TW200405405A - Vertical movement substrate processing apparatus and substrate processing system having the same - Google Patents

Description

ZUU4U^4U^ 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 :發明有關基板處理裝置’用以對於半導體⑷晶圓 、液晶玻璃基板、光罩用 皁用破璃基板、先碟用基板等各種基 ’邊使其移動（邊搬運）邊進行既定處理；並關於連 數個處理裝置所構成的基板處理系統。 【先前技術】 ^如，在液晶玻璃基板的製程中，進行顯影液的塗佈 的=、用於剝離光阻膜的剝離液的塗佈 =處理’在各濕式製程處理期間，進行洗淨處理和乾燥 另外，作為用於上述各處理的處理農置，在目前

的：理裝置’係將基板放置於搬運輥上，藉由上述搬運J 將基板沿水平方向搬運㈣其進行處理。此外，也： 為了連續地進行上述各處理，而將各處理裝置加以連接而 構成之圖1 5所示的基板處理系統。 圖15是表^習知例的基板處理㈣的基本構成的 回，如圖15所示，基板處理系統2〇〇由美 、 、基板處理部2G5和基板搬運部21()構成。基板投 排出部201由載置台202和移載裝i 204構成，载置二 202載置收納複數個基板的£ 2Q3，移載裝置_從二 上的"。3的内部’逐片地取出基板，； 入到基板處理部205’從基板處理部2〇5取出已結束處理 200405405 的基板，將其儲存於匣203内。另外，移載裝置2〇4通常 ^幾械手臂（㈣⑷構成，該機械手臂可沿載置台2〇2 = 邊方向移動。 基板處理部205由相互平行地併設的第1處理部 和第2處理部2〇7i£ 2條處理線構成，第i處理部挪牙 第2處理部207如圖16所示，具有分別沿箭頭方向搬運^ 板的棱數個搬運輥208，可藉由搬運輥2〇8，邊 對其進行既定的處理。例如，第】處理部2〇6是== 打蝕刻$理的處理冑，在搬運中的基板上，塗佈蝕刻液。 此外’第、2處理部m由水洗處理部ma和乾燥處理部 〇7b構成’在水洗處理部ma中’將洗淨水供給於基板 ，在乾燥處理部207b中，向基板供給乾燥用氣體。 上述基板搬運部210是將第1處理部m處理過的基 板搬運至帛2處理部m的機構，其包括：方向切換裝置 211，用來切換從第1處理部讓排出的基板的搬運方向， 並對錢行搬運；複數個搬運輥212，用來沿上述排出方 向搬運從方向切換裝署9〗彳 換辰置211排出的基板；及方向切換 213 ’用、來切換㈣運槪212搬運的基板的搬運方向並將該 基板搬運到第2處理部2 〇 7。 、 如圖1 7所示，方& + 4么 向切換凌置211包括：複數個第丨搬 運輥214，用來在盥椹成筮7 + ”楫成弟1處理部2〇6的搬運輥2 搬運面相同的水平面内，沿相同的搬運方向搬運基 昇降器215,設置於第 運報214的搬運面^上下H114之間，用來從第1搬 〇上下方向大出退回；及複數組第2 200405405 搬運輥216，相互對向設置於第丨搬運輥214的上方，具 有與第1搬運輥214的中心軸相垂直的中心軸，以將基板 κ搬運到搬運輥212側。另外，相互對向的第2搬運輥 可沿相互接近/離開的方向移動。另外，在圖中，符號 21 7表示阻止基板κ移動的止動件。 根據方向切換裝置211，藉由第i搬運輥214將從第工 處理部206排出的基板κ沿上述排出方向搬運，直至與止 動件217接觸。此時，昇降器215從第i搬運輕214的搬 運面向下退回。接著，#降器215從第1搬運輕214的搬 運面向上犬出’藉此，使基板K上昇到圖1 7中的2點鏈線 斤丁的位置此日守，帛2搬運親216位於相互離開的位置 :接著1 2搬運輕216移動到相互接近的位置，然後， 昇U15下Ρ牛。藉此’基板Κ處於被第2搬運秦m 6支 樓的狀態，然後，藉由帛2搬運輥216，沿與第丨搬運親 214的搬運方向相垂直的方向、即朝向搬運輥川側搬運 排出基板。這樣，切換了基板κ的搬運方向。 特別是，方向切換裝置213也具備與方向切換裝置 大致相同的構成，用來切換由搬運報2丄2搬運的基板^ 的搬運方向，將其搬運至第2處理部2。7，雖然這一點在 未圖示。 圖15所示，在基板處理系統2 0 0中，第1處理部 土板搬運部21 〇和第2處理部2〇7以俯視呈c字形設 由移載裝i m從£ 203取出的基板κ，首先投入到 第1處理206。接著’邊沿箭頭方向在第1處理部206 200405405 内搬運基S K，邊對該基板進行既定的處理（㈣處理）， 然後，在基板搬運冑210中，切換其搬運方向，並㈣美 板投入至f 2處理部207。而且，邊沿箭頭方向在第：二 理部m内搬運基板κ，邊對該基板進行既定的處理（水^ 處理和乾燥處理），然後，由移載裝置204再次將其儲存於 E 203 内。 【發明内容】 仁是在第1處理部206和第2處理部207中，若在 搬運中’基板K的姿勢發生變化，例如若相對於搬運方向 朝與^相垂直的方向傾斜時，則不能進行精度良好的處理 方、疋’在目丽，如圖16所示，在搬運輥208的兩端部的 幸昆上形成凸㈣2G8a，可藉由凸緣部2G8a對搬運中的基 板,K的姿勢進行控制。該情況對於第1搬運輥214和第土2 運氈216來况，也是相同的。但是，若設置這樣的凸緣 & 08a則凸緣部2〇8a造成妨礙，不能在搬運輥2〇8的 搬運面内，切換基板κ的搬運方向。於是，在上述的方向 ㈣裝置21卜213中’將基板κ±頂昇至凸緣部啊的 上端上方，切換其搬運方向。 另外，由於上述原因，在以使基板Κ #降的方式構成 的基⑽運部21〇巾’不能在該部進行基板κ的處理，因 此士 /、進行基板κ的搬運。即，例如在該部進行基板的洗 守’若使基Κ昇降，則產生使從喷嘴喷射的洗淨液較 200405405 強的部位及不那麼強的部位，洗淨效果產生差異。 因此，在目前的基板處理系統2〇〇中，如上所述，在 基板搬運部210中不對基板κ進行處理，但另一方面，由 於該情況卻產生下列問題。 即，例如，如圖15所示的例那樣，在第i處理部2〇6 ，對基板K進行蝕刻處理後，若未洗淨就對其進行搬運， 則由於送至第2處理部2G7的搬運時間的差異，钮刻進行 的:呈度不Θ，不能高精度卿刻進行控制。由於基板搬 運部210具有由使基板κ昇降的機構及使第2搬運親叫 移動的機構所構成之複雜的動作機構，故很 搬運時間進行控制。 货度地對 二外，例如，在第1處理部的最終步驟為洗淨步 ^ ,月況下，若不進行乾燥地搬運基板κ，則在 生乾燥不均勻的狀態，或產生污點，基板κ成為不良品。 而且，在上述習知的基板處理系統2〇〇中， 方向搬運水平支樓狀態的基Κ，邊㈣刻液:7 : 樣的各種處理液供給至該基板κ，但 平7艳 在乂樣將處理液供給至水平姿勢的基板κ的 在基板Κ的表面上產+卢搜、广&、广、ώ /下’難以 〜 產生處理液的液流，最初供給的處理、為 印召於基Κ的表面上’故難以更換連續供給 ’ 液，另外也存在處理上費時、不能進行均句理斤的處理 。 7處理之問題 善 另方面，右向基板K供給大量的處理 处里液的更換性，但使用大量的處理液， /夜，雖然可改 疋沒有效率的 20040540^ ’另二導致儲存該處理液的容器大型化、裝置大型化。 ,1在上述習知的基板處理系、统測巾，由於平行 地併设第1處理部206和第 弟2處理部207這兩條處理線， 故逖存在裝置的設置效率差的問題。 本發明是針對上述實際情況而開發出的，本發明的目 的在於提供-種基板處理裝置，其具有從其中—條處理線 向另-條處理線搬運基板的功能、且能有效地對搬運中的 基板進行處理；並提供具㈣u㈣板處理系統。

術手段及 用於達成上述目的之本發明有關一種昇降式基板處理 裝置’其特徵在於具備·· 框體狀殼體’係具有上下併設的基板投入口及基板排 出〇 ; 處理機構，係内裝於殼體内；其具有··搬運支樓機構 ，用來收納並支撐從基板投入口搬入的基板，且從基板排 出口排出該基板；支撐架台，用來支撐搬運支撐機構；基 板傾斜機構，用來使被搬運支樓機構支樓的基板傾斜；卩鲁 處理流體喷出機構，設於搬運支撐機構的上方，用來將處 理流體噴到藉基板傾斜機構而傾斜的基板上；及 昇降機構，用來支撐處理機構，並使處理機構沿上下 方向昇降，使處理機構經過基板投入口和基板排出口。 依據上述昇降式基板處理裝置，藉由昇降機構，使處 理機構沿上下方向昇降，經過基板投入口和基板排出口。 而且，當處理機構經過基板投入口時，從基板投入口，收 11 200405405 納自前一步驟的處理部排出的基板並對其進行支撐，按照 移動到基板排出口之前的既定時間，從處理流體喷出機構 ’將處理流體噴出到基板上。藉此，對基板進行既定的處 里在處理後，將其從上述基板排出口排出並搬運到下一 步驟的處理部。另外’在噴出處理流體、進行既定的處理 的期間，透過基板傾斜機構，使基板相對水平面傾斜既定 角度。 這樣，依據該昇降式基板處 一一 w々、Μ Ί又又得

板的搬運支撐機構及將處理流體噴出到受支撐的基板上 處理流體喷出機構所構成的整個處理機構昇#，二在搬 基板時’基板與處理流體喷出機構之間的位置關係不變 因此’例如，在對基板進行洗淨的情況下，可將從處理 體$出機構噴出的洗淨液Α致均勾地供給到基板上的各 分’可進行均勻的洗淨。

另外，由於能以由昇降機構使處理機構昇降的這種 :的動作搬運基板’故其速度控制容易，因此，即使在』 订钱刻等處理的情況下，仍可高精度地對其進行控制。 到：面HI向已傾斜的基板噴出處理流體，故供 1面上的處理流體因基板的傾斜而產… 液級，透過該液流，基板表面上的處理产雕 給的新的處理流體更換。這 ：：：’斤由連續# 用，处丨 透過该處理流體的更換竹 月匕、量的處理流體，在較短 、 表面進行處理。 ’均㈣對基板 還有，近年來，伴隨基板的大型化，存在用於對其進 12 200405405 行處理的處理流體的使用量、處理時間增加的趨勢，μ =所述，；過使基板傾斜’對其進行處理，可減小處理流 ⑱的使用里’達到裝置小型化的目的，可降低處理成本。 在本^明中，在上述處理流體中，包括顯影液、㈣ 液、用於剝離光阻膜的剝離液、洗淨用的洗淨水、乾焊用 的氣體等這些對基板進行處理用的各種流體，可將上述各 種處理流體供給到基板上，對其進行處理。

但是，基板的傾斜角度，係用來控制液流在基板表面 上流下的速度，換言之，用來控制處理液在基板表面上滞 留的時間，在該速度適當時，可獲得所需的處理效果。 按照該含義，在上述處理液喷出機構是以喷出作為處 理流體的姓刻液的方式構成的情況下，藉上述基板傾斜機 構而傾斜的基板，相對於水平面的傾斜角度最好在】。至 7.5。的範圍内(更佳在2。至5。的範圍内）。採用該範圍的原 因在於：若上述傾斜角度超過7_5。，則液流的速度過快，

即，基板表面上的蝕刻液的滯留時間過短，反之，在傾斜 角度不足1。的情況下’液流的速度過慢，即，基板表面的 钮刻液滯留較長時間’在任何一種情況下，均不能充分地 進行處理，蝕刻液的使用量增大。 還有，在上述基板的傾斜角度在〗。至7·5。的範圍内 勺t月;兄下若將其換异為在該基板表面上流下的钱刻液的 加速度，則該加速度是在重力加速度的〇· 〇8倍至〇. 13倍 的範圍内，在更佳的2。至5。的範圍内的情況下，上述蝕刻 液的加速度疋在重力加速度的〇 · Μ倍至〇 ·⑽倍的範圍内 13 200405405 另外，在上述處理流體喰屮 、 贺出機構疋以可喷出作為處理 流體的洗淨液或剝離液的方々 万式構成的情況下，藉上述基板 傾斜機構而傾斜的基板，相對 了 y、水十面的傾斜角度最好在 45。至75。的範圍内（更佳是在5 至70的範圍内）。採用該 範圍的原因在於：若上述傾钭自 、 貝斜角度超過75。，則液流的速 度過快’即’基板表面上的洗參 J况斤液或剝離液的滯留時間過 ^ ’反之’在傾斜角度不足45。的情況下，液流的速度過

慢，即，基板表面的姓刻液滞留較長時間，在任何一種情 況下’均不能充分地進行處理 ^ j处主冼淨液、剝離液的使用量 增大。 主另外，在上述基板的傾斜角度在45。至75。的範圍内的 f月況下’ #將其換异為洗淨液、剝離液在該基板表面上流 I的加速度，則該加速度是在重力加速度的0.7倍至〇.97 勺範圍内，在更佳的5 5。至7 0。的範圍内的情況下，上述 洗淨液、剝離液的加速度是在重力加速度的〇· Μ倍至 〇· 94倍的範圍内。 以使藉處 在與基板 即，在基 匕外’上述處理機構也可以具備擺動機構， 理流體噴出機構而喷出的處理流體的喷出方向， 的傾斜方向平行、且與基板正交的平面内擺動， 板的傾斜的上方和下方之間擺動。 若這樣，當使處理流體的喷出方向朝向基板的傾斜上 方毛b動& ’透過上述擺動，處理流體滯留於基板表面上的 乍用θ大’且當使處理流體的喷出方向朝向基板的傾斜下 14 200405405 =動透過錢動，在基板表面上留下的處理流體的 2度：大，處理液的滞留和流下在整個基板表面反覆地產 、言樣透過„亥作用，可在較短時間内，且以更少量的 處理流體，均句地對整個基板表面進行處理。 另外，該搬運支擇機構，係用來在收納基板後，使所 收納的基板沿基板的搬人/排出方向反覆前後運動。 :上述般’在昇降式基板處理裝置中，可將從處理流 ，贺出機構喷出的處理流體大致均勾地供給到基板上的各 部分上’❻另—方面’存在像在處理流體本身中有例如壓 力較向的部位和較低的部位這樣產生不均勻的情況，但是 在這樣的情況下’不能對基板進行嚴格意義上的均質處理 〇

於疋，如上所述，若沿 納、支撐於搬運支撐機構上 的前後運動，能將碰到基板 化’對基板進行均質的處理 均勻的平均化處理也可透過 動來進行。 該搬入/排出方向反覆地使收 的基板前後運動，則透過基板 的處理流體的壓力不均勻平均 。此外，該處理流體的壓力不 上述處理流體的喷出方向的擺 S另夕卜，上述昇降式基板處理裝置中，該殼體，係被分 二構件〜基板的搬入/排出方向分隔為驅動室和處理室 十2個至，並在具有基板投入口和基板排出口的處理室設 置處理機構，且在驅動室設置昇降機構； 在刀&構件，沿上下方向形成將處理室和驅動室連通 的開口部； 15 为隔構件所形成的開立 別”l * ’開口 °p的沿上下方向的兩緣部，分 別壬同狀，並且在該一對 刀 μ 對各同狀部的相互對向的面上形成 /口上下方向的缺口槽； 取 處理機構的支撐架a， 的、鱼 /、σ精由設於分隔構件的開口部内 的連、、、°具，與昇降機構連結； 在連結具連接有帶狀的片體，其設置 之間’並且設置成朝向連結具的上方和下方延伸，:：: 緣部分別從缺口槽插人筒狀部内； -兩側 而成越動室和處理室係由分隔構件、連結具、及片體分隔 w含的顯影液、㈣液、㈣液等的腐轴 1* 生車父1¾ ’右其附著於昇p备撼播 …力Pr二 則存在該昇降機構損壞 ”力^彳貝的危險。於是，如±所述般，若設有昇 構的驅動室和設有處理機構的處理室透過分隔構件、遠社 具和片體而分隔，則可防止處理室所使用的處理流體^ 驅動室’可防止因虚理、;☆辦 U蜃理机體造成的昇降機構損壞的情、兄 特別是’由於採用下述的所謂迷宮結構，其中，將沿:二 於分隔構件上的開口部的上下方向的緣部形成為筒：者2 且以朝向連結具的上方和下方延伸的方式設置的片體 側緣部’從形成於上述筒狀部的缺口槽中插入該筒狀部内 ，故可使驅動室和處理室這兩者的氣密性提高。 而且，也可設置有複數組上述開口部、連結具和片體 。另外，若設置將上述筒狀部内的氣體棑出的排氣機構， 由於對於從上述片體與缺口槽之間的間隙侵入筒狀部 的 16 200405405 處理流體，可透過上述排氣機構進行排氣，故可更確實地 防止處理流體侵入驅動室。 貝 ▲另外，上述片體可形成無端環狀。另外，也可分別在 该片體的上部側和下部側，設置對片體進行搂取/送出的 捲取/送出機構，隨著藉昇降樯盖 、 一丄 有稭幵降祛構而幵降的片體的運動， 猎由捲取/送出機構對片體進 m 遇可如此般 構成，即，該捲取/送出機構 + 佶Μ π 土 你由捲取片體的捲取軸和 轉的驅動機構構成；驅動機構，係用來在捲取 = '出方向旋轉時’僅使制動力作用於捲取轴，且在使 軸在捲取方向旋轉時，透過摩擦離 給捲取軸。依櫨兮嫉兩/、、，， 叩將動力傳遞 ^ 據 /达出機構，片體不產生穸弛《Τ 將其捲取、送出。 卜座生籑弛，可 再者，該驅動機構，係具有：與 輪；盥你叙各认4t人 卞史、、、口 U文動齒 ^動回輪嚙合之驅動齒輪；與 籬入哭·如# ^ 7功回輪連結之摩捧 …與摩擦離合器連結之旋轉轴；2個單向離入： 分別與旋轉轴的兩端部連結，以容許=向離合裔， 旋轉；滑輪，透迟+ 轉軸僅往一個方向 輪透過其中一個單向離 捲繞於滑輪之偉動由册 與凝轉軸連結； 構件；該2個單向離入… 個早向硪合器之支撐 +勹離合杰，係用來 轴往捲取方向旋轉的方向旋轉，且=轴朝者使捲取 軸往送出方向旋轉的方^絲♦ ^轉轴朝著使捲取 機構而旋動。 、°疋’且傳動皮帶’係藉由昇降 下ϋ:二依據上述結構的昇降式基板處理裝置m 下述基板處理系統， 、置可形成 °亥基板處理系統的結構是：上下併設 17 200405405 f第1基板處理裝置和第2基板處理裝置，係邊以水平狀 態或傾斜狀態移動基板邊對該基板進行處理；將第i基板 處理裳置的基板排出部和昇降式基板處理裝置的基板投入 才連接’將第2基板處理裝置的基板投人部和昇降式基 板處理裝置的基板排出口相連接；使基板依序經過第】^ 板處理裝置、昇降式基板處理裝置、第2基板處理裝置。 ^在同—水平面内併設第1基板處理裝置和第2基板處 理裝置的習知處理系統相比較，設置空間較小。 【貫施方式】 :面根據圖式來說明本發明的具體實施方式。圖丄是 二 :：發明的一個實施方式的基板處理系統 S 2疋其俯視圖。另外，圖3是表 的=基板處理裝置的概略構成的前剖面圖，= 其側剖面圖。另;概略構成的前剖面圖，圖5是 剖面圖，圖7是“3中:沿圖5中的㈣方向的俯視 8是沿圖”的：RV Α方向的俯視剖面圖，圖 是沿圖7中的DD⑽ 向的俯視剖面圖。此外，圖3也 中的DD~DD方向的剖面圖。 :°兒月本例的基板處理系統1的構成。 入/二二本例的基板處理系統1由基板投 板處理袭置7，、 ^ °又的第1基板處理裝置6和第2基 以及昇降式基板處理梦 入/排出部2由〇構成。基板投 。4和移载裝置3構成，該載置台4 18 200405405 者收納複數個基板的£ 5，該移載裝置3逐片地從 产理^置台4上龍5内取出基板，將其投入第1基板 6，且從第2基板處理裝置7取出已處理完成的 2板’將其存放於E 5中。另外’移置3由可沿載置 。，4的長邊方向（箭頭所示方向）移動的機械手臂構成。另 外，匣5透過未圖示的AGV等的搬運裝置搬運。 相對^第1基板處理裝置6在其基板投人側具有使基板 以平狀態傾斜！。至7.5。之角度（在本例中為巧的基 反_'斜機構部’並且還具有以基板繼續傾斜之狀態沿箭頭 所不方向搬運傾斜的基板的傾斜搬運部。另一方面，第2 ，板處理裝置7沿箭頭所示方向依序具有：基板傾斜機構 部’用以接受從昇降式基板處理裝置1Q排出的基板，再使 該基板大幅度傾斜為45。至75。的角度（在本例中為7〇。）； 傾斜搬運部’用來以基板繼續傾斜之狀態沿箭頭所示方向 搬運傾斜的基板；及將傾斜的基板返回水平狀態的傾斜返 回機構部。而且在本財，帛1基板處理裝置以邊搬運基 板邊對基板進行姓刻的方式構成，第2基板處理裝置7以 邊搬運該基板邊對該基板進行洗淨及乾燥的方式構成。 如圖3、圖7及圖8所示，上述昇降式基板處理裝置 1〇由呈框體狀的殼體1卜設置於殼體11内的處理機構20 及昇降機構40等構成。另外，在殼體丨丨中，形成有開口 部Ua和開口部llbl 口部Ua與第i基板處理裝置6 的内部連通，開口冑llb與第2基板處理裝置7的内部連 通。另外’殼體11由支柱12支撐’將殼體u的内部，分 19 200405405 隔為處理室A和驅動室b，在處理室A中設置有處理機構 2 0，在驅動室B中設有昇降機構4 0。 上述處理機構20由蝕刻裝置22和支撐蝕刻裝置22的 支撐架台21構成。蝕刻裝置22如圖4〜圖6所示，包括 •框體狀外殼23 ’其一側面設置有搬入/排出基板&的開 口部23a ;設置於外殼23内部的複數個搬運輥26 ;及設置 於搬運輥26上方的複數個喷嘴29、與設置於搬運輥26的 下方且與複數個噴嘴29相同的複數個喷嘴3〇。 在最接近上述開口部23a的搬運輥26上，設置有夾持 輥27，夾持輥27抵接於搬運輥26的上部，以夹持基板κ ，透過這些搬運輥26和夾持輥27的正反向旋轉，將基板 K從開口部23a搬入，從開口部23a排出。 另外，搬運輥26的旋轉軸263的兩端部以可旋轉的方 工、支姜方、基口 33上，在基台33上設置有導引親34，藉以 限:基板K在與基κ的搬運方向相垂直的方向上移動。 土 〇 33係中央部透過連接構件％可擺動地支撐於支撐 構件35(豎設於外殼23 堝+人姐从 丞。33之一端部則透 朴° 38，與驅動缸37的活塞桿37a卡合，基板33 措此可沿與基板κ的搬運方向相垂直的方向傾斜。 上？:動由油壓缸或氣覆缸構成，透過使其活塞 /、基板K的搬運方向相垂直的方向傾 地使搬運軺9 β 、…措此，同樣 椠26上的基板κ傾斜。 平面的傾钭&曰i 为外基台33相對於水 戶、斜角攻好在1〇至7 + 杜1主U的乾圍内，在本例中，設定 20 ^UU4U5405

汉1 π搬：連季昆 分貫賀29分別固定於盥夫 圖示的姓刻液供給源連接的複數個供給管28上，將從^述 :虫刻液供給源(未圖示)供給至各供給管Μ的姓

=的上面（W。上述供給管28—沿基W 的搬運方向的方式，2個供給管以既定間隔排列成-排， :且供給管28列在以與基…傾斜角相同的角度傾斜 =平面内併設為多列，形成於其兩端部的支撐部

:過：承1〇"皮支撑構件_支樓成可旋轉。而且，各供 ::2?:可藉由擺動装置，繞其轴中心正反向旋轉:、 樣，猎由供給營9βΑΑτΓ~ κ的搬運方向相垂直的平二=轉’各喷嘴29在與基板 刻液的噴射方^在^^^’從各喷嘴^喷射的姓 如圖6和圖9二上:方和下方之間擺動。 達⑴…上述擺動裝置110包括：驅動馬 驅動馬達lu輸出轴⑴a上之旋轉板112;

112中心位置：乂了繞軸中心旋轉的方式豎設於偏離旋轉軸 2内：置的位置；第1驅動轴⑴，其一端設置於外殼 ，“設置於外殼23之外；第2桿115,其以可繞 ，方式豎設於第1旋轉轴114的另-端側外： 邛，弟1連桿i J 6，苴 n -起…固第2驅動轴118，：既定=_2桿:15連接在 ⑽平行的方式 /既&間隔、且與支樓構件 又、冓成上述各列的供給管2 8、2 8之η 的下方位置；複數個第2連桿uw/ 28 28之間 與上述各供认在其一端形成有分別 ” 28的支樓部…卡合的卡合孔117a，在 21 其另一端則突設有卡合軸 11Q 117b，卡合軸117b嵌插於第2 合軸U9a，2卡合孔U8a中；卡合構件119,其具有卡 :合軸119a卡合於各第2驅動軸118中的缺 二：及支撐構件12。，其固接於第】驅動轴 忒為部，用以支撐卡合構件 的（T以士人 稱仵119。另外，圖9是沿圖6 的GG-GG方向的側剖面圖。 出軸、ι:: #驅動馬達111旋轉，則其旋轉驅動力透過輸 出軸111a，傳遞給旋轉板 Μ β 2其奴轉，伴隨旋轉板112

的方疋轉，透過第113、第 第1驅動轴⑴沿並軸線方V: 16和弟2桿115，使 ，芒笛】 ，、軸線方向别後運動(往復運動）。而且 右弟1驅動軸114沿直細飧古△乂从 過軸線方向前後運動’則其動力透 過支撐構件丨2 〇、卡合構件彳 ^ 使第 9，傳遞給第2驅動軸118， 使弟2驅動軸118前後驅動。而 的前後運動，透過第2連：二第2驅動軸118 -χ ^ 與第2驅動軸1 Μ連接 : = 如上述般’沿正反向繞其轴中心旋轉，使固

::動?的各㈣29在與基板“—平面 設置於搬運輥26的下方的卜；十、& t y, 述各贺噶⑽固定於連接 在上核刻液供給源（未圖示）上的複數個 過這些各供給管31 目d上透 , 從上述蝕刻液供給源（未圖示）#終 的蝕刻液朝向基板K的下面噴射。 ㈡丁 Κ、、、，。 板Κ槲，靈士 “， ^射另外’各供給管31沿基 板以運方向併設’透過固定構件⑽ :支樓構件103支樓。另外，在支撐構件m:= ‘測基板](的有無的感測器％。 22 200405405 此外，在上述外殼23的下端部，設置有集液槽24， 集液槽24透過開口部23b相互連通，從各噴嘴29、3〇喷 射的蝕刻液回收於集液槽24，透過排出管25適當地排出 在上述驅動室B内，豎設有支架17，支架17由方管 形成，呈縱向格子狀，在支架丨7上，設置有昇降機構4〇 。另外，支架17透過托架18,安裝於支柱12上。 上述昇降機構40包括：昇降台44，透過連結具55、 56及57 58，與支撐架台21連接；一對導執45，併設於 構成支架17 @縱棧的上述處理室a側的面上；滑動構件 46，以可沿各導執45移動的方式分別與各導執45卡合， 並且固定於昇降台44 ;滾珠螺桿41，以可旋轉且盘導執 ^保持平行的方式支樓於支架17;螺帽^，以與滾珠螺 桿螺合的方式固定於昇降台44;伺服馬達43,固定於 支架17上，用以旋轉、驅動滾珠螺桿41。 若透過上述祠服馬達43使滾珠螺桿41旋轉，則盘盆 =㈣帽42沿滾珠螺桿41移動（昇降），與螺帽42連結 4:卜口 “、透過連結具55、56及57、58連結於昇降台 上的支撐架台21、及支撑於支撐架台； 22三者與螺帽42 —起昇降。 U置 驅動室B和處理室A透過分隔構件以、14 。在分隔構件山、“之間，及分隔構件14、16之門刀： 別形成開口部，以位於各開口部内的方式，分 結具55、5fi β r 、刀別汉置有連 8。另外’形成各開口部的分隔構件 23 ZUU4U^4U^ 1 4的兩側緣部 的各緣部、、形成筒狀，在與其對向的分隔構件 另外，在分隔構^4沿該緣部，分別設置有筒狀構件！3。 的各對向面上二的兩侧緣的筒狀部15與筒狀構件!3 刀別形成沿上下方向的缺口槽。 此外，在μ、+、、 述筒狀構件13二隔構件14的兩側緣的筒狀部15和上 65、66。片體以沿該間隙’分別設置有帶狀的片體 ή 66，係兩側緣分別從上述缺口槽彳#Λ ~ 狀部15、筒狀構件 从 匕插入筒 58從内外面被連結具55、56及5?、

、66的各上端…心下固接於這些構件。而且，片體65 構了〇上。^ = 1 肖部分別捲取於後述的捲取/送出機 適合排氣機構，：::::::1狀_^ 片體65、66採用耐磨性°/广租排出。另外，在本例中， 製的片材。但是，並：对腐錄佳的鐵氟龍(註冊商標） 、’不限於此，可採用例如不銹鋼製的片 材0 这樣’上述驅動室Β和處理室Α實質上透過分隔構件 11&、14、16、筒狀構件 13、13、連結具 55、56、57、58 、片體65、66分隔。 、，還有’如® 7所示，在昇降台44上安裝驅動馬達6〇 ’亚且連接平衡塊5Q。驅動馬達6Q透過托架Μ，固定於 昇降台44上，以透過傳動皮帶61 ’驅動蝕刻裝置22的搬 運軏26。另一方面，平衡塊5〇由導引桿51和本體構 成4導引桿51以與導軌45相平行的方式固定於支架u 上’該本體52以可沿導引桿51移動的方式卡合於導引桿 24 200405405 51，並且卡合於昇降台44。 上述捲取/送出機構70如圖3所示， 的上部和下部這2個部分上，具體來說，如圖δ所支示 捲取轴72、76、與捲取軸72、76這兩者連接的驅動軸η 、驅動驅動軸71的齒輪85等構成。 上述捲取轴72、76分別透過托架75、79可旋轉地被 牙。而且，片體66依序經過以可旋轉的方式支樓於托架 75上的導引輥73、74，其端部捲取於捲取軸72上，片體 65依序經過以可旋轉的方式支撐於托架79上的導引親77 、78 ’其端部捲取於捲取軸76上。 上述齒輪85如圖10所示，固定於轉矩保持器（t〇r轉 啊)86上。旋轉軸81穿過轉矩保持器86，旋轉軸η 由固定於托架84上的轴承9。和單向離合器87支撐。另外 ’在旋轉轴81的端部，透過單向離合器88,固定有滑輪 8〇。此外，齒輪85與固定於驅動 勒軸71上的齒輪89嚙合。 此外，單向離合器87、88具有^ ^ ρ、+、》# + ’限制上述碇轉軸81的旋轉 方向的功能。在本例中，在L ^ , 在叹置於上部的捲取/送出機構 7;的情況下’限制旋轉軸81沿箭頭E方向旋轉，且容許 旋轉軸81沿箭頭F方向旋轉，力％ W在设置於下部的捲取/送出 機構70的情況下，限制旋韓鉍 疋轉軸81沿箭頭F方向旋轉，且 容許旋轉軸81沿箭頭E方向祐結 L . 疑轉。此外，轉矩保持器86 疋所謂的摩擦離合器，其對旋糙 疋轉軸81施加既定的制動力。 另外，如圖3所示’無端狀的傳動皮帶82繞過於上下 設置的上述滑· 80、8G，傳動皮帶82由固接於上述螺帽 25 200405405 42上的保持件83保持。 八 、月/、有上述構成的基板處理系統1的動作。另 ^ 、土板處理裝置1 〇處於圖3中的以實線所示的狀 悲。 將其::d:裝置3，5中’依序取出基板κ ’ 基板處理農置理裝置6。將已投入的基板瓦在第1 内，透過基板傾斜機構部，使基板相對於 (-刻處理;:：：搬運，邊對其進行既定的處理 。 依序將其從第1基板處理裝置6排出 1“二者”已“非出的基板κ依序通過昇降式基板處理裝置 運輕2“二、Γ部1進入㈣裝置22内，在搬 W作用下，搬入内部。 ’預=對Γ:Γ22内的基台33,透過上述挺… 裝置6排心Α _ 7°’㈣斜狀11從第1基板處理 钮刻裝置22 / ^ Κ ’在維持該傾斜狀態的狀態下被搬入 +均冶傾斜方向滑落。而且，— ，'同時，亍㈣理和㈣置二:“㈣入結束 給二源(未圖示)分別向供給管28、31供 …的：；Γ 28上的噴嘴29和設置於供給 行钱刻。另外敍刻液’對基板尺的表面進 ^ Κ的背面噴射韻刻液的原因在於 26 200405405 ，在不這樣的情況下，蝕刻液部分地從基板κ的表面蔓延 ，在該背面上形成污點，透過對整個背面噴蝕刻液，可防 止形成污點。而且，在蝕刻中，透過擺動裝置11〇，使各 供給官28繞其軸中心正反向旋轉，使從各喷嘴29噴射的 蝕刻液的噴射方向在基板κ的傾斜上方和下方之間擺動。 、而且，若進行既定時間的蝕刻，則停止從蝕刻液供給 源（未圖示）供給蝕刻液，並停止因擺動裝置110產生的噴

嘴29的擺動。而且，職刻處理在㈣裝置22下降完成 之前的期間結束。 另方面，蝕刻裝置22的下降是透過昇降機構4〇白 伺服馬，43驅動而進行的。即’若透過祠服馬達a，令 滾朱螺才干41沿下降方向旋轉，則與其螺合的螺帽42沿、巧 珠螺桿41下收 I： ° 4 _ 争，與螺帽42連接的昇降台44、透過連& $ 55、56 及 57、u 咖—曰々 ^ ^ - 一忒幵降台44連接的支撐架台21、 擇於支擇架台支 。 上的钱刻裝置22三者與螺帽42 一起下 若螺帽42 nr π 傳動皮帶82 I則透過保持件83,與螺帽42連結的 56及57、58 ;月’碩C的方向旋動。另外，若連結具55、 方移動，伴隨該1，固定於其上的片體65、66 一起朝向下 ，送出片H 65動’從設置於上部的捲取/送出機構7〇 捲取/送出機構：上將片體65、66捲取於設置於下部的 下面’使用 /送出動作。圖圖1〇來更詳述捲取，送出機構7〇的捲取 回1 0是設置於上部和下部的捲取/送出機構

27 200405405 勺俯視剖面圖。另外，雖然根據圖 .. μ ^ 丁 已說明連結具57 8和片體66，但是，對於連結具55 ，也是相同的。 56和片體65來說 首先，說明設置於上部的捲取/送出機構70。在設置 於上部的捲取/送出機構70中，若 疋、、、口具57、58下隆， 則在片體66上產生張力，對捲取軸 =:轉動力。該旋轉動力依序透過與捲取轴72 驅動軸71、固定於其上的齒輪88、 、夂驻亡本认or 一回輪88嚙合的齒輪 5 女4有回輪8 5的轉矩禪牲哭 q β /曰丄、 ]轉矩保持益86，傳遞給旋轉軸81。 但疋’由於透過單向離人突、07 早。離口裔87,限制旋轉軸81沿箭頭ε 所不的方向旋轉，故阻止相 阻止相@方向的旋轉。藉此，作用於 片體β Θ上的張力逐漸辦大 、 … 斤曰大’傳遞給轉矩保持器86的轉矩 增大。 若作用於齒輪85的μ祐士认 ορ 〇轉矩大於既定的值，則轉矩保持器 8 6容許齒輪8 5沿轉矩作用 1 r A ^ 用方向靛轉。藉此，齒輪85沿箭 頭E所示的方向旋轉，齒於 & ττ _ 輪88、驅動軸71和捲取軸72分 別沿前頭Η所示的方向旋 > π 丄一女 疋轉伙捲取軸72送出片體66。 迫樣，由於在產生既定的 、、 張力的狀態下送出片體66，故在 送出時，不產生鬆他。 另一方面，若伴隨螺 3讲-的技® r 士人’、目42的下降，傳動皮帶82沿圖 3所不的前頭C方向旋榦， ’則滑輪80受到箭頭Ε方向的旋 轉動力’但疋透過介於滑 人-〇〇 A A m 、 輪80和旋轉軸81之間的單向離 ό益8 8的作用’滑輪只η ,,,^ Μ #认 相對旋轉轴81，沿箭頭Ε所示方 向自由旋轉。滑輪80在μ古 〆又有妨礙的情況下，伴隨傳動皮帶 28 200405405 82，沿箭頭E所示的方向旋轉 81沿箭頭E所示方向的旋轉， 方向的旋轉。因此，單向離合 箭頭E所示的方向自由旋轉。 。早向離合器88限制旋轉軸 但是，容許其沿箭頭F所示 器88可相對旋轉軸81，沿 以下說明設置於下

下部的捲取/送出機構7取：达出機構70。在設置东 82沿上述箭w所示方冑42下降，傳動皮禪 示方向的旋轉動力。如上所疋滑輪82受到箭頭μ 出機…情況下1向離二在：置於下部的捲取/这 箭頭F所示方向的旋轉，且容 轉。因此，若滑輪82受到箭頭E 所不方向的知 旋轉…相同方向旋轉。若旋轉轴:向:,旋轉動力’則 ,^ s 1沿箭頭F所+古 向紋轉，則其旋轉動力透過轉矩保持器、I齒輪8… 輪88,傳遞給驅動軸71 " ^ 示方向旋轉，將片㈣捲取於:取

動/本例中’以捲取軸72的捲取速度大於片體66和傳 :82的移動速度的方式，設定捲取轴?2的轴徑、滑 =〇的直徑及齒輪85和齒輪88之間的齒輪傳動比。若捲 二72的捲取速度大於片體66的移動速度，則作用於片 版66的張力逐漸增大，傳遞給轉矩保持器⑽的轉矩增大 如上所述，若作用於齒輪85的轉矩大於既定的值，則轉 =保持器86容許齒輪85沿轉矩作用方向旋轉。藉此，齒 =5與旋轉軸81處於滑移狀態，旋轉軸8ι在沒有妨礙的 兄下，伴fi过滑輪8 〇而沿箭頭E所示方向旋轉。這樣，由 29 200405405 於片體66在產生既定的張力的狀態下捲取，故在捲取時不 產生鬆弛。 $ 如以上詳述般 刻裝置22的下降， 體 65 、 66 〇 若採用本捲取/送出機構7〇，伴隨蝕 可在沒有鬆他的情況下，捲取和送出片 另外，如上所述，若蝕刻裝置22 ^、 直“下降到下降端，則名 m運輥2 6沿排出方向旋轉，將某杯^ … 子暴板開口部23&排出， 攸喊體1 1的開口部1 1 b，將兮其4c; Γ h 將°亥基板U運到第2基板處s

裝置7中。另外，圖3中的2 极处J ”，、fi鍵線表不蝕刻裝置22到a 下降端的狀態。 /置u到4 40的伺服馬達43 透過與上述相反的 的捲取/送出機構 70 ’送出片體65 右基板K的排出完成，則昇降機構 進行驅動，使蝕刻裝置22上昇。此時， 驅動，將片體65、66捲取於設置在下部 70上’從設置於下部的捲取/送出機構 、66 ° 而且，若颠刻裝置22到達

板“說以後的動作。另外；7而，則反覆進行上述 利用平衡塊50減輕作用於二在敍刻裝置22昇降時’ 践I作用於伺服馬達43上的負載。 面，在第2基板處理裝置 機構部使從昇降式㈣處 ’ &基板·

傾斜為70。的角戶，、^ 置1〇排出的基板K更大幅J 板[邊對其進㈣=傾斜狀態下沿箭頭方向搬運』 理後，透㈣钭返Dr 錢處理和乾燦處理^ 第一 返回到水平狀態，然後… 透過移载裝13再㈣存於歴 30 200405405 5内。這樣’在本例的基板處理系統1中，儲存於匿5内： 的基板κ依序經過第】基板處理裝置6、昇降式基板處理 裝置1〇和第2基板處理裝置7’藉此，對其進行既定的處 理’再次將其儲存於匣5的内部。 —如以上詳述般’由於本例的基板處理系统1的結構是 ’第1基板處理裝置6和第2基板處理裝£ 7併設於上下 處’透過昇降式基板處理裝置1G將它們連接，所以盘第】 基板處理裝置6和第2基板處理裝置7併設在同一水平面 内的上述習知的處理系統200相比較，其設置空間可變小 % 月匕有效率地設置該系統。 另外，在本例的昇降式基板處理裝置丨〇中，由於可使 搬運、支擇基板K的搬運親26和向基板κ噴射㈣液的喷 嘴別、30所構成的蝕刻裝置22的整體昇降，故在搬運基 板K時，基板κ與喷嘴29、30的位置關係不變，因此，二 大致均勻地將從噴嘴29、30噴射的蝕刻液供給基板κ的各 部分，藉此，可進行沒有污點的蝕刻處理。 此外，由於以透過昇降機構40使蝕刻裝置22昇降的 % 這種單一動作來搬運基板κ，另外，透過伺服馬達43、滾 珠螺桿41和螺帽42所構成的可進行高精度地控制的機構 ，使該基板Κ昇降，所以可高精度地對其速度進行控制。 還有’由於可相對已傾斜的基板Κ，噴射蝕刻液，故 供給基板Κ表面的蝕刻液，產生因基板κ的傾斜而朝向下 方流動的液流，透過該液流’基板κ表面的蝕刻液逐漸由 繼續供給的新的蝕刻液更換，透過該蝕刻液的更換作用， 31 200405405 以/里的蝕刻液，可在較短時間内，均勻地對基板κ的表 面進行蝕刻處理。 又

再者由於使各喷嘴2 9擺動，可使從這些喷嘴噴射的 =J液的喷射方向在基板的傾斜上方和下方之間擺動，故 當使蝕刻液的噴射方向朝向基板的傾斜上方擺動時，透過 2擺動，使蝕刻液滯留於基板κ的表面上的作用增大，^ 田使蝕刻液的噴射方向朝向基板κ的傾斜下方擺動時，透 l /‘重力在基板Κ白勺表面上流下的钱刻液的速度辦大 她夜的滯留與流下在基板κ的整個表面的範圍内‘覆地 進行，透過該作用，可在較短時間内，以更少量的_液 句勻地對基板κ的整個表面進行钱刻處理。 另外’近年來，伴隨基板大型化，存在著用於對其進 行蝕刻的蝕刻液的使用量 '蝕刻時間增加的㈣，但：， 透過如上述般使基& κ傾斜、對其進行似彳，可減少2 用量，將裝置小型化，可降低處理成本。 '、

上述喷嘴29的擺動角度 内，而且，擺動速度最好為i 至10秒。 ，最好在90。至12〇。的範圍 次，擺動動作的時間為2秒 還有，若#刻液的腐㈣極高，其從#刻裝置22 ，附著於昇降機構40上’則存在該昇降機構4〇損壞：並 使其功能受損的危險。依據本例的昇降式基板處理裝 ，由於透過分隔構件lla、14、16、筒狀構件Η、; 結具 55、56、57、58、片體 65、66 分 刀1同叹置有昇降機構 40的驅動室B和設置有蝕刻裝置22 处理至A，故可防止 32 200405405 特別是由於採用下述的 構對筒狀部15和筒狀構件13D=宮結構，而^排氣相 止餘刻液侵入驅動室B的、内部進打排氣，可確實阴 件Ua、14、16之間所形成；1 °该迷宮結構是，在分隔摘 ^ 々開口部的上下方向的緣部， = 筒狀構件13，並且將固接於連結 w、56及57、58上的月鞅α n

筒狀部15和筒狀構件13上的：σ、:^ 、 J研口槽插入内部。 以上已說明本發明的一個實 的具體態樣不限定於此。 ' ;’但本發明可採用 例如，在上述例中 取/送出機構70捲取 65、66形成無端環狀， 旋動。 配s餘刻裝置2 2的昇降，透過捲 送出片體65、66，但也可將片體 配a蝕刻襞置2 2的昇降，使它們 — 卜在上述例中，在汁降式基板處理裝f 1 〇中是

丁姓刻處理，但也可進行洗淨、剝離處理等其他的處理 :不限定於此。在此情況中’第1基板處理裝置6和第 基板處理7也是同樣的。 此外，在進行洗淨、剝離處理的情況下，藉驅動缸Η 而=斜=基板κ的傾斜角度，最好在45。至75。的範圍内（ 更仫的疋55至70。）。這樣做的原因在於：若傾斜角度超 過75，則液流的速度過快，即，基板Κ表面的洗淨液、 剝離液的滯留時間過短，反之’若傾斜角度不足45。，則 33 200405405 液流的速度過慢，即，、、丰、、致 立 洗淨液、剝離液長時間地滯留於基 板 K上’在上述任一籍抹 種h況下’均不能充分地進行處理， 洗淨液、剝離液的使用量增大。 還有，也可在基板κ的㈣處理中，正反向連續地切 換搬運輕26的旋轉，使得基以沿搬入/排出方向以既定 距離讀運動。若採用此方式，即使在從各喷嘴29、30喷 出的#刻液的噴射詈、哈Μ两、 ▼射里复射壓力不均勻的情況下，透過使 基板Κ前後運動，可使基板κ上面的上述不均句平均化， 可對基板Κ進行均勻的蝕刻處理。 再者，在上述處理機構2G内實施的處理，如上所述， =二刻後的後續步驟，在沒有因㈣液的附著造成的 況下，也可不將上述殼體心分隔為 “口驅動室B’將上述昇降機構4〇換作圖 的昇降機構130。 口 U所不 轉轴^該昇降機構130包括：驅動馬達⑶，」根下側旋 .2祀上川:互千灯地’置’且在其兩端部安裝有鏈輪132 :上側旋轉轴135,分別設置於下側旋轉轴⑶的上方 ’在相同的兩端部上安褒有鏈輪134;傳動轴136 過斜齒輪將驅動馬達131的旋 刀別透 J 33 ·纟γ 傳‘給各下側旋轉軸 3, ^撐敍刻裝置22之支撐架台139;分別固定 12之4個導引板137;複數個輕138， 方 7刀別導引複數個輥138 ; 4根 ，鏈輪—上，，接心:架:=: 34 200405405 ’另一端固接於支撐架台139的下部。 依據該昇降機構13〇，在驅動馬達丨31進行正反向旋 轉τ其疑轉動力透過傳動軸1 3 6，傳遞給各下側旋轉軸 133，分別使各下側旋轉軸133繞軸中心旋轉，伴隨旋轉軸 133的叙轉，透過鏈輪132，使鏈條140旋轉，支撐蝕刻裝 置22的支撐架台139由各導引板137及各輥138導向，朝 上方或下方移動，即，使其昇降。 足锒’依據該昇降機構

比車乂 ’可“結構，可降低其製造成本w 另外，作為採用本發明的昇降式基板處理裝置的基 處理系統的另—態樣，可舉出圖13和圖14所示的類型 二圖Λ3所示’基板處理系 '统150由基板投入/排出裝 乾式處理裝置丨6〇、蝕刻_洗淨裝置工Μ構成。 匣181 ή/:入/排出裝置151由載置收納有複數個基板 Ε 1 81的载置台、 移載裝 2和搬運基板的移載裝置153構成

設置的移#换、以可在軌道154上沿長邊方向移動的方』 移動到3维^手内臂155構成。移載機械手f 155具備1 置於該手臂二狀=意位置的手臂㈣，在將基板， 152上的匣181 ' 進仃下述處理，即，從載置^ 理裝置1 60、鞋幻逐片地取出基板’將其投入到乾式肩 、蛛洗 ，並在乾式處理裝置]fin #出的基板再次儲存Μ⑻内 送基板的處理。' 和⑽1 卜洗淨裝置17G之間進行移 35 200405405 ^㈣式處理裝置⑽針對基板進行去光阻的處理、 成膜處理荨乾式製程。另外 ，，入㈣a 透過自動搬運車⑽ 搬入載置台152上，並從載置台152上搬出。 ，，A |J:先淨4置170如圖14所示，具有框體狀的殼體 八内邛具有劃分形成為基板接收部〗7〗、 運部172、姓刻部173、λ 降搬 基板上汁搬運部174、基板乾燥部 反推出冑176等所構成的複數個區域，透過移载 參 155將基板搬入基板接收部m，從基板推出部 1 7 6將基板排出。 上述基板接收部171、基板下降搬運部172、钱刻部 八基板上汁搬運部174、基板乾燥冑175及基板推出部 7刀別具有圖16所示之複數個搬運輥208，搬入基板接 =則基板透過搬運謂沿箭頭所示方向搬運，依 、、工、過基板下降搬運部172、㈣部173、基板上昇搬運部 4、基板乾燥# 175，搬運給基板推出部176。 、、述基板下降搬運部172及基板上昇搬運部⑺具有 與上述的昇降式基板處理裝置10大致相同的結構。而且， 在蝕刻-洗淨裝詈】7n + i f u中，在基板下降搬運部1 72及蝕刻部 中進订姓刻處理’在基板上昇搬運部1 74中進行洗淨 处理，在基板乾燥部175中進行乾燥處理。 【圖式簡單說明】 (一）圖式部分 圖1疋表不本發明的一個實施方式的基板處理系统的 36 200405405 概略構成的前視圖。 圖2是表示本實施方式的基板處理系統的概略構成的 俯視圖。 圖3是表示本實施方式的昇降式基板處理裝置的概略 構成的前剖面圖。 圖4是表示本實施方式的蝕刻裝置的概略構成的前剖 圖5是表示本實施方式的蝕刻裝置的概略構成的側剖 面圖。 圖6是沿圖5中的cc-cc方向的俯視剖面圖。 圖7是沿圖3中的AA-AA方向的俯視剖面圖。 圖8是沿圖3中的BB_BB方向的俯視剖面圖。 圖9是沿圖6中的gg-GG方向的側剖面圖。 圖1〇是本實施方式的捲取/送出機構的俯視剖面圖。 圖11是表示本發明的其他實施方式的昇降機構的概略 構成的前剖面圖。 圖12是沿圖U中的EE_EE方向的俯視剖面圖。 圖13是表示本發明的其他實施方式的基板處理系統的 概略構成的俯視圖。 圖14是沿圖13中的FF方向的側視圖。 圖15疋表不習知例的基板處理系統的概略構成的俯視 圖。 圖16是表示習知例的搬運輥的前視圖。 圖Π是表示習知例的方向切換裝置的概略構成的示意 37 200405405 圖 (二）元件代表符號 1 基板處理系統 2 基板投入/排出部 5 匣 6 第1基板處理裝置 7 第2基板處理裝置 10 昇降式基板處理裝置 11a 、14、16 分隔構件 13 筒狀構件 15 筒狀部 20 處理機構 21 支撐架台 22 蝕刻裝置 26 搬運輥 29 ^ 30 喷嘴 33 基台 37 驅動缸 40 昇降機構 41 滾珠螺桿 42 螺帽 43 伺服馬達 65、 66片體 70 捲取/送出機構 72、 76捲取軸 80 滑輪 82 傳動皮帶 85 ^ 80 齒輪 87、 88單向離合器 86 轉矩保持器 110 搖動裝置 114 移動軸 117 第2連桿 118 第2驅動軸 119 卡合構件。

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Claims (1)

1. 200405405 拾、申請專利範圍： 1.-種昇降式基板處理裝置，其特徵在於具備： 框體狀殼體，係具有上下併設的基板投入口及基板排 出口； 處理機構，係内裝於轉辨m U Ώ丄 、双體内，其具有：搬運支撐機構 ，用來收納並支撐從基板投入舻 双仅八口搬入的基板，且從基板排 出口排出忒基’支撐架台，用來支撐搬運支撐機構；基 板傾斜機構’用來使被搬運切機構支撐的基板傾斜；及

   處理流體喷出機構，設於搬運去 做逆叉棕機構的上方，用來將處 理流體噴到藉基板傾斜機構施以傾斜的基板上；及 升降機才冓用來支撐處理機構，並使處理機構沿上下 方向昇降，使處理機構經過基板投入口和基板排出口。 2·如申清專利範圍第1工盲 显 步1貝之幵降式基板處理裴置，其 中，該處理流體喷出機構，係用來 ’、 、· 丹货用不嘴出作為處理流體的蝕 刻液；該基板傾斜機構，传用才w杰甘 #知用來使基板以相對於水平面成 1°至7· 5°範圍内的角度傾斜。

   3·如申請專利範圍第1項之昇降式基板處理褒置， 中，該處理流體喷出機構，係用來喷出作為^流體^ 刻液，该基板傾斜機構，係用來使基板傾斜成，>其板十 斜方向流動的處理流體的加速度在重力加速二 0.13倍的範圍内。 · 4.如申請專利範圍第！項之昇降式基板處理穿置，』 中’該處理流體噴出機構，係用來喷出作為處理流體的;; 淨液或剝m基板傾斜機構，係使基板^目對於水号 39 200405405 面成45。至75。範圍内的角度傾斜。 5.如申請專利範圍第】項之昇降式基板處理裝置，盆 中，該處理流體喷出機構，係用來喷出作為處理流^ 淨液或剝離液；該基板傾斜機構，係用來使基板傾斜成/ 沿基板傾斜方向流動的處理流體的加速度在重速= 0.7倍至0.97倍的範圍内。 逆度的 6.?請專利範圍第】項之昇降式基板 中，該處理機構，係具備擺動機構，以 出、 機構而喷出的處理流體的噴出方向，在 ：⑽ 平行、且與基板正交的平面内擺動。—1斜方向 7二"專利範圍第^項之昇降式基板 中，該搬運支撐機構，係用 衣置其 基板沿基板的搬入/排出…：、，内基板後’使所收納的 /那出方向反覆前後運動。 8 ·如申請專利筋囹势 中，兮M俨孫 〗之昇降式基板處理裝置 宁孩叙體，係被分隔構件，、、从 其 隔為驅動室和處理室’ /口土 、^入/排出方向分 也#山 十2個室，並在具有基板投入口夺 板排出口的處理室設置 和基 構； 置處理機構，且在驅動室設置昇降機 在分隔構件，沿上 的開口部； 下方向形成將處理室和驅動室連通 分隔構件所形成的 別呈筒狀，並且在該一;:：的沿上下方向的兩緣部，分 沿上下方向的缺口槽；對各同狀部的相互對向的面上形成 處理機構的支撐架 係糟由設於分隔構件的開口立 XJt\^ 200405405 内的連結具，與昇降機構連結； 在連結具連接有帶狀的片體，其設置於該_ 之間，並且設置成朝向連結且 。狀D 日〕上方和下方延伸，发 緣部分別從缺口槽插入筒狀部内； 一 > 驅動室和處理室得由八 而成。 至係由刀隔構件、連結具、及片體分p, 9. 如申請專利範圍第8項之昇降式基板處理裝 設置有複數組開口部、連結具、及片體。 ’、 10. 如申請專利範圍第8項之昇降式基板處理裳置 具有排出筒狀部内的氣體的排氣機構。 ’、 11. 如申請專利範圍第8項之昇降式基板處理裝置，盆 中，該片體形成為無端環狀。 /、 12. 如申請專利範圍第8項之昇降式基板處理裝置，並 中2別在σ亥片體的上部側和下部側，設置對片體進行捲 取/运出的捲取/送出機構，隨著藉昇降機構*昇降的片 體的運動，猎由捲取/送出機構對片體進行捲取/送出。 13·如申請專利範圍第12項之昇降式基板處理裝置， 其中’ β捲取/ $出機構’係、由捲取片體的捲取軸和使捲 取軸旋轉的驅動機構構成； 驅動機構，倍用办^ 、 末在捲取軸往送出方向旋轉時，僅使 制動力作用於捲取紅，D ^ i 且在使捲取軸往播取方向旋轉時， 透過摩擦離合器，將動力傳遞給捲取軸。 ， η.如申請專利範圍第13項之昇降式基板處理裳置， 其中’該驅動機構係具有：與捲取軸連結之從動窗輪；與 41 200405405 從動齒輪喻人$ σ之驅動齒輪；與驅動齒輪連結 ’·與摩擦離合哭瑱砝夕7手擦離合器 °。連疋轉軸；2個單向離合器，分別盥 方疋轉軸的兩端卹、击& 刀別與 滑輪，透過复中袖^ # u万向叔轉，· 一中一個早向離合器，與旋轉軸連 滑輪之傳動皮帶·力埂、，。，捲繞於 ，及支撐另一個單向離合器之支撐構件· 捲取係料㈣㈣著使捲取轴往往 往送出方向==制旋轉軸朝著使搂-往 傳動皮帶’係藉由昇降機構而旋動。 15. —種基板處理系統，其特徵在於·· 具備申請專利範圍第i項之昇降式基板處理襄置； 〃上下併設有第！基板處理裝置和第2基板處理裳置， 係邊以水平狀態或傾斜狀態移動基板邊對該基板進行處理 J :::丨基板處理裝置的基板排出部和昇降式基板處理 衣置的基板投入口相連接，· 將第2基板處理裝置的基板投入部和昇降式基板處理 I置的基板排出口相連接； 使基板依序經過第i基板處理裝置、昇降式基板處理 裝置、第2基板處理裝置。 拾壹、圖式： 如次頁 42