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CN105445838A - 具有压敏粘合剂层的偏光板 - Google Patents

具有压敏粘合剂层的偏光板 Download PDF

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CN105445838A
CN105445838A CN201510594926.2A CN201510594926A CN105445838A CN 105445838 A CN105445838 A CN 105445838A CN 201510594926 A CN201510594926 A CN 201510594926A CN 105445838 A CN105445838 A CN 105445838A
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CN
China
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pressure
sensitive adhesive
adhesive layer
polarizing plate
film
Prior art date
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Application number
CN201510594926.2A
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English (en)
Inventor
秋月伸介
外山雄祐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Publication date
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Abstract

本发明涉及具有压敏粘合剂层的偏光板。提供高度差追随性优异且几乎不翘曲的具有压敏粘合剂层的薄偏光板。本发明的具有压敏粘合剂层的偏光板依次包括:保护膜、偏光膜和压敏粘合剂层,其中:具有压敏粘合剂层的偏光板的总厚度为90μm以下,偏光膜的厚度为13μm以下;压敏粘合剂层的厚度为12μm至25μm;和在将500g的负荷施加至压敏粘合剂层1小时时,蠕变量为80μm/h至260μm/h。

Description

具有压敏粘合剂层的偏光板
本申请根据35U.S.C.第119节要求2014年9月19日提交的日本专利申请2014-191680的优先权,该文献通过参考引入本文。
技术领域
本发明涉及具有压敏粘合剂层的偏光板。
背景技术
近年来,图像显示设备,特别是用于移动应用的图像显示设备的薄型化已经在进展,因此对用于图像显示设备的偏光板的薄型化已存在日益增长的需求。使偏光板变薄的手段例如是,涉及用一种保护膜保护偏光膜的方法(例如,日本专利5332599)。然而,例如,当此类结构的偏光板,即包括具有一个被保护的侧面的偏光膜的偏光板粘贴到任何其它构件时,出现下述问题。在偏光板沿偏光膜的吸收轴方向上的端部发生翘曲,从而导致剥离或外观异常。特别是在现在的形势下,当图像显示设备经常在与使用所述设备的环境的多样化有关的苛刻环境(例如,在高温和高湿下)下使用,包括用于移动应用的图像显示设备的户外使用时,这种现象变成问题。
此外,已经提出下述结构的偏光板作为薄偏光板(例如,国际专利WO2009/069799A)。未设置保护偏光膜的保护膜,和使压敏粘合剂层直接形成在偏光膜上,使得偏光板可粘贴至任何其它构件。然而,国际专利WO2009/069799A中描述的偏光板高度差追随性(leveldifferencefollowability)差,因而在与凹凸面(例如,光学膜如具有图案表面或由对应于液晶显示面板的框架部分的光屏蔽层引起的高度差的导电膜)的密合性方面存在问题。当使用高度差追随性差的偏光板时,容易发生外表不良,并且与偏光板的薄型化相关,该问题变得更显著。此外,存在下述问题:在不产生气泡的情况下,难以粘贴国际专利WO2009/069799A中描述的偏光板。
发明内容
已完成本发明,来解决所述常规问题,本发明的主要目的是提供一种具有压敏粘合剂层的薄偏光板(更具体地说,保护膜仅设置在偏光膜的一侧上的偏光板),其具有优异的高度差追随性,并且几乎不翘曲。
本发明的具有压敏粘合剂层的偏光板依次包括:保护膜、偏光膜和压敏粘合剂层,其中:所述具有压敏粘合剂层的偏光板的总厚度为90μm以下,所述偏光膜的厚度为13μm以下;所述压敏粘合剂层的厚度为12μm至25μm;和在将500g的负荷施加至所述压敏粘合剂层1小时时的蠕变量为80μm/h至260μm/h。
在本发明的一个实施方式中,所述压敏粘合剂层含有(甲基)丙烯酸类压敏粘合剂。
在本发明的一个实施方式中,当具有压敏粘合剂层的偏光板的压敏粘合面粘贴至无碱玻璃,且将所得物在70℃气氛下静置200小时时,所述具有压敏粘合剂层的偏光板沿偏光膜的吸收轴方向的收缩率为0.4%以下。
在本发明的一个实施方式中,所述保护膜的厚度为5μm至55μm。
在本发明的一个实施方式中,具有压敏粘合剂层的偏光板的总厚度为90μm以下。
在本发明的一个实施方式中,所述压敏粘合剂层由含有基础聚合物和多种交联剂的压敏粘合剂形成;和所述多种交联剂各自包括过氧化物类交联剂、环氧类交联剂和异氰酸酯类交联剂中的一种。
根据本发明的另一方面,提供一种光学层压体。所述光学层压体包括具有压敏粘合剂层的偏光板;和设置在所述具有压敏粘合剂层的偏光板的压敏粘合剂层上的光学膜。
在本发明的一个实施方式中,所述光学膜包括亮度提升膜。
根据本发明的实施方式,依次设置保护膜、厚度为13μm以下的偏光膜和具有特定厚度和特定蠕变量的压敏粘合剂层,由此获得仅使用一层保护膜的具有压敏粘合剂层的薄偏光板,并且可获得尽管此类结构仍在高温下或在高温和高湿下几乎不翘曲的具有压敏粘合剂层的偏光板。根据本发明的实施方式的具有压敏粘合剂层的偏光板几乎不翘曲,因此防止不必要的剥离、层间剥离和起泡。此外,可防止外观异常,特别是在偏光板端部出现的外观异常,在其粘贴至凹凸面(例如,面板的凹凸面)时出现的外观异常,在其被微小异物污染时出现的外观异常等。
附图说明
图1是根据本发明的一个实施方式的具有压敏粘合剂层的偏光板的示意性截面图。
图2是根据本发明的一个实施方式的光学层压体的示意性截面图。
图3是说明用于本发明的光学层压体的直线偏光分离膜的实例的示意性立体图。
图4是说明实施例中高度差追随性的评价方法的示意图。
具体实施方式
A.具有压敏粘合剂层的偏光板的整体结构
图1是根据本发明的一个实施方式的具有压敏粘合剂层的偏光板的示意截面图。图1的具有压敏粘合剂层的偏光板100依次包括保护膜10、偏光膜20和压敏粘合剂层30。本发明的具有压敏粘合剂层的偏光板仅包括一层保护膜。保护膜10和偏光膜20可介由任何适合的粘合剂层层压,尽管所述粘合剂层未示出。偏光膜20的厚度为13μm以下。压敏粘合剂层30的厚度为12μm至25μm。此外,本发明的具有压敏粘合剂层的偏光板可包括任何适合的其它层,尽管所述层未示出。例如,所述板可包括保护膜在偏光膜侧的表面上的锚固层。所述具有压敏粘合剂层的偏光板的总厚度为90μm以下。
在本发明中,依次设置保护膜、偏光膜和压敏粘合剂层,和将所述偏光膜和压敏粘合剂层的厚度设置为如上所述的特定厚度,由此可获得翘曲至很小程度的具有压敏粘合剂层的偏光板。在这种具有压敏粘合剂层的偏光板中,防止其粘帖至任何其它构件时在高温和高湿下的剥离、层间剥离和起泡,并且可防止在偏光板的端部出现的外观异常。此外,在本发明中,如随后描述的,将压敏粘合剂层的蠕变量设置至特定范围内(80μm/h至260μm/h),可提供高度差追随性优异的具有压敏粘合剂层的偏光板。当进行不具有足够的高度差追随性的偏光板的薄型化时,其粘贴至凹凸面时的外观不良等趋向于更明显。然而,由于本发明的具有压敏粘合剂层的偏光板具有优异的高度差追随性,因而其可变薄(具体地,如上所述90μm以下),同时抑制出现外观不良。
本发明的具有压敏粘合剂层的偏光板的总厚度为90μm以下,优选30μm至80μm,更优选40μm至70μm。在本发明中,即使偏光板薄,由于如上所述偏光板具有优异的高度差追随性,因而在其粘贴至凹凸面时的外观也是优良的。
当所述具有压敏粘合剂层的偏光板的压敏粘合面粘贴至无碱玻璃,且将所得物在70℃气氛下静置200小时时,具有压敏粘合剂层的偏光板沿偏光膜的吸收轴方向的收缩率优选为0.4%以下,更优选0.3%以下,仍更优选0.2%以下。当收缩率落入上述范围内时,获得翘曲至很小程度的偏光板,并且在偏光板中,可防止在端部出现的外观异常。
B.偏光膜
偏光膜的厚度是13μm以下,优选8μm以下,更优选7μm以下,仍更优选6μm以下。使用这种薄偏光膜可提供具有压敏粘合剂层的薄偏光板。此外,通过抑制所述偏光膜的收缩应力,可获得翘曲至很小程度的具有压敏粘合剂层的偏光板。同时,偏光膜的厚度优选是1μm以上,更优选2μm以上。
偏光膜在25℃下的弹性模量优选是1,000MPa至10,000MPa,更优选2,000MPa至7,000MPa,仍更优选2,500MPa至4,000MPa。当弹性模量落入上述范围内时,可获得翘曲至很小程度的具有压敏粘合剂层的偏光板。例如,通过选择构成偏光膜的材料和制造偏光膜时的拉伸比,可调节偏光膜的弹性模量。需要说明的是,可依照JISK7127的拉伸试验法测量弹性模量。具体地说,所述弹性模量可在下述条件下测量。
测定弹性模量时的横轴(图中的斜率):应变(%)
测定弹性模量时的纵轴(图中的斜率):拉伸应力σ(MPa=N/mm2)=F/试验片的初始截面积A(mm2)
测定弹性模量时的范围(图中的斜率):在0.05%至0.25%的应变范围内的线性回归
试验片形状:带状(长度:100mm,宽度:50mm)
卡盘间的距离:100mm
所述偏光膜沿其吸收轴方向的线性膨胀系数优选是-50×10-5/℃以上,更优选-10×10-5/℃以上。由于偏光膜通过如随后所述的拉伸而形成,因而所述膜显示负的线性膨胀系数(即,随着温度升高而收缩)。偏光膜的线性膨胀系数的绝对值优选尽可能小,但偏光膜沿吸收轴方向的线性膨胀系数的上限例如为-1.0×10-5/℃以下,和在一个实施方式中,其为-4.0×10-5/℃以下。需要说明的是,线性膨胀系数依照JISK7197而测定。
偏光膜优选显示出在380nm至780nm波长范围内任一波长下的吸收二色性。偏光膜的单片透射率为优选40.0%以上,更优选41.0%以上,仍更优选42.0%以上,特别优选43.0%以上。偏光膜的偏光度为优选99.8%以上,更优选99.9%以上,仍更优选99.95%以上。
偏光膜优选是碘系偏光膜。更具体地说,偏光膜可由含碘的聚乙烯醇系树脂(以下简称"PVA系树脂")膜形成。
任何合适的树脂均可用作用于形成PVA系树脂膜的PVA系树脂。所述树脂的实例包括聚乙烯醇和乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇通过使聚乙酸乙烯酯皂化而获得。乙烯-乙烯醇共聚物通过使乙烯-醋酸乙烯酯共聚物皂化而获得。所述PVA系树脂的皂化度通常是85mol%至100mol%,优选95.0mol%至99.95mol%,更优选99.0mol%至99.93mol%。皂化度可依照JISK6726-1994测定。使用具有上述皂化度的PVA系树脂可提供耐久性优异的偏光膜。当皂化度过于高时,可能发生凝胶化。
PVA系树脂的平均聚合度可根据目的适当地选择。平均聚合度通常是1,000至10,000,优选1,200至5,000,更优选1,500至4,500。需要说明的是,平均聚合度可依照JISK6726-1994测定。
偏光膜的生产方法例如是,包括仅使PVA系树脂膜拉伸并染色的方法(I),或包括使具有树脂基材和聚乙烯醇系树脂层的层压体(i)拉伸并染色的方法(II)。由于方法(I)是众所周知的且是现有技术通常使用的,因而省略该方法的详细说明。生产方法(II)优选包括下述步骤:使具有树脂基材和形成在所述树脂基材一侧上的聚乙烯醇系树脂层的层压体(i)拉伸并染色,以在所述树脂基材上生产偏光膜。层压体(i)可通过在树脂基材上施涂含有聚乙烯醇系树脂的涂布液,并干燥所施涂的液体来形成。此外,层压体(i)可通过将聚乙烯醇系树脂膜转移到树脂基材上来形成。例如,日本专利申请特开2012-73580描述了关于生产方法(II)的细节,其通过参考引入本文。
C.保护膜
任何合适的树脂膜均可用作保护膜。作为用于形成保护膜的材料,例如,可给出:纤维素系树脂如三乙酰纤维素(TAC);环烯烃系树脂如降冰片烯系树脂;烯烃系树脂如聚乙烯或聚丙烯;聚酯系树脂;和(甲基)丙烯酸系树脂。需要说明的是,术语"(甲基)丙烯酸系树脂"是指丙烯酸系树脂和/或甲基丙烯酸系树脂。
在一个实施方式中,具有戊二酰亚胺结构的(甲基)丙烯酸系树脂用作(甲基)丙烯酸系树脂。具有戊二酰亚胺结构的(甲基)丙烯酸系树脂(以下有时称为戊二酰亚胺树脂)描述在例如,日本专利申请特开2006-309033、日本专利申请特开2006-317560、日本专利申请特开2006-328329、日本专利申请特开2006-328334、日本专利申请特开2006-337491、日本专利申请特开2006-337492、日本专利申请特开2006-337493、日本专利申请特开2006-337569、日本专利申请特开2007-009182、日本专利申请特开2009-161744和日本专利申请特开2010-284840中。其描述通过参考引入本文。
树脂膜通过任何适合的方法形成。成膜方法的实例包括熔融挤出法、溶液流延法、压延法和压缩成形法。这些之中,优选熔融挤出法。此外,树脂膜可进行拉伸处理。
保护膜和偏光膜介由任何适合的粘合剂层进行层压。可在保护膜和偏光膜层压之前或层压之后,剥离生产偏光膜时使用的树脂基材。
保护膜的厚度优选是5μm至55μm,更优选10μm至50μm,仍更优选15μm至45μm。当厚度落入上述范围内时,可获得翘曲至很小程度的具有压敏粘合剂层的偏光板。需要说明的是,保护膜可进行各种表面处理。
保护膜在25℃下的弹性模量优选是1,000MPa至10,000MPa,更优选1,200MPa至5,000MPa,仍更优选1,300MPa至4,000MPa。当弹性模量落入上述范围内时,可获得翘曲至很小程度的具有压敏粘合剂层的偏光板。
保护膜的线性膨胀系数优选大于0/℃,更优选1.0×10-6/℃至50×10-6/℃,仍更优选4.0×10-6/℃至10×10-6/℃。当线性膨胀系数落入上述范围内时,可获得翘曲至很小程度的具有压敏粘合剂层的偏光板。需要说明的是,当保护膜具有各向异性时,术语"保护膜的线性膨胀系数"表示生产保护膜时沿机器纵向(MD,具有压敏粘合剂层的偏光板中的偏光膜的吸收轴方向)的线性膨胀系数。
保护膜的透湿度优选是1,000g/m2/24h以下,更优选100g/m2/24h以下,仍更优选90g/m2/24h以下。当透湿度落入上述范围内时,可防止由于水分引起的偏光膜的劣化。需要说明的是,"透湿度"是通过依照JISZ0208的透湿度试验(杯法),测量在温度为40℃和湿度为92%RH的气氛中,在24小时内,经过面积为1m2的样品的水蒸气的量(g)而测定的值。
D.压敏粘合剂层
本发明的具有压敏粘合剂层的偏光板包括在偏光膜的保护膜相反侧(即最外侧)的表面上的压敏粘合剂层,并可介由压敏粘合剂层粘贴至任何其它构件。
当将500g负荷施加至压敏粘合剂层1小时时的蠕变量为80μm/h至260μm/h,优选100μm/h至200μm/h。在包括显示在上述范围内的蠕变量的压敏粘合剂层的具有压敏粘合剂层的偏光板中,压敏粘合剂层和偏光膜可与温度变化同相地变形。因此,可减轻施加至偏光膜的应力,由此可获得密合性优异的具有压敏粘合剂层的偏光板。此外,当压敏粘合剂层的蠕变量落在上述范围内时,可获得高度差追随性优异的具有压敏粘合剂层的偏光板。随后描述测量蠕变量的具体方法。
所述压敏粘合剂层可由含有压敏粘合性基础聚合物和交联剂的压敏粘合剂形成。所述压敏粘合剂层的蠕变量可例如通过压敏粘合剂中的基础聚合物的分子量和压敏粘合剂中的交联剂的添加量来调节。更具体地说,可通过使用具有高分子量的聚合物作为基础聚合物和/或增大交联剂的添加量来降低压敏粘合剂层的蠕变量。此外,可通过使用具有低分子量的聚合物作为基础聚合物和/或降低交联剂的添加量来增大压敏粘合剂层的蠕变量。
压敏粘合剂层的厚度优选是12μm至25μm,更优选13μm至23μm。当厚度落入上述范围内时,可获得薄且高度差追随性优异的具有压敏粘合剂层的偏光板。
压敏粘合剂层在25℃下的储能模量优选是0.03MPa至0.14MPa,更优选0.05MPa至0.13MPa,仍更优选0.08MPa至0.13MPa。当储能模量落入上述范围内时,可获得可防止例如剥离和起泡且耐久性优异的具有压敏粘合剂层的偏光板。需要说明的是,储能模量可通过使尺寸为2mm厚×8mm直径的压敏粘合剂层样品进行动态粘弹性测量(例如,使用由RheometricScientific制造的"AdvancedRheometricExpansionSystem(ARES)",变形模式:扭转,测量频率:1Hz,升温速率:5℃/min,测量温度:-50℃至150℃)来测定。
压敏粘合剂的实例包括(甲基)丙烯酸类压敏粘合剂、丙烯酸类聚氨酯系压敏粘合剂、聚氨酯系压敏粘合剂、硅酮系压敏粘合剂和有机-无机杂化系压敏粘合剂。这些之中,从透明性和耐久性的观点,优选(甲基)丙烯酸类压敏粘合剂。
(甲基)丙烯酸类压敏粘合剂的实例为基础聚合物是使用一种或两种以上(甲基)丙烯酸烷基酯作为单体组分的(甲基)丙烯酸类聚合物(均聚物或共聚物)的(甲基)丙烯酸类压敏粘合剂。(甲基)丙烯酸烷基酯的具体实例包括(甲基)丙烯酸C1-20烷基酯如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯和(甲基)丙烯酸二十烷基酯。这些之中,可优选使用具有碳原子为4至18个的直链或支链烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯。源自(甲基)丙烯酸烷基酯的构成单元的含量相对于100重量份所述基础聚合物优选是60重量份以上,更优选80重量份以上。
为了改变内聚力、耐热性、可交联性等的目的,根据需要,(甲基)丙烯酸类聚合物可含有源自可与(甲基)丙烯酸烷基酯共聚的任何其它单体组分的构成单元。此类单体组分的实例包括:含羧基单体如丙烯酸、甲基丙烯酸、羧乙基丙烯酸酯、羧戊基丙烯酸酯、衣康酸、马来酸、富马酸和巴豆酸;酸酐单体如马来酸酐和衣康酸酐;含羟基单体如(甲基)丙烯酸羟乙基酯、(甲基)丙烯酸羟丙基酯、(甲基)丙烯酸羟丁基酯、(甲基)丙烯酸羟己基酯、(甲基)丙烯酸羟辛基酯、(甲基)丙烯酸羟癸基酯、(甲基)丙烯酸羟基月桂基酯和(4-羟甲基环己基)甲基丙烯酸甲酯;和含磺酸基单体如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯酰氨基丙烷磺酸、磺丙基(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酰氧基萘磺酸。
此外,从压敏粘合特性、耐久性、相位差控制、折射率控制等的观点,可使用含芳环的(甲基)丙烯酸烷基酯如(甲基)丙烯酸苯氧基乙基酯或(甲基)丙烯酸苄基酯。通过与以上例举的(甲基)丙烯酸类聚合物混合,可使用由含芳环的(甲基)丙烯酸烷基酯聚合获得的聚合物。从透明性的观点,优选通过与所述(甲基)丙烯酸烷基酯共聚合,使用含芳环的(甲基)丙烯酸烷基酯。
此外,作为用于改性的单体,给出,例如:(N-取代的)酰胺系单体如(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-丁基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺或N-羟甲基丙烷(甲基)丙烯酰胺;(甲基)丙烯酸烷基氨基烷基酯系单体如(甲基)丙烯酸氨基乙基酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基氨基乙基酯、或(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙基酯;(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系单体如(甲基)丙烯酸甲氧基乙基酯或(甲基)丙烯酸乙氧基乙基酯;琥珀酰亚胺系单体如N-(甲基)丙烯酰氧基亚甲基琥珀酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-6-氧六亚甲基琥珀酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-8-氧八亚甲基琥珀酰亚胺、或N-丙烯酰基吗啉;马来酰亚胺系单体如N-环己基马来酰亚胺、N-异丙基马来酰亚胺、N-月桂基马来酰亚胺或N-苯基马来酰亚胺;和衣康酰亚胺系单体如N-甲基衣康酰亚胺、N-乙基衣康酰亚胺、N-丁基衣康酰亚胺、N-辛基衣康酰亚胺、N-2-乙基己基衣康酰亚胺、N-环己基衣康酰亚胺、或N-月桂基衣康酰亚胺。
此外,作为用于改性的单体,还可使用,例如:乙烯基系单体如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基乙烯基吡咯烷酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌嗪、乙烯基吡嗪、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基噁唑、乙烯基吗啉、N-乙烯基羧酸酰胺、苯乙烯、α-甲基苯乙烯和N-乙烯基己内酰胺;氰基丙烯酸酯系单体如丙烯腈和甲基丙烯腈;含环氧基丙烯酸类单体如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯;二醇系丙烯酸酯单体如聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、和甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯;和丙烯酸酯系单体如四氢糠基(甲基)丙烯酸酯、氟化(甲基)丙烯酸酯、硅酮(甲基)丙烯酸酯和丙烯酸2-甲氧基乙基酯。此外,给出,例如,异戊二烯、丁二烯、异丁烯和乙烯基醚。
此外,作为除以上描述的单体之外的可共聚单体,给出,例如,含有硅原子的硅烷系单体。硅烷系单体的实例包括3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、4-乙烯基丁基三甲氧基硅烷、4-乙烯基丁基三乙氧基硅烷、8-乙烯辛基三甲氧基硅烷、8-乙烯辛基三乙氧基硅烷、10-甲基丙烯酰氧基癸基三甲氧基硅烷、10-丙烯酰氧基癸基三甲氧基硅烷、10-甲基丙烯酰氧基癸基三乙氧基硅烷,和10-丙烯酰氧基癸基三乙氧基硅烷。
在一个实施方式中,基础聚合物基本上不含源自含羧基单体的构成单元。使用此类基础聚合物可提供可抑制被粘物劣化的具有压敏粘合剂层的偏光板。需要说明的是,短语"基本上不含"表示,源自含羧基单体的构成单元的含量相对于构成基础聚合物的所有构成单元为0.7wt%以下。源自含羧基单体的构成单元的含量相对于构成基础聚合物的所有构成单元优选是0.5wt%以下,更优选0.3wt%以下,仍更优选0.1wt%以下,和最优选基础聚合物不含源自含羧基单体的构成单元。
基础聚合物的重均分子量优选是800,000至3,000,000,更优选1,000,000至2,500,000,仍更优选1,400,000至2,000,000。当重均分子量落在上述范围内时,可形成显示适合蠕变量的压敏粘合剂层。需要说明的是,重均分子量由通过凝胶渗透色谱法(GPC;溶剂:THF)测量并根据聚苯乙烯计算的值来确定。
交联剂的实例包括异氰酸酯类交联剂、环氧类交联剂、过氧化物类交联剂、三聚氰胺类交联剂、脲类交联剂、金属醇盐类交联剂、金属螯合物类交联剂、金属盐类交联剂、碳二亚胺类交联剂、恶唑啉类交联剂、氮丙啶类交联剂和胺类交联剂。这些之中,优选使用异氰酸酯类交联剂、环氧类交联剂和/或过氧化物类交联剂。所述交联剂可单独使用或组合使用。
优选所述压敏粘合剂含有多种交联剂作为交联剂。更优选多种交联剂选自由过氧化物类交联剂、环氧类交联剂和异氰酸酯类交联剂组成的组。如刚描述的多种交联剂的组合使用使得适当且容易地调节压敏粘合剂层的蠕变量。
任何适合的交联剂可用作异氰酸酯类交联剂。异氰酸酯类交联剂的实例包括:异氰酸酯单体如甲苯二异氰酸酯、氯亚苯基二异氰酸酯(chlorophenylenediisocyanate)、四亚甲基二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、二苯甲烷二异氰酸酯和氢化的二苯甲烷二异氰酸酯;和通过将多元醇如三羟甲基丙烷加成至任何一种异氰酸酯单体而获得的异氰酸酯化合物。
任何适合的交联剂可用作环氧类交联剂。例如,在其分子中具有两个或多个环氧基的环氧类树脂用作环氧类交联剂。其具体实例包括二缩水甘油基苯胺、1,3-双(N,N-缩水甘油基氨基甲基)环己烷、N,N,N',N'-四缩水甘油基-间苯二甲基二胺、1,6-己二醇二缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、乙二醇二缩水甘油醚和丙二醇二缩水甘油醚。
任何适合的交联剂可用作过氧化物类交联剂。过氧化物类交联剂的实例包括过氧化二苯甲酰、二(2-乙基己基)过氧化二碳酸酯、二(4-叔丁基环己基)过氧化二碳酸酯、双仲丁基过氧化二碳酸酯、过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化新戊酸叔己酯和过氧化新戊酸叔丁酯。
交联剂的添加量相对于100重量份的基础聚合物优选是0.01重量份至5重量份,更优选0.02重量份至3重量份,仍更优选0.1重量份至2.5重量份,特别优选0.4重量份至1重量份。
在一个实施方式中,用于形成压敏粘合剂层的压敏粘合剂可进一步含有离子性化合物。离子性化合物具有阴离子组分和阳离子组分。添加离子性化合物使得形成具有抗静电功能的压敏粘合剂层。
所述阴离子组分的实例包括双(七氟丙烷磺酰基)酰亚胺阴离子、双(九氟丁烷磺酰基)酰亚胺阴离子、双(十一氟戊烷磺酰基)酰亚胺阴离子、双(十三氟己烷磺酰基)酰亚胺阴离子、双(十五氟庚烷磺酰基)酰亚胺阴离子、环-六氟丙烷-1,3-双(磺酰基)酰亚胺阴离子、六氟丙烷-1,3-二磺酸阴离子、双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺阴离子、三氟甲烷磺酰基阴离子和五氟乙烷磺酰基阴离子。这些之中,优选双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺阴离子。
阳离子组分的实例包括锂、钠和钾的碱金属离子。这些之中,优选锂离子。作为离子性化合物的碱金属盐可由阴离子组分和阳离子组分形成。
有机阳离子可用作阳离子组分。有机阳离子的具体实例包括吡啶鎓阳离子、哌啶鎓阳离子、吡咯烷鎓阳离子、具有吡咯啉骨架的阳离子、具有吡咯骨架的阳离子、咪唑鎓阳离子、四氢嘧啶鎓阳离子、二氢嘧啶鎓阳离子、吡唑鎓阳离子、二氢化吡唑鎓阳离子、四烷基铵阳离子、三烷基锍阳离子和四烷基鏻阳离子。这些有机阳离子之中,优选吡咯烷鎓阳离子。
离子性化合物的添加量相对于100重量份基础聚合物优选是0.1量份至5重量份,更优选0.5重量份至3重量份。
在一个实施方式中,用于形成压敏粘合剂层的压敏粘合剂可进一步含有硅烷偶联剂。硅烷偶联剂的实例包括:含环氧基硅烷偶联剂如3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷和2-(3,4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷;含氨基硅烷偶联剂如3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-三乙氧基甲硅烷基-N-(1,3-二甲基丁叉基)丙胺和N-苯基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷;含(甲基)丙烯酸类基团的硅烷偶联剂;和含异氰酸酯基的硅烷偶联剂。
硅烷偶联剂的添加量相对于100重量份的基础聚合物优选是0.01量份至1重量份,更优选0.05重量份至0.5重量份。
根据需要,压敏粘合剂可进一步含有任何适合的添加剂。添加剂的实例包括增粘剂、增塑剂、颜料、染料、填料、防老化剂、导电性材料、紫外线吸收剂、光稳定剂、剥离调节剂、软化剂、表面活性剂、阻燃剂和抗氧化剂。
E.具有压敏粘合剂层的偏光板的生产方法
具有压敏粘合剂层的偏光板可通过任何适合的生产方法来生产。具有压敏粘合剂层的偏光板的生产方法包括,例如,下述步骤:层压偏光膜和保护膜;和在偏光膜上形成压敏粘合剂层。在一个实施方式中,具有压敏粘合剂层的偏光板可形成长条状(例如,300m以上)。
在一个实施方式中,通过卷对卷工艺进行偏光膜和保护膜的层压。优选以B-1部分中描述的偏光膜的生产方法通过MD拉伸步骤而获得的、且沿其长度方向具有吸收轴长条状偏光膜,与长条状保护膜介由粘合剂层而层压,以提供偏光膜和保护膜的层压体。偏光膜和保护膜的层压优选在加热下进行。当构成粘合剂层的粘合剂(随后描述)是水性粘合性或溶剂系粘合剂时,加热温度为粘合剂干燥的温度,和当粘合剂是活性能量射线可固化的粘合剂时,加热温度为粘合剂固化的温度。加热温度优选是50℃以上,更优选55℃以上,仍更优选60℃以上。同时,加热温度优选是80℃以下。需要说明的是,在层压保护膜时进行的加热也可作为层压体的干燥处理。粘合剂层的厚度优选是0.01μm至7μm,更优选0.01μm至5μm,仍更优选0.01μm至2μm,最优选0.01μm至1μm。
用于粘贴偏光膜和保护膜的粘合剂层由任何适合的粘合剂形成。粘合剂可以是水性粘合剂,可以是溶剂系粘合剂,或可以是活性能量射线可固化粘合剂。
任何合适的粘合剂可用作活性能量射线可固化粘合剂,只要该粘合剂可通过用活性能量射线照射而固化。活性能量射线可固化粘合剂的实例包括可紫外线固化的粘合剂和可电子束固化的粘合剂。活性能量射线可固化粘合剂的固化型的具体实例包括自由基固化型、阳离子固化型、阴离子固化型和它们的组合(例如,自由基固化型和阳离子固化型的混合)。
活性能量射线可固化粘合剂的实例包括含有各自具有可自由基聚合基团如(甲基)丙烯酸酯基团或(甲基)丙烯酰胺基团的化合物(如单体和/或低聚物)作为可固化组分的粘合剂。
活性能量射线可固化粘合剂以及固化粘合剂的方法的具体实例描述在例如日本专利申请特开2012-144690中。该描述通过参考引入本文。
任何合适的水性粘合剂均可用作水性粘合剂。优选使用含有PVA系树脂的水性粘合剂。就粘接性而言,引入到水性粘合剂中的PVA系树脂的平均聚合度优选是约100至5,500,更优选1,000至4,500。就粘接性而言,PVA系树脂的平均皂化度优选是约85mol%至100mol%,更优选90mol%至100mol%。
引入到水性粘合剂中的PVA系树脂优选含有乙酰乙酰基。这是因为PVA系树脂层与保护膜之间的密合性优异,且偏光板可具有优异的耐久性。含乙酰乙酰基的PVA系树脂通过例如根据任何适合的方法引起PVA系树脂与双烯酮相互反应而获得。含乙酰乙酰基的PVA系树脂的乙酰乙酰基改性度通常是0.1mol%以上,优选约0.1mol%至40mol%,更优选1mol%至20mol%,仍更优选1mol%至7mol%。需要说明的是,乙酰乙酰基改性度是通过NMR测定的值。
水性粘合剂的树脂浓度优选是0.1wt%至15wt%,更优选0.5wt%至10wt%。
在偏光膜上形成压敏粘合剂层的步骤中,所述压敏粘合剂层例如通过在偏光膜上施涂D部分中描述的压敏粘合剂,然后使压敏粘合剂交联(聚合)而形成。任何合适的方法均可用作用于交联的方法。此外,可将形成在另一基材上的压敏粘合剂层转移到偏光膜上。
在一个实施方式中,在保护膜的偏光膜侧的表面上设置锚固层。设置锚固层可改进保护膜与偏光膜之间的密合性。用于形成锚固层的材料没有特别限制,可使用各种聚合物、金属氧化物凝胶、二氧化硅溶胶等。这些之中,优选聚合物。每种聚合物的形式可以是溶剂可溶型、水分散型或水溶解型中任一种。
根据需要,锚固层可进一步含有任何适合的添加剂。添加剂的实例包括抗静电剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、pH调节剂、劣化抑制剂和表面活性剂。
抗静电剂没有特别限制,只要其是可赋予导电性的材料,其实例包括离子性表面活性剂、导电性聚合物、金属氧化物、炭黑和碳纳米材料。这些之中,优选导电性聚合物,更优选水分散性导电性聚合物。
任何合适的方法均可用作形成锚固层的方法。此外,保护膜可在形成锚固层之前进行活化处理。活化处理的实例包括电晕处理、低压UV处理和等离子体处理。
从薄型化的观点,锚固层的厚度优选是5nm至300nm。
F.光学层压体
图2是根据本发明的一个实施方式的光学层压体的示意截面图。图2的光学层压体包括具有压敏粘合剂层的偏光板100和光学膜40。A至D部分中描述的具有压敏粘合剂层的偏光板可用作具有压敏粘合剂层的偏光板100。即,具有压敏粘合剂层的偏光板100依次包括保护膜10、偏光膜20和压敏粘合剂层30。所述光学膜40设置在压敏粘合剂层30上,即在压敏粘合剂层30的偏光膜20的相反侧的表面上。当光学层压体通过组合具有压敏粘合剂层的偏光板和光学膜(在光学层压体中,偏光膜沿其吸收轴方向的线性膨胀系数是正的)构成时,通过光学膜抑制具有压敏粘合剂层的偏光板的翘曲,由此本发明的效果变得更加显著。此外,偏光膜可用光学膜保护。
光学层压体的厚度优选是100μm以下,更优选90μm以下,仍更优选40μm至80μm。
当保护膜侧上的光学层压体的表面与无碱玻璃介由压敏粘合剂相互粘贴,且将光学层压体放置在70℃环境下200小时时,光学层压体沿偏光膜的吸收轴方向的收缩率优选是0.4%以下,更优选0.3%以下,仍更优选0.2%以下。当收缩率落入上述范围内时,获得翘曲至很小程度的光学层压体,并且在光学层压体中,可防止在偏光板的端部出现的外观异常。任何适合的压敏粘合剂可用作压敏粘合剂。
G.光学膜
取决于光学层压体的应用,任何适合的光学膜可用作光学膜。光学膜的实例包括:亮度提升膜;相位差膜;和具有有各种表面处理层如硬涂层、防眩层和防反射层的表面处理层的膜。这些之中,优选亮度提升膜。
光学膜的厚度优选是10μm至30μm,更优选10μm至25μm,仍更优选12μm至22μm。
光学膜的透湿度优选是500g/m2/24h以下,更优选300g/m2/24h以下,仍更优选1g/m2/24h至100g/m2/24h。当透湿度落入上述范围内时,可防止由于水分引起的偏光膜的劣化。
在一个实施方式中,直线偏光分离膜用作亮度提升膜。图3是用于说明直线偏光分离膜的实例的示意性立体图。直线偏光分离膜优选是多层层压体,其中具有双折射性的层A和基本上不具有双折射性的层B交替地层压。例如,在说明的实例中,层A在X轴方向上的折射率n(X)大于其在Y轴方向上的折射率n(Y),和层B在X轴方向上的折射率n(X)和其在Y轴方向上的折射率n(Y)基本相同。因此,层A和层B之间的在X轴方向上的折射率差大,在Y轴方向上的折射率差基本上为零。因此,X轴方向用作反射轴和Y轴方向用作透射轴。层A与层B之间在X轴方向上的折射率差优选是0.2至0.3。
层A优选由通过拉伸显示双折射性的材料形成。这种材料的典型实例包括萘二羧酸聚酯(如聚萘二甲酸乙二醇酯)、聚碳酸酯和丙烯酸类树脂(如聚甲基丙烯酸甲酯)。就低透湿性而言,这些之中,优选聚萘二甲酸乙二醇酯或聚碳酸酯。层B优选由即使拉伸时也基本上不显示双折射性的材料形成。例如,这种材料通常是例如萘二羧酸和对苯二甲酸的共聚酯。
在层A和层B之间的界面,直线偏光分离膜透射具有第一偏光方向(如p-波)的光,和反射具有与第一偏光方向垂直的第二偏光方向(如s-波)的光。在层A和层B之间的界面上,使部分反射光透射为具有第一偏光方向的光,和使其其它部分反射为具有第二偏光方向的光。这种反射和透射在直线偏光分离膜中重复多次,由此可改进光的利用效率。
如图3中所示出的,直线偏光分离膜优选包括反射层R作为与偏光膜相对的最外层。设置反射层R使得额外利用未被利用而最终回到直线偏光分离膜的最外部分的光,由此可进一步改进光的利用效率。反射层R通常借助于聚酯树脂层的多层结构表达其反射功能。
优选层压直线偏光分离膜和偏光膜,以便直线偏光分离膜的透射轴和偏光膜的吸收轴可基本上相互垂直。在本文中使用的短语"基本上垂直"理解为两个光学轴之间形成的角度为90°±2°的情形,该角度优选为90°±1°。
取决于例如目的和直线偏光分离膜的总层数,可适当地设置直线偏光分离膜的总厚度。直线偏光分离膜的总厚度优选是30μm以下,更优选10μm至30μm,仍更优选20μm至30μm。
例如,日本专利翻译公开Hei9-507308中描述的膜可用作直线偏光分离膜。
商购产品可原样用作直线偏光分离膜,或可使用通过使商购产品进行二次加工(如拉伸)而获得的产品。商购产品的实例包括以商品名"DBEF"从3M公司可获得的产品和以商品名"APF"从3M公司可获得的产品。
实施例
以下通过实施例具体描述本发明。然而,本发明不局限于以下实施例。
[生产例1]
保护膜(丙烯酸类膜的生产)
在100.5kPa和100℃下使具有戊二酰亚胺环单元的甲基丙烯酸类树脂粒料干燥12小时,并通过使用单轴挤出机从270℃的模头温度下的T型模头挤出,以形成膜形状。此外,在温度高于树脂Tg10℃的气氛下,沿其输送方向拉伸所述膜,然后在温度高于树脂Tg7℃的气氛下,沿与膜输送方向垂直的方向拉伸,从而提供由丙烯酸类树脂构成的保护膜A(厚度:40μm)。
类似地,获得厚度为50μm的保护膜B。
[生产例2]
层压体(A-1)的生产
将吸水率为0.75%且Tg为75℃的长条形状的无定形的间苯二甲酸共聚合的聚对苯二甲酸乙二醇酯(IPA-共聚合PET)膜用作热塑性树脂基材。
对树脂基材的一个表面进行电晕处理。将含有重量比为9:1的聚乙烯醇(聚合度:4,200,皂化度:99.2mol%)和乙酰乙酰基改性的PVA(聚合度:1,200,乙酰乙酰基改性度:4.6%,皂化度:99.0mol%以上,由TheNipponSyntheticChemicalIndustryCo.,Ltd.制造,商品名:"GOHSEFIMERZ-200")的水溶液在25℃下施涂至经电晕处理后的表面,并干燥以形成厚度为11μm的PVA系树脂层。如此生产层压体a。
在120℃的烘箱中,在具有不同圆周速度的辊之间,将所得到的层压体a沿其纵向(长度方向)以2.0倍的拉伸比进行自由端单轴拉伸(空中辅助拉伸)。
接着,将层压体a浸入液体温度为30℃的不溶化浴(通过配混100重量份水与4重量份硼酸而获得的硼酸水溶液)中30秒(不溶化处理)。
接着,将层压体a浸入液体温度为30℃的染色浴中,同时调节其碘浓度和浸渍时间以使偏光膜具有预定的透射率。在该实施例中,将层压体浸入通过配混100重量份水与0.2重量份碘和1.0重量份碘化钾而获得的碘水溶液中60秒(染色处理)。
接着,将层压体a浸入液体温度为30℃的交联浴(通过配混100重量份水与3重量份碘化钾和3重量份硼酸而获得的硼酸水溶液)30秒(交联处理)。
然后,将层压体a在具有不同圆周速度的辊之间沿纵向(长度方向)进行单轴拉伸,以实现5.5倍的总拉伸比,同时使其浸入液体温度为70℃的硼酸水溶液(通过配混100重量份水与4重量份硼酸和5重量份碘化钾而获得的水溶液)中(水中拉伸)。
然后,将层压体a浸入液体温度为30℃的洗涤浴(通过配混100重量份水与4重量份碘化钾而获得的水溶液)中(洗涤处理)。
随后,将PVA系树脂的水溶液(由TheNipponSyntheticChemicalIndustryCo.,Ltd.制造,商品名:GOHSEFIMER(商标)Z-200",树脂浓度:3wt%)施涂至层压体a的PVA系树脂层的表面,以具有干燥后0.5μm的厚度,且在所施涂的溶液上层压生产例1中获得的保护膜A(厚度:40μm)。然后,在保持在60℃的烘箱中加热所得物5分钟。如此生产具有厚度为5μm的偏光膜的层压体A-1(保护膜(40μm)/偏光膜(5μm)/热塑性树脂基材)。
[生产例3]
层压体(A-2)的生产
除使用保护膜B(厚度:50μm)代替保护膜A(厚度:40μm)以外,以与生产例2中相同的方法生产层压体A-2(保护膜(50μm)/偏光膜(5μm)/热塑性树脂基材)。
[生产例4]
层压体(A-3)的生产
除生产厚度为20μm的偏光膜以外,以与生产例2中相同的方法生产层压体A-3(保护膜(40μm)/偏光膜(20μm)/热塑性树脂基材)。
[生产例5]
层压体(A-4)的生产
以与生产例2中相同的方法生产层压体a-4(保护膜(40μm)/偏光膜(5μm)/热塑性树脂基材)。
在将所述热塑性树脂基材从层压体a-4剥离之后,通过如生产例2中描述的相同方法,在偏光膜上层压保护膜A(厚度:40μm)作为另一保护膜。如此生产层压体A-4(保护膜(40μm)/偏光膜(5μm)/另一保护膜(40μm))。
[生产例6]
(甲基)丙烯酸类聚合物(B-1)的生产
将99重量份丙烯酸丁酯、1重量份丙烯酸4-羟基丁酯、作为引发剂的1重量份AIBN与醋酸乙酯一起装入安装有冷却管、氮气导入管、温度计和搅拌装置的反应容器,并在60℃的氮气流中,使混合物进行反应7小时。然后,将醋酸乙酯加入反应液体。如此获得含有重均分子量为1,600,000的(甲基)丙烯酸类聚合物(b-1)的溶液(固成分浓度:30wt%)。
[生产例7]
(甲基)丙烯酸类聚合物(B-2)的生产
将98.5重量份丙烯酸丁酯、1重量份丙烯酸4-羟基丁酯、1重量份丙烯酸、15重量份丙烯酸苄酯、作为引发剂的1重量份AIBN与醋酸乙酯一起装入安装有冷却管、氮气导入管、温度计和搅拌装置的反应容器,并在60℃的氮气流中,使混合物进行反应7小时。然后,将醋酸乙酯加入反应液体。如此获得含有重均分子量为1,650,000的(甲基)丙烯酸类聚合物(b-2)的溶液(固成分浓度:30wt%)。
[实施例1]
偏光板的生产
(压敏粘合剂的制备)
将含有生产例6中获得的(甲基)丙烯酸类聚合物(B-1)的溶液与相对于100重量份该溶液的固成分的0.1重量份三羟甲基丙烷苯二亚甲基二异氰酸酯(由Mitsui,Inc.制造,商品名:"TAKENATED110N")、和0.3重量份作为交联剂的过氧化二苯甲酰和0.1重量份作为硅烷偶联剂的γ-环氧丙氧基丙基甲氧基硅烷(由Shin-EtsuChemicalCo.,Ltd.制造,商品名:"KBM-403")配混。如此获得压敏粘合剂溶液。
(具有压敏粘合剂层的偏光板的生产)
使用喷注式涂布机(fountaincoater),将所得到的压敏粘合剂溶液均匀地施涂到用硅酮系剥离剂处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(基材)的表面,并在155℃的空气循环恒温箱中干燥2分钟。如此在基材表面上形成厚度为20μm的压敏粘合剂层。接着,剥离生产例2中获得的层压体A-1的热塑性树脂基材,并将压敏粘合剂层转移到暴露的偏光膜上。如此获得具有压敏粘合剂层的偏光板(保护膜(40μm)/偏光膜(5μm)/压敏粘合剂层(20μm))。
[实施例2至8]
偏光板的生产
除了:使用表1中示出的那些作为包括偏光膜和保护膜的层压体、(甲基)丙烯酸类聚合物和交联剂;和压敏粘合剂层的厚度设置为表1中所示厚度以外,以与实施例1中相同的方法各自获得具有压敏粘合剂层的偏光板。需要说明的是,在实施例8中,在生产压敏粘合剂溶液时,配混三氟甲烷磺酰基酰亚胺锂(由MoritaChemicalIndustriesCo.,Ltd.制造)作为抗静电剂。
[比较例1]
以与实施例1相同的方法获得压敏胶粘剂溶液。
通过使用喷注式涂布机,将所得到的压敏粘合剂溶液均匀地施涂到用硅酮系剥离剂处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(基材)表面,并在155℃的空气循环恒温箱中干燥2分钟。如此在基材表面上形成厚度为20μm的压敏粘合剂层。接着,将该压敏粘合剂层转移到生产例2中获得的层压体A-1的保护膜上,然后剥离所述热塑性树脂基材。如此获得偏光板(压敏粘合剂层(20μm)/保护膜(40μm)/偏光膜(5μm))。
[比较例2]
除使用层压体A-2代替层压体A-1以外,以与比较例1中相同的方法获得偏光板(压敏粘合剂层(20μm)/保护膜(50μm)/偏光膜(5μm))。
[比较例3]
除将压敏粘合剂层的厚度改变为10μm以外,以与实施例1中相同的方法获得偏光板(保护膜(40μm)/偏光膜(5μm)/压敏粘合剂层(10μm))。
[比较例4]
除将三羟甲基丙烷苯二亚甲基二异氰酸酯(由MitsuiChemicals,Inc.制造,商品名:"TAKENATED110N")的配混量从0.1重量份变为1重量份以外,以与实施例1中相同的方法获得偏光板(保护膜(40μm)/偏光膜(5μm)/压敏粘合剂层(20μm))。
[比较例5]
除将三羟甲基丙烷苯二亚甲基二异氰酸酯(由MitsuiChemicals,Inc.制造,商品名:"TAKENATED110N")的配混量从0.1重量份变为0.01重量份以外,以与实施例1中相同的方法获得偏光板(保护膜(40μm)/偏光膜(5μm)/压敏粘合剂层(20μm))。
[比较例6]
除使用层压体A-3代替层压体A-1以外,以与实施例1中相同的方法获得偏光板(保护膜(40μm)/偏光膜(20μm)/压敏粘合剂层(20μm))。
[参考例1]
除了:使用层压体A-4代替层压体A-1;和将压敏粘合剂层转移到保护膜上以外,以与实施例1中相同的方法获得偏光板(保护膜(40μm)/偏光膜(20μm)/保护膜(40μm)/压敏粘合剂层(20μm))。
<评价>
对实施例、比较例和参考例中获得的光学层压体或具有压敏粘合剂层的偏光板进行下述评价。结果示出在表2中。
(压敏粘合剂层的蠕变量)
将切割成尺寸为10mm宽乘50mm长的具有压敏粘合剂层的偏光板的端部(尺寸为10mm宽乘10mm长)介由压敏粘合剂层粘贴至不锈钢板,并在50℃和5个大气压的高压釜中处理所得物15分钟,然后在室温下静置1小时。此后,测量将500g负荷(拉伸负荷)在23℃下施加至与粘贴至不锈钢板的端部相反侧的端部1小时后,所述压敏粘合剂层的移动量(变形量),并将所测量的值定义为所述压敏粘合剂层的蠕变量(激光型蠕变试验机)。
(耐久性评价1-起泡和剥离)
通过将光学层压体或具有压敏粘合剂层的偏光板的压敏粘合剂层侧粘贴至无碱玻璃(由CorningIncorporated制造,商品名:"EG-XG",厚度:0.7mm),来生产评价样品。在50℃和5个大气压的高压釜中处理该评价样品15分钟,然后装入80℃的烘箱中,静置500小时。
目视观察经过500小时后光学层压体或具有压敏粘合剂层的偏光板是否存在剥离和起泡。
在表中,观察到既不剥离又不起泡的产品评价为◎,观察到目视观察不到的剥离或起泡的产品评价为○,观察到能目视观察到的轻微的剥离或起泡的产品评价为Δ,和观察到清楚的剥离或起泡的产品评价为×。
此外,将样品装入60℃/90%RH的恒温恒湿器中,并静置500小时,然后通过与如上所述的那些相同的基准评价其耐久性。
(耐久性评价2-端部的外观异常)
通过将具有压敏粘合剂层的偏光板的压敏粘合剂层侧粘贴至无碱玻璃(由CorningIncorporated制造,商品名:"EG-XG",厚度:0.7mm),来生产评价样品。在50℃和5个大气压的高压釜中处理该评价样品15分钟,然后装入80℃的烘箱中,静置500小时。
对于经过500小时后的所述光学层压体或具有压敏粘合剂层的偏光板,观察由于正交尼科耳棱镜导致的漏光而引起的偏光板端部的亮度差。
在表中,将不存在由于亮度差引起的端部的外观异常的产品评价为○,和存在外观异常的产品评价为×。
(高度差追随性)
如图4的示意图所示,将具有压敏粘合剂层的偏光板粘贴至具有由设置在无机碱玻璃上的PET膜形成的高度差(高度x=5μm)的被粘物300。在50℃和5个大气压的高压釜中处理所得物15分钟,然后用光学显微镜测量由于其浮起而不与被粘物接触的具有压敏粘合剂层的偏光板的部分的宽度a(浮起宽度a)。通过基于浮起宽度a大小的下述基准,评价所述偏光板的高度差追随性。随着浮起宽度降低,偏光板的高度差追随性变得更优异。
◎:浮起宽度a小于200μm。
○:浮起宽度a为200μm至小于400μm。
Δ:浮起宽度a为400μm至小于1,000μm。
×:浮起宽度a为1,000μm以上。
本发明的具有压敏粘合剂层的偏光板适合用于液晶电视、液晶显示器、例如移动式电话、数码相机、摄像机、便携式游戏机、汽车导航系统、复印机、打印机、传真机、计时器、和微波炉等的液晶面板,和有机EL设备的防反射板。

Claims (8)

1.一种具有压敏粘合剂层的偏光板,其依次包括保护膜、偏光膜和压敏粘合剂层,其中:
所述具有压敏粘合剂层的偏光板的总厚度为90μm以下,所述偏光膜的厚度为13μm以下,所述压敏粘合剂层的厚度为12μm-25μm;并且
当将500g的负荷施加至所述压敏粘合剂层1小时时的蠕变量为80μm/h-260μm/h。
2.根据权利要求1所述的具有压敏粘合剂层的偏光板,其中,所述压敏粘合剂层含有(甲基)丙烯酸类压敏粘合剂。
3.根据权利要求1所述的具有压敏粘合剂层的偏光板,其中,当所述具有压敏粘合剂层的偏光板的压敏粘合面粘贴至无碱玻璃,并且将所得物在70℃气氛下静置200小时时,所述具有压敏粘合剂层的偏光板沿所述偏光膜的吸收轴方向的收缩率为0.4%以下。
4.根据权利要求1所述的具有压敏粘合剂层的偏光板,其中,所述保护膜的厚度为5μm-55μm。
5.根据权利要求1所述的具有压敏粘合剂层的偏光板,其中,所述具有压敏粘合剂层的偏光板的总厚度为90μm以下。
6.根据权利要求1所述的具有压敏粘合剂层的偏光板,其中:
所述压敏粘合剂层由含有基础聚合物和多种交联剂的压敏粘合剂形成;并且
所述多种交联剂各自包括过氧化物类交联剂、环氧类交联剂和异氰酸酯类交联剂中的一种。
7.一种光学层压体,其包括:
根据权利要求1-6任一项所述的具有压敏粘合剂层的偏光板;和
配置在所述具有压敏粘合剂层的偏光板的压敏粘合剂层上的光学膜。
8.根据权利要求7所述的光学层压体,其中,所述光学膜包括亮度提升膜。
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