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TW200408502A - Barrel polishing method, and barrel polishing device - Google Patents

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TW200408502A
TW200408502A TW092126229A TW92126229A TW200408502A TW 200408502 A TW200408502 A TW 200408502A TW 092126229 A TW092126229 A TW 092126229A TW 92126229 A TW92126229 A TW 92126229A TW 200408502 A TW200408502 A TW 200408502A
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TW
Taiwan
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honing
tank
load
scope
item
Prior art date
Application number
TW092126229A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI298035B (zh
Inventor
Kazutoshi Nishimura
Takao Ishida
Yoshihiro Masuda
Original Assignee
Sintobrator Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sintobrator Ltd filed Critical Sintobrator Ltd
Publication of TW200408502A publication Critical patent/TW200408502A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI298035B publication Critical patent/TWI298035B/zh

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B31/00Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
    • B24B31/10Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor involving other means for tumbling of work
    • B24B31/108Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor involving other means for tumbling of work involving a sectioned bowl, one part of which, e.g. its wall, is stationary and the other part of which is moved, e.g. rotated

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

200408502 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於’使工件與媒介物混合成的物料在硏磨 槽內離心流動’以硏磨工件的流動型的滾筒硏磨方法及滾 筒硏磨裝置。 【先前技術】 流動型的滾筒硏磨是將硏磨對象物的工件與硏磨材的 媒介物所成的物料投入硏磨槽內,利用設在硏磨槽底部的 轉盤使物料離心流動’而進行硏磨的方法,其一個例子揭 示在日本特開平8 - 1 1 〇 5 7號公報。此流動型的滾筒硏磨 方法係如第1圖所示,物料是在組合:沿轉盤的轉動方向 流動的水平迴旋流動;與因離心力而在硏磨槽內壁面上 昇’在最上部朝中心方向流下的垂直迴旋流動,而成複曲 面狀流動期間’工件與媒介物相互磨擦,而硏磨工件的表 面。 但傳統的流動滾筒硏磨卻存在有,無法避免,隨著.硏 磨的進行’媒介物逐漸磨損,物料量減少,或因工件與媒 介物的磨擦力減小,致使硏磨能力降低的問題。此等問題 在乾式的流動滾筒硏磨特別顯著。 【發明內容】 本發明的目的在提供’可以解決以往的問題點,可消 除硏磨能力隨著硏磨的進行而降低的現象,能夠將硏磨能 (2) (2)200408502 力較傳統者大幅度提高的流動型的滾筒硏磨方法,及滾筒 硏磨裝置。 本發明人等爲了解決上述課題銳意進行硏究的結果, 發現跟傳統的常識「妨礙物料的自然流動時,流動型滾筒 硏磨的硏磨力會降低」相反,以適當的手段控制在硏磨 槽內壁上昇的物料的流動,可以將硏磨能力較傳統者大幅 度提高。同時發現,流動型滾筒硏磨裝置的硏磨能力的變 化’ 7E從轉盤傳遞至物料的工作量的變化,換言之,是顯 現爲轉盤的轉動阻力的變化,因此可以將其當作轉盤的驅 動馬達的負荷’從外部掌握。因此,控制物料的流動,將 轉盤的驅動馬達的負荷保持一定,便可以將隨硏磨的進行 而降低的硏磨能力維持一定大小。 依據上述認知所完成的本發明的滾筒硏磨方法,係藉 由設在硏磨槽底部的轉盤使物料(m a s s )迴旋流動,同時 進行硏磨的方法,其特徵爲:預先設定轉盤的驅動馬達的 負荷,而藉由控制硏磨槽內的物料的流動,將該驅動馬達 的負荷維持在設定範圍內,而進行硏磨。這時,驅動馬達 的負荷以使用,例如驅動馬達的負荷電流値較佳。 本發明的硏磨槽內的物料的流動控制,可以藉由:加 減物料的流動領域的方法·,加減按壓沿硏磨槽內壁上昇的 物料的上端加以控制的方法;控制轉盤的轉數而進行控制 的方法,加減投入硏磨槽的工件及/或媒介物的投入量加 以控制的方法,來進行。同時,負荷電流値的設定範圍不 一定是一個値,也能以規定的時間間隔設定複數個設定 (3) (3)200408502 値。而且,也可以藉由間歇方式控制硏磨槽內的物料的流 動,藉此交互重複進行:控制物料的流動的硏磨、與不控 制物料的流動的自由硏磨。 同時,本發明的滾筒硏磨裝置的特徵是:由投入工件 及媒介物的硏磨槽;設在硏磨槽底部,用以使物料迴旋流 動的轉盤;用以設定轉盤的驅動馬達的負荷的手段;控制 硏磨槽內的物料的流動,使該驅動馬達的負荷可以維持在 設定範圍內的流動控制手段,所構成。 物料的流動控制手段可以使用:設在硏磨槽上部的可 動手段,與其昇降機構的組合;設在硏磨槽上部的可動手 段,與其加壓機構的組合;設在硏磨槽上部的可膨脹收縮 的可動手段,與其加減壓機構的組合;控制轉盤的驅動馬 達的轉速的控制手段;控制對硏磨槽的工件及/或媒介物 的投入量的控制手段等,各種手段。再者,此等控制手段 可以與其他控制手段合倂使用。 依據本發明時,是以負荷電流値等預先設定轉盤的驅 動馬達的負荷,控制硏磨槽內的物料的流動,藉此在該負 荷的設定範圍內進行硏磨。隨著硏磨的進行,硏磨能力的 下降,可以從轉盤的驅動馬達的負荷減少檢出,因此,負 荷減少時進行硏磨槽內的物料的流動控制,使負荷恆常維 持在設定範圍內,藉此可以在硏磨能力維持一定之狀態下 進行硏磨。而且,由於對硏磨槽內的物料進行流量控制, 可以較傳統者大幅度提高工件與媒介物的磨擦力。這種本 發明的效果在乾式滾筒硏磨特別顯著,在濕式滾筒硏磨也 (4) (4)200408502 可以同樣發揮。 【實施方式】 (第1實施形態:可動手段與昇降機構) 第2圖表示本發明的乾式的第1實施形態,1是可投 入由工件(work)及媒介物(media)所成的物料m的硏 磨槽,2是設在硏磨槽底部的碟狀的轉盤。轉盤2的周緣 部向上方彎曲,使物料Μ較容易向上方流動。硏磨槽j 與轉盤2之與物料Μ接觸的部分,施加有耐磨損的聚氨 酯橡膠等的裏櫬。3是用以閉塞硏磨槽1的上部開口 1 3 , 橡膠等可撓性材料製成的可動手段。本實施形態的可動手 段3疋呈盍板狀’其周邊部固定在硏磨槽1的上端。如第 2圖所示,此可動手段3的周緣部最好成彎曲形以便接觸 在硏磨槽1的內壁。再者,硏磨槽1的高度是較物料Μ 自由離心流動時的最大商度爲低,使其能藉由可動手段3 抑制離心流動的物料Μ上端。 轉盤2是配設在硏磨槽1的底板1 〇的稍上方,與硏 磨槽1的內壁12間留下滑接部空隙4而相互滑接,由驅 動馬達20經由減速機5使其轉動。驅動馬達20的轉速是 由控制手段5 0控制。 轉盤2設有小孔6,轉盤2與硏磨槽1的底板1 〇間 形成有空隙1 4。設在空隙1 4下部的集塵管1 1連接未圖 示的集塵機,因硏磨產生的粉塵經由小孔6及滑接部空隙 4,通過空隙14,再從此空隙1 4經由集塵管1 1加以集 50 (5) 200408502 塵。 轉盤2的驅動馬達2 0的負荷恆常由設在控制手段 內的負荷檢測手段檢出。驅動馬達20的負荷檢測是利 負荷電流較具實用性,但不一定限定如此’例如檢出負 電力也可以。本發明是使其可以藉由負荷設定手段70 先設定負荷電流値等,而如以下所詳述,以各種流動控 手段控制硏磨槽1內的物料Μ的流動,藉此使其恆常 以在驅動馬達20的設定負荷範圍內進行硏磨。 可動手段3的中心形成有,硏磨槽1內充滿物料Μ 其流動不甚順暢時,排出一些物料Μ使流動較順暢的 口 8,本實施形態是跨越開口 8固定有支持構件3 1。在 動手段3上方配設有用以使可動手段3上下移動的昇降 構60。昇降機構60是由:成水平轉動自如狀軸裝在支 61的臂62 ;安裝在該臂62前端,經由突設在可動手段 的支持構件3 1上方的動作棒6 3使可動手段3上下動作 驅動部64 ;用以接收來自設在速度控制手段5 〇內部的 荷電流値檢測手段的信號,驅動上述驅動部6 4的控制 65 ’所構成。驅動部64可以採用,例如油壓缸式或滾 螺桿式等適宜方式。本實施形態是以可動手段3與昇降 構6 0構成硏磨槽1內的物料的流動控制手段。 將工件及媒介物所成的物料Μ投入硏磨槽1內, 由驅動馬達2 0使轉盤2轉動後,如上述,物料μ便因 心力而在硏磨槽1的內壁12上昇。本發明是,上昇的 料Μ由可動手段3限制其流動領域,將流動方向變更 用 荷 預 制 可 開 可 機 柱 3 的 負 部 珠 機 藉 離 物 向 (6) (6)200408502 硏磨槽1的中心方向,同時成雙螺旋狀流動。傳統上的常 識是,妨礙物料的自然流動時,流動型滾筒硏磨的硏磨能 力會降低’但本發明是跟這種常識相反,以適當的手段控 制在硏磨槽內壁上昇的物料的流動,藉此大幅度增大工件 與媒介物間的磨擦力,顯著提高硏磨能力。 又如上述’隨著硏磨的進行,媒介物在角部(凸部) 磨損’而工件也被硏磨,因此,兩者間的磨擦力減少,硏 磨力慢慢降低。但是,本實施形態則是,物料的流動控制 手段的昇降機構60使可動手段3下降,使驅動馬達2〇的 負荷可以保持在由負荷設定手段70預先設定的範圍。 亦即,隨著硏磨能力之降低,驅動馬達2 0的負荷, 例如負荷電流値會降低,因此,接收到來自設在控制手段 50內的負荷檢測手段的信號,昇降機構60的控制部65 便如第3圖所示,令動作棒6 3下降。如此,藉由使可動 手段3的中央部向下方撓曲,將迴旋流動的物料μ的上 部按下去,減少流動領域,將物料Μ的上昇力變換成加 壓力,將加在物料Μ的壓力增大。其結果,工件與媒介 物之間的磨擦力增加,可以使因硏磨的進行而降低的硏磨 能力恢復。並與此之同時,驅動馬達20的負荷也恢復。 而因動作棒63之下降,驅動馬達20的負荷到達預先設定 的上限値時,控制手段50則向控制部65發出停止動作棒 63的下降的信號,因此,可以使驅動馬達20的負荷恢復 到最合適的値。 如以上所述,本實施形態是以驅動馬達2 0的負荷作 -10- (7) (7)200408502 爲參數,將可動手段3的高度調整在最合適的値,藉此, 將工件與媒介物的磨擦力恆常控制在一定範圍內進行硏 磨,因此,長時間硏磨時也不會使硏磨能力降低,可以繼 續進行滾筒硏磨。 再者,結束硏磨後’藉由昇降機構6 0將可動手段3 昇到硏磨槽1的上方後’臂6 2以支柱6 1爲軸向水平方向 轉動。接著,令硏磨槽1成豎立狀轉動,使轉盤2垂直或 超過垂直轉動’即可很容易從硏磨槽1取出完成硏磨的物 料Μ。 (第2實施形態:可動手段與昇降機構的變形例子) 上述第1實施形態是,將可撓性的可動手段3的周緣 固定在硏磨槽1的上端,但也可以如第4圖所示,以金屬 等剛體構成可動手段3,令此可動手段3與驅動馬達2 0 的負荷連動,藉由昇降機構6 0在硏磨槽1內上下滑動。 這時,可動手段3的外徑是較硏磨槽1的內徑梢小。再 者,在第4圖的左半部以虛線表示沒有可動手段3的傳統 的物料Μ的自由流動路徑。此第2實施形態也跟第i實 施形態同樣’可以藉由可動手段3抑制迴旋流動的物料M 上部,以提高降低的硏磨力。 (第3實施形態:可動手段及其加壓機構) 第5圖表示本發明第3實施形態,將中央備有開□筒 3 2的可動手段3成可滑動狀配設在硏磨槽1內,同時, -11 - (8) (8)200408502 在硏磨槽1的上蓋1 5也配設能夠以可滑動狀嵌合在此開 口筒3 2的外筒1 6。而在上蓋1 5與可動手段3之間形成 環狀的加壓室1 7,從設在上蓋1 5的壓力流體供應口 18 供應壓縮空氣等的壓力流體,向下對可動手段3加壓。 在此實施形態,驅動馬達2 0的負荷減小時,可提高 從壓力流體供應口 1 8供給的壓力流體的壓力,如活塞般 將可動手段3向下壓,藉此控制物料μ的流動領域。可 以如此使工件與媒介物的磨擦力增加,恆常在驅動馬達 2 0的負荷的設定範圍內進行滾筒硏磨。 再者,也可以如第6圖,在硏磨槽1上部配設由橡膠 等彈性材料構成的可膨脹收縮的可動手段3,通過設在上 盍1 5的壓力流體供應口 1 8 ’從未圖示的加減壓機構,將 壓縮空氣等的壓力流體供給其上部的加壓室1 7,藉此使 可動手段3如氣球般膨脹收縮。以這種構造控制物料μ 的流動領域’恆常在驅動馬達2 0的負荷的設定範圍內進 行滾筒硏磨。 (第4實施形態··可動手段因吸引而變形) 第7圖表示本發明的第4實施形態,可動手段3由橡 膠等可撓性材料製成固定在硏磨槽1的上端面。可動手段 3的中央形成有開口 8時,要使其能用其他封閉蓋8 1封 閉。而,連接可以調整吸引力的集塵管1 1等吸引手段, 在驅動馬達2 0的負荷開始降低時’將硏磨槽1內部減壓 到大氣壓以下,藉此使可撓性的可動手段3向硏磨槽1撓 -12- (9) (9)200408502 曲’以控制物料Μ的流動領域。如此,藉由令可動手段3 向硏磨槽1內部變形,控制物料Μ的流動領域的方法, 也可以將驅動馬達2 0的負荷維持在設定範圍內。 (第5實施形態:可動手段藉重鎚加壓) 第8圖表示本發明第5實施形態,可以在硏磨槽1內 部昇降的可動手段3上面載置重鎚8 0,對應驅動馬達2 0 的負荷的減少增加其重量或重鎚數,藉此控制物料Μ的 流動。此重鎚8 0的重量調節可以利用機器人自動調節, 也可以用人工。再者,也可以使可動手段3與第丨實施形 態同樣具可撓性,在其上面載置重鎚8 〇,使可動手段3 向硏磨槽1內部撓曲,加減按壓物料Μ上端的力量。 (第6實施形態:控制工件/媒介物的投入量) 第9圖表示本發明第6實施形態,使硏磨槽1的上蓋 1 5成開關自如狀,並在此上蓋1 5設投入用的外筒1 6。此 外筒1 6設有刻度1 9或位準感測器2 1,使其可以看出硏 磨槽1內的物料Μ的量。本實施形態是,隨著滾筒硏磨 的進行,因工件或媒介物的磨損,物料Μ的容積減少, 驅動馬達2 0的負荷降低時,藉由投入量控制手段9 0從外 筒1 6追加投入工件及/或媒介物。投入動作可以與位準 感測器2 1連動以自動方式進行。實施追加投入後,硏磨 槽1內的物料Μ的量增加,工件與媒介物的磨擦力恢 復,驅動馬達2 0的負荷增加,因此可以在負荷的設定範 -13- (10) (10)200408502 圍內繼續進行滾筒硏磨。 (第7實施形態:控制轉數) 以上所說明的各實施形態是,在驅動馬達2 0的負荷 降低時改變可動手段3的位置,或改變工件及/或媒介物 的投入量,但在驅動馬達2 0的負荷降低時增加轉盤2的 轉數,加強離心力,增加物料Μ的流動速度,也可以增 大加在迴旋流動的物料Μ的壓力。亦即,本第7實施形 態是,使驅動馬達20的轉速的控制手段50成爲物料Μ 的流動控制手段。但是,硏磨槽1的上部以蓋子覆蓋,防 止提高轉盤2的轉速時,物料Μ飛出槽外。 (第8實施形態:間歇控制) 而且使控制手段5 0可以設定:物料Μ被可動手段3 變更其流動方向,以拘束狀態硏磨工件的拘束硏磨時間; 及物料Μ不會被可動手段3變更其流動方向,以自動流 動狀態硏磨的非拘束硏磨時間,而間歇控制物料Μ的流 動,也可以有效進行滾筒硏磨(參照後述的實施例3的第 14圖、第15圖)。 亦即,本實施形態的方法是,拘束狀態硏磨工件的時 間到達規定時間時,或負荷降到設定的下限値時,使可動 手段3上昇到物料Μ不會接觸到的高度,或可動手段3 的高度維持不動,而使轉盤2的轉數減低到物料Μ不會 接觸到可動手段3的狀態,藉此使工件成爲非拘束狀態的 _ 14- (11) (11)200408502 方法。拘束硏磨中,有時會因媒介物與工件的混合狀態偏 向一側致使硏磨效果下降。但是,可以間歇解除拘束狀 態,使物料Μ成爲自由.狀態而迴旋流動,如此,工件及 媒介物便可再度均勻混合,因此可以提高硏磨效果。 (實施例1 :可動手段的昇降) 使用備有第4圖所示內徑44 0 m m的硏磨槽1的滾筒 硏磨裝置,在硏磨槽1內投入內容積的9 5 %的三角柱狀媒 介物與□的當作工件的測試片(SS4〇〇、直徑5mm、長度 2 0mm的圓柱)之混合物的物料Μ,而以可動手段3變更 此物料 Μ的流動方向加以拘束,進行滾筒硏磨。硏磨 時,轉盤2的轉數是3 5 0 mirT1,驅動馬達20的負荷電流 値的上限爲5.2A,下限値爲5.0A,而控制可動手段3的 高度,使負荷電流値保持在設定範圍內。硏磨時,隨時間 的經過,其負荷電流値的變化,跟可動手段3保持一定時 的比較例子,一倂示於第1 〇圖。亦即,在實施形態1, 硏磨的阻力減少,電流値降至5.0 A時,降低可動手段3 的高度,因此電流値提高到5.2 A,但在比較例子1,可動 手段3是保持在初期位置的一定高度繼續進行硏磨,因 此,電流値逐漸減少。 這時的每1個工件的硏磨量是如第1 1圖的□所示,爲 1 1 5 mg/ hr。對此,可動手段3是保持在初期位置的一定 高度的比較例子1,每1個工件的硏磨量是1 3 m g / h r ’ 硏磨量的差達8 · 8倍。第1 1圖中也同時一倂記述使用其 -15- (12) (12)200408502 他工件時的情形。白色表示將可動手段3保持一定的狀態 硏磨時的資料,以斜線標示的是以實施例1的方法進行硏 磨時的資料。其他工件的材質與尺寸如下。 □:不銹鋼,直徑3 m m、長度21 m m的圓柱 □:鋼鐵,外徑14 mm、內徑13 mm、厚度12 mm的 環 □:彈簧鋼,縱5 4 m m、橫2 7 m m、厚度4 · 5 m m的 板 本發明的方法與傳統方法的工件每一個的硏磨量的比 是,□是9.9倍,□是1 4.3倍,□是1 8 · 6倍,可以確認,不 論那一個工件均可以藉由本發明的方法大幅度增力卩研:磨能 力。 (實施例2 :轉盤的轉數) 將塡充於硏磨槽1內的物料Μ的塡充率改成95 %、 90 %、85 %,調查轉盤2的轉數與驅動馬達2〇的負荷電 流之相關關係的結果示於第12圖,這時的硏磨量示於第 1 3圖。不論是物料Μ的任一塡充率,隨著轉盤2轉數的 增加,負荷電流量均急遽增大,硏磨量也大幅度增加。 使用此等的相關關係,令轉盤2的轉數在2 5 〇〜4 0 0 mirT1之間改變,進行負荷的控制。使用的工件是實施例 1的□的工件,硏磨槽媒介物也都與實施例1相同。傳統 的方法的每1個工件的硏磨量是13 mg/hr,本發明是超 過80mg/ hr,獲得良好的結果。 -16- (13) (13)200408502 (實施例3 :間歇控制) 本實施例是與實施例1相同的硏磨條件,將負荷電流 値的上限設定爲5 · 2 A ’下限値設定爲5.0 A,而如第1 4 圖所示,以1 0分鐘的硏磨作爲丨個循環,返覆以拘束狀 態硏磨物料Μ 9分4 5秒後,再以非拘束狀態硏磨物料M 1 5秒’進行滾筒硏磨。其結果,如第1 5圖所示,本實施 例3的硏磨效率較實施例1的硏磨效率更高。同時,由於 如此進行間歇控制,工件與媒介物可以在非拘束狀態中再 度獲得均勻的混合,因此不會在工件的表面形成撞擊痕跡 或引起偏磨損,可以均勻硏磨。 再者,本實施例3是藉由,將可動手段3上昇到不會 與物料Μ接觸的高度,進行間歇方式使物料μ自由流動 的控制,但是,當然可以藉由使轉盤2的轉數增加或減少 的方法,間歇方式控制工件的流動,進行硏磨。 【圖式簡單說明】 第1圖係表示傳統的流動型滾筒在硏磨時的物料流動 的斜視圖。 第2圖係表示本發明第1實施形態的部分截面圖。 第3圖係表示在第1實施形態令可動手段下降的狀声专 的部分截面圖。 第4圖係表示本發明第2實施形態的部分截面圖。 第5圖係表示本發明第3實施形態的部分截面圖。 -17- (14) 200408502 第6圖係表示本發明第 截面圖。 第7圖係表示本發明第 第8圖係表示本發明第 第9圖係表示本發明第 第1 〇圖係表示實施例 圖。 第1 1圖係表示實施例 圖。 第1 2圖係表示實施例 的相關連的曲線圖。 第1 3圖係表示實施例 圖。 第1 4圖係表示實施例 曲線圖。 第 1 5圖係表示實施例 圖。 【圖號說明】 1 :硏磨槽 2 :轉盤 3 :可動手段 4 :滑接部空隙 5 :減速機 3實施形態的變形例子的部分 4實施形態的截面圖。 5實施形態的截面圖。 6實施形態的截面圖。 1的負荷電流値的變化的曲線 1的工件的硏磨效果的曲線 2的轉盤的轉數與負荷電流値 2的工件的硏磨效果的曲線 3的負荷電流値的控制狀態的 3的工件的硏磨效果的曲線 -18- (15) (15)200408502 6 :小孔 8 :開口 1 〇 :底板 1 1 :集塵管 1 2 :內壁 1 3 :上部開口 1 4 :空隙 1 5 :上蓋 1 6 :外筒 1 7 :加壓室 1 8 :壓力流體供應口 2 0 :驅動馬達 3 1 :支持構件 3 2 :開口筒 5 0 :控制手段 60 :昇降機構 6 1 :支柱 62 :臂 6 3 :動作棒 6 4 :驅動部 6 5 :控制部 70 :負荷設定手段 8 0 :重鎚 8 1 :封閉蓋 -19- (16)200408502 90 :投入量控制手段 Μ :物料
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Claims (1)

  1. 200408502 Π) 拾、申請專利範圍 1 ·〜種滾筒硏磨方法,係藉由設在硏磨槽底部的轉 盤使物料(mass )迴旋流動,同時進行硏磨的方法,其特 徵爲·預先設定轉盤的驅動馬達的負荷,而藉由控制硏磨 槽內的物料的流動,將該驅動馬達的負荷維持在設定範圍 內持續進行硏磨。 2 ·如申請專利範圍第1項所述之滾筒硏磨方法,其 中:驅動馬達的負荷係使用負荷電流値。 3 ·如申請專利範圍第1項所述之滾筒硏磨方法,其 中:硏磨槽內的物料的流動控制是藉由加減物料的流動區 加以控制。 4 ·如申請專利範圍第1項所述之滾筒硏磨方法,其 中:硏磨槽內的物料的流動控制是藉由加減按壓沿硏磨槽 內壁上昇的物料上端的力量加以控制。 5 ·如申請專利範圍第1項所述之滾筒硏磨方法,其 中:硏磨槽內的物料的流動控制是藉由控制轉盤的轉數進 行。 6 ·如申請專利範圍第1項所述之滾筒硏磨方法,其 中··硏磨槽內的物料的流動控制是藉由加減投入硏磨槽的 工件及/或媒介物的投入量加以控制。 7 ·如申請專利範圍第1項所述之滾筒硏磨方法,其 中:負荷電流値的設定範圍是以預定的時間間隔設定複數 個設定値。 8 ·如申請專利範圍第1項所述之滾筒硏磨方法,其 -21 - (2) (2)200408502 Φ :硏磨槽內的物料的流動控制是以間歇方式進行。 9· 一種滾筒硏磨裝置,其特徵爲:由投入工件及媒 介物的硏磨槽;設在硏磨槽底部,使物料迴旋流動的轉 盤;設定轉盤的驅動馬達的負荷的手段;控制硏磨槽內的 % Μ @流動’使該驅動馬達的負荷維持在設定範圍內的流 動控制手段,所構成。 10·如申請專利範圍第9項所述之滾筒硏磨裝置,其 中··物料的流動控制手段由設在硏磨槽上部的可動手段, 及其昇降機構所構成。 11·如申請專利範圍第9項所述之滾筒硏磨裝置,其 中··物料的流動控制手段由設在硏磨槽上部的可動手段, 及其加壓機構所構成。 12·如申請專利範圍第9項所述之滾筒硏磨裝置,其 + :物料的流動控制手段由設在硏磨槽上部的可膨脹收縮 白勺可'動手段,及其加減壓機構所構成。 13·如申請專利範圍第9項所述之滾筒硏磨裝置,其 Ψ :物料的流動控制手段是控制轉盤的驅動馬達轉速的控 制手段。 14·如申請專利範圍第9項所述之滾筒硏磨裝置,其 中··物料的流動控制手段是控制投入硏磨槽的工件及/或 媒介物的投入量的控制手段。 -22-
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