CN104076622A - 一种显影装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显影装置，属于显示技术领域，其可解决现有的大尺寸基板显影工艺中不同位置的显影图形差异的问题。本发明的显影装置能够使由于基板的在显影工艺中能至少进行一次交互倾斜运动，使基板的不同位置得到均匀的显影处理，形成均匀的图形；同时，自由调节交互倾斜运动的角度，可以及时地去除显影残渣，提升显影的速度和质量。

Description

一种显影装置

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示面板、显示装置。

背景技术

光刻和显影是半导体制造产业中必不可少的工艺，特别是在液晶显示器的制造过程中更是离不开显影工艺。在玻璃基板上经过光刻工艺，刻蚀出的图形必须经过显影工艺才可以显现出来。因此，显影工艺直接决定液晶显示器的质量。

如图1所示，现有技术的显影装置包括：与水平方向成一定角度(图中β)设置的基台1，设置在基台1上方设有传送单元4，所述的输送单元4用于将待显影的基板5输送(输送方向为图1中y轴所示的方向)至预定的显影位置；设置在显影位置上方的显影液喷洒单元6，其用于对处于显影位置的待显影的基板5进行显影；影液喷洒单元6还包括支撑梁63，其用于支撑影液喷洒单元6。

大尺寸的基板5在单侧倾斜(如图1中左侧低右侧高，或相反)的状态下进行显影工艺就会产生如下问题：

例如，8.5代线的基板的规格为2.5m×2.2m，图1中位于基板5上侧B点和下侧的A点的之间的距离为2m左右，显影液喷洒单元6在A处和B处同时均匀喷出同量的显影液。A点的显影液在显影后会带着显影掉的光刻胶流经B点，从而稀释B点的显影液浓度。A点和B点显影后的光刻图形的尺寸会存在差异，差异最大值可以达到1um，从而导致大尺寸基板5的上、下侧的图形存在差异。

因此，改善显影液的分布均匀性直接基板的显影的质量，同时，也间接影响到液晶显示器的质量。

发明内容

本发明的目的是解决现有技术的大尺寸基板显影工艺中不同位置的显影图形差异的问题，提供一种能提高大尺寸基板显影图形均匀性的显影装置。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显影装置，其包括：基台和在该基台上设置的升降单元，所述的升降单元上设置有承载单元，所述承载单元上设有输送单元，所述的输送单元用于将待显影的基板输送至预定的显影位置；所述承载单元与所述基板传送方向平行的两侧与所述升降单元连接；在所述显影位置的上方设有显影液喷洒单元，用于将显影液喷洒至基板进行显影；

所述升降单元能够使所述基板的与其输送方向平行的两侧中的一侧相对于另一侧至少进行一次交互倾斜运动。

优选的是，所述交互倾斜运动为间歇性交互倾斜运动。

优选的是，所述的交互倾斜运动的倾斜角为α，其中，α的范围为0-30°。

优选的是，所述显影液喷洒单元能与所述基板的倾斜相匹配。

优选的是，所述显影液喷洒单元，包括喷头部件和与该喷头部件连接用于所述喷头部件旋转和倾斜的旋转部件。

优选的是，所述的喷头部件具有网格状分布的喷头。

优选的是，还包括设置于所述基台上的位置检测单元，所述位置检测单元用于监测基板的倾斜状态。

优选的是，还包括控制单元，所述的控制单元用于接收所述位置检测单元传送的基板的倾斜状态的数据，并计算所述基板是否倾斜至预定角度；并根据计算结果向所述的升降单元发出倾斜控制信号。

优选的是，所述的升降单元包括与所述承载单元的与所述基板传送方向平行的两侧连接的气缸或液压缸；所述气缸或液压缸在所述控制单元的控制下能带动所述基板倾斜。

优选的是，所述的输送单元包括与基板接触的摩擦件，所述的摩擦件具有与所述的倾斜角相匹配的摩擦系数。

本发明的显影装置能够使由于基板的在显影工艺中能至少进行一次交互倾斜运动，因而可以使基板的不同位置得到均匀的显影处理，从而形成均匀的图形；同时，由于可以自由调节交互倾斜运动的角度，因而可以及时地去除显影残渣，从而提升显影的速度和质量。

附图说明

图1为现有技术中显影装置的结构示意图。

图2为本发明实施例1中显影装置的结构示意图。

其中：

1.基台；2.升降单元；3.承载单元；4.输送单元；5.基板；6.显影液喷洒单元；61.喷头部件；62.旋转部件；63.支撑梁；7.控制单元；8.位置检测单元。

A、B为：位于基板上的两个点。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

实施例1

如图2所示，本实施例提供一种显影装置，包括：基台1和在该基台1上设置的升降单元2，升降单元2上设置有承载单元3，承载单元3上设有输送单元4，输送单元4用于将待显影的基板5输送至预定的显影位置；在显影位置的上方设有显影液喷洒单元6，用于将显影液喷洒至基板5进行显影；承载单元3与基板5传送方向平行的两侧与升降单元2连接；升降单元2能够使基板5的与其输送方向平行的两侧中的一侧相对于另一侧至少进行一次交互倾斜运动。也就是说，在显影时某一时刻图2中基板5的右侧高于左侧，另一时刻基板5的左侧高于右侧。

由于本实施例的显影装置的升降单元5可以使基板5的在显影工艺中能至少进行一次交互倾斜运动，故相对于现有技术中的显影装置尽可以使基板5单侧倾斜，本实施例中的交互倾斜运动可以使基板5的不同位置得到均匀的显影处理，形成均匀的图形。

优选的，交互倾斜运动为间歇性交互倾斜运动。这样使基板5在显影工艺中进行多次交互倾斜运动，使基板5的显影更加均匀，间歇性交互倾斜运动的间隙的时间可以根据具体的显影应用选择，在此不作限定。

优选的，交互倾斜运动的倾斜角为α(图2中所示)，其中，α的范围为0-30°。应当理解的是，自由调节交互倾斜运动的角度，可以及时地去除显影残渣，提升显影的速度和质量。

优选的，显影液喷洒单元6能与基板5的倾斜相匹配。这样显影液喷洒单元6能够更加均匀的将显影液喷洒至基板5上，使基板5的不同位置的得到均匀的显影处理。具体地，显影液喷洒单元6的喷头所在的平面与基板5的平面平行。

优选的，显影液喷洒单元6包括喷头部件61和与该喷头部件61连接用于喷头部件61旋转和倾斜的旋转部件62。具体地，喷头部件62具有网格状分布的喷头(图2中示出部分)，这样更有利显影液的均匀喷洒；显影液喷洒单元6还包括支撑梁63，用于支撑旋转部件62。

优选的，显影装置还包括设置于基台1上的位置检测单元8，位置检测单元8用于监测基板5的倾斜状态。具体地，位置检测单元8可以设置在基板5的与其输送方向平行的两侧的位置。应当理解的是，位置检测单元8可以包括位置传感器，具体类型在此不作限定。

优选的，显影装置还包括控制单元7，控制单元7用于接收位置检测单元8传送的基板5的倾斜状态的数据，并计算基板5是否倾斜至预定角度；并根据计算结果向升降单元2发出倾斜控制信号。控制单元7与升降单元2和位置检测单元8通过电缆连接，分别用于控制单元7与升降单元2和位置检测单元8的信息交流。

具体地，控制单元7包括可编程逻辑控制器或计算机，在此不作限定。

优选的，升降单元2包括与承载单元的与基板传送方向平行的两侧连接的气缸或液压缸；气缸或液压缸在控制单元7的控制下能带动基板5倾斜。具体地，控制单元7根据位置检测单元8检测的信号，计算基板5的倾斜角度，若没有达到倾斜角度，则使与基板5上侧同侧的气缸或液压缸加压，或使与基板5下侧同侧的气缸或液压缸减压；若需交互倾斜，则使与基板5上侧同侧的气缸或液压缸减压，或使与基板5下侧同侧的气缸或液压缸加压。应当理解的是，升降单元2还包括是电机驱动的能实现升降机构，在此不作限定。

优选的，输送单元包括与基板5接触的摩擦件(图2中未示出)，摩擦件具有与倾斜角相匹配的摩擦系数。应当理解的是，交互倾斜运动的倾斜角与摩擦件的摩擦系数是相匹配的，倾斜角越大摩擦件的摩擦系数也要增大，防止在基板5进行交互倾斜运动时，基板5与输送单元发生相对位移，影响显影液的喷洒。摩擦件可以采用现有技术中的具有高摩擦系数结构或材料。例如，摩擦件可以是吸盘等。

下面介绍本实施的显影装置工作流程：

在输送单元4将待显影的基板5沿y轴方向输送至显影位置，位置传感器8检测基板5左、右两侧的位置，并将信号传送给控制单元7，控制单元7根据预先确定的倾斜角度，例如倾斜5°，即B点位于高位，A点位于低位；向位于左侧的气缸发出放气的命令和/或向位于右侧的气缸发出充气的命令，承载单元3带动基板5倾斜，直到基板5倾斜至5°；接着，PLC控制器7控制单元7向显影液喷洒单元6发送倾斜的信号，使旋转部件62带动喷头部件61倾斜至与基板5所在的平面平行，然后控制显影液喷洒单元6喷洒显影液；如图2所示，此时B点比A点显影充分。

经过预先设定的时间间隔，将基板5调节至水平，及倾斜角为0°，进行水洗。

经过预先设定的时间间隔，进行交互倾斜运动，即A点位于高位，B点位于低位；向位于右侧的气缸发出放气的命令和/或向位于左侧的气缸发出充气的命令，承载单元3带动基板5倾斜，直到基板5倾斜至5°；接着，控制单元7向显影液喷洒单元6发送倾斜的信号，使旋转部件62带动喷头部件61倾斜至与基板5所在的平面平行，然后控制显影液喷洒单元6喷洒显影液；如图2所示，此时A点比B点显影充分，这样经过一次交互倾斜运动使A点和B点显影均匀，整个基板5的图形更加均匀。

本实施例的显影装置能够使由于基板的在显影工艺中能至少进行一次交互倾斜运动，使基板的不同位置得到均匀的显影处理，形成均匀的图形；同时，自由调节交互倾斜运动的角度，可以及时地去除显影残渣，提升显影的速度和质量。

可以理解的是，上述的显影装置结构，也可以应用于清洗工艺、涂布工艺等显示器制造工艺中，只需将显影液更换为相应的溶液即可。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显影装置，其特征在于，包括：基台和在该基台上设置的升降单元，所述的升降单元上设置有承载单元，所述承载单元上设有输送单元，所述的输送单元用于将待显影的基板输送至预定的显影位置；所述承载单元与所述基板传送方向平行的两侧与所述升降单元连接；在所述显影位置的上方设有显影液喷洒单元，用于将显影液喷洒至基板进行显影；

所述升降单元能够使所述基板的与其输送方向平行的两侧中的一侧相对于另一侧至少进行一次交互倾斜运动。

2.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述交互倾斜运动为间歇性交互倾斜运动。

3.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述的交互倾斜运动的倾斜角为α，其中，α的范围为0-30°。

4.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述显影液喷洒单元能与所述基板的倾斜相匹配。

5.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述显影液喷洒单元，包括喷头部件和与该喷头部件连接用于所述喷头部件旋转和倾斜的旋转部件。

6.如权利要求5所述的显影装置，其特征在于，所述的喷头部件具有网格状分布的喷头。

7.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，还包括设置于所述基台上的位置检测单元，所述位置检测单元用于监测基板的倾斜状态。

8.如权利要求7所述的显影装置，其特征在于，还包括控制单元，所述的控制单元用于接收所述位置检测单元传送的基板的倾斜状态的数据，并计算所述基板是否倾斜至预定角度；并根据计算结果向所述的升降单元发出倾斜控制信号。

9.如权利要求8所述的显影装置，其特征在于，所述升降单元包括与所述承载单元的与所述基板传送方向平行的两侧连接的气缸或液压缸；所述气缸或液压缸在所述控制单元的控制下能带动所述基板倾斜。

10.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述的输送单元包括与基板接触的摩擦件，所述的摩擦件具有与所述的倾斜角相匹配的摩擦系数。