TW201002136A - Manufacturing method of organic electroluminescence element, organic electroluminescence element and display device - Google Patents
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Description
201002136 D 1 uu^pil.doc 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明關於一種有機電致發光元件
Electro-Luminescence Element,以卞,古士 v Urganic 的製造方法、使用該製造方^有^ 件、以及包含上述有機EL元件的顯示裝置。機EL元 【先前技術】 & 眾所周知,有機EL元件的基本結 (雜或者陰極)、第二電極(陰極或者陽:括二電J 該些電極_有機發光層。上述結 於 =層而相對向的電極間流通電流, 板,tUf用有機EL兀件的顯示裝置中使用顯示面 於該經圖Hd述弟一電極形成為微細的圖案’且 形成光_壁是11由在上述第—賴圖案上 (Photolithography) 化$成。於由多個隔離壁包圍之内部,露出 蓥極,且該區域成為像素區域。 的方法各像素區域形成膜厚為100 nm左右的有機發光層 作、雨a有使用真空蒸錢(vacuum evaPorati〇n )法的方法’ 吊而s ’因能高精度且高效地形成層(成膜),故使用 4 201002136 3iUU2pit.doc 濕塗膜(wet coating)法。該濕塗膜法中’將有機發光材 料溶解於溶射*製成塗佈;^,且雜塗麵選擇^地余 佈於上述像素區域。該選擇性塗佈巾,可使用凸版印刷法= 喷墨印刷(inkjetprinting)法等的印刷法(例如& 文獻1)。 一、 專利文獻1 :日本專利特開2006-286243妒公郝 利文獻1中所述,對像素區域,利用凸版印刷法 發光油墨而形成有機發光層的方法,能夠高效地 衣仏有機EL兀件,但經過本發明者等人的研究可知,尚 存在以下欲解決的問題。 士而:= :目的在於:為了防止不同像素間流通電 :及氣絕緣性(以下’有時稱作絕緣性); ^使各像素區域内能保持塗佈液,從而可利用塗佈法 有機發光層。為了使像素間確實保持 的像素區域,較好的是使隔離壁的寬度尺寸 =破上述相反的要求,則隔離壁經設計且形成 二;^且劃分成面積儘量大的像素區域。若自 的Ϊ狀:由:離以文獻1中雖對隔離壁 但所得的理想,域的形狀為形狀無評細記載, 有角部的關面較平70件中,像素區域形成為不具 所包圍的像素區域形狀。其原因在於’於由隔離壁 為具有角部的形狀的情形時,當向 201002136 j I UU2piI.doc 塗:油墨時,有機發光油墨有可能無 法到ft卩而導致角部殘留有未塗佈區域。 Λ ίΐ上所述像素區域中殘留有未塗佈區域,則像素區 域内=存在未被有機發光層覆蓋的部分,從而可能會導致 該像素區域發光不良。因此,先前的有機EL元件中,將 ί隔離壁成的像素區域軸絲角部的職。結果, 實際設計的像素區域會比理想像素區域的佔據面積小,立 等相至的面積找由設成平緩的内壁面而減少的角部的面 積。 顯 上述問題特別是於使用噴墨印刷法作為印刷法時較明 另外’例如主動矩陣(activematrix)型有機EL元件 中,理想的是如圖1所示,薄膜電晶體(Thin Film TFT)元件與配線(未圖示)被絕緣性隔離壁 1覆盍,该絕緣性隔_丨除外的區域形成為像素。 於由隔離壁1劃分成的像素區域2的底面上,露出 極3 ’從而構成像素電極3a。像素區域相對於有機豇二 件的配置輯的比例^扣率),較好的是儘量高。= 在於,開ϋ率越高則單位面積的發光崎越大,结果 提高具有多個有機EL元件的裝置整體的發光量。口犯 由隔離壁1劃分成的像素區域2的形狀較 希 蓋除TFT讀之外的儘量大的面積。若依據 ^覆 計,則像素區域2如圖1所示,多數情 、、‘皁表设 或橢圓形等單純的形狀,而是矩形的二形
201002136 31002pif.doc 成為連接著小面積矩形的特殊形狀。如 2的特殊形狀,可絲為整體具有多個角部素區域 然而,由於與上述原因相同的原因,如 ^ =多個上述角部c的像素區域2印刷有機發:由: ’則?素區域2的多個角部c會殘留為未塗佈油墨的部分= 故而,若對角部進行倒角處理而使其變得平° =率降低,但先前即使於主動矩陣型有機EL元件的产二 離壁劃分成的像素區域的形狀通常亦形成為:有 千緩内壁面的無角部的形狀。 巧八另 【發明内容] 本發明是鑒於上述先前技術的情況而研製,苴 於提供一種不會產生未塗佈部分且能增大開口率的有機 =元件的製造方法、以及藉由該製造方法而獲得的有機 tL元件及顯示裝置。 如為解決上述問題,本發明者反覆進行銳意的實驗及研 九、、、σ果备現,通常難以在不產生未塗佈部分的情況下對 具有角部的像素區域塗佈有機發光油墨,但若自多種塗佈 去中選擇使用凸版印刷法來塗佈含有機發光材料及溶劑的 有機發光油墨,則可在不產生未塗佈部分的情況下對具有 角部的像素區域塗佈有機發光油墨。 本發明為解決上述問題,而基於上述觀點來提供採用 如下構成的有機電致發光元件的製造方法、有機電致發光 元件以及顯示裝置。 [1]一種有機電致發光元件的製造方法,該有機電致發 7 201002136 31UU2pii.doc 光^牛是在基板上至少積層陰極、陽極、及 有機發光層而構成,該有機電致發光= η在於包括以下步驟:隔離壁形成步驟,於 極的基板上,由隔離壁割分成具有角部的形狀的 設置的隔離===,於包圍像素區域而 本,^\上+蝴中所述之有機電致發光元件的製造方 /,/、中上述有機發光油墨中使用濟點溫度大於等於· °c的溶劑,而且將上述凸版印刷中制的版的凸面的寬度 尺寸设定成小於上述像素區域的寬度尺寸。 [3]如上述[2]中所述之有機電致發光元件的製造方 法,其巾將上述凸版印刷巾使用的版的凸㈣寬度尺寸^ 没疋成上述像素區域的寬度尺寸的〜%%。 、[4]如上述[1]中所述之有機電致發光元件的製造方 法,其中上述有機發光油墨中使用沸點溫度低於2㈨。C的 溶劑,而且將上述凸版印刷中使用的版的凸面的 設定成大於上述像素區域的寬度尺寸。 又 [5] 如上述[4]中所述之有機電致發光元件的製造方 法’其中將上述凸版印刷中使用的版的凸面的寬度尺寸h 設定成大於上述像素區域的寬度尺寸L2、且小於丨(上述 寬度尺寸1^) + (上述隔離壁的寬度尺寸乙2) /2}。 [6] 如上述[1]〜[5]中任一項所述之有機電致發光元件 的製造方法,其中上述凸版印刷中使用的版的凸面 著 201002136 310U2pif.doc 依序按壓至被印刷物上的方向而形成為條紋(strip〇狀。 [7] 如上述[1]〜[6]中任一項所述之有機電致發光元件 的製造方法,其中有機發光層形成步驟中,將與多色相對 應的多種油墨作為上述有機發光油墨而選擇性地塗佈於規 定的隔離壁内,從而分別形成至少構成紅、綠、鉉二 素的有機發光層。 | 一 [8] —種有機電致發光元件,其是使用上述[1]〜
任一項所述之製造方法而獲得。 光元=卜種齡裝置,其包含上述附所述之有機電致發 L赞明之效果] 根據本發明之製造方法,例如,杏 率而Γ為具有角部的形狀的像素區域塗;有機發: 根據本發明,能獲得—種發光面^因t ==積的發-增大 構進行說明:、然後,對本的有機EL元件的結 進行更詳細的說明。此外 ^機EL元件的製造方法 比例有時與實際不同。 =明的圖式中,各構件的 有機EL元件上亦存在電極 9 201002136 jwuzpn.doc 的導線(lead)等構件,作苴萆 係,故省略相關記载及圖;關 明中亦同樣。 q武及其說 ^所述’本發明之有機EL元件的製造 基板上勿別至少積層陰極、陽極、及位於 :於 之間的有機發光層”造有機電致發光元件,接 ,件,方法的特徵在於包括有機發光層形成步有:BL 步射’於自基板的厚度方向的一方觀察時包 1 素區域而設置的隔離壁内,利法 ====== 域是由隔離壁的内周面規定的區域。、 像素區 (基板) 機物輸反只要於形成電極、形成有 ^物料不會抑即可,例如可制 膜、石夕基板、將上述物f積層而成的 進 使用對塑膠、高分子膜等實施低透水;^二2其亦可 上返基板可使用市售的基板,亦可按照公知的方法^: (電極及發光層) 極EL元件是至少積層陽極、陰極、及位於上述陽 極中而構成。另外,至少陽極及陰 ㈣:二=::成。上述發光層 有機EL元件中,亦可於陽極與之間設置多㈣ 10 201002136 31002pif.doc 亦可设置發光層以外的層。以下,有時將設於陰 層之間的層稱作陰極側中間層(inter layer),將 ° 又於2極,發光層之間的層稱作陽極側中間層。 、 ;~極與發光層之間的陽極侧中間層,可列舉電洞 3電〆同傳輸層、電子阻擔層(electron blocking layer) Γ 的功^ ί m層是具有改善來自陰極的電洞注入效率 声或老η上述電洞傳輸層是指具有改善來自電洞注入 4: 3極更近的層(電洞傳輸層)的電洞注入的功 電洞注人層或者電洞傳輸層具有阻止傳 二止傳的SI將該些層稱作電子阻擋層。當具 元件,根效, 層’電子 的功自陰極的電子注入效率 層或者距離陰極更近的層 _ = 4自電子注入 能的層。另外,層)的電子注入的功 電洞的功能時,;二將輸層具有阻止傳輸 阻止傳輪電_魏時,例如可製作僅 curr==件,輯該電流_減少來確雛 列舉:與陰極之間的各層的積層構成,可 於%極與發先層之間設置電祠傳輸層的構成、於陰 201002136 31002pif.doc 極與發光層之間設置電子傳輸層的構成、於陰極與發光芦 之間設置電子傳輸層且於陽極與發光層之間設置電^傳^ 層的構成等。例如,具體而言可列舉以下a)〜d)的積^ a) 陽極/發光層/陰極 b) 陽極/電洞傳輸層/發光層/陰極 c) 陽極/發光層/電子傳輸層/陰極 d) 陽極/電洞傳輸層/發光層/電子傳輪層/陰極 (此處’/表示各層相鄰接地積層。以下相同。) 上述構成中,如上所述,發光層是指具有發 層’電洞傳輸層純具有傳輸電洞的功能的層, 層是指具有傳輸電子的功能的層。此外,有時亦將電子^ 輸層與電洞傳輸層統稱為電荷傳輸層1光層、電 層、電子傳輸層可分別獨立地使用兩層或兩層以上。另外剛 在與電極相鄰接而設的電荷傳輸層中,有時將具有改善來 自電極的電荷注人效率的功能、具有降低元件的驅動^ 的效果的電荷傳輸層特別稱作電荷注入層(電 電子注入層)。 m、 —進而,可為了提高與電極的密著性或改善來自電極 ,而與電極相鄰接地設置上述電荷注人層或者膜 4於2 nm的絕緣層,另外亦可為了提高界面的密 3、防錢合等,而於電荷傳輸層或發光層的界面插入 孕:涛的緩衝層(bufferlayer)。關於層的 及各層的厚度,可考慮到發光效率及元件壽4適 201002136 3 lUU2pif.doc 定。 的有= 设置著電荷注人層(電子注人層、電洞注入層) 爲」70件’可列舉與陰極相鄰接而設置著電荷注曰入 機EL TL件、與陽極相鄰接而置著電 有機EL元件。你丨‘曰舰 屯^王入層的 結構。 ^如’具體而言可列舉以下的e)〜p)的 Ο,極/電荷注入層/發光層/陰極 f)=極/發光層/電荷注入層/陰極 陽極/電荷注入層/發光層/電荷注入層/陰極 ,極/電荷 >主入層/電洞傳輸層/發光層/陰極 1、,極/電洞傳輸層/發光層/電荷注入層/陰極 陰極J陽極/電何注入層/電洞傳輪層/發光層/電荷注入層/ t /電荷注入層/發光層/電荷傳輸層/陰極 l) 祕/發光層/電子傳輸層/電荷注入層/陰極
L m) 喊•注人树⑽電子傳輸桃荷注入層/ 陰極 陰極 η )陽極、何〉主入層/電洞傳輪層/發光層,電荷傳輸層/ 〇)陽極/電洞傳輸層/發光層/電子傳輸層/電荷注入層/ 電荷極^注人胸洞傳細發光層/電子傳輸層/ (陽極) 13 201002136 Jiuuzpif.doc 上述陽極中,例如透明電極或者半透明電極可使用導 電率較高的金屬氧化物、金屬硫化物或金屬的薄膜,適宜
使用透過率較高的薄膜,且可根據所使用的有機層而適;J 地選擇使用。具體而言,可使用例如由氧化銦、氧化辞: 氧化錫、銦錫氧化物(Indium Tin 〇xide :簡稱為IT〇)、 銦鋅氧化物(Indium Zinc Oxide :簡稱為ΙΖ〇)、金、麵、 銀、及銅等形成的薄膜,其中,較好的是汀〇、 、、 化錫。 仏。、氣 ^ 該陽極可使用例如聚笨胺(P〇lyaniline) 衍生物、聚噻吩(polythiophene:)或其衍生物^、 膜。此外,亦可將由含有如下材料的混合 j 白勺缚膜用於陽極中,上述材料是選自上财機透明^ 中使用的材料、金屬氧化物、金屬硫化物、金 、 米管(c—nano-tube)等碳材料所組成的族群中^奈 —種或一種以上。 r的至少 進而,該陽極中亦可使用能反射光的材 好的是功函數大於等於3.。〜的金屬、 ::材料較 硫化物。 蜀羊U匕物、金屬 陽極的製作方法,例如可列舉真空墓 (sputtering)法、離子電鍛( 梦^ ;錢錢 法等。 鍍敷(Plating) 陽極的膜厚可考慮到光的透過性及 擇’例如為5nm〜!0 ,較好的是如適當地選 好的是20 nm〜500 nm D A m,更 14
201002136 31UU2pxf.doc (陽極侧中間層) 如上所述,於上述陽極與發光層之 電洞注入層、電洞傳輸層等陽極側中間層。視而要而積層 (電洞注入層) H 可如上所述’設於陽極與電洞傳輸層之 二= 光層之間。電润注入層的形成材料可適 田也使用么知的材料,並無特別限制。例如可列舉:苯基 匕(广:,㈣系、星爆狀胺(-——Ο系、酞 化青(phthai〇cyanine)系、腙(hydraz〇ne)衍生物、吟唑 (c—e)衍生物、三唑(triaz〇le)衍生物、咪唑 (mndazole)衍生物、具有胺基的噁二唑(_dia址)衍 生物:氧她、氧她、氧化鎢、氧化錮、氧摘、氧化 鋁等氧化物、非晶形碳(am〇rph〇us carb〇n)、聚苯胺、聚 噻吩衍生物等。 另外,上述電洞注入層的厚度較好的是5 nm〜3〇〇 nm 左右。當此厚度小於5 nm時,則有難以製造的傾向;另 方面,當此厚度超過3〇〇 nm時,則有驅動電壓及施加 於電洞注入層的電壓增大的傾向。 (電洞傳輸層) 電洞傳輸層的構成材料並無特別限制,例如可列舉: N,N'-二苯基-N,N'-二(3-甲基苯基)4,4'_二胺基聯苯 (N,N'-diphenyl-N,N,-di(3-methylphenyl)4,4,-diaminobiphen yl,TPD )、4W-雙[N-(l-萘基)-N-苯基胺基]聯笨 (4,4'-bis[N-(l-naphthyl)-N-phenylamino]biphenyl ^ NPB ) 15 201002136 l uuzpn'.doc 等芳香族贿生物、聚⑽十域其衍生物、聚魏或其 衍生物、側鏈或主鏈上具有芳香族胺的聚矽氧烷衍生物、 吡唑啉(pyrazoline)衍生物、芳胺(arylamine)衍生物、 1二苯乙稀(stiibene >衍生物、三苯基二胺 (tnphenylchamine)衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩 或其衍生物、聚芳胺或其衍生物、聚吡咯(p〇1rr〇ie) 或其衍生物、聚對苯乙炔或其衍生物、或者聚(2,5_噻吩乙 炔)(poly(2,5-thienylenevinylene))或其衍生物等。 上述材料中,電洞傳輸層中使用的電洞傳輸材料,較 好的是聚乙烯咔唑或其衍生物、聚矽烷或其衍生物、側鏈 或^主鏈上具有芳香族胺化合物基團的聚矽氧烷衍生物、聚 笨胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、聚芳胺或其 聚對苯乙炔或其衍生物、或者聚(2,5_噻吩乙炔)或其衍生物 等的高分子電洞傳輸材料,更好的是聚乙烯咔唑或其衍生 物:聚魏或其衍生物、觸或线±具有料族胺的聚 了氧烧衍生物。當採用低分子的電洞傳輪材料時,較好的 疋分散於高分子黏合劑(binder)中而使用。 電洞倾層厚度並錢別_,可根的設計而 、當變更’較好的是1麵〜_麵左右。若該厚度小於 ^述下限值,财難以製造、或者紐獲得充分的電洞傳 ,效果等傾向;另―方面,若該厚度超過上述上限值,則 有驅動電壓及施加於電洞傳輸層的電壓增大的傾向。故 而’電洞傳輸層的厚度如上所述,較好的是}腿〜誦 聰,更好的是2腦〜50。腿,更好的是5麵〜·腿。 16 201002136 31UU2pif.doc (有機發光層) 有機發光層通常主要含有發出螢光或者碟光 (低分子化合物及高分子化合物)。此外,亦可更含有 (d〇P ant)材料。本發明中可使用的有機發光層的形』鉍 ,’例如可列舉以下的色素系材料、金屬錯合物系材料、 高分子系材料、及摻雜材料等。
上述色素系材料,例如可列舉:甲環戊丙胺 (cyclopentamine )衍生物、四苯基丁二烯(她叩^吻 butadiene)衍生物化合物、三苯基胺衍生物、噁二唑衍生 物、°比°坐幷啥琳(Pyrazoloquinoline)衍生物、二苯乙稀其 苯(distyryl benzene )衍生物、二苯乙烯基芳烴 Uistyrylarylene)衍生物、喹σ丫啶酮(quinacrid〇ne)衍生 物、香豆素(coumarin)衍生物、吡咯(pyrrole)衍生物、 噻吩環(thiophene ring)化合物、吼啶環(pyridinering) 化合物、紫環酮(perinone)衍生物、花(perylene)衍生 物、募聚噻吩(oligothiophene)衍生物、噁二唑二聚物 (oxadiazole dimer)、咣唑啉二聚物(pyraz〇iine dimer)等。 上述金屬錯合物系材料,例如可列舉:銥錯合物、鉑 錯合物等具有自三重激發態(triplet excited state )之發光 的金屬錯合物、經基喧琳紹(alurniquinolinol)錯合物、經 基本并啥♦鈹(benzoquinolinol beryllium)錯合物、苯并 。惡唑鋅錯合物、苯并噻唑鋅錯合物、偶氮曱基鋅錯合物、 卟淋鋅(porphyrin zinc)錯合物、銪錯合物等金屬錯合物 等,該些金屬錯合物的中心金屬為Al、Zn、Be等或者Tb、 17 201002136 31 UU2pif.doc
Eu、Dy等稀土類金屬,而配位基上具有σ惡二唾、隹二唾 (thiadiazole)、苯基吼n定(phenyl pyridine)、笨基苯并咪 口坐(phenyl benzo imidazole)、喧琳(qUin〇line)結構等。 上述高分子系材料,例如可列舉:聚對笨乙炔衍生物、 聚噻吩衍生物、聚對苯衍生物、聚矽烷衍生物、聚乙炔衍 生物、聚芴(polyfluorene)衍生物、聚乙烯咔唑衍生物、 上述色素體或金屬錯合物系發光材料加以高分子化 的材料等。 于 上述有機發光層形成材料中發出藍色光的材料,例如 可歹]舉.一表乙稀基芳煙衍生物、喔二峻衍生物、及其等 =合物、聚乙稀十績生物、聚對苯衍生物、聚苟衍生 ^寺。其t,較好的是屬於高分子材料的聚乙射 物、聚對苯衍生物及聚芴衍生物等。 生 料,Cl卜二上,機發光層形成材料中發出綠色光的材 ' Ο如可列舉:啥口丫唆酉同衍生物、香豆素衍生物里 較:U對苯乙块街生物、聚苟衍生物等。其中: 物等。'疋屬於^子材料的聚對苯乙块衍生物、聚苟衍生 如可::;述tT成材料中發出紅色光· 物J 9五素衍生物、噻吩環化合物、及i等的取人 物' 聚對苯乙块衍生物、聚嗔 初U的水合 其中,較好物、聚苟衍生物等。 # 乂好的疋屬於尚分子材料的 嗟吩竹生物、聚苟衍生物等。才本乙炔何生物、聚 上述有機發光層中,亦可為了提高發光效率或改變其 18 201002136 31UU2pit.doc ,光波長等目的而添加摻賴。上麟雜劑例如可列舉: 茈衍生物、香豆素衍生物、紅螢婦(rubrene)衍生物、喹 十疋=魅物、角㈣鑌(squalilium)衍生物、。卜琳衍生 物苯乙稀系色素、稠四苯(tetracene)衍生物“比唾琳 酮(pyrazolone)衍生物、十環烯(decacyclene)、吩噁嗪 酮(phenoxazone)等。 此外,上述有機發光層的厚度通常為2 nm〜200 nm。 (陰極側中間層) 如上所述,於上述發光層與後述之陰極之間,視需要 而積層電子注入層、電子傳輸層等的陰極側中間層。 (電子傳輸層) 電子傳輸層的形成材料可使用公知的材料,例如可列 舉心一坐竹生物、葱酉昆二曱烧(anthraquinodimethane ) 或其衍生物、苯醌(benzoquinone )或其衍生物、萘醌 (naphthoquinone )或其衍生物、蒽酿^ ( anthraqUin〇ne )或 其竹生物、四氧基葱酉昆二曱烧(沾raCyan〇 anthraquinodimethane)或其衍生物、苟_ (f[u〇ren〇ne)衍 生物、二苯基二氰乙烯(diphenyl dicyanoethylene)或其衍 生物、聯苯酿(diphenoquinone)衍生物、或者8-經基口奎 琳或其竹生物的金屬錯合物、聚啥琳或其衍生物、聚b奎嗔 啉(polyquinoxaline)或其衍生物、聚芴或其衍生物等。 上述材料中’較好的是噁二唑衍生物、苯醌或其衍生 物、恩醒或其衍生物、或者8_經基喧琳或其衍生物的金屬 錯合物、聚喹琳或其衍生物、聚喹噁琳或其衍生物、聚芴 19 201002136j i uu^pn.doc 或其衍生物,更好的是2-(4-聯苯基)_5_ (心第三丁 基)-U,44二唾、苯!昆、®醌、三㈣基賴;、2 淋。 土 (電子注入層) 電子注入層如上所述,設於電子频層轉極 或者發光層與陰極之間。電子注入層例如_種 類,可列舉:驗金屬或驗土金屬,或者含有_種^2 =上述金屬的合金,或者上述金屬的氧化物、南化 石厌酸化物,或者上述物質的混合物等。 勿及 上驗金屬或者其氧倾、自化物、魏錄的 列如可列舉:鐘、鈉、卸、勤、铯、氧化鍾、氣化鋰& 二氟化鉀、氧化鉀、氟化鉀、氧化铷、氟化 : 铯、氟化絶、碳酸鐘等。 、’軋化 子,2 =者物、"化物、碳酸化物的例 化舞、氟化』頷,:氧化鎮、氟化鎮、氧 鎂等。 羊貝、氟化鋇、氧化銘、氟化錦、碳酸 化合物、及有屬、金屬氧化物、金屬鹽的有機金屬 可㈣電子注入物化合物、或者其等的現合物亦 積層結具有由兩層或兩層以上積層而成的 藉由蒸鍍、1 可列舉Ll/Ca^。該電子注入芦可 該Ϊ法、鱗法、印刷法等而形成。 了 兔子左入層的膜厚較好的是lnm〜1 _左右。 20 201002136 31002pif.doc U罢極;) 陰極的材料較好的是功 電子的材料及/或導電率 j 作光層注入 高的材料。上雜心;i 6材料及/或可見光反射率較 氧化物、合金材料,具體而言可列舉:金屬ίΪ f; c 化辞(蝴等或者石墨層間化合物、: 屬或屬n::r屬、過渡金 m鋪二=、锡,鏡、銳、辞、-、 金:少一種上述金屬的合 終銘合金等。^金、鋰·鎂合金,·銦合金、 極可視需要而設為翻電極或半透明電極,上述電 ^=例如可列舉:氧化銦、氧化鋅、氧化錫、γγο、肋 聚苯胺或其衍生物、料吩或其衍生物 此外’亦可將陰極設為兩層或兩層以上的積層結構。 另外,有時亦將電子注人層用作陰極。 、陰極的膜厚可考慮到導電率或耐久性而通當選擇,例 如為lOnm〜1〇 ,較好的是,更好的 是 5〇nm〜500 nm。 21 201002136 31002pii.doc (上部密封膜) 當以上述方法形成陰極之後,為了保護具有陽極-發光 層-陰極的基本結構的發光功能部,而形成用於將該發光功 能部雄、封的上部密封膜。該上部密封膜通常具有至少一個 無機層及至少一個有機層。積層數可視需要而決定,基本 上疋無機層與有機層交替地積層。 此外,當使用塑膠基板作為上述基板時,即便發光功 能部被基板及上部㈣膜包覆,與翻基板概,塑膠基 板的氣體及液體的透過性亦更高,有機發光層等的發光物 質更易氧化,且接觸水後更容易劣化,因此於塑膠基板上 積層對氣體及液體的阻擋性較高的下部密封膜,然後,再 於該下部密封膜之上積層上述發光功能部。該下部密封膜 通常是以與上述上部密賊相同的構成、相_材料而形 成。 [有機EL元件的製造方法] 以下,對本發明之有機EL元件的製造方法進行更詳 細的說明。 (陽極形成步驟) 準備由上述的任-種基板材料形成的基板。當使 體及液體祕雜較高_縣板時,視需要而於 ^ 形成下部密封膜。 接著’於的Ϊ板上,使用上述的任-種陽極材料 來對陽極形成圖尔。㊂將該陽極作為透明電極時,如上 述,使用lT〇、IZ〇、氧化锡、氧化鋅、氧化銦、鋅魄 22 201002136 31 UU2pif.doc 合氧化物等的透明電極材料。 =叫利用罐於 然後利用光微影技術將其形成為線(line)狀圖安。、、 (隔離壁形成步驟) 木 2狀陽極形成之後,於形成著陽極的基板上塗佈感 光阻膜積層。該感光性材料(光阻组成物; 2佈’例如可制使用旋轉塗佈機(spin 、棒塗 佈機(barC0ater)、輥塗佈機(r〇llc〇齡)、模 —、凹版塗佈機(gravure c〇ater)、狹縫塗⑽
相㈣絲進行。接著,對該紘_用光微影 技術來進案化處理,從而形成具有絕緣性的隔離壁。 該隔離壁形成過程中的圖案化處王里中所使用的光罩 ^Photomask) ’是設計出用以獲得使像素電極的開口率儘 里大的像素區域的隔離壁形狀,且基於此而製作的。通常, 由隔離壁tj分成的像素區域成為矩形,但當作為製作對象 的有機EL元件是用於主動矩陣型基板中的元件時,依據 上述標準所設計的像素區域的形狀通常成為如圖i或者圖 2所示的具有多個角部c的特殊形狀。上述具有多個角部ε 的特殊形狀的區域則成為像素區域2 ,由該像素區域2所 規定的像素電極3a的開口率經設計成在進行配線及TFT 兀件的絕緣被覆、以及電極間絕緣等必要絕緣的條件下成 為最大值。 形成上述絕緣性隔離壁1的絕緣性感光性材料,可使 用正型光阻劑、負型光阻劑中的任一種。隔離壁重要的是 201002136 31002pif.doc 具有絕緣性,當不具有絕緣性時,有 的像素間流通電流而產生齡不良有導致相互不同 •構,隔離壁1的感光性材料’具體而言,例如可列 胺系:丙烯酸樹脂系、酚酸清漆樹脂系的各感 光性化合物。此外,為了提高有機EL元件的顯干 該感光性材料中亦可含有表現出遮光性的材料。13 、 -為了使該絕緣性隔離壁i的表面具有斥墨性,亦可向 隔離壁形成㈣紐材料幡加斥紐物f。或者,亦可 於形成絕緣㈣離壁之後,於其表面覆蓋斥墨性物質了藉 此使隔離壁表面具有斥墨性。該斥墨性較好的是對後述^ 中間層用的油墨、及有機發光制的油墨均具有排斥性。 向上述感光性材料中添加斥墨性物質時使用的斥黑性 化合物,可使_如⑪氧系化合物或者含氟化合物。ς些 斥墨性化合物對後述之有機發光層形成時所使用的有機發 光油墨(塗佈液)、及用於電洞傳輸層等中間層的有機材料 油墨(塗佈液)兩者均表現出斥墨性,故而可適宜使用。 、+在隔離壁1形成之後於隔離壁1的表面上形成斥墨性 被膜的方法,例如可列舉:將含有斥墨性成分的塗佈^塗 ,於隔離壁表面的方法、藉由將隔離壁表面的有機材料的 Β此基以氟取代而對表面進行改性的方法、使斥墨性成分 氣化後堆積於隔離壁表面的方法等。具體而言,$列舉將 Cp4氣體用作導入氣體的電漿處理。與基板及電極等相 比’有機物的隔離壁容易被CF4氣體氟化,可藉由電漿處 理來選擇性地對隔離壁表面進行斥墨化處理。 24 201002136 j i wuzpif.doc (陽極側中間層形成步驟) 電洞 於絕緣性隔離壁形成 傳輸層等的有機材料屏^視而要而升y成上迷的 材4層(陽極側中間層)。 險和侧中間層的成膜方法 的方法。科,就黏合綱齡溶液而成膜 成膜的方法。1材糾言’例如可列舉由溶液而
芦二時使用的溶劑只要能溶解上述陽極侧中間 曰用的材騎可,並鋪職制。上述溶 氣仿、二氯甲烷、二蔔 / 〜平. 一氯烷專虱糸溶劑,四氳呋喃等醚系 甲本、H等芳香族煙系溶劑,丙酮 = 乙酸⑽、乙酸丁_、乙基溶纖劑乙酸; 寻酯糸溶劑。 、上述由溶液成朗方法,例如可列舉:利用溶液的旋 轉塗佈(spm Coat)法、洗鑄(casting)法、微凹版塗佈 (micro-gravure coat)法、凹版塗佈法、棒塗佈法、輕塗 佈法、線棒塗佈(wirebarc〇at)法、浸潰塗佈法、狹縫塗 佈(slit coat)法、毛細管塗佈(capiilary⑶泔)法、喷塗 (spray coat)法、噴嘴塗佈(nozziec〇at)法等的塗佈法, 及凹版印刷、網版(screen)印刷法、柔版(flex〇)印刷 法、套版(offset)印刷法、反轉印刷法、噴墨印刷法等的 印刷法等的塗佈法。自容易形成圖案的方面考慮,較好的 是凹版印刷法、網版印刷法、柔版印刷法、套版印刷法、 反轉印刷法、喷墨印刷法等的印刷法,其中,特別好的是 25 201002136 31UU2pii.doc 於形成後述之有機發光層時用於塗佈有機發光油墨的凸麻 印刷。 所混合的高分子黏合劑較好的是不會嚴重阻礙電荷得 輸的黏合劑丄另外,對可見光的吸收並不強的黏合劑適多 使用。上述高分子黏合劑,例如可列舉:聚碳㈣、聚兩 稀酸醋、聚丙稀酸甲s旨、聚甲基丙烯酸甲醋、聚苯乙稀、 聚氣乙烯'聚矽氧烷等。 當利用上述塗佈方法將㈣液塗佈於基板整個面> %,有時塗佈液會㈣於上相_上,但糾,隔離寥 士液會被隔離壁的表面排斥,而落入由隔離壁· m域内,從而於各像素區域内形成為塗佈膜。斧 素區域内的塗佈膜藉由乾燥而成 揮其功能。 (有機發光層形成步驟) 接著,實施有機發光層的形成步驟。 的成於由上述_-== 使用r 像素區域㈣麵發光油墨,拆 使用=印刷法。該凸版印刷更好的是柔版印刷。 兩二二凸具體順序較好的是使用下- 述較好的凸版印獅第—方法巾,上述有機菸#、由 墨令使用彿點溫度大於等於贿的,先油 的寬度尺寸。具㈣言,如圖3所示,像素區域 田為了於形成有圖 26 201002136 3IUU2pif.doc 案的電極(陽極或者陰極中的任一個)3的基板W 所述形成隔離壁i所獲得的像素區域2塗佈有機 Μ 4’而進行凸版印刷時,將使用的凸版^的凸部^凸= ❿的寬度尺寸i】設定成上述像素區域2的寬度尺寸 99%〜50%。此處.,所謂凸面12a的寬 序按壓至被印刷物(基板)的方向垂直的方向上凸的版^依 例如,當凸版11為圓筒狀且圍繞軸線旋轉時,上 =的寬度是指與該凸版u的關方向垂直_線方向上 、見又。另外’所謂像素區域2的寬度是指 墨的印刷方向垂直的寬度。 ’機發九油 u 當使用含有沸點大於等於200t的高濟點溶劑來 有機發光油墨4之溶劑的乾燥速度較慢的柔版印刷用油黑 時,如上所述,將凸版印刷版„的凸面12a的寬度尺二 定成小於像素區域2的寬度尺寸L〗,如圖4所示,使^ ,凸版印刷版11將有機發光油墨4塗佈於像素區域2 者於凸版印刷版11的凸面12a上的有機發光油墨4接觸於 像素區域2的底面,且由像素區域2的底面與上述凸面12a 夾住,如圖5所示,被按壓擴散於包括所有角部^在 整個像素區域2。結果,遍及整悔素區域2上均塗 油墨4。錢’如圖6所示’當凸版印刷版11離開基板, 則油墨4的表面藉由表面張力而變得平緩。而且,即使 由之後的乾燥(溶劑的蒸發),油墨4的黏度亦會增高,因曰 此油墨4與像素區域2的接觸線幾乎不移動,而形成良好 的有機發光層。 27 201002136 31U02pit'.doc 上述較好的凸版印刷的第一方法中’上述有機發光油 墨中使用沸點温度低於200°C的溶劑,而且將凸版印刷中 使用的版的凸面的寬度尺寸設定成大於上述像素區域的寬 度尺寸。具體而言,如圖7所示,將凸版印刷中使用的版 21的凸部22的凸面22a的寬度尺寸丨2設定成大於上述像 素區域2的寬度尺寸,且小於{(上述寬度尺寸Li) + (上述隔離壁1的寬度尺寸L2) /2}。 當使用含有沸點低於200〇C的低沸點溶劑來作為有機 發光油墨4之溶劑的乾燥速度較快的有機發光油墨時,如 上所述’將凸版印刷版21的凸面22a的寬度尺寸設定成大 於像素區域2的寬度尺寸Ll,然後如圖8所示,使用上述 凸版印刷版21將有機發光油墨4塗佈於像素區域2。附著 於凸版印刷版21的凸面22a上的有機發光油墨4接觸於像 素區域2的底面,且被像素區域2的底面及上述凸面2仏 夾住,如圖5所示,被按壓擴散於包括所有角部e在内的 整個像素區域2。結果,與上述第—方法相 區域2均塗滿油墨4。 王们像素 孩万法中,與上述第一方法不同,版21的凸面2 i的生塗佈至像素區域2之前成為半乾燥狀 心口此油墨4的延展性下降,故而將凸面2 尺寸丨2設定成大於像素區域2的寬度尺寸Μ。 I度 於半乾燥狀態㈣至像素區域2上的油墨 &即便 降’亦因凸面22a較寬而將油墨4按壓擴散於敕:士下 域2。然後,於半乾燥狀態下高黏度的油墨 28 201002136 j _zpii.doc 變緩,故而溶劑蒸發時接觸線幾 的有機發光層。 h衫動,從而形成良好 上述有機發光油墨是藉由將有機笋 地分散於溶劑中而製備。溶解或分材料溶解或穩定 劑,例如可列舉:甲笨、二1、欲該有機發光材料的溶 基綱、甲基異丁基酉同、環己酮等的甲謎、甲基乙 合溶劑。其中,甲苯、―早獨洛劑或者其等的混 對有機發光材料具有良好_:甲香族有機溶劑 上述溶劑中,沸點大於等於20〇m。… -(^ΐιη)^己基苯等,她_2⑻t滿 -甲本、苯甲峻等。上述第]〜本 發光油墨的溶劑中所占的「沸點方法中使用的有機 的調配量,可根據所使用 光材= 20〇c的溶劑」 狀等條件而適_切枓或像素區域的形 ο 用的有機發;二:所=第:凸版印刷方法中使 劑」的調配量,可拼的沸點低於200°C的溶 的形狀等條件而適當決定。用的有機發紐料或像素區域 此外,有機發光油墨中,市可、目+# 劑:氧節劑、紫二 加界面活性 凸版印刷中;=====好的是使用上述 201002136 31002pif.doc 例如,當凸版為圓筒狀且圍繞軸線旋轉時,該凸版的圓周 方向相當於依序按壓至被印刷物上的方向,各凸面使上述 圓周方向與各凸面的長邊方向大致一致,而沿著圓周方向 配置成條紋狀。 另外,於有機發光層形成步驟中,較好的是將與 相對應的多種油墨作為上述有機發光油墨而選擇性地塗佈 於規定的隔離壁内,從而分別形成至少構成紅、綠、該三 的有,,層。具體而言,例如可利用凸版印“ 有機發光油墨,接著利用凸版印刷來塗 It ϊ 的有機發光油墨,然後再利用凸版印刷來塗 綠、梦亦从女地 戈者亦可使分別發出紅、 轉印;光油墨附著於凸版的規定凸面上,進而 轉印有機發光油墨。 < (陰極側中間層形成步驟) 房式:上述有機發光層形成之後’視需要而形成電子傳輸 曰或电子>主入層等陰極側中間層。 ‘=側=層的形成方法於電子傳輸層的情形時並 艮制,就低分子電子傳輸材料而言,可例二V 末的真空蒸鐘法、或去 」例不利用叔 而就向分子電子傳輸材料而言,可、勺方法 用4=。!输或者炫融狀態成膜時,刪 用I 由洛液形成電子傳輸層的成膜方、X播 〃、上述由溶液形成電洞傳輪層 、彳 法。 7珉瞑方法相同的成膜 30 201002136 ^ 1 uuzpif.doc 另外’於電子注入層的情形時,可使用例如蒸链法、 濺鍍法、印刷法等而形成。 (陰極形成步驟) 陰極是使用上述的任一種材料,利用例如真空蒸鍍 法、濺鍍法、化學氣相沈積(Chemical Vapor Deposition, CVD)法、離子電鍵法、雷射剝蝕法(iaserabiati〇n)法、 以及對金屬薄膜進行壓接的層壓(laminate)法等而形成。
如上所述,當陰極形成之後,為保護具有陽極_發光層 -陰極的基本結構的發光功能部,而形成上部密封膜。該上 部密封膜視需要而由至少一個無機層及至少一個有機層構 成。該些層的積層數可視需要而決定,基本上是無機層與 有機層交替地積層。 〃 、本實施形態中的有機EL元件,可用作面狀光源、段 式顯不裝置(segment display device )及點矩陣(d〇t matrix ) 顯示裝置的光源、以及液晶顯示裝置的背光源(㈣
段弋:二^二:成王圖案狀發光的有機el元件來作為 門面狀光源的表面上 :部位的有機物層形成為極厚蚊其 將陽極及陰極中的至少任-電極形成為圖 31 201002136 31W2pil.doc 法。利用該些方法形成呈圖案狀發光的有機_ 、 且以能對若干電極選擇性地施加電壓的方式進行二j 此,亦能實現可顯示數字、文字及簡單符號等的段式 裝置°為了將上述有機a元件作為點轉顯示裝置的来' 源,例如只要將陽極及陰極分別形成為條紋狀,且以自 層方向的-方觀察時其等成相互正交的方式配置即可。、 此外,為了實現能進行部分彩色顯示、多色 (multi-c〇l〇r)顯示的點矩陣顯示裝置,例如只要採用區 分塗佈發光色不同的多種發光材料的方法、以及使用彩色 濾光片(color filter)以及螢光轉換濾光片等的方法即^。 點矩陣顯示裝置可為被動(passive)驅動,亦可與TF丁等 組合而主動驅動。 上述顯示裝置可用作電腦(c〇mputer )、電視 (tdeV1S1〇n )、移動終端、行動電話、汽車導航(car navigation )、攝像機(video camera)的取景器(脇打) 等的顯示裝置。 進而,上述面狀光源是較薄的自發光型光源,可用作 液晶I頁示裝置的背光源、或者面狀的照明用光源。另外, 亦可藉由使用可撓性(f|exibIe)基板而用作曲面狀的光源 或顯示裝置。 實施例 以下,對本發明的實施例進行說明,但以下所述的實 靶例僅疋用於對本發明進行說明的較佳例示,並非對本發 明進行任何限定。 32
201002136 iuu^pif.d〇C 以下所示的實施例中是以主 ^ % ^ -fc^ Αό -ir 車支有機EL元件作
為對象而貫細,但本每明之有機EL 限定於該驅動方式的有機EL 〕臬以方法並不 矩陣型等其他驅動方式的有機^件元件職亦可適用於被動 (實施例1 ) (基板的準備及陽極的形成) 首先,準備於200 mm (縱)X200酿!(横)x0 7匪 (厚)的透明玻璃板上形成著TFT陣列及陽極(^電 ^基板。形成ΠΧ)薄膜,進而進行圖案化處理,從而形成 i卞紋狀陽極。陽極的重複間隔(間距)為⑽鋒,陽極 (線寬)為70 相對於此,陽極間的間隔(間 隙見度)為10鋒(線/間隙=7〇雖/1〇輝)。自基板 的厚度方向的-方婦時,形成著像素的像耗域,於沿 们方向延伸的ιτο薄膜上沿著上述一個方向且隔著規定 的間隔而設置成島狀。 (隔離壁的形成) 接著,於上述基板的整個面上,使用旋轉塗佈法塗佈 正型光阻(東京應化工業(股)製造,商品名「OFPR-800」), 使該塗膜乾燥後,形成膜厚為1 //m的光阻層。 、然後,將於覆蓋TFT元件及其他配線的條件下使像素 區域達到最大的方式而設計的光罩,配置於上述光阻層之 上’使用對準曝光機(Alignment Exposure Machine)(大 日本網屏製造公司製造,商品名「MA1300」)且經由上述 41¾向上述光阻層照射紫外線(曝光步驟)。 33 201002136 31UU2pii.doc 、,fe上述曝先步驟之後,使用光阻 業(股)製造,商品名「_·3 ^ 光部(顯影步驟)。 」)除去上返先阻層的曝 接著,將上述玻璃基板置於加熱板(h ===㈣,使增觸蝴完全加熱固 猎由上述一糸列的光微影步驟而形成包圍形 的像素區域的隔離壁(有機絕緣層),於該隔離壁内部露出 陽極。所得的隔離壁線的寬度尺寸為20 ,高度尺寸 為1 #m。另外,各像素區域是具有多個角部且最大寬度 50 //mx最大長度150 /zm的特殊形狀。 置(SAMC0 對隔離壁進 然後’使用利用CF4氣體的真空電漿穿 InternationaUnc.製造,商品名「虹£_2〇〇乙」) 行斥液處理。 (陽極側中間層的形成) 接著,製備聚(3,4-二氧乙基嗟吩)/聚苯乙稀石黃酸 公司製造,商品名「BaytronP AI4083」)的懸浮液,且使 用0.2 //m的薄膜過濾器(membrane flher)來對該懸浮 液進行過濾。使用喷嘴塗佈法將該過濾液塗佈於上述^素 區域。接著’將該塗佈層以20〇t加熱處理2〇分鐘,從而 形成厚度為60 nm的電洞注入層。 (有機發光層的形成) 將作為有機發光材料的雨分子發光材料(公 司製造,商品名「RP158」)溶解於由苯甲醚及環己美苯以 34 201002136 jiuuzpif.doc 7 . 3的重量比混合而成的混合溶劑中,從而 油墨(高分子發光材料的濃度··〗重量百分比^卜x 使用的混合溶劑中的環已基苯的濟點大於等於n 苯甲醚的沸點低於2〇〇。〇。 ' L 且 將所使用的柔版印刷版(材質:聚醋系樹月旨’凸版凸 二的條紋形狀之凸部的凸面的寬度尺 開口部的寬度)5。㈣60%,即3。鋒== 且=ίο版)印:裝置(曰本寫真印刷公司製造,商品名 上1娜,以伽著於凸版的凸部上的 ^有機發光油墨對準像素區域,從而進行印刷 :像:上述凸面的按壓而擴散,且特殊形狀 即便===面均被有機發光油墨覆蓋’ 關於上述漏塗部的有無, :::製造’商品名「〇_二鏡:率= 認。於各^素區域内的有機發光層的形狀而進行確 及陽極侧“機發光油墨_分像素區域的隔離壁 角部在二光層成膜於包括所有 (陰極的形成) 舞來上、ί有機發光層^上’以ι〇0 α的厚度蒸錢 衣成,、有底部發光(bottom emission)結 35 201002136 31002pif.doc 構的有機EL元件。 當使以上述方法而獲得的有機EL元件發光時,可確 整個發光面的發光強度都均句,且私前產品相比, 單位面積的發光量亦得到提高。 (實施例2) /自準備基板起,直至藉由形成隔離壁來形成像素區域 而开/成電洞庄入層為止,均以與上述實施例相同的方式實 施,故而省略該些步驟的詳細說明,以下,對之後的有機 發光層的形成及後續步驟進行說明。 (有機發光層的形成) _ ,將作為有機發光材料的高分子發光材料(§_触公 司,造’商品名「RP158」)溶解於由二甲苯單獨構成的溶 劑中,而製成有機發光油墨(濃度:丨重量百分比,黏度: 10 cp)。此外,所使用的二甲苯的濟點低於2〇〇它。 立f所使用的柔版印刷版(材質:聚酉旨系樹脂,凸版凸 部的高度:100 /zm)的條紋形狀之凸部的凸面的寬度尺 寸'^疋成大於上述各像素區域的最大寬度(像素 口部的寬度)5〇_的60轉。使用該凸版,且】^ ,印刷I置(日本寫真印刷公司製造,商品名「舰_ =行位置調整,以使_於凸版的凸部上的上述有機^ 墨對準像素區域的電極露出部,從而進行印刷 ^有機發光油墨受到上述凸面的按壓而擴散,特殊形狀 、像素區域内的像素電極整個面均被有機發光油 即便乾燥後亦未產生漏塗部。 设幾, 36
201002136 31002pif.doc 康公h偏舰學顯微鏡(尼 二於各像素區域_有機發光層的形狀而進“ 間:=光油墨被劃分像素區域的隔心 角部在—像=光層成膜於包括所有 (弟一電極的形成) 舞來ίϊ第^述有機發光層之上,以刚1的厚度蒸鍍 ’、 電極(陰極),進而,以2000 A的厚 1呂來作為氧化鱗層。藉此,製成具有底部發 emission)結構的有機EL元件。 二使以上述方法而獲得的有機EL元件發光時,可確 =整個發絲的發光都均勻,且與先前產品相比, 早位面積的發光量亦得到提高。 [產業上之可利用性] 如上所述’本發明之有機EL元件的製造方法可製造 出有機舍光層不會產生塗佈不均、像素電極的開口率增大 的有2 EL凡件。藉由使用本發明之有機EL元件的製造方 法,_能獲得單位面積的發光量增大的發光特性優良的有機 EL元件及顯示裝置。 λ雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定 本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離 f發明之精神和範圍内,當可作些許之更動與潤飾,故本 毛明之保魏圍當視後附之t請專職H所界定者為準。 37 201002136 31002pif.doc 【圖式簡單說明】 圖1是表示有機EL元件製造過程中,當以使像素電 極的開口率達到最大的方式而設計絕緣性隔離壁的圖案時 所獲得的像素區域的形狀的—例的隔離壁形成面的平面構 成圖。 圖2是圖1的主要部分放大圖。 圖3用於說明當使用乾燥速度較慢的有機發光油墨、 =版印刷版的凸部的凸面的寬度設定成小於像素區域 的九度尺寸來進行本發明之有機a元件的製造方法中的 有機發光層形成步驟時的印刷步驟,而且圖中表示黑 接觸於像素區域之前的狀態。 土 圖4用於說明當使用乾燥速度較慢的有機發光油墨、 ^柔版印刷版的凸部的凸面的寬度設定成小於像素區域 ^見度尺寸來進行本發明之有機虹元件的製造方法中的 有機發光層形成步驟時的印刷步驟,而且,圖中表示使油 接觸於像素區域、以印刷版的凸面來按壓像素區域的 狀態。 圖5疋表不繼圖4所示的步驟之後的油墨塗佈狀態的 像素區域的平面圖。 圖6是表示繼圖4所示的步驟之後,柔版印刷版 且油墨已乾_狀態的有機a元件的基板賴剖面圖。 圖7用於況明田使用乾燥速度較快的有機發光油墨、 且將柔版印刷版的凸部的凸面的寬度設定成大於像素區域 的寬度尺寸來進行本發R有機a元件的製造方法中的 38 201002136 31002pif.doc 而且’圖中表示使油 有機發光層形成步驟時的印刷步驟 墨接觸於像素_之前的狀態。 且將:==1=燥速度較快的有機發光油墨、 的寬度尺寸來社技奴鼓於像素區域 有機發光層形成;驟;EL元件的製造方法中的 墨接觸於像素區域、且以£广驟’而且’圖中表不使油 狀綠/ 且以印刷版的凸面來按壓像素區域的 【主要元件符號說明】 1 :絕緣性隔離壁 2 :像素區域 3 :第一電極(陽極) 3a =像素電極 4:有機發光油墨 10 : 基板 11、 21 :凸版印刷版 12、 22 :凸版印刷版的凸部 12a、22a :凸部的凸面 c·像素區域的角部 1!、丨2 :凸版印刷中使用的版的凸面的寬度尺寸 L】:像素區域的寬度尺寸 & L2 :絕緣性隔離壁的寬度尺寸 39
Claims (1)
- 201002136 31002pif.doc 七、申請專利範圍·· 1. 一種有機電致發光元件的棠 光元件是在基板上至少積層陰極、、陽法及該有機電致發 與陽極之間的有機發光層而構成機=上述陰極 製造方法的特徵在於包細下U有㈣致發光元件的 隔離壁形成步驟,於具有一 劃分成具有角部的形狀的像素區域;=板上’由隔離壁 有機發光層形成步驟,於包圍 壁内,使用凸版印刷法而塗佈包 :二置的&離 有機發光油墨,從而形成有機發光層 溶劑的 制申利範圍第1項所敎有機電致發光元件的 W方法’「中上述有機發光油墨中使用彿點溫度大於等 於jOOC的溶劑,而且將上述凸版印刷中使用的版的凸面 的寬度尺寸設定成小於上述像素區域的寬度尺寸。 3.如申請專利範圍第2項所述之有機^致發光元件的 製造方法,其中將上述凸版印刷中使用的版的凸面的寬度 尺寸《又疋成上述像素區域的寬度尺寸的99%〜5〇y0。 4_如申請專利範圍第1項所述之有機電致發光元件的 製造方法,其中上述有機發光油墨中使用沸點溫度低於 200°C的溶劑,而且將上述凸版印刷中使用的版的凸面的寬 度尺寸設定成大於上述像素區域的寬度尺寸。 5.如申請專利範圍第4項所述之有機電致發光元件的 製造方法,其中將上述凸版印刷中使用的版的凸面的寬度 尺寸12設定成大於上述像素區域的寬度尺寸L2、且小於 40 201002136 31002pif.doc {(上述I度尺寸L]) + (上蜂隔離壁的寬度尺寸l2)/2}。 6·如申請專利範圍第〗項所述之有機電致發光元件的 製造方法’其巾上述凸版印财❹的版的凸面是沿著依 序按壓至被印刷物上的方向而形成為條紋狀。 ,二t申圍第1項所述之有機電致發光元件的 k方法,,、中於有機發光層形成步 η 翻多種,作為上述有機發光油墨 地 =:層從而分別形成至少構二、;= 8. —種有機電致發光元件,並是 1項所述之製造方法而獲得。 使用中請專利範圍第 9. 一種顯示裝置,其包含申請專〜 有機電致發光元件。 第8項所述之41
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