200405406 (1) ' 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關一供在半導體處理系統之作業空間使用 · 的氣體淸淨化裝置和使用同裝置的半導體處理系統。再 者’在此，半導體處理是指爲了實施在半導體晶圓或LCD 基板等之被處理基板上，利用預定圖案形成半導體層、絕 緣層、導電層等，藉此在該被處理基板上製造半導體裝 置、包括連接在半導體裝置之配線、電極等之構造物的各 鲁 種處理之意。 【先前技術】 於半導體裝置之製造方面，對被處理基板例如半導體 晶圓施行例如成膜處理、鈾刻處理等之各種半導體處理。 實行該等半導體處理之系統是採用例如包括真空處理裝置 等之半導體處理系統。於該種之半導體處理系統方面，例 如針對晶圓在真空環境下進行處理時，先將收容晶匣等之 · 搬運容器的晶圓放入到常壓（大氣壓）的搬送室內。使該晶 圓定位等之後’搬入到加載互鎖真空室內，且加載互鎖真 空室內爲真空環境。其次，經由該加載互鎖真空室、真空 環境下的搬送室而將晶圓搬入到處理室內。然後，於該處 . 理室內，在真空環境下對該晶圓施行預定的處理。 於此種處理系統中，必須針對晶圓有限度的阻止附著 導致良率降低的顆粒等。於是’例如在常壓環境下進行晶 圓搬送等的作業室例如淸淨室、搬送室等的上部’係配設 -5- (2) ' (2) '200405406 淸淨氣體供給裝置（氣體淸淨化裝置）。氣體淸淨化裝置係 具有：送風機、和配設在其下流的氣體過濾部（使用空氣 時作爲空氣過濾部的功能）。藉由氣體淸淨化裝置在室內 . 形成無塵度高的淸淨空氣之往下流動，且在搬送途中的晶 圓表面極力不附著顆粒等。此種技術例如揭示於日本特開 胃 平第11-63604號公報、特願第2002-137644號中。 第1 1圖係表示習知氣體淸淨化裝置之一例的槪略斷 面圖。該裝置係具有：送風機140、和設在該送風機140 φ 之下流的氣體過濾部1 4 1。該裝置係配設在例如處理系統 方面的搬送室等之作業室142上。可是按照本發明人等的 硏究，如後所述，發現於第 Π圖所示之氣體淸淨化裝 置、使用同裝置的處理系統中，會有氣體過濾的性能很不 穩定，氣體過濾壽命短，所形成之氣流的面內均勻性低等 的問題。 【發明內容】 · 本發明係可解決上述之先前技術問題之一點或複數 點，其目的在於提供一供在半導體處理系統之作業空間使 用的氣體淸淨化裝置、和使用同裝置的半導體處理系統。 本發明之第一觀點係爲一供半導體處理系統之作業空 _ 間使用的氣體淸淨化裝置，其特徵爲具備有： 限定與前述作業空間連通之氣體通路的構件； ^ 和輸送配設在前述氣體通路內之氣體的送風機；且前 述送風機係具有針對輸送前述氣體之方向而言，於直角之 -6- (3) (3)200405406 斷面產生面內不均勻之風速分佈的特丨生； 和以位於則述送風機之上流或下流的方式配設在前述 氣體通路內的整流構件；且前述整流構件係具有以補償前 . 述送風機之前述面內不均勻之風速分佈的方式所設定的面 內不均勻之數値口徑’且在此，前述整流構件之數値口徑 低的位置是配合前述送風機之風速高的位置； 和以位於前述送風機及前述整流構件之下流的方式配 設在前述氣體通路內的過濾部；且前述過濾部係具有除去 鲁 前述氣體中之顆粒的功能。 本發明之第二觀點係爲半導體處理系統，其特徵爲具 備有： 欲針對被處理基板施行半導體處理的處理室·， 和限定處理前述被處理基板之作業空間的構件； 和限定與前述作業空間連通之氣體通路的構件； 和輸送配設在前述氣體通路內之氣體的送風機；且前 述送風機係具有對輸送前述氣體之方向而言，於直角之斷 鲁 面產生面內不均勻之風速分佈的特性； 和以位於前述送風機之上流或下流的方式配設在前述 氣體通路內的整流構件；且前述整流構件係具有以補償前 述送風機之前述面內不均勻之風速分佈的方式所設定的面 _ 內不均勻之數値口徑，且在此，前述整流構件之數値口徑 低的位置是配合前述送風機之風速高的位置； 和以位於前述送風機及前述整流構件之下流的方式配 設在前述氣體通路內的過濾、部；且前述過濾、部係具有除去 (4) (4)200405406 前述氣體中之顆粒的功能。 【實施方式】 _ [用以實施發明的最佳形態] 本發明人等’於本發明之開發過程中，針對第丨丨圖 所不的習知氣體淸淨化裝置、使用同一裝置的處理系統之 問題進行硏究。其結果，得到以下的見解。 於第1 1圖所示的裝置中’依賴送風機丨4 〇的特性， 鲁 在送風機140的下流，如箭頭所示，發生面內不均勻的風 速分佈。此種在送風路之斷面的面內不均勻之風速分佈， 特別是送風機140爲螺旋槳式鼓風機的時候，會有顯著呈 現的傾向。該螺旋槳式鼓風機之情形下，會因旋轉葉片的 形狀等而異，但典型上會形成如以下之面內不均勻的風速 分佈。亦即，對應於旋轉葉片之葉片部之區域部分的風速 是最強的。對應於旋轉葉片之中央部之區域部分的風速會 稍微減弱。對應於旋轉葉片之周圍之區域部分的風速會更 肇 弱。 一方面，氣體過濾部141係例如具備除去ULPA (Ultra Low Penetration Air)或 HEPA(High Efficiency Particulate Air)過濾器等之顆粒的顆粒過濾器143。若來 . 自送風機140的空氣以面內不均勻的風速分佈通過顆粒過 濾器1 43，如第12圖所示，於流速較快的部分，顆粒P 易局部性堆積產生堵塞。因此，顆粒過濾器1 43的性能很 不穩定壽命短，不得己要提早更換。而顆粒過濾器143之 -3 * (5) (5) 200405406 下方的風速變得很不均勻的緣故，會引發擾亂作業室142 的氣流。其結果，顆粒P往上揚，作業室1 42內的淸淨度 降低。 而且，氣體過濾部1 4 1也有例如除去有機物等之化學 性污染物質之化學式過濾的情況。此時，於流速較快的部 分會吸附許多有機氣體等之化學性污染物質的緣故，若超 過其吸附容許量的話，有發生化學性污染物質通過之虞。 因此，化學式過濾器的性能很不穩定壽命短，不得己要提 期更換。 於以下針對根據此種見解所構成的本發明之實施形態 參考圖面做明。再者，於以下說明中，於具有略同一功能 及構成的構成要素中，附上同 符號，且只進行需要重複 說明的情形。 第1圖係表示具備有關本發明之實施形態的氣體淸淨 化裝置的半導體處理系統的槪略構成圖。於第1圖中，半 導體處理系統1係作爲所謂的多處理室型之真空處理系統 所構成。處理系統1係具有：一片片收容被處理基板例如 半導體晶圓W並施行預定處理例如成膜處理、蝕刻處理 等之可設在預定之真空度的複數個例如四個的處理室 2a、2b、2c、2d。該些處理室係連接於可設定在預定之真 空度的共通真空搬送室3。真空搬送室3係透過具有可設 定在預定之真空度的加載互鎖功能之加載互鎖真空室 4a、4b，而連接於在常壓（大氣壓）側的作業室的大氣搬送 (6) (6)200405406 真空搬送室3是形成平面略六角形，於其外周的四個 面是透過各個閘型閥 Gl、G2、G3、G4而連接處理室 2a、2b、2c、2d。在大氣搬送室5之外周的其他兩個面是 · 透過各個閘型閥G5、G6而連接作爲搬出、搬入晶圓用之 通路的兩個加載互鎖真空室4a、4b。而在兩加載互鎖真 空室4a、4b是透過閘型閥G7、G8而連接在大氣搬送室 (作業室）5。於真空搬送室3內配設可伸張、昇降及迴旋 的搬送支臂機構6。搬送支臂機構6係供在各加載互鎖真 φ 空室4a、4b及各處理室2a、2b、2c、2d間搬送晶圓 W 而使用。 大氣搬送室5係例如藉由不銹鋼等之金屬製的横長箱 狀框體7所區隔形成。第2圖係表示大氣搬送室5的槪略 立體圖。亦如第2圖所示，在大氣搬送室5的前面部形成 供搬出、搬入晶圓 W之一個或複數個圖示例爲八個搬 入、搬出口 8a、8b、8c。並在大氣搬送室 5的前面部對 應於各搬入、搬出口 8a、8b、8c，而配設著供載置多段 β 收納複數片晶圓之運搬容器的載具（亦稱晶匣）9的載置台 10a、10b、10c。載具9係由在上下方向以預定間隔可收 納13片或25片左右之例如直徑3 00mm之晶圓的容器所 製成。載具9係可形成附有塑膠製蓋體的運搬容器之所謂 . 密閉式載具。於搬入、搬出口 8a、8b、8c係配設用以拆 裝開關門、密閉式載具之蓋體的蓋體拆裝機構等。 ^ 在大氣搬送室5內配設具有搬送晶圓W之搬送支臂 14的搬送機構11。大氣搬送室5爲横長的緣故，搬送機 -10- (7) - (7) -200405406 構11係可沿著延長至長邊方向（左右方向）的導軌12而移 動地配設大氣搬送室5內的中心部。於大氣搬送室5之一 端係配設使晶圓W定位之定位機構的定方位器1 3。搬送 ‘ 機構11係使用於在載置台10a、10b、10c上的載具9、 定方位器13及加載互鎖真空室4a、4b間搬送晶圓W。 在大氣搬送室5之上部係於大氣搬送室5內以圖示例 配設三個欲形成無塵度高的淸淨空氣之往下流動的氣體淸 淨化裝置1 5。第3圖係表示氣體淸淨化裝置1 5之一的斷 φ 面圖。如第8圖所示，氣體淸淨化裝置1 5係具有：送風 機16、和配設在其下流的氣體過濾部17(使用空氣時作爲 空氣過濾的功能），作爲鼓風機、過濾元件所構成。 在送風機1 6和氣體過濾部1 7之間配設欲令因送風機 16之面內不均勻的風速分佈形成面內略均勻之風速分佈 的整流構件1 8。整流構件1 8係設在氣體過濾部1 7之上 流，將來自送風機16之面內不均勻的風速分佈之風力（空 氣流）改善到面內均勻之風速分佈而使其通過氣體過濾部 · 1 7。在送風機1 6和整流構件1 8之間係形成間隙或空間 S a的同時，至少在氣體過濾部1 7和整流構件1 8之間形 成1 mm左右的間隙S b，但在達到風速或風速分佈之面內 均勻化上很理想。 氣體淸淨化裝置1 5係具有筒狀例如角筒狀的外殼 19，且在該外殼19內之上部較好爲上部之中央部安裝送 · 風機16。在外殼19的頂面係於中央形成圓形的通風口 20。在外殼19內的頂面是以與通風口 20連通的方式配設 -11 - (8) (8)200405406 略與其通風口 2 0相同之開口徑的圓筒狀之鼓風機機殼 2 1。送風機1 6主要是由旋轉葉片2 2、和旋轉驅動旋轉葉 片2 2的電動馬達2 3所構成。電動馬達2 3係透過複數根 支持桿2 4而安裝在鼓風機機殼2 1內的略中央部。 氣體過濾部1 7係具有：除去有機物等之化學性污染 物質的化學式過濾器17 a、和除去 ULPA(Ultra Low Penetration Air)或 HEPA(High Efficiency Particulate Air) 過濾器等之顆粒的顆粒過濾器1 7 b。化學式過濾器1 7 a和 φ 顆粒過濾器1 7 b係依序配置在送風方向爲佳。再者，於本 實施形態中，氣體淸淨化裝置1 5係配設在大氣搬送室5 的緣故，顆粒過濾器1 7 b希望使用除去顆徑基準嚴格的 ULPA過濾器。 第7圖係表示化學式過爐器17a之槪略平面圖。如第 7圖所示，化學式過濾器1 7 a係具有蜂窩狀地形成例如吸 附活性碳之吸附劑2 5 a的無機纖維紙的過濾本體2 5。過 濃本體2 5係利用例如金屬製之方形的框體2 6而保持。一 方面，顆粒過濾器1 7b係具有例如第3圖斷面所示之蛇腹 狀地形成無機纖維紙的過濾本體2 7。過濾本體2 7係利用 例如金屬製之方形的框體28而保持。 化學式過濾器17a之框體26及顆粒過濾器17b之框 體28係形成與外殼19略相同口徑，構成外殼19的一部 分。在顆粒過濾器17b的框體28之上載置化學式過濾器 17a的框體26並用螺栓29連結。在外殼19之下部開口 端係形成載載在化學式過濾器17a之框體26上的凸緣 -12- 200405406 Ο) 30。在化學式過濾器17a之框體26上載置外殼19的凸緣 30並用螺栓3 1連結。在化學式過濾器17a的框體26和 外殼19的凸緣3 0之間介設並挾持整流構件1 8的周縁 部。氣體淸淨化裝置1 5係以配設在筒狀之外殼1 9內的狀 態而構成送風機1 6、整流構件1 8及氣體過濾部1 7。 整流構件1 8係具有以補償送風機1 6之面內不均勻的 風速分佈（改善到略均勻的風速分佈）之方式所設定的面內 不均勻之數値口徑。第4圖係表示整流構件1 8的槪略平 面圖。如第4圖所示，整流構件1 8係由全面具有使氣體 通過之複數個開口例如孔32的平板（整流板）33所製成。 孔3 2的尺寸乃如後所述，以整流構件1 8之數値口徑愈低 位置愈小的方式所設定的。整流構件1 8係由在金屬製的 平板開設複數個孔的冲孔金屬板製成爲佳。但是整流構件 1 8也可樹脂製的平板開設複數個孔。於本實施形態中， 整流構件1 8也可稱爲整流板。 具體而言，旋轉葉片型之送風機16係針對氣體輸送 到外殼19內之下流的方向，於直角的斷面具有產生如下 述之面內不均勻的風速分佈之特性。亦即，對應於旋轉葉 片22之葉片部的區域部分之風速是最強的。對應於旋轉 葉片22之中央部的區域部分之風速會稍微減弱。對應於 旋轉葉片22之周圍的區域部分之風速會更弱。 有鑑於此種送風機1 6的特性，在整流構件1 8的平板 3 3以下面形態形成孔。亦即，在對應於旋轉葉片2 2之葉 片部的區域形成複數個小口徑的孔亦即小孔32a。在對應 -13- (10) (10)200405406 於旋轉葉片22之中央部的區域形成複數個稍大口徑的孔 亦即中孔32b。在對應於旋轉葉片22之周圍的區域形成 複數個較大口徑的孔亦即大孔32c。藉此在氣體過濾部 1 7，如第3圖箭頭所示，以面內均勻的風速分佈通過空 氣。因此能防止氣體過濾部1 7的局部性堵塞，還可達到 氣體過濾部1 7之性能的穩定化及延長壽命（耐久性提 局）。 在大氣搬送室5的頂面形成供導入淸淨空氣的開口部 修 3 4。以連通開口部3 4和氣體淸淨化裝置1 5之外殼1 9之 內部的方式在大氣搬送室5的頂面設置氣體淸淨化裝置 15。顆粒過濾器17b的框體28是載置在大氣搬送室5的 頂面並用螺栓3 5連結。藉此，氣體淸淨化裝置1 5會安裝 固定在大氣搬送室5的頂面。 若以上爲要件，有關本實施形態之氣體淸淨化裝置 15係具備有：送風機16、和設在該送風機16之下流的氣 體過濾部1 7，在送風機1 6和氣體過濾部1 7之間，配設 鲁 有欲令利用送風機16之面內不均勻的風速分佈形成面內 略均勻之風速分佈的整流構件1 8。因此能防止氣體過濾 部1 7之局部性堵塞，還可達到氣體過濾部1 7之性能的穩 定化及延長壽命。而且顆粒過濾器17b之下方的風速很均 . 勻緣故，就不會引發擾亂大氣搬送室5的氣流。其結果， 顆粒不易往上揚，就能維持大氣搬送室5內的淸淨度。 氣體過濾部1 7係組合化學式過濾器和顆粒過濾器爲 佳’但任一個均可。例如氣體過濾部只有顆粒過濾器時， -14- (11) ~ (11) ~200405406 於初期不會發生顆粒通過，也不會發生局部性堆積顆粒而 堵塞。因此作爲顆粒過潇器之性能很穩定並可延長壽命、 延長更換時間。而氣體過濾部只有化學式過濾時，有機氣 體等之化學性污染物質會分散而吸附的關係，並無超過吸 附容許量而發生通過化學性污染物質之虞。因此作爲化學 式過濾之性能很穩定並可延長壽命、延長更換時間。 送風機16是由螺旋槳式鼓風機製成的緣故，可達到 與離心鼓風機等之其他鼓風機不同構造的簡單化及裝置小 φ 型化。一方面，螺旋槳式鼓風機易發生之面內不均勻之風 速分佈的問題可經由整流構件1 8而解決。送風機1 6、整 流構件1 8及氣體過濾部1 7是配設在筒狀外殼1 9內的緣 故，裝置可單元化及小型化。因此，可達到對作業室例如 淸淨室、大氣搬送室5等提高安裝性。整流構件1 8係由 具有複數個開口例如孔3 2的平板所製成，對應風速分佈 而改變數値口徑。因此能以簡單的構造將面內不均勻的風 速分佈輕易地改變爲面內略均勻的風速分佈。 · 氣體過濾部1 7係依序在送風方向配置化學式過濾器 17a和顆粒過濾器17b而構成。因此能除去浮遊在空氣中 的化學性污染物質、顆粒而提高無塵度。特別是可用顆粒 過濾器17b來捕捉通過化學式過濾部17a的顆粒。再者， 顆粒過濾器17b可爲ULPA過濾器、HEPA過濾器、或同 樣功能及構造的其他顆粒除去用過濾器之任一者。 而且於有關本發明之實施形態的半導體處理系統（真 空處理系統）1中，在進行晶圓W搬送等之常壓作業室的 -15- (12) (12)200405406 大氣搬送室5之頂面配設氣體淸淨化裝置1 5。因此，能 大氣搬送室5內很穩定的形成無塵度高之淸淨空氣往下流 動。因此可防止在晶圓W之真空處理系統1內附著顆粒 等而提高良率。 第5圖及第6圖係表示可在第3圖所示之氣體淸淨化 裝置15使用的整流構件之變更例18X的槪略平面圖及斷 面圖。有關該變更例之整流構件1 8X也具有以補償送風 機16之面內不均勻之風速分佈（改善到略均勻的風速分佈） 的方式所設定的面內不均勻之數値口徑。但是與第4圖所 示之整流構件1 8相異，該整流構件1 8X是以通過氣體之 孔3 2的密度低的方式設定在整流構件1 8 X的數値口徑低 的位置。爲了滿足該要件，整流構件1 8X係具備有：全 面地均等具有通過氣體之同一尺寸的複數個孔32的平板 (整流板）33X、和對應於整流構件18X的數値口徑而塞住 複數個孔32之一部分的環狀阻板36。 具體而言，於平板33X以8.5mm間距配設多數個例 如直徑2mm的孔32。在該平板33X上利用焊接等安裝內 徑130mm外徑180mm的圓環狀阻板36。 利用如此構成的整流構件1 8X就可用簡單的構造將 面內不均勻的風速分佈輕易地改變爲面內略均勻的風速分 佈。而且藉由具有此種整流構件1 8X的氣體淸淨化裝置 15’也可在半導體處理系統（真空處理系統}1的大氣搬送 室5內很穩定的形成無塵度高的淸淨空氣往下流動。因此 可防止在晶圓W的真空處理系統1內附著顆粒等而提高 -16- (13) (13)200405406 良率。 第8圖係表示有關本發明之其他實施形態的氣體淸淨 化裝置45的槪略線圖。該氣體淸淨化裝置45也可配設在 第1圖所示之處理系統1的大氣搬送室5之頂面而使用。 氣體淸淨化裝置4 5係上流側具有：送風機1 6、整流構件 18X、顆粒過濾器17b及整流構件46，且該些是安裝在外 殻19。送風機16、整流構件18X、顆粒過濾器17b及外 殼19實際上是與參照第1圖至第6圖而描述的對應構件 相同。一方面，配設在最下流的整流構件46係與整流構 件18或18X相異，具有面內均勻的數値口徑。具體而 言，整流構件46係由全面均等地具有通過氣體之相同尺 寸的複數個孔的平板（整流板）所製成。整流構件46係由 在金屬製平板開設複數個孔的冲孔金屬板製成爲佳。 如前所述，顆粒過濾器1 7b係具有例如第8圖斷面所 示蛇腹狀地形成無機纖維紙的過濾本體27。因此，連輸 入到顆粒過濾器17b之空氣的風速分佈也是面內均勻，於 顆粒過濾器17b之輸出可能會發生由於來自過濾本體27 之蛇腹狀之風速分佈很細的不均勻。配設在最下流的整流 構件46係藉由取消此種風速分佈很細的不均勻，就能形 成面內均勻性更高的空氣往下流動。 第9圖係表示有關本發明之另一其他實施形態的氣體 淸淨化裝置5 5的槪略線圖。該氣體淸淨化裝置5 5係供在 例如塗佈光阻劑的系統內形成淸淨空氣往下流動所使用。 氣體淸淨化裝置55係從上流側具有化學式過濾器lh、 -17- 200405406 ' (14) 整流構件18X、送風機16、顆粒過濾器17b，該些是安裝 在外殼1 9。雖然適當設定該些構件的輪廓尺寸，但功能 性上實際是與參照第1圖至第8圖所描述的對應構件相 . 同。 如該實施形態所示，整流構件1 8X(或第4圖所示的 整流構件1 8 )也可配設在送風機1 6的輸入側。此時，可 補償送風機16之面內不均勻的風速分佈而形成略均勻的 風速分佈。 第1 〇圖係表示具備有關本發明之另一其他實施形態 的氣體淸淨化裝置的半導體處理系統的槪略線圖。該半導 體處理系統6 1係在無塵室6 0內更具有形成隔離區分的作 業空間65之隔間頂面62及隔間側壁63。在作業空間65 內配設供對LCD基板或半導體晶圓等施行半導體處理的 處理室66。在隔間頂面62配設在作業空間65內供形成 無塵度高的淸淨空氣往下流動的氣體淸淨化裝置68。更 在隔間側壁63配設一供在作業空間65所使用之後的空氣 參 淸淨化並回到無塵室60內的氣體淸淨化裝置69。 氣體淸淨化裝置68、69基本上可爲與第8圖所示之 氣體淸淨化裝置1 5相同之構造的緣故，以下參照第3圖 至第6圖內的符號做說明。配設在隔間頂面62之氣體淸 . 淨化裝置68的整流構件18或18X(參照第4圖至第6圖 参照）的作用是與氣體淸淨化裝置1 5的情形相同。亦即， 氣體淸淨化裝置68的整流構件18或18X會防止氣體過 濾部1 7的局部性堵塞，且達到氣體過濾部1 7之性能的穩 -18- (15) (15)200405406 定化及延長壽命。而令顆粒過濾器17b之下方的風速均勻 化，不會在作業空間65內引發擾亂氣流。一方面，配設 在隔間側壁63的氣體淸淨化裝置69之整流構件1 8或 18X(參照第4圖至第6圖）的作用會防止氣體過濾部17的 局部性堵塞，且達到氣體過濾部1 7之性能的穩定化及延 長壽命。 以上經由圖面詳述本發明的實施形態，但本發明並不 限於前述實施形態，在不脫離本發明之主旨範圍可做各種 設計變更等。有關本發明的處理系統可爲常壓處理系統。 有關本發明的淸淨空氣供給裝置也可應用於檢查被處理基 板的檢査裝置至檢査室（作業室）。而被處理基板除半導體 晶圓以外可爲 LCD基板、玻璃基板等。整流構件是以在 平板開設複數個孔（開口）爲佳，但也可爲由對應送風機的 風速分佈改變網目之數値口徑的網目織物所製成。 [產業上的可利用性] 若按照有關本發明之實施形態的體淸淨化裝置和使用 同裝置的半導體處理系統，就能解決習知技術之問題，亦 即氣體過濾之性能不穩定、氣體過濾之壽命短、形成的氣 流之面內均勻性低等之問題的一點或複數點。 【圖式簡單說明】 第1圖係表示具備有關本發明之實實施形態的氣體淸 淨化裝置之半導體處理系統的槪略構成圖。 -19- * (16) (16)200405406 第2圖係表示第1圖所示的處理系統的大氣搬送室的 槪略立體圖。 第3圖係表示配設在第2圖所示的大氣搬送室之氣體 、 淸淨化裝置之一的斷面圖。 第4圖係表示第3圖所示的氣體淸淨化裝置之整流構 件的槪略平面圖。 第5圖係表示可在第3圖所示之氣體淸淨化裝置使用 的整流構件之變更例的槪略平面圖。 0 第6圖係第5圖所示之整流構件的斷面圖。 第7圖係表示第3圖所示之氣體淸淨化裝置的化學式 過濾之槪略平面圖。 第8圖係表示有關本發明之其他實施形態的氣體淸淨 化裝置的槪略線圖。 第9圖係表示有關本發明之另一其他實施形態的氣體 淸淨化裝置的槪略線圖。 第1 〇圖係表示具備有關本發明之另一其他實施$ _ β 的氣體淸淨化裝置的半導體處理系統的槪略線圖。 第1 1圖係表示習知之氣體淸淨化裝置之一例@ % 斷面圖。 第1 2圖係表示顆粒過濾器之集塵狀態的槪@ ® · 圖。 【符號說明】 140:送風機 …20- (17) (17)200405406 1 4 1 :氣體過濾部 143:顆粒過濾器 1 4 2 ·.作業室 - 1 :半導體處理系統 2a、2b、2c、2d:處理室 3:真空搬送室 4a、4b:加載互鎖真空室 5:大氣搬送室 9 6:搬送支臂機構
Gl、G2、G3、G4:閘型閥 G 7、G 8 :閘型閥 7:框體 8a、8b、8c:搬入、搬出口 10a、10b、10c:載置台 9:載具 W:晶圓 參 1 4 :搬送支臂 11:搬送機構 1 2 :導軌 1 3 :定方位器 · 1 5 :氣體淸淨化裝置 1 6 :送風機 1 7 :氣體過濾部 1 8 :整流構件 -21 - (18) (18)200405406 1 9 :外殼 2 0 :通風口 2 1 :鼓風機機殼 2 2 :旋轉葉片 2 3 :電動馬達 24:支持桿 17a:化學式過濾器 1 7 b :顆粒過濾器 Φ 2 5 a :吸附劑 2 5 :過濾本體 2 6 :框體 2 7 :過濾本體 28:框體 2 9 :螺栓 3 0 :凸緣 3 1 :螺栓 · 32:孔 33··平板（整流板） 3 2 a :小孑L 3 2 b :中孔 3 2 c :大孔 3 4 :開口部 3 5 ·.螺栓 18X:整流構件 22- (19) (19)200405406 45:氣體淸淨化裝置 4 6 :整流構件 6 1 :半導體處理系統 60:無塵室 65:作業空間 62:隔間頂面 63:隔間側壁 6 6 :處理室 68:氣體淸淨化裝置
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