TW201031703A

TW201031703A - Positive photosensitive resin composition

Info

Publication number: TW201031703A
Application number: TW99101537A
Authority: TW
Inventors: Hiroyuki Taguchi; Yoshinori Nito; Yukihiro Kato; Shuichi Takahashi; Toshiya Okamura
Original assignee: Nof Corp
Priority date: 2009-02-09
Filing date: 2010-01-20
Publication date: 2010-09-01
Also published as: CN101799627A; CN101799627B; KR20100091115A; TWI455980B; KR101312603B1; JP5338352B2; JP2010181827A

Description

.201031703 % • 六、發明說明：【發明所屬之技術領域】本發明係關於感光性樹脂組成物，尤其是關於正型感光性樹脂組成物。進而詳言之，係藉由使用光微影法技術而可形成圖型膜的感光性樹脂組成物，進一步係關於平面顯示器（FPD)或半導體裝置，其具備使用該感光性樹脂組成物所形成的層間絕緣膜或平坦化膜。【先前技術】 ❹ 在以LSI等半導體積體電路之製造，或fpd顯示面之製造、熱頭等電路基板之製造等為始的廣泛領域中，為了進行微細元件之形成或微細加工，以往係利用光微影法技術。在該光微影法技術中，為形成光阻圖型，則使用感光性樹脂組成物。近年來於該等感光性樹脂組成物之新穎用途方面，半導體積體電路或FPD等層間絕緣臈或平坦化膜之形成技術廣受到矚目。尤其是，對於FpD 顯示面的高精細化或TFT等所代表的半導體元件之製造過程的縮短，市場之期望甚高。 φ 為達成該FpD顯示面之高精細化，重要的是在電路内抑制傳遞損失，對此具有低介電特性優異的微細圖型的層間絕緣膜或平坦化膜被視作必需材料。又，關於半導體元件之製造過程的縮短，在目的為保護源電極戋閘 - 電極，以真空蒸鍍法所形成的SiNx等無機層間絕緣膜，來替代以於濕製程可容易形成的有機層間絕緣膜為所期望。因此，在有機層間絕緣膜，必須是與SiNx同等的絕緣性，介電率低於3·〇的低介電特性之層間絕緣膜被視為必要。而為了獲得具有該低介電特性的層間絕緣膜或平坦化膜，在感光性樹脂組成物中，鹼可溶性樹脂之角色極為重要，而關於使用於此種用途的感光性樹脂 3 201031703 組成物則做了極多的研究。 . 例如在專利文獻1中有揭示，藉由混合於層間絕 . 膜或平坦化膜用之感光性樹脂組成物的驗可溶性脂，使用具有不飽和羧酸與環氧基的自由基聚合性化合物，而感光性樹脂組成物具有良好的顯影性且可形成^ 解像度之圖型膜。但是，一般所知是含於該鹼可溶性樹脂的構成單位因係以（甲基）丙烯醯基所構成，故無法獲得具有充分的低介電特性的感光性樹脂組成物。在專利文獻2有揭示，混合於層間絕緣膜或平坦化膜用之感光性樹脂組成物的驗可溶性樹脂，係使用含有苯乙烯類、(甲基）丙烯酸及羥烷酯作為構成單位的共聚⑩ 物，而使感光性樹脂組成物之低介電特性變為良好。但疋，在將苯乙烯類多量導入於樹脂中的情形，由於樹脂之疏水性變高，雖可高度維持顯影時之殘膜率，但是顯影殘渣變多，而無法獲得具有充分顯影性的感光性樹脂組成物，這些問題被本發明人察覺。又，在專利文獻3有揭示，為了形成濾色片用保護膜、RGB用像素、黑色矩陣或間隔件，藉由使用含有具有反丁烯二酸二酯的驗可溶性樹脂、光聚合性多官能（甲基）丙稀酸酯化合物及光聚合引發劑的負型感光性樹脂組成物，而可得良好的顯影性。但是，由於含於該負型© 感光性樹脂組成物中的光聚合性多官能（甲基）丙烯酸酯之介電率咼，故無法獲得具有充分低介電特性的感光性樹脂組成物，這些問題被本發明人所察覺。鑑於此等情事，在使用於FPD或半導體裝置等層間絕緣膜或平坦化膜的感光性樹脂組成物中，吾人期望形成一種高解像度之圖型膜，其可照樣維持高殘膜率、無顯影殘渣、顯影性良好、且低介電特性優異。【先行技術文獻】【專利文獻1】曰本特開平7-248629號公報（第2 201031703 頁、第3頁及第4頁）【專利文獻2】日本特開2〇〇4_4233號公報第4頁及第34頁）、乐負號公報(第2 【專利文獻3】曰本特開2007-137947 頁、第3頁及第5頁）【發明内容】

本發明之第一之目的係提供一種感光性樹脂組物，在形成圖型膜的顯影步驟中，可照樣維持高率、無顯影殘渣、即使在高溫烘烤後，在不損及平坦性、光透過率、耐溶劑性等之塗膜物性下，可形成低介性優異的高解像度之圖型模。本發明之第二之目的係提供一種FPD或半導體裝置，其具有由該優異感光性樹脂組成物所形成之平坦化膜或層間絕緣膜。本發明之第二目的係提供一種FPD或半導體裝置，其並不藉由该優異感光性樹脂組成物而形成SiNx 等無機層間絕緣膜，而是在濕製程可容易形成的有機層間絕緣膜。 θ 根據本發明的感光性樹脂組成物，係由下述所示成分(Α)、⑻及(C)所組成，相對於成分(α)ι〇〇質量份，成分(B)及(C)之構成比率各自為：（B)為5至50質量份及(C) 為1至40質量份。成分(A)係由下述構成單位所組成的共聚物：由下述式（1)所示之反丁烯二酸二酯單體所衍生的構成單位 (al);由下述式(¾所示之芳香族乙烯單體所衍生的構成单位(a2)，由下述式(3)所示之α, β-不飽和幾酸單體所衍生的構成單位(a3);及由下述式(4)所示之（甲基）丙烯酸酯單體所衍生的構成單位(a4)，共聚物中構成單位(ai) 與構成單位(a2)之合計量在該成分(a)中為40至85質量 201031703 %，構成單位(a3)與構成單位(a4)之質量比(a4)/(a3)為0.2 至 7.0。 COOR1 • · ·⑴

I COOR2 ：H—CH- (式中，R1及R2係各自為碳數3至8之分支烷基、碳數4至12之環烷基或經取代的分支環烷基）

(式中，R3為氫原子或甲基；R4為碳數6至12之芳香族烴基） R5

OH • ••⑶ (式中之R5為氫原子、甲基或羧曱基) R6

c=o I 7 OR7 (式中之R6為氫原子或甲基；R7為碳數6至12之芳香族烴基、碳數1至12之烷基、碳數1至12之分支烷基、碳數2至12之經烧基或主環(principle ring)構成碳數為5至12之脂環式烴基） .201031703 % 成分(B)係具有醌二疊氮基的感光劑，其係將具有羥基的酚性化合物與醌二疊氮化合物予以酯化反應所得。成分(C)係具有2個以上環氧基的硬化劑。第二發明之平面顯示器係具有使第一發明之感光性樹脂組成物硬化的層。第三發明之半導體裝置係具有使第一發明之感光性樹脂組成物硬化的層。【發明效果】本發明可發揮下列之效果。，根據第一發明之感光性樹脂組成物，在形成使用到罾光微影法技術的圖型膜的顯影步驟中，可照樣維持高殘膜率，無顯影殘渣，即使在後烘烤等高溫烘烤後，不致損及平坦性、光透過率、耐溶劑性等塗膜物性，並可形成低介電特性優異的高解像度圖型膜。而且可提供一種 FPD及半導體裝置，其藉由使用該感光性樹脂組成物，而具有優異特性。【實施方式】以下’根據本發明實施形態予以詳細說明。 φ 本實施形態之感光性樹脂組成物係由成分(A)、（B) 及(C)所組成，相對於成分(a)i〇〇質量份，成分及(〇之構成比率各自設定於(B)為5至50質量份及(C)為1至 40質量份。成分(A):說明於下的特定共聚物。成分(B):具有醌二疊氮基的感光劑。成分(C):具有2個以上環氧基的硬化劑。以下就各成分依順序說明。 <成分(A):共聚物> 成分(A)之共聚物係由下述所組成的共聚物：下述式 (1)所示，由反丁烯二酸二酯單體所衍生的構成單位 201031703 (al) ; r述式(2)所示，由芳香族乙烯單體所衍生的構成單位(a2);下述式(3)所示，由α. P-不飽和羧酸單體所衍生的構成單位(a3);及下述式(4)所示，由（甲基）丙婦酸酯單體所衍生的構成單位(a4) ’構成單位(ai)與構成單位 (a2)之合計量在該成分(A)中為40至85質量％，構成單位(幻)與構成單位(⑷之質量比(a4)/(a3)為〇 2至7 〇。 COOR1 iH+ · * * (1) COOR2 (式中’ R1及R2係各自為碳數3至8之分支烷基、碳數4至12之環烷基或經取代的分支環烷基）

.· ·⑵. (式中，R3為氫原子或甲基；R4為碳數6至12之芳香族烴基） R5

C=0 in (式中之R5為氫原子、甲基或羧曱基） R6 ⑷ ~~ ~όη2—C--

8 201031703 (式中之R6為氫原子或甲基；R7為碳數6至12之芳香族烴基、碳數1至12之烷基、碳數1至12之分支烷基、碳數2至12之羥烷基或主環構成碳數為5至12之脂環式烴基）。該式（1)至（4)所示之構成單位係各自由下述式（5)至 (8)所示之單體(各構成單位用單體)所衍生的。 COOR1 _I · · · (5)

CH=CH COOR2

(式中，R1及R2各與式⑴中之物相同。式(5)之單體稱為反丁烯二酸二酯單體） R3 CH^-C · · · (6) (式中，R3及R4與式(2)中之物相同。式(6)之單體稱為芳香族乙烯單體）。 R5 CH2=C . . (7) c=o

I

OH (式中之R5與式(3)中之物相同。式(7)之單體稱為α, β-不飽和羧酸單體）。 201031703 R8 * I . .⑻ ch2=c c=o OR7 (式中之R6、R7與式(4)中之物相同。式⑻之單體稱為（甲基)丙烯酸酯單體）。〔由反丁烯二酸二酯單體所衍生的構成單位(al)〕由反丁烯二酸二酯單體所衍生的構成單位(al)，藉由在成為主鏈構造的部分並無亞甲基，而在主鏈之碳上鍵結取代基（式（1)中的COOR1、COOR2)，而以反丁浠二酸一醋所構成的聚合物具有剛性的(rigid)主鍵構造。由於是剛性的主鏈構造，故可抑制主鏈之分子鏈熱運動 (thermal motion)性，可抑制對特定頻率帶域中熱能量之損失，並獲得良好的低介電特性。 … 在該式（1)中R1及R2係各自為碳數3至8之分支燒基、碳數4至12之環烧基或經取代之分支環烧基。Rl 及R較佳為碳數3至6之分支烧基、碳數6至之環烷基或經取代之分支環烷基。更佳為3至5之分支烷美或碳數6至8之環烷基。土分支烧基之碳數超過8時，造成聚合性降低，會產生不便利之情形。又，環烧基或經取代之分支環燒基之碳數产過12時，會有顯影性不充分的問題。在該^ 中R及R可互為相同的取代基，亦可互為相異的取基。由獲，的容易性而言，較佳是…及尺2互為相同。〔由芳香族乙烯單體所衍生的構成單位(a2)〕使構成單位(a2)衍生的芳香族乙烯單體，可提合時與使構成單位(al)衍生的反丁烯二酸二酯單體之1 聚反應性。反丁烯二酸二酯單體因係電子受體性強的^ 201031703 體，故與如（甲基）丙烯酸酯或丙烯腈般的具極性單體的 ^聚反應性低，但是與給電子性之單體的共聚性則較咼。使構成單位(a2)衍生的芳香族乙烯單體，由於與反丁烯t酸二酯單體、α，β_不飽和羧酸單體及（甲基）丙烯酸酯單體三者之任一者之單體共聚性均良好，故可在聚合反應時將由共聚性不同的單體所衍生的各構成單位圓滑地導入於聚合物中，可無共聚組成分布之不勻，而獲得具有均一性質的共聚物。 5亥式(2)中R3為氫原子或甲基；r4為碳數6至12之芳香族烴基。較佳地，R3為氫原子；R4為碳數6至1〇 ❿之芳香族烴基。R4之碳數超過12時，感光性樹脂組成物之顯影性並不充分。〔（al)+(a2)之合計量〕自該反丁稀二酸二醋單體所衍生的構成單位(al)與自芳香族乙烯單體所衍生的構成單位(a2)之合計量，在成分(A)中為40至85質量％、較佳為45至80質量％，更佳為50至75質量％。（al)與(a2)之合計量低於40質量％時，由於缺乏與自α,β-不飽和羧酸單體所衍生的構成單位（a3)及自（甲基）丙烯酸酯單體所衍生的構成單位 ❿ （a4)之共聚性，且在共聚物中剛性鏈段變少，而無法獲得具有充分低介電特性的感光性樹脂組成物。另一方面’當超出85質量％時，由於共聚物之疏水性變高，而使感光性樹脂組成物之顯影性變的不充分，在圖型上產生顯影殘渣。在成分(A)之(al)+(a2)合計量中，（al)及(a2)的恰當組成比率以莫耳分率為(al) : (a2)=80 : 20至1〇 : 9〇較佳’更佳為70 : 30至15 : 85。（al)超過80莫耳％，（〇低於20莫耳％時，在聚合反應中（al)之聚合性會降低，會有共聚性的問題。一方面，（a2)超過90莫耳％，（al) 低於10莫耳％時，由於在成分(A)中自芳香族乙稀單體 201031703 二共聚物之疏水性變高，恐有激樹細組成物之顯影性不充分之虞。 ^由（X，β-不飽和羧酸單體所衍生的構成單位(a3)〕古抽不飽和賊單體所衍生的構成單位⑹，係步射相對於顯影液之溶解性的成分。該 i(m為氫原子、甲基或㈣基，較㈣氫原子或 2構:單位時，會有無法獲得與可藉由自該α，β-不飽和羧酸單體所衍生的構成單 „含量來織成分(Α)之#聚物酸價。調節構成單，(a3)之比率，以使酸價範圍宜在5〇至2〇〇毫克κ〇η/ ，更宜在70至150毫克ΚΟΗ/克。該酸價過低時，恐會對顯影液溶解性不充分，一方面，酸價過高時，恐會使顯影時的殘膜率降低。〔由（甲基）丙烯酸酯單體所衍生的構成單位(a4)〕由（甲基）丙烯酸酯單體所衍生的構成單位(a4)，係有助於顯影性之調整的成分，尤其是有助於顯影時殘膜率，解像度調整。該式(4)中R6為氫原子或甲基、R7為碳數6至12之芳香族烴基、碳數丨至12之烷基、碳數i ^ U之分支烷基、碳數2至12之羥烷基或主環構成碳數為5至12之脂環式烴基。前述主環構成碳數為5至 12之脂環式烴基係加成的構造，例如亦可含有環内雙鍵、烴基側鍵、螺旋環侧鏈、環内交聯烴基等。R6宜為甲基、R7宜為碳數1至6之烷基或者分支烷基、碳數‘6 至之芳香族烴基、碳數2至4之羥烷基或環己基、二環戊基。R7之碳數超過12時，會造成聚合性降低的不便。使構成單位(a4)衍生的該等（甲基）丙烯酸酯單體，以調整顯影性為目的，可使用一種或二種以上的組合。〔質量比(a4)/(a3)〕由α，β-不飽和羧酸單體所衍生的構成單位(a3)與由 12 201031703 (甲基）丙烯酸酯單體所衍生的構成單位（a4)之質量比 (a4)/(a3)為0.2至7.0，較佳為〇.3至6.0，更宜為〇 6至 4-〇。質量比(a4)/(a3)之值低於〇·2時，因在共聚物中由α Ρ-不飽和羧酸單體所衍生的構成單位變多，而降低顯影’ 時的殘膜率。一方面，質量比(a4)/(a3)之值高於7 〇時= 因由（甲基）丙烯酸酯單體所衍生的構成單位變多，造成顯影性不充分，招致顯影殘渣產生或解像度降低。為獲得成分（A)之共聚物所使用之聚合用溶劑方面，可使用一般周知的溶劑。此種溶劑之具體例示有，醇單曱醚、乙二醇單乙醚等乙二醇單烷醚類；乙二罾醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯等乙二醇單烷醚乙酸®曰類，一乙*一醇—甲鍵、二乙二醇二乙趟、二乙'-醇甲乙鱗等一乙·一醇二烧謎類；丙二醇單甲鱗、丙二醇單乙醚等丙二醇單烷醚類；丙二醇單曱醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯等丙二醇單烷醚乙酸酯類；乳酸甲酯、乳酸乙酯等乳酸酯類；甲苯、二甲苯等芳香族烴類；甲乙酮、2-庚酮、環己酮等酮類；N，N_:曱基乙醯胺、 N-曱基吡咯啶酮等醯胺類；γ_丁内酯等内酯類等。該等聚合溶劑，可單獨使用，或混合2種以上使用。 φ 為獲得成分（Α)之共聚物所使用之聚合引發劑方面，一般可使用周知作為自由基聚合引發劑之物。其具體例：可使用偶氮系聚合引發劑、不具氰基的偶氮系聚合引發劑或有機過氧化物及過氧化氫等。在使用過氧化物作為自由基聚合引發劑之情形，亦可將該過氧化物與還原劑組合’製成氧化還原型聚合引發劑使用。為了調節得到成分(Α)之共聚物時的重量平均分子量，可使用分子量調節劑。分子量調節劑方面，可舉例如正己硫醇、正辛硫醇、正十二硫醇、第三十二硫醇 (tert-dodecylmercaptan)、乙二硫醇酸(thioglycol acid)、氫硫基丙酸(mercaptopropionic acid)等硫醇類；二甲黃原 13 201031703 酸二硫化物、二異丙基黃原酸二硫化物等黃原酸類；莊 -品油婦(tei*pinolene)、α-曱基苯乙稀二聚物等。成分(Α)之共聚物的重量平均分子量宜為5,〇〇〇至 60,000、更宜為 5,000 至 30,000、特宜為 8,000 至 25,000。重量平均分子量未達5,000時’在後烘烤時會產生圖型流動’恐有圖型膜之解像度不充分之情形’在超過60,000 之情形’則缺乏對顯影液之溶解性，恐無法獲得可滿足的顯影性。 <成分(Β):具有醌二疊氮基的感光劑> 成么（Β)之具有酿一叠氮基的感光劑，在光微影法之曝光步驟中，透過光罩予以曝光之際，藉由在曝光部產❹ 生具有醌二疊氮基的感光劑之光異性化反應，而生成羧基，可在其後的顯影步驟中，使其對顯影液溶解。另一方面，由於未曝光部對顯影液具有溶解禁止能，故可形成膜。，亦即，具有酿二疊氮基的感光劑，係藉由透過光罩曝光，而可在其後的顯影步冑，使相對於顯影液的溶解性分級(fractionation)，故可獲得圖型膜。成/刀（B)之具有醌二疊氮基的感光劑，可將 ’與駆二叠氮基化合物予以』= ffi合物方面’可使用以萘醌二疊氮基概或苯酿二叠氣基續酿氯般之艇二叠氣基的Λ性化合物無二疊氮 =物之調整具有經基的紛性 :的;;ηί中可=二合物。因此’ Sl化率仙該等混合物之平均υ 201031703 * 表示。又’該等反應生成物可單獨使用一種，亦可併用 2種以上° 具有酿二疊氮基的感光劑之酯化率宜為2〇至95莫耳％，更宜為35至90莫耳％。酯化率低於2〇莫耳恐招致感度降低’若超出95莫耳％時，相對於共聚物之感光劑的相容性惡化，使得圖型臈呈相分離，‘有混濁 (cloudiness)之虞。在具有羥基的酚性化合物’其可使用於且右酿一蟲氮基的感光劑方面’宜為下述式(9)或（10)所示之#化^

(式中，R8、R9、R10及R11係各自為氫原子或碳數j 至2之烷基；R12及R13係各自為碳數丨至2之烷基）

\(R15)/n==/ R18 / \ / m •…⑼ * > · (10) (式中，R14、R15、R16、R17、、Ri9 及 R2〇係各自為氫原子、碳數1至4之炫基或下述式（11)，

* · (11) 15 201031703 式中R21表示氫原子或碳數1至4之烷基；m及η 各自為0至2之整數；已、1)、〇、（1、6、£、吕及11係滿足 a+b$5、c+d^5、e+f^5、g+h$5 的 0 至 5 之整數；i 為0至2之整數）該式（9)所示之紛性化合物方面，可舉例如下述般的化合物。

又，該式（10)所示之酚性化合物方面，可舉鄰曱酚、間甲酚、對甲酚、2,4-二甲苯酚、2,5-二曱苯酚、2,6-二甲苯酚、雙酚八、6、0丑、戸及0、4,4’,4’’-次甲基參酚、2,6-雙[(2-羥基-5-甲苯基）曱基]-4-甲酚、 16 201031703 ' 4,4’-[l-[4-[l-(4-羥苯基）-1•甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚、4,4’-[1-[4-[2-(4-羥苯基)-2-丙基]苯基]亞乙基]雙酚、 4,4’，4’’-次乙基參酚、4-[雙(4-羥苯基）甲基]-2-乙氧酚、 4,4’-[(2-羥苯基)亞甲基]雙|；2,3-二，酚]、4,4’_[(3-經苯基) 亞甲基]雙[2,6-二甲酚]、4,4’-[(4-羥苯基)亞甲基]雙[2,6_ 二甲酚]、2,2’-[(2-羥苯基）亞甲基]雙[3,5-二甲酚]、 2,2’-[(4-羥苯基)亞甲基]雙[3,5_二甲酚]、4,4’-[(3,4-二羥苯基）亞曱基]雙[2,3,6-三甲酚]、4-[雙(3-環己基-4-羥基 -6-甲基苯基）甲基]-1，2-苯二醇、4,6-雙[(3,5-二曱基-4-羥苯基）甲基]-1，2,3-苯三醇、4,4’-[(2-羥苯基)亞曱基]雙[3-❿ 甲酚]、4,4’，4’’-(3-甲基-1-次丙-3-基）參酚、 4,4’,4”，4”’-(1，4-伸苯二次甲基)肆酚、2,4,6-參[(3,5-二甲基-4-羥苯基）甲基]-1,3-苯二醇、2,4,6-參[(3,5-二甲基-2-羥苯基）甲基]-1,3-苯二醇、4,4’-[1-[4-[1-[4-羥基-3,5-雙 [(羥基-3-曱苯基）甲基]苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基] 雙[2,6-雙(羥基_3_曱苯基）甲基]酚等。該等化合物中，宜為4,4’，4”-次甲基參酚、2,6-雙[(2-羥基-5-甲苯基）甲基>4-甲酚、4,4’-[1-[4-[1-(4-羥苯基)-1-甲基乙基]苯基] 亞乙基]雙酚、4,4’-[1-[4_[2-(4-羥苯基)-2·丙基]苯基]亞乙 ❹ 基]雙酚、4,4’,4”-次乙基參酚等。在一般式（10)所示該等酚性化合物中，特宜為下述式（15)或下述式（16)所示之化合物。

17 .· · (16) 201031703

在感光性樹脂組成物中，相對於成分(A)之共聚物 100質量份，具有成分(B)之醌二疊氮基的感光劑之構成比率為5至50質量份，較佳為7至45質量份，更佳為 10至40質量份。當該構成比率低於5質量份時，恐有感度降低或顯影殘渣發生之虞，當超出5〇質量份時，相對於共聚物的感光劑之相容性惡化，恐有圖塑膜相分義離之虞。切〈成分(C):具有2個以上環氧基的硬化劑> 粵本發明之感光性樹脂組成物所使用之硬化劑，係具 ^ 2個以上的環氧基。該硬化劑在共聚物侧鏈之羧^與 ^溫烘烤時產生熱硬化反應，而可形成交聯膜。該硬化具體例方面，有雙㈣環氧樹脂、f紛或雜祕漆型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、環型環氧樹脂、環氧丙酯型環氧樹脂、環氧丙胺型脂、雜環式環氧樹脂、魏燒型環氧樹脂、»型 t氧樹脂、四苯基(phenyloi)乙烷型環氧樹脂、Dp 硬個以上環氧基的雙酚型環氧樹脂，而可達成良好硬化性、高光線透過率及耐關性 j =良好使用1種輕織料觀樹脂可僅 18 201031703 • 在感光性樹脂組成物中，相對於成分(A)之共聚物 100質量份’成分(C)硬化劑之構成比率為i至4〇質量份、較佳為5至35質量份、更佳為1〇至3〇質量份。該構成比率低於1質量份時，則圖型膜(硬化膜)之溶劑耐性並不充分，若超出40質量份時，則相對於共聚物的硬化劑相容性惡化，進而產生圖型膜之相分離，恐有混濁之虞。 <其他添加成分> 在感光性樹脂組成物可添加使用溶劑、硬化促進劑、對比提高劑、相容劑、密接性提高助劑、界面活性 ® 劑等之添加成分。 (溶劑）溶劑之具體例方面，可舉乙二醇單子醚、乙二醇單乙鱗等乙二醇單烧醚類、乙二醇單甲謎乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯等乙二醇單烷醚乙酸酯類、二乙二醇二甲鱗、一乙一醇一乙謎、二乙二醇甲乙鱗等二乙二醇二燒醚類、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚等丙二醇單類、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯等丙二醇單烷醚乙酸酯類、乳酸曱酯、乳酸乙酯等乳酸酯類、 φ 甲本、一甲苯等芳香族烴類、甲乙鲷、2_庚酮、環己_ 等酮類、N，N-二甲乙醯胺、N_曱基吡咯啶酮等酿 γ-丁内酯等内酯類等。該等溶劑可單獨使用或混合2 以上使用。 (硬化促進劑）硬化促進劑係可促進該成分(C)之硬化劑與成分(Α) 之共聚物侧鏈之羧基的交聯反應。硬化促進劑方面，可舉例如 SI-60L、SI-80L、SI-100L、SI-110L〔以上均為二新化學工業公司製〕等芳香族銃(sulfonium)鹽；U-CA^ SA102、U-CAT SA106、U-CAT SA506、U-CAT SA603、 U-CAT 5002〔以上均為san apro公司製〕等二氮雜二枣 19 201031703 上二烯鹽；U_CAT 5003、U-CAT 18X、cpi_210s〔以上 san叩⑺公司製〕。再者，在咪唑系之硬化促進方面，可舉Curezol 1B2PZ〔四國化成工業公司製>1。又，亦可使用藉由光照射而產生鹼的光鹼發生劑等。該光鹼發生劑係藉由調整在脫色(bleaching)步驟之條件，而可在光照射時產生胺等的鹼，並在其後之烘烤步驟中，使用做為交聯促進劑。藉由使該等硬化促進劑含於感光性樹脂組成物，因而使環氧基與羧基之反應速度變快，故在後烘烤等的高溫烘烤中，可抑制圖型膜之熱下陷（heat-saggings) ’並可獲得高解像度之囷型膜。 ' ❹ 相對於成分(C)之硬化劑1〇〇質量份，硬化促進劑之構成比率宜為0·1至15質量份，更宜為i至1〇質量份。 (對比提高劑）在感光性樹脂組成物之目的是提高對比，則可混合該式(9)或（10)所示之具有羥基的酚性化合物。由於具有經基的酴性化合物係為是低分子，故在感光性樹脂組成物中，最適合用於調節溶解速度，或提高感光性樹脂組成物感度或用於其感度之調節。該等溶解速度或感度之調節係藉由調節酚性化合物之添加量來進行，在提高溶解速度及感度之情形’則添加量越多越好，又在相反之❹ 情形，則添加量越少越好。藉由使用該等酚性化合物，而與不使用之情形相較之，則顯示與感光劑產生偶氮偶合反應被抑制溶解的樹脂成分中，變成含有低分子化合物’藉此則可使曝光部與未曝光部之溶解速度差異變大 (對比增大），而使解像度提高。 μ 具有羥基的酚性化合物宜為該式（12)、（13)、（14)、 (15)或（16)，通常相對於共聚物100質量份，可使用1 至20質量份之量。 (相容劑） 20 .201031703 、在感光性樹脂組成物中以提高成分(A)、（B)、（C)之相容性為目的，可進而混合下述式（17)所示之2個以上羧基之一部分被高級醇所酯化的聚羧酸酯化合物。 (R^OCOJp一·-R22—(CO〇H)q . . . (17) 在此R22係可為被羥基、鹵素、胺基或磺酸基所取代的烴基；R23為烴基；p及q各為1以上之整數。R22 宜為飽和烴、不飽和烴或芳香族烴’特宜為不飽和烴。 R23之碳數並無特別限定，宜為3至16,更宜為5至12。 23

進而R可為直鏈烷基或分支烷基。又，p宜為1至2、 q宜為1至3’但p為2以上時，各R23可為相同或相異。相對於成分(A)之共聚物1〇〇質量份，聚羧酸酯化合物之含量為0.01至10質量份，較佳為〇 5至5質量份。聚羧酸酯化合物之含量若多於10質量份時，恐有所形成的被膜耐熱性劣化之虞。 (雄、接性提尚助劑及界面活性劑）在感光性樹脂組成物，可因應需要進一步混合密接性提高助劑及界面活性劑等。密接性提高助劑之例，可舉烷咪唑、丁酸、烷酸、聚羥苯乙烯、聚乙烯甲醚、第三丁基酚醛清漆、環氧矽烷、環氧聚合物、矽烷偶合劑等。界面活性劑之例，有非離子系界面活性劑，例如聚乙二醇類與其衍生物，亦即聚丙二醇

醚二含氟界面活性劑，例如flu〇rad〔商品名：住友3M 公司製〕、megafuck〔商品名：大日本油墨化學工業公司製〕、sulphurone〔商品名：旭玻璃公司製〕或有^矽烷界面活性劑、例如KP341〔商品名：信越化學工業公司製〕。〃 <感光性樹脂組成物之調製法> 在調製感光性樹脂組成物或其稀釋物之際，以該分(A)、（B)及(C)為始的各成分亦可總括地混合，在^各 21 201031703 成分溶解於溶劑後亦可依次混合。 λ 順序或作#條件並無制受到_ f σ之際的投_ 時溶解於溶劑，以調製樹脂组成从可將全成分同成分摘官ml製樹成物，亦可因應需要使各適^作2種以上溶液’在使用 /谷液混σ，調製作為感光性樹脂組成物。 <平面顯示器及半導體裝置> 月匕组半導體裝置’係具有使前述感光性樹 ==膜，間絕樹 ❿ 月曰組今物之基板，可為玻璃、矽等以往FPD用或半導體巧形成用基板等周知之任—種基板。基板可為裸作㈣基板，亦可形成氧化膜、氮化膜、金屬膜等，進而可形成有電路圖型或半導體裝置等的基板。又，預烘烤之^ 度通常為40至140°C，時間為〇至15分左右。接著酿在光阻膜中經由設定之光罩進行圖型曝光後，使用鹼顯影液予以顯影處理，可因應必要進行漂洗處理，並形成感光性樹脂組成物之膜。如此一來所形成之膜在全^ 光後經後烘烤而形成圖型膜。在全面曝光時之曝光量，通常若為600mJ/cm2以上則佳。又，後烘烤溫度通常 150至250°C，較佳為180至230°C。後烘烤時間通11 30至90分。馬使用感光性樹脂組成物所形成之圖型膜，可利用為半導體裝置或液晶顯示裝置、電漿顯示器等的fpd 坦化膜或層間絕緣膜等。在此，平坦化膜與層間絕緣並非完全獨立之物’而藉由感光性樹脂組成物所形^之圖型膜’可使用作為平坦化膜，亦可使用作為層間絕膜。而且’在半導體裝置等，此種膜可使用作為層間絕緣膜’亦可使用作為平坦化膜。 '' 22 201031703

V 在該圖型膜之形成中’感光性樹脂組成物或其稀釋物之塗佈方法方面，可使用旋轉塗佈法、輥塗佈法、突緣(land)塗佈法、喷灑法、流鎿(fj〇wcasting)塗佈法、浸潰塗佈法、狹縫塗佈法等任意方法。又，曝光所使用之放射線方面，有例如g線、h線、i線等紫外線、KrF準分子雷射光或ArF準分子雷射光等的遠紫外線、x線、電子束等。顯影法方面，有浸置式(puddle)顯影法、浸潰顯影法、搖動浸潰顯影法、沖洗式顯影法等，可根據以往使光阻顯影之際所使用的方法。又，顯影劑方面，可使用攀將氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉等無機鹼、氨、乙胺、丙胺、二乙胺、二乙胺乙醇、三乙胺等有機胺、氫氧化四曱銨等的四級胺等調整所設定之濃度的水溶液。【實施例】以下，試例舉實施例及比較例，進一步具體說明該實施形態。此外「份」及「％」在無特別說明下則完全是指質量基準。各實施例及各比較例所用的測定方法及評價方法表示如下。 ❹ < 酸價〉酸價（毫克KOH/克)係準照JIS K0070 : 1992「化學製品之酸價、皂化價、酯價、碘價、羥價及不皂化物之試驗方法」，在四氫吱喊（THF)溶液使一定量之樹脂溶解’將酚酞作為指示藥，以氫氧化鉀/乙醇溶液滴定，進行測定。 <重量平均分子量> 重量平均分子量(Mw)係使用Tosoh公司製凝膠滲透層析術裝置HLC-8220GPC，與昭和電工公司製柱 SHODEX K801，使THF作為溶離液，藉由使用到校正曲線的換算來求得，該校正曲線係由以RI檢測器測定 23 201031703 · 分子量已知的聚苯乙烯標準體所得。 ^ ' 〔合成例1 :共聚物Α-1之合成〕在具備溫度計、攪拌機及冷卻管的1〇〇〇毫升四口燒瓶’裝入乳酸乙酯(EL)540.〇克，供給氮氣後，以油浴使液溫升溫至90。(：。另一方面，將反丁烯二酸雙（4_第三丁基環己基)(DcHtBF)71.1克、甲基丙烯酸(MAA)38.4克、苯乙烯 (St)18.9克、甲基丙烯酸2-羥乙基(HEMA)71.6克、2,2，-偶氮雙異丁腈〔偶氮系聚合引發劑、和光純藥工業公司製〕10.0克及EL6〇.0克預先經均一混合的液體(滴下成分）以滴下漏斗經2小時等速滴下後，以同溫度維持8❹ 小時，獲得共聚物A-1。〔合成例2至9〕除了變更表1所記載的裝入種類及量、滴下及聚合溫度以外，其他則以同於合成例丨之方法，進行共 A-2至A-9之合成。

24 201031703 ❹ 【5 Οϊ 1 C PGMEA 334.3 1 1 MAA 27.6 < ^ \ - A I BN 10.0 PGMEA 37.1 1 1 00 1 C PGMEA 420.0 1 St 120.0 MAA 38.4 HEMA 41.6 Hex-0 20.0 PGMEA 46.7 1 1 t> 1 < PGMEA 420.0 D s AF 85.3 St 34.7 MAA 30.7 MMA /HPMA 10.0/39.3 H e x — 0 20.0 PGMEA 46.7 s vq CD 1 < PGMEA 220.0 D t B F 49.6 St 90.4 MAA 46.0 CHMA 14.0 B u — 0 20.0 PGMEA 24.4 ο m 〇 LO 1 < PGMEA 270.0 D s B F 58.1 St 61.9 MAA 27.6 HEMA 52.4 He x —0 20.0 PGMEA 30.0 s 〇\ 1 < PGMEA 334.3 D i PF 87.8 aM e S t 22.2 AA 12.8 HEMA 77.2 B u — 0 16.0 PGMEA 37.1 〇 CO 1 < PGMEA 540.0 D i P F 89.9 St 70.1 MAA 21.5 HPMA 18.5 H e x — 0 16.0 PGMEA 60.0 § ON o (M 1 c EL 540.0 D c HF 80.2 St 19.8 MAA 21.5 HPMA 78.5 Hex-0 16.0 EL 60.0 卜 t—i 1 < EL 540.0 D c H t B F 71.1 St 18.9 MAA 38.4 HEMA 71.6 A I BN 10.0 EL 60.0 〇\ 合成例聚合用溶劑質量（克） (a 1 )用單體質量（克） (a 2)用單體質量（克） (a 3 )用單體質量（克） (a 4)用單體質量（克）聚合引發劑質量（克）滴下用溶劑質量（克） (a 1) + (a2) (質量％) 質量比裝入種類及量 201031703 〇〇 1 cn § o 〇Λ irT in o o vcT jn o o 〇Λ 00 cs »〇 § o o 豸 Ο in o 〇Λ ocT cn s o o <n" § ο o 〇\ (N in 00 ο o ίΝΛ od <s <s CO 03 \ 寸 ca 質量平均分子量 (Mw) 固體成分濃度（質量％) 滴下及聚合溫度（°c) ·ς> HH *® 〇 # 2 ^ S V—/ 201031703 表1中縮寫之意義如下。

DcHtBF :反丁烯二酸雙(4-第三丁基環己基)酯

DcHF :反丁烯二酸二環己酯

DiPF :反丁烯二酸二異丙酯

DsBF :反丁烯二酸二-異丁酯

DtBF:反丁烯二酸二-第三丁酯

DsAF :反丁烯二酸二-異戊酯

St :苯乙烯 aMeSt : a- f基苯乙婦 MAA :曱基丙烯酸 ❿ AA :丙烯酸 HEMA:甲基丙烯酸2-羥乙酯 HPMA:曱基丙烯酸羥丙酯 MMA :甲基丙烯酸甲酯 CHMA :甲基丙烯酸環己酯 .

Hex-Ο :第三己基過氧-2-乙基己酸酯，日本日油公司製過氧化物系聚合引發劑「perhexyl Ο」

Bu-O:第三丁基過氧-2_乙基己酸酯，日本日油公司製過氧化物系聚合引發劑「perbutylO」 φ AIBN: 2,2’-偶氮雙異丁腈〔偶氮系聚合引發劑，和光純藥工業公司製〕 PGMEA:丙二醇單甲醚乙酸酯 EL :乳酸乙酯〈實施例1> 將合成例1所得共聚物A-1 100克、前述式（15)所示化合物與1,2-萘醌二疊氮基-5-磺醯氯之酯化物6.25 克，進而為式（15)所示之酴性化合物1.25克、Tecmoa VG 3101L〔 Printech 公司製〕5 克、U-CAT SA102〔 San apro 公司製〕0.1克溶解於丙二醇單甲醚乙酸酯75.2克及乳 27 201031703 酸乙酯0·2克，在旋轉塗佈時，為了防止在光阻臈上產生的放射線狀縐褶，即所謂的條紋(striati〇n)，故進一步添加氟系界面活性劑、Megafuck R-08〔大日本油墨化學工業公司製〕〇.〇1克，並攪拌後，以02μιη之濾光以過濾’來調製感光性樹脂組成物之稀釋物。 (薄膜圖型之形成）將該感光性樹脂組成物之稀釋物旋轉塗佈於4 矽晶，上，在100°c、90秒的熱板烘烤後，獲得42、 ❹ 厚之薄膜。在該薄膜以佳能公司製g+h+i線光罩 (aligner)(PLA-501F)，將線與間隔寬成為i : i的各寬及接觸孔之測試圖型以最適曝光量曝光，並以質量％氬氧化四甲銨水溶液進行23〇c、6〇秒顯影，成與間隔寬為1 : 1之線朗隔圖型及接觸孔圖型。將:亥 ^ ^後’藉由在烤爐中經 220C、60刀鐘加熱，進行後烘烤處理，厚圖型的薄膜（圖型膜）。 ^ 7 υμ (顯影性之評價）剂ίϊίΪ製作的圖型中’以_觀察10师之孔圖 ϋϋ整ί觀察到殘渣的情況評價顯影性為x ;僅

Q i 1 m觀察❿m況評價顯影性 ίϋί/Λ，察到殘渣之情況，則評價顯影性為〇。其、、、口果如表2所不。 (介電率之評價）除了以PLA-5G1F不使測試圖型曝光财卜，盆他則

2之操作’而在4英_晶圓上獲“圖」的3.Ομιη厚_。在該薄臈上形成電極，在室溫；ι〇Μζ 之條件’使用自安藤電氣公司製LCR 所得之靜電容量來計算介電率。料43U) (透過率之評價）料心。除了使用縱7〇mm、橫7〇咖尺寸之石英玻璃基板， 28 .201031703 > 並且不使測試圖型曝光以外，其他則進行同於上述之操作’而在玻璃基板上獲得無圖型的薄膜。接著，使用^ 外·可視光分光光度計CARY4E(Balian公司製），測定具有該薄膜的玻璃基板之光波長400nm之透過率。其結果如表2所示。 (耐溶劑性之評價）將藉由進行同於透過率評價之操作而獲得的玻璃基板，在Remover 100〔 AZ電子材料公司製〕中，於 8〇°C、經1分鐘浸潰後，進行純水漂洗，並進行2〇(rc、 15分鐘之再烘烤處理。接著，在溶劑浸潰前之透過率與再烘烤處理後之透過率差未達3°/❶之情形，評價為〇,透過率差在3%以上之情形，則評價為X。其結果如表2所示0 <實施例2> 除了使用以合成例2所得共聚物A-2以外，其他則藉由同於實施例1之操作，來調製感光性樹脂組成物之稀釋物。對於該感光性樹脂組成物，評價與實施例1相同之物性，該等結果如表2所示。 • <實施例3至18> 藉由以表2及表3所示之混合，進行同於實施例1 之操作，來調製實施例3至18之感光性樹脂組成物之稀释物。對於該等感光性樹脂組成物，評價與實施例1 相同之物性，該等結果如表2及表3所示。 <比較例1及2> 藉由以表3所示之混合，進行同於實施例1之操作’來調製比較例；I、2之感光性樹脂組成物之稀釋物。對於該等感光性樹脂組成物，評價同於實施例1之物性’該等結果如表3所示。 29 201031703 【5 實施例9 A-1 1〇〇質量份式(15)之平穩酯化率 =67% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL 1 _ o 00 (Ν’ 實施例8 A-1 100質量份式(15)之平穩酯化率 =20% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL 〇 ON <si 實施例7 A-7 100質量份式(丨5)之平穩酯化率 =50% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL 〇卜 (Μ On 實施例6 A — 6 100質量份式(15)之平穩酯化率 =50% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL o Ό CS· 實施例5 A — 5 100質量份式(15)之平穩酯化率 =50% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL o 卜 (N (N ON 實施例4 A —4 100質量份式(I5)之平穩酯化率 =50% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL 〇卜 CS cs 實施例3 A-3 100質量份式(15)之平穩酯化率 =50% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL o v〇 c<i 實施例2 A-2 100質量份式(15)之平穩醋化率 =50% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL o 卜 cs CN Os 實施例1 A-1 100質量份式(I5)之平穩(ballast) 酯化率 =50% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL o 00 〇\ 實施例成分（A )之共聚物成分（B )之感光劑成分（C )之硬化劑式(15)之化合物 U-CAT SA102 R-08 溶劑顯影性介電率透過率域泰1 Μ 201031703 ο ο ο ο ο ο ο ο 【5 比較伤ο t , \ A-g 100質量份式(15)之平穩酯化率 =50% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份〇.〇4質量份 PGMEA/EL o cn CO <n ^ 〇\ 比較例1 A —8 100質量份式(15)之平穩酯化率 =50% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL X 00 c4 實施例1 8 A-1 100質量份式(15)之平穩酯化率 =50% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份〇 0.04質量份 PGMEA/EL 〇 00 cs_ CO 〇\ 實施例1 7 A-1 100質量份式(15)之平穩酯化率 =50% 25質量份 VG3101L 20質量份〇 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL 〇 00 CN <s Os 實施例1 6 A-1 100質量份式(12)之平穩酯化率 =75% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL o Os oi 實施例1 5 A-1 100質量份式(12)之平穩酯化率 =50% 25質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL 〇 ON <N* 實施例1 4 A-1 100質量份 W ^ ^ tte| '―1 am \\ ^ VG3101L 30質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL 〇 ON <si 實施例1 3 A-1 100質量份 ^ ^ Μ in ^ 'τ- ^ ^ § 溜11 ^ VG3101L 5質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL 〇 00 cs 實施例1 2 A-1 100質量份式(15)之平穩酯化率 =50% 35質量份 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL o 卜 (N 實施例1 1 A-1 100質量份 G辦-r-沄械 § - " 2 VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL 〇 00 CN On 實施例1 0 A-1 100質量份 “SIS VG3101L 20質量份 5質量份 0.8質量份 0.04質量份 PGMEA/EL 〇 00 cs SS 實施例 ^ ^ /f> ^ ^ $ PQ蟛蘅 ^ ^ 式(15) 之化合物 U-CAT SA102 R-08 溶劑顯影性介電率透過率鉍彳離黩

201031703 ο ο ο ο ο ο ο ο ο 201031703 由表2及表3所示結果可確認，在實施例1至18 中，於形成圖型膜的顯影步驟中，並無顯影殘渣，即使在高溫烘烤後，亦不致損及光透過率、耐溶劑性等塗膜物性，顯影性及低介電特性優異。此外，在實施例1至 18中，可充分維持圖型膜之殘膜率，又圖型膜之平坦性亦良好。一方面，由表3所示結果可知，因在比較例1中成分(A)之共聚物不含構成單位(al)，故顯影性惡化。而在比較例2中，由於在共聚物中不含有構成單位（al)及 (a2)，故介電率惡化。

Claims

201031703 ’ ， ' 七、申請專利範圍： 1. 一種感光性樹脂組成物，其係由成分(A)、（B)及(c) 所組成，其特徵為，成分(A)係由下述構成單位所組成的共聚物··由下述式⑴所示之反丁烯二酸(fumaric acid)二醋單體所衍生的構成單位(al);由下述式(2)所示之芳^族乙 ^(vinyl)單體所衍生的構成單位(32);由下述式(3')所示之α，β-不飽和緩酸單體所衍生的構成單位(a3);及由下述式(4)所示之（甲基）丙烯酸酯單體所衍生的構 • 成單位(a4)，該共聚物中，構成單位(al)與構成單位(a2) 之合計量在該成分(A)中為4〇至85質量％，構成 (a3)與構成單位(a4)之質量比(a4)/(a3)為〇 2至7 〇， COOR1 CH—Ιη-- ⑴ COOR2 破it中，R及R2係各自為碳數3至8之分支烷基、妷數4至12之環烷基或經取代的分支之環烷基

* * * (2) 芳香美R3為氫原子或甲基;r4為碳數6至12之

C -......0 OH 35 201031703 式中之R5為氫原子、甲基或羧甲基 R6

C=0 I 7 OR7

式中之R6為氫原子或曱基；R7為碳數6至12之芳香族烴基、碳數1至12之烷基、碳數1至12之分支院基、碳數2至12之經烧基或主環(prjncipie ring) 構成碳數為5至12之脂環式烴基成分(B)係將具有羥基的酚性化合物與醌二疊氮化合物予以酯化反應所得’具有醌二疊氮基 (quinonediazide group)的感光劑，成分(C)係具有2個以上環氧基的硬化劑， 2. 3. 相對於成分(A)100質量份，成分(B)及(c)之構; $率’ ：（B)為5至50質量份及(C)4 j至4〇質量构面顯不器，其係具有將如申請專利範圍第j〕之感，性樹脂組成物予以硬化之層。

36 201031703 四、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：無。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明：五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式：