200806119 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明，係有關軟性基板材的表面處理裝置。例如， 被使用於可撓性基板的製造過程，而關於對此基板材進行 表面處理的表面處理裝置。 【先前技術】 被用於電子機器之電路基板，輕量化、極薄化、高密、 度電路化之進展非常驚人，關於其軟硬，也與習知之剛性 基板等硬性基板相比，可撓性基板等之軟性基板的進展， 增加非常顯著。 可是，表面處理裝置則被使用於像這種電路基板的製 造過程，在其各處理室，以輸送器水平搬運基板材，用被 噴射之處理液來進行表面處理。例如，噴射顯像液、蝕刻 液、剝離液、水洗液等的處理液，以進行顯像、蝕刻、剝 離、洗淨等的表面處理。 像在這種表面處理裝置的處理室內，關於被搬運之基 板材，防止附著處理液的混合，成爲重要的課題。特別是， 在上游側之處理室所噴射而附著於基板材的處理液被帶 出，但不會被帶進下游側之處理室，成爲重要的課題。 因此，像這種往例’則在像這種處理室間的輸送器介 設有除液滾子，藉由上下1對除液滾子挾著基板材輸送， 而除掉附著於基板材的處理液，以圖謀防止處理液的混 合。 像這種作爲除液滾子，例如，可列舉有如下之專利文 200806119 獻1所揭示。 專利文獻1 :日本專利特公平7-4742 1號公報 【發明內容】 可是’關於像這種往例，被指摘有如下的問題。 1 · 將軟性基板，被上下的除液滾子挾著輸送時，經 常發生被除液滾子吸著、掛住、捲住、捲入等意外。因此， 使用除液滾子作爲除掉附著處理液之用，是有問題。 總之’在該種往例被使用之除液滾子，對於剛性基板 材等硬性基板，適合作爲除掉附著處理液之用，而被採用 作爲在處理室內防止處理液的混合。然而，對於極薄且柔 軟之膠帶狀軟性基板材，使用上就有問題。 2. 可是，若發生像這種處理液的混合，各處理室之 處理液的性能就會降低。 例如，無論在同一藥液（例如蝕刻液）之處理室相互 之間，異種藥液（蝕刻液與剝離液）之處理室間，藥液與 水洗液之處理室間，或水洗液之處理室相互之間，若一旦 發生像這種處理液的混合，其處理液的性能就會降低，使 壽命變短 ° 又，例如水洗液中混合多量藥液時，事後當排放水洗 液之際，淨化裝置的負擔將變大。 3 · 因此，在該種往例有邊使用除液滾子，同時採用 先行板，而作爲防止軟性基板材被捲住等方法。 即，在軟性基板材的前端，作爲先行板、拋棄板，以 手工先將剛性板用膠帶等黏貼，然後以輸送器搬運通過除 200806119 液滾子，之後，再用手工將該膠帶等揭下。 然而，這被指摘花費人力而且麻煩，降低作業性，生 產效率差，成爲量產的障礙等問題。 4 · 將軟性基板’被上下的除液滾子挟著輸送時，被 指摘其微細之高密度電路易損傷的問題。即，被製造之軟 性基板的電路易留有.傷痕，而缺乏信賴性。 本發明有鑑於這種實情，爲了解決上述課題而提供一 種軟性基板材的表面處理裝置。 所以本發明之目的：係可實現第1、防止在處理室間 處理液的混合；第2、可因此而維持處理液的性能；第3、 可不靠人工作業而達成，並實現優良效率；第 4、亦可不 損傷電路而達成目的。 爲了解決該種課題，本發明之技術手段如下。 關於申請專利範圍第1項之軟性基板材的表面處理裝 置，係被使用於軟性基板的製造過程，軟性基板材以輸送 器水平搬運，同時在處理室內以處理液作表面處理，其特 徵在於：該輸送器於.該處理室間，令搬運之該軟性基板材 前後傾斜，因此使附著於該軟性基板材的該處理液可返回 到該處理室。 關於申請專利範圍第2項之表面處理裝置，係如申請 專利範圍第1項之軟性基板材的表面處理裝置，其中在該 表面處理裝置之該輸送器於處理室間的間隔具有凸狀滾 子。該凸狀滾子之軸的高度水平，係設定較其他搬運滾子 高或其直徑尺寸設定較其他搬運滾子大。 200806119 關於申請專利範圍第3項之表面處理裝置，係如申請 專利範圍第2項之軟性基板材的表面處理裝置，其中在處 理室間搬運於該輸送器上之軟性基板材，係在該凸狀滾子 的位置被舉起而變高，而在其他該搬運滾子的位置則變 低、形成前後傾斜， 根據此前後傾斜之向下傾斜，附著於該軟性基板材表 面之該處理液，在上游側之該處理室所噴射者，向上游側 之該處理室的出口流下，同時在下游側之該處理室所噴射 # 者，向下游側之該處理室的入口流下， 因此，藉由在上游側與在下游側之該處理室間該處理 液的帶進帶出，可防止該處理液的混合。 關於申請專利範圍第4項之表面處理裝置，係如申請 專利範圍第3項之表面處理裝置，其中該凸狀滾子，係對 應地配設於上游側之該處理室的出口附近，同時對應地配 設於下游側之該處理室的入口附近。 關於申請專利範圍第5項之表面處理裝置，係如申請 專利範圍第1，2，3或4項之表面處理裝置，其中該凸狀 滾子，其高度水平係可改變，同時該高度水平能比例於該 輸送器的搬運速度而調節，搬運速度越快，則該高度水平 設疋越局。 本發明，係由該種手段達成如下作用： (1) 軟性基板材以輸送器邊水平搬運，同時在表面處 理裝置之處理室噴射處理液進行表面處理。 (2) 軟性基板材，係以輸送器從上游側之處理室搬運 200806119 到下游側之處理室。 (3) 如此在處理室間所搬運之軟性基板材的表面，附 著有處理液。 (4) 處理室間的輸送器配設有凸狀滾子，以使軟性基 板材前後傾斜。 (5) 從而第1，使附著於軟性基板材的處理液，基於軟 性基板材之前後傾斜，可流回到原處理室。因此，可防止 由於在上游側與在下游側之處理室間處理液的帶進帶出， ®而使處理液混合。 第2，因可防止該等處理液的混合，故可維持處理液 的性能。 第3,而且，藉由處理室內的輸送器配設有凸狀滾子， 不需要任何簡單容易的手操作即可實現。 第4，因爲藉由使軟性基板材前後傾斜即可實現，故 不會損傷高密度電路。 (6) 本發明之軟性基板材的表面處理裝置，可發揮如 _下效果。 第1，可防止在處理室間處理液的混合。即，在本發 明之軟性基板材的表面處理裝置，軟性基板材，係在處理 室間可藉由凸狀滾子令其前後傾斜。 因此，附著於軟性基板材的處理液將可流回到原處理 室。所以，可確實防止處理室間處理液的帶進帶出之處理 液混合。 而且，此可藉由傾斜方式實現，故不像上述往例用除 200806119 液滾子除液的方式，會發生軟性基板材被捲住等的意外， 而可穩定的實現。 第2，因此，可維持處理液的持性。即，本發明之軟 性基板材的表面處理裝置，像這樣可防止處理室間處理液 的混合。 因此，在各處理室可避免處理液性能的降...低，而可使 藥液的壽命持續爲該種往例的3倍以上。關於水洗液，因 可防止與藥液的混合，故事後當排放水洗液之際，淨化裝 置的負擔將可降低。 第3，而且，這在效率方面也表現優異。即，本發明 之軟性基板材的表面處理裝置，藉由傾斜方式，可簡單容 易地防止處理液的混合。 而且，因爲不必要如該種往例那樣，爲了防止除液方 式造成的捲住意外而使用先行板，所以可省掉這部分的工 夫，提高作業性，亦可量產化等，生產效率方面優良。 第4，此不致損傷電路即可被實現，即，本發明之軟 性基板材的表面處理裝置，係藉由傾斜方式，,,不像該種往 例，用除液滾子除液的方式容易損傷電路，而被製造之軟 性基板材的電路亦不致遺留傷痕，可提高可靠度，生產良 率可大幅改善。 如此，該種往例所存在的課題均可被解決等，本發明 所發揮之效果大而且顯著。 【實施方式】 以下，根據圖式詳細說明本發明的最佳實施形態。 -10- 200806119 第1圖及第2圖，係提供本發明最佳實施形態的說明。 而第1圖，係全體的側面說明圖。第2圖係主要部分的側 面說明圖，第2圖之（1)圖係第1例，第2圖之（2)圖係第2 例，第2圖之（3)圖係第3例，第2圖之（4)圖係第4例，第 2圖之（5)圖係表示第5例。 本發明之軟性基板材A的表面處理裝置1，係被使用 於軟性基板的製造過程。因此，首先就電路基板加以說明。 被使用於電子機器之印刷電路板等的電路基板，近 ® 來，輕量化，極薄化，高密度電路化，多層化等的進展非 常驚人。因此，關於電路基板之軟硬，與習知之硬性基板 相比，最近軟性基板的進展，增加狀況顯著。 例如對於硬性基板的代表例，厚度約爲1 0 0 μπι之玻璃 補強剛性基板，而軟性基板的代表例之聚亞醯胺樹脂製的 可撓性基板，其厚度僅爲60 μιη左右，成爲極薄柔軟的膠 片狀。 然而’該種電路基板，例如係循下列過程製造。即， ® 在由貼銅之積層板而成之基板材的外表面，—將感光性光 阻塗佈成膜狀或張貼感光性光阻，然後—放置電路的底片 曝光後，—藉由顯像溶解除去形成電路部分以外的光阻，— 藉由蝕刻溶解除去形成電路部分以外的銅箔，—藉由剝膜 除去形成電路部分的光阻’—而在基板材的外表面以銅箔 形成電路，—因而製造電路基板。 電路基板等，係如此形成。 《關於表面處理裝置1》 -11- 200806119 而表面處理裝置1，係被使用於上述製造過程，將基 板材之軟性基板材A用輸送器2連續的水平搬運，同時在 處理室3，3 ’內以處理液B作表面處理。 關於像這樣的表面處理裝置1，更詳述如下。表面處 理裝置1，係在電路基板軟性基板的製造過程中，例如在 顯像過程、蝕刻過程、剝離過程、洗淨過程，乾燥過程等， 被使用作爲顯像裝置、蝕刻裝置、剝離裝置、水洗裝置， 或去水乾燥裝置等。 而且，像該種各表面處理裝置1，係分別在處理室3， 3 ’（雖然也有一個室的情形，但複數個室的情形爲多）內， 對用輸送器2水平搬運之軟性基板材A，從噴嘴4噴射例 如顯像液、蝕刻液、剝離液或水洗液等處理液B，因而使 軟性基板材A進行藥液處理、洗淨處理等表面處理。此外， 在去水乾燥裝置的處理室3，3 ’，從空氣噴嘴吹出乾燥後之 暖風空氣。 處理液B，從液槽5透過泵6或配管7，壓送到各噴嘴 4，因而噴谢在軟性基板材A。而且，將軟性基板材·· A表面 處理後，流入液槽5回收，事後也可循環使用。此外，在 圖所示之例，各噴嘴4雖被配設於軟性基板材A的正上方， 但有時亦可配設於正下方。 表面處理裝置1，係如此形成。 《關於本發明》 以下，再針對本發明加以說明◊軟性基板材A在各表 面處理裝置1的處理室3，3 ’間以輸送器2連續搬運。而其 -12- 200806119 時，連接處理室3，3 5間的輸送器2，在處理室3，3 ’間的 間隔空間C具有凸狀滾子8，用以將搬運之軟性基板材A， 沿著搬運方回前後傾斜D，使附著於軟性基板材A的處理 液B，可返回到其處理室3，3，。 此外，作爲輸送器2的搬運滾子9或凸狀滾子8，橫 向寬度薄的輪子爲代表使用，但亦有可能使用橫向寬度廣 的直滾子。使用輪子時，在左右寬度方向相互隔有間隔， 多數個被配設成1套，同時輪子的搬運滾子9，在前後的 ® 搬運方向被配設有多套。 關於該種處理室3，3 ’間之輸送器2，更詳述如下。首 先，在處理室3，3 ’間的間隔空間C，在輸送器2上被搬運 之軟性基板材A，在凸狀滾子的位置被舉起而變高，其他 水平運送用的搬運滾子9的位置則變低而前後傾斜D。 因此，在上游側之處理室3 (在圖面上係左側）所噴 射而附著於軟性基板材A表面的處理液B，在附著的狀態 下從處理室3的出口 1 0被搬出來到間隔空間C的處理液 B ’係基於向該軟性基板材a的前後傾斜D的上游側朝下 傾斜’沿著軟性基板材A向處理室3的出口 1 〇流下。而被 其處理室3的液槽5回收。 更且，在下游側的處理室3，（在圖面上係右側）所噴 射而附著於軟性基板材A表面的處理液B，亦即，從處理 室3 ’的入口〗〗溢出至上游的處理液B，係基於向軟性基板 材A前後傾斜〇的下游側朝下傾斜，而沿著軟性基板材a 向處理室3 ’的入口 1 1流下。而被其處理室3，的液槽5回 200806119 本發明係槪略如此形成。 《關於各種態樣》 其次’關於本發明之凸狀滾子8的各種態樣加以說 明。首先，第1圖中所顯示凸狀滾子8，係由輪子形成（以 下關於其他的例也相同），在間隔空間C的中央配設丨.套 (左右之寬度方向設有多個）。 而，該凸狀滾子8，其直徑尺寸，係設定與其他輪製 (以下關於其他的例也相同）的搬運滾子9同一直徑，同 時其軸的高度水平，係被設定較其他搬運滾子9高。 第2圖之（1 )圖中所顯示凸狀滾子8，係在間隔空間c 的中央被配設1套，其直徑尺寸，係設定較其他搬運滾子 9大，同時其軸的高度水平，係設定與其他搬運滾子9同 樣整齊。 第2圖之（2)圖中所顯示凸狀滾子8，係在間隔空間c 的中央被配設1套，其直徑尺寸，係設定較其他搬運滾子 9大，同時其軸的高度水平，係被設定較其他搬運滾子9 高。 第2圖之（3)圖中所顯示凸狀滾子8，係被配設3套1 組於間隔空間C的中央部。而中央的1套係設定與第2圖 之（2)圖同樣，同時前後2套，係設定與第1圖的同樣，中 央的1套，其滾子的頂面設定高於前後2套。 第2圖之（4)圖中所顯示凸狀滾子8，係多數被配設於 全體間隔空間C，其直徑尺寸，係設定與其他搬運滾子9 -14- 200806119 同一直徑，同時軸的高度水平，係在間隔空間C的中央最 高，前後者則被設定逐漸變低。 第2圖之（5)圖中所顯示凸狀滾子8，係被配設於間隔 空間C內的上游部與下游部，分別設定與第1圖者相同。 而上游部者，係對應地被配設於上游側之處理室3的出.口 1 〇附近，下游部者，係對應地被配設於下游側之處理室3 ’ 的入口 1 1附近。 如各該圖所顯示之例，凸狀滾子8，其軸的高度水平 • 係設定較其他搬運滾子9高，或其直徑尺寸較大。因此雖 可使搬運之軟性基板材A前後傾斜D，但亦有可能如圖所 顯示之例以外的各種狀態。當然，關於前後傾斜D的傾斜 斜度，其斜度更急劇者或緩和者，對應於軟性基板材A之 搬運速度，將自如地被設定。 關於凸狀滾子8，亦可考慮如下之構成。即，其高度 水平係可改變，同時該高度水平能比例於該輸送器2的搬 運速度而調節，因此，搬運速度越快，則該高度水平可考 _ - 慮設定越局。 ！ 即’在凸狀滾子8附設上下動機構（圖未顯示），因 此’對應於藉由輸送器2的搬運滾子9之軟性基板材A的 搬運速度，可令凸狀滾子8上下動作。而搬運速度越快， 由於凸狀滾子8的高度水平’亦設定越高，使軟性基板材 A的則後傾斜D更爲急劇。所以，附著之處理液B的流下 速度更快，而有處理液B返回到處理室3，3，及回收更順 利的優點。 200806119 此外，第1圖中’ 12係返回板。該返回板 設於間隔空間C之輸送器2的下方，中央高前: 附著於以輸送器2搬運之軟性基板材a之處理 到下面時，有將該處理液B流向處理室3，3 能。 凸狀滾子8，可考慮有如此各種狀態。 《作用等》 本發明之軟性基板材A的表面處理裝置 明所構成。於是，形成如下： (1 )軟性基板材A以輸送器2水平搬運， 面處理裝置1各自的處理室3，3，，依序噴射 表面處理。 (2) 而軟性基板材A，係從上游側之處理 側之處理室3 ’以輸送器2搬運，同時通過處Ϊ 的間隔空間C而交接。 (3) 如此，在處理室3，3 ’間所搬運的軟' 附著有處理液B。 即，從上游側之處理室3的出口 1 0向間1¾ 出之軟性基板材A的表面，附著有在處理室： 理液B(參考第1圖、第2圖的（1)圖、（2)圖’ 同時向下游側之處理室3 ’搬入之軟性基板材 室3 ’內所噴射之處理液B，亦有可能從入口 1 (參考第2圖的（3)圖、（4)圖）。 (4) 因此，在該表面處理裝置1，於處理 1 2，係被配 t低而傾斜， 液B，當落 而返回的功 1，如以上說 同時在各表 處理液B作 室3向下游 里室3 ， 3’間 I4生基板材A， i空間C所搬 3所噴射之處 ‘（5 )圖等）。 A，在其處理 1溢出而附著 室3，3 ’間之 -16- 200806119 .間隔空間c的輸送器2，配設有凸狀滾子8。所以利用該凸 狀滾子8使通過間隔空間C的軟性基板材A前後傾斜D ° (5)從而，根據該表面處理裝置1，將成爲如下列第1 至第4。 第1，附著於軟性基板材A表面的處理液B，係基於 凸狀滾子8造成的軟性基板材A之前後,._傾斜D的向下傾 斜，而返回到原處理室3，3 5。 即，在上游側之處理室3附著的處理液B，係從間隔 ^ 空間C側向其處理室3側，沿軟性基板材A的表面流下， 而被回收。而且，從下游側之處理室3，附著的處理液B， 亦朝向其處理室3 ’側，沿軟性基板材A的表面流下，而被 回收。 因此’可防止在上游側與在下游側之處理室3，3 ’間由 於該處理液B的帶進帶出而混合。 第2，因可防止在處理室3，3 ’間處理液B的混合，故 0 可維持各處理室3，3 ’之處理液的性能。 例如，兩處理室3，3 ’的處理液B係異種時（例如， 蝕刻液與剝離液時，或蝕刻液與水洗液的情況），當然是， 即使兩處理室3，3 ’的處理液B相同時（例如，均爲飽刻 液時’或均爲水洗液時），處理液B間的混合，將成爲其 性能降低的主因，故可防止該種混合或性能降低。 此外’在上游側之處理室3爲洗淨用，而下游側之處 理室3 ’爲去水乾燥用時，處理液b之洗淨液，不會附著而 被帶進去水乾燥用的處理室3，，可促進去水乾燥的優點。 -17- 200806119 第3，而且這些由於在處理室3 ’ 3 ’間之間隔空間c的 輸送器2配設凸狀滾子8 ’藉由簡單的構成而容易實現。 又可不靠人工作業自動的實現。 第4，而且這些實現不會損傷軟性基板材A表面的微 細高密度電路。即，在凸狀滾子8令軟性基板材A前後傾 斜D之方式，故不會夾進軟性基板材A ’而造成損傷電路 之虞。 【圖式簡單說明】 第1圖係有關本發明之軟性基板材的表面處理裝置’ 提供發明之最佳實施形態的全體側面說明圖。 第2圖係提供同發明之最佳實施形態的說明之主要部 分的側面說明圖，其中（1)圖顯示第1例，（2)圖顯示第2例， (3)圖顯示第3例，（4)圖顯示第4例，（5)圖顯示第5例。· 【主要元件符號說明】 1 表面處理裝置 2 輸送器 3 處理室 · 3， 處理室 4 噴嘴 5 液槽 6 泵 7 配管 8 凸狀滾子 9 搬運滾子 -18- 200806119 10 出口 11 入口 12 返回板 A 軟性基板材 B 處理液 C 間隔空間C D 前後傾斜