、2,2-偶氮雙異丁腈〇1份、乙 酸乙酯140份投入至具備氮導入管及冷卻管之四口燒瓶 中，充分氮置換後，於氮氣流下一面授拌一面於55它下進 行8小時聚合反應，獲得重量平均分子量17〇萬之高分子量 聚合物B。 比較例1〜2 除了於實施例1中將聚異氰酸酯系交聯劑之添加量改變 更為表1所示量以外’以與實施例1相同之條件，獲得附承 載膜/黏著劑層之偏光板捲筒後，貼合於液晶面板上。各 層之物性及評價結果示於表1。 比較例3 149l42.doc •32· 201109175 除了於實施例1肀將聚合物A改變更為聚合物b，並且將 聚異氰酸酯系交聯劑之添加量變更為〇. 1份以外，以與實 施例1相同之條件’獲得附承載膜/黏著劑層之偏光板捲筒 後’貼合於液晶面板上。各層之物性及評價結果示於表 比較例4 除了於實施例1中將聚合物A改變更為聚合物C以外，以 與實施例1相同之條件’獲得附承載膜/黏著劑層之偏光板 捲筒後，貼合於液晶面板上。各層之物性及評價結果示於 表1。再者，聚合物c係利用如下方式聚合。 將丙埽8欠丁函曰（；6八)93份、丙烯酸（八八）7份、2,2-偶氮雙 異丁腈0.1份、乙酸乙酯140份投入至具備氮導入管及冷卻 g之四口燒瓶中，充分氮置換後，於氮氣流下一面攪拌一 面於55。(：下進行8小時聚合反應，獲得重量平均分子量工川 萬之尚分子量聚合物C。 比較例5 除了於實施例1中將聚合物A改變更為聚合物B，將交聯 劑之添加量變更為h5份（參照表1}以外，以與實施例！相同 之條件，獲得附承载膜/黏著劑層之偏光板捲筒後，貼合 於液S曰面板上。各層之物性及評價結果示於表五。 比較例6 ,、了於只k ί列1中將聚異氰酸g旨系交聯劑之添加量改變 更為2.0份(參照表1}以外，以與實施例i相同之條件，獲得 附承載膜/黏著劑層之德去技接& ,. d S之偏先板捲同後，貼合於液晶面板 上。各層之物性及評價結果示於表i。 149142.doc -33- 201109175 備註 於濕熱試驗中剝離 於濕熱試驗中剝離 於濕熱試驗中剝離 保存性 〇 Ο . 〇 X 〇 X 〇 〇 〇 切斷面附著糊之狀態 〇 Ο 〇 X 〇 X X 〇 〇 保持力 (μΐΏ) g ο ο 〇 § 〇 凝膠率 (%) § m 〇\ S § § Os 接著力 (N/25 mm) oo 00 (Ν 〇 斷裂伸度 (%) 1_ 1000 1300 1400 2300 〇 § 2500 〇 〇 § 〇 寸 儲存彈性模數 (MPa) ο 1— 1.00 0.95 0.71 0.60 vq 異氰酸酯交聯劑 (份） ο cn 0.05 〇 〇 〇4 聚合物 < < OQ < < CQ U C0 < 實施例1 實施例2 實施例3 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 比較例6 ZA6=vv/va :u荟令龄 l/66=vCQH/vra:CD荟<°龄 S/S6=VV/VH : v-R-*r^龄 149142.doc •34- 201109175 【圖式簡單說明】 圖1係表示本發明之液晶顯示裝置之連續製造方法之一 例的步驟圖。 S- 149142.doc 35-

Claims (1)

1. 201109175 七、申請專利範園··

   一種光學薄片構件之捲繞體，其中 之至少單面隔著黏著劍層 上述光學薄片構件於光學膜 而具有脫模性承載膜， 上述黏著劑層包含丙烯酸系（共）聚合物， 於23C、頻率10 Hz下施加剪應變（厚度800 μηι，動態 應變0.1%)時之儲存彈性模數為GH 2 Mb， ^ 拉伸試驗之斷裂伸度為500〜2000% , 使用2 Kg輥於平滑不鏽鋼（SUS3〇4 :廣榮工業公司製 造）表面往返加壓1次，貼附後1分鐘後以300 mm/min之 剝離速度180。剝離時之接著力為3〜15 N/25爪瓜。 2.如請求項1之光學薄片構件之捲繞體，其中 上述黏著劑層之凝膠率為7〇〜9〇%，且 藉由下述評價方法測定之23t下之保持力（Ha)為2〇〇 μιη以下； 此處’保持力（ΗΑ)係表示將1〇 mmx30 mm之光學膜之 上端部10 mmxlO mm經由黏著劑層並以2 Kg之按壓力貼 附於無鹼玻璃板（康寧1737，厚度〇.7 mm)上，於50eC、5 大氣壓之條件下進行15分鐘高壓爸處理後，於室溫下放 置1小時後’於光學膜之下端部加載5〇〇 g負重並放置1小 時之際，加載負重前後與玻璃板之間的偏移幅度。 3. 如請求項1之光學薄片構件之捲繞體，其中上述脫模性 承載膜包含聚酯系基材。 4. 一種液晶顯示裝置之連續製造方法，其包括以下步驟： 149142.doc 201109175 從如請求s 1 + / 朵興—項之光學薄片構件之捲繞體抽出 寻片構件，將所抽出之光學薄片構件以特定間隔在 殘留有上述脫模性承載膜之狀態下將上述光學膜與上述 黏著劑層切斷；以及將切斷後之光學膜片經由黏著劑層 貼合於液晶單元。 149142.doc