TW201007874A - Retainer and substrate storage container provided with same retainer - Google Patents
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201007874
, I TW5424PA 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種保持半導體晶圓、光罩破壤、薄 膜附著之光罩玻璃、薄膜等之基板之保持器,以及包括保 持器之基板收納容器。 ' 【先前技術】 做為基板之輸送使用之基板收納容器,已知有特許 • 獻一、二所揭示之基板收納容器。如此之基板收納容器, 係包括例如在前側之正面形成開口部而在内部收納基板 之容器本體、可開閉該容器本體之開口部之蓋體、以及 該蓋體之内壁面安裝,保持基板之前部周緣,與容器本體 之間夾持基板之保持器。該保持器係在保持基板之保持 在前端部形成之複數彈性片,對應於基板而設置各一對, 該對彈性片係沿基板配置。又,為對應必要,也有對應於 單一彈性片而形成複數保持溝之結構,或是蓋體之中央部 • 侧形成其他彈性片以及保持溝之結構等。又,蓋體係手^ 或由蓋體開閉裝置嵌合於容器本體或拆除。又,保持器係 設有例如卡止突起或卡止凹部等卡止部。由將保持器之卡 止部嵌入對方側之卡止部,保持器固定於蓋體(或容器本 體)。 先行技術文獻 特許文獻1 :日本特開2002-353301號公報 特許文獻2 :日本特開2005-320028號公報 3 201007874
TW5424PA 【發明内容】 ^ " 發明所欲解決之課題 上述習知技術中,例如以裝置自動搬送時,由作業員 手動搬送時,由落下等對基板收納容器施加大衝擊時,彈 性片大幅撓曲,反之隨著彈性片之變動’基板從保持溝向 外而破損,即使未破損之基板也會與基板收納容器之磨擦 而產生微粒而造成污染。 ” 又,做為衝擊施加之際之對策,將保持溝之形狀做成 例如V字形,溝之深度加深,以及溝之寬度變窄係為有效, 然而,如此基板與保持溝接觸而磨擦變多,有基板容易污 染之問題,基板夾在保持溝之問題也可能發生。 本發明之目的係為解決該課題而做成,提供一種保持 器係鑑於上述實情,提供一種可將基板安定保持,並可降 低基板污染之虞之保持器,以及包括該保持器之基板收 容器。 解決課題之手段 本發明之保持器,係設置在收納基板之基板收納容 器,在板厚度方向沿上下方向以一定間隔整列而保持支持 之基板,包括:筐體,具有在上下方向延伸之一對上下方 向部以及與該對上下方向部正交而在左右方向延伸之一 對左右方向部;彈性片,從該上下方向部向内侧突出,可 =制該基板之位置;連結片,在上下方向延伸,且兩端部 2於該左右方向部;以及突出部,在與該基板交又之^ °傾斜而可抵接於該基板之周緣之傾斜面形成,從該連择 201007874
• ‘ TW5424PA 片向該基板收納容器之内側突出。 根據如此之保持器’由從筐體之上下方向部向内側突 出之彈性片,可限制基板之位置,在基板之位置偏移之場 合,也可由彈性片將基板之位置復歸至原來位置。又包 括與筐體之左右方向部連結而在上下方向延伸之連結 片,在該連結片形成向基板收納容器之内側突出之突出 部。該突出部係具有為與基板交又之方向傾斜而可抵接於 該基板之周緣之傾斜面之結構,由該傾斜面’可容易引導 • 基板,降低基板之磨擦,可限制基板之位置。 又,該突出部係在上下方向在鄰接之基板間配置,且 該傾斜面係具有與在上端形成之一基板可抵接之第一傾 斜面,以及與在下端形成之另一基板可抵接之第二傾斜面 較佳。根據如此之結構,由在基板間配置一突出部,可引 導在上下方向鄰接之兩基板。 又,該突出部係在上下方向在基板兩侧設置,且在基 板兩側設置之該突出部係在上下方向配置在形成較基板 參 之板厚度大之間隙較佳。根據如此之結構,可使在基板整 列配置之通常狀態中,基板與突出部不會抵接,只有在基 板移動之場合,基板與突出部抵接,可使基板與突出部之 磨擦降低,而抑制微粒之產生。 又,在基板兩側設置之該突出部係在左右方向不同之 位置配置較佳。如此,在基板兩侧設置之突出部不會夾住 基板。 又,也可更包括從該連結片向外側突出,與該筐體安 裝之壁體可抵接,且限制該連結片之移動之接受部。又, 201007874
TW5424PA 接受部係在該連結片之中央形成,且由該筐體向該壁體侧 之外方突出較佳。如此,可限制連結片之移動,且限制突 出部之位置。 又’本發明之基板收納容器,係包括:容器本體,且 有開口部以收納基板;蓋體,閉鎖該開口部;以及如上ς 述之保持器,安裝於該容器本體之内壁或該蓋體。 根據如此之基板收納容器,由從筐體之上下方向部向 内侧突出之彈性片,可限制基板之位置,在基板之位置偏 移之場合,也可由彈性片將基板之位置復歸至原來位置。 又,包括與筐體之左右方向部連結而在上下方向延伸之連 釔片,在該連結片形成向基板收納容器之内侧突出之突出 部。該突出部係具有為與基板交叉之方向傾斜而可抵接於 該基板之周緣之傾斜面之結構,由該傾斜面,可容易弓!導 基板’降低基板之磨擦,可限制基板之位置。 發明之效果 根據本發明’可提供一種可降低基板之磨擦,限制基 ^之位置,將基板安定保持,並可降低基板污染之虞之保 持器,以及包括該保持器之基板收納容器。 為讓本發明之上述内容能更明顯易懂,下文特舉一較 佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下: 【實施方式】 以下清參…、圖式,說明本發明之保持器以及包括 =之基,納容器之具體實施例。χ,圖式之說明^,、 目问或相當之70件係以相同符號標示,並省略重複之說 201007874
. * TW5424PA 明。第1圖係本發明第一實施形態之基板收納容器之分解 立體圖’第2圖係第1圖所示之基板收納容器沿Π—II線 之橫剖面圖。 如第1圖以及第2圖所示之基板收納容器i ,係收容 一或複數枚(例如6、13、25枚)基板W,基板W之輸送、 搬送、保管等使用之收納容器。基板收納容器!係包括在 正面形成將基,W在前後方向γ可出人之開口部3、在上 ❿ 板3列收納之容器本體2、以 蓋體4係在“^體4 ° J後方向Υ具有既定之厚度,將在問 = 止之卡止機構(加鎖機構 可將在開口部3^ 5係根據從蓋體4外部之操作出沒, 之周緣,裝著有:封:蓋體4加鎖。又,在蓋體4之侧壁 片16之蓋體4安#塾片16(參照第3圖)。將裝著密封整 將基板收納容器】在開口部3 ’由卡止機構加鎖,可 面側(基板收納容^内成為密閉狀S。又,在蓋體4之背 方向水平並排之内面)’安裝有將複數基板W在上下 如後所述。、之保持器8°又’保持器8之詳細說明 釐之1内收容之基板w,係例如直徑公 工。美板w :晶®,基板W之餘兩㈣分別鏡面加 狀離t在=專用之機器手臂在左右之側部周緣夾持之 " 器本體2内出入。在基板w之周緣, =判I,整列容易之溝㈣參照第6緣= N,在平面視圖中,係例如形成半圓形。圖)該溝槽 7 201007874
TW5424PA 基板收納容器i之中,容器本體 緣7、以及握把10等’可使用例如聚兩烯、環烯聚合體、 聚碳酸醋、聚對笨二甲酸乙酯、聚對笨二甲酸丁二醋、 二醚酮、聚甲媒、聚_亞胺等之合成樹脂了』此入 =:可?/性體也可適量添加帶電防止劑, 性附者劑(碳、金屬纖維)、紫外線吸收劑 纖維、碳纖維)等添加劑。 用涵评八坂場 等既Γ之器= 係,性或高剛性優良之聚碳酸醋 =器本體2係在正面開口之正面開口 十。在谷器本體2之兩側魏之 將基板W水平支持之齒17。㈣係如圖=上^^成 以間距複數配列。由齒Π,基板W以水平狀離:上 下方向Z並排整列收納。 以水千狀態在上 做為:Γ二係:支:基在板w之結構 开KV字开η Ϊ 在平面視圖中為長方形、「<」字 形^子形)、半圓弧形狀等。 <」子 緣形成之棚部、以及在該棚部基板W之周 有平坦面之基板接觸部。 Μ與基板W接觸而具 署夕二ί # 17之開口部3側,形成有限制美拓W之位 置之位置限制用段差18。 双有限制基板W之位 容器本體2之内侧(與開口部;制用段差18、以及 側壁21之㈣㈣分, ^反侧)與基板W可抵接之 前後方向Y之動作。 限制谷器本體2内之基板W之 如此結構之齒17,可與容 利用蚊元件,或是使用11本體2 _體形成’也可 ⑦卡σ ’將齒17安裝於容器 201007874
• TW5424PA 本體2。由齒Π = W之側部周緣係 且水平支持’防止基板W在上下方向Z傾斜,由機器手; 之又容易進行基板W之出人。 1 之彳面,形成冑對應於既 疋裝置(例如加工基板之加μ置等)進行位置決定之位 置決定部。位置決定部係設置三個,成γ字形配置。又, 在位置決定部,形成有V字溝(凹部卜又,位置決定部之 斷面形狀並不限於於V字形,例如可形成Μ字形,逆乂字 形’逆Υ字形或凹陷之橢圓形等。 在容器本體2之頂板22之外面,形成有在平面 中成矩形狀之機器凸緣7。該機器凸緣7可與容器本體2 一體形成,也可做為其他元件而形朗容器本體2可著脫 ^结構。基板收納容器!係由機器凸緣7之稱為起重機 (0ΗΤ)之未圖示之自動搬送裝置保持,在卫場内搬送。 ❿ 以下詳細說明保持器8。第3圖係第丄圖中之保持器 :裝:蓋體之背面圖。第4圖係第3圖中之保持器之立體 圖。第5圖係第3圖所示之保持器擴大顯示之正視圖。第 線之剖面圓。第7圖係顯示在容器 it蓋體、安裝於該蓋體之保持器、以及基板收納 令器内保持之基板之部分剖面圖。 如第3圖〜第5圖所示’保持器8係包括形成矩形之 ::之筐體32,該筐體32具有互相對向而在上下方向z 方向部34,以及互相對向而在左右方向X 延伸之一對左右方向部36。 保持器8可由聚丙稀、聚碳酸醋、聚對苯二甲酸乙 9 201007874
TW5424PA 醋、聚對苯二甲酸丁二醋、聚二醚_、聚甲酿、聚謎酿亞 胺等之合成樹脂,或是聚酯系熱可塑性彈性體、聚苯乙烯 系熱可塑性彈性體、聚氨酯系熱可塑性彈性體等各種熱可 塑性彈性體形成。又,這些樹脂或熱可塑性彈性體可適量 添加帶電防止劑、碳或金屬纖維等帶電性附著劑、紫外線 吸收劑、玻璃纖維或碳纖維等補強劑等添加劑。 上下方向部34係如第4圖及第5圖所示,具有在上 下方向Z延伸之平板狀之板狀片34a,與從板狀片恤在 前後方向γ突出之複數側壁34b。板狀片34a係連結於一 2左右方向部36之長方向之兩端部,將板厚度方向做為 前後方向γ而配置。侧壁34b係沿板狀片34a之上下方向 z在外侧之端部交又,將板厚度方向做為左右方向X而形 成,在上下方向Z以既定之間距複數形成。例如,板狀片 34a係在侧壁34b之前後方向γ略中央交又。又,板狀片 34a之未形成側壁34b之部分,形成有向左右方向χ之内 側凹陷之切欠部34c。該切欠部34c係在保持器8安裝於 蓋體4時,喪合於蓋體4形成之突起部,可將保持器8固 定於既定之位置。又’侧壁34b與切欠部—係為左右對 稱之配置較佳。又,切欠部34c以及在蓋體形成之突起部 係做為在保持器安裝於蓋體時進行位置決定之位置決定 部之功能。 又’在保持器8,如第4圖〜第6圖所示,從板狀片 34a在左右方向χ之内侧突出,可限制基板w之前後方向 Y之位置之彈性片(板狀彈簧)38,係在上下方向z以既定 之間距複數形成。彈性片38係例如形成短冊狀(橫長形 201007874
1 TW5424PA 狀)’長度方向係在左右方向X延伸。彈性片38係如第6 圖所示,由在板狀片34a連結之基端部38b侧之前端側 38a,向基板收納容器1之内侧定位而對左右方向χ傾斜 配置。又,彈性片38係在上下方向Z對應於基板w位置 之位置配置而且左右對稱配置。 在彈性片38之刖端部38a,設有略成直方體,在與 基板W對面之面形成保持基板胃之保持溝之保持部4〇。 又,保持器8係包括在上下方向z延伸且長度方向之 • 兩端部連接於左右方向部36之連結片42。該連結片42係 成平板狀,將板厚度方向做為前後方向γ ,主面與基板W 之周緣對面而配置。又,連結片42係在左右方向χ配置 於保持器8之中央。 又,在連結片42之基板W側之主面,形成有向基板 W侧突出之複數凸肋片(突出部)44A、44B。凸肋片44A、 44B係在侧面視圖中’例如成山型(略成台座型)。該凸肋 片44A、44B係在上下方向z鄰接之基板w間分別配置》 參 凸肋片44A、44B係成平板狀’板厚方向成左右方向χ而 配置’上下方向Z之端面係成與對基板w交叉方向傾斜之 傾斜面44e、44f之結構。亦即,凸肋片44A、44B之上端 面之傾斜面44e(第一傾斜面)係凸肋片44A、44B之前端側 (基板收納容器1之後方側)由凸肋片44A、44B之基端側 (連結片42側)在上下方向向下方位置傾斜。又,凸肋片 44A、44B之下端面之傾斜面44f(第二傾斜面)係凸肋片 44A、44B之前端侧(基板收納容器1之後方侧)由凸肋片 44A、44B之基端侧(連結片42侧)在上下方向向上方位置 201007874 TW5424PA 欢 fc 傾斜。 又,在上下方向Z鄰接之凸肋片44A、44B係在左右 方向X不同位置配置。具體而言,凸肋片44A係在基板收 納容器1之中央如圖示之右側(參照第5圖)而配置,凸肋 片44B係在基板收納容器1之中央3 6如圖示之左側而配 置。亦即,如第6圖所示,凸肋片44A、44B係在左右方 向X分離,在上下方向Z與基板W之溝槽N不重疊之位置 配置。又,右侧配置之凸肋片44A以及左側配置之凸肋片 44B係在上下方向交互配置,如第5圖所示,分別在同一 直線上配列。 又,保持器8係如第7圖所示,基板W在既定之位置 整列配置之通常狀態中,凸肋片44A、44B之傾斜面44e、 44f係配置於與基板W不會抵接之位置。具體而言,在上 下方向Z鄰接之凸肋片44A、44B之間隔P係較基板W之 板厚t大。又,如第4圖所示,最上段配置之凸肋片45A, 係在上下方向Z中半割之形狀,具有向下方之傾斜面44f, 最下段配置之凸肋片45B’係在上下方向Z中半割之形狀, 具有向上方之傾斜面44e。又,凸肋片44A、44B之前端部 係如第6圖所示,通常時,在上下方向Z與基板W之周緣 一部分重疊而設置。 其次,對如此結構之保持器8說明基板W之位置限 制。通常狀態中,基板W係如第2圖所示,由齒17支持 左右方向X之周緣部,在基板收納容器1内水平保持。此 時,基板W係由位置限制用段差18限制向前方之移動, 由側壁21之内壁面部分19限制向後方之移動。又,該通 201007874
. ,TW5424PA 常狀態中’基板W係如第6圖所示,由彈性片38支持之 保持部40保持前方侧之周緣部,限制向前方側之移動。 又’基板W係如第8圖所示’在上下方向z配置於凸助片 44A、44B之間,與凸肋片44A、44B成未接觸之狀態。 在此’例如在基板收納容器1向前方側(保持器8侧) 傾斜之場合,將基板W向前方移動之力作用時,基板W係 由彈性片38之復原力,向後方壓回,而復歸與通常狀態 相同之位置。 ® 又’如第7圖所示,在基板W向前方側移動之場合中, 基板W係與保持器8之連結片42之基板w侧之主面抵接, 如上所述,由彈性片38之復原力,向後方壓回,而復歸 與通常狀態相同之位置。 又’在基板W之前方側向上方傾斜之場合中,基板W 係與保持器8之連結片42之凸肋片44A、44B之傾斜面44f 抵接。又,基板W係由傾斜面44f限制移動,在上下方向 Z引導至鄰接之凸肋片44A、44B之中間位置,而復歸與通 • f狀態相同之位置。 同樣地,在基板W之前方側向下方傾斜之場合中,基 板W係與保持器8之連結片42之凸肋片44A、44B之傾斜 面44e抵接。又,基板W係由傾斜面44e限制移動,在上 下方向Z引導至鄰接之凸肋片44A、44B之中間位置,而 復歸與通常狀態相同之位置。 包括如此之保持器8之基板收納容器1,由從筐體32 之上下方向部34向内側突出之彈性片38,可限制基板W 之前後方向之位置,在基板W之位置偏移之場合,可由彈 13 201007874
TW5424PA 性片38將基板W之位置復歸至原來位置。又,保持器8 ’ 係包括在筐體32之左右方向部36連結於長度方向彳圖示 上下方向z)之兩端部而在上下方向z延伸之連結片42, 在該連結片42形成向基板收納容器1之内側突出之稽^數 凸肋片44A、44B。該凸肋片44A、44B係具有可抵接於該 基板W之周緣之傾斜面44e、44f之結構,由該傾斜面44e、 44f,可容易引導基板W至與通常狀態相同之位置,降低 基板W之磨擦,可限制基板W之位置。 — 又,凸肋片44A、44B在上下方向2在鄰接之基板w ⑩ 間配置,由一個凸肋片44A、44B,可引導上下方向z鄰接 之兩基板W。如此,可減少元件個數,達到簡化之結構, 可抑制製造成本。 又,凸肋片44A、44B在上下方向z形成較基板双之 板厚度t大之間隙而配置,可使在基板?整列配置之通常 狀態中,基板W與凸肋片44A、44B不會抵接,只有在基 板W移動之場合’基板w與凸肋片44A、44B抵接。如此 之配置可使基板W與凸肋片44A、44B之磨擦降低,而抑 ® 制微粒之產生。 又’將基板W夾持而在上下方向z之兩侧設置之凸肋 片44A、44B係在左右方向不同之位置配置,在上下方向A 鄰接之凸肋片44A、44B不會夾住基板w。 在此,請參照第13圖,說明第一實施形態之變形例。 在彈性片38之前端部38a設置之保持部72之保持溝,係 可如第一實施形態之保持部40之保持溝之v字上之外 部’包括如第13圖所示之二段傾斜面之形狀。此時,保 14 201007874
• . TW5424PA 持溝之開口部侧面對之傾斜面72a之角度0 1,為限制基 板w之位置,設定為100。〜120。之範圍較佳。角度 在1〇〇°以上時,可從保持溝將中心偏移之基板w在廣範 圍導入至保持溝内。又,角度Θ1在120。以下時,基板w 在傾斜面之途中不會掛住而可確實引導至保持溝内。
又,保持溝之内部之傾斜面72b之角度02,係為可 安定保持基板W而設定為35。〜55。之範圍較佳。角度θ 2在35°以上時,可防止基板w在保持溝夾持而解除蓋體 4時基板W由保持器7〇引出。又,角度02在55。以下時, 可在振動等時基板w從保持溝飛出較少。 又,保持溝之深度h係基板半徑之1· 5%〜3. 0%之深 度較佳。例如,半徑150公釐(直徑300公愛)之基板#之 場合’深度h係設定為2· 25公爱〜4 5公璧。深度h在 2少在振動等時基板w從保持溝飛出較 又在4·5么釐以下時,可防止保持部72從蓋體4 之表面飛出且不損失彈性片38之彈性。 姓哭請參照第8圖,說明本發明第二實施形態之保 圖係顯示本發明第二實施形態之保持器、蓋體、 面圖。該第二實施形態之保持器50與第- 實“之保持器8不同之點’在於具有從連結片42向 前方突出之接受部52。 接受部52,具體而言,係在連結片42與蓋體4對向 之主面形成’向蓋體4突出。該接受部52係在側面視圖 中成例如台形’在上下方向z以既定之間距複數設置。在 上下方向z,對應於凸肋片44A之位置設置。又接受部 15 201007874
TW5424PA 方!!x配置於連結片42之中央。又,接受部 不限疋,總之,可抵接於蓋體4即可。 ,如此之第一實施形態之保持器50可達到與第一實施 =態相同之作用效果。特別是,在第二實施形態之保持器 由形成從連結片42在前方突出之接受部52 ,接受部 Μ與蓋體4抵接,可限制連結片42向前方移動。如此。, 可抑制連結片42向前方移動,將基板W之移動更適當限 制’可降低基板W之磨擦。又,接受部52係由保持器5〇 之側壁34b向前方側(壁體4側)突出之結構較佳。如此, 可將連結片42之前後方向γ之移動量更加降低。又,由 接受部52之高度(前後方向γ之長度)變更,可將連結# 42之前後方向γ之位置適當調節。又,接受部52從前後 方向Y視之,可為圓形、矩形、平板狀,也可為其他形狀。 其·^ S參照第9圖,說明本發明第三實施形態之保 持器。第9圖係顯示本發明第三實施形態之保持器、蓋體、 基板之部分剖面圖。該第三實施形態之保持器54與第二 實施形態之保持器50不同之點,在於接受部56之形狀不 ❹ 同。 接受部56 ’具體而言,係在連結片42與蓋體4對向 之主面形成,向蓋體4突出。該接受部56係在上下方向z 中央部56a之高度(前後方向γ之長度)最高,上下方向z 之兩端部傾斜而形成斜邊56b。如此之結構中,可適當限 制前後方向Y之移動量最大之中央部56a之位置。又,取 代在侧面視圖中直線狀之斜邊56b,也可做為弯曲形狀。 其次,請參照第10圖’說明本發明第四實施形態之 16 201007874
• [ I 保持器。第10圖係顯示本發明第四實施形態之保持器之 部分正視圖。又,保持器之正面係為基板w侧之面。第四 實施形態之保持器58與第一實施形態之保持器8不同之 點,在於具有與凸肋片44A、44B形狀以及位置不同之凸 肋片(突出部)60A、60B。 具體而言,第四實施形態之保持器58之凸肋片60A、 6〇B係形成塊狀’較第一實施形態之凸肋片44A、44B在左 春 右方向X具有寬度。又,凸肋片60A、60B之侧面形狀, 係與凸肋片44A、44B相同之形狀,例如形成山型(略成台 座型)°又,上下方向Z之端面構成有與基板W交叉之方 向傾斜之傾斜面60e、60f。亦即,凸肋片60A、60B之上 端面之傾斜面60e(第一傾斜面)係凸肋片60A、60B之前端 侧(基板收納容器 1之後方侧)由凸肋片60A、60B之基端 侧(連結片42侧)向下方位置傾斜。又,凸肋片60A、60B '^下端面之傾斜面60f(第二傾斜面)係凸肋片60A、60B之 鲁 Μ端侧(基板收納容器1之後方侧)由凸肋片60A、60B之 ^侧(連結片42侧)向上方位置傾斜。 又,凸肋片60Α、60Β係沿上下方向Ζ兩列配置,凸 肋片6〇α係配置於圖示右側,凸肋片60Β配置於圖示左 側。又’凸肋片60Α、60Β係從上下方向Ζ所視,在左右 方向X—部分重疊配置。例如,在左右方向X約一半重曼 而配置。又,凸肋片60Α、60Β之傾斜面60e、60f係較在 f板W形成之溝槽N(參照第6圖)之左右方向X寬度廣之 範圍而形成較佳。如此構成之第四實施形態之保持器58 也可達到與第一實施形態之保持器8相同之作用效果。 17 201007874
TW5424PA TZV11 * 保符Is第11圖係顯示本發明笫π . A ^ 6fc 部分正視困。該第五實施形二==器之 態之保持器8不同之點’在於支持 、= ::::::構支持之保持部4。,_由二同支 第五實施形態之保持器,係包括
==:4。之連結彈性片6心連結彈性片6:係::: 方向X延伸…端部64a連結於連結片42,另」 持部.又,保持部4〇係、由彈性片 = 從左右方向X之兩侧支持。如此構成之第及五連實 ::::保持器62也可達到與第一實施形態之保持 相同之作用效果。 ^荔8 /、-欠’請參照第12圖,說明本發明變形例之保持 第12圖係顯*本發明變形例之保持器之正視圖 。 〇 之保持器66與第-實施形態之保持器8不同之點,二 包括取代連結片42之在左右方向X鄰接而連結保么 之連結彈性片68,凸肋片碰、_係在上下方向跨 接之兩個連結彈性片68而固定。如此結構之場合中, 限制向凸肋片44A、44B前方之移動,形成有從連結彈性 片68向蓋體4突出之接受部(52、56)較佳。 以上對本發明根據實施形態進行具體說明,然而,本 發明並不限定於上述之實施形態。上述實施形態中,係將 本發明之基板收納容器做為收納半導體晶圓之裝置而進 行說明,然而收納物之基板並不限定為半導體晶圓,光罩 18 201007874
• · TW5424PA 玻璃等其他精密基板也可以。又,收容之基板大小不限定 於300公釐,例如450公釐等其他大小也可以β又,收納 枚數並不限於1〜25牧,26枚以上也可以。 又,上述實施形態中,係將保持器8安裴於蓋體4之 背面側之基板收納容器1,然而保持器8之安裝位置也可 以在容器本體2之侧壁21之内壁面,背面壁之内壁面。 又,將保持器8安裝於蓋體4時之位置決定部之位置 決定突起及位置決定凹部,係在筐體32之上下方向部34 _ 左右對稱之位置設置,然而也可形成左右不對稱之位置決 疋部。如此形成左右不對稱之位置決定部之場合安裝保 持器8時,為在上下方向ζ出現方向性,可將基板w與形 成保持部40之保持溝之壁面精度良好抵接。又,包括左 右對稱之位置決定部之場合,特別是形成非對稱之位置決 定部,也可防止在上下方向安裝錯誤。 、 又,蓋體與保持器之位置決定部,或是保持器之卡止 爪,係在不只一侧壁,而在另一側壁形成也可以。又,在 筐體之一部具有向上方可彎曲之彎曲部之結構,可使保持 器之安裝或拆除容易。 '' 又,取代保持器50、54之背面侧設置之接受部52、 56,也可將接受部在蓋體4之背面(保持器侧之主面)形 成,限制向連結片42 ,凸肋片44A、44B前方之移動。 [實施例] 其次以實施例對本發明做更詳細之說明,然而,本發 明並不限定於實施例。 19 201007874
TW5424PA 〈第一實施例〉 首先,準備包括第—實施形態之保持器8(參照第4 圖)之基板收納容器i,在該基板收納容器1收納25枚基 板w。收納之各基板w係由齒17水平支持。 然後將如此收納各基板#之基板收納容器 1之底面
從基準面向上舉起1Q公分,在底面向下之狀態將基板收 納容器1垂直落下,確認從保持器8之基板w掉出或基板 W之破知有無。又’至從保持器8之基板w掉出或基板w 之破損發生為止’每次提高10公分之落下高度,同樣落 下,以確認所能承受之最大落下高度。 〈第二實施例〉 第一實施形態之變形例之保持器7〇,其保持溝具有 兩段傾斜面72a、72b之保持部72(參照第13圖),準備包 括保持器70之基板收納容器,與第一實施例相同,在基 板收納容器收納25牧基板W。然後,對該基板收納容器進 行與第一實施例相同之落下試驗。 〈第三實施例〉 準備包括第二實施形態之保持器50之基板收納容器 (參照第8圖),與第一實施例相同,在基板收納容器收納 25牧基板W。然後’對該基板收納容器進行與第一〜第二 實施例相同之落下試驗。 〈第四實施例〉 準備包括第三實施形態之保持器54之基板收納容器 (參照第9圖),與第一實施例相同,在基板收納容器收納 25牧基板W。然後’對該基板收納容器進行與第一〜第三 20 201007874 • i VTJW/l 實施例相同之落下試驗。 〈第五實施例〉 準備包括第四實施形態之保持器58之基板收納容器 (參照第10圖)’與第一實施例相同,在基板收納容器收 納25枚基板W。然後,對該基板收納容器進行與第一〜第 四實施例相同之落下試驗。 〈第六實施例〉 翁 準備包括第五實施形態之保持器62之基板收納容器 (參照第11圖),與第一實施例相同,在基板收納容器收 納25枚基板W。然後,對該基板收納容器進行與第一〜 五實施例相同之落下試驗。 <比較例〉 鬌 β將從第一實施形態之保持器8取下連結片42之保 =做為比較用保持器’準備包括該保持器之基板收納容、 t然後,對該基板收納容器進行與第施 J之落下試驗。 ^ 後如矣一 AtL —
201007874
TW5424PA
如表一所示,包括比較用保持器(沒有連結片42之保 持器)之基板收納容器中,在落下高度3〇公分之落下試驗 中基板?從保持溝掉出,隨著掉出破損也在基板w發生。 對此,第一〜第六實施例之基板收納容器中,在落下高度 r/rt至80公分之落下試驗中基板w也不會從保持^ 之良好」係表示基板w沒有掉出之意思因此, 根據本實_態之簡ii,相較於比較狀保持H,可承G 受三倍以上之^下高度,較能安定保持基板[ 綜上所述,雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並 :用:限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識 者,在不脫離本發明之精神和範圍内,當可作各種之更動 因此,本發明之保護範圍當視後附之申請專利範 圍所界定者為準。 【圖式簡單說明】 22 201007874 . , 1 v? 第1圖係本發明第一實施形態之基板收納容器之分 解立體圖。 第2圖係第1圖所示之基板收納容器沿II-II線之橫 剖面圖。 第3圖係第1圖中之保持器安裝之蓋體之背面圖。 第4圖係第3圖中之保持器之立體圖。 第5圖係第3圖所示之保持器擴大顯示之正視圖。 φ 第6圖係第3圖沿VI-VI線之剖面圖。 第7圖係顯示在容器本體裝著之蓋體、安裝於該蓋體 之保持器、以及基板收納容器内保持之基板之部分剖面 圖。 第8圖係顯示本發明第二實施形態之保持器、蓋體、 基板之部分剖面圖。 第9圖係顯示本發明第三實施形態之保持器、蓋體、 參 基板之部分剖面圖。 第10圖係顯示本發明第四實施形態之保持器之部分 正視圖。 第11圖係顯示本發明第五實施形態之保持器之部分 正視圖。 第12圖係顯示本發明變形例之保持器之部分正視 圖。 第13圖係顯示本發明第一實施形態之變形例之保持 23 201007874 TW5424PA ^ . 器之部分侧視圖。 【主要元件符號說明】 1基板收納容器 2容器本體 3開口部 4蓋體 7機器凸緣 8、50、54、58、62、70 保持器 10握把 15卡止機構(加鎖機構) β 16密封墊片 17齒 18位置限制用段差 21侧壁 32筐體 34上下方向部 34a 板狀片 34b 侧壁 34c 切欠部 36左右方向部 ❿ 38彈性片 40、72 保持部 42連結片 44A、44B、60A、60B 凸肋片(突出部) 44e、60e傾斜面(第一傾斜面) 44f、60f傾斜面(第二傾斜面) 52、56 接受部 24
Claims (1)
- 201007874 t ,TW5424PA 七、申請專利範圍: 1. 一種保持器’設置在一收納基板之一基板收納容 器’在板厚度方向沿上下方向以一定間隔整列而保持支持 之一基板,包括: 一筐體’具有在上下方向延伸之一對上下方向部以及 與該對上下方向部正交而在左右方甸延伸之一對左右方 向部; 一彈性片,從該上下方向部向内側突出’可限制該基 • 板之位置; 一連結片,在上下方向延伸,立兩端部連接於該左右 方向部;以及 一突出部,在與該基板交叉之方向傾斜而可抵接於該 基板之周緣之傾斜面形成,從該連結片向該基板收納容器 之内側突出。 2·如申請專利範圍第1項所述之保持器,其中: 該突出部係在上下方向在鄰接之基板間配置; • 該傾斜面係具有: 與在上端形成之一基板可抵接之一第一傾斜面;以及 與在下端形成之另一基板可抵接之一第二傾斜面。 3·如申請專利範圍第1項所述之保持器,其中: 該突出部係在上下方向在基板兩側設置; 在該基板兩側設置之該突出部係在上下方向配置在 形成較基板之板厚度大之間隙。 4·如申請專利範圍第2項所述之保持器,其中: 該突出部係在上下方向在基板兩側設置; 25 201007874 ^ 身 , TW5424PA , 在該基板兩側設置之該突出部係在上下方向适 在 形成較基板之板厚度大之間隙。 5·如申請專利範圍第3項所述之保持器,其中在該 基板兩側設置之該突出部係在左右方向不同之位裏配置。 6.如申請專利範圍第4項所述之保持器,其中在該 基板兩側設置之該突出部係在左右方向不同之位裏配置。 7·如申請專利範圍第1至第6項中任一項所述之保 持器,更包括從該連結片向外侧突出,與該筐髏安裝之壁 體可抵接,且限制該連結片之移動之一接受部。 鬌 8.如申請專利範圍第7項所述之保持器,其中該接 受部係在該連結片之中央形成,真由該筐體向該聲體侧之 外方突出。 9· 一種基板收納容器,包栝: 一容器本體,具有開口部以收納基板; 一蓋體’閉鎖該開口部;以及 如申請專利範圍第1項炱第6項中任一項所述之保持 器,安裝於該容器本體之内璧或該蓋體。 〇 10· —種基板收納容器,包括· 一容器本體,具有開口部以收納基板; 一蓋體,閉鎖該開口部;以及 如申請專利範圍第7項所述之保持器,安裝於該容器 本體之内壁或該蓋體。 11. 一種基板收納容器,包栝· 一容器本體,具有開口郄以收納基板; 一蓋體’閉鎖該開口部;以及 26 201007874 , · TW5424PA 如申請專利範圍第8項所述之保持器,安裝於該容器 本體之内壁或該蓋體。 ❹27
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008115667 | 2008-04-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201007874A true TW201007874A (en) | 2010-02-16 |
| TWI438855B TWI438855B (zh) | 2014-05-21 |
Family
ID=41216754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW098112238A TWI438855B (zh) | 2008-04-25 | 2009-04-13 | A retainer and a substrate storage container including a retainer |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8118169B2 (zh) |
| EP (1) | EP2270847A4 (zh) |
| JP (1) | JP5270668B2 (zh) |
| KR (1) | KR101554375B1 (zh) |
| CN (1) | CN102017118B (zh) |
| TW (1) | TWI438855B (zh) |
| WO (1) | WO2009131016A1 (zh) |
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| CN102362340B (zh) * | 2009-05-13 | 2013-12-25 | 未来儿株式会社 | 半导体晶片收纳容器 |
| US9472431B2 (en) | 2010-03-11 | 2016-10-18 | Entegris, Inc. | Thin wafer shipper |
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| JP7634452B2 (ja) * | 2021-09-10 | 2025-02-21 | 信越ポリマー株式会社 | パネル収納容器 |
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| TWI855914B (zh) * | 2023-05-04 | 2024-09-11 | 家登精密工業股份有限公司 | 基板容器保護裝置 |
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- 2009-04-10 WO PCT/JP2009/057341 patent/WO2009131016A1/ja not_active Ceased
- 2009-04-10 CN CN2009801147570A patent/CN102017118B/zh active Active
- 2009-04-10 US US12/921,411 patent/US8118169B2/en active Active
- 2009-04-10 KR KR1020107017514A patent/KR101554375B1/ko active Active
- 2009-04-10 EP EP09735759A patent/EP2270847A4/en not_active Withdrawn
- 2009-04-10 JP JP2010509138A patent/JP5270668B2/ja active Active
- 2009-04-13 TW TW098112238A patent/TWI438855B/zh active
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|---|---|
| CN102017118B (zh) | 2013-03-06 |
| WO2009131016A1 (ja) | 2009-10-29 |
| US20110000817A1 (en) | 2011-01-06 |
| US8118169B2 (en) | 2012-02-21 |
| EP2270847A4 (en) | 2012-12-19 |
| EP2270847A1 (en) | 2011-01-05 |
| KR20110005778A (ko) | 2011-01-19 |
| JPWO2009131016A1 (ja) | 2011-08-18 |
| CN102017118A (zh) | 2011-04-13 |
| JP5270668B2 (ja) | 2013-08-21 |
| TWI438855B (zh) | 2014-05-21 |
| KR101554375B1 (ko) | 2015-09-18 |
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