[go: up one dir, main page]

TW200817157A - Production method of polymer film and production apparatus of the same - Google Patents

Production method of polymer film and production apparatus of the same Download PDF

Info

Publication number
TW200817157A
TW200817157A TW096133011A TW96133011A TW200817157A TW 200817157 A TW200817157 A TW 200817157A TW 096133011 A TW096133011 A TW 096133011A TW 96133011 A TW96133011 A TW 96133011A TW 200817157 A TW200817157 A TW 200817157A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film
casting
support
cast
bead
Prior art date
Application number
TW096133011A
Other languages
English (en)
Inventor
Akifumi Kato
Hidekazu Yamazaki
Hitoshi Ikeda
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of TW200817157A publication Critical patent/TW200817157A/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C41/00Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor
    • B29C41/24Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of indefinite length
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C41/00Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor
    • B29C41/24Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of indefinite length
    • B29C41/26Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of indefinite length by depositing flowable material on a rotating drum
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D7/00Producing flat articles, e.g. films or sheets
    • B29D7/01Films or sheets
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29KINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2001/00Use of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives, e.g. viscose, as moulding material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29KINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2001/00Use of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives, e.g. viscose, as moulding material
    • B29K2001/08Cellulose derivatives
    • B29K2001/12Cellulose acetate

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)

Description

200817157 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於聚合物薄膜之製法及其製造設備。 【先前技術】 使用光學使用之聚合物薄膜例如用於保護極化濾波器 的表面之保護膜,用於消除光的光學畸變之延遲薄膜及抗 反射薄膜在作爲液晶顯示器(LCD)的主要成分之極化濾波 器表面上。依照LCD的急速所需量的膨脹,聚合物薄膜所 / 需量的膨脹亦增加。下列解釋中,聚合物薄膜稱爲薄膜, % 和光學使用之聚合物薄膜稱爲光學薄膜。 作爲聚合物薄膜的製造方法,就大體而論,使用溶液 流延方法及熔體擠壓方法。在熔體擠壓方法中,將聚合物 粒片加熱並熔化,經由擠壓機予以擠壓,因此產生薄膜。 熔體擠壓方法之生產率優良且能使用簡單裝置製造薄膜。 然而,聚合物在被加熱和熔化之時受熱損害而致使薄膜的 透明度劣化,且難以製造具有均勻厚度之薄膜。因此,作 V 爲需要優良透明度之光學薄膜的製法,溶液流延方法佔優 勢。 在溶液流延方法中,將係含有聚合物、溶劑和添加劑 之混合物的塗料流延至移動支撐體上以形成流延薄膜,然 後,將該流延薄膜自支撐體上剝離成爲欲予乾燥之濕膜。 因此獲得薄膜。此方法中,製造具有良好品質例如,優良 透明度和平滑度之薄膜甚爲重要。意欲經由實行形成薄膜 之速率較快來達成生產率之改進。試圖使實行塗料的流延 200817157 速率較快而作爲部分的改進。然而,當實行塗料的流延速 率較快時,熔珠夾雜空氣做爲排放口與支撐體間塗料的流 動。因此,出現一個問題其中空隙產生在流延薄膜中且不 勻度發生在其表面上而使薄膜的平滑度退化。 鑒於上述,作爲預防空氣夾雜的方法,舉例而言,日 本專利特許公開公告案第200 1 - 1 1 3 544中建議一種方法, 其中特靜電荷施加在熔珠與支撐體之間。此方法中,將電 極配置在熔珠的附近。即在排放口的附近,隨著所調節之 氧濃度,將電壓施加在熔珠與支撐體之間,另外,建議一 種方法,其中使用具有吸口之吸引室,關於熔珠的寬度方 向具有複數的段,並控制各段中之壓力,以便變換來將熔 珠的附近減壓,如日本專利特許公開公告案第2002- 1 03 3 5 9 中所揭示。 然而,根據日本專利特許公開公告案第2001-113544 ,因爲將電極配置在熔珠的附近,同時連續形成薄膜,具 有自熔珠或添加劑所汽化之溶劑蒸氣黏附至電極,電極變 1 ^ 質,因此導致難以施加電壓。因此,在日本專利特許公開 公告案第200 1 - 1 1 3 5 44中,發生預防空氣夾雜的效應之降 低。另外,根據日本專利特許公開公告案第2 0 0 2 - 1 0 3 3 5 9 ,僅吸引室等不足以防止空氣夾雜現象的發生,且另外, 當實行形成薄膜之速率較快時,熔珠的兩側端隆起且變得 不穩定,因此,發生一個問題其中流延薄膜可能具有不良 之平滑度。 【發明內容】 200817157 鑒於上述,本發明的一個目的在提供聚合物薄膜的製 法其能形成流延薄膜同時防止空氣夾雜現象的發生來產生 具有很少缺陷及在高速時具有優良平滑度和穩定之薄膜。 根據本發明,提供聚合物薄膜的製法,包括下列步驟 自流延模排放含聚合物和溶劑之塗料至連續移動之支 撐體上,及流延在流延模與支撐體間所形成之熔珠至支撐 體以形成流延薄膜;乾燥自支撐體所剝離之流延薄膜成爲 Ο 一種薄膜;及在形成流延薄膜之前,經由配置在支撐體表 面的附近之電壓施加裝置將支撐體的表面充電。 較佳,該電壓施加裝置是經由向著支撐放電,用於施 加電荷至支撐體之電極體,且予以配置在支撐體的移動方 向之熔珠上游端。 較佳將電絕緣層配置在支撐體的表面上。 其較佳者爲將支撐體的表面電位V設定至0.1 kvs | V | S 3kV及流延係在小於l〇wt%的氧濃度下予以實施。 U 設置在熔珠上游端之吸引室較佳將熔珠上游端之一部 位減壓。該電絕緣層較佳具有多層結構。 根據本發明,提供聚合物薄膜之製造設備,包括:連 續移動之支載體;流延模用於排放含聚合物和溶劑之塗料 至支撐體上以形成流延薄膜;電壓施加裝置用於將被流延 之支撐體的表面充電,該電壓施加裝置係配置在支撐體表 面的附近;及乾燥裝置用於乾燥自支撐體所剝離之流延薄 膜以形成聚合物薄膜。 200817157 根據本發明,可能以高速形成流延薄膜同時吸引溶珠 至支撐體的表面且防止空氣夾雜現象的發生。此外,經由 乾燥該流延薄膜,可能製造具有很少缺陷及在高速時具有 優良平滑和穩定之薄膜。 【實施方式】 根據本發明,聚合物薄膜的製法經由參照實例予以詳 細解釋。 如第1圖中所示,薄膜製造設備1 0包括流延室1 4, 「傳送段1 6,拉幅裝置1 9,邊緣切割裝置2 0,乾燥室2 2, 冷卻室2 3,強制中和裝置2 5,滾花輥2 6及捲繞室2 8。將 塗料流延至旋轉之支撐體上以形成流延薄膜i 2在流延室 1 4中。將流延薄膜丨2自支撐體上剝離成爲濕膜1 3並予以 乾燥同時被傳送入傳送段1 6中。當將濕膜1 3的兩側端經 由固定裝置固持並傳送時,將濕膜1 3促進乾燥獲得薄膜 1 8在拉幅裝置1 9中。將薄膜1 8的兩側端在邊緣切割裝置 2 〇中切去。將薄膜1 8在乾燥室2 2中充分乾燥。將在被乾 〇 燥後之薄膜18在冷卻室23中冷卻。強制中和裝置25調整 被施加至薄膜1 8之電壓。滾花輥2 6施加滾花至薄膜1 8。 將薄fl吴1 8在捲繞室2 8中捲繞成卷的樣子。特別述及,將 薄膜製造設備1 0通過係爲塗料的流動通道之管連接至塗 料製造設備30,並將充分數量的塗料自塗料製造設備3〇 任意地供應至薄膜製造設備1 0。 流延室14包括進料塊3 1,流延模3 3,流延滾筒3 4, 熱傳介質進料器3 6,剝離輥3 8,冷凝器4 0及回收裝置4 1 200817157 。塗料自塗料製造設備3 0供應至進料塊3 1。流延模3 3具 有一個狹縫作爲排放口’將塗料通過它排放至支撐體。流 延滾筒3 4功能係作爲支撐體。爲了調整流延滾筒3 4的表 面溫度,熱傳介質進料器3 6供應已調節溫度之熱傳介質至 形成在流延滾筒3 4中之流動通道。自流延滾筒3 4所剝離 之濕膜1 3係由剝離輥3 8予以支持。將流延室1 4中之溶劑 蒸氣由冷凝器4 0冷凝和液化。將液化之溶劑由回收裝置 41回收。另外,將用於調節流延室1 4內部溫度之溫度調 Γ: 節器43附著至流延室14外部。 將塗料的流動通道形成在進料塊3 1中。經由調整流動 通道的位置,可能形成具有所需要結構之流延薄膜1 2。流 延模33具有吸引室45。將該吸引室45配置在熔珠之上游 側,該熔珠係自流延模3 3的排放口至流延滾筒34所形成 。'當塗料自排放口至流延滾筒3 4時,爲了將熔珠之上游區 域減壓,使用吸引室45來吸引空氣並降低壓力。吸引室 45的外面具有夾套(未圖示),有熱傳介質(其溫度已調節) ϋ 流動在其中,而因此調節吸引室45內部之溫度。因爲將吸 引室4 5內部之溫度以此種方式調節,所以能預防自塗料汽 化之溶劑蒸氣、熔珠及流延薄膜1 2黏附至吸引室4 5的表 面。 雖然流延模3 3的形狀,材料,大小等未予特別限制, 但是爲了保持予以流延之塗料的寬度大致恆定,較佳使用 衣架型模作爲流延模3 3。此外,該流延模3 3的排放口較 佳是予以流延之塗料寬度之1 · 1至2 · 0倍。鑒於耐久性,耐 200817157 熱性等等,較佳使用沉澱硬化之不銹鋼作爲流延模3 3的材 料。其較佳者爲該材料具有耐腐蝕性致使在浸漬入二氯甲 烷、甲酵和水的混合溶液中歷三個月後,凹痕不會產生在 氣體-液體界面上。此外,亦較佳者爲,該耐腐餓性大體 上等於歷經使用電解質水溶液之強制腐蝕檢驗的SUS 3 1 6 耐腐蝕性。特別述及,鑒於耐熱性,其熱膨脹係數較佳是 2 X 1 (Γ 5 (°C ·1)或更小。 爲了改進耐磨性等等之目的,將硬化薄膜較佳形成在 { 排放口的突出部邊緣上。用於形成硬化薄膜之方法並未特 別限制,然而,舉例而言,有陶瓷塗層,硬鍍鉻,氮化處 理等等。當使用陶瓷作爲硬化薄膜時,其較佳者爲可將陶 瓷硏磨,具有低孔隙度,且強度和耐腐蝕性都優良,同時 具有對於流延模3 3之優良黏著和對於塗料之不良黏著。具 體來說,有碳化鎢(WC)、Al2〇3、TiN、Cr203等。其中, 較佳爲使用WC。特別述及,可能經由眾所周知之之熱噴霧 方法來實施WC塗布。 i : 爲了獲得平滑度優良之流延模膜1 2,較佳將與塗料接 觸之流延模3 3的表面硏磨等成爲平滑。另外,其較佳者爲 流延模33的邊緣部位具有吸引裝置(未圖示)來吸進該邊緣 部位同時所吸之空氣的體積是在IL/min至100L/min的範 圍內。藉以,可能降低空氣流動速率其可能致使產生不均 勻性在熔珠的表面上。 流延滾筒3 4較佳能連續旋轉。特別述及,雖然支撐體 此實施例中是流延滾筒3 4,但是該支撐體不限爲此。舉例 -10- 200817157 而言,作爲支撐體,其較佳者爲使用流延帶 繞一對的輥包括一個傳動輥且連續移動。此 大小和材料並未依照其形狀予以特別限制, 的寬度較佳是予以流延之塗料寬度之1 .1至 耐腐鈾性,強度等,其較佳者爲使用不銹鋼 形成平滑度優良之流延薄膜,將支撐體的表 硏磨。此實施例中,使用能經由驅動器(未3 之由不銹鋼所造成之滾筒,並致使該滾筒旋 { 流延。 將作爲電壓施加裝置之電極桿5 0配置 游側,在此部位,熔珠到達流延滾筒3 4。電 度係與流延滾筒3 4的寬度大致相同。將直流 電極桿5 〇,向著流延滾筒3 4放電。藉以,: 充電。此外,流延室1 4包括控制器5 2和量 量氧氣計5 3恆定量測流延1 4內部之氧濃度 之値,控制電極桿5 0的開啓和關閉。特別述 ί 50具有沿著流延滾筒34的寬度方向延伸之 置具有長度與流延滾筒3 4的寬度大致相同 桿如此實例之第2圖中所示。然而,可能採 例。另外實施例中,可將複數的電極桿,各 筒3 4的寬度大致相同之長度,以薄膜的進和 以,可能以更均勻電荷量將滾筒的表面充電 傳送段1 6包括用於支持濕膜1 3之複數 供應裝置5 4用於吹送乾空氣向著予以傳送 ,將其捲繞環 外,支撐體的 然而,支撐體 2.0倍,且鑒於 。此外,爲了 面較佳儘可能 Β示)連續旋轉 轉同時將塗料 在一部位之上 :極桿5 0的長 筒電壓施加至 將流延滾筒3 4 氧計5 3。使用 。基於所量測 :及,該電極桿 桿的形狀。配 之僅一個電極 用另外之實施 具有與流延滾 1*方向配置。藉 〇 :的輥,及空氣 之濕膜1 3。複 -11- 200817157 數的輥可包括傳送輥。拉幅裝置1 9具有一對的鏈(未圖示) 其上具有針板,及溫度調節器(未圖示)用於調節拉幅裝置 1 9內部之溫度。該針板具有複數的針作爲用於固持和固定 之濕膜1 3的兩側端之固定裝置。將該對的鏈環繞一對的軌 捲繞,該對的軌具有自拉幅裝置1 9的進口逐漸增加至其出 口之寬度,即,自上游端至下游端。鏈係沿著軌而移動。 將壓碎機5 6,其用於壓碎被切掉之薄膜1 8的兩側端 成爲碎片,連接至邊緣切割裝置2 0。將複數的輥5 8和溫 〇 度控制器(未圖示)配置在乾燥室22中。將薄膜18環繞複 數的輥5 8捲繞並與其支持同時傳送。使用溫度控制器用於 控制乾燥室22內部之溫度。另外,將用於吸附和回收自薄 膜1 8所汽化之溶劑蒸氣之吸附和回收裝置5 9配置在乾燥 室22外面。捲繞室28中,配置有捲繞輥62其具有壓輥 6 1用於施加壓力至薄膜1 8。 其次,具體地解釋隨著使用薄膜製造設備10用於製造 薄膜1 8之步驟。首先,將塗料製造設備3 0中所製造之塗 L ' 料通過進料塊3 1供應至流延模3 3。 如第2A圖中所示,使用迷宮式密封65用於屏蔽流延 段包括具有塗料的排放口之流延模3 3及流延室1 4中之吸 引室4 5。因此,可能防止由於依照流延滾筒3 4等的旋轉 ,流延室1 4中所產生之風,熔珠的表面之改變。 放電係由電極桿5 0向著在流延以前的流延滾筒3 4之 表面予以實施。使用具有電絕緣層70之外表面之流延滾筒 3 4來正性或負性將該流延滾筒3 4加料。塗料自流延模3 3 -12- 200817157 排放至流延滾筒3 4,即,熔珠經由靜電吸引予以吸引至流 延滾筒3 4。藉以,增加熔珠與流延滾筒3 4間之黏著來防 止空氣夾雜。特別述及,其較佳者爲配置電極桿50在流延 滾筒3 4的轉方向之熔珠上游端。因此,可能減少降低充電 效應的可能性,其係由黏附至電極桿5 0之流延室1 4中溶 劑蒸氣所致使。如在此實施例的情況中,當將電極桿5 0配 置在經由迷宮式密封6 5所屏蔽之流延段外面時,可能進一 步減少溶劑蒸氣的黏著至電極桿5 0的程度。 爲了有效防止空氣夾雜,其較佳者爲設定流延滾筒3 4 的表面電位V以便符合經由〇. 1 kV $ | V | S 3 kV所代表之 條件。可能經由調整來自電極桿5 0之放電量來迅速控制該 表面電位V。當I V |是小於0. 1 kV時,僅將弱吸力施加在 熔珠與流延滾筒3 4之間,而因此可能難以防止空氣夾雜的 發生。反之,當I V |是超過3 kV時,流延滾筒3 4的電荷 量變得太大,且熔珠可能波動。另外,在某些情況中,在 流延滾筒3 4的寬度方向,電荷量可能不均勻。此外,當 I V |係超過3 kV時,擊穿發生在某些情況中之電絕緣層 70中。 當形成流延薄膜1 2時,流延室1 4內部之氧濃度係由 量氧計5 3予以恆定量測,且基於所量測之値,調整氮氣之 流量致使流延室1 4內部之氧濃度總量小於1 0 w t %。因此, 可能減少流延室1 4中著火或爆炸的可能性。氧濃度可能經 由供應惰性氣體例如氮氣和二氧化碳,包括惰性氣體和空 氣之混合氣體等至流延室1 4中予以迅速調整。特別述及, -13· 200817157 當爲了某些原因,氧濃度變成10 wt%或更大時 並將經由電極桿5 0之放電,通過控制器5 2予j 流延滾筒3 4之充電方法未予特別限制,然 者爲使用以上述方式之放電處理來均勻施加電 筒34。上述之放電處理稱爲直流電暈放電。特 較佳者爲被施加至流延滾筒3 4之所有電荷是單 有單極電荷是均勻地負性或正性。因此,可能 於吸引熔珠。 f' 電絕緣層7 0是一個層,其顯示經由熔化和 質或經由其他方法所獲得之電絕緣性質。因爲 70形成在具有溶珠流延在其上之流延滾筒34 上,及將上述之放電處理施加至其上,所以可 電絕緣層70的表面,樹枝狀膨脹之放電路徑並 不銹鋼所造成之流延滾筒3 4。雖然上述絕緣物 限制,但是舉例而言,有含氧化鋁,氧化鉻, 氧化鈦的至少一種之陶瓷,或含有至少兩種的 ί, 化鉻,氧化鉻和氧化鈦混合物之陶瓷;聚四氟 ;和塑膠。該層70的形成方法和厚度亦末予特 而,其較佳者爲形成該層70致使其在流延滾信 表面上之厚度均勻。特別述及,根據此實施例 層7 0係由沉積獲得主要含氧化鋁之陶瓷來形成 電絕緣層7 0較佳具有多層結構而不是單擇 ,該多層結構包括與流延薄膜1 2接觸之第一層 在第一層70a上且舉例而言,比第一層70a較 ,發生警報 以停止。 而,其較佳 荷至流延滾 別述及,其 極電荷。所 獲得強力用 沉積絕緣物 將電絕緣層 的周邊表面 能形成沿著 迅速充電由 質未予特別 氧化鉻,和 氧化鋁,氧 乙烯(PTFE) 別限制,然 3 3 4的整個 ,該電絕緣 5 一層。 ί結構。更佳 7〇a及形成 厚之第二層 -14- 200817157 70 b。爲了使流延薄膜12的表面與儘可能平滑之第一層70a 接觸,第一層7 的曝露表面較佳是平滑。許多情況中, 當流延薄膜12的表面粗糙時,所獲得之薄膜18(見第1圖) 的表面亦粗糙。爲了使用陶瓷所造成之第一層7〇a的曝露 表面平滑,作爲材料之陶瓷粒子的直徑較佳細小。關於代 替陶瓷作爲第一層7〇a的材料之PTFE,同樣適用此情況。 在使供使用於第一層70a中之陶瓷或PTFE的粒子直 徑較短之情況中,第一層7〇a較容易破裂或趨向於呈現裂 〇 縫。當爲了將電絕緣性質授予流延滾筒34的周邊表面之目 的,使第一層70a的厚度變得較厚時,上述之趨勢變得更 顯著。鑒於上述,將第二層7〇b形成在第一層70a之上。 即,第二層70b是與流延薄膜12接觸之一層,且並不暴露 至外部。使第二層7〇b中之陶瓷或PTFE的粒子直徑大於 第一層70a中之其粒子直徑。藉以,電絕緣層70具有平滑 度且無裂縫,經由長期使用而不容易破裂。此外,因爲電 絕緣層70具有包括自如上述材料所造成之第一層70a和第 ^ ; 二層70b之多層結構,暴露之表面可能平滑且電絕緣性質 可能強大。特別述及,可形成複數第二層70b以便相互堆 疊。 在流延之時,使用吸引室45來設定熔珠上游區域之壓 力至低於大氣壓之程度。因此,將熔珠從那裡吸引至上游 區域,即,向著流延滾筒3 4,且變得可能進一步防止空氣 夾雜以及減少熔珠附近之空氣的流量。因此,可能流延熔 珠同時防止流延薄膜的表面之改變。而且,如上所述,因 -15- 200817157 爲流延段係由迷宮式密封6 5予以屏蔽,所以可能經由吸引 室4 5有效降低熔珠附近之壓力。特別述及,熔珠上游區域 之壓力較佳是在(AP(大氣壓力)-2000Pa)至(AP-10Pa)的範 圍內。 流延滾筒3 4的表面溫度係大致恆定在-4 0 °C至3 0。(:之 範圍內。此實施例中,將熱傳介質,已調節其溫度,自熱 傳介質進料器3 6供應至形成在流延滾筒3 4中之流動通道 來設定流延滾筒3 4的表面溫度在-1 〇 °c。此外,在流延之 ( 時,塗料的溫度較佳是大致恆定在-1 0 °C至5 5 °C之範圍內。 經由控制進料塊3 1和流延模3 3的內部溫度可能調節塗料 之溫度,此實施例中,將塗料的溫度設定至-5 °C。藉以, 將熔珠在流延滾筒3 4上有效地冷卻,及將凝膠狀態之流延 薄膜1 2在短時間內形成。 亦可使用氣刀作爲附著裝置用於調整流延滾筒3 4與 流延薄膜1 2間之附著程度。當使用氣刀時,其較佳者爲吹 空氣對著在流延滾筒3 4的旋轉方向,熔珠下游區域所形成 t - 之流延薄膜1 2。藉以,將熔珠壓向流延滾筒3 4並增加其 中間之附著的程度。經由控制著流延薄膜1 2所吹送之空氣 的速率和流量,可能充分調整流延薄膜1 2與流延滾筒3 4 的表面間之附著程度。 其較佳者爲,爲了供應所需要溶劑至熔珠的兩側端與 周圍空氣間及排放口與周圍空氣間之氣體一液體界面,將 溶劑供應裝置(未圖示)附著至流延模3 3的排放口之一端部 位上。該溶劑較佳能溶解塗料,作爲溶解,舉例而言,有 -16- 200817157 8 6.5重量份的二氯甲烷,1 3重量份的甲醇和〇 · 5重量份的 正丁醇的混合溶劑。藉以,可能防止塗料被部分地乾燥和 固化,且形成具有穩定形狀之熔珠。除此以外,亦可能減 少該項可能性,就是成爲外來物質之固化之塗料與溶珠及 流延薄膜1 2混合之可能性。因此,薄膜1 8不具有缺陷且 可獲得優良透明度。而且,於供應上述之混合物時,其較 佳者爲使用具有5 %或更小的脈動率之泵以致使混合物的 供應量在O.lmL/m至1.0mL/m之範圍內在排放口的各端部 〇 位上。 流延室1 4中之溶劑蒸氣經由冷凝器40予以冷凝並液 化及經由回收裝置4 1予以回收。藉以,可實現流延室1 4 中溶劑蒸氣的減少效果。所回收之溶劑經由精煉裝置(未圖 示)予以精煉成爲用於製備塗料之溶劑並再使用。藉以,可 能實現降低材料之成本。特別述及,流延室1 4內部溫度較 佳經由溫度調節器4 3維持大致恆定在-1 0 °C至5 7 °C的範圍 內。 U 將流延滾筒34上之流延薄膜12冷卻且隨著時間過去 ,越來越轉變成爲凝膠狀狀態。將轉變成爲凝膠狀態之後 並具有自支撐性質之流延薄膜1 2附以剝離輥3 8之支持自 流延滾筒3 4上剝離。恰在被剝離之後,流延薄膜1 2中溶 劑的殘留量較佳在lOniass%至200mass%的範圍內。關於溶 劑的殘留量,該溶劑是被包含在樣品中,例如流延薄膜和 作爲目標之薄膜中之主溶劑。然而,當將不同溶劑包含在 樣品中時,將薄膜中其量係最大之溶劑視爲主溶劑。溶劑 -17- 200817157 的殘留量以乾燥基予以測定,且其値係由下式予以計算: [(x-y)/y] X1〇〇 其中X是在取樣時薄膜的重量,而y是在完全被乾燥之後 ,取樣薄膜的重量。 將如此剝離之流延薄膜1 2送至傳送段1 6。在傳送段 1 6中,將乾空氣自空氣供應裝置5 4對著流延薄膜1 2吹送 ,同時將流延薄膜1 2附以複數的輸送輥支持予以輸送,因 此促進流延薄膜1 2的乾燥。將乾空氣的溫度設定至大致恆 ί: 定在20t:至2 50t:的範圍內,因此,可能有效地乾燥流延 薄膜1 2不會使流延薄膜1 2熱損壞。此外,將各輸送輥之 旋轉速率設定較快速自傳送段i 6的進口端至其出口端。藉 以,將流延薄膜1 2在傳送段1 6中傳送同時施加適當張力 至其上,不會造成皺紋在流延薄膜12的表面上變得可能。 在進行乾燥流延薄膜1 2之後,將該流延薄膜1 2送至 拉幅裝置1 9,將流延薄膜1 2的兩側端經由利用拉幅裝置 1 9的進口附近之複數的針刺穿予以固定。拉幅裝置1 9內 U 部之溫度經由溫度調節器(未圖示)予以初步控制。因爲配 置軌致使其寬度自拉幅裝置1 9的進口向著其出口而增加 ,所以將拉幅薄膜1 2在寬度方向逐漸延伸同時沿著軌被傳 送。藉以,控制流延薄膜1 2的寬度方向之分子定向及其乾 燥進行,而獲得顯示高延遲値之薄膜1 8。特別述及,代替 使用軌將流延薄膜1 2延伸和拉伸,可使用收縮裝置在寬度 方向來拉伸流延薄膜1 2。在拉幅裝置1 9的出口附近,釋 放經由針固定的薄膜1 8。此外,此實施例中,使用具有針 -18 - 200817157 之針-拉幅裝置作爲固定裝置。然而,固定裝置不限爲此 。只要可將薄膜的兩側端固持,可使用具有用於固持流延 薄膜1 2的兩側端之複數布鋏之布鋏拉幅機裝置作爲固定 裝置。 將自拉幅裝置1 9所傳送之薄膜1 8的兩側端經由邊緣 切割裝置2 0切掉。藉以,移除經由銷所形成之薄膜1 8的 兩側端之穿孔。特別述及,可省略該切割程序,然而,爲 了獲得具有很少缺陷之薄膜1 8,切割程序較佳在自流延室 Γ】 14至捲繞室28各段的任何一段中予以實施。 將薄膜18送至乾燥室22。當薄膜18附以複數的輥58 的支持予以傳送時,經由使用溫度控制器(未圖示),將薄 膜18的薄膜表面溫度控制爲恆定在60°C至145 °C之範圍內 。藉以,促進薄膜1 8之乾燥不會受熱損壞。薄膜1 8的薄 膜表面溫度經由檢驗配置在薄膜1 8的傳送路徑上,並在薄 膜18的表面附近之溫度指示器(未圖示)容易證實。而且, 在乾燥室22中,在來自薄膜1 8之溶劑蒸氣經由吸附和回 I 收裝置5 9予以回收後,將溶劑成分自其中移除,並作爲乾 空氣再供應至乾燥室22。藉以,溶劑蒸氣不會黏附至薄膜 1 8的表面而實現降低能量成本。 將薄膜18送至冷卻室23並冷卻直至其溫度變成大致 室溫。冷卻方法未予特別限制。舉例而言,可能使用一種 方法,其中將薄膜1 8留置在具有溫度調節至室溫之冷卻室 2 3中,經由自然冷卻予以冷卻,或使用一種方法,其中將 薄膜1 8使用於供應冷空氣附著至冷卻室2 3之鼓風機予以 -19- 200817157 置 之 上 壓 壓 致 26 捲 壓 時 18 穩 至 之 過 的 在 範 明 獲 冷卻。特別述及,其較佳者爲將濕度控制室(未圖示)配 在乾燥室22與冷卻室23之間,並將在歷經濕度控制後 薄膜1 8冷卻,此後可實現有效拉伸形成在薄膜1 8表面 之皺紋的效果。 被施加至具有溫度調節至大致室溫之薄膜1 8之電 係由強制中和裝置2 5予以調整。被施加至薄膜1 8之電 未予特別限制,然而,被施加至薄膜1 8之電壓較佳是大 恆定在-3 kV至3 kV的範圍內。其後,滾花經由滾花輥 ί 予以施加在薄膜18的兩側端上。最後,將薄膜18送至 繞室28,經由捲繞輥62捲繞,同時其平滑度係由利用 輥6 1以壓力施加在其表面上予以調整。捲繞薄膜1 8之 的張力在捲繞操作期間較佳逐漸改變。藉以,捲繞薄膜 而不產生皺紋變得可能。 如上所述,可能製造在高速率時具有優良平滑度和 定之薄膜18。根據本發明,可能製造具有在其進料方向 少100m或更大長度及在其寬度方向1400mm至2500mm I, 薄膜18。然而,本發明中,即使薄膜18的長度係超 25 00mm,亦可能獲得有效結果。雖然所獲得之薄膜18 厚度未予特別限制,但是所獲得之薄膜1 8的厚度較佳是 20//m至500//m的範圍內,更佳在30//m至300//m之 圍內,最佳在35//m至200//m之範圍內。然而,本發 中,即使薄膜18的厚度薄至15//m至100/zm,亦可肯g 得有效結果。 特別述及,流延滾筒3 4的充電方法不限於此實施仿 -20- 200817157 舉例而言,可採用使用摩擦構件之方法。此情況中,可將 流延滾筒3 4經由致使摩擦構件與流延滾筒3 4接觸來產生 靜電電荷予以充電。作爲摩擦構件,舉例而言,有金屬桿 其具有使用織物所包裹之表面,帶、橡膠產物等。摩擦構 件未予特別限制爲此。然而,爲了抑制流延滾筒3 4的表面 之損壞至最小程度,及爲了任意地調整摩擦構件與流延滾 筒34接觸之時予以施加之壓力,其較佳者爲選擇一種適當 材料。 C 雖然單層結構的薄膜,如上所述,使用此實施例中之 一種塗料予以製造,但是於形成多層結構的流延薄膜,本 發明亦係有效。特別述及,多層結構的流延薄膜可經由眾 所周知方法予以製造,此方法中,將所需要數目的塗料同 時或連續地流延,或經由其他方法,且該方法未予特別限 制爲此。此外,流延模,吸引室,支撐體的結構等,共流 延,各程序中之剝離方法,拉伸,乾燥條件,處理方法, 卷曲,在校正平滑度後之捲繞方法,溶劑回收方法及薄膜 I ; 回收方法等都詳細記述於日本專利特許公開公告 NO.2005-104148之〔0617〕至〔0889〕各段中。該記述亦 可應用至本發明。特別述及,所獲得之薄膜的性質,卷曲 的程度,厚度,及其量測方法都記述於日本專利特許公開 公告N0.2005-104148中〔1073〕至〔1087〕各段中。該記 述亦可應用至本發明。 使至少一個的所獲得之薄膜表面較佳歷經表面處理, 因爲薄膜表面與光學構件例如極化濾波器間之附著程度經 -21- 200817157 由表面處理可增加。該表面處理較佳是至少一種的下列處 理:真空輝光放電,大氣壓力下之電漿放電,UV光照射, 電暈放電,火焰處理,酸處理和鹼處理。 當使用所獲得之薄膜作爲基膜且其兩表面或一表面具 有所需要之功能層時,可使用該生成物作爲各種功能層。 作爲功能層,舉例而言,有抗靜電層,硬化樹脂層,抗反 射層,容易黏著層,抗眩光層及光學補償層等。例如經由 提供抗反射層可能獲得能防止光的反射並提供高像品質之 〇 抗反射薄膜。特別述及,上述功能層及其製造方法詳細記 述於日本專利特許公開公告N0.2005-104148之〔0890〕至 〔1 072〕各段中。該記述亦可應用至本發明。另外,關於 本發明的聚合物薄膜之實際應用,舉例而言,有應用至TN 型,STN型,VA型,OCB型,反射型及曰本專利特許公開 公告N0.2005-104148中〔1088〕至〔1265〕段中所述之其 他型的液晶顯示器。 其次,詳細解釋本發明的塗料之各種材料。 其較佳者爲使用纖維素酯作爲塗料之材料,因爲可能 獲得具有優良透明度之薄膜。作爲纖維素酯,舉例而言, 有低碳脂肪酸酯包括纖維素,例如三乙酸酯纖維素,乙酸 丙酸纖維素及乙酸丁酸纖維素。其中,鑒於其透明度的程 度,較佳使用纖維素醯化產物,特佳使用三乙醯基纖維素 (TAC)。特述及,此實施例中使用之塗料包括三乙醯基纖 維/素(TAC)作爲聚合物。在如上述,使用TAC之情況中, 至少90wt%的TAC粒子各自具有〇.lmm至4.0mm的範圍 -22- 200817157 內之直徑。特別述及,作爲塗料之聚合物未受限 酯,只要該物質可溶入溶劑中並充作塗料,可能 所周知物質。 上述之纖維素醯化產物中,爲了獲得具有更 度之薄膜,其較佳者爲對於纖維素中羥基中之氫 基取代度應符合所有下列各式: (a) 2.5 ^ A+ B ^ 3.0 (b) 0 ^ A ^ 3.0 f (c) 0 ^ B ^ 2.9 上述式(a)至(c)中,A代表羥基中氫原子對於 乙醯基的取代度,而B代表羥基中氫原子對於纖 有3至22個碳原子之醯基的取代度。 纖維素具有造成/3 -1,4鍵之葡萄糖單位,且 單位具有釋出之羥基在第二,第三和第六等位置 素醯化產物是一種聚合物其中將一部分或全部的 以便氫經由具有兩或多個碳之醯基予以取代。纖 ί 產物中醯基之取代度指纖維素中各第二,第三和 上羥基的酯化度。特別述及,當全部(1〇〇°/〇的相 之羥基被取代時,此位置上之取代度是1。 醯基之總取代度,即,DS2+ DS3 + DS6較佳 至3.00之範圍內,更佳在2.22至2.90之範圍內 2.40 至 2.88 之範圍內。另外,DS6/(DS2+DS3 + 是至少0.28,更佳至少0.30且最佳在0.31至〇· 內。特別述及,DS2是每葡萄糖單位之第二位置 爲纖維素 是任何眾 優良透明 原子。醯 纖維素中 維素中具 各葡萄糖 上。纖維 羥基酯化 維素醯化 弟/\位置 同位置上 是在2.0 0 ,最佳在 DS6)較佳 3 4之範圍 上羥基中 -23- 200817157 氫原子對於醯基的取代度,D S 3是每葡萄糖單位之第三位 置上羥基中氫原子對於醯基的取代度,及DS6是每葡萄糖 單位之第六位置上羥基中氫原子對於醯基的取代度。 本發明中,纖維素醯化產物中醯基的種類可能是一種 或多種。當兩或多種的醯基係在纖維素醯化產物中時,其 較佳者爲其中之一是乙醯基。當第二,第三和第六等位置 上之羥基對於乙醯基的總取代度及對於除去乙醯基以外之 醯基的總取代度各自敘述成爲DSA和DSB時,DSA+DSB & 之値較佳是在2.22至2.90的範圍內,更佳在2.40至2.88 之範圍內。 另外,DSB較佳是至少 0.30,更佳是至少 0.70,在 D SB中,第六位置上羥基的取代之百分率較佳是至少20% 。該百分率更佳是至少2 5 %,而且更佳是至少3 0 %,最佳 是至少3 3 %。再者,D S A + D S B的値,其中羥基是在纖維 素醯化產物中之第六位置上,較佳是至少0.7 5,更佳至少 〇 · 8 0,且最佳是至少〇 . 8 5。經由使用符合上述條件之纖維 素醯化產物,可製備具有極優良溶解度之塗料。特別述及 ,在使用上述之纖維素醯化產物之情況中,因爲使用一種 無氯之有機溶劑代表優良溶解度,所以可能產生具有低黏 度和優良過濾性之塗料。 雖然作爲纖維素醯化產物之材料的纖維素可自棉絨或 棉漿粕獲得,但是較佳使用棉絨。 根據本發明,關於纖維素醯化產物,具有至少2個碳 原子之醯基可能是脂肪族基團或芳族基團,但並未予特別 -24- 200817157 限制。作爲纖維素醯基化物的實例,有烷羰基酯,烯羰基 酯,芳族羰基酯,芳族烷羰基酯等。纖維素醯基化物亦可 能是具有其他取代基之酯類。舉例而言,較佳取代基是丙 醯基,丁醯基,戊醯基,己醯基,辛醯基,癸醯基,十二 烷醯基’十三烷醯基,十四烷醯基,十六烷醯基,十八烷 醯基,異丁醯基,第三丁醯基,環己烷羰基,油醯基,苯 甲醯基,萘羰基,桂皮醯基等。其中,更佳基團是丙醯基 ,丁醯基,十二烷醯基,十八院醯基,第三丁醯基,油醯 f' 基’苯甲醯基,萘羰基,桂皮醯基等。特別,以丙醯基和 丁釀基是最可取。 關於纖維素醯化產物之敘述記述於日本專利特許公開 公告N0.2005-104148中之〔0140〕至〔0195〕段中。該敘 述亦可應用至本發明。 根據本發明,被使用於製備塗料之溶劑較佳是一種有 機化合物其可溶解被使用之聚合物。然而,本發明中,塗 料意指經由溶解或分散聚合物入溶劑中所獲得之混合物, ί 因此’亦可使用對於聚合物具有低溶度之溶劑。作爲此類 較佳溶劑,有芳族烴(舉例而言,苯,甲苯等),鹵化烴(舉 例而言,二氯甲烷,氯仿,氯苯等),醇(舉例而言,甲醇 ,乙醇,正丙醇,正丁醇,二甘醇等),酮(甲基甲酮,甲 乙酮等),酯(舉例而言,乙酸甲酯,乙酸乙酯,乙酸丙酯 等)’醚(舉例而言,四氫呋喃,甲氧基乙醇等),等。可使 用混合物溶劑包括自此等溶劑中所選出之至少兩種溶劑。 其中’以二氯甲烷爲最佳因爲可能獲得具有優良溶解度之 -25- 200817157 塗料且在短時間內,自流延薄膜上揮發掉溶劑,因此產生 薄膜。 鹵化烴較佳具有1至7個碳原子。鑒於物理性質,例 如對於對於聚合物之溶解度,自流延薄膜的支撐體之剝離 性,薄膜的機械強度及光學性質,其較佳者爲使用至少一 種的具有1至5個碳原子之醇連同二氯甲烷。醇的含量較 佳是相對於整個溶劑,在2wt%至25 wt%之範圍內,更佳在 5 wt%至2 0 wt%之範圍內。舉例而言,可應用之醇是甲醇、 . ' 乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇等,且特別,其中,以甲 醇、乙醇、正丁醇,及彼等之混合物爲更佳。 最近,爲了抑制對於環境之不利影響至最小程度,建 議不含二氯甲烷之溶劑。此情況中,該溶劑較佳含有4至 12個碳原子之醚,具有3至12個碳厚子之酮,具有3至 1 2個碳子之酯,或彼等之適當混合物。特別述及,醚,酮 和酯可具有環狀結構,且可使用具有其至少兩功能基(β卩, -0-,-CO_和-COO-)之化合物作爲溶劑。該溶劑可具有其他 ^ 功能基例如,醇式羥基。於使用具有兩或多功能基之溶劑 時,碳原子之數目應是在具有功能基之一的化合物之規則 範圍以內,但數目未予特別限制。 依照目的,可將各種眾所周知添加劑例如塑化劑,UV 吸收劑,變質抑制劑,潤滑劑和脫模促進劑加至塗料。舉 例而言,作爲塑化劑,可能使用眾所周知塑化劑包括磷酸 酯塑化劑例如,磷酸三苯酯和磷酸聯苯二苯酯,酯酸酯塑 化劑例如酞酸二乙酯,及聚酯聚胺甲酸酯彈性體。 -26- 200817157 此外,爲了防止薄膜與調整之折射率間之黏著目的’ 將細粒子較佳加至塗料。二氧化矽衍生物較佳使用作爲細 粒子。本發明中,二氧化矽衍生物包括二氧化矽和具有三 纖維網形成之聚矽氧樹脂。使上述之二氧化矽衍生物的表 面較佳歷經烷基化程序。因爲歷經以水處理例如烷基化程 序之細粒子,對於溶劑之分散性優良,所以可能製備塗料 不會造成細粒子的聚集且進一步產生薄膜。因此,可能產 生具有很少表面缺陷以及優良透明度之薄膜。 C 作爲具有如上所述,歷經烷基化程序之表面之細粒子 ,舉例而言,可使用AEROSIL R805(由日本AEROSIL有限 公司所製造),其可利用作爲二氧化矽衍生物,各具有包括 辛基一個表面等。特別述及,爲了保持添加細粒子的效果 及獲得透明度優良之薄膜的目的,塗料中細粒子的含量, 基於固體含量,較佳設定至0.2%或更少。此外,細粒子的 平均直徑較佳等於或小於1 . 0 // m,更佳在0.3 // m至1 .0 // m之範圍內,最佳在〇.4#m至0.8//m之範圍內,致使光 I」 的通過不會經由細粒子所妨礙。 如上文中所解釋,根據本發明,爲了獲得具有優良透 明度聚合物薄膜的目的,其較佳者爲使用TAC作爲聚合物 來製備塗料。此情況中,相對於在與溶劑,添加劑等等相 混合之後,塗料的總量,TAC的濃度較佳是在5 wt %至40 wt % 之範圍內,更佳在 1 5wt%至 30wt%之範圍內,且最佳在 17wt%至25 wt%之範圍內。另外,添加劑(主要是塑化劑) 的濃度,相對於包括聚合物和塗料中其他添加劑之全部固 -27- 200817157 體含量較佳是在lwt%至20wt%之範圍內。 特別述及,溶劑,各種添加劑例如,塑化劑,UV吸收 劑’變質抑制劑,潤滑劑,脫模促進劑,光學各向異性控 制劑’延遲控制劑,染料,脫模劑及細粒子都詳細記述於 曰本專利特許公開公告N0.2005-104148中〔0196〕至〔0516 〕各段中。該敘述亦可應用至本發明。此外,使用TAC之 塗料製造方法包括材料和添加劑的溶解方法和添加方法, 過濾方法及消泡方法亦被詳細記述於日本專利特許公開公 (% 告 ΝΟ·2〇〇5-104148 中〔0517〕至〔0616〕各段中。該敘述 亦可應用至本發明。 下文中,本發明參照各實例和比較性實例予以詳細敘 述。然而’本發明並非受限爲那些實例和比較性實例。 (實例1) 使用第1圖中所示之薄膜製造設備10來製造薄膜18 。在將充分量的塗料自塗料製造設備3 0通過進料塊3 1供 應至流延模3 3之後,將塗料自流延模3 3的排放口卸料至 ί, 連續旋轉之流延滾筒34,如第2Α圖中所示。在此時,將 吸引室45中之壓力設定至600Pa來將熔珠之上游區域減壓 。調整塗料的卸料量以致使在被乾燥之後,薄膜1 8的厚度 變成8 0 // m。 流延滾筒3 4係由不銹鋼所造成且能經由驅動器(未圖 示)控制其旋轉頻率。將用於冷卻之熱傳介質自熱傳介質進 料器3 6供應至流延滾筒3 4致使流延滾筒3 4之表面溫度變 成- l〇°C。如第2A圖中所示,在流延塗料之前,將直流高 -28- 200817157 電壓施加至電極桿5 0以便放·電,致使將流延滾筒3 4充電 。流延滾筒3 4的表面電位V是1 kV。此外,將氮氣供應入 流延室1 4中致使將氧濃度恆定調整在小於1 〇wt%的級位。 使用溫度調節器4 3來恆定保持流延室1 4內部之溫度在3 5 °C。特別述及,流延模3 3具有狹縫作爲排放口其具有1 . 8 m 之寬度及夾套(未圖示)用於控制其中之溫度,而藉以,將 被流延之塗料的溫度設定至3 6 °C。進料塊3 1和作爲塗料 的流動通道之管各自具有溫度控制功能,致使將其中之溫 ('' 度設定在3 6 。 將在被冷卻後且轉變成爲凝膠狀狀態而具有自支撐性 質之流延薄膜1 2附以剝離輥3 8的支持自流延滾筒3 4上剝 離,因此獲得濕膜1 3。其次,將濕膜1 3送至傳送段1 6。 當隨著複數的輸送輥之支持予以傳送時,濕膜1 3經由自空 氣供應裝置5 4所供應之溫度已調至4 0 °C之乾空氣予以乾 燥。其後,將濕膜1 3送至針型拉幅裝置1 9並經由利用複 數的針在其兩側端上穿孔而固定。然後,當予以傳送時, ί > 將濕膜1 3以寬度方向拉伸並經由自乾燥器(未圖示)所供應 之乾空氣予以乾燥,因此獲得薄膜1 8。 邊緣切割裝置20具有NT型切斷機。將該NT型切斷 機配置在一個部位,此部位距拉幅裝置的出口只需要3 0秒 或更少。邊緣切割裝置20在距薄膜18的各側端50mm之 部位向著內部切掉薄膜1 8。此外,將如此切掉之薄膜1 8 的兩側端經由切削器鼓風機(未圖示)送至壓碎機5 6予以壓 碎成爲碎片,各碎片平均是大致8 0mm2。 -29- 200817157 將初步乾燥室(未圖示)配置在邊緣切割裝置20與乾燥 室22之間,經由供應1〇〇 °C溫度之乾空氣至其上,來預熱 薄膜18。然後將薄膜18送至乾燥室22。在乾燥室22中, 室中之內部溫度經由溫度控制裝置(未圖示)予以調節以致 使薄膜1 8的薄膜表面溫度變成1 4 0 °C,將薄膜1 8乾燥同 時經由環繞複數的輥5 8予以捲繞而被傳送。將薄膜1 8在 乾燥室2 2中乾燥歷1 0分鐘。薄膜1 8的膜表面溫度係由溫 度計(未圖示)予以量測,溫度計係設置在恰高過傳送路徑 「並在薄膜1 8之表面附近的一部位上。於乾燥室22中,溶 劑蒸氣經由使用具有活性碳之吸收劑及乾氮的吸附劑之吸 附和回收裝置5 9自薄膜1 8回收。然後,移除水分致使所 回收之溶劑蒸氣的含水量變成0.3 wt%或更少。 此外,將濕度控制室(未圖示)配置在乾燥室22與冷卻 室23之間。在將50°C溫度和20°C露點之空氣供應至薄膜 18之後,將90°C溫度和70%濕度之空氣直接供應至薄膜 1 8,因此控制其濕度。因此,校正薄膜1 8上所產生之卷曲 i 的程度。其次,將薄膜18送至冷卻室23並在其中逐漸冷 卻直至薄膜1 8的溫度變成3 0 °C或更低。其後,將施加至 薄膜1 8之電壓經由強制中和裝置2 5設定至不小於-3 kV但 不大於3kV。另外,使用滾花輥26來施加滾花在薄膜18 的兩側端上來校正薄膜1 8的表面上所產生之不均勻度。特 別述及,將歷經滾花之薄膜1 8的寬度設定至1 0mm,並調 整經由滾花輥26所施加之壓力以致使均勻(度)的高度高於 薄膜1 8之平均高度平均約1 2 // m。藉以,將壓紋施加至薄 •30- 200817157 膜18。 將薄腠1 8送至捲繞室28,並經由具有1 69mm直徑之 捲繞輕02予以捲繞同時經由壓輥61施加5〇N/m之壓力至 薄膜18。在開始捲繞薄膜18之時,將張力設定至3〇〇N/m ,及在元成捲繞之時,將張力設定至2 〇 0 N / m。其結果是, 獲得產物薄膜1 8的卷。所獲得之薄膜i 8的厚度是8〇 # m 。此外,通過整個程序,將濕膜丨3和薄膜丨8的平均乾燥 速率設定至20wt%/m。 將此實施例中所使用之塗料的材料敘述在下文中。 〔塗料的材料〕 1 0 0重量份 3 2 0重量份 8 3重量份 3重量份 7.6重量份 3 . 8重量份 〇 . 7重量份 0.3重量份 0.0 0 6重量份 〇 . 〇 5重量份
三乙酸纖維素 二氯甲烷 甲醇 1-丁醇 塑化劑A 塑化劑B UV劑a UV劑b 檬檬酸酯化合物 細粒子 上述之三乙酸纖維素是粉末其具有2.84之取代度,306 的黏度平均聚合度,〇.2wt%之含水量,3 1 5m Pa · s的6wt% 二氯甲烷溶液中之黏度’ Umm的平均粒子直徑及〇.5mm 的粒子大小之標準偏差。塑化劑A是磷酸三苯酯。塑化劑 -31- 200817157 B是磷酸二苯酯。UV劑a是2(2,-羥基-3,,5,-二-第三·丁基 苯基)苯并三唑。UV劑b是2(2,-羥基-3,,5、二-第三-戊基 苯基)-5-氯苯並三唑。檬檸酸酯化合物是包括檸檬酸,單乙 酯,二乙酯和三乙酯之混合物。細粒子是具有1 5 nm之平均 粒子直徑和大致7之Mohs硬度之二氧化矽。此外,於製備 塗料時,添加延遲控制劑(N-N-二-間-甲苯基-N-對-甲氧基 苯基-1,3, 5-三嗪-2,4,6-三胺)以致使其含量率相對於經由 塗料所產生之薄膜的總wt%變成4.0 wt%。 V 爲了評估本發明的效果,將熔珠中空氣夾雜現象的發 生使用眼睛觀察。即,檢驗在見到空氣夾雜的現象時,塗 料的流延速率同時加速該流延速率。其結果是,實例1中 ’空氣夾雜的現象未經證實直至流延速率變成1 20m/min。 〔實例2至14〕及〔比較性實例1〕 將流延滾筒3 4的表面充電致使流延滾筒3 4的表面電 位V顯示表1中實例2至1 4各行中所示之値,及熔珠中空 氣夾雜現象的發生以與實例2之相同方式來觀察。特別述 及’比較性實例1是對照本發明之比較性實例,未使用電 極桿5 0且在比較性實例1中,未將流延滾筒3 4的表面充 電。因此,比較性實例1中,流延滾筒3 4的表面電位V 是零。表1中、、流延速率〃欄各行中之値是在使該流延速 率較快之後’見到熔珠中空氣夾雜現象發生時之流延速率 。除去流延滾筒3 4的表面電位V之狀況以外,實例2至 1 4及比較性實例1中之狀況與實例丨中者相同。 -32- 200817157 〔表1〕 表面電位V 流延速率 (kV) (m/min) 實例1 1.0 1 20 實例2 3.1 120 實例3 3.0 120 實例4 2.8 120 實例5 0.7 110 實例6 0.2 1 00 實例7 0.1 95 實例8 -0.1 95 實例9 -0.2 1 00 實例1 〇 -0.7 110 實例1 1 -1.0 120 實例1 2 -2.8 120 實例1 3 -3.0 120 實例1 4 -3 . 1 120 比較性實例1 0 90 比較性實例1中,在慢至90m/min的塗料流延速率時 ,證實空氣夾雜現象的發生。在習用方法中,塗料的流延 速率至多是大致90m/min。然而,自實例1中之結果,證 實可能使流延速率加速高達大致ll〇m/min至l20m/min並 未造成本發明中空氣夾雜的現象。因此,根據本發明經證 實,因爲可能加速薄膜形成速率來形成不具有空隙但具有 -33- 200817157 穩定之優良平滑度之流延薄膜同時防止空氣夾雜現象之發 生,所以可能製造具有很少缺陷且顯示高品質例如高速時 之優良平滑度和穩定之薄膜。特別述及,實例1和1 4中, 直至流延速率達到120m/min才見到空氣夾雜現象的發生 ,然而,1在120m/min之流延速率時,見到薄膜中之多級不 勻性。鑒於上述,其較佳者爲,將流延滾筒的表面電位V 之絕對値設定爲不小於1但不大於3。 本發明並不受限爲上述各實施例,反之,只要不脫離 ( 本發明的範圍和要旨如附隨之申請專利範圍中所具體說明 者,各種變更係屬可能。 【圖式簡單說明】 第1圖是示意圖舉例說明根據本發明的實施例之薄膜 製造設備; 第2A圖是示意圖舉例說明根據本發明的該實施例之 塗料流延段及其附近;及 第2B圖是經由第2A圖中之虛線所環繞之區域(b)的放 1 大圖。 【主要元件符號說明】 10 薄膜製造設備 12 流延薄膜 13 濕膜 14 流延室 16 傳送段 18 薄膜 -34- 200817157
19 拉 幅 裝 置 20 邊 緣 切 割 裝 置 22 乾 燥 室 23 冷 卻 室 25 強 制 中 和 26 滾 花 輥 28 捲 繞 室 30 塗 料 製 造 設 備 3 1 進 料 塊 33 流 延 模 34 流 延 滾 筒 36 熱 傳 介 質 進 料 器 3 8 剝 離 輥 40 冷 凝 器 41 回 收 裝 置 43 溫 度 調 節 器 45 吸 引 室 50 電 極 桿 52 控 制 器 53 量 氯 氣 計 54 空 氣 供 應 裝 置 56 壓 碎 機 58 輥 59 吸 附 和 回 收 裝 置 61 壓 輥 -35- 200817157 62 捲 繞 輥 65 迷 宮 式 密封 70 電 絕 緣 層 70a 第 —* 層 70b 第 二 層 -36

Claims (1)

  1. 200817157 十、申請專利範圍: 1. 一種聚合物薄膜之製法,其係包括下列步驟: 自流延模排放含有聚合物和溶劑之塗料至連續移動之支 撐體上’及將流延模與支撐體間所形成之熔珠流延至該支 撐體上來形成流延薄膜; 將自支撐體上所剝離之流延薄膜乾燥而成爲薄膜;及 在形成流延薄膜之前,經由配置在支撐體表面的附近之 電壓施加裝置來充電支撐體的表面。 ^ 2 ·如申請專利範圍第1項之聚合物薄膜之製法,其中電壓施 加裝置是經由向著支撐體放電,並用於施加電荷至支撐體 之電極體,且係配置在距支撐體的移動方向之熔珠上游端 〇 3 .如申請專利範圍第2項之聚合物薄膜之製法,其中將電絕 緣層配置在支撐體的表面上。 4.如申請專利範圍第3項之聚合物薄膜之製法,其中將支撐 體的表面電位V設定至O.lkVS | V | S 3kV。 v / 5 .如申請專利範圍第4項之聚合物薄膜之製法,其中流延係 在小於10wt%的氧濃度下予以實施。 6 .如申請專利範圍第5項之聚合物薄膜之製法,其中設置在 熔珠上游端之吸引室將熔珠上游端之一部位減壓。 7. 如申請專利範圍第6項之聚合物薄膜之製法,其中電絕緣 層具有多層結構。 8. —種聚合物薄膜之製造設備’其係包括: 連續移動之支撐體; 流延模,用於排放含有聚合物和溶劑之塗料至支撐體上 -37- 200817157 來形成流延薄膜; 電壓施加裝置,用於將被流延之支撐體的表面充電’將 該電壓施加裝置配置在支撐體表面之附近;及 乾燥裝置,用於乾燥自支撐體上所剝離之流延薄膜而形 成聚合物薄膜。 -38-
TW096133011A 2006-09-06 2007-09-05 Production method of polymer film and production apparatus of the same TW200817157A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006241272 2006-09-06

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW200817157A true TW200817157A (en) 2008-04-16

Family

ID=39150389

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW096133011A TW200817157A (en) 2006-09-06 2007-09-05 Production method of polymer film and production apparatus of the same

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20080054515A1 (zh)
KR (1) KR20080022535A (zh)
CN (1) CN101224613A (zh)
TW (1) TW200817157A (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103381639A (zh) * 2012-05-03 2013-11-06 上海紫东薄膜材料股份有限公司 一种用于pet电容膜生产中的静电吸附辅助装置
CN106163758B (zh) * 2014-04-02 2018-01-09 百德福钢带有限公司 具有浮动的铸造机支承的带铸造设备
JP6665512B2 (ja) * 2015-12-14 2020-03-13 コニカミノルタ株式会社 光学フィルムの製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3520959A (en) * 1968-03-05 1970-07-21 Celanese Corp Process for electrostatically pinning extruded thermoplastic film
US4166089A (en) * 1969-11-13 1979-08-28 Agfa-Gevaert N.V. Corona free pinning of extruded polymer film
US4394235A (en) * 1980-07-14 1983-07-19 Rj Archer Inc. Heat-sealable polypropylene blends and methods for their preparation
JPS58183220A (ja) * 1982-04-21 1983-10-26 Teijin Ltd 溶融重合体シ−トの冷却装置
US4594203A (en) * 1983-03-16 1986-06-10 Toray Industries, Inc. Method for producing a thermoplastic polymeric sheet
US5494619A (en) * 1994-10-18 1996-02-27 Eastman Kodak Company Improved electrostatic pinning method
DE19653749A1 (de) * 1996-12-20 1998-06-25 Hoechst Diafoil Gmbh Vorrichtung zum Anlegen einer aus einer Breitschlitzdüse austretenden Folie an eine sich drehende Abzugswalze
DE19749320A1 (de) * 1997-11-07 1999-05-12 Hoechst Diafoil Gmbh Vorrichtung zum Anlegen einer aus einer Breitschlitzdüse austretenden Folie an eine sich drehende Abzugswalze

Also Published As

Publication number Publication date
US20080054515A1 (en) 2008-03-06
KR20080022535A (ko) 2008-03-11
CN101224613A (zh) 2008-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101400493B (zh) 溶液流延方法和沉积物移除装置
TW200902278A (en) Cellulose ester film and production method thereof
TWI391224B (zh) 溶液流延方法
CN101137482B (zh) 溶液流延方法
JP4749741B2 (ja) テンタ式乾燥機及び溶液製膜方法
JP2004291448A (ja) 溶液製膜方法及びフイルム
TW200817157A (en) Production method of polymer film and production apparatus of the same
KR20080022537A (ko) 폴리머 필름의 제조방법 및 제조설비
TW200925189A (en) Pin tenter and solution casting method
JP2001129839A (ja) セルロースエステルフィルムの製造方法及びセルロースエステルフィルム
TWI437031B (zh) 聚合物薄膜之製法
JP4769610B2 (ja) 溶液製膜方法
TWI406885B (zh) 溶液流延設備及溶液流延方法
JP2008087474A (ja) ポリマーフィルムの製造方法及び製造設備
JP2008087473A (ja) ポリマーフィルムの製造方法及び製造設備
CN101267929B (zh) 溶液流延方法
TWI382917B (zh) 溶液製膜方法
US20090020922A1 (en) Production method of polymer film and production apparatus of the same
JP2010082987A (ja) 熱可塑性樹脂フィルムの製造方法
JP4931843B2 (ja) 流延装置、溶液製膜設備及び溶液製膜方法
JP4496114B2 (ja) 溶液製膜方法
JP2006188052A (ja) 溶液製膜方法
JP5037879B2 (ja) 流延装置、溶液製膜設備、流延膜の形成方法及び溶液製膜方法
JP2009214389A (ja) 流延装置、溶液製膜設備及び溶液製膜方法
CN101267930A (zh) 聚合物膜的制备方法