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TW200924065A - Epitaxial wafer manufacturing method and epitaxial wafer - Google Patents

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Publication number
TW200924065A
TW200924065A TW097125613A TW97125613A TW200924065A TW 200924065 A TW200924065 A TW 200924065A TW 097125613 A TW097125613 A TW 097125613A TW 97125613 A TW97125613 A TW 97125613A TW 200924065 A TW200924065 A TW 200924065A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
layer
resistivity
carbon
wafer
epitaxial
Prior art date
Application number
TW097125613A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Inventor
Wei Feig Qu
Hiroyuki Kobayashi
Ryuji Sayama
Shoichi Takamizawa
Kiyoshi Mitani
Naohisa Toda
Hitoshi Mogi
Original Assignee
Shinetsu Handotai Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinetsu Handotai Kk filed Critical Shinetsu Handotai Kk
Publication of TW200924065A publication Critical patent/TW200924065A/zh

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    • H10P30/204—
    • H10P14/20—
    • H10P14/2905—
    • H10P14/3411—
    • H10P30/208—

Landscapes

  • Recrystallisation Techniques (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
TW097125613A 2007-07-31 2008-07-07 Epitaxial wafer manufacturing method and epitaxial wafer TW200924065A (en)

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