[go: up one dir, main page]

TW201005002A - Polyamide resin, photosensitive resin composition, method for forming cured relief pattern, and semiconductor device - Google Patents

Polyamide resin, photosensitive resin composition, method for forming cured relief pattern, and semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
TW201005002A
TW201005002A TW098119084A TW98119084A TW201005002A TW 201005002 A TW201005002 A TW 201005002A TW 098119084 A TW098119084 A TW 098119084A TW 98119084 A TW98119084 A TW 98119084A TW 201005002 A TW201005002 A TW 201005002A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
resin composition
mass
photosensitive resin
polyamine
Prior art date
Application number
TW098119084A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI392696B (zh
Inventor
Masashi Kimura
Takayuki Kanada
Motohiro Niwa
Tatsuya Hirata
Masaki Honda
Original Assignee
Asahi Kasei E Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei E Materials Corp filed Critical Asahi Kasei E Materials Corp
Publication of TW201005002A publication Critical patent/TW201005002A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI392696B publication Critical patent/TWI392696B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G69/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
    • C08G69/02Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids
    • C08G69/26Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/22Polybenzoxazoles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L77/00Compositions of polyamides obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L77/06Polyamides derived from polyamines and polycarboxylic acids
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/037Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyamides or polyimides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0387Polyamides or polyimides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0751Silicon-containing compounds used as adhesion-promoting additives or as means to improve adhesion
    • H10P76/2045

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polyamides (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

201005002 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種電子零件之絕緣材料、半導體裝置之 表面保護膜、層間絕緣膜、α射線遮蔽膜等耐熱性塗膜, 以及可使用於搭載有影像感測器、微機器或微致動器的半 ,, 導體裝置等之聚醯胺樹脂,包含該聚醯胺樹脂之感光性樹 .脂組合物,使用該感光性樹脂組合物之硬化浮凸圖案之形 成方法,以及具有該硬化浮凸圖案之半導體裝置。更詳細 • 而言,本發明係關於一種紫外線曝光時的感光特性為優 異·、即使於例如200。(:以下之加熱硬化條件下亦表現出優 異的耐熱性、耐化學性、機械特性及低殘留應力特性之新 穎感光性聚醯胺樹脂,及含有其之感光性樹脂組合物,以 及使用該感光性樹脂組合物而製造之半導體装置。 【先前技術】 於電子零件之絕緣材料以及半導體襞置之表面保護膜、 層間絕緣膜及α線遮蔽膜等用途中,廣泛使用兼具優異的 耐熱性、電氣特性及機械特性之聚醯亞胺樹脂。該樹脂通 常係以感光性聚醯亞胺前驅物組合物之形態而提供,且具 ,有如下特徵:將其塗佈於基材上,經由所需的圖案化遮罩 ; 照射活性光線(曝光)並進行顯影,再實施加熱硬化(熱醯亞 胺化)處理,藉此可容易地形成由耐熱性聚醯亞胺樹脂所 構成之浮凸圖案(例如參照以下之專利文獻丨)。 近年來,於半導體裝置之製造步驟中,主要由於構成構 件之材質及構造設計方面的原因,對可在更低溫度下進行 140879.doc 201005002 加熱硬化(熱醯亞胺化)處理之材料的要求不斷高漲,但於 先前技術之聚醯亞胺樹脂前驅物組合物之情況下,若降低 加熱硬化處理溫度則無法完成熱醯亞胺化,從而使各種物 性惡化,因而加熱硬化處理溫度之下限充其量為3〇(rc左 右。 業者亦在致力於對聚合物骨架結構及組成添加劑的研究 來降低加熱硬化溫度,但即使如此,為了維持實用的聚醯 亞胺膜特性,一般認為25〇t左右為極限(例如參照以下之 專利文獻2)。 因此,於本技術領域中,尚未知悉紫外線曝光時的感光 特性為優異、即使於200。(:以下之加熱硬化條件下亦顯示 適於實用的膜特性之感光性樹脂組合物。 [先行技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1 ]日本專利特開平6_342211號公報 [專利文獻2]日本專利特開2〇〇3_316〇〇2號公報 [專利文獻3]曰本專利特開昭63_i 823 22號公報 [專利文獻4]國際公開第2006/008991號案 【發明内容1 [發明所欲解決之問題] 專利文獻3中揭示有一種感光性基經由醯胺基與樹脂骨 架直接鍵結之聚醯胺’專利文獻4中對聚醯亞胺醯胺作了 揭不,但上述任一技術對於在更低溫度下施行加熱硬化 (熱醯亞胺化)處理之情形而言均不適於實用。本發明所欲 140879.doc 201005002 解決之問題在於提供一種感度及解析度為優異、即使於以 例如200 C以下之低溫的加熱硬化條件而形成樹脂膜之情 形時亦可對樹脂膜賦予耐化學性優異的膜特性之聚醯胺樹 脂及感光性樹脂組合物。進而,本發明所欲解決之問題亦 在於提供一種使用該感光性樹脂組合物之硬化浮凸圖案之 形成方法、具有藉由該方法所形成之硬化浮凸圖案之半導 體裝置。 [解決問題之技術手段] 本發明者們為解決上述問題而進行了努力研究,結果發 現,藉由將由特定原料所製造之聚醯胺作為基質來製造感 光性樹脂組合物,可解決上述問題,且最終完成本發明。 具體而言,本發明係如以下之[丨卜以引: [1]一種聚醯胺樹脂,其係以重複數目為2〜15〇之範圍内 且該重複數目達構成聚醯胺樹脂之所有結構單元總數 80〜100%範圍内之方式含有下述式(1)所示結構單元, [化1]
(1) {式中’ X為碳數6〜15之3價有機基,〇為0或2, Y於功。 為碳數6〜35之2價有機基、於m=2時為碳數6〜35之4價^ 基,可含有碳以外原子、且為碳數5〜2〇之具有至少- 140879.doc 201005002 自由基聚合性不飽和結合基之脂肪族基}。 [2]種聚酿胺樹脂,其係以下述式⑺中之重複數目打達 冓成聚酿胺樹知之所有結構單元總數80%以上之方式含有 下述式(2)所示結構, [化2]
{式中,X為碳數6〜15之3價有機基,111為〇或2,γ於m=〇時 為碳數6〜35之2價有機基、於m=2時為碳數6〜35之4價有機 基’ W為碳數6〜15之2價有機基’ k為1以上之整數,同時 (n+k)為5〜150之整數,Rl可含有碳以外原子、且為具有至 少一個自由基聚合性不飽和結合基之碳數5〜2〇之脂肪族 基}。 [3] —種聚醯胺樹脂’其僅以下述式(3)所示結構作為構 成單元’上述式(3)中之重複數目η係在構成聚醯胺樹脂之 所有結構單元總數80〜100%之範圍内, [化3]
140879.doc • · (3) 201005002 (式尹,X為碳數6〜15之3價有機基,爪為〇或2, γ於m=〇時 為碳數6〜35之2價有機基、於m=2時為碳數6〜35之4價有機 基,W為碳數6〜15之2價有機基,1為〇或1以上之整數同 時(n+1)為2〜150之整數,Rl可含有碳以外原子、且為具有 至少一個自由基聚合性不飽和結合基之碳數5〜2〇之脂肪族 基}。 [4]如上述[1]至[3]中任一項之聚醯胺樹脂其中上述& 為以下述式(4)所表示之基: [化4] s r N—Rj · · - (4〉 {式中,r2為具有至少—㈣纟基聚合性不飽和結合基之 碳數4〜19之脂肪族基}。 [5]如上述[1]至[3]中任一項之聚醯胺樹脂其中上述& 為具有至少一個(甲基)丙烯醯氧甲基之基團。 1
[6]如上述[1]至[3]中任一項之聚醯胺樹脂龙中上述 分別獨立為選自由芳香族基、脂環式基 '、脂肪族 基、石夕氧絲及該等的複合結構之基團所組成之群中之基 團。 [7 ]種感光性樹脂組合物,其包含: (A) 如上述[1]至[6]中任一項之聚醯胺樹脂質量份 (B) 光聚合起始劑0.5〜2〇質量份。 140879.doc 201005002 [8] 如上述[7]之感光性樹脂組合物,其進一步包含相對 於上述(A)聚醯胺樹脂1〇〇質量份為卜4質量份之(c)具有光 聚合性不飽和結合基之單體。 [9] 如上述[7]或[8]之感光性樹脂組合物,其進一步包含 相對於上述(A)聚醯胺樹脂1〇〇質量份為丨〜⑽質量份之(D) 熱父聯性化合物,該(D)熱交聯性化合物為使上述(A)聚醯 胺樹脂發生熱交聯之化合物或者自身形成熱交聯網狀結構 之化合物。 [1 〇]如上述[9]之感光性樹脂組合物,其中上述(D)熱交 聯性化合物具有烷氧甲基作為熱交聯性基。 [11] 如上述[7]至[1〇]中任一項之感光性樹脂組合物其 進一步包含相對於上述(A)聚醯胺樹脂1〇〇質量份為〇1〜25 質量份之(E)矽烷偶合劑。 [12] 如上述[11]之感光性樹脂組合物,其中上述矽烷 偶合劑為具有(二烷氧基)單烷基矽基或(三烷氧基)矽基之 有機梦化合物。 [13] 如上述[7]至[12]中任一項之感光性樹脂組合物,其 進一步包含相對於上述(Α)聚醯胺樹脂1〇〇質量份為〇 i〜1〇 質量伤之(F)苯并三〇坐系化合物。 [14] 一種感光性樹脂組合物溶液,其係包含如上述[7]至 [13 ]中任一項之感光性樹脂組合物與溶劑者。 [15] —種硬化浮凸圖案之形成方法,其包括: 將如上述[7]至[13]中任一項之感光性樹脂組合物或如上 述Π 4]之感光性樹脂組合物溶液塗佈於基材上而形成感 140879.doc 201005002 光性樹脂組合物之塗膜之步驟; 直接或經由圖案化遮罩向該塗膜照射活性光線之曝光步 驟; 利用顯影液將該塗膜的未曝光部溶解除去而形成浮凸圖 案之顯影步驟;及 對該浮凸圖案進行加熱硬化而形成硬化浮凸圖案之步 驟。 [16卜種半導體裝置,其具有藉由如上述叫之硬化浮 凸圖案之形成方法所形成之硬化浮凸圖案。 [發明之效果] 本發明之聚醯胺樹脂及含有其之感光性樹脂組合物即 使以例如2贼以下的低溫加熱硬化條件,亦可提供顯示 出優異㈣化學性之樹脂膜。本發明亦提供使㈣感光性 樹脂組合物之耐化學性為優異之硬化浮凸圖案之形成方 法、及具有藉由該方法所形成之硬化浮凸圖案之半導體裝 置。 【實施方式】 以下’具體說明本發明。再者,本說明書所記載之各式 中,於分子中存在複數個之情形時以相同符號所表示之結 構,可分別為1種、亦可為2種以上之組合。 <聚醯胺樹脂> 本發明之一態樣係提供一種聚醯胺樹脂,其以重複數目 在2〜150之範圍内並且該重複數目達到構成聚醢胺樹脂之 所有結構單元總數的80〜1〇〇%之範圍内之方式而含有以下 140879.doc 201005002 述式(1)所表示之結構單元: [化5]
Ri • · *⑴ {式中,X為碳數6〜15之3價有機基,m為0或2, 丫於㈣ 為碳數6〜35之2價有機基、於㈣時為碳數6〜35之4價有捲 基鳴為可含有碳以外原子之碳數5〜2〇之具有至少—個自 由基聚合性不飽和結合基之脂肪族基}。 W何厢1分于 / ,〜…< Mi风表i 之結構單元的重複數目為2〜15〇,若重複數目為2以上,貝 滿足本發明所期待之作為聚合物之必要條件若重複數目 為150以下,則就製成感光性樹脂組合物時對稀釋溶劑以 溶解性、或顯影處理時料速性等方面而言為較好。以上 述式⑴所表示之結構單元的上述重複數目進而較好的是 2〜1〇〇。再者,於本說明書中’所謂結構單元之重複數: 係指i分子中所存在之該結構單元的數量,該結構單元可 連續地重複亦可介隔著其他結構單元而重複。 於本態樣中,構成聚酿胺樹脂之所有結構單元的 中,以上述式⑴所表示之結構單元的重複數目之比柯在 80〜H)祕之範圍内。若上述比率為8〇%以上,則可將由本 發明感光㈣m組合物所形成之塗膜的感光特性提昇至本 140879.doc -10- 201005002 發明所期待之程度,谁 ./± ^ ^ ^ 進而,亦可使該塗膜之加熱硬化後之 機械物ί生及耐熱性、耐化學性優異至本發明所期待之程 度。上述比率較好的是85%以上。就感光特性及財熱性、 耐化學性之觀點而言,聚醯胺樹脂之結構單元可僅為以上 述式⑴所表示之結構單元(即上述比率為1嶋),但為了進 了步提昇與形成半導體元件之過程中所接觸的各種構成材 料間之密著性、或視f要而賦予各種特性,亦較好的是聚 酿胺樹知具有除上述⑴所表示之結冑單元以外之結構單 元,於此情形時,上述比率為20%以下,較好的是15%以 下。於以上述式(1)所表示之結構單元的重複數目為2及3之 情形時,該重複數目為構成聚醯胺樹脂之所有結構單元總 數的100%。 本發明之另一態樣提供一種如下之聚醯胺樹脂:其係以 下述式(2)中之重複數目n達到構成聚醯胺樹脂之所有結構 單元總數的80%以上之方式而含有以下述式(2)所表示之結 構: [化6]
{式中,X為碳數6〜15之3價有機基,m為0或2,Y於m=〇時 為碳數6~35之2價有機基、於m=2時為碳數6〜35之4價有機 140879.doc •11- 201005002 基’ W為碳數6〜15之2價有機基,k為1以上之整數,同時 (n+k)為5〜150之整數,Rl為可含有碳以外原子之具有至少 個自由基聚合性不飽和結合基之碳數為5〜2〇之脂肪族 基}。上述式(2)中,重複數目n之結構與重複數目k之結構 之排列可為無規亦可為嵌段。 式(2)中之k為1以上之整數,同時(n+k)為5〜15〇之整數。 藉由使k為1以上,而獲得使以重複數目让所表示之各種結 構發生共聚合之效果。同時若(n+k)為5以上,則滿足本發 明所期待之作為聚合物之必要條件,若(n+k)為15〇以下, 則就製備感光性樹脂組合物時對稀釋溶劑的溶解性、或顯 影處理時的迅速性等方面而言為較好。(n+k)較好的是 5〜1〇〇。 於本態樣中,構成聚酿胺樹脂之所有結構單元的總數 中,上述式(2)中之重複數目n之結構單元的數量(即…之比 率為80%以上。若上述比率為8G%以上,則可將由本發明 感光性樹脂組合物所形成之塗膜的感光特性提昇至本發明 所期待之程度’進而可使該塗膜之加熱硬化後之機械物性 及耐熱性、耐化學性優異至本發明所期待之程度。上述比 率較好的是85%以上。 於本態樣中,構成聚醯胺樹脂之所有結構單元的總數 中,上述式(2)中之重複數目k之結構單元的數量(即k)之比 率為20%以下。若上述比率為2〇%以下,則可確保本發明 之優異的感光特性及機械物性、耐熱性、耐化學性,並且 同時進-步提昇與形成半導體元件之過程中所接觸的各種 140879.doc 201005002 構成材料間之密著性,此外可賦予所需之各種特性。上述 比率較好的是15%以下。就達成本發明目的之感光特性及 機械物性、耐熱性、耐化學性之觀點而言,本態樣之聚酿 胺樹脂可僅將以上述式(2)所表示之結構作為結構單元,亦 可具有除上述式(2)所表示之結構以外之結構單元。 於本發明之聚醯胺樹脂的末端為以上述式(丨)或(2)所表 示之結構單元之情形時,分子鏈末端為來自含有以χ所表 示之3價有機基之二羧酸的羧基、或來自含有以γ所表示之 2價或4價有機基之二胺的胺基;但本態樣之聚醯胺樹脂亦 可為該羧基之各種化學修飾物(例如酯化物、醯胺化物 等)及該胺基之各種化學修飾物(例如醯胺化物、胺基甲 酸酯化物、醯亞胺化物等)。 本發明之另一態樣提供一種如下之聚醯胺樹脂:其僅將 以下述式(3)所表示之結構作為結構單元,上述式中之 重複數目η係在構成聚醯胺樹脂之所有結構單元的 80〜1〇〇%之範圍内, [化7]
LrL(A«)m (3) {式中,X為碳數6〜15之3價有機基,111為()或2,¥於瓜= 為碳數6〜35之2價有機基、sm=2時為碳數6〜35之4價肩 140879.doc -13- 201005002 基,w為碳數6〜15之2價有機基,1為〇或1以上之整數同 時(n+l)為2〜150之整數,心為可含有碳以外原子之具有至 夕個自由基聚合性不飽和結合基之碳數5〜20之脂肪族 基}。再者,上述式(3)中’重複數目n之結構與重複數目夏 之結構的排列可為無規亦可為嵌段。 式(3)中之(n+1)為2〜15〇,若(n+1)為2以上,則可滿足本 發明所期待之作為聚合物之必要條件,若(η+ι)為15〇以 下貝i就製備感光性樹脂組合物時對稀釋溶劑#溶解性、 及顯影處理時的迅速性等方面而言為較好。以上述式(3)所⑩ 表不之結構單元之上述重複數目較好的是2〜 於本態樣中’構成聚醯胺樹脂之所有結構單元的總數 中’以重複單元n所表示之結構單元的重複數目之比率係 在80 1〇〇〇/0之範圍内。若上述比率為贈〇以上則可將由 本發明感光性樹脂組合物所形成之塗膜的感光特性提昇至 本發明所期待之程度,進而亦可使該塗媒之加熱硬化後的 機械物性及耐熱性、耐化學性優異至本發明所期待之程 度。上述比率較好的是85%以上。就感光特性及耐熱性、❹ 耐,學性之觀點而言,聚酿胺樹脂之結構單元可僅為以重 複^Tcn所表不之結構單元(η之比率為1〇〇%),但為了進—· 严0昇。形成半導體元件之過程中所接觸的各種構成材料 · 間之密著性、或者視需要而賦予各種特性等,亦較好的是 具有以重複單元1所表示之結構單元,於此情形時,上述 率為20/〇以下,較好的是15%以下若將以重複單元1所 之構單兀设為所有結構單元的總數之20°/。以下,則 I40879.doc • 14 - 201005002 可確保本發明所欲達成之感光特性及機械物性、耐熱性、 耐化學性’並且可賦予所需之各種特性Q於(11+1)為2〜4之 情形時,以重複單元η所表示之結構單元達到構成聚醯胺 樹脂之所有結構單元的總數之1 〇〇〇/0。
本態樣中之聚醯胺樹脂之分子鏈末端為來自含有以又所 表示之3價有機基之一羧酸的叛基、或來自含有以w所表 示之2價有機基之一叛酸的叛基、或來自含有以γ所表示之 2價或4價有機基之二胺的胺基,但亦可為該羧基之各種化 學修飾物(例如酯化物、醯胺化物等)、及該胺基之各種化 學修飾物(例如醯胺化物、胺基甲酸酯化物、醯亞胺化物 等)。 上述式(1)~(3)中’ &為可含有碳以外原子的具有至少一 個自由基聚合性不飽和結合基之碳數5〜2〇之脂肪族基。就 感光特性及耐化學性等觀點而言,Ri較好的是以下述式(4) 所表示之基: [化8]
Ο Η || I R2 * * · (4) {式中’ R·2為具有至少一個自由基聚合性不飽和結合基之 碳數4〜19之脂肪族基}。又,就使感光特性更為優異之觀 點而言’ R〗杈好的是具有至少一個(甲基)丙烯醯氧甲基之 基團。 上述式(1)〜(3)中,以χ所表示之3價有機基,就感光特 140879.doc 15 201005002 性、機械物性、耐熱性、耐化學性等觀點而言,為碳數 6〜15之^價有機基。式⑴〜(3)中以γ所表示之2價或*價有 機基’就感光特性、機械物性、对熱性、耐化學性等觀點 而言’為碳數6〜35之有機基。又,式⑺及(3)中以W所 表示之2價有機基’就感光特性、機械物性、耐熱性、耐 化學性等觀點而言,為碳數6〜15之2價有機基。再者,w 為自二缓酸或其衍生物之結構中除去來自2個缓基的部分 之結構。 於本發明中,就感光特性、機械物性、耐熱性、耐化學鰺 性等觀點而言,上述w、χ&γ較好的是分別獨立為選自由 芳香族基、脂環式基、脂肪族基、矽氧烷基及該等之複合 結構之基團所組成之群令之基團。 上述式(1)〜(3)中,X進而較好的是選自由以下結構所表 示之基團所組成之群中之芳香族基: [化9] ▼贫 〇 而且進而較好的是自胺基取代間苯二甲酸結構中除去幾基 ‘ 及胺基之芳香族基。 式(1)〜(3)中,Υ進而較好的是具有1〜4個可被取代的芳香 族環或脂肪族環之環狀有機基、或者不具有環狀結構之脂 肪族基或石夕氧烧基。至於上述環狀有機基之較佳例,具體 而言可舉出以下之芳香族基或脂環式基: 140879.doc -16- 201005002 [化 ίο]
140879.doc 17 201005002 [化 il]
(式中,A分別獨立為選自由羥基、甲基、乙基、丙基及丁 基所組成之群中之一個基團,丙基及丁基亦包含各種異構 物)。 140879.doc -18- 201005002 [化 12]
{式中,p及q分別獨立為〇〜3之整數’ r為〇〜8之整數,s及t 分別獨立為〇〜10之整數,B為甲基、乙基、丙基、丁基或 該等之異構物}。上述式中,p及q分別表示亞曱基鏈之重 複數目’ r、s&t分別表示取代基B在環上之取代數而且 B表不環上之取代基、尤其是表示碳數卜*之烴基。 又’至於不具有環狀結構之脂肪族基或矽氧烷基之較佳 例’可舉出以下基團: 140879.doc •19· 201005002 [化 13]
{式中,a為2〜12之整數,b為1〜3之整數,c為1~20之整 數’ R3及R4分別獨立為碳數丨〜3之烷基或亦可被取代之苯 基}。 式⑺及(3)中之W,較好的是分別為芳香族基、脂助 基或脂環式基。作為較佳之芳香族基,可舉出以下之 團: 140879.doc -20. 201005002 [化 14]
以如下方式合成 本發明之聚醯胺樹脂,例如可 苯二甲酸化合物封端物之合成 第一’使具有3價芳香族基沿盘卜、+、々4 | 天丞入(與上述各式中的χ相對應 之基團)之化合物、例如選自由經胺基取代之鄰苯二甲 酸、經胺基取代之間苯二甲酸及經胺基取代之對苯二甲酸 所組成之群中的1種以上之化合物(以下稱為「苯二甲酸化 140879.doc -21 - 201005002 合物」)1莫耳’與1種以上之和胺基發生反應之化合物1莫 耳進行反應,而合成以1種以上之下述含有自由基聚合性 不餘和鍵之基團對該苯二甲酸化合物的胺基進行修飾及封 端之化合物(以下稱為「苯二曱酸化合物封端物」)。 以上述含有自由基聚合性不飽和鍵的基團對苯二甲酸化 合物進行封端之結構’可賦予聚醯胺樹脂以負型之感光性 (即光硬化性)。就感光特性及耐化學性之觀點而言,含有 自由基聚合性不飽和鍵之基團,較好的是含有自由基聚合 性不飽和結合基之碳數5〜20之脂肪族基,尤其好的是含有 甲基丙稀醯氧甲基及/或丙稀酿氧曱基之脂肪族基。 上述苯二甲酸化合物封端物,可藉由使苯二甲酸化合物 之胺基與具有至少一個自由基聚合性不飽和結合基之碳數 5〜2 0之知肪族醯氣、脂肪族異氰酸醋或脂肪族環氧化合物 等發生反應而獲得。至於適宜的脂肪族醯氯,可舉出:2_ [(甲基)丙烯醯氧基]乙醯氣、3_[(甲基)丙烯醯氧基]丙醯 氯、2-[(甲基)丙婦酿氧基]乙基氣甲酸醋、3·[(曱基)丙稀 酿氧丙基]氣甲酸酯等。至於適宜的脂肪族異氰酸酿,可 舉出:異氰酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、異氰酸雙[(甲 基)丙烯醯氧f基]乙酯、異氰酸2_[2-(甲基)丙烯醯氧乙氧 基]乙酯等。至於適宜的脂肪族環氧化合物,可舉出(甲美) 丙烯酸縮水甘油酯。該等可單獨使用,亦可將2種以上混 合使用。尤其好的是使用異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙醋。 進而,苯二甲酸化合物封端物中,因笨二甲酸化合物為 5-胺基間苯二甲酸者可獲得感光特性優異同時加熱硬化後 140879.doc -22· 201005002 的膜特性優異之聚醯胺樹脂,故為較好 上述封端反應,可藉由在吡咬等 疋哥驗性觸媒或二月桂酸一 正丁基錫等錫系觸媒的存在下腺站 牡卜將本二甲酸化合物與封端劑 於反應溶劑中攪拌溶解及混合而進行。 作為反應溶劑,較好的是將作兔 作為產物之苯二曱酸化合物 封端物完全溶解者,例如可裹屮. 举出· N-甲基_2_吡咯啶嗣、 N,N-二甲基乙醯胺、N,N_二甲某 甲酿胺、二曱基亞礙、四 甲基脲、γ-丁内酯等。
至於反應溶劑’除上述以外尚可奧山. r肉了舉出:酮類、酯類、内 醋類、醚類、齒化烴類及烴類,例如可舉出:丙酮、甲基 乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、乙酸”旨、乙酸乙醋、 乙酸丁醋、草酸二乙醋、乙二醇二甲基_、二乙二醇二甲 基騎、四氫吱忙氣甲院、U2_二氣乙烷、m_二氣丁 烷、氣苯、鄰二氣苯、己烷、庚烷、笨、甲苯、及二曱苯 等。該等溶劑視需要可單獨使用,亦可將2種以上混合使 用。 醯氣等視封端劑之種類,在封端反應的過程中會副產生 氣化氫。於此情形時,亦為了防止後續步驟之污染較好 的是適當進行如下之純化:對產物暫時進行水再沈澱並進 行水洗乾燥,或者使其在填充有離子交換樹脂之管柱中通 過從而將離子成分除去減少等。 聚酿胺樹脂之合成 第二,將上述苯二甲酸化合物封端物與具有2價或4價有 機基Y(與上述各式中之γ相對應之基)之二胺化合物於吡 140879.doc -23- 201005002 啶、二乙胺等鹼性觸媒的存在下於適當溶劑中加以混合, 使之進行醯胺聚縮合,藉此可獲得本發明之聚醯胺樹脂。 視需要,亦可將苯二f酸化合物封端物的一部分替換成 具有2價有機基W(與上述各式中之w對應之基團)之二缓酸 而加以併用。關於併用比率,較好的是將來自苯二甲酸化 合物封端物之結構的數量於聚醯胺樹脂之所有結構單元的 總數中之比例設為80%以上、100%以下。若為該併用比 率則可使紫外線曝光時之感光特性及加熱硬化後之膜特 性、尤其是耐化學性提昇至本發明所期待之水準。 馨 至於上述醯胺聚縮合之方法,可舉出:在利用脫水縮合 劑將一羧酸成分(苯二甲酸化合物封端物及具有2價有機基 W之二羧酸,以下相同)製成對稱聚酸酐之後與二胺化合物 混合之方法;在利用公知方法將二羧酸成分酿氣化之後與 一胺化合物混合之方法;在使二羧酸成分與活性酯化劑於 脫水縮合劑的存在下反應而進行活性酯化之後將產物與 二胺化合物混合之方法等。 至於較佳之脫水縮合劑,例如可舉出:二環己基碳二醯 ❿ 亞胺(dicyclohexykarbodiimide)、1-乙氧基羰基 _2_ 乙氧基 _ 1,2-二氫喹啉、羰基二氧基-二-^义苯并三唑、^^^- 二玻珀醯亞胺基碳酸酯等。 至於氣化劑’可舉出亞硫醯氯等。 至於活性酯化劑,可舉出:N_羥基琥珀醯亞胺、卜羥基 苯并三唑、N·羥基-5-降莰烯_2,3_二羧酸醯亞胺、2_羥基亞 胺基-2-氰基乙酸乙酯、2_羥基亞胺基_2_氰基乙醯胺等。 140879.doc •24· 201005002 至於具有2價有機基W之二羧酸,可舉出:鄰苯二曱 酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、4,4匕二苯基醚二甲酸、 3,4’-二苯基醚二甲酸、3,3·-二苯基醚二甲酸、4,4·-聯苯二 甲酸、3,4'-聯苯二甲酸、3,3匕聯苯二甲酸、4,4’-二苯甲鲷 二甲酸、3,4·-二苯甲酮二甲酸、3,3·-二苯甲酮二甲酸、 4,4’-六氟亞異丙基二苯曱酸、4,4·-二羧基二苯基醯胺、 1,4-伸苯基二乙酸、ι,ΐ-雙(4-羧基苯基)-1-苯基_2,2,2-三氟 乙烷、雙(4-羧基苯基)硫醚、雙(4-羧基苯基)四苯基二矽氧 烷、雙(4-羧基苯基)四甲基二矽氧烷、雙(4-羧基苯基)颯、 雙(4-羧基苯基)曱烷、5-第三丁基間苯二甲酸、5_漠間苯 一曱酸、5 -氟間苯二甲酸、5 -氣間苯二甲酸、4-經基間苯 二甲酸、5-羥基間苯二甲酸、4_磺基間苯二甲酸、5_磺基 間苯二曱酸、N_(3,5•二羧基苯基)_N,_乙氧基羰基脲、 (3,5-二羧基苯基)降莰烯醯亞胺、2,2_雙(對羧基苯基)丙 烷4,4 (對伸笨基二氧基)二苯甲酸、2,6_萘二曱酸等之 芳香族二幾酸;除此以外,可舉出:琥拍酸、己二酸、辛 一酸、癸—酸、反丁烯二酸、順丁烯二酸、蘋果酸、 :己烧二甲酸、M•環己燒二甲酸、%降获烯·2,3_二甲酸 等之脂肪族二羧酸及脂環式二羧酸。 作為含有機基γ之二胺化人铷 一 化口物,較好的是選自由芳香族 一胺化合物、芳香族雙胺 物、亩舖肸# 埘化》物、脂環式二胺化合 直鏈知肪族二胺化合物及 群中之至小^ 軋烷二胺化合物所組成之 夕―種二胺化合物,相堂φ + $ ^ V;. 視需要亦可併用複數種。 王於方香族二胺化合物, 了舉出:對苯二胺、間笨二 140879.doc -25- 201005002 胺、4,4’-二胺基二苯基醚、3,4'-二胺基二苯基醚、3,3’-二 胺基二苯基謎、4,4匕二胺基二苯基硫鍵、3,4'-二胺基·一本 基硫醚、3,3'-二胺基二苯基硫醚、4,4'-二胺基二苯基颯、 3,4’-二胺基二苯基砜、3,3·-二胺基二苯基颯、4,4’-二胺基 聯苯、3,4’-二胺基聯苯、3,3'-二胺基聯苯、4,4’-二胺基二 苯甲酮、3,4'-二胺基二苯甲酮、3,3,-二胺基二苯甲酮、 4,4'-二胺基二苯基曱烷、3,4·-二胺基二苯基甲烷、3,3·-二 胺基二苯基甲烷、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、ι,3-雙(4-胺基 苯氧基)苯、1,3-雙(3-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧 基)苯基]砜、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]颯、4,4’-雙(4-胺基 苯氧基)聯苯、4,4'-雙(3-胺基苯氧基)聯苯、雙[4-(4-胺基 苯氧基)苯基]醚、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]醚、1,4-雙(4-胺基苯基)苯、1,3-雙(4-胺基苯基)笨、9,10-雙(4-胺基苯 基)蒽、2,2-雙(4-胺基苯基)丙烷、2,2-雙(4-胺基苯基)六氟 丙烷、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(4-胺 基本乳基)苯基]六氟丙烧、1,4 -雙(3 -胺基丙基二曱基石夕基) 苯、鄰-聯甲苯胺礙、9,9-雙(4-胺基苯基)苐,以及該等苯 環上的一部分氫原子經選自由曱基、乙基、羥基甲基、經 基乙基及_素原子所組成之群中的至少一種以上的基團所 取代之二胺化合物。 至於該苯環上的氫原子經取代之二胺化合物之例,可舉 出:3,3’·二甲基-4,4·-二胺基聯苯、2,2,-二甲基_4,4,-二胺 基聯苯、3,3,-二甲基-4,4’-二胺基二苯基甲烷、2,2,_二甲 基-4,4’-二胺基二苯基甲烷、3,3,_二甲氧基_4,4,·二胺基聯 140879.doc • 26- 201005002 苯、3,3’-二氣_4,4,_二胺基聯苯等。 至於芳香族雙胺基紛化合物,可舉出:3,3'-二羥基聯苯 胺、3,3’-二胺基_4,4’_二羥基聯苯、3,3'-二羥基-4,4'-二胺 基二苯基硬、雙(3-胺基-4-羥基苯基)甲烷、2,2-雙(3-胺基-4-經基苯基)丙烷、2,2-雙(3-胺基-4-羥基苯基)六氟丙烷、 2,2-雙(3-羥基-4-胺基苯基)六氟丙烷、雙(3-羥基-4-胺基苯 基)甲烧、2,2-雙(3-羥基-4-胺基苯基)丙烷、3,3,-二羥基-4,4'-二胺基二苯甲酮、3 3ι_二羥基_44,二胺基二苯基醚、 4,4’-二羥基_3,3’-二胺基二苯基醚、2,5-二羥基-1,4-二胺基 苯、4,6-二胺基間苯二酚、151_雙(3_胺基_4_羥基苯基)環己 烧、4,4-(α-甲基亞苄基)_雙(2_胺基苯酚)等。 至於脂環式二胺化合物,可舉出:二胺基環戊烷、 1,3-二胺基環己烷、ι,3-二胺基甲基環己烷、3,5-二胺 基-1,1-二甲基環己烷、15-二胺基-。、二曱基環己烷、 1,3·二胺基-1-曱基_4_異丙基環己烷、1,2-二胺基-4-甲基環 己烧、1,4-二胺基環己烧、ι,4_二胺基_2,5_二乙基環己 烧、1,3-雙(胺基甲基)環己烷、1,4-雙(胺基甲基)環己烷、 2-(3-胺基環戊基)_2-丙基胺、薄荷烧二胺(menthane diamine)、異佛 _ 二胺(iSOph〇rone diamine)、降莰烧二胺 (norbornane diamine)、1-環庚烯_3,7_二胺、4,4’-亞甲基雙 (環己基胺)、4,4'-亞曱基雙(2-甲基環己基胺)、1,4-雙(3-胺 基丙基)哌畊、3,9-雙(3-胺基丙基)-2,4,8,10-四氧雜螺-[5,5]-十一烷等。 至於直鏈脂肪族二胺化合物,可舉出:1,2-二胺基乙 140879.doc •27· 201005002 烧、1,4-二胺基丁烷、丨,6_二胺基己烷、18_二胺基辛烷、 1,10-一胺基癸烧、1,12_二胺基十二院等之烴型二胺;2_ (2-胺基乙氧基)乙基胺、2,2,·(伸乙二氧基)二乙基胺、雙 [2 (2胺基乙氧基)乙基]醚等之氧化伸炫基型二胺等。 至於矽氧烷二胺化合物,可舉出二甲基(聚)矽氧烷二 胺’例如信越化學工業製造之商標名PAm_E、KF-8010、 X-22-161A 等。 作為反應溶劑’較好的是將所生成之聚合物完全溶解之 ;谷劑,例如可舉出:N-甲基-2-吼略咬鲷、n,N-二甲基乙 ❹ 醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、二甲基亞砜、四甲基脲、γ_ 丁 内酯等。 除此以外,視情形亦可使用酮類、酯類、内酯類、醚 類、烴類、南化烴類作為反應溶劑。具體可舉出:丙酮、 甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環已酮、乙酸甲酯、乙酸乙 酯、乙酸丁酯、草酸二乙酯 '乙二醇二甲基醚、二乙二醇 二甲基醚、四氫呋喃、二氣甲烷、U2_二氣乙烷、込‘二 氣丁烷、氯苯、鄰二氣苯、己烷、庚烷、苯、甲苯、二曱 ❹ 苯等。 在醯胺聚縮合反應結束後,視需要將反應液中所析出之 ‘ 來自脫水縮合劑之析出物等進行過濾分離。繼而,向反應 液中投入水或脂肪族低級醇或者其混合液等之聚醯胺的不 ‘ 良溶劑’使聚醯胺析出。進而,反覆進行使所析出的聚醯 胺再溶解於溶劑、再沈澱析出之操作,藉此進行純化,再 進打真空乾燥’而分離出目標之聚醯胺。再者,為了使純 140879.doc -28- 201005002 化度進一步提昇,亦可使該聚醯胺之溶液在填充有離子交 換樹脂之管柱中通過從而將離子性雜質除去。 本發明聚醯胺樹脂之利用凝膠透析層析法(以下稱為 「GPC」)所獲得之聚苯乙烯換算重量平均分子量較好的是 7,000〜70,000,進而較好的是1〇 〇〇〇〜5〇 〇〇〇。若聚苯乙烯 換算重量平均分子量為7,000以上’則硬化浮凸圖案之基 本物性為良好。又,若聚苯乙烯換算重量平均分子量為 70,000以下,則形成浮凸圖案時之顯影溶解性為良好。
作為GPC之溶離液,推薦四氫呋喃及N_甲基_2_吡咯啶 酮。又,重量平均分子量值係根據利用標準單分散聚笨乙 烯所製成之校正曲線而求出。作為標準單分散聚笨乙稀, 推薦自昭和電工製造之有機溶劑系標準試樣standard SM-105中加以選擇。 <感光性樹脂組合物> 本發明亦提供一種包含(A)上述本發明之聚醯胺樹脂(以 下亦稱為(A)聚醯胺樹脂)100質量份、及(B)光聚合起始劑 0.5〜20質量份之感光性樹脂組合物。本發明感光性樹脂組 合物中可使用之(A)聚醯胺樹脂之具體態樣如上所述。於 本發明之感光性樹脂組合物中,就賦予感光特性之觀點而 言’係將上述(A)聚醯胺樹脂與(B)光聚合起始劑組合使 用。 (B)光聚合起始劑 作為(B)光聚合起始劑’可使用作為聚醯胺光聚合起始 劑之先前公知的任意化合物。至於較佳之例,例如可舉 140879.doc -29- 201005002 出: [1] 二苯甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4_苯甲醯基_4,_甲 基二苯基酮、二苄基酮、苐酮等之二苯甲酮衍生物,· [2] 2,2'-二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、2,2-二甲 氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、羥基環己基苯基酮、2-甲 基-1-[4-(曱硫基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-酮、2-羥基-l-{4-[4-(2-羥基-2-f基丙醯基)苄基]苯基卜2-甲基丙烧-1-酮、 苯基乙醛酸甲酯等之苯乙酮衍生物; [3J9-氧硫咄p星、2-甲基-9-氧硫咄p星、2-異丙基-9-氧硫咄 口星、二乙基-9-氧疏p山p星等之9-氧硫u山p星衍生物 [4] 二苯甲醯(benzil)、二苯甲醯二f基縮酮、二苯甲醯_β_ 曱氧基乙縮醛等之二苯甲醯衍生物; [5] 安息香、安息香甲基醚、2_羥基_2-甲基-^苯基丙烷 酮等之安息香衍生物 [6] 1-苯基-1,2-丁二酮_2·(〇_甲氧基羰基)肟、丨·苯基-L2-丙 二綱_2-(〇-甲氧基羰基)肪、1-苯基-1,2-丙二酮-2-(〇-乙氧 基羰基)肟、1-苯基-1,2-丙二酮-2-(0-苯甲醯基)肟、ι,3-二 笨基丙三酮-2-(0-乙氧基羰基)肟、1-苯基_3_乙氧基丙三 酮-2-(0-苯曱醯基)厢、12_辛二酮,丨#^苯硫基)_,2 (〇苯 曱醢基肟)]、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-曱基苯曱醯基)_9H-味峻_ 3-基]-,1-(〇_乙醯基肟)等之肟系化合物; [7] 2-羥基_2·甲基-1-苯基丙烷_1_酮、1-[4-(2-羥基乙氧基) 苯基]·2-羥基_2_曱基-1-丙烷-1-酮、2-羥基-1-{4_[4_(2_羥 基-2-甲基丙醯基)苄基]苯基卜2_曱基丙烷等之心羥基酮系 140879.doc -30- 201005002 化合物; [8] 2苄基2-一甲基胺基4(4-嗎啉基苯基)丁酮丨、二甲 基胺基2-(4-甲基节基)小⑷嗎淋4-基苯基)丁烧小綱等 之α-胺基烷基苯酮系化合物; [9] 雙(2,4,6-二甲基苯甲醯基)苯基膦氧化物、雙(26_二甲 氧基苯甲酿基)-2,4’4-三甲基.戊基膦氧化物、2,4,6_三甲基 苯甲醯基-二苯基膦氧化物等之膦氧化物系化合物; [1〇]雙(η5-2,4-環戊二婦+基).雙(26_二氟_3(1Η|ΐ比略-卜 基)苯基)鈦等之二茂鈦化合物等。又,該等光聚合起始 劑’視需要可單獨使用亦可使用2種以上之混合物。 上述光聚合起始劑中,尤其就光感度方面而言,進而較 好的是[6]之肟類。(Β)光聚合起始劑相對於(Α)聚醯胺樹脂 100質量份之調配量較好的是0·5〜2〇質量份,進而較好的 是1〜10質量份。於上述調配量為〇 5質量份以上之情形 時’在進行曝光時可供給使光自由基聚合充分進行之自由 基’可確保在實用上為充分良好之光感度,從而可獲得適 於實用之浮凸圖案。又,於上述調配量為20質量份以下之 情形時,在對塗佈有感光性樹脂組合物之基板進行曝光 時,可使曝光光線良好地抵達至基板面附近,因而可於膜 厚方向上進行均勻的光自由基聚合,從而可獲得適於實用 之浮凸圖案。 (C)具有光聚合性不飽和鍵之單體 為了使感度及解析度等感光特性提昇’本發明之感光性 樹脂組合物中可進一步包含(C)具有光聚合性不飽和鍵之 140879.doc •31 - 201005002 單體。作為(c)具有光聚合性不飽和鍵之單體,較好的是 可利用上述(B)光聚合起始劑進行自由基聚合之(甲基)丙烯 酸系化合物,例如可舉出:聚乙二醇二丙烯酸酯(各乙二 醇單元數為2〜20)、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯(各乙二醇單 7L數為2〜20)、聚(1,2-丙二醇)二丙烯酸酯、聚(12丙二醇) 二曱基丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇二甲基 丙烯酸酯、甘油二丙烯酸酯、甘油二甲基丙烯酸酯、二季 戊四醇六丙烯酸酯、亞曱基雙丙烯醯胺、N_羥曱基丙烯醯 胺、乙二醇二縮水甘油醚_曱基丙烯酸加成物甘油二縮 _ 水甘油基醚-丙烯酸加成物、雙酚A二縮水甘油基醚_丙烯 酸加成物、雙酚A二縮水甘油基醚曱基丙烯酸加成物、 N,N -雙(2-甲基丙烯醯氧乙基)脲等。該等視需要可單獨使 用亦可將2種以上混合使用。 (C)具有光聚合性不飽和鍵之單體相對於(A)聚醯胺樹脂 1〇〇質量份之調配量較好的是i〜4〇質量份,進而較好的是 1〜20質量份。於上述調配量為i質量份以上之情形時在 進行曝光時曝光部的光交聯(光自由基聚合)可充分進行,Q 可確保在實用上為充分良好之光感度’從而可獲得適於實 用之浮凸圖案。又’於上述調配量為40質量份以下之情形 時可抑制由於光自曝光部漏出所造成之未曝光部之不需 要的光硬化、即顯影後殘渣,從而可獲得適於實用之浮凸 . 圖案。進而,即使在進行低溫硬化時亦可抑制成為來自硬 化膜的逸氣成分之殘存單體成分,因而較好。 (D)熱交聯性化合物 140879.doc •32· 201005002 為了使加熱硬化後之膜特性(尤其是耐熱性)提昇,本發 明之感光性樹脂組合物可進一步包含(D)熱交聯性化合 物。(D)熱交聯性化合物係使(A)聚醯胺樹脂發生熱交聯之 化合物、或者其自身形成熱交聯網狀結構之化合物。作為 (D) 熱交聯性化合物’適宜使用具有烷氧甲基作為熱交聯 性基之化合物,例如胺基樹脂或其衍生物。其中,適宜使 . 用脲樹脂、甘脲樹脂、羥基伸乙基脲樹脂、三聚氰胺樹 脂、苯并胍胺(benzoguanamine)樹脂、以及該等之衍生 _ 物。尤其好的是六甲氧基甲基化三聚氰胺。 (D)熱交聯性化合物相對於(a)聚醯胺樹脂丨〇〇質量份之 調配量較好的是1〜20質量份’進而較好的是3〜15質量份。 於上述調配量為1質量份以上之情形時,可使本發明感光 性樹脂組合物在加熱硬化後之膜特性進一步提昇。又,於 上述調配量為20質量份以下之情形時,即使在進行低溫硬 化時亦可抑制成為來自硬化膜的逸氣成分之殘存單體成 分。 (E) 矽烷偶合劑 為了使顯影時之密著性等感光特性提昇,較好的是本發 明之感光性樹脂組合物中包含(E)矽烷偶合劑。作為(E)矽 ,烷偶合劑,較好的是具有(二烷氧基)單烷基矽基或(三烷氧 基)石夕基之有機矽化合物,例如可舉出以下述式所表示之 化合物: [化 15] 140879.doc 33· 201005002
{式中,g為1或2之整數,g為1時2為2價之芳香族基,居為2 時Z為4價之芳香族基,G為含有直接與矽原子鍵結的碳原 子之2價之有機基,d為0或1之整數,Rs為氫原子或^賈^ 烴基,R6及R·;分別獨立為碳數1〜4之烧基,而且6為〇咬1之 整數}。 上述矽烷偶合劑,可藉由使具有胺基之(二烷氧基)單烷 基碎基化合物或(二炫乳基)石夕基化合物與二敌酸軒或四緩 酸二酐及其衍生物等反應而獲得。 作為二羧酸酐或四羧酸二酐及其衍生物,可使用各種結 構者,例如可舉出:順丁烯二酸酐、鄰苯二曱酸野、丨,2_ 環己烷二甲酸酐、4_曱基環己烷-1,2-二甲酸酐、卜環己烯_ 1,2_—甲酸酐、5-降获稀-2,3-二甲酸奸、1,2_萘二曱酸針、 1,8-萘二甲酸酐、均苯四甲酸二酐、3 3,,4 4,二苯甲酮四 甲酸一酐、3,3',4,4'-二苯基石風四甲酸二軒、2,2-雙(3,4-二 叛基本基)六氟亞異丙基四曱酸二酐、3,3,,4,4'-二苯基醚四 甲酸二酐、丨,2,]〆-環戊烷四甲酸二酐、1,2,4,5-環己烷四 甲酸二酐、3,3,,4,4’-二苯基四甲酸二酐等。 其中’若考慮對底層基板之優異的接著性之效果及價 格’則尤其適宜的是鄰苯二甲酸酐及3,3,,4,4,-二苯甲酮四 曱酸二酐。 140879.doc -34- 201005002 作為具有胺基之(二烧氧基)早烧基梦基化合物及(三燒氧 基)矽基化合物,可使用各種結構者,例如可舉出如下者 (以下,烷氧基之表述係指甲氧基或乙氧基): 2-胺基乙基三烷氧基矽烷、3-胺基丙基三烷氧基矽烷、 3-胺基丙基三烷氧甲基矽烷、2-胺基乙基胺基甲基三烷氧 基石夕烧、2-胺基乙基胺基曱基二燒氧曱基石夕烧、3_(2_胺基 乙基胺基丙基)三烷氧基矽烷、3-(2-胺基乙基胺基丙基)二 烧氧甲基石夕烧、3-稀丙基胺基丙基三烧氧基石夕烧、2_(2_胺 ® 基乙硫基乙基)三烷氧基矽烷、2-(2-胺基乙硫基乙基)二烷 氧甲基矽烧、3-哌畊基丙基三烷氧基矽烷、3_哌畊基丙基 二院氧甲基矽烷、環己基胺基丙基三烷氧基矽烷等。 若考慮對底層基板的接著性之效果及價格,則尤其適宜 的是3·胺基丙基三乙氧基矽烷。 除此之外’亦可將上述作為具有胺基之(二烷氧基)單烷 基矽基化合物及(三烷氧基)矽基化合物而舉出者直接用作 矽烷偶合劑。 進而可舉出:N-三烷氧基矽基-丨又肛三唑、N-三烷氧基 石夕基咪唑、N-三烷氧基矽基吡咯、N_三烷氧基矽基吡啶、 N-三烷氧基矽基吡咯啶、哌啶基甲基三烷氧基矽烷、2_哌 唉基乙基三烷氧基矽烷、3-嗎啉基丙基三烷氧基矽烷、3_ 0底呼基丙基三烧氧基矽烷、3-哌啶基丙基三烷氧基矽烷、 3-(4-曱基哌畊基丙基)三烷氧基矽烷、3_(4·甲基哌啶基丙 基)三烷氧基矽烷、4-(2-三烷氧基矽基乙基)吡啶、N_(3_s 烷氧基矽基丙基)-4,5-二氫咪唑、2-(2-三烷氧基矽基乙基) 140879.doc -35- 201005002 °比啶、N-(3_三烷氧基矽基丙基)°比咯等之含雜環之有機矽 化合物。 進而可舉出:乙烯基三烷氧基矽烷、1-丙烯基三烷氧基 夕炫2-丙烯基二燒氧基石夕炫、3-甲基丙稀醯氧丙基三炫 氧基矽烷、3-丙烯醯氧丙基三烷氧基矽烷、3_甲基丙烯醯 氧丙基甲基二烷氧基矽烷、3_丙烯醯氧丙基甲基二烷氧基 矽烷、對苯乙烯基三烷氧基矽烷、對(丨丙烯基苯基)三烷 氧基矽烷、對(2-丙烯基苯基;>三烷氧基矽烷等之含碳-碳不 飽和鍵之有機矽化合物。 進而可舉出:2-(3,4-環氧環己基)乙基三烷氧基矽烷、3_ 縮水甘油氧基丙基三烷氧基矽烷、3_縮水甘油氧基丙基甲 基一烧氧基碎烧、對苯乙稀基三烧氧基碎烧、N_(2_胺基 乙基)-3-胺基丙基三烷氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)_3_胺基 丙基甲基二烷氧基矽烷、3-三烷氧基矽基_N_(1,3_二曱基_ 亞丁基)丙基胺、N-苯基-3-胺基丙基三烧氧基石夕炫、3_腺 基丙基二烧氧基石夕烧、3 -腺基丙基甲基二烧氧基石夕烧、3_ 酼基丙基二烧乳基碎烧、3 -疏基丙基甲基二烧氧基石夕烧、 雙(三烷氧基矽基丙基)四硫化物、3_異氰酸基丙基三院氧 基石夕烧、6-三炫氧基碎基-2-降获歸、二烧氧基十二烧基甲 基石夕烧、3-(三烧氧基石夕基)丙基號珀酸酐、n-(3-二烧氧甲 基梦基丙基)琥ίό醯亞胺、N-[3-(三院氧基碎基)丙基]鄰胺 曱醯苯曱酸、N-[3-(三烷氧基矽基)丙基]鄰笨二曱醯亞 胺、N-[3-(二烧氧基矽基)丙基]鄰苯二曱醯亞胺等。 (E)矽烷偶合劑’可為單獨一種亦可為2種以上之混合 140879.doc -36- 201005002 物。(E)矽烷偶合劑相對於(A)聚醢胺樹脂ι〇〇質量份之調配 量較好的是0·卜25質量份,進而較好的是^心質量份。 於上述調配量為〇]質量份以上之情形時,改善感光性樹 脂對底層基板㈣著性之效果為良好。又,於上述調配量 為25質量份以下之情形時,對感光性樹脂組合物中之由於 矽烷偶合劑彼&的暗反應所造成的析出之擔心大幅減少。 (F)苯并三唾系化合物
為了使基板(尤其係銅基板)上之感光性樹脂的密著性提 昇、或者抑制該銅基板之變色,較好的是本發明之感光性 樹脂組合物中包含(F)苯并三唑系化合物。至於苯并三 唑系化合物,例如可舉出:苯并三唑、雙(2_乙基 己基)胺基甲基]苯并三°坐、4(或5)-叛基苯并三唑、4(或5)-甲基苯并三唑、1-[Ν,Ν_雙(2_乙基己基)胺基甲基]_4(或5)_ 甲基苯并三唑、1-[Ν,Ν-雙(羥基乙基)胺基甲基]_4(或5)-曱 基笨并三吨、羥基曱基苯并三唑、1-[(2-乙基己基胺基) 甲基]笨并三唑、1-(1,,2·-二羧基乙基)苯并三唑、N_苯并三 °坐基甲基脲、2,6-雙[(1H-苯并三唑-1-基)曱基]4-甲基苯 齡、1-(2,3-二羧基丙基)苯并三唑、2-第三丁基_4_甲基-6-[(1H_苯并三唑-1-基)曱基]苯酚、2,4-二-第三丁基-6-[(1Η-苯并三唾-1-基)甲基]苯酚、4(或5)-硝基苯并三唑等。 其中’尤其好的是4(或5)-叛基苯并三"坐、4(或5)-甲基苯 并三唑。 (F)苯并三唑系化合物,可為單獨一種亦可為2種以上之 混合物。(F)苯并三唑系化合物相對於(A)聚醢胺樹脂1〇〇質 140879.doc -37· 201005002 量份之調配量較好的是質量份,進而較好的是〇 5〜5 質量份。於上述調配量為0.1質量份以上之情形時,可使 基板(尤其是銅基板)上之感光性樹脂的密著性提昇,並且 可使抑制銅基板變色之效果良好地表現。又,於上述調配 量為10質量份以下之情形時,可抑制基板(尤其是鋼基板) 上之感光性樹脂的密著性之下降。 其他成分:增感劑 視需要,感光性樹脂組合物中亦可含有用以提昇光感度 之增感劑。至於此種增感劑,例如可舉出:米其勒酮、 4,4’-雙(二乙基胺基)二苯甲嗣' 2,5•雙(4,_二乙基胺基亞节 基)環戊酮、2,6-雙(4,-二乙基胺基亞苄基)環己酮、2,6-雙 (4'-二曱基胺基亞苄基)-4-甲基環己_、26雙(4,二乙基胺 基亞苄基)-4-甲基環己酮、4,4,-雙(二甲基胺基)查耳酮、 4,4'-雙(二乙基胺基)查耳酮、2_(4’_二甲基胺基亞桂皮基) 茚酮、2-(4·-二曱基胺基亞苄基)茚酮、2_(對_4,_二甲基胺 基聯苯基)苯并噻唑、1,3-雙(4-二甲基胺基亞苄基)丙酮、 !,3-雙(4-二乙基胺基亞苄基)丙酮、3,3,-幾基_雙(7_二乙基 胺基香豆素)、3 -乙醯基-7-二甲基胺基香豆素、3_乙氧基 羰基-7-二曱基胺基香豆素、3-苄氧基羰基_7_二甲基胺基 香豆素、3 -甲氧基幾基-7-二乙基胺基香豆素、、乙氧基幾 基—乙基胺基香丑素、N-苯基·Ν-乙基乙醇胺、N_苯基 二乙醇胺、Ν-對甲苯基二乙醇胺、Ν-苯基乙醇胺、队沁雙 (2 -1%基乙基)本胺、4 -嗎琳基一苯甲嗣、4 -二甲美胺基苯 甲酸異戊酯、4-二乙基胺基苯曱酸異戊酯、丨,2,3_苯并三 140879.doc -38 * 201005002 峻、2-巯基苯并咪唑、丨-苯基_5-巯基-^,允肛四唾、丨環 己基-5-巯基-1,2,3,4-四唑、1-(第三丁基)-5_巯基“,^心 四唑、2·毓基苯并噻唑、2-(對二甲基胺基苯乙烯基)笨并 哼唑、2·(對二甲基胺基苯乙烯基)苯并噻唑、(對二甲基 胺基苯乙烯基)萘幷(l,2-p)嗟唑、2-(對二甲基胺基苯甲酿 基)苯乙烯等。 所使用之增感劑,可為單獨一種亦可為2種以上之混合 物。相對於(A)聚醯胺樹脂1〇〇質量份,增感劑之調配量較 好的是0〜15質量份’進而較好的是1〜1〇質量份。 其他成分:聚合抑制劑 視需要’以提昇保存時之感光性樹脂組合物溶液的黏度 及光感度的穩定性為目的’本發明之感光性樹脂組合物中 亦可含有聚合抑制劑。至於此種聚合抑制劑,例如可舉 出:對苯二酚、N-亞硝基二苯基胺、對第三丁基鄰苯二 酚、啡噻畊(phenothiazine)、N-苯基萘胺、乙二胺四乙 酸、1,2-環己二胺四乙酸、乙二醇謎二胺四乙酸、26_二胃 第三丁基-對甲基苯酚、5-亞硝基羥基喹啉、亞確基_ 2-萘酚’ 2-亞硝基-1·萘酚、2-亞硝基-5-(N-乙基_N_磺丙基 胺基)苯酚、N-亞硝基-N-苯基羥基胺銨鹽、N_亞硝基_N_ 苯基羥基胺銨鹽、N-亞硝基萘基)羥基胺銨鹽、雙 (4-經基-3,5-二-第三丁基)苯基甲燒等。 相對於(A)聚醯胺樹脂100質量份,聚合抑制劑之調配量 較好的疋0〜5質量份,進而較好的是〜1質量份。於上 述調配量為5質量份以下之情形時,不會阻礙所期待之光 140879.doc -39- 201005002 交聯反應,可良好地確保適於實用之光感度。 本發明之感光性樹脂組合物中,只要不阻礙本發明之效 果’視需要除上述以外亦可適當調配人散射光吸收劑塗 膜平滑性賦予劑等各種添加劑。 <感光性樹脂組合物溶液>
本發明亦提供一種感光性樹脂組合物溶液,其係由上过 本發明之感光性樹脂組合物與溶劑所構成。較好的是使用 藉由將溶劑添加至感光性樹脂組合物中而調整黏度之感光 性樹脂組合物溶液。作為適宜的溶劑,可舉出:N,N_二甲 基甲醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮、N_乙基·2_吡咯啶酮、 N,N-二甲基乙醯胺、二甲基亞颯、六甲基磺醯胺、吡啶、 環戊酮、γ-丁内酯、α•乙醯基丁内酯、四曱基脲、 二甲基-24唾。定酮、N_環己基_2_料㈣等,該等可單 獨使用或將2種以上組合使用。該等之中’尤其好的是义 甲基-2-吡咯啶酮及γ_丁内酯。 該等溶劑可根據感光性樹脂組合物溶液的塗佈媒厚及黏
度而適當地添加至本發明之感紐樹脂組合物巾,較好的 是相對於(Α)聚醯胺樹脂100質量份以1〇〇〜1〇〇〇質量份之範 圍而使用。 為了使感紐樹脂組合物之保存敎性等提昇 劑,除上述者以外,亦可併肖 _ 卟j併用以下所不之醇類。作為醇 類’若係分子内具有醇性羥基者則無特別限制,至於且體 例,可舉出:甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異 丁醇、第三丁帛、节_、乳酸乙醋、乳酸丁醋丙二醇單 140879.doc -40- 201005002 丙二醇二乙 f基醚、丙二醇二甲基醚、丙二醇單乙基醚、 基趟、丙二醇單(正丙基)越、丙二醇二(正丙基)喊、乙二 醇单甲基i乙二醇單乙基驗、乙二醇單(正丙基)趟、乙 該等之中,尤其好 -醇早苯絲、乙二醇單,H二乙二醇單苯基趟等之 單醇類;乙二醇、丙二醇等之二醇類 的是节醇及乙二醇單苯基醚 於併用㈣_之情料,料醇類在溶㈣體中所佔 之含量比例較好的是50質量%以下。若上述比例超過5〇質 量%,則有⑷聚醯胺樹脂對該溶劑之溶解性下降之傾向。 <硬化浮凸圖案之形成方法> 本發明亦提供-種硬化浮凸圖案之形成方法,其包括: 將上述本發明之感光性樹脂組合物或本發明之感光性樹脂 組合物溶液塗佈於基材上,而形成感光性樹脂組合物之塗 膜之步驟,直接或經由圖案化遮罩向該塗膜照射活性光線 之曝光步驟’利用顯影液將該塗膜之未曝光部溶解除去而 形成浮凸圖案之顯影步驟;及對該浮凸圖案進行加熱硬化 而形成硬化洋凸圖案之步驟。以下,說明本發明之硬化浮 凸圖案之形成方法之例。 首先將本發明之感光性樹脂組合物或感光性樹脂組合 物溶液塗佈於矽晶圓、鋁基板、銅基板等基材上。作為塗 佈裝置或塗佈方法,可利用旋轉式塗佈機、狹缝擠壓式塗 佈機、喷塗機、浸潰、印刷、刮刀塗佈機、輥塗佈法等。 藉由80〜120°C下之預烘烤使塗膜乾燥,將感光性樹脂組合. 物之塗膜製成膜厚為5〜5〇微米左右之膜。 140879.doc 201005002 其次,使用接觸式對準機、鏡面投影曝光機、步進機等 曝光投影裝置,直接或經由所需之圖案化遮罩(光罩)向上 述所形成之塗膜照射活性光線,藉此對該塗膜進行曝光。 作為活性光線,可利用X射線、電子束、紫外線、可見光 等,於本發明中,較好的是使用波長為200〜500 nm之活性 光線。 曝光後,為了提高光感度等,視需要亦可實施採用任意 溫度及時間的組合(較好的是溫度為4〇β(:〜12〇它,時間為 10秒鐘〜240秒鐘)之曝光後烘烤或顯影前烘烤。 春 繼而進行利用顯影液將該塗膜之未曝光部溶解除去而 形成浮凸圖案之顯影。顯影方法可自浸潰法、授拌法、旋 轉喷霧法等方法中加以選擇。作為顯影液,可單獨使用聚 醯胺之良溶劑’或者將聚醯胺的良溶劑與不良溶劑適當地 〇使用。作為良溶劑,可使用甲基吡咯啶酮、 乙醯基-2-吡咯啶酮、N,N_:曱基乙醯胺、N,N_二曱基曱 酿胺一甲基亞;ε風、γ· 丁内酯、α_乙醯基丁内酯、環戊 明、環己酮等;另外,作為不良溶劑,可使用甲苯、二曱 © 苯甲醇、乙醇、異丙醇、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二 醇單甲基醚、水等。 於將良溶劑與不良溶劑混合使用之情形時,其混合比率 係根據所使用之聚酿胺樹脂之溶解性、所使用之顯影方法 等而加以調整。 例如’於使用芳香族雙胺基酚作為本發明聚醯胺樹脂中 所使用之具有2價或4價有機基γ之二胺化合物的全部或一 140879.doc •42· 201005002 部分之情形時,亦可使用驗性水溶液作為顯影液。作為驗 性水溶液,可使用:氫氧化鈉、碳酸鈉、矽酸鈉、氨等無 機驗類之水溶液,乙基胺、三乙基胺、三乙基胺、三乙醇 胺等有機胺類之水溶液,氫氧化四甲基銨、氫氧化四丁基 冑等四級錢鹽類等之水溶夜’以及視需要於該等驗性水溶 . &中添加適當量的甲醇、乙醇等水溶性有機溶劑、界面活 • 性劑等者。 顯影結束後’視需要利用淋洗液進行清洗,將顯影液除 去’藉此獲得浮凸圖案。作為淋洗液,可單獨使用蒸德 水、甲醇、乙醇、異丙醇、甲苯、二甲笨、丙二醇單甲基 醚乙酸醋、丙二醇單甲基醚等,或者將2種以上適當地混 合使用,又,亦可階段性地將2種以上組合使用。 將以此種方式獲得之聚醯胺之浮凸圖案適當加熱至例如 150〜350 C ’使其進行加熱硬化及交聯反應,藉此轉變成 由耐熱性及耐化學性優異之聚醯胺所形成之硬化浮凸圖 • 帛。此種加熱硬化處理可使用加熱板、無氧化烘箱、可設 定溫度程式之升溫式烘箱等而進行。作為加熱硬化時之環 境氣體,可使用空氣,亦可使用氮氣、氬氣等惰性氣體。 <半導體裝置> 本發明亦提供-種半導體裝置,其具有藉由上述本發明 之硬化浮凸圖案之形成方法而形成之硬化浮凸圖案。將以 上述方式所製作之硬化浮凸圖案作為喪入石夕晶圓等基材上 之半導體裝置的表面保護膜、層間絕緣膜、。射線遮蔽 膜、隔離壁、障壁等而使用’其他步驟則採用眾所周知之 140879.doc •43· 201005002 半導體裝置之製造方法,藉此可製造半導體裝置。又,亦 可獲得具有由使上述本發明感光性樹脂組合物硬化而成之 樹脂所構成的塗膜之半導體裝置。 [實施例] 以下,利用實施例及比較例來說明本發明。再者,將下 述各合成例之聚合物原材料之組合一覽示於以下之表工。 [合成例1] (苯二甲酸化合物封端物AIPA-MO之合成) 於容量為5公升之可分離式燒瓶中,投入543 5 g(3 〇 mol)之5-胺基間笨二甲酸{以下簡稱作ΑϊρΑ}、17〇〇 g之N_ 曱基-2-吡咯啶酮{以下記作]^^11>},混合攪拌,以水浴加熱 至50 C。於其中’利用滴液漏斗滴加投入以500 g之γ- 丁内 酯{以下記作GBL}將512.0 g(3.3 m〇i)之2_甲基丙烯醯氧乙 基異氰酸醋加以稀釋之溶液,在此狀態下於5 〇ac下攪拌2 小時左右。 以低分子量凝膠透析層析法{以下記作低分子量GpC}確 過反應完成(5-胺基間苯二甲酸消失)後,將該反應液投入 至15公升之離子交換水中並加以攪拌、靜置,等待反應產 物之結晶沈澱並加以過濾分離,適當進行水洗後,於4〇〇c 下真空乾燥48小時,藉此獲得5_胺基間苯二曱酸的胺基與 異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯的異氰酸酯基作用而生成之 AIPA-MO。所得AIPA-MO之低分子量GPC純度大致為 100%。 [合成例2] 140879.doc 201005002 (苯二甲酸化合物封端物AIPA-BA之合成) 於容量為5公升之可分離式燒瓶中,投入543.5 g(3.0 mol)之AIPA、1700 g之NMP,混合擾拌,以水浴加熱至 50°C。於其中,利用滴液漏斗滴加投入以500 g之GBL將 789.46 g(3.3 mol)之異氰酸1,1 -雙(丙烯醯氧甲基)乙酯加以 稀釋者,在此狀態下於50°C下攪拌2小時左右。 以低分子量GPC確認反應完成(AIPA消失)後,將該反應 液投入至15公升之離子交換水中並加以攪拌、靜置,等待 • 反應產物之結晶沈澱並加以過濾分離,適當進行水洗後, 於4(TC下真空乾燥48小時,藉此獲得AIPA的胺基與1,1-雙 (丙烯醯氧曱基)乙基異氰酸酯的異氰酸酯基作用而生成之 AIPA-BA。所得AIPA-BA之低分子量GPC純度大致為 100%。 [合成例3 ] (苯二甲酸化合物封端物AIPA-ΜΕ之合成) 於容量為5公升之可分離式燒瓶中,投入543.5 g(3.0 mol)之AIPA、1700 g之NMP,混合攪拌,以水浴加熱至 50°C。於其中,使用滴液漏斗滴加投入以500 g之GBL將 657.38 g(3.3 mol)之異氰酸2-(2_甲基丙烯醯氧乙氧基)乙酯 加以稀釋之溶液,在此狀態下於50°C下攪拌2小時。 以低分子量GPC確認反應完成(AIPA消失)後,將該反應 液投入至1 5公升之離子交換水中並加以攪拌、靜置,等待 反應產物之結晶沈澱並加以過濾分離,適當進行水洗後, 於40°C下真空乾燥48小時,藉此獲得AIPA的胺基與異氰酸 140879.doc -45- 201005002 2-(2-甲基丙烯醯氧乙氧基)乙酯的異氰酸酯基作用而生成 之AIPA-ME。所得AIPA-ME之低分子量GPC純度大致為 100%。 [合成例4] (苯二甲酸化合物封端物AIPA-NBI之合成) 於容量為5公升之可分離式燒瓶中,投入543.5 g(3.0 mol)之AIPA、1700 g之NMP,混合攪拌,以水浴加熱至 50°C。於其中,利用滴液漏斗滴加投入以500 g之GBL將 541.73 g(3.3 mol)之5-降莰烯-2,3-二羧酸酐加以稀釋之溶 液,在此狀態下於50°C下攪拌1〇小時左右。 以低分子量GPC確認反應完成(AIPA消失),進而以FT-IR(Fourier Transform-InfraRed,傅立葉轉換紅外線)光譜 分析確認降莰烯醯亞胺化完成(羧基消失)後,將該反應液 投入至15公升之離子交換水中並加以攪拌、靜置,等待反 應產物之結晶沈澱並加以過濾分離,適當進行水洗後,於 40°C下真空乾燥48小時,藉此獲得AIPA的胺基與5-降莰 烯-2,3-二羧酸酐的酸酐基作用而形成降莰烯醯亞胺結構之 AIPA-NBI。所得AIPA-NBI之低分子量GPC純度大致為 100%。 [合成例5] (苯二甲酸化合物封端物AIPA-MA之合成) 於容量為5公升之可分離式燒瓶中,投入543.5 g(3.0 mol)之AIPA、1700 g之NMP,混合攪拌。於其中,利用滴 液漏斗滴加投入以500 g之GBL將344.97 g(3.3 mol)之甲基 140879.doc •46- 201005002 丙烯醯氯加以稀釋之溶液,在此狀態下於室溫下攪拌2小 時左右。 以低分子量GPC確認反應完成(AIPA消失)後,將該反應 液投入至15公升之離子交換水中並加以攪拌、靜置,等待 反應產物結晶沈澱並加以過濾分離,適當進行水洗後,於 40°C下真空乾燥48小時,藉此獲得AIPA的胺基與甲基丙烯 醯氯的醯氣基作用而生成之AIPA-MA。所得AIPA-MA之低 分子量GPC純度大致為100%。 •[合成例6] (矽烷偶合劑S-1之合成) 於容量為1 L之圓底燒瓶中,加入32.2 g(0.1 mol)之 3,3’,4,4·-二苯甲酮四曱酸二酐及206 g之NMP,開始攪拌。 將該溶液冷卻至〇°C,一面維持於〇°C —面滴加以100 g之 NMP將44.2 g(0.2 mol)之3-胺基丙基三乙氧基矽烷進行稀 釋之溶液。滴加完成後,使其恢復至室溫並攪拌4小時, 藉此獲得3,3',4,4'-二苯甲酮四甲酸二酐的酸酐基與3-胺基 丙基三乙氧基矽烷的胺基反應而半酸化/半醯胺化之矽烷 偶合劑S-1之20質量°/(^^〇溶液。 [合成例7] (矽烷偶合劑S-2之合成) 於容量為1 L之圓底燒瓶中,加入29_6 g(0.2 mol)之鄰苯 二甲酸酐及195 g之N-曱基-2-吡咯啶酮,開始攪拌。將該 溶液冷卻至0°C,一面維持於〇°C —面滴加以1〇〇 g之NMP 將44.2 g(0.2 mol)之3-胺基丙基三乙氧基矽烷進行稀釋之 140879.doc -47- 201005002 溶液。滴加完成後,使其恢復至室溫並攪拌4小時,藉此 獲得鄰苯二甲酸酐的酸酐基與3-胺基丙基三乙氧基矽烷的 胺基反應而半酸化/半醯胺化之矽烷偶合劑S-2之20質量 %NMP溶液。 [合成例8 ] (聚醯胺PA-1之合成) 於容量為2公升之可分離式燒瓶中,投入100.89 g(0.3 mol)之合成例1中所獲得之AIPA-MO、71.2 g(0.9 mol)之吡 啶、400 g之GBL並加以混合,以冰浴冷卻至5°C。於其 中,於冰浴冷卻下用20分鐘滴加以125 g之GBL將125.0 g(0.606 mol)之Ν,Ν-二環己基碳二醯亞胺{以下記作DCC} 溶解稀釋之溶液,繼而用20分鐘滴加以1 68 g之ΝΜΡ將 103.16 g(0.28 mol)之4,4’-雙(4-胺基苯氧基)聯苯{以下記作 BAPB}溶解之溶液,一面以冰浴維持未達f °C之溫度一面 攪拌3小時,繼而取下冰浴於室溫下攪拌5小時。 其後,將聚縮合過程中析出之來自脫水縮合劑之二環己 基脲{以下記作DCU}於加壓下進行過濾分離,一面攪拌濾 液(聚合物溶液)一面滴加840 g水與560 g異丙醇之混合 液,分離所析出之聚合物,使其再溶解於650 g之NMP 中。於攪拌下將該再溶解液滴加至5公升之離子交換水 中,使聚合物分散析出,回收、水洗後,於40°C下真空乾 燥48小時,藉此獲得聚醯胺PA-1。將NMP作為溶離液所測 定之聚苯乙烯換算GPC重量平均分子量(管柱:ShodexKD-806Μχ2根,NMP流速:1.0 ml/min)為 34,700 ° 140879.doc -48- 201005002 [合成例9] (聚醯胺PA-2之合成) 於容量為2公升之可分離式燒瓶中,投入80.71 g(0.24 mol)之合成例1中獲得之AIPA-MO、19.64 g(0.06 mol)之合 成例 4中獲得之AIPA-NBI、71.2 g(0_9 mol)之吡啶、400 g 之GBL並加以混合,然後施行與合成例8相同之操作,而 獲得聚醯胺PA-2。以與合成例8相同之方法所測定之聚苯 乙烯換算GPC重量平均分子量為29,500。 [合成例10] (聚醯胺PA-3之合成) 投入80.71 g(0.24 mol)之合成例1中獲得之AIPA-MO、 15.49 g(0.06 mol)之二苯基醚-4,4’-二甲酸、71·2 g(0.9 mol) 之吡啶、400 g之GBL並加以混合,以冰浴冷卻至5°C。向 其中,於冰浴冷卻下用20分鐘滴加以125 g之GBL將125.0 g(0.606 mol)之DCC溶解稀釋之溶液,繼而用20分鐘滴加 以168 g之NMP將121.1 g(0.28 mol)之雙[4-(4-胺基苯氧基) 苯基]砜溶解之溶液,一面以冰浴維持未達5°C之溫度一面 攪拌3小時,繼而取下冰浴於室溫下攪拌5小時。然後施行 與合成例8相同之操作,而獲得聚醯胺PA-3。以與合成例8 相同之方法所測定之聚苯乙烯換算GPC重量平均分子量為 32,000 ° [合成例11] (聚醯胺PA-4之合成) 除了將合成例8中之「103.16 g(0.28 mol)之BAPB」替換 140879.doc -49· 201005002 成「56.07 g(0.28 如〇1)之“| 餘施行與合成例8相同 。’·二胺基二苯基醚」以外,其 合成例8相同之方法所測操作,而獲得聚醯胺PA-4。以與 分子量為30,300。 Μ疋之聚苯乙烯換算GPC重量平均 [合成例12] (聚醯胺PA-5之合成) 除了將合成例8中之「 .「 16 g(0·28 mo1)之BAPB」體換 成「55.19 g(〇.26 m〇1)之? 〇, ...^ _ ,2 -二曱基-4,4,-二胺基聯苯」以 外,其餘施行與合成例8 相同之操作,而獲得聚醯胺PA- 5。以與合成例8相同之方 乃凌所測定之聚苯乙烯換算GPC重 量平均分子量為23,600。 [合成例13] (聚酿胺PA-6之合成) 於容量為2公升之可分離式燒瓶中投入84 〇8 g(〇 25 mol)之合成例!中獲得之AIpA_M〇、1〇i 35 g(〇75 m〇l)之 1-羥基苯并二唑、39.6 g(〇.5 mol)之吡啶、5.6 g(〇.〇5 mol) 之4-二甲基胺基》比啶、275 g之N,N-二甲基甲醯胺並加以混 合’以冰浴冷卻至5。(:。向其中,於冰浴冷卻下用20分鐘 滴加投入以134呂之]^,:^-二甲基曱醯胺將134.11§(〇.65 mol)之DCC溶解稀釋之溶液,繼而一面維持冰浴冷卻一面 持續攪拌5小時。其後,用20分鐘添加使48.81 g(〇.232 mol)之4,4·-亞曱基雙(環己基胺)溶解於146 g之Ν,Ν-二曱基 甲醯胺之溶液,一面以冰浴維持未達5°C之溫度一面攪拌3 小時,繼而取下冰浴於室溫下攪拌10小時。 140879.doc -50- 201005002 其後,對聚縮合過程中析出之DCU進行加壓過濾分離, 一面攪拌濾液(聚合物溶液)一面滴加投入1,000 g水與4,000 g異丙醇之混合液,分離所析出之聚合物,使其再溶解於 800 g之NMP中。於攪拌下將該再溶解液滴加投入至5公升 之離子交換水中,使聚合物分散析出,回收、水洗後,於 40°C下真空乾燥48小時,藉此獲得聚醯胺PA-6。以與合成 例8相同之方法所測定之聚苯乙烯換算GPC重量平均分子 量為 32,600。 • [合成例14] (聚醢胺PA-7之合成) 於容量為1公升之可分離式燒瓶中,投入47.9 g(0.2 mol) 之合成例2中獲得之ΑΙΡΑ-ΒΑ、31.6 g(0.4 mol)之吡啶、 147 g之NMP並加以混合,以冰浴冷卻至5°C。向其中,於 冰浴冷卻下用20分鐘滴加投入以83 g之NMP將83·4 g(0.404 mol)之DCC溶解稀釋之溶液,繼而用20分鐘左右添加使 68.1 g(0.19 mol)之2,2-雙(3-胺基-4-羥基苯基)六氟丙烷溶 解於204 g之NMP中之溶液,一面以冰浴維持未達5°C之溫 度一面攪拌3小時,繼而取下冰浴於室溫下攪拌1 0小時。 其後,對聚縮合過程中析出之DCU進行加壓過濾分離, 一面授拌滤液(聚合物溶液)一面滴加投入760 g水與190 g 異丙醇之混合液,分離所析出之聚合物,使其再溶解於 400 g之NMP中。於攪拌下將該再溶解液滴加投入至3公升 之離子交換水中,使聚合物分散析出,回收、水洗後,於 40°C下真空乾燥48小時,藉此獲得聚醯胺PA-7。以與合成 140879.doc -51 - 201005002 例8相同之方法所測定之聚苯乙烯換算GPC重量平均分子 量為 12,600。 [合成例15] (聚醯胺PA-8之合成) 於容量為2公升之可分離式燒瓶中,投入114.11 g(0.3 mol)之合成例3中獲得之ΑΙΡΑ-ΜΕ、71·2 g(0.9 mol)之吡 啶、400 g之GBL並加以混合,其後施行與合成例8相同之 操作,而獲得聚醯胺PA-8。以與合成例8相同之方法所測 定之聚苯乙烯換算GPC重量平均分子量為33,000。 [合成例16] (聚醯胺PA-9之合成) 除了將合成例8中之「103.16 g(0.28 mol)之BAPB」替換 成「28.04 §(0.14 111〇1)之4,4'-二胺基二苯基醚及29.72 g(0.14 mol)之2,2·-二甲基-4,4·-二胺基聯苯」以外,其餘施 行與合成例8相同之操作,而獲得聚醯胺PA-9。以與合成 例8相同之方法所測定之聚苯乙烯換算GPC重量平均分子 量為 28,200。 [合成例17] (聚醯胺PA-10之合成) 除了將合成例8中之「103.16 g(0.28 mol)之BAPB」替換 成「92.85 g(0.252 mol)之 BAPB及 4.04 g(0.028 mol)之 1,8-二胺基辛烷」以外,其餘施行與合成例8相同之操作,而 獲得聚醯胺PA-10。以與合成例8相同之方法所測定之聚苯 乙烯換算GPC重量平均分子量為26,800。 140879.doc -52- 201005002 [合成例18] (聚醯胺PA-11之合成) 於容量為2公升之可分離式燒瓶中,投入100.89 g(0.3 mol)之合成例1中獲得之AIPA-MO、71.2 g(0.9 mol)之吡 啶、400 g之GBL並加以混合,以冰浴冷卻至5°C。向其 中,於冰浴冷卻下用20分鐘滴加以125 g之GBL將125.0 g(0.606 mol)之DCC溶解稀釋之溶液,繼而用20分鐘滴加 使103.45 g(0.252 mol)之2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙 籲 烷溶解於168 g之NMP中之溶液,一面以冰浴維持未達5°C 之溫度一面授拌3小時,繼而取下冰浴於室溫下攪拌5小 時。其後,滴加投入將36.4 g之兩末端胺基改質型聚二甲 基矽氧烷即信越化學工業製造之商品名KF-8010與40 g二 乙二醇二甲基醚混合而成者,進而於室溫下攪拌5小時。 然後施行與合成例8相同之操作,而獲得聚醯胺PA-11。以 與合成例8相同之方法所測定之聚苯乙烯換算GPC重量平 均分子量為28,000。 鬱 [合成例19] (聚醯胺PA-12之合成) 於容量為2公升之可分離式燒瓶中,投入74.77 g(0.3 mol)之合成例5中獲得之AIPA-MA、71.2 g(0.9 mol)之吡 啶、400 g之GBL並加以混合,以冰浴冷卻至5°C。於其 中,於冰浴冷卻下用20分鐘滴加以125 g之GBL將125.0 g(0.606 mol)之DCC溶解稀釋之溶液,繼而用20分鐘滴加 使56.07 g(0.28 mol)之4,4’-二胺基二苯基醚溶解於168 g之 140879.doc -53- 201005002 NMP中之溶液,一面以冰浴維持未達5°C之溫度一面攪拌3 小時,繼而取下冰浴於室溫下攪拌5小時。其後,施行與 合成例8相同之操作,而獲得聚醯胺PA-12。以與合成例8 相同之方法所測定之聚苯乙烯換算GPC重量平均分子量為 29,500 ° [合成例20] (聚醯胺PA-13之合成) 於容量為2公升之可分離式燒瓶中,投入70.62 g(0.21 mol)之 AIPA-MO、14.95 g(0.09 mol)之間苯二甲酸、71·2 g(0.9 mol)之°比°定、400 g之GBL並加以混合,然後進行與 合成例8相同之操作,而獲得聚醯胺PA-13。以與合成例8 相同之方法所測定之聚苯乙烯換算GPC重量平均分子量為 32,100 ° [合成例21] (聚醯胺PA-14之合成) 於容量為2公升之可分離式燒瓶中,投入60.53 g(0.18 mol)之 ΑΙΡΑ-ΜΟ、30·99 g(0.12 mol)之二苯基醚-4,4,-二曱 酸、71.2 g(0.9 111〇1)之°比咬、400 g之GBL並加以混合,然 後施行與合成例8相同之操作,而獲得聚醯胺PA-14。以與 合成例8相同之方法所測定之聚苯乙烯換算GPC重量平均 分子量為30,900。 [合成例22] (聚醯亞胺前驅物PI-1之合成) 於容量為5[之可分離式燒瓶中,投入310.22§(1.00 140879.doc -54- 201005002 〇1〇1)之二苯基醚-3,3',4,4'-四甲酸二酐、270.69 §(2.08 111〇1) 之甲基丙烯酸2 -經基乙S旨、158.2 g(2.00 mol)之°比咬、 1000 g之GBL並加以混合,於常溫下攪拌16小時。於其 中,於冰浴冷卻下用30分鐘滴加以400 g之GBL將400.28 g(l.94 mol)之DCC溶解稀釋之溶液,繼而用60分鐘左右添 加使185.97 §(0.93111〇1)之4,4'-二胺基二苯基醚分散於650 § 之GBL中之分散液。在冰浴冷卻之狀態下攪拌3小時,其 後取下冰浴,進而攪拌1小時。對聚縮合過程中析出之 • DCU進行加壓過濾分離,然後將反應液滴加投入至40 L之 乙醇中,分離此時所析出之聚合物並加以清洗,於50°C下 真空乾燥24小時,藉此獲得聚醯亞胺前驅物PI-1。以與合 成例8相同之條件所測定之聚苯乙烯換算GPC重量平均分 子量為29,000。 [實施例1] 相對於100質量份之合成例8中獲得之聚醯胺PA-1,添加 190質量份之NMP以使聚醯胺PA-1溶解,而製備粗溶液, 以孔徑為 0.2微米之 PTFE(Poly(tetrafluoroethylene),聚四 氟乙烯)製過濾器將其過濾,而獲得樹脂溶液V-1。 [實施例2] 除了向實施例1之粗溶液中進一步添加5質量份之1,3-二 苯基丙三酮-2-(0-乙氧基羰基)肟作為光聚合起始劑以外, 其餘以與實施例1同樣之方式進行過濾,而獲得樹脂組合 物溶液V-2。 [實施例3] 140879.doc -55- 201005002 除了向實施例2之粗溶液中進一步添加8質量份之四乙二 醇二甲基丙烯酸酯作為光聚合性單體以外,其餘以與實施 例1同樣之方式進行過濾,而獲得樹脂組合物溶液v_3。 [實施例4] 除了向實施例3之粗溶液中進一步添加5質量份之六甲氧 基甲基化二聚氰胺作為熱交聯劑以外,其餘與實施例1同 樣之方式進行過濾’而獲得樹脂组合物溶液v_4。 [實施例5] 除了向實施例4之粗溶液中進一步添加5質量份之合成例 6中所獲得之矽烷偶合劑S-1之20質量。ANMP溶液(純s — 丨為i 質量份)、10質量份之合成例7中獲得之矽烷偶合劑s_2之 20質量%NMP溶液(純S-2為2質量份)、5質量份之3-(三统氧 基矽基)丙基琥珀酸酐以外’其餘與實施例1同樣之方式進 行過濾,而獲得樹脂組合物溶液V-5。 [實施例6] 除了向實施例5之粗溶液中進一步添加2質量份之5-緩其 苯并三唑以外’其餘與實施例1同樣之方式進行過濾,而 獲得樹脂組合物溶液V-6。 [實施例7] 相對於100質量份之合成例8中獲得之聚醯胺PA-1,添力口 5質量份之1,3-二苯基丙三酮-2-(0-乙氧基羰基)肟、8質量 份之四乙二醇二甲基丙烯酸酯、5質量份之六甲氧基甲基 化三聚氰胺、5質量份之合成例6中獲得之矽烷偶合劑s_ i 之20質量%NMP溶液{純5-1為1質量份}、10質量份之合成 140879.doc • 56- 201005002 例7中獲得之矽烷偶合劑§ 2之2〇質量%NMp溶液{純為2 質量份}、5質量份之3_(三烷氧基矽基)丙基琥珀酸酐、^質 量份之5-羧基苯并三唑、5質量份之队;^_雙(2_羥基乙基)苯 胺、0·05質量份之冰亞硝基二苯基胺,使其溶解於19〇質 量份之ΝΜΡ中,以孔徑為0.2微米之PTFE過濾器進行過 濾,而獲得樹脂組合物溶液V_7。 [實施例8] 除了將實施例7中所使用之聚醯胺pA-丨替換成合成例9中 獲得之PA-2,進而同樣將實施例7中所使用之3_(三烷氧基 矽基)丙基琥珀酸酐替換成3_縮水甘油氧基丙基(二甲氧基) 曱基石夕烧以外,其餘以與實施例7同樣之方式獲得樹脂組 合物溶液V-8。 [實施例9] 除了將實施例7中所使用之聚醯胺PA_i替換成合成例1〇 中獲得之PA-3,進而同樣將實施例7中所使用之3-(三烷氧 基矽基)丙基琥珀酸酐替換成3-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽 烧以外,其餘以與實施例7同樣之方式獲得樹脂組合物溶 液 V- 9 〇 [實施例10〜17] 除了將實施例7中所使用之聚醯胺pa-1分別替換成合成 例11〜18中獲得之聚醯胺PA-4〜PA-11以外,其餘以與實施 例7同樣之方式獲得樹脂組合物溶液V-1 〇〜V-17。 [比較例1〜3] 除了將實施例7中所使用之聚醯胺PA—丨分別替換成合成 140879.doc -57- 201005002 例19〜21中獲得之聚醯胺pa-12~PA-14以外,其餘以與實施 例7同樣之方式獲得樹脂組合物溶液V’-l〜V,-3。 [比較例4] 除了將實施例7中所使用之聚醯胺ΡΑ-1替換成合成例22 中獲得之聚醯亞胺前驅物ΡΙ-1,並且將溶劑ΝΜΡ之使用量 調整為165質量份以外,其餘以與實施例7同樣之方式獲得 樹脂組合物溶液V'-4。 [表1]
合成例 實施例 聚合物 酸1 酸2 二胺1 二胺2 合成例8 實施例1〜7 PA-1 AIPA-MO BAPB 合成例9 實施例8 PA-2 AIPA-MO(80) AIPA-NBI(20) BAPB 合成例10 實施例9 PA-3 AIPA-MO(80) DEDA(20) BAPS 合成例11 實施例10 PA-4 AIPA-MO DADPE 合成例12 實施例11 PA-5 AIPA-MO mTB 合成例13 實施例12 PA-6 AIPA-MO MBCA 合成例14 實施例13 PA-7 AIPA-BA 6FAP 合成例15 實施例14 PA-8 AIPA-ME BAPB 合成例16 實施例15 PA-9 AIPA-MO DADPE(50) mTB(50) 合成例Π 實施例16 PA-10 AIPA-MO BAPB(90) ODA(IO) 合成例18 實施例17 PA-11 ABPA-MO BAPP(90) KF8010(10) 合成例19 比較例1 PA-12 AIPA-MA DADPE 合成例20 比較例2 PA-13 AIPA-MO(70) IPA(30) BAPB 合成例21 比較例3 PA-14 AIPA-MO(60) DEDA(40) BAPB 合成例22 比較例4 PI-1 ODPA BAPB 註:表中(括弧)内之數值表示莫耳%。又,上述未定義之 簡稱係如下。 140879.doc • 58 · 201005002 ODPA :二苯基醚-3,3',4,4'-四甲酸二酐 DEDC:二苯基醚-4,4,-二醯氣 0丑0八:二苯基醚-4,4'-二甲酸 IPA :間苯二甲酸 BAPB : 4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯 BAPS:雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碗 DADPE: 4,4'-二胺基二苯基醚 mTB : 2,2’-二甲基-4,4'-二胺基聯苯 ❹ ]^«0人:4,4|-亞甲基雙(環己基胺) 6FAP : 2,2-雙(3-胺基-4-羥基苯基)六氟丙烷 ODA : 1,8-辛二胺 BAPP : 2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷 感光特性及顯影時密著性之評價 利用旋轉塗佈機(Tokyo Electron製造,型號名Clean Track Mark-8)將實施例2〜17、及比較例1〜4之樹脂組合物 溶液塗佈於6英吋矽晶圓上,於95°C下預烘烤4分鐘,而獲 得初期膜厚為10微米之塗膜。利用i線步進式曝光機(Nikon 製造,型號名NSR2005i8A),通過評價用光罩,使曝光量 在100~1100 mJ/cm2之範圍内以每次50 mJ/cm2遞增性地變 化而對該塗膜進行曝光。 於曝光30分鐘後,使用環戊酮作為顯影液,對實施例13 以外之塗膜實施將直至未曝光部完全溶解消失的時間乘以 1.4的時間之旋轉喷射顯影,繼而以丙二醇單甲基醚乙酸 酯進行10秒鐘之旋轉喷洗,而獲得由樹脂膜所構成之浮凸 140879.doc •59- 201005002 圖案。對於實施例13之塗膜,於曝光3〇分鐘後,使用氫氧 化四f基錄之2.38%水溶液(AZ Elect_ic 製造, 產品編號AZ-300MIF)作為顯影液,實施將直至未曝光部完 全溶解消失的時間乘以!.4的時間之授掉顯影,繼而用離 子交換水進行旋轉水流淋洗,而獲得由樹脂膜所構成之浮 凸圖案。 於光學顯微鏡下目測觀察所得之浮凸圖案,對獲得不膨 潤之鮮明圖案之最低曝光量(感度)、以最低曝光量照射時 之通孔(矩形之凹圖案部)之尺寸(解析度)、與底層之密著 _ 性(圖案之隆起或剝離)進行評價。結果示於以下之表2。 機械物性之評價 以與上述感光特性之評價同樣之方式,將實施例卜17、 及比較例1〜4之樹脂組合物溶液塗佈於預先真空蒸鍍有鋁 薄膜之6英吋矽晶圓上,進行預烘烤,然後使用立式硬化 爐(Koyo Lindberg製造,型號名VF_2〇〇〇B),於氮氣環境下 於180°C下實施2小時加熱硬化處理,而製作硬化後膜厚為 10 μιη之樹脂膜。利用切割鋸刀(Disc〇製造,型號名dAD_ ❹ 2H/6T)將該樹脂膜切成3 0 111111寬,將其浸潰於1〇%鹽酸水 溶液中使其自矽晶圓上剝離,而製成帶狀之膜樣品。將該 - 膜樣品於23 C、55%RH之環境中放置24小時以上,然後依 據ASTMD-882-88並使用TENSILON(萬能拉力試驗機)進行 拉伸試驗’評價膜樣品之伸長率。結果示於以下之表2。 耐熱性之評價 利用熱機械分析裝置(島津製作所製造,型號名TMA-50) 140879.doc -60 - 201005002 測定上述機械物性之評價用中所製作之膜樣品的玻璃轉移 溫度(Tg),作為樹脂膜之耐熱性之指標。測定條件為:試 樣長度為10 mm、恆定負荷為2〇〇 g/mm2、測定溫度範圍為 25°C〜450°C、升溫速度為1(rc/min、氮氣環境。結果示於 以下之表2。 殘留應力之評價 於預先測定「翹曲量」之厚度為625 μιη士25 μπΐ26英吋 梦晶圓上’以與上述感光特性之評價相同之條件塗佈實施 例1〜17、及比較例1〜4之樹脂組合物溶液,進行預烘烤, 然後利用立式硬化爐(K〇y〇 Lindberg製造,型號名VF-2000B)於氮氣環境下於18〇。〇下實施2小時加熱硬化處理, 而製作附有硬化後膜厚為丨0 μηι的樹脂膜之矽晶圓。利用 殘留應力測定裝置(Tencor公司製造,型號名FLX 232〇)測 定該晶圓之殘留應力。結果示於以下之表2。 耐化學性之評價 利用旋轉塗佈機(Tokyo Electr〇n製造,型號名ciean Track Mark-8),將實施例卜17、及比較例卜4之樹脂組合 物溶液塗佈於預先以3_胺基丙基三乙氧基矽烷施行有底層 處理之6英吋矽晶圓上,於95°C下預烘烤4分鐘,而獲得初 期膜厚為10微米之塗膜。 利用i線步進式曝光機(Nik〇n製造,型號名 NSR2005i8A),以固定曝光量之條件通過評價用光罩對該 塗膜進行曝光。曝光量係設定成將上述感光特性之評價中 獲得不膨潤的鮮明圖案之各最低曝光量(感度)加上2〇〇 140879.doc • 61- 201005002 mJ/cm 者。 於曝光30分鐘後,使用環戊酮作為顯影液,對除實施例 1、實施例13以外之塗膜實施將直至未曝光部完全溶解消 失的時間乘以1.4的時間之旋轉喷射顯影,繼而以丙二醇 單甲基鍵乙酸醋進行10秒鐘旋轉喷淋,而獲得由樹脂膜所 構成之浮凸圖案。對於實施例13之塗膜,於曝光3〇分鐘 後,使用氫氧化四甲基銨之2.38%水溶液(八2五16(^〇11化 Materials製造,產品編號AZ_3〇〇MIF)作為顯影液,實施直 至未曝光部完全溶解消失的時間乘以14的時間之攪拌顯 影,繼而用離子交換水進行旋轉水流淋洗,而獲得由樹脂 膜所構成之浮凸圖案。 對於實施例1之塗膜,因該塗膜不具有感光性,故不施 行顯影處理。 矛J用立式硬化爐(K〇y〇 Lindberg製作,型號名VF_ 2000B),對所得浮凸圖案膜(實施例1為未顯影平坦膜)於氮 氣環境下於180 C下實施2小時加熱硬化處理,而製作硬化 浮凸圖案膜(實施例1為硬化平坦膜)。 將忒等硬化膜於將光阻剝離液{ATMI&司製造,產品名 ST-44,主成分為2_(2_胺基乙氧基)乙醇、丨_環己基_2_吡咯 啶酮}加熱至85C所得溶液中浸潰5分鐘,放置冷卻,用流 水β洗1刀鐘,再進行風乾。其後,於光學顯微鏡下目測 觀察膜表面’根據裂縫或敏權等由於化學藥液所引起損傷 之有無、或化學藥液處理前後之膜厚變化率(單位為%, 1〇〇/。表不無膜厚變化,1〇〇%以上表示膨潤,未達1〇〇%表 140879.doc 201005002 示膜溶解)來評價耐化學性。結果示於以下之表3。 硬化後之銅變色之評價 利用旋轉塗佈機(Tokyo Electron製造,型號名Clean Track Mark 8)將實施例2〜17、及比較例1〜4之樹脂組合物 溶液塗佈於如下之基板上,於95°C下預烘烤4分鐘,而獲 '得初期膜厚為1 〇微米之塗膜;上述基板係將鈦真空蒸鍍於 - 6英吋矽晶圓上,進而自其上方真空蒸鍍銅,繼而以3-胺 基丙基三乙氧基矽烷進行底層處理而成之基板。 • 利用i線步進式曝光機(Nikon製造,型號名 NSR2005i8A),以固定曝光量之條件通過評價用光罩對該 塗膜進行曝光。曝光量係設定將上述感光特性之評價中獲 得不膨潤的鮮明圖案之各最低曝光量(感度)加上200 mJ/cm2 者。 於曝光30分鐘後,使用環戊酮作為顯影液,對除實施例 13以外之塗膜實施直至未曝光部完全溶解消失的時間乘以 1 _4的時間之旋轉喷射顯影,繼而以丙二醇單甲基醚乙酸 酯進行10秒鐘旋轉喷淋,而獲得由樹脂膜所構成之浮凸圖 案。對於實施例13之塗膜,於曝光30分鐘後,使用氫氧化 • 四曱基銨之2.38%水溶液(AZ Electronic Materials製造,產 . 品編號AZ-300MIF)作為顯影液,實施直至未曝光部完全溶 解消失的時間乘以1.4的時間之攪拌顯影,繼而用離子交 換水進行旋轉水流淋洗,而獲得由樹脂膜所構成之浮凸圖 案。 使用立式硬化爐(Koyo Lindberg製作,型號名VF- 140879.doc -63· 201005002 2000B),於氮氣環境下、180°C下對所得銅基板上之浮凸 圖案實施2小時加熱硬化處理(固化),而製作銅基板上之硬 化浮凸圖案。於光學顯微鏡下目測觀察該未曝光部之銅基 板表面,評價硬化後銅表面之變色之有無。結果示於以下 之表3。 [表2] 感光特性 機械物性 耐熱性 殘留應力 (MPa) 感度 解析度 顯影時密著性 伸長率 Tg (mJ/cm2) (μιη) (隆起、剝離) (%) (°C) 實施例1 - - - 61 202 14 實施例2 1000 50 有 65 201 15 實施例3 400 10 有 64 203 15 實施例4 350 8 有 61 220 15 實施例5 350 6 無 65 223 15 實施例6 300 6 無 62 220 16 實施例7 250 6 無 66 219 16 實施例8 350 6 無 65 225 14 實施例9 350 6 無 51 225 13 實施例10 300 6 無 59 221 10 實施例11 300 6 無 50 235 14 實施例12 300 4 無 85 226 17 實施例13 300 6 無 57 230 22 實施例14 250 6 無 52 220 15 實施例15 300 6 無 56 226 13 實施例16 200 6 無 58 222 16 實施例17 300 6 無 51 223 14 比較例1 750 15 無 60 218 15 比較例2 500 10 無 56 220 17 比較例3 800 12 無 60 225 16 比較例4 350 6 無 8 158 38 140879.doc -64· 201005002 [表3]
对化學性 硬化後銅變色 膜厚變化率 (%) 損傷 (裂缝、褶皴) 實施例1 108 無 - 實施例2 108 無 有 實施例3 107 無 有 實施例4 100 無 有 實施例5 101 無 有 實施例6 100 無 無 實施例7 100 無 無 實施例8 102 無 無 實施例9 102 無 無 實施例10 101 無 無 實施例11 100 無 無 實施例12 100 無 無 實施例13 102 無 無 實施例14 101 無 無 實施例15 101 無 無 實施例16 100 無 無 實施例17 100 無 無 比較例1 122 嚴重 無 比較例2 116 有 無 比較例3 127 嚴重 無 比較例4 135 嚴重 無 實施例1~17中,即使在進行180°C之低溫硬化時,亦可 達成優異之耐化學性。同時達成顯示50%以上的伸長率之 140879.doc -65- 201005002 較高的機械物性、及顯示20(TC以上的Tg之優異的耐熱 性、25 MPa以下之較低的殘留應力特性,從而可提供具有 目前為止尚不存在的優異的低溫硬化特性之聚醯胺樹脂及 含有其之感光性樹脂組合物。進而,於實施例3〜1 7中可獲 得優異的感光特性,進而於實施例4〜17中可獲得優異的耐 熱性,進而於實施例5〜17中可獲得優異的顯影時密著性, 進而於實施例6〜17中可抑制硬化後銅表面之變色。 另一方面,比較例1中,使用將甲基丙烯醯基與AIPA的 胺基直接鍵結之經由甲基丙烯醯胺結構而導入有自由基聚 合性不飽和結合基者(AIPA_MA)作為原料之聚醯胺樹脂, 但由於不飽和結合基的自由度較低,故感光特性明顯劣於 實施例,同時由於其光交聯性較低,故耐化學性亦明顯劣 於實施例。 比較例2及3中,在AIPA的胺基上導入有自由基聚合性不 飽和結合基者(例如AIPA_MO)之共聚合比率低於本發明之 較佳範圍’但由於自由基聚合性不飽和結合基的減少而造 成感光特性劣化,同時由於來自AIPA之結構的減少,故耐 化學性亦明顯劣於實施例。 比較例4中’使先前技術之由感光性聚醯亞胺前驅物組 合物所構成之樹脂膜於1 80°C下進行低溫硬化,但由於醯 亞胺化並不完全,故機械物性、耐熱性、殘留應力、耐化 學性中之任一方面亦明顯劣於實施例。 [產業上之可利用性] 本發明之感光性樹脂組合物及其所使用之聚醯胺樹脂, 140879.doc -66 - 201005002 適宜用作電子零件之絕緣材料、半導體裝置之表面保護 膜、層間絕緣膜、α射線遮蔽膜等耐熱性塗膜以及搭載有 影像感測器、微機器或微致動器之半導體裝置等中之耐熱 性塗膜的形成中所使用之感光性樹脂組合物。
140879.doc •67·

Claims (1)

  1. 201005002 七、申請專利範圍: 1· 一種聚醯胺樹脂,其係以重複數目為2〜15〇之範圍内且 該重複數目達構成聚醯胺樹脂之所有結構單元總數 8〇〜1〇〇%的範圍内之方式含有下述式〇)所示結構單元 [化1]
    • ·-⑴ 《式中,X為碳數6〜15之3價有機基,mgo或2,Y於m=〇 時為碳數6〜35之2價有機基、於m=2時為碳數6〜35之4價 有機基’ Rl可含有碳以外原子、且為碳數5〜20之具有至 少—個自由基聚合性不飽和結合基之脂肪族基}。 種聚醯胺樹脂,其係以下述式(2)中之重複數目η達構 成聚酿胺樹脂之所有結構單元總數8〇%以上之方式含有 下述式(2)所示結構: [化2]
    140879.doc 201005002 時為碳數6〜35之2價有機基、於m==2時為碳數6〜35之4價 有機基,W為碳數6〜15之2價有機基,让為!以上之整數, 同時(η+k)為5〜150之整數,Rl可含有碳以外原子、且為 具有至少一個自由基聚合性不飽和結合基之碳數5〜2〇之 脂肪族基}。 3. —種聚醯胺樹脂,其僅以下述式(3)所示結構作為結構單 元,上述式(3)中之重複數目n係在構成聚醯胺樹脂之所 有結構單元總數8〇〜100%之範圍内, [化3]
    (式中,X為碳數6〜15之3價有機基’瓜為〇或2,γ於m=〇 時為碳數6〜35之2價有機基、於m=2時為碳數6〜35之4價 有機基,W為碳數6〜15之2價有機基,1為〇或1以上之整 數,同時(n+1)為2〜150之整數,Rl可含有碳以外原子、 且為具有至少一個自由基聚合性不飽和結合基之碳數 5〜20之脂肪族基}。 4·如請求項1至3中任一項之聚醯胺樹脂,其中上述心為下 述式(4)所示之基: [化4] 140879.doc 201005002 Ο Η 一 HR2 …⑷ {式中,R2為具有至少一個自由基聚合性不飽和結合基 之碳數4〜19之脂肪族基}。 5. 如請求項1至3中任一項之聚醯胺樹脂,其中上述&為具 有至少一個(曱基)丙烯醯氧甲基之基團。 6. 如請求項1至3中任一項之聚醯胺樹脂,其中上述w、x 及Y分別獨立為選自由芳香族基、脂環式基、脂肪族 癱 基、矽氧烷基及該等的複合結構之基團所組成之群中之 基團。 7. —種感光性樹脂組合物,其包含: (A) 如請求項1至6中任一項之聚醯胺樹脂1〇〇質量份、 及 (B) 光聚合起始劑〇·5〜20質量份。 8·如請求項7之感光性樹脂組合物,其進一步包含相對於 上述(A)聚醯胺樹脂100質量份為丨〜仂質量份之(c)具有光 ® 聚合性不飽和結合基之單體。 9. 如請求項7或8之感光性樹脂組合物,其進一步包含相對 於上述(A)聚醯胺樹脂1〇〇質量份為丨〜2〇質量份之(d)熱交 聯性化合物,該(D)熱交聯性化合物為使上述(A)聚醯胺 樹脂發生熱交聯之化合物或者自身形成熱交聯網狀結構 之化合物。 10. 如請求項9之感光性樹脂組合物,其中上述熱交聯性 化合物具有燒氧甲基作為熱交聯性基。 140879.doc 201005002 11. 如請求項7之感光性樹脂組合物,其進一步包含相對於 上述(A)聚醯胺樹脂1〇〇質量份為(U〜25質量份之(E)石夕燒 偶合劑。 12. 如請求項8之感光性樹脂組合物,其進一步包含相對於 上述(A)聚醯胺樹脂1〇〇質量份為(U〜25質量份之(E)秒燒 偶合劑。 13. 如請求項9之感光性樹脂組合物,其進一步包含相對於 上述(A)聚醯胺樹脂100質量份為0.^25質量份之(E)石夕燒 偶合劑。 14. 如請求項11之感光性樹脂組合物,其中上述(E)石夕炫偶合 劑為具有(一统氧基)单烧基碎基或(三烧氧基)石夕基之有 機矽化合物。 1 5.如請求項12之感光性樹脂組合物,其中上述(E)石夕烧偶合 劑為具有(一烧氧基)卓烧基碎基或(三烧氧基)妙基之有 機碎化合物。 16_如請求項13之感光性樹脂組合物,其中上述(E)石夕院偶合 劑為具有(二烷氧基)單烷基矽基或(三烷氧基)矽基之有 機妙化合物。 17. 如清求項7之感光性樹脂組合物,其進一步包含相對於 上述(A)聚醯胺樹脂100質量份為〇.1〜1〇質量份之(F)苯并 三0坐系化合物。 18. 如清求項8之感光性樹脂組合物,其進一步包含相對於 上述(A)聚醯胺樹脂100質量份為〇·ι〜1〇質量份之(F)笨并 三唾系化合物。 140879.doc -4- 201005002 19. 20. 21. ♦ 22.
    23. 如請求項9之感光性樹脂組合物,其進一步包含相對於 上述(A)聚醯胺樹脂1〇〇質量份為〇1〜1〇質量份之(f)笨并 三唾系化合物。 如請求項11之感光性樹脂組合物,其進一步包含相對於 上述(A)聚醯胺樹脂1〇〇質量份為〇丨〜1〇質量份之(F)苯并 三σ坐系化合物。 一種感光性樹脂組合物溶液,其係包含如請求項7至2〇 中任一項之感光性樹脂組合物與溶劑者。 一種硬化浮凸圖案之形成方法,其包括: 將如請求項7至20中任一項之感光性樹脂組合物或如 請求項21之感光性樹脂組合物溶液塗佈於基材上,而形 成感光性樹脂組合物之塗膜之步驟; 直接或經由圖案化遮罩向該塗膜照射活性光線之曝光 步驟; 利用顯影液將該塗膜之未曝光部溶解除去而形成浮凸 圖案之顯影步驟;及 對該浮凸圖案進行加熱硬化而形成硬化浮凸圖案之步 驟。 一種半導體裝置’其係具有藉由如請求項22之硬化浮凸 圖案之形成方法所形成之硬化浮凸圖案者。 140879.doc 201005002 四、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:(無) (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 五、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式: Ο Ο Μ Η il II 1 ,,、 V—N—Y一Ν--· ·,⑴ (〇H)m NH I Ri 140879.doc
TW098119084A 2008-06-09 2009-06-08 A polyamide resin, a photosensitive resin composition, a method for forming a hardened embossed pattern, and a semiconductor device TWI392696B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008150968 2008-06-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201005002A true TW201005002A (en) 2010-02-01
TWI392696B TWI392696B (zh) 2013-04-11

Family

ID=41416717

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW098119084A TWI392696B (zh) 2008-06-09 2009-06-08 A polyamide resin, a photosensitive resin composition, a method for forming a hardened embossed pattern, and a semiconductor device

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5351155B2 (zh)
KR (1) KR101187613B1 (zh)
CN (1) CN101809064B (zh)
TW (1) TWI392696B (zh)
WO (1) WO2009151012A1 (zh)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI430024B (zh) * 2010-08-05 2014-03-11 旭化成電子材料股份有限公司 A photosensitive resin composition, a method for manufacturing a hardened bump pattern, and a semiconductor device
JP5715440B2 (ja) * 2011-02-24 2015-05-07 旭化成イーマテリアルズ株式会社 アルカリ可溶性重合体、それを含む感光性樹脂組成物、及びその用途
JP2012194534A (ja) * 2011-02-28 2012-10-11 Fujifilm Corp 感光性組成物、感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフィルム、並びに、永久パターン、その形成方法及びプリント基板
WO2014003092A1 (ja) * 2012-06-29 2014-01-03 日産化学工業株式会社 芳香族ポリアミドおよびそれを含む膜形成用組成物
US10759964B2 (en) * 2015-11-16 2020-09-01 Mitsui Chemicals, Inc. Semiconductor film composition, method of manufacturing semiconductor film composition, method of manufacturing semiconductor member, method of manufacturing semiconductor processing material, and semiconductor device
SG11201810158SA (en) * 2016-05-19 2018-12-28 Mitsui Chemicals Inc Composition for forming metal-containing film, method of producing composition for forming metal-containing film, semiconductor device, and method of producing semiconductor device
JP6810905B2 (ja) * 2016-10-26 2021-01-13 東洋紡株式会社 凸版印刷原版用感光性樹脂組成物、及びそれから得られる凸版印刷原版
JP2018084626A (ja) * 2016-11-22 2018-05-31 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 感光性樹脂組成物、パターン硬化膜の製造方法、硬化膜、層間絶縁膜、カバーコート層、表面保護膜及び電子部品
US10636845B2 (en) 2017-12-25 2020-04-28 Sakai Display Products Corporation Organic electroluminescent display apparatus
CN109134845B (zh) * 2018-08-09 2021-01-05 东华大学 一种交联聚酰胺、增强纤维复合材料及其制备和应用
WO2020071437A1 (ja) * 2018-10-03 2020-04-09 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 感光性樹脂組成物、パターン硬化物の製造方法、硬化物、層間絶縁膜、カバーコート層、表面保護膜及び電子部品
CN109814336B (zh) * 2019-01-21 2022-05-17 深圳市道尔顿电子材料有限公司 可碱溶负性光敏聚酰亚胺树脂组合物
CN110156985B (zh) * 2019-04-30 2021-12-21 珠海派锐尔新材料有限公司 一种高流动无规共聚半芳香尼龙及其制备方法
CN114690558A (zh) * 2022-03-17 2022-07-01 苏州理硕科技有限公司 一种聚酰胺类光刻胶组合物及其制备方法和应用
CN117420732B (zh) * 2023-12-19 2024-04-16 明士(北京)新材料开发有限公司 一种负型感光性树脂组合物及其应用

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3622334A (en) * 1969-12-31 1971-11-23 Du Pont Photopolymerizable compositions and elements containing heterocyclic nitrogen-containing compounds
JPS5952822B2 (ja) * 1978-04-14 1984-12-21 東レ株式会社 耐熱性感光材料
ATE11774T1 (de) * 1979-12-07 1985-02-15 Fisons Plc Verfahren zur herstellung von 1,4-dihydro-4-oxo- chinolin-2-carbonsaeuren oder salzen, estern oder amiden davon und zwischenverbindungen dafuer.
JPS63182322A (ja) * 1987-01-24 1988-07-27 Matsushita Electric Works Ltd 感光性耐熱樹脂組成物
JPH01129246A (ja) * 1987-11-14 1989-05-22 Matsushita Electric Works Ltd 感光性耐熱樹脂組成物
JP2826940B2 (ja) * 1992-07-22 1998-11-18 旭化成工業株式会社 i線露光用感光性組成物
CN1668980B (zh) 2002-07-11 2010-05-12 旭化成电子材料株式会社 高耐热性负型光敏树脂组合物
EP1707588A4 (en) * 2004-01-20 2009-07-01 Asahi Kasei Emd Corp RESIN AND RESIN COMPOSITION
CN1980984B (zh) * 2004-07-16 2010-06-09 旭化成电子材料株式会社 聚酰胺
JP4776486B2 (ja) 2006-09-28 2011-09-21 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性ポリアミド酸エステル組成物

Also Published As

Publication number Publication date
WO2009151012A1 (ja) 2009-12-17
JP5351155B2 (ja) 2013-11-27
KR101187613B1 (ko) 2012-10-05
KR20100063748A (ko) 2010-06-11
TWI392696B (zh) 2013-04-11
JPWO2009151012A1 (ja) 2011-11-17
CN101809064B (zh) 2012-06-13
CN101809064A (zh) 2010-08-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201005002A (en) Polyamide resin, photosensitive resin composition, method for forming cured relief pattern, and semiconductor device
TWI619743B (zh) Polylysine resin composition, polyimine film using the same, and method for producing the same
JP7351637B2 (ja) 樹脂組成物、及び硬化膜の製造方法
TW200536877A (en) Resin and resin composition
EP2902846B1 (en) Positive photosensitive resin composition
JP2011052214A (ja) 塩基発生剤、感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物からなるパターン形成用材料、当該感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法並びに物品
KR20110009669A (ko) 포지티브형 감광성 수지 조성물, 경화막, 보호막 및 절연막, 및 이를 이용한 반도체 장치 및 표시체 장치
JP2011123219A (ja) 感光性ポリアミド樹脂組成物、硬化レリーフパターンの形成方法及び半導体装置
TWI572640B (zh) 聚醯胺酸及含有其之樹脂組成物
JP5121393B2 (ja) ネガ型感光性樹脂組成物
JP2011089119A (ja) 塩基発生剤、感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物からなるパターン形成用材料、当該感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法並びに物品
JP5115045B2 (ja) ポリイミドワニス
JP4798851B2 (ja) アルコキシシラン化合物及びその組成物
JP6138943B2 (ja) 感光性樹脂組成物、そのレリーフパターン膜、レリーフパターン膜の製造方法、レリーフパターン膜を含む電子部品又は光学製品、及び感光性樹脂組成物を含む接着剤
JP7507048B2 (ja) ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜および化合物
JP5439640B2 (ja) アルカリ現像可能なネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置
JP2022073737A (ja) 感光性樹脂組成物、および硬化膜の製造方法
JP7809168B2 (ja) ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜および化合物
JP2022022578A (ja) 樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、半導体装置および有機el表示装置
JP2005266757A (ja) 感光性樹脂組成物
TWI392962B (zh) Photosensitive resin composition and method for producing the same
CN120380426A (zh) 负型感光性树脂组合物、使用其的浮雕图案的制造方法、固化物以及电子零件
CN120848108A (zh) 感光性树脂组合物、固化浮雕图案的制造方法和半导体装置
TW202546092A (zh) 感光性樹脂組合物、硬化浮凸圖案之製造方法及半導體裝置
WO2025018241A1 (ja) 樹脂組成物、硬化物、有機el表示装置、および半導体装置