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TW200815195A - Antisoiling film and method for manufacturing the same - Google Patents

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Publication number
TW200815195A
TW200815195A TW96123412A TW96123412A TW200815195A TW 200815195 A TW200815195 A TW 200815195A TW 96123412 A TW96123412 A TW 96123412A TW 96123412 A TW96123412 A TW 96123412A TW 200815195 A TW200815195 A TW 200815195A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
graft polymer
antifouling film
polymer chain
alkoxide
Prior art date
Application number
TW96123412A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshihide Aoshima
Koichi Kawamura
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of TW200815195A publication Critical patent/TW200815195A/zh

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/16Antifouling paints; Underwater paints
    • C09D5/1656Antifouling paints; Underwater paints characterised by the film-forming substance
    • C09D5/1662Synthetic film-forming substance
    • C09D5/1675Polyorganosiloxane-containing compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F291/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L51/00Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L51/003Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to macromolecular compounds obtained by reactions only involving unsaturated carbon-to-carbon bonds

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Description

200815195 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於防污性薄膜及其製法,更詳言之’係關 於具有油性污物等不會附著之防污性表面之防污性薄膜及 其製法。 【先前技術】 污染物質在材料表面附著所引起之「污物」係由於污 染之進行,不僅損及美觀,亦使材料表面具有之機能降低。 因此,爲了「防污」,必須使污染物質之附著(相互作用)降 低。污染物質之附著降低一般係藉由材料表面之親水化或 撥油化來達成。 以往,作爲具有撥水性及防污性之薄膜,係使用在其 最表面將氟化合物層予以濕式塗布(濕式成膜),而具有撥 水性與防污性之物(例如專利文獻1参照。)。然而,有機 物之表面塗層的表面硬度及耐久性低,因此該等之改良係 爲必要。 爲了解決此種問題,檢討使用具有優異撥水性與防污 性、表面能量小之二氧化矽層,該二氧化矽層係可預期上 述表面硬度及耐久性之改良。然而,將具有撥水性與防污 性之二氧化矽層在支撐體上塗布Μ,而得具有撥水性及防 污性之薄膜時,由於二氧化矽層之表面能量小,而有與支 撐體之間的密接力變小的問題點。 爲了改善支撐體與表面二氧化矽層之密接性,有提案 在支撐體與表面二氧化矽層之間,設置碳含量小於2 0原子 %之密接二氧化矽層作爲中間層(例如参照專利文獻 200815195 2。)。該方法係藉由將表面能量大之密接二氧化矽 於表面二氧化矽層與支撐體之間,而改良支撐體與 氧化矽層之密接性,然而該密接性尙稱不上充分, 於碳含量導致表面能量、撥水性、防污性係大幅變 此有其調製爲困難之問題點。 【專利文獻1】特開2000-2841 02號公報 【專利文獻2】特開2002-1 1 3805號公報 【發明內容】 φ 【發明所欲解決之課題】 因此,因此有對於支撐體的密接性優異且具備 油處理面,具有高防污性及其持續性之防污性薄膜 法的需求。 【解決課題之手段】 本發明者等對於含有在支撐體上直接結合之接 物鏈、與藉由金屬醇鹽之加水分解及縮聚合反應所 交聯構造之有機-無機複合層加以鑽硏探討,根據將 φ -無機複合層適當地用於防污性薄膜而完成本發明。 本發明的第1觀點係提供一種防污性薄膜,本 防污性薄膜,其係具有支撐體與有機-無機複合層, Λ 有機-無機複合層表面施以撥水撥油處理所構成,其 機-無機複合層係在直接結合至該支撐體表面的接 物鏈所構成的接枝聚合物層中,含有選自 Si、Ti、 之元素的醇鹽之加水分解及縮聚合所形成之交聯構 前記接枝聚合物鏈係以藉由在支撐體表面經發 始種作爲起點的聚合反應所生成之物爲佳。又,前 層設置 表面二 更且由 化,因 撥水撥 及其製 枝聚合 形成的 該有機 發明之 且對該 中該有 枝聚合 Zr、AI 造。 生之開 記接枝 200815195 聚合物鏈係以在其鏈中具有選自於Si、Ti、Zr、AI之元素 的醇鹽基、及/或醯胺基者爲佳。更佳爲前記接枝聚合物鏈 係以具有極性基,較佳爲具有醯胺基之構造單位、與具有 矽烷偶合基等選自於Si、Ti、Zr、A丨之元素的醇鹽基之構 造單位的共聚物爲較佳之態樣。 本發明之第2觀點爲提供一種防污性薄膜之製法,本 發明之防污性薄膜之製法係具有下列步驟:生成直接結合 至支撐體表面之接枝聚合物鏈,形成該接枝聚合物鏈所構 成之接枝聚合物層之步驟;在該接枝聚合物層中,進行選 自於Si、Ti、Zr、AI之元素的醇鹽之加水分解及縮聚合的 交聯反應,以形成有機-無機複合層之步驟;與對該有機-無機複合層表面施以撥水撥油處理之步驟。 【發明效果】 本發明爲提供一種對支撐體之密接性優異、具備撥水 撥油處理面,且具有高防污性及其持續性之防污性薄膜及 其製法。 【實施方式】 【實施發明之最佳形態】 以下,詳細說明本發明。又,在本說明書中「〜」係表 示包含其前後所記載之數値的最小値及最大値之範圍。 本發明之防污性薄膜係具有支撐體與有機-無機複合 層’且對該有機-無機複合層表面施以撥水撥油處理所構 成’其中該有機-無機複合層係在直接結合至該支撐體表面 的接枝聚合物鏈所構成的接枝聚合物層中,含有選自S i、 Ti、Zr、AI之元素的醇鹽之加水分解及縮聚合所形成之交 200815195 聯構造。 本發明之防污性薄膜,從反應性、化合物之取得容易 性而言,以形成使用S i之醇鹽的交聯構造爲較佳。 如前述之藉由醇鹽之加水分解及縮聚合所形成的交聯 構造,在本發明以下適當地稱爲「溶膠膠體交聯構造」。 此種本發明之防污性薄膜係藉由下述本發明之防污性 薄膜之製法所製造。即,本發明之防污性薄膜之製法係適 合使用具有下列步驟之方法爲佳:生成直、接結合至支撐體 H 表面之接枝聚合物鏈,形成該接枝聚合物鏈所構成之接枝 聚合物層之步驟,〔以下適當地稱爲「接枝聚合物層形成步 驟」〕;在該接枝聚合物層中,進行選自於Si、Ti、Zr、AI 之元素的醇鹽之加水分解及縮聚合的交聯反應,以形成有 機-無機複合層之步驟〔以下適當地稱爲「有機-無機複合 層形成步驟」〕:與對該有機-無機複合層表面施以撥水撥油 處理之步驟〔以下適當地稱爲「撥水撥油處理步驟」〕。 本發明之作用雖不明確,惟推定如下。 • 本發明中之有機-無機複合層係含有直接結合至該支 撐體表面的接枝聚合物鏈(有機成分)、與藉由選自Si、Ti、 Zr、AI之元素的醇鹽之加水分解及縮聚合所形成之交聯構 造(無機成分)所構成。該有機-無機複合層雖然是薄層,但 是耐摩耗性増大且具有高耐久性。 尤其是接枝聚合物鏈具有極性基的情況下,藉由其極 性基之機能而形成與交聯構造間的極性相互作用,可變爲 強度及耐久性優異之有機-無機複合層。更且,接枝聚合物 鏈爲在其鏈中具有選自於Si、Ti、Zr、A1之元素的醇鹽基 200815195 的情況下,在該接枝聚合物鏈與交聯構造之間形成共價 鍵,有機-無機複合層之強度及耐久性提升。更且,該有機 -無機複合層中之交聯構造係具有起因於選自Si、Ti、Zr、 AI之元素的醇鹽之反應性基,藉由在該反應性基與用於撥 水撥油處理之化合物之間形成共價鍵,可得對支撐體之密 接性優良的撥水撥油處理面。其結果,推定可得到具有高 防污性及其持續性之防污性薄膜。 ' 以下依序說明「接枝聚合物層形成步驟」、「有機-無機 複合層形成步驟」、及「撥水撥油處理步驟」。 <接枝聚合物層形成步驟> 在本步驟,生成直接結合至支撐體表面之接枝聚合物 鏈,形成該接枝聚合物鏈所構成之接枝聚合物層。 生成直接結合至支撐體表面之接枝聚合物鏈的方法, (1)將支撐體作爲基點,使具有可聚合之雙鍵的化合物進行 表面接枝聚合,生成接枝聚合物鏈之方法(以下適當地稱爲 「方法1」)、(2)使具有與支撐體反應之官能基的聚合物、 與支撐體表面進行化學鍵結,生成接枝聚合物鏈之方法(以 下適當地稱爲「方法2」)。 以下說明該2個方法。 (1)將支撐體作爲基點,使具有可聚合之雙鍵的化合物 進行表面接枝聚合,生成接枝聚合物鏈之方法(方法1 ) 方法1係通常稱爲表面接枝聚合之方法。表面接枝聚 合法係以電漿照射、光照射、加熱等方法,在支撐體表面 上賦予活性種,將此活性種作爲基點,使以與支撐體相接 的形式來配置之具有可聚合雙鍵之化合物進行重合之方 200815195 法。若根據該方法,生成之接枝聚合物鏈末端係直接結合 至支撐體表面並固定。 爲實施本發明之表面接枝聚合法,可任意使用文獻記 載之公知方法。例如,在新高分子實驗學1 0、高分子學會 編、1 994年、共立出版(股)發行、ΡΊ 35記載光接枝聚合法、 電漿照射接枝聚合法作爲表面接枝聚合法。又,吸着技術 便覧、NTS(股)、竹内監修、1 999.2發行、p203、p 695記 載Y線、電子線等放射線照射接枝聚合法。光接枝聚合法 • 之具體方法,可使用特開昭 63-92658號公報、特開平 1 0-296895號公報及特開平11-119413號公報所記載之方 法。關於電漿照射接枝聚合法、放射線照射接枝聚合法, 可適當地使用記載於上述記載之文獻、及丫.Ikada et al, Macromolecules vo 1.19、第 1804 頁(1986)等之方法。 具體而言,在以電漿或電子線處理表面發生活性種之 自由基,之後藉由使具有該活性種之支撐體表面與具有可 聚合雙鍵的化合物(例如單體)反應,可使PET等高分子表 φ 面生成接枝聚合物鏈。 光接枝聚合,除了上述記載之文獻以外,亦可如特開 昭53-1 7407號公報(關西油漆)、特開2000-21 231 3號公報 (大日本油墨)所記載,藉由在薄膜支撐體之表面塗布光聚 合性組成物,使自由基聚合化合物接觸光照射予以實施。 藉由方法1生成接枝聚合物鏈時有用之化合物必須具 有可聚合之雙鍵。又,考慮到與在後述之有機-無機複合層 形成步驟中所形成之溶膠膠體交聯構造之極性相互作用之 形成性時,以具有可聚合之雙鍵且具有極性基之化合物爲 -10- 200815195 佳。更且,考慮到在後述有機-無機複合層形成步驟所形成 之溶膠膠體交聯構造之間形成共價鍵時,以具有可聚合之 雙鍵且具有特定元素醇鹽基之化合物爲佳。 適用於方法1之化合物,在分子内具有雙鍵、視需要 具有極性基及/或特定元素醇鹽基時,聚合物、低聚合物、 單體,可使用該等中任一化合物。在本發明中有用化合物 之一個爲具有極性基之單體。 關於具有本發明中有用之極性基之單體,可列舉銨、 鱗等具有正荷電之單體、或磺酸基、羧基、磷酸基、膦酸 基等具有負荷電或負荷電解離而得的酸性基之單體,亦可 使用其他例如羥基、醯胺基、磺醯胺基、烷氧基、氰基、 等具有非離子性基之極性基之單體。 本發明中,具有特別有用之極性基之單體的具體例, 可列舉以下單體。例如,可使用(甲基)丙烯酸或其鹼金屬 鹽及胺鹽、伊康酸或其鹼金屬鹽及胺基酸鹽、烯丙基胺或 其鹵化氫酸鹽、3-乙烯基丙酸或其鹼金屬鹽及胺鹽、乙烯 基磺酸或其鹼金屬鹽及胺鹽、苯乙烯磺酸或其鹼金屬鹽及 胺鹽、2-磺乙烯(甲基)丙烯酸酯、3-磺丙烯(甲基)丙烯酸酯 或其鹼金屬鹽及胺鹽、2 -丙烯醯胺-2 -甲基丙烷磺酸歲其鹼 金屬鹽及胺鹽、醯胺基磷氧基聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯 或該等之鹽、2-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯或其鹵化 氫酸鹽、3-三甲基銨丙基(甲基)丙烯酸酯、3-三甲基銨丙基 (甲基)丙烯醯胺、N,N,N-三甲基-N-(2-羥基-3-甲基丙烯醯 基氧基丙基)氯化銨等。又,2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲 基)丙烯醯胺、N-單羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-二羥甲基(甲 200815195 基)丙烯醯胺、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基乙醯 乙二醇單(甲基)丙烯酸酯等亦有用。 本發明有用之具有極性基之大分子單體可J “新高分子實驗學2、高分子之合成·反應”高分子 共立出版(股)1 9 9 5中記載之合成法而得者。又, 他著“巨單體之化學與工業”IPC、1 989中亦詳細 體而言,使用丙烯酸、丙烯醯胺、2-丙烯醯胺-2-磺酸、N-乙烯基乙醯醯胺等上述具體地記載之具 φ 之單體,根據文獻記載之方法可合成具有極性基 單體。 本發明使用之具有極性基之大分子單體之中 用者爲由丙烯酸、甲基丙烯酸等含有羧基之單體 分子單體,由2-丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸、苯乙 及其鹽之單體衍生之磺酸系大分子單體,丙烯醯 丙烯醯胺等之醯胺系大分子單體,由N-乙烯基乙 N -乙烯基甲醯胺等之N -乙烯基羧酸醯胺單體衍 φ 系大分子單體,由羥基乙基甲基丙烯酸酯、羥基 酸酯、甘油單甲基丙烯酸酯等含有羥基之單體衍 子單體,由甲氧基乙基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二 酯、聚乙二醇丙烯酸酯等含有烷氧基或環氧乙烷 衍生之大分子單體。又,具有聚乙二醇鏈或聚丙 單體亦可用來作爲本發明大分子單體。 該等大分子單體中,從形成與後述有機-無機 成步驟中所形成之溶膠膠體交聯構造之極性相互 之點而言,以使用具有醯胺基之大分子單體作爲 醯胺、聚 以是藉由 學會編、 在山下雄 記載。具 甲基丙烷 有極性基 之大分子 ,特別有 衍生之大 烯磺酸、 胺、甲基 醯醯胺、 生之醯胺 乙基丙烯 生之大分 醇丙烯酸 基之單體 二醇鏈之 複合層形 作用爲強 極性基爲 -12- 200815195 佳0 該等大分子單體之中有用之分子量爲400〜1〇萬之範 圍、較佳範圍爲1 000〜5萬、特佳範圍爲1 500〜2萬之範圍。 又’本發明中接枝聚合物鏈係如先前所述,已在其鏈 中具有選自於Si、Ti、Zr、AI之元素的醇鹽基(以下適當地 稱爲特定兀素醇鹽基)者爲佳。該特定元素醇鹽基係經由與 後述交聯劑(金屬醇鹽)之加水分解及縮聚合反應,而形成 共價鍵之置換基。由於此種接枝聚合物鏈係具有特定元素 醇鹽基,因此可在後述有機-無機複合層形成步驟中所形成 之溶膠膠體交聯構造與接枝聚合物鏈之間形成共價鍵。 使用方法1之表面接枝聚合法的情況下,以使用具有 特定元素醇鹽基之單體或大分子單體爲佳。代表性地列舉 矽烷偶合基作爲該特定元素醇鹽基以具體説明。在本發明 適合之矽烷偶合基可例示下述一般式(I)所示之官能基。 一般式(丨) (R1)m(〇R2)3-m—SI— 一般式(I)中,R1及R2係分別獨立地表示氫原子、或 碳數8以下之羥基,m表示0〜2之整數。 R1及R2係表示羥基時之羥基,可列舉烷基、芳基等, 以碳數8以下之直鏈、分岐或環状烷基爲佳。具體而言, 可列舉甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛 基、異丙基、異丁基、s-丁基、t_丁基、異戊基、新戊基、 1-甲基丁基、異己基、2 -乙基己基、2 -甲基己基、環戊基 等0 -13- 200815195 R1及R2從效果及取得容易性之觀點而言,較佳爲氫 原子、甲基或乙基。 一般式⑴所示之具有官能基之單體,可列舉(3-丙烯醯 氧基丙基)三甲氧基矽烷、(3-丙烯醯氧基丙基)二甲基甲氧 基矽烷、(3-丙烯醯氧基丙基)甲基二甲氧基矽烷、(甲基丙 烯醯氧基甲基)二甲基乙氧基矽烷、(甲基丙烯醯氧基甲基) 乙氧基矽烷、(甲基丙烯醯氧基甲基)三甲氧基矽烷、(甲基 丙烯醯氧基丙基)二甲基乙氧基矽烷、(甲基丙烯醯氧基丙 Φ 基)二甲基甲氧基矽烷、(甲基丙烯醯氧基丙基)甲基二乙氧 基矽烷、(甲基丙烯醯氧基丙基)乙氧基矽烷、(甲基丙烯醯 氧基丙基)三異丙基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基(參甲氧基 乙氧基)矽烷等。 本發明中,使用方法1的情況下,以使用具有極性基 之單體或大分子單體、與具有矽烷偶合基等特定元素醇鹽 基之單體或大分子單體,以表面接枝聚合法進行共重合, 生成接枝聚合物鏈爲佳。其中,以使用具有醯胺基之單體 φ 或大分子單體作爲極性基爲更佳。 (2)使具有與支撐體反應之官能基的聚合物、與支撐體 表面進行化學鍵結,生成接枝聚合物鏈之方法(方法2) 在方法2中,可使用在主鏈末端或側鏈具有與支撐體 反應之官能基的聚合物,使該官能基與支撐體表面之官能 基進行化學反應,以生成接枝聚合物鏈。與支撐體反應之 官能基,只要是可與支撐體表面之官能基反應者,並無特 別限定,可列舉例如烷氧基矽烷之類的矽烷偶合基、異氰 酸酯基、胺基、羥基、羧基、磺酸基、磷酸基、環氧基、 -14- 200815195 烯丙基、甲基丙烯醯基、丙烯醯基等。 j 作爲在主鏈末端或側鏈具有與支撐體反應之官能基之 聚合物特別有用之化合物爲:在聚合物末端具有三烷氧基 矽烷基之聚合物、在聚合物末端具有胺基之聚合物、在聚 合物末端具有羧基之聚合物、在聚合物末端具有環氧基聚 合物、在聚合物末端具有異氰酸酯基之聚合物。 又,此時所使用之聚合物更佳爲具有極性基,具有極 性基之聚合物,具體而言可列舉聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、 # 聚苯乙烯磺酸、聚-2-丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸及該等之 鹽、聚丙烯醯胺、聚乙烯基乙醯醯胺等。該等以外,亦可 使用在前述方法(1)所使用之具有極性基之單體的聚合 物、或含具有極性基之單體的共聚物。 又,從形成與後述有機-無機複合層形成步驟中所形成 之溶膠膠體交聯構造的極性相互作用爲強之點而言,以使 相具有醯胺基之聚合物作爲極性基爲佳。 另一方面,在主鏈末端或側鏈具有與支撐體反應之官 φ 能基之聚合物更佳爲具有選自於Si、Ti、Ζιγ、AI之元素的 醇鹽基(特定元素醇鹽基)。藉由使用該聚合物,可在生成 的接枝聚合物鏈中導入特定元素醇鹽基。藉由使此種接枝 聚合物鏈具有特定元素醇鹽基,可在後述有機-無機複合層 形成步驟中所形成之溶膠膠體交聯構造與接枝聚合物鏈之 間形成共價鍵。 在本發明中,在主鏈末端或側鏈具有與支撐體反應之 官能基之聚合物以具有醯胺基與特定元素醇鹽基兩方兩者 極性基作爲係特佳。 -15- 200815195 本發明中’與溶膠膠體交聯構造之極性相互作用的形 成性'共價鍵之形成性之點而言,用上述方法所生成之接 枝聚合物鏈中,以具有醯胺基及/或特定元素醇鹽基爲佳。 在本發明接枝聚合物鏈中醯胺基之較佳導入量爲 10mol %〜90mol%之範圍,又,特定元素醇鹽基之導入量以 1 0 m ο I %〜9 0 m ο I %之範圍爲佳。 在本發明,接枝聚合物鏈以在其鏈中具有上述極性 基、特定元素醇鹽基者爲佳,惟除該等基以外,亦可導入 # 交聯性基或聚合性基等,用此等基以在接枝聚合物鏈間形 成交聯構造。 (支撐體) 本發明中支撐體可任意使用具有機械的強度、尺寸安 定性之物,惟在防污性薄膜必須要有透過性的情況下,較 佳爲使用具有透明性之薄膜。/ 作爲支撐體使用之薄膜,具體而言可列舉聚對苯二甲 酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯系共重合聚酯薄膜、 φ 聚萘酸乙二酯薄膜等聚酯薄膜;耐綸66薄膜、耐綸6薄膜、 間苯二甲基二胺共重合聚醯胺薄膜等聚醯胺薄膜;聚丙烯 薄膜、聚乙烯薄膜、乙烯-丙烯共聚物薄膜等聚烯烴薄膜; 聚亞胺薄膜;聚醯胺亞胺薄膜;聚乙烯醇薄膜;乙烯-乙烯 醇共聚物薄膜;聚伸苯基薄膜;聚颯薄膜;聚伸苯基硫薄 膜等。該等其中,從成本性能、透明性等觀點而言,以聚 對苯二甲酸乙二酯薄膜等聚酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯 薄膜等聚烯烴薄膜爲佳。該等薄膜可爲延伸、未延伸之任 一者,可單獨使用,亦可積層相異性質之薄膜使用。 -16 - 200815195 關於作爲支撐體用之薄膜,只要不損及本發明之效果 並無限制,可含有各種添加劑或安定劑,亦可經塗布。可 *用之添加劑,可列舉例如抗氧化劑、抗靜電劑、紫外線防 止劑、可塑劑、滑劑、熱安定劑等。又,該薄膜亦可施行 電暈處理、電漿處理、輝光放電處理、離子沖罐 (b 〇 m b a r d m e n t)處理、藥品處理、溶劑處理、粗面化處理 等表面處理。 支撐體之厚度考慮包裝材料等使用目的之適性,可適 φ 宜地設定,並不受特別限制,惟從一般實用之觀點而言, 較佳爲3μΓΠ~ 1mm之範圍,從可撓性或加工性之觀點而言, 以10μηι〜300pm之範圍爲更佳。 支撐體爲藉由其本身賦予能量,而發生活性種之物 時,其可直接使用,惟以良好效率進行形成接枝聚合物鏈 之開始種的發生爲目的,亦可在支撐體表面包括具有聚合 引發能之表面層。 具有聚合引發能之表面層,以含有低分子或高分子之 φ 聚合引發劑的層爲佳。其中,從安定性、耐久性之觀點而 言,較佳爲藉由交聯反應將聚合引發劑固定化所構成之聚 合引發層;更佳爲藉由交聯反應將在側鏈具有聚合引發能 之官能基及交聯性基之聚合物固定化所構成之聚合引發 層。 關於藉由交聯反應將在側鏈具有聚合引發能之官能基 及交聯性基之聚合物固定化所構成之聚合引發層,詳細記 載於特開2004-161995號公報中段落編號〔0011〕~〔 0169〕 之記載,該聚合引發層可適用於本發明。 -17- 200815195 <有機-無機複合層形成步驟> 在本步驟·,於以前述接枝聚合物層形成步驟所得之接 枝聚合物層中,進行選自於Si、Ti、Zr、AI之元素的醇鹽 之加水分解及縮聚合的交聯反應,而形成有機-無機複合 層。 簡言之,本發明中有機-無機複合層爲包含接枝聚合物 鏈構成之有機成分、與藉由進行選自於Si、Ti、Zr、AI之 元素的醇鹽之加水分解及縮聚合的交聯反應形成之交聯構 φ 造(溶膠膠體交聯構造)所構成的無機成分之層。 首先,本步驟爲使用形成藉由進行選自於Si、Ti、Zr、 AI之元素的醇鹽之加水分解及縮聚合的交聯反應所形成之 交聯構造的化合物(以下有時單獨稱爲「交聯劑」),形成 本發明中溶膠膠體交聯構造爲佳。 本發明中交聯劑,可使用例如下述一般式(丨丨)所表示之 化合物。 下述一般式(II)所表示之化合物係接枝聚合物鏈具有 φ 特定元素醇鹽基的情形,藉由該特定元素醇鹽基與加水分 解及縮聚合,在接枝聚合物鏈與溶膠膠體交聯構造之間可 形成共價鍵。藉此,可形成強固之有機-無機複合層。 一般式(丨丨1 (R6)m-X-(〇R7)4-m 一般式(I I)中,R6表示氫原子、烷基、或芳基,R7表示 烷基或芳基,X表示Si、AhTi或Zr,m表示〇〜2之整數。 R6及R7係表示烷基的情況下,其碳數較佳爲1至4。 -18- 200815195 烷基或芳基亦可具有置換基,可導入之置換基可列舉 子、胺基、锍基等。 又,該化合物爲低分子化合物,以分子量1 〇 〇 〇以 佳。 以下列舉一般式(M)所表示之化合物的具體例,惟 明並不受該等所限定。 X爲S i時,即,在加水分解性化合物中含矽之物 列舉例如三甲氧基矽烷、乙氧基矽烷、三丙氧基矽烷 φ 甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丙氧基矽烷、甲基三 基矽烷、乙基乙氧基矽烷、丙基三甲氧基矽烷、甲基 基矽烷、乙基乙氧基矽烷、丙基乙氧基矽烷、二甲基 氧基矽烷、二乙基二乙氧基矽烷、γ-氯丙基乙氧基矽煩 锍基丙基三甲氧基矽烷、Y-锍基丙基乙氧基矽烷、Y-丙基乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基乙氧基矽 苯基三丙氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二苯基二 基矽烷等。 φ 該等之中特佳者,可列舉四甲氧基矽烷、四乙氧 烷、甲基三甲氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、甲基乙 矽烷、乙基乙氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、苯基 氧基矽烷、苯基乙氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、 基二乙氧基砂院等。 又,X爲AI時,即,在加水分解性化合物中含鋁2 可列舉例如三甲氧基鋁酸鹽、三乙氧基鋁酸鹽、三丙 鋁酸鹽、四乙氧基鋁酸鹽等。 X爲Ti時,即,含鈦之物可列舉例如三甲氧基鈦酉 鹵原 下爲 本發 ,可 、四 甲氧 乙氧 二甲 :、Y- 胺基 院、 乙氧 基矽 氧基 三甲 二苯 :物, 氧基 隻鹽、 -19 · 200815195 四甲氧基鈦酸鹽、三乙氧基鈦酸鹽、四乙氧基鈦酸鹽、四 丙氧基鈦酸鹽、氯三甲氧基鈦酸鹽、氯三乙氧基鈦酸鹽、 乙基三甲氧基鈦酸鹽、甲基三乙氧基鈦酸鹽、乙基三乙氧 基鈦酸鹽、二乙基二乙氧基鈦酸鹽、苯基三甲氧基鈦酸鹽、 苯基三乙氧基鈦酸鹽等。 X爲Zr時,即,含锆之物可列舉例如前述含鈦之物所 例示之化合物相對應的鉻酸鹽。 關於使用此種交聯劑在接枝聚合物層中形成溶膠膠體 # 交聯構造,可使用將該交聯劑溶解於乙醇等溶媒後,視需 要添加觸媒等來調製塗布液組成物,將其在接枝聚合物層 上塗布、加熱、乾燥之方法。藉由該方法,交聯劑係藉由 加水分解及重縮合,而形成溶膠膠體交聯構造。 在此,加熱溫度與加熱時間只要是可除去塗布液中之 溶媒、形成強固的皮膜之溫度與時間,並無特別限制,惟 從製造適性等點,較佳爲加熱溫度爲2 0 0 °c以下,加熱時 間(交聯時間)爲1小時以内爲佳。 φ 塗布液組成物中交聯劑之含有量可因應形成之溶膠膠 體交聯構造的量應加以決定,惟從形成之有機-無機複合層 的表面硬度及對支撐體的密接性之觀點而言,通常以5〜50 質量%之範圍爲佳,以10〜40質量%之範圍爲更佳。 又,接.枝聚合物鏈在其鏈中具有特定元素醇鹽基時, 塗布液組成物中交聯劑之含有量,柑對於特定元素醇鹽 基,以調整成交聯劑中交聯性基爲5mol%以上爲佳,更佳 爲1 0 m ο I %以上。 此時,交聯劑之含有量的上限只要是可與特定元素醇 -20- 200815195 鹽基充分交聯之範圍内,並無特別限制,惟添加大量過剩 時,由於不參與交聯之交聯劑,形成之有機-無機複合層有 發生沾黏等問題的可能性。 調製前記塗布液組成物時所用之溶媒,只要是能將交 聯劑及其他成分均勻地溶解、分散之物,並無特別限制, 惟以例如甲醇、乙醇、水等水系溶媒爲佳。 又,關於前記塗布液組成物,爲了促進交聯劑之加水 分解及重縮合反應,以倂用酸性觸媒或鹼性觸媒爲佳,在 φ 實用上、可以較佳反應效率的情況下,觸媒係爲必須。該 觸媒,可直接使用酸、或鹼性化合物,或使用將其溶解於 水或醇等溶媒之物(以下分別稱爲酸性觸媒、鹼性觸媒)。 將觸媒溶解於溶媒時的濃度並無特別限定,可因應所用之 酸或鹼性化合物的特性、觸媒期望之含有量等加以適當地 選擇,惟濃度高時,有加水分解、重縮合速度變快的傾向。 但使用濃度高之鹼性觸媒時,由於有塗布液組成物中生成 沈殿物的情形,因此使用鹼性觸媒時,期望其濃度係以水 φ 溶液之濃度換算爲1 N以下。 酸性觸媒或鹼性觸媒的種類並無特別限定,惟在必須 使用濃度濃之觸媒時,以乾燥後在塗膜中幾乎不殘留之元 素所構成之觸媒爲佳。具體而言,酸性觸媒,可列舉鹽酸 等鹵化氫、硝酸、硫酸、亞硫酸、硫化氫、過鹽素酸、過 酸化氫、碳酸、甲酸或乙酸等羧酸、其RCOOH所表之構 造式的R以其他元素或置換基所置換之置換羧酸、苯磺酸 等磺酸等;鹼性觸媒,可列舉氨水等氨性鹽基、乙基胺、 苯胺等胺類等。 -21- 200815195 又,關於該塗布液組成物’只要不損及本發明效果並 無特別限制,可因應目的使用各種添加劑。例如,未提升 塗布液之均勻性,可添加界面活性劑等。 又,在本發明中,亦可用以下方法形成接枝聚合物層、 及有機-無機複合層。即,可列舉例如除了前述之極性基與 特定元素醇鹽基,調製更含有在主鏈末端或側鏈具有與支 撐體反應之官能基之聚合物、交聯劑、及觸媒的塗布液組 成物,將其以電漿或電子線等處理,在表面發生活性種之 • 自由基的支撐體上塗布、加熱、乾燥之方法。 關於該方法,藉由反應具有前記聚合物之與支撐體反 應之官能基、與支撐體,在支撐體生成直接結合之接枝聚 合物,形成接枝聚合物層。又,使塗布液組成物加熱、乾 燥時,交聯劑發生加水分解及縮聚合反應,可在接枝聚合 物層中形成交聯構造。簡言之,若藉由此方法,藉由調製 塗布液組成物,並將其塗布、加熱、乾燥之一連串步驟, 可一同形成接枝聚合物層與有機-無機複合層。 Φ 又,在調製該塗布液組成物時,亦可含有別種親水性 聚合物。親水性聚合物可藉由聚合以下單體而得:具有用 來形成先前列舉之接枝聚合物鏈有用之極性基的單體。親 水性聚合物之含有量以固形分換算,以1 0質量%以上、小 於50質量%爲佳。含有量成爲50質量%以上時,有膜強度 降低的傾向,又,小於1 0質量%時,有皮膜特性降低,且 在膜發生裂痕等可能性,任一者均爲不佳。 如以上所述’本發明中有機-無機複合層的形成係利用 溶膠膠體法。關於溶膠膠體法,在作花濟夫「溶膠-凝膠法 -22- 200815195 0科學」(股)Agne承風社(刊)(1 988年〕、平島硯「最新溶 膠-凝膠法之機能性薄膜作成技術」總合技術 Center(刊)(1 992年)等成書等有詳細記述,該等記載之方 法可適用於本發明中有機-無機複合層的形成。 該有機-無機複合層之膜厚可根據防污性薄膜之用途 等加以選擇,惟通常以 0·1μητν〜10μηη之範圍爲較佳, 0.5μηι〜10μηη之範圍爲更佳。藉由該膜厚之範圍,可得對 支撐體之密接性及可撓性優異之防污性薄膜,且無捲曲之 • 發生、可撓性或耐屈曲性之降低,因而較佳。 <撥水撥油處理步驟> 本步驟係在以前述有機-無機複合層形成步驟所得之 有機-無機複合層表面施行撥水撥油處理。 本發明中用於撥水撥油處理之化合物(撥水劑)、處理 方法並無特別限制,惟以在有機-無機複合層表面賦予氟或 烷基者爲佳。該撥水撥油處理較佳係使用,例如矽烷基化 劑、鈦酸酯偶合劑、烷基鋁等有機金屬化合物。 φ 由於該等化合物可在本發明之交聯構造之間形成共價 鍵,因此撥水撥油處理面與支撐體之密接性變得優異。 矽烷基化劑爲在對本發明中溶膠膠體交聯構造具有親 和性或反應性之加水分解性矽烷基上,使含有烷基、芳基、 氟之氟烷基等予以結合的化合物;結合至矽之加水分解性 基,可列舉烷氧基、鹵原子、乙醯氧基、矽氮烷等。具體 而言,以使用全氟烷基矽烷化合物、烷基矽烷化合物爲佳。 又,由於撥水撥油處理面的臨界傾斜角過小,水滴會 變得容易滾落,因此宜使用聚二甲基矽氧烷化合物作爲撥 -23- 200815195 水劑。撥水撥油處理面之臨界傾斜角,係在水平放置之防 污性薄膜表面上放置一定量之水滴開始滾動時板的傾斜角 度。撥水劑係視需要由加水分解供應至撥水層之塗布。 如上述撥水劑之表面處理係以噴灑法、流塗法、旋塗 法、浸漬提升法等塗布、以液相吸着法等進行表面吸着。 經撥水劑處理之表面在乾燥後以3 0 0 °C以下之溫度、 較佳爲1 0 0 °C〜2 5 0 °C,進行1 〇分鐘〜1小時加熱處理。 在有機-無機複合層表面,撥水劑係形成單分子層顯示 Φ 撥水性能,又,由於撥水劑之厚度即使大於1 0 n m,效果亦 不會變高,因此熱處理後撥水撥油處理層之較佳厚度爲 1nm〜10nm 〇 如上所述,本發明之防污性薄膜爲撥水撥油處理面與 有機-無機複合層之密接性、及有機-無機複合層與支撐體 之密接性優異,其結果爲撥水撥油處理面與支撐體之密接 性變得優異。因此,本發明之防污性薄膜爲防污性優良且 其持續性優異。 φ 【實施例】 以下,舉出實施例具體說明本發明,惟本發明並不受 該等所限制。 [實施例1] <基材A之製作> 使用膜厚188μΓΤΐ之2軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯薄膜 (Α41 00、東洋紡(股)社製),使用平版磁控管濺鍍裝置(芝 浦Eletech製CFS-10-EP70)作爲輝光處理裝置,以下述條 件進行氧輝光處理,得到P ET支撐體。 -24- 200815195 -氧輝光處理條件- 初期真空:1 .2x1 0_3Pa 氧壓力:〇.9Pa RF 輝光:1 .5kW 處理時間:6 0 s e c <接枝聚合物層之形成1> 接著,將Ν,Ν -二甲基丙烯醯胺、甲基丙烯醯氧基丙基 乙氧基矽烷、乙醇混合溶液(Ν,Ν -二甲基丙烯醯胺··甲基丙 φ 烯醯氧基丙基乙氧基矽烷=1:1(莫耳比)、濃度:50質量%) 予以氮起泡(〇^〇96〇|31|131}丨1叩)。將上述卩日丁支撐體在該 混合溶液以70。(:浸漬7小時。將浸漬後之PET支撐體以乙 醇充分洗淨,在其構造内,具有特定元素醇鹽基之矽烷偶 合基及醯胺基之接枝聚合物鏈係直接結合至支撐體表面’ 而形成接枝聚合物層。把該具有接枝聚合物層之PET支撐 體當作支撐體A。 <有機-無機複合層之形成1> φ 在所得之支撐體A,塗布將含有以下量之乙醇、水、 四乙氧基矽烷、及磷酸的塗布液組成物1在室溫攪拌24 小時之物,藉由以1 00 °C、1 〇分鐘加熱乾燥形成有機-無機 複合層,得到有機-無機複合(hybrid)薄膜A。 •塗布液組成物1 - •四乙氧基矽烷〔交聯劑〕..............〇.9g •乙醇·.·................................…··......................3.7g • 7jc...........................................8.7 g •磷酸水溶液(0.8 5 %水溶液)…..............1 .3g -25- 200815195 <撥水撥油處理> 將所得之有機-無機複合薄膜 A在 〇. 1臂<。, 貝迤。/〇之 1H,1H,2H,2H全氟癸基三氯矽烷·己烷溶液浸漬1〇分鐘 拿起後,藉由加熱乾燥(1 〇 0 °C、3 0 m i η)而得到防污性 丨土溥膜 Α。形成之撥水撥油處理層與有機-無機複合層之總摩 500nm 〇 [實施例2] 在實施例1之 <有機-無機複合層之形成1>中。除7將 在有機-無機複合層之形成所使用之塗布液組成物1所含% 四乙氧基矽烷〇.9g以四甲氧基鈦酸鹽1 .〇g代替以外,以 與實施例1同樣的方法得到防污性薄膜B。 [實施例3] 在實施例1之 <有機-無機複合層之形成1>中。除了將 在有機-無機複合層之形成所使用之塗布液組成物1所含的 四乙氧基矽烷0.9g以四甲氧基鉻酸鹽i.6g代替以外,以 與實施例1同樣的方法得到防污性薄膜C。 [實施例4] 在實施例1之<有機-無機複合層之形成1>中。除了將 在有機-無機複合層之形成所使用之塗布液組成物1所含的 四乙氧基矽烷0.9 g以三甲氧基鋁酸鹽〇 . 7 g代替以外,以 與實施例1同樣的方法得到防污性薄膜D。 [實施例5] 將實施例1中<接枝聚合物層之形成1>變更爲下述< 接枝聚合物層之形成2>而製作支撐體B,更將 <有機-無機 複合層之形成1>中所用的支撐體A變更爲支撐體B來製作 -26- 200815195 有機-無機複合薄膜B以外,以與實施例1同樣的方法得到 防污性薄膜E。 <接枝聚合物層之形成2> 將丙烯醯胺水溶液(濃度·· 50質量%)予以氮起泡。將用 於實施例1之PET支撐體在該水溶液中以70°C浸漬7小 時。將浸漬後之PET支撐體以蒸留水充分洗淨,在其構造 内,具有醯胺基之接枝聚合物鏈係直接結合至支撐體表面 而形成接枝聚合物層。把該具有接枝聚合物層之PET支撐 φ 體當作支撐體B。 [實施例6】 <接枝聚合物層之形成3> 將甲基丙烯醯氧基丙基乙氧基矽烷·乙醇溶液(濃 度:50質量。/。)予以氮起泡。將實施例1所用之PET支撐體 在該溶液以70°C浸漬7小時。將浸漬後之PET支撐體以蒸 留水充分洗淨,在其構造内,具有特定元素醇鹽基之矽烷 偶合基的接枝聚合物鏈係直接結合至支撐體表面,而形成 φ 接枝聚合物層。把該具有接枝聚合物層之PET支撐體當作 支撐體C。 <有機-無機複合層之形成2> 在所得之支撐體C上塗布將含有以下的量之2-丙醇' 水、四乙氧基矽烷、及磷酸之塗布液組成物2在室溫攪拌 5小時之物,藉由1 0 0 °C、1 0分鐘加熱乾燥形成有機-無機 複合層,得到有機-無機複合薄膜C。 -塗布液組成物2 - -27- 200815195 • 2-丙醇..............................8 g ‘·四乙氧基矽烷[交聯劑]..........1 · 〇 g •水....................................1 · 〇 g •磷酸水溶液(〇. 8 5 %水溶液).….1. 〇 g <撥水撥油處理> 在所得之有機-無機複合薄膜c上進行與實施例1之< 撥水撥油處理 > 同樣的處理,得到防污性薄膜F。 形成之撥水撥油處理層與有機-無機複合層之總厚度 爲 1.2μηη。 [比較例1】 將 2-(全氟丁基)乙基丙烯酸酯(Azmax(股)社 製)0.5g、與1-甲氧基-2-丙醇(和光純藥工業(股)社製)〇.5g 混合作爲均勻溶液。將實施例1所用之PET支撐體在溶液 以70°C浸漬7小時。將浸漬後之卩£丁支撐體以乙醇充分洗 淨,在其構造内,含氟原子接枝聚合物鏈(疎水性接枝聚合 物鏈)係直接結合至支撐體表面,得到防污性薄膜G。 [比較例2] 除了將實施例1中所用的支撐體(接枝聚合物層PET 支撐體)A以聚對苯二甲酸乙二酯代替以外,以與實施例1 同樣的方法得到防污性薄膜Η。 〔防污性薄膜之性能評價〕 對實施例1~6、比較例1、2之防污性薄膜Α〜Η進行 如下之性能評價。結果示於下述表1。 1 .撥水性之評價
對防污性薄膜Α〜Η之撥水撥油處理面(防污性薄膜G -28- 200815195 係直接結合含氟原子之接枝聚合物鏈構成的面),用協和界 面科學(股)製之CA-Z,測定在純水滴下後、20秒後之角 度。水滴接觸角爲150°以上者作爲A。結果示於表1。 2 .密接性之評價 根據JIS K5400,對防污性薄膜A~H之撥水撥油處理 面(防污性薄膜G係直接結合含氟原子之接枝聚合物鏈構 成的面),旋轉切片機切成1 0 0塊1 m m角方塊,壓著賽珞 玢管(Nichiban(股)製、註冊商標)後,以30000mm/min之 # 速度實施3次90度之剝離試驗。評價係以測定剝離試驗後 殘餘之升目數來進行。結果示於表1。 3.防污性之評價 3. 1初期防污性之評價 對防污性薄膜A〜Η之撥水撥油處理面(防污性薄膜G 係直接結合含氟原子之接枝聚合物鏈構成的面),用速乾性 油性油墨(zebra製、「Macky」(註冊商標))寫字。接著,將 該用字旭化成社製「Bemkoton」(註冊商標)乾淨的擦拭至 φ 擦去,測定擦拭次數。結果示於表1。 3.1 2反覆防污性之評價 用旭化成社製「B e m k 〇 t ο η」(註冊商標)、將防污性薄. 膜Α〜Η之撥水撥油處理面(防污性薄膜G係直接結合含氟 原子之接枝聚合物鏈構成的面)強烈擦拭500次後,在其表 面以速乾性油性油墨(Zebra製、「Macky」(註冊商標))寫 字,顯示其擦去之次數。結果示於表1。 -29- 200815195 表1 防污性薄膜 撥水性 密接性 防污性 初期防污性反覆防污性 實施例1 防污性薄膜A A 100/100 4 3 實施例2 防污性薄膜B A 100/100 3 3 實施例3 防污性薄膜C A 100/100 4 3 實施例4 防污性薄膜D A 100/100 4 3 實施例5 防污性薄膜E A 98/100 3 3 實施例6 防污性薄膜F A 100/100 4 3 比較例1 防污性薄膜G A 100/100 5 未擦拭 比較例2 防污性薄膜Η A 5/100 4 未擦拭 由表1之結果,具有有機-無機複合層之實施例的防污 性薄膜A〜F係撥水性、及與支撐體與撥水撥油處理層之密 接性良好。又,實施例之防污性薄膜A〜F爲初期防污性、 及防污性優異。由該等可明白本發明之防污性薄膜爲防污 性及其持續性優異。 【産業上之可利用性】 本發明之防污性薄膜適合適應於CRT、LCD、PDP、 FED等顯示器、碰觸板、玻璃、桌子、化妝合板等、更且 CD、DVD等記錄媒體之表面保護薄膜等。 日本出願2006-182291之揭示,根據參照其全體倂入 本說明書。在本說明書所記載之全部文獻、專利申請案、 及技術規格係藉由參照各種文獻、專利申請案、及技術規 格具體地各種記載之情形同樣地在本說明書中参照。 【圖式簡單說明】 >fTTT; Μ 【元件符號說明】 無 -30-

Claims (1)

  1. 200815195 十、申請專利範圍: 1. 一種防污性薄膜,其係具有支撐體與有機-無機複合層, 且對該有機-無機複合層表面施以撥水撥油處理所構成, 其中該有機-無機複合層係在直接結合至該支撐體表面的 接枝聚合物鏈所構成的接枝聚合物層中,含有選自Si、 Ti、Zr、AI之元素的醇鹽之加水分解及縮聚合所形成之交 聯構造。 2 .如申請專利範圍第1項之防污性薄膜,其中該接枝聚合物 • 鏈係在其鏈中具有選自於3卜丁卜2卜八1之元素的醇鹽基 〇 3.如申請專利範圍第2項之光觸媒薄膜之製法,其中該醇鹽 基爲下述一般式(丨)所示之基, 一般式⑴ (R1)m(OR2)3.m-Si— 一般式(丨)中,R1及R2係分別獨立地表示氫原子、或 碳數8以下之羥基,m表示〇 ~ 2之整數。 4 ·如申請專利範圍第1項之防污性薄膜,其中該接枝聚合物 鏈係在其鏈中具有醯胺基。 5 .如申請專利範圍第4項之防污性薄膜,其中該接枝聚合物 鏈中醯胺基之導入量係在1 0 m ο I %〜9 0 m ο I %之範圍。 6 ·如申請專利範圍第1項之防污性薄膜,其中該接枝聚合物 鏈係含有具有醯胺基之構造單位、與具有選自Si、Ti、Zr -31- 200815195 、AI所構成之群組之元素的醇鹽基的構造單位之共聚物 〇 7·如申請專利範圍第6項之光觸媒薄膜之製法,其中該醇鹽 基係下述一般式(丨)所示之基, 一般式⑴ (R1)m(OR2)3-m-Si— # 一般式(I)中,R1及R2係分別獨立地表示氫原子、或碳 數8以下之羥基,m表示0〜2之整數。 8.如申請專利範圍第1項之防污性薄膜,其中該撥水撥油處 理係使用用於撥水撥油處理之化合物的.表面處理。 9 ·如申請專利範圍第8項之防污性薄膜,其中該用於撥水撥 油處理之化合物爲矽烷基化劑、鈦酸酯偶合劑、或烷基 鋁。 1 0. ~種防污性薄膜之製法,其係具有下列步驟: • 生成直接結合至支撐體表面之接枝聚合物鏈,形成該 接枝聚合物鏈所構成之接枝聚合物層之步驟, 在該接枝聚合物層中,進行選自於Si、Ti、Zr、AI 之元素的醇鹽之加水分解及縮聚合的交聯反應,以形成 有機-無機複合層之步驟,與 對該有機-無機複合層表面施以撥水撥油處理之步 驟。 1 1 .如申請專利範圍第1 〇項之防污性薄膜之製法,其中該接 枝聚合物鏈係使用具有選自於Si、Ti、Zr、AI所構成之 -32- 200815195 群組之元素的醇鹽基之單體或大分子單體所生成之接枝 聚合物鏈。 12.如申請專利範圍第彳彳項之防污性薄膜之製法,其中該醇 鹽基係下述一般式(I)所示之基, 一般式⑴ (R1)m(〇R2)3-m—Si— 一般式(丨)中,R1及R2係分別獨立地表示氫原子、或 • 碳數8以下之羥基,m表示0〜2之整數。 1 3 ·如申請專利範圍第1 〇項之防污性薄膜之製法,其中該接 枝聚合物鏈係使用具有醯胺基之單體或大分子單體所生 成之接枝聚合物鏈。 14·如申請專利範圍第1〇項之防污性薄膜之製法,其中該接 枝聚合物鏈中醯胺基的導入量係在10 mol %〜90 mol% 之範圍。 1 5.如申請專利範圍第1 4項之防污性薄膜之製法,其中該接 • 枝聚合物鏈係使用具有醯胺基之單體、與具有選自於S i 、Ti、Zir、AI所構成之群組之元素的醇鹽基之單體所生 成之共聚物。 1 6 ·如申請專利範圍第1 5項之防污性薄膜之製法,其中該醇 鹽基係下述一'般式(I)所不之基’ 一般式⑴ (R1)m(OR2)3-rn—Si— -33- 200815195 一般式(丨)中,R1及R2係分別獨立地; 碳數8以下之羥基,m表示〇~2之整數 1 7 .如申請專利範圍第彳6項之防污性薄膜之 聯反應係該接枝聚合物層中所含之選自 AI之元素的醇鹽、與交聯劑之加水分解: 反應。 1 8 ·如申請專利範圍第彳7項之防污性薄膜之 聯劑係下述一般式(II)所表示之化合物, 一般式(丨丨) (R6)m-X-(OR7)4.m 一般式(II)中,R6表示氫原子、烷基 示烷基或芳基,X表示Si、Ah Ti或Zr 整數。 1 9 .如申請專利範圍第1 〇項之防污性薄膜之 水撥油處理係使用用於撥水撥油處理之 理。 2 0 ·如申請專利範圍第1 9項之防污性薄膜 用於撥水撥油處理之化合物爲矽烷基化 劑、或烷基鋁。 表示氫原子、或 〇 製法,其中該交 於 Si 、 Ti 、 Zr 、 及縮聚合的交聯 製法,其中該交 、或芳基,R7表 ,m表示0~2之 製法,其中該撥 化合物的表面處 之製法,其中該 劑、鈦酸酯偶合 -34- 200815195 七、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:無 。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: Μ /\\\ 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式·· 無
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