TW201029903A - Conveyor assembly and method for conveying a substrate - Google Patents

Description

201029903 六、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關一種適於配合一基材處理系統 送機總成，包含至少一具有可支撐至少一基材的 表面的基材托架、一處理軌道；一回行軌道、及 理軌道及回行軌道驅動基材托架的驅動系統。 _ 【先前技術】 此種輸送機總成經揭示於例如，申請人的 EP1，365,040 號案。 在處理/加工基材時，尤其是處理脆質基材 (例如2 50μιη或更薄的）玻璃板或半導體晶片時， 斷裂的危機。斷裂基材的發生可例如因爲加工條 極端溫度，或在實際處理，或在裝載站及卸載站 時因基材的機械接觸所導致。上述種類的輸送機 φ 一提供一表面以供基材擱置其上的基材托架，以 多的處理站輸送基材。當一基材在處理/加工時 斷裂片遺留在托架的基材載運表面上。在托架可 基材前，斷裂基材的殘餘件需先移除。由於一般 者依賴基材的整體性’其等可能無法執行此工作 ΕΡ 1,365,040所揭示的基材處理總成裝設有特別 將基材殘餘件自托架的表面吸除。 然而，吸除站（hoovering station)是相當 貴且大型的裝置，需消耗相當長的時間來清理托 使用的輸 基材載運 一可沿處 歐盟專利 、例如薄 基材會有 件，例如 操縱基材 系統使用 沿一或更 斷裂，其 裝載新的 基材處理 。因此， 的站，以 複雜、昂 架表面。 -5- 201029903 本發明旨在提供一種改良的輸送機總成，尤其是一種相當 精簡且能夠有效的除去斷裂基材及/或其他污染物的殘餘 件的總成。 【發明內容】 爲此，本發明提供一種上述型態的輸送機總成，其特 徵爲包含一旋轉單元，建構成可沿一實質水平軸線樞轉基 材托架，由第一方位樞轉至第二方位，反之亦然。 此種輸送機總成允許一基材托架及其基材載運表面可 傾斜，或甚至旋轉，使得任何鬆弛的污染物、例如一斷裂 基材的殘餘件或由於寄生澱積所產生的澱積廢料，可自托 架掉落。自托架掉落的材料可被收集於一設置於旋轉單元 下方的容器內。如下文將詳述者，一旋轉單元可由相當少 的機械構件製成，使其成爲一簡單、可靠且可經濟製造的 裝置。由於旋轉單元可快速作動，其也適於配合一高產量 的基材處理系統（生產力爲每小時 1000晶片以上）使 用。 在另一實施例中，輸送機總成，例如旋轉單元，也可 建構成對基材托架施加一輔助平移動作，以將基材托架自 第一方位傳輸至第二方位。 如有必要，旋轉單元（或該總成的不同部位）可施加 一搖擺運動在基材托架上，以將托架表面的任何碎屑摔 掉。其也可包含一擋止件，供托架和緩的敲擊，以使例 如，由於一先前的加工處理所產生的稍爲黏性的殘餘件可 -6- 201029903 被摔掉。此外，旋轉單元可暴露於一氣體/空氣流或振動 下，以將黏性的片斷自托架摔脫。旋轉單元可，例如以基 材可能會在軌道沿線的何處斷裂爲依據，而設置於處理軌 道內、回行軌道內或在處理軌道及回行軌道之間。此外， 旋轉單元可自動的或手動的作動。一·自動作動的旋轉單元 可依據一基材斷裂感測器，例如檢視每一通過的基材托架 的托架表面的照相機的輸出而不經意的作動，或是不論托 Φ 架表面的條件爲何，對每一通過的托架均連續的作動。 在此需指出，有關本文所使用的術語方面，片語如 「實質上成水平向的」旨在包含任何與一垂直於重力方向 的平面所夾的角度爲小於45度的銳角，尤其是20度的方 向。同樣的，術語「實質上垂直」旨在包含任何與一垂直 於重力方向的平面所夾的角度爲介於45及90度之間的銳 角’尤其是70及90度之間的方向。應了解者，處理軌道 及回行軌道可不必完全由分開的軌道構成，而可例如由一 〇 及相同的軌道，或是部分相重疊的軌道所構成。 依據本發明的另一型態，第一方位對應於實質上成水 平定向的基材托架的基材載運表面。（由第一方位出發 的）第二方位可例如藉在70及270度之間，較佳者例如 藉在90及270度之間的角度範圍內的樞轉運動所獲得 的。 第一方位較佳者是水平向的，與一由下方支撐一或更 多基材的基材托架相對應。另一方面，第二方位較佳者是 選擇成使得載運表面沒有支撐待除去的碎屑，以允許重力 201029903 可藉使用碎屑的完全重量來將其移除。由第一 '水平方位 的出發是藉將托架樞轉一介於70及270度之間的角度而 得。如果基材托架是環繞一較靠近載運表面側邊的軸線轉 動，欲旋轉約1 80度的角度可能需要顯著的空間。例如， 將一長方形托架環繞與其一長方形側邊相符的軸線（該軸 線沿托架的輸送方向延伸）旋轉180度的角度，將使得輸 送軌道的寬度，就其有效覆蓋區（footprint )而言是加倍 的。使用在商業生產線的裝置較佳者爲保持精簡，使覆蓋 區極小化。因此，由第一方位出發的第二方位最好者是藉 在70及120度之間的角度範圍內的樞轉運動所獲得的， 該角度較佳者是在90及120度之間，尤其是11〇度。 依據本發明的另一型態，輸送機總成可包含兩個旋轉 單元，第一旋轉單兀例如是設置於處理軌道一終端點及回 行軌道一開始點之間，而第二旋轉單元例如是設置於回行 軌道一終端點及處理軌道一開始點之間。 兩旋轉單元可用以執行相反的作用。第一旋轉單元例 如是設置於自托架表面卸載基材的卸料站下游，可將托架 自其第一、水平位置樞轉入其第二、傾斜位置，以移除任 何污染物。仍然在其第二位置中的基材托架可隨後沿回行 軌道輸送回處理軌道的開始點，在此其被樞轉回到宜第一 水平位置’以載入新的基材。此設置的優點爲回行軌道的 覆蓋區可相當的小’因爲基材托架可沿一傾斜、近乎垂直 的位置輸送。爲執行沿其第一及第二位置輸送一基材托 架’處理軌道及回行軌道可設置引導裝置，例如可確保基 -8- 201029903 材托架在輸送時維持其特定方位的導軌。 依據本發明的另一型態，處理軌道設置於回行軌道的 實質上及下方。此不僅使輸送機總成的覆蓋區減至最小， 也改良了其在其內執行的各別系統的整體精簡度。例如， 在處理軌道是設置於回行軌道的上及下方，而基材托架是 在第一、實質水平方位沿處理軌道，及在第二、大致直立 方位’沿回行軌道被輸送的情形中，一在處理軌道（及鄰 Φ 靠回行軌道）上方的下細長空間即可空出，而此空間可用 以容納系統的一或更多其他構件，例如真空泵、電力源、 控制單元等。與其中軌道及構件係相疊置或並列的系統相 較，此輪廓可提供顯著較小的覆蓋區及改良的精簡度。此 系統可例如依據申請專利範圍第1 8項的基材處理系統。 依據本發明的另一型態，輸送機總成包含數個滾輪， 例如安裝於基材托架上的輪子，及至少一沿至少一部分處 理軌道及/或回行軌道延伸的軌條，該軌條是建構成可與 φ 基材托架上的滾輪相配合動作，使得基材托架可沿該軌道 的該部分在軌條上滾動的移動。 在一實施例中，例如，至少一部分的處理軌道是由第 一導軌所界定，而基材托架包含第一組滾輪，建構成與第 一導軌相配合動作，使得基材托架以滾動方式在沿處理軌 道的該部分在第一導軌上移動。在另一實施例中，例如至 少一部分的回行軌道是由第二導軌所界定，而基材托架包 含第二組滾輪’建構成可與第二導軌相配合動作，使得基 材托架以滾動方式在沿回行軌道的該部分在第二導軌上移 -9 - 201029903 動。 在該等實施例的一組合中，至少一旋轉單元建構成可 沿一介於其第一方位及第二方位之間的實質水平軸線樞轉 基材托架，將基材托架由處理軌道的第一導軌傳輸至回行 軌道的第二導軌，反之亦然。該至少一旋轉單元可包含第 一及第二導軌伸出部，配置成使得當旋轉單元將基材托架 固持於其第一方位時，第一導軌伸出部係對準第一導軌， 而其中當旋轉單元將基材托架固持於其第二方位時，第二 導軌伸出部係對準第二導軌。該至少一旋轉單元可因此， 充當處理軌道及回行軌道之間的轉轍器，允許當基材托架 對準處理軌道或回行軌道的任一時，基材托架可簡易的移 上及移下旋轉單元， 依據本發明的一型態，回行軌道至少部分的延伸通過 一經調節的環境，例如其中存有惰性氣體及/或強化特定 溫度條件的環境、及/或例如與外部環境相隔開密封的內 部環境，例如真空環境。 本發明也提供一種輸送一基材托架的方法，包含：提 供一基材托架（108);將該基材托架定位於第一方位；沿 第一軌道輸送該基材托架；及沿一實質水平軸線轉動該基 材托架至第二方位。 藉轉動基材托架，尤其是其基材載運表面，可將基材 托架的基材載運表面上的污染物有效的除去。該方法可有 利的被使用於基材處理系統，例如其中先前較龐大且昂貴 的儀器（例如吸除站）需被使用的半導體晶片處理/加工 201029903 系統中。 該方法可另包含在第二方位上沿第二軌道輸送基材托 架，及沿一實質水平軸線轉動基材托架回到其第一方位； 及/或收集由於基材托架方位的改變，或任何其他將污染 物自托架逐出的特定作用（例如將其作用於一氣體/空氣 流或振動下）所致，而自托架上掉落的材料。 在此需指出’第一軌道及第二軌道可不必完全由分開 的軌道構成，而可例如由一及相同的軌道，或是部分相重 疊的軌道所構成。在一較佳實施例中，第一及第二軌道係 例如藉上述旋轉單元相連接，以形成一基材托架可沿其連 續被驅動的循環路徑。第一及第二軌道可上下設置，以將 執行該方法的裝置的覆蓋區及佔據空間減至最小。 本發明的上述及其他特點及優點將在參見下文所述本 發明特定實施例的詳細說明及附圖後有進一步的認知，惟 該等說明及附圖旨在敘述，而非限制本發明。 【實施方式】 圖1槪意的顯示一依據本發明的輸送機總成！ 00範 例。輸送機總成1 〇 0包含一由兩導軌1 〇2、1 〇 3所構形的 上方處理軌道。惟在其他實施例中，輸送機總成丨00的處 理軌道可以是由不同數量的導軌所構形的。另一導軌可例 如用以對基材托架1 0 8的相當重的部分，例如其上安裝有 磁鐵1 1 2的區域（容後敘述）提供額外的支撐。處理軌道 由其開始點1 〇 4延伸至終端點1 〇 6。一般上，開始點1 〇 4 -11 - 201029903 可以是一與將基材放置在一具有基材載運表面109的基材 托架108上的裝載位置相關的，其中基材載運表面109沿 處理軌道的導軌102、103被送出。同樣的，處理軌道的 終端點106可以是與一用以將經適當處理的基材自基材托 架108上移除的卸料或卸載位置相關的。用以執行基材處 理的一或更多的處理站可沿處理軌道，在開始點104及終 端點1 06 (也參見圖8 )之間設置。 爲了使經沿單向處理軌道輸送的基材托架1 〇 8可回到 其開始點1 04，故設有一回行軌道。回行軌道係由一導軌 1 1 〇所構形。處理軌道及回行軌道之間係藉一旋轉單元 5〇〇連接，旋轉單元500作用如一轉轍器開關，使得一基 材托架108可由處理軌道旋轉的傳輸至回行軌道，反之亦 然。旋轉單元500及其動作容後詳述。旋轉單元500與處 理軌道及回行軌道一起形成一循環路徑，可供輸送基材托 架108。在圖1中，回行軌道是實質上配置在處理軌道下 方’以使整體上回行軌道及輸送機總成100的覆蓋區 (footprint )減至最小。然而，在此需指出，基本上，處 理軌道相對於回行軌道的位置是可任意選擇的。在某些情 形中’或有需要將處理軌道相對於回行軌道定位成使得一 基材托架108無法藉一（單一）旋轉動作而在其等之間交 換。在該等情形中，基材托架108可能承受一由旋轉單元 5〇0或另一種平移裝置所執行的輔助平移動作。 一驅動系統被提供以驅動一基材托架〗08，沿由處理 軌道及回行軌道所構成的循環路徑行進。揭示於圖1的驅 -12- 201029903 動系統範例是雙摺（twofold)的。即是，用以沿處理軌 道輸送基材托架的驅動機構與用以沿回行軌道輸送基材托 架1 08的驅動機構是不同的。惟在兩種情形中，均是使用 安裝於基材托架1 0 8底側上的一系列永久磁鐵1 1 2 (圖1 未不，參見圖3)。 爲了沿處理軌道驅動一基材托架1 08，沿導軌1 02側 邊設置電氣線圈114。電氣線圈可被激勵以產生一磁場， φ 與安裝於基材托架上的磁鐵112的磁場交互作用，藉此傳 遞能量至托架108，以沿輸送方向118將其移動。此種電 磁鐵驅動系統提供可獨立控制各別托架1 0 8運動的優點， 同時將維護需求維持在最低，因爲驅動系統的構件幾乎沒 有磨耗。此外，電氣線圈1 1 4可設置於經過調節的加工環 境（尤其是一真空環境）的外側，當執行可能會污染或傷 害線圏的基材處理時，此點特別有利。用以沿處理軌道驅 動托架108的驅動系統可與EP 1，365,040所述的輸送機系 φ 統相同或相近，該案倂此當參考。 沿平行於導軌1 1 0的一方向延伸的皮帶1 1 6被提供以 沿回行軌道的一方向1 2 0驅動基材托架1 0 8。皮帶1 1 6係 由一可磁化材料，例如鐵所製造，其在安裝於一基材托架 1 08上的磁鐵1 1 2下被磁化。一旦磁化之後，皮帶1 1 6及 —托架1 08係磁性的相連，而皮帶的移動將驅動托架沿導 軌110行進。此外，皮帶116可具有與磁鐵112交互作用 的永久性磁性材料。 由圖1可見在處理軌道上的基材托架108的定向與在 -13- 201029903 回行軌道上的基材托架108的定向是不同的。在處理軌道 上的托架108實質上成水平的定向，而在回行軌道上的托 架108是實質上成垂直的定向。在處理軌道的開始點ι〇4 及終端點106處，藉將基材托架108環繞一沿平行於導軌 102、110的方向延伸的實質水平軸線加以樞轉而將其等 再定向（再定位）。再定位是藉旋轉單元500執行。將— 基材托架108自其實質水平位置樞轉至其實質垂直位置， 可顯著的將斷裂基材的殘餘件或其他鬆弛污染物由基材托 架的基材載運表面109丟掉。 圖1所示的驅動系統只是一範例。多種用以沿一軌道 驅動一基材托架的其他驅動系統係屬習知者，因此不在此 闡述。例如，驅動系統本質上可不需具磁性：例如，習知 的鏈條輸送機可用以沿處理軌道輸送一基材托架1 08。此 外’例如，從動皮帶116或另一種驅動裝置可藉機械摩 擦' 夾持或握持以耦接基材托架1 08，或者是以沿回行軌 道將其驅動。 圖1顯示依據本發明輸送機總成1〇〇 —實施例的槪 觀。下文將敘述一基材托架108及一旋轉單元5 00較詳盡 的實施例。 現參見圖2-4，其等詳細的顯示一基材托架1〇8。基 材托架108對達成具有高產量能力的基材處理系統而言扮 演極重要的角色。其尺寸選擇較佳者是使得其可支撐大量 的晶片、例如1 〇片以上，以能同步加工。揭示的基材托 架108包含一長方形托架板200，及一連接至托架板2〇〇 201029903 一底側204的.U形側部面202，靠近且平行於其—長方形 側邊。托架板200的頂側206設有數個實質上正方形凹槽 2〇8 ’建構成可容納相同數量的基材。u形側部面的一底 側設有系列的永久磁鐵1 1 2，其充當驅動系統部分構件的 功能經在上文提及。 托架板200的底側204設有兩對相互對準的滾輪 210，靠近與U形側部面2〇2相對的托架板200 —長方形 φ 側設置。U形側部面2 〇 2本身也設有四個相對應對準的滚 輪212。滾輪 210，212是建構成與處理軌道的導軌1〇2、 103相配合動作’且具有一實質上平行於托架板2〇0延 伸的旋轉軸線。當滾輪210,212沿處理軌道移動時，其等 支撐基材托架108且使得托架被平順的輸送。 除了滾輪 2 1 2之外，U形側部面設有另一對滾輪 214。此等滾輪214比滾輪210, 212具有稍大的直徑，且 具有一大致朝向托架板2 0 0成垂直延伸的旋轉軸線，且建 ❷ 構成與回行軌道的導軌110相配合動作。滾輪214的旋轉 軸線及托架板200旋轉軸線之間所夾的角度係與基材托架 108被旋轉單元500所樞轉的角度有關（詳下文）。 現參見圖5及6，其顯示旋轉單元5〇0的一範例，其 中圖2-4的基材托架108範例經被插入。 旋轉單元5 00包含一汽缸活塞總成502,5 20、其—汽 缸末端504係可樞轉的連接至固定端，而其一活塞桿端 506是可樞轉的連接至旋轉單元的一罩殼508。罩殼508 是藉兩個具有預先組裝軸部5 1 0的軸承座5 1 2可樞轉的懸 -15- 201029903 吊。兩軸承座512係設於旋轉單元500的罩殼508之相對 側邊，使得僅有一個可見於圖5。旋轉單元500另包含兩 軌道伸出部514、516，建構成可分別與滾輪210及212 相配合動作，及包含一軌道伸出部518，建構成可與滾輪 2 1 4相配合動作。軌道伸出部5 1 4、5 1 6可分別視爲處理 軌道導軌102及103的延伸件，同時軌道伸出部518可視 爲回行軌道的導軌1 10的延伸件。旋轉單元500也包含一 嚙合滾輪212的凸緣522。 設置於處理軌道一終端點106的旋轉單元500動作如 下所示。在旋轉單元 500的第一方位中，軌道伸出部 514、516係與處理軌道的導軌102及103相對準。一基 材托架108沿導軌102及103被驅動，且抵達處理軌道的 終端點106，因此，自動的被驅動進入旋轉單元500內。 當一基材托架108被插入時，滾輪212,210將嚙合軌道伸 出部 514、516。同樣的，滾輪214將嚙合軌道伸出部 5 18。此時，基材托架108仍然被滾輪212,210所支撐。 當一基材托架108完全被插入時’即可作動汽缸活塞總成 5〇2,520以將活塞桿520收回入汽缸502內，藉此導致罩 殼5〇8’進而使被插入其中的基材托架108環繞軸510旋 轉向下。罩殼508及托架108轉動的確切最終角度係取決 於活塞桿5 2 0收回的距離，而在所顯示的實施例係設定 爲大約是1 1 〇度。在此需指出，活塞桿520非一定得以單 一流暢的動作收回。其可例如，間歇性的滑移進出汽缸 502’以對施加一搖擺運動在基材托架1〇8上。在該情形 201029903 中，凸緣522可維持旋轉單元500及基材托架108之 當的接觸。當旋轉單元500結束其旋轉動作時，罩殼 及托架108經抵達其等的第二方位。基材托架1〇8現 置於軌道伸出部518上的滾輪214所支撐，基材托架 由於旋轉而對準回行軌道的導軌U 〇。該再定位也使 於U形側部面202的底側上的磁鐵1 1 2，落入皮帶1 ] 抵達的範圍。皮帶116的移動將基材托架1〇8自旋轉 5 00拉至回行軌道的導軌110上，且將其輸送至處理 的開始點。當沿回行軌道輸送時，較佳者是將一基材 設計成保持其方位。若此方位會被例如重力所否濘的 則可設置一額外的導軌，例如對準凸緣5 2 2的導軌。 圖7槪意的顯示一非必須的托架交換單元700 ( 8 )的動作，其可倂入依據本發明的輸送機總成1 〇 〇 一托架交換單元7〇〇在不需停止總成100行進的情形 使得一位在處理或回行軌道上的基材托架1 08被· (side-tracked)，或使得一新的基材托架1〇8被插 在任一軌道上的托架的流動流（stream )。當例如一 多的基材托架1 08需徹底檢視或維護時，基材托架的 (side-tracking)是有其必要性的，而托架1〇8的插 允許一所謂的「模擬托架」（dummy carrier)可滑入 托架的流動流內。該模擬托架可嵌設有測量儀器，例 電偶（thermocouple )及溫度數據記錄器，以評估基 加工時所承受的確切條件。 倂入圖1所示的輸送機總成1 〇 〇回行軌道內的托 間適 508 由擱 108 得設 :6可 單元 軌道 托架 話， 見圖 內。 下， 側轉 入位 或更 側轉 入可 基材 如熱 材在 架交 -17- 201029903 換單元700可如下所述般作動。在情形a中，揭示回行 軌道的槪意頂視圖，顯示正常的動作條件。現分割成兩區 段的皮帶116沿回行軌道在方向12〇上，輸送實質上成垂 直定向的基材托架108。交換單元7〇〇是設置於皮帶116 的兩區段之間’且包含兩皮帶702,704。在交換單元700 的生產狀態中’皮帶704是對準皮帶1 1 6的兩區段，使得 —沿回行軌道被輸送的基材托架108由皮帶116的第一區 段自動的送交至皮帶704，及至皮帶116的第二區段。易 言之，皮帶116及7〇4作用如單一的連續皮帶。當一需要 調換的基材托架108進入交換單元7〇〇時，可安裝於一可 滑移框架內的皮帶702及704可被一作動器，例如液壓汽 缸快速的移向前。此係如情形B所顯示的。皮帶7 0 2藉此 取代皮帶7〇4，而皮帶704與待調換的基材托架108則被 移出沿回行軌道移動的基材托架的流動流外。各別的基材 托架現可被檢視、維修、更換等，如情形C所顯示者。顯 然的，當托架交換單元700被置放於一真空環境內時，可 能得先取消真空，而會導致生產線的停工。這是爲何托架 交換單元7 00較佳者應設置於回行軌道的大氣部分內的原 因。欲將一基材托架插入基材的流動流時，可反向的執行 上述步驟。一旦皮帶7 02暫時性的沒有輸送一基材托架 108時（如情形D所顯示者），兩皮帶702,704可向後移 動，以將皮帶7〇4與皮帶1 1 6的兩區段相對齊，如此，可 將由皮帶7 04所固持的基材托架插入流動流內，如情形E 所顯示者。在此需指出，爲了清晰顯示起見，圖7並沒有 -18- .201029903 顯示任何導軌，尤其是導軌110。然而，事實上他們是可 能存在的；在該情形中，他們是如皮帶1 1 6 —般的分段 的。基材托架交換單元700也可如皮帶702,704 —般的設 有安裝於交換單元的框架上的交換器導軌部分。其後，當 該等交換器導軌部分各別的相關交換器皮帶7〇2,704對準 皮帶116的區段時，各交換器導軌部分被移成對準回行軌 道的導軌110的主區段。 ©圖8顯示基材處理系統8 00 —範例，其可使用一依據 本發明的輸送機總成1 〇 〇。例如，該系統可包含第一負荷 閘（dead lock) 804及第二負荷閘810，該等負荷閘是建 構成可將一或更多處理站的經調節的（內部）環境（例如 真空環境）與外部環境相密封。基材處理系統800包含一 裝載站8 02 ’基材托架108在此可載運一或更多需加以處 理的基材。基材可藉一基材處理器，例如白努利 (Bernoulli )夾持器’由供應卡匣取出，而置放於基材托 φ 架的一實質上成水平定向的基材載運表面丨〇9上。其 後’基材托架108可移動通過第一負荷閘804，進入經調 節的（例如真空）環境內。經調節的環境可容納數個處理 站’例如加熱站 806及/或一或更多的澱積站8 08，以對 基材施予例如濺鍍、CVD、PECVD或微影處理等。基材 可隨後通過第二負荷閘810輸送入一大氣外部環境，而輸 送至 卸料位置8 1 2 ’經處理的基材可在此被檢視。經適 當處理且未斷裂的基材可由基材托架108卸下，並置放入 輸送卡匣內。其後’卸載的基材托架108可進—步的輸送 -19- 201029903 至旋轉單元5 00’其沿一實質水平軸線樞轉基材托架 108，以將在卸載位置812故意遺留在托架1〇8上的任何 材料逐出。其次，基材托架可經一具有基材托架交換單元 700的回行軌道輸送回其等的出發點。萬—基材托架ι〇8 沿回行軌道被輸送的方位與其等沿處理軌道行進的方位不 同的話，可在裝載站802前設置第二旋轉單元5〇〇,以將 托架1 08樞轉回到其等所需的方位。 雖然本發明是以特定實施例來敘述，精於本藝的人士 可知能在不脫離本發明的精神及範疇的情形下，對該等實 例加以修飾或變更，且可以等效物來取代其中的構件或元 件。尤其是，顯示於一或更多實施例內的元件可與其他顯 示的實施例或其元件相組合，以獲得未脫離本發明申請專 利範圍範疇的新實施例。因此，片語如「一實施例」及 「另一實施例」並非一定是指不同的實施例。一般上，以 該等片語稱呼的實施例可相互的組合以形成另外的實施 例。因此，本發明不偏限於任何經揭示的可執行本發明的 獨特實施例，而本發明應包含所有未脫離本發明申請專利 範圍範疇的實施例。 【圖式簡單說明】 圖1是輸送機總成範例的槪意透視圖。 圖2是可被使用在依據本發明的輸送機總成內的基材 托架範例的側視圖。 圖3是圖2所示的基材托架底側的透視圖。 -20- 201029903 圖4是圖2所示的基材托架頂側的透視圖。 圖5 7E圖2所示的基材托架插入其中的旋轉單元的側 視圖。 ffl 6胃0 2所示的基材托架插入其中的旋轉單元的側 視圖’且由一不同的角度顯示圖5所示的情形。 圖7槪意的顯示一選擇性托架交換單元的動作。 圖8槪意的顯示其中可倂入依據本發明的輸送機總成 的基材處理系統。 【主要元件符號說明】 1 0 〇 :輸送機總成 102，103 :處理軌道的導軌 104 :處理軌道的開始點 1 〇 6 :處理軌道的終端點 108 :基材托架 1 09 :基材載運表面 110 :回彳了軌道的導軌 1 1 2 :永久磁鐵 1 1 4 :電氣線圈 116 :皮帶 118:沿處理軌道的輸送方向 120:沿回行軌道的輸送方向 200 :托架板 202 : U形側部面 201029903 204 :托架板底表面 206 :托架板頂表面 208:可容納一基材的凹槽 2 1 〇 :與處理軌道導軌1 02相配合動作的滾輪 212 ··與處理軌道導軌1〇3相配合動作的滾輪 2 1 4 :與回行軌道導軌1 1 0相配合動作的滾輪 5〇〇 :旋轉單元 5 02 :汽缸

504 :汽缸末端 506 :活塞桿末端 508 :罩殼 5 1 〇 :軸部 5 1 2 :軸承座 514 :導軌102的軌道伸出部 516 :導軌103的軌道伸出部 518:導軌110的軌道伸出部 5 20 :活塞桿 522 :凸緣 7〇〇 :基材托架交換單元 7〇2,7〇4:基材托架交換單元的皮帶 8 00 :基材處理系統 802 :裝載站 8 04 :第一真空閘 8 〇 6 :加熱站 -22- 201029903 8 08 ： 8 10： 8 12： 澱積站 第二真空閘 卸載站

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Claims (1)

1. 201029903 七、申請專利範圍 1· 一種適於配合一基材處理系統（800)使用的輸 總成（100)，包含： 至少一基材托架（108)’其具有一用以支撐至少 材的基材載運表面； 一處理軌道； 一回行軌道； 一驅動系統（1 1 2，1 1 4，1 1 6 )，以沿該處理軌道 回行軌道驅動該基材托架； 其特徵爲另包含： 至少一旋轉單元（500)，建構成可繞一實質水平 樞轉該基材托架，由第一方位樞轉至第二方位，反 然。 2. 如申請專利範圍第1項的輸送機總成，其中 一方位對應於該基材托架（108)的一實質上成水平定 基材載運表面（109)，且其中由該第一方位出發的該 方位是藉在70及270度之間的角度範圍內的樞轉運 獲得的。 3. 如申請專利範圍第丨或2項的輸送機總成， 由該第一方位出發的該第二方位是藉在70及120度 的角度範圍內的樞轉運動所獲得的。 4·如上述申請專利範圍中任一項所述的輸送 成，包含兩旋轉單元（5 00)，第一旋轉單元係設置於 理軌道的一終端點（1 〇 6 )及該回行軌道的一開始點之 送機 —基 及該 軸線 之亦 該第 向的 第二 動所 其中 之間 機總 該處 間， 201029903 而第二旋轉單元係設置於該回行軌道的一終端點及該處理 軌道的一開始點（1 〇 4)之間。 5. 如上述申請專利範圍中任一項所述的輸送機總 成，其係建構成在其第一方位上沿該處理軌道移動該基材 托架（108)，及在其第二方位上沿該回行軌道移動該基材 托架。 6. 如上述申請專利範圍中任一項所述的輸送機總 φ 成’其中該處理軌道是設置於該回行軌道的實質上方或下 方。 7. 如上述申請專利範圍中任一項所述的輸送機總 成’其中該處理軌道的至少一部分是由第一導軌（1〇2)所 界定’且其中該基材托架（108)包含數個建構成與該第一 導軌（1〇2)相配合動作的第一滾輪（2 I2)，使得該基材托架 係沿該處理軌道的該部分，可滾動的移動於該第一導軌 上。 ❹ 8 ·如申請專利範圍第7項的輸送機總成，其中該回 行軌道的至少一部分是由第二導軌（110)所界定，且其中 該基材托架（108)包含數個建構成與該第二導軌（110)相配 合動作的第二滾輪（2 i 4)，使得該基材托架係沿該回行軌 道的該部分’可滾動的移動於該第二導軌上。 9 .如申請專利範圍第8項的輸送機總成，其中至少 一旋轉單元（500)係建構成可藉由將一基材托架（108 )繞 在其第一方位及其第二方位之間的一實質水平軸線加以樞 轉’而將該基材托架由該處理軌道的第一導軌（102)傳輸 -25- 201029903 至該回行軌道的第二導軌（110)上，反之亦然。 10. 如申請專利範圍第9項的輸送機總成，其中該至 少一旋轉單元（5 00)係建構成可將一基材托架（108)由該處 理軌道的第一導軌（102)傳輸至該回行軌道的第二導軌 (1 10)上，反之亦然，其包含： 第一及第二導軌伸出部（514、518)，配置成使得當該 旋轉單元將該基材托架（108)固持於其第一方位時，該第 一導軌伸出部（514)係對準該第一導軌（10 2)，且其中當該 旋轉單元將該基材托架固持於其第二方位時，該第二導軌 伸出部（5 1 8)係對準該第二導軌（1 1 〇)。 11. 如申請專利範圍第7至10項中任一項所述的輸 送機總成，其中該驅動系統包含：安裝於該基材托架（108) 上的至少一磁鐵（1 1 2 )。 1 2 .如申請專利範圍第1 1項的輸送機總成，其中該 驅動系統另包含： 數個電氣線圈（114)，沿該第一或第二導軌 (1〇2，11〇)，及該基材托架（108)的至少一磁鐵可沿其移動 的鄰近位置設置，該線圈可被供電以沿該第一或第二導軌 推動該基材托架。 1 3 ·如申請專利範圍第1 1或1 2項的輸送機總成，其 中該驅動系統另包含： 一可驅動皮帶（116)，沿該第一或第二導軌 (1〇2，1 10)，及該基材托架（108)的至少一磁鐵（1 12 )可沿 其移動的鄰近位置設置，該皮帶係建構成與設於該基材托 -26- 201029903 架上的至少一磁鐵交互作用，以例如藉磁交互作用，沿該 第一或第二導軌拖曳該基材托架。 14.如上述申請專利範圍中任一項所述的輸送機總 成，另包含一基材托架交換單元（700)，設置於該處理軌 道或該回行軌道上，且建構成可將一基材托架（108)自沿 該軌道輸送的托架流動流移出，及/或將一基材托架 (1 08 )插入該托架流動流內而不中斷該流動流。 _ 1 5.如申請專利範圍第1 4項的輸送機總成，其中該 基材托架交換單元（700)包含： 一框架，可在第一位置及第二位置之間滑動； 第一交換器導軌部分及第二交換器導軌部分，均安裝 於該框架上； 其中當該基材托架交換單元設置於該處理軌道上時， 該第一導軌（102)包含兩區段，分別在該基材托架交換單 元的上游及下游延伸，且其中當該框架在其第一位置時， φ 該第一交換器導軌部分係對準該第一導軌（1 02)的兩區 段，且其中當該框架在其第二位置時，該第二交換器導軌 部分係對準該第一導軌的兩區段，使得在該框架的兩位置 中，存在有一連續的處理軌道，該處理軌道係由該第一導 軌（102)的兩區段及該第一及/或第二交換器導軌部分所界 定；或 其中當該基材托架交換單元設置於該回行軌道上時， 該第二導軌（110)包含兩區段，分別在該基材托架交換單 元的上游及下游延伸，且其中當該框架在其第一位置時， -27- 201029903 該第一交換器導軌部分係對準該第二導軌（110)的兩區 段’且其中當該框架在其第二位置時，該第二交換器導軌 部分係對準該第二導軌的兩區段，使得在該框架的兩位置 中，存在有一連續的回行軌道，該回行軌道係由該第二導 軌（110)的兩區段及該第一及/或第二交換器導軌部分所界 定。 1 6 ·如上述申請專利範圍中任一項所述的輸送機總 成’其中該處理軌道至少部分地延伸通過一經調節的環 境，例如真空環境。 1 7.如上述申請專利範圍中任一項所述的輸送機總 成，其中該回行軌道至少部分地延伸通過一大氣環境，例 如與一處理軌道的環境相隔開者。 1 8 · —種基材處理系統（8 00)，包含： 一裝載站（802)，用以將至少一基材裝載於該基材托 架上； —或更多的處理站（8〇6，808); 一卸料站（8 12)，用以將基材自該基材托架移除；及 如上述申請專利範圍中任一項所述的輸送機總成 (100) ° 19.如申請專利範圍第18項的基材處理系統，另包 含： 第一負荷閘（804);及 第二負荷閘（810); 該第一及第二負荷閘係建構成可將一其中設有一或更 -28- .201029903 多處理站的經調節環境，例如真空環境加以密封。 20. —種用以輸送一基材托架（108)的方法，包含下 列步驟： 提供一基材托架（108); 將該基材托架定位於第一方位； 沿第一軌道輸送該基材托架；及 繞一實質水平軸線轉動該基材托架至第二方位。 φ 2 1 ·如申請專利範圍第2 0項的方法，另包含下列步 驟： 在第二方位上沿第二軌道輸送該基材托架（1 0 8 ); 繞一實質水平軸線轉動該基材托架回到其第一方位。 22. 如申請專利範圍第20至21項中任一項所述的方 法，其中該第一方位對應於該基材托架（108)的一至少部 分成水平定向的基材載運表面（109)。 23. 如申請專利範圍第20至22項中任一項所述的方 φ 法，其中該基材托架係建構成載運至少一實質上平坦的基 材，例如半導體晶片。 24. 如申請專利範圍第20至23項中任一項所述的方 法，其中由該第一方位出發的該第二方位是藉在70及 2 70度之間的角度範圍內的旋轉所獲得的。 25. 如申請專利範圍第24項所述的方法，其中由該 第一方位出發的該第二方位是藉在70及120度之間的角 度範圍內的旋轉所獲得的。 26. 如申請專利範圍第2 0至2 5項中任一項所述的方 -29 - 201029903 法’其中該第一及第二軌道係相連接以形成一循環路徑， 該基材托架（〗〇 8)可沿該循環路徑連續地輸送。 27·如申請專利範圍第26項所述的方法，其中藉將 該基材托架（108)環繞介於其第一及第二方位之間的實質 水平軸線轉動，而將該基材托架（108)由第一軌道傳輸至 第二軌道上，反之亦然。 2 8.如申g靑專利範圍第2 0至2 7項中任一項所述的方 法’其中該第一軌道係設置於第二軌道的實質上方或下 方。 29 如申請專利範圍第2 0至2 8項中任一項所述的方 法’其中將該基材托架（108)由該第一方位轉動至該第二 方位涉及將該基材托架在該第一及第二方位之間，及/或 一或更多的中間方位之間來回轉動，以搖擺該基材托架。 3 0.如申請專利範圍第2 0至2 9項中任一項所述的方 法’另包含對該基材托架（1 〇 8 )施予一氣體流，例如空氣 流的步驟。 3 1 ·如申請專利範圍第2〇至3〇項中任一項所述的方 法’另包含對該基材托架（丨〇 8 )施予振動，以將任何污染 物自該基材托架逐出。 3 2.如申請專利範圍第20至3 1項中任一項所述的方 法’另包含將尤其是由於該基材托架（108)方位的改變， 或由於另一種將材料自該基材托架逐出的特定作用所致， 而自其上掉落的任何材料加以收集的步驟。 3 3 .如申請專利範圍第2 0至3 2項中任一項所述的方 -30- 201029903 法，另包含處理設置於該基材托萍 其中將該基材托架（108)自其第一 @作用，是在經適當處理的基材已 才執行的。 34.如申請專利範圍第20至 法’其中該第一軌道及/或該第二 過一經調節的環境，例如真空環境 丨上的一或更多的基材， 方位轉動至其第二方位 自該基材托架移除之後 3 3項中任一項所述的方 軌道至少部分地延伸通