TW201000216A - Liquid blade capable of providing a substrate with a uniform waterfall - Google Patents

Description

201000216 九、發明說明： . 【發明所屬之技術領域】 . 本發明係關於一種液刀設備，尤指一種可提供一均勻流體水幕 至一基板之液刀設備。 【先前技術】 口在薄膜電晶體液晶顯示裝置（TFT_LCD)製程中，濕式姓刻製 程對於液晶面板的顯示品質有著相當重要的影響。 知，液刀設備10係具有至少一 以及一出水間隙14,注水口 12 相對應流體，而出水間隙14則 般而言’濕式_係使用-液刀設備來提供-去離子水或曰 液態化學^液水幕’藉以針對—基板進行清洗或是_，請參= 第1圖，第1圖為先前技術一液刀設備1〇之示意圖。由第工圖可 一注水口 12 (於第1圖中顯示4個）

6 201000216 . * 彩紋（MURA)的蝕刻缺陷（如第】曰戶厂 產品的顯示品質。此外，若有雜物堵目關 液刀設備1G所產生之流體水幕出 ㈣隙14中，也會使 制缺陷。 &料縣而纽更為明顯之 【發明内容】 本發明係提供-種液刀設備，其係可提供 基板，該液刀設備包含有-導流裝置，具有 -流迢’且韻-流道係與該第二流道平行設置並相互連通 第-流道具有-注水π，用於輪人—流體，該第二絲: 水口，用於排出該流體，在該第二流道與料—流道連通處俾升出 成有-緩衝空間’用於暫存自該第—流道流向該第二流道之紗 體；-第-整流裝置’絲整流進域第—流道之該流體；^ 一第二整流裝置，用來整流進入該第二流道之該流體。 【實施方式】 請參閱第2圖以及第3圖，第2圖為本發明第一實施例—液刀 設備50之示意圖，第3圖為第2圖液刀設備5〇内部結構之放大 示意圖。液刀設備50係用來提供一均勻流體水幕至一基板幻，、夜 刀設備50包含有一導流裝置54、一第一整流裝置56、—第二整 流裝置58，以及一擾流板60，其中由於第一整流裝置56以及第 二整流裝置58之實際結構係會在下列說明中進行詳細之描述，因 此第一整流裝置56以及第二整流裝置58在第3圖中僅以簡示圖 201000216 ^式=製’㈣置54具有—第—流道泣以及—第二流道糾， ' ^飢道62係實質上與第二流道&平行設置並相互連通’由 • * 2圖可知’第—流道62具有至少-注水口 66(於第2圖中顯示 ^ 66係用於輪入一流體，第二流道64具有一出水口 68 ’出水口 68係用於排出該流體，而在第二流道64與第-流道 ^2連通處係形成有—緩衝空間％，用於暫存自第—流道64流向 第一/m道64之3亥流體。第一整流裝置56係設置於第一流道62中。 第一整流裝置58係設置於第二流道64中。擾流板60係連接於第 一/;,L運64之—側壁72 ’擾流板60係與側壁72間具有一夾角Θ， 々此來擾々IL板6〇即可用來改變自出水口 68所溢出之該流體 之流動方向，藉以產生相對應之一流體水幕，上述夾角Θ之度數 係實質上介於145度至165度之間，其較佳值為157.5度，夾角㊀ 度數之決定端視實際應用而定。此外值得一提的是，上述擾流板 60亦可以可擺動之方式連接於第二流道64之側壁 72，如此即可 依據不同的製程需求而改變擾流板6〇與側壁72之間的夾角㊀之 度數，藉以產生不同角度的流體水幕。 首先係針對第一整流裝置56以及第二整流裝置58之結構進行 詳細之說明。請參閱第4圖，第4圖為第3圖第一整流裝置56之 分解示意圖。第一整流裝置56包含有一第一整流隔板74以及一 " 從屬整流隔板76。第一整流隔板74上係形成有複數個整流孔洞 78，而從屬整流隔板76係以可相對移動之方式疊合於第一整流隔 板74之一側，從屬整流隔板76上係形成有對應複數個整流孔洞 8 201000216 78之複數個從屬整流孔洞80，複數個整流孔洞％之尺寸係實質 上相同於複數個從屬整流孔洞80之尺寸，接著請參閱第5圖，第 5圖為第4圖第-整流隔板74疊合於從屬整流隔板76上且從屬整 流隔板76相對第一整流隔板74滑動之示意圖。如第5圖可知， 在從屬整流隔板76相對第一整流隔板74向下滑動一段距離後， 從屬整流隔板76上之複數個從屬整流孔洞8〇係與第一整流隔板 74上之複數個整流孔洞78部份或全部重疊，如此即可縮減該流體 所能通過的流量以及減緩該流體之流動速度，也就是說，第一整 "IL裝置56係可藉由從屬整流隔板76與第一整流隔板％之相對移 動來控制通過第-整流裝置56之該越的流量與流動速度，藉以 達到整流的效果，上述從屬整流隔板76相對第一整流隔板74之 移動里則是依實際細需求*定，意即可依據自注水卩66所注入 之該流體之流量大小而有所增減。此外，從屬整流隔板76之結構 係可不受上述之限制’只要是可用來與第一整流隔板74上之複數 個整流孔洞78部份或全部重疊之結構設計均可應用於本發明之實 施例中’舉例來說’請參閱第6圖，第6圖為本發明另一實施例 第-整流隔板74疊合於—從屬整流隔板82上且從屬整流隔板82 相對第-整流隔板74滑動之示意圖，由第6圖可知，從屬整流隔 板82與從屬整流隔板76不同之處在於結構之設計，相較於從屬 整流隔板76具有複數個從属整流孔洞⑽之結構設計，從屬整流 板82則是改為具有複數個彼此平行排列之擋板糾（於第6圖中 _ 4個）’ #板84之作動與上述實施例相似，在從屬整流隔板 82相對第-整流隔板74向下滑動一段距離後，從屬整流隔板幻 9 201000216 上之複數個私板84係與第一整流隔板％上之複數個整流孔洞％ 部份或全部重疊’如此即可縮_流體職通過的流量以及減緩 該流體之流動速度，也就是說，第一整流裝置兄係可藉由從屬整 流隔板8 2與第-整流祕74之減轉*翻财第—整流裝 置56之該流體的流量與流魄度，藉輯到整流的效果。同理， 明參閱第7圖’第7圖為第3圖第二整流裝置58之分解示意圖， 第mi衣置58包§有一第—整流隔板86以及一從屬整流隔板 88。第一整流隔板86上係形成有複數個整流孔洞9〇,而從屬整流 隔板88係以可相對移動之方式疊合於第二整流隔板％下方，從 屬整流隔板88上係形成有對應複數健流制％之複數個從屬 整流孔洞92 ’複數健流孔洞9〇之尺寸騎f上相陳複數個從 屬整流孔洞92之尺寸，如此一來，第二整流裝置％係可藉由第 二整流隔86以及從屬整流隔板88之相對移動以使第二流道64 中之該流體可均勻地自出水口68溢出，而由於第二整流裝置兄 的作動係與第一整流裝置56相似，故於此不再贅述。此外，上述 第6圖所提及之從屬整流隔板之結構變化亦可_於第二整流裝 置58中。 接下來係針對液刀設備5〇之作_理進辟細之說明。請參 閱第8圖’ _為第3圖液刀設備㈣剖面_，之刹面示意 I ^中由於第-整流裝置56以及第二整流裝置％之實際結構 ^在上述巾詳㈣，耻第—整流裝置％以及第二整流裝 在弟8圖中僅以簡示圖之方辆製，由第8圖可知，上述之 10 201000216 該流體係由位於第一流道62上方之注水口 66注入第一流道62 . 中’而由上述可知，該流體之流動速度係會在該流體在第一流道 62内流經第一整流裝置56後而有所減緩，進而使該流體以較慢之 流動速度進入位於第一流道62以及第二流道64之間的緩衝空間 70中’接下來’在該流體自緩衝空間70流往第二流道64且到達 第二整流裝置58後，在緩衝空間70以及第二流道64内因該流體 流向之改變所產生的紊流即可在該流體通過第二整流裝置5 8後消 除’因此’該流體即可均勻地自第二流道64之出水口 68溢出， 換句話說，於本發明之實施例中，該流體係自注水口 66注入並依 序流經第一流道62、緩衝空間70以及第二流道64，其間因受到 注水口 66之注入位置的影響而產生的壓力不均之現象以及因該流 體之流向改變與過快的流動速度所產生的紊流係可透過第—整流 裝置56以及第二整流裝置58而消除，進而使得該流體係可從第 二流道64之出水口 68均勻地向外溢出，最後在流經與第二流道 l 64之側壁72形成有夾角θ的擾流板6〇後，液刀設備5〇就可以 提供與基板52呈-夾角的一均勻流體水幕至基板52，以進行後續 的I虫刻或清洗流程。 只 第 上述液刀設備之内部結構係可不限於上述實施例之設計，亦， 變更，其他同樣具有整流功能之結構設計，舉例來說，請參閱第 圖，第9圖為本發明第二實施例液刀設備⑽之剖面示音圖， :實施例中所述的元件與第—實施例中所述的元件編號=者， 表不其具有相似的功能或相對位置，於此不再贅述。液刀設備咖 201000216 與第一實施例的液刀設備50不同之處在於整流裝置的設計。液刀 設備100包含有第一流道62、第二流道64、一第一整流裝置102、 一第二整流裝置104，以及擾流板60。第一整流裝置1〇2以及第 二整流裝置104分別包含有複數個導流斜板1〇6、1〇8，由第9圖 可知，複數個導流斜板106、108係分別以向下傾斜且交錯排列之 方式設置於第一流道62以及第二流道64内，如此一來，自第一 流道62之注水口 66注入之流體係可藉由依序流經複數個導流斜 板106、108之方式而減緩其流動速度，進而使該流體同樣可自第 一Lil道64之出水口 68均勻地溢出，換句話說，於第二實施例中， 該流體係自注水口 66注入並依序流經第一流道62、緩衝空間70 以及第一流道64 ’其間因受到注水口 66之注入位置的影響而產生 的液壓不均之現象以及因該流體之流向改變與過快的流動速度所 產生的紊流係可透過第一整流裝置1〇2以及第二整流裝置1〇4中 所分別具有的複數個導流斜板1 〇6、1 〇8而消除，進而使得該流體 係可從第一流道64之出水口 68均勻地向外溢出，最後在流經與 第二流道64之側壁72形成有夾角㊀的擾流板60後，液刀設備 100就可以提供與基板52呈一夾角的一均勻流體水幕至基板52， 以進行後續的蝕刻或清洗流程。上述第一實施例與第二實施例中 所提及之整流裝置之結構設計原則係可相互應用，舉例來說，第 /’IL表置係可設計為整流隔板之結構，而第二整流裝置則是可 設計為具有複數個導流斜板之結構。 最後，請參閱第10圖’第1〇圖為本發明第三實施例液刀設備 12 201000216 150之剖面示意圖，第三實施例中所述的元件與第一實施例中所述 . 的元件編號相同者，表示其具有相似的功能或相對位置，於此不 再贅述。液刀設備150與第一實施例的液刀設備50不同之處在於 第二整流裝置的設計。液刀設備150包含有第一流道62、第二流 道64、第一整流裝置56、一第二整流裝置152，以及擾流板60， 其中由於第一整流裝置56之實際結構係已在上述說明中詳述過， 因此第一整流裝置56在第10圖中僅以簡示圖之方式繪製。由第 10圖可知，第二整流裝置152係為一擋水板，其係延伸形成於第 二流道64之側壁72上，較佳地，第二整流裝置152以及側壁72 之長度加總係約為7公分，而第一流道62之流道長度則約為1〇 公分，也就是說，第二整流裝置152以及側壁72之長度加總係與 第一流道62之流道長度的比例約為7比10。如此一來，自第一流 道62之注水口 66注入之流體係可流經第一整流裝置56後而有所 減緩，進而使該流體以較慢之流動速度進入位於第一流道62以及 第二流道64之間的緩衝空間70中，接下來，在該流體自緩衝空 | ' 間流往第二流道64時，此時，雖無第一實施例中所提及之整 流隔板之結構或是第二實施例中所提及之導流斜板之結構，然而 在緩衝空間70以及第二流道64内因該流體流向之改變所產生的 紊流仍然可以藉由在第二流道64之側壁72上增加擒水板152之 m 设計的方式來消除，藉以使該流體同樣可以從第二流道64之出水 口 68均勻地向外溢出，最後在流經擾流板60後，液刀設備15〇 就可以提供與基板52呈一夾角的一均勻流體水幕至基板52,以進 行後續的蝕刻或清洗流程。 13 201000216 相較於先前麟利敝人壓力以將做彳液或清絲自液刀設 備的出水間隙中喷出的方式，本發明所提供之液刀設備係可利用 =整流51板、導鱗钱是财板之結構設計來親内部流道 中流體的流動速度収善流雜力獨之現㈣及_部流體之 流向改變與過快的流動速度所產生的紊流，如此即可產生勾 之流體水幕朗欲侧或是清洗的紐上，藉明免基板上钱刻 不均勾或7C祕現象的產生’進而提昇基板在濕式糊製程中的 钱刻品質。此外’由於本發明之液刀設備内部流體係自出水口處 均勻溢出，因此不會出現有雜物堵塞出水口之問題，故可避免習 知，刀設備中當有雜物堵塞出水_時所產生之流體水幕分念的 問題。 以上所述僅林發明讀佳實關，凡依本發日种請專利範 圍所做之均等變化與修飾’皆應屬本發明之涵蓋範圍。 【圖式簡單說明】 第1圖為習知技術液刀設備之示意圖。 第2圖為本發明第一實施例液刀設備之示意圖。 第3圖為第2圖液刀設備内部結構之放大示意圖。 第4圖為第3圖第一整流裝置之分解示意圖。 第5圖為第4圖第-整流隔板疊合於從屬整流隔板上且也 流隔板相對第一整流隔板滑動之示意圖。 14 201000216 第6圖為本發明另1施例第一整流隔板疊合於從屬整流隔板 - 上且從驗流㈣相對第-錢隔板滑動之示意圖。 第7圖為第3圖第二整流裝置之分解示意圖。 第8圖為第3圖液刀設備沿剖面線8_8，之剖面示意圖。 第9圖為本發明第二實施例液刀設備之剖面示意圖。 第10圖為本發明第三實施例液刀設備之剖面示音圖。 【主要元件符號說明】 10、50、 液刀設備 12 注水口 100' 150 14 出水間隙 16、52 基板 54 導流裝置 56>102 第一整流裝置 58 、 104 第二整流裝置 60 擾流板 62 第一流道 64 第二流道 66 注水口 68 出水口 70 緩衝空間 72 側壁 74 第一整流隔板 76、 從屬整流隔板 82、88 78、90 整流孔洞 80、92 從屬整流孔洞 84 擋板 86 第二整流隔板 106、 108 導流斜板 152 播水板 15

Claims (1)

1. 201000216 十、申請專利範圍： —基板，該液刀設備 1. 一種液刀設備，可提供一均勻流體水幕至 包含有： 流道之該流體； ¥流裝置m流道以及1二流道，且該第一流道 係實質上與該第二流道平行設置龙相互連通，該第一流道 具有-注水口，用於輸入一流體，該第二流道且有一出水 口，用於排出該流體，在該第二流道與該第一流道連通處 係形成有-緩衝空間，用於暫存自該第—流道流向該第二 一第一整流裝置’用來整流進人該第1道之該流體；以及 一弟二整流裝置’用終流進人鮮二流道之該流體。 如請求項丨所述之液刀設備，其聽含有—擾流板，連接於該 弟二流道之-側壁，用來改變自該出水口所溢出之該流體之流 動方向，藉以產生相對應之一流體水幕。 3.如請求項m述之液刀設備，其找第—整流裝置包含有： 一第-整流隔板，該整流隔板上係形成有複數健流孔洞。 《如請求項3所述之液刀設備’其中該第一整流裝置另包含有： 一從屬整流隔板’以可相對移動之方式疊合於該第一整流隔 板，該從終鶴板上係形辆對賴複數健流孔洞之複數 個從屬整流孔洞。 16 201000216 5·如請求項3所述之液刀設備，其中該第一整流裝置另包 一從屬整流隔板，以可相對軸之方式疊合於該第—整流隔. =，該從屬整流隔板财職該複數個整流孔批複數個平行 啦戶义』之標'板。 ^請求項1所述之液刀設備，糾麵-整流裝置另包含有複 文個導流斜板’騎數縛騎板細交錯排狀方式設置於 §亥第一流道内。 =請求項6所述之液刀設備，其中該複數個導流斜板係分別以 °下傾斜之方式設置於該第一流道内。 j求項1所述之液刀設備，其中該第二整流裝置包含有： 、、第-整流隔板，其上係形成有複數健流孔洞，該複數個整 氣孔洞制來使該第二流道中之流體可均勻地自該出水口溢 %求項8所述之液刀設備，其中該第二整流裝置另包含有： —從屬整流隔板，以可相對移動之方式疊合於該第二整流隔 ，邊第二從屬整流隔板上係形成有對應該複數個整流孔洞之 複數個從屬整流孔洞。 μ求項8所述之液刀設備’其中該第二整流裝置另包含有： 17 201000216 一從屬整流隔板，以可相對移動之方式疊合於該第二整流隔 板，該從屬整流隔板具有對應該複數個整流孔洞之複數個平行 排列之擂板。 11. 如請求項1所述之液刀設備’其中該第二整流裝置包含有複數 個導流斜板’該複數個導流斜板係以交錯排列之方式設置於該 第二流道内。 12. 如請求項11所述之液刀設備’其中該複數個導流斜板係以向下 傾斜之方式設置於該第二流道内。 13. 如請求項1所述之液刀設備’其中該第二整流裝置係為一擋水 板，延伸形成於該第二流道之一側壁上，該擋水板以及該側壁 之長度加總係與该苐一流道之流道長度呈一特定比例。 I I4·如凊求項13所述之液刀設備’其中該擋水板以及該侧壁之長度 加總與该第一流道之流道長度的比例約為7:1〇。 15. 如請求項2所述之液刀設備，其中該擾流板係與該第二流道之 该侧壁間具有一夹角。 16. 如μ求項15所述之液刀設備，其中該夾角係實質上介於145 度至165度。 18 201000216 17. 如請求項16所述之液刀設備，其中該夾角約為157.5度。 18. 如請求項2所述之液刀設備，其中該擾流板係以可擺動之方式 ' 連接於該第二流道之該側壁。 十一、圖式： 19