[go: up one dir, main page]

RU2015120001A - Carousel type installation for magnetron sputtering of multilayer coatings and a method of magnetron sputtering of equal thickness nanocoating - Google Patents

Carousel type installation for magnetron sputtering of multilayer coatings and a method of magnetron sputtering of equal thickness nanocoating Download PDF

Info

Publication number
RU2015120001A
RU2015120001A RU2015120001A RU2015120001A RU2015120001A RU 2015120001 A RU2015120001 A RU 2015120001A RU 2015120001 A RU2015120001 A RU 2015120001A RU 2015120001 A RU2015120001 A RU 2015120001A RU 2015120001 A RU2015120001 A RU 2015120001A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
carrier
rotation
magnetron
satellites
gear
Prior art date
Application number
RU2015120001A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2606363C2 (en
Inventor
Сергей Борисович Одиноков
Гайк Рафаэлович Сагателян
Алексей Станиславович Кузнецов
Михаил Сергеевич Ковалев
Екатерина Андреевна Дроздова
Андрей Владимирович Шишлов
Павел Сергеевич Демидов
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана" (МГТУ им. Н.Э. Баумана)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана" (МГТУ им. Н.Э. Баумана) filed Critical Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана" (МГТУ им. Н.Э. Баумана)
Priority to RU2015120001A priority Critical patent/RU2606363C2/en
Publication of RU2015120001A publication Critical patent/RU2015120001A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2606363C2 publication Critical patent/RU2606363C2/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

1. Установка карусельного типа для магнетронного напыления многослойных покрытий, содержащая вакуумную камеру, в центральной части которой установлен карусельный планетарный механизм с сателлитами для планетарного движения напыляемых деталей на сателлитах, дуальную магнетронную систему, состоящую из двух магнетронов, симметрично наклонно расположенных к фронтальной плоскости вакуумной камеры и направленных своими мишенями в сторону планетарного механизма, отличающаяся тем, что содержит дополнительный единичный магнетрон, установленный сбоку от дуальной магнетронной системы таким образом, что плоскость его мишени перпендикулярна фронтальной плоскости камеры, а плоскость симметрии мишени проходит через центр вращения карусели; карусельный планетарный механизм имеет возможность независимого реверсирования направлений вращения водила планетарного механизма и его сателлитов, несущих напыляемые детали, и изменения соотношения между угловыми скоростями вращения водила и сателлитов за счет наличия независимых приводов, сообщающих независимые по направлению и соотношению величин вращательные движения водилу и внутреннему зубчатому колесу планетарного механизма, предназначенному для вращения сателлитов с напыляемыми деталями.2. Способ магнетронного напыления равнотолщинного покрытия, содержащий два перехода с последовательным нанесением на плоскую поверхность детали двух слоев покрытия с комплементарными профилями слоев, которые при наложении друг на друга дают результирующее равнотолщинное покрытие, отличающийся тем, что используют установку по п. 1; один комплементарный профиль слоя1. Carousel-type apparatus for magnetron sputtering of multilayer coatings, containing a vacuum chamber, in the central part of which there is a planetary carousel gear with satellites for planetary motion of the sprayed parts on the satellites, a dual magnetron system consisting of two magnetrons, symmetrically inclined to the frontal plane of the vacuum chamber and directed by their targets towards the planetary mechanism, characterized in that it contains an additional single magnetron, setting enny side of the dual magnetron system in such a way that its plane of the target is perpendicular to the front plane of the camera and the target plane of symmetry passes through the center of rotation of the carousel; carousel planetary gear has the ability to independently reverse the directions of rotation of the carrier of the planetary gear and its satellites carrying sprayed parts, and changes in the ratio between the angular velocities of rotation of the carrier and satellites due to the presence of independent drives communicating rotational movements independent to the direction and ratio of values to the carrier and the internal gear planetary gear designed to rotate satellites with sprayed parts. 2. Method of magnetron sputtering of an equal thickness coating, comprising two transitions with successive deposition of two coating layers with complementary layer profiles on a flat surface of a part, which when applied to each other produce a resulting equal thickness coating, characterized in that the apparatus according to claim 1 is used; one complementary layer profile

Claims (3)

1. Установка карусельного типа для магнетронного напыления многослойных покрытий, содержащая вакуумную камеру, в центральной части которой установлен карусельный планетарный механизм с сателлитами для планетарного движения напыляемых деталей на сателлитах, дуальную магнетронную систему, состоящую из двух магнетронов, симметрично наклонно расположенных к фронтальной плоскости вакуумной камеры и направленных своими мишенями в сторону планетарного механизма, отличающаяся тем, что содержит дополнительный единичный магнетрон, установленный сбоку от дуальной магнетронной системы таким образом, что плоскость его мишени перпендикулярна фронтальной плоскости камеры, а плоскость симметрии мишени проходит через центр вращения карусели; карусельный планетарный механизм имеет возможность независимого реверсирования направлений вращения водила планетарного механизма и его сателлитов, несущих напыляемые детали, и изменения соотношения между угловыми скоростями вращения водила и сателлитов за счет наличия независимых приводов, сообщающих независимые по направлению и соотношению величин вращательные движения водилу и внутреннему зубчатому колесу планетарного механизма, предназначенному для вращения сателлитов с напыляемыми деталями.1. Carousel-type apparatus for magnetron sputtering of multilayer coatings, containing a vacuum chamber, in the central part of which there is a planetary carousel gear with satellites for planetary motion of the sprayed parts on the satellites, a dual magnetron system consisting of two magnetrons, symmetrically inclined to the frontal plane of the vacuum chamber and directed by their targets towards the planetary mechanism, characterized in that it contains an additional single magnetron, setting enny side of the dual magnetron system in such a way that its plane of the target is perpendicular to the front plane of the camera and the target plane of symmetry passes through the center of rotation of the carousel; carousel planetary gear has the ability to independently reverse the directions of rotation of the carrier of the planetary gear and its satellites carrying sprayed parts, and changes in the ratio between the angular velocities of rotation of the carrier and satellites due to the presence of independent drives communicating rotational movements independent to the direction and ratio of values to the carrier and the internal gear planetary gear designed to rotate satellites with sprayed parts. 2. Способ магнетронного напыления равнотолщинного покрытия, содержащий два перехода с последовательным нанесением на плоскую поверхность детали двух слоев покрытия с комплементарными профилями слоев, которые при наложении друг на друга дают результирующее равнотолщинное покрытие, отличающийся тем, что используют установку по п. 1; один комплементарный профиль слоя покрытия является симметричным выпуклым, получаемым напылением от единичного магнетрона при исходном положении напыляемой детали на сателлите напротив мишеней этого магнетрона и при вращении внутреннего зубчатого колеса и водила планетарного механизма синхронно в одну сторону с обеспечением вращения сателлита, несущего напыляемую деталь, синхронно в противоположную сторону, в одних расчетных ограниченных диапазонах углов поворота водила и внутреннего зубчатого колеса, при этом угловая скорость вращения сателлита по абсолютной величине меньше, чем угловая скорость вращения водила; другой комплементарный профиль слоя покрытия является симметричным вогнутым, получаемым напылением от дуальной системы двух магнетронов при исходном положении напыляемой детали на сателлите напротив и по оси симметрии перед мишенями этих магнетронов и при вращении внутреннего зубчатого колеса и водила синхронно в одну сторону с обеспечением вращения сателлита, несущего напыляемую деталь синхронно в ту же сторону, в других расчетных ограниченных диапазонах углов поворота водила и внутреннего зубчатого колеса, при этом угловая скорость вращения сателлита по абсолютной величине больше, чем угловая скорость вращения водила.2. A method of magnetron sputtering of an equal thickness coating, comprising two transitions with successive deposition of two coating layers with complementary layer profiles on a flat surface of a part, which when applied to each other produce a resulting equal thickness coating, characterized in that the apparatus according to claim 1 is used; one complementary profile of the coating layer is symmetrical convex, obtained by sputtering from a single magnetron with the initial position of the sprayed part on the satellite opposite the targets of this magnetron and with the rotation of the internal gear and carrier of the planetary gear synchronously in one direction, ensuring rotation of the satellite carrying the sprayed part, synchronously in the opposite side, in some limited design ranges of the angles of rotation of the carrier and the internal gear, while the angular velocity The satellite support in absolute value is less than the angular velocity of rotation of the carrier; the other complementary profile of the coating layer is symmetric concave, obtained by sputtering from the dual system of two magnetrons at the initial position of the sprayed part on the satellite opposite and along the axis of symmetry in front of the targets of these magnetrons and when the internal gear and carrier rotate synchronously in one direction, providing rotation of the satellite carrying the sprayed part synchronously in the same direction, in other limited design ranges of rotation angles of the carrier and the internal gear, while the angular velocity The rotation of the satellite in absolute value is greater than the angular velocity of rotation of the carrier. 3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что для нанесения равнотолщинного металлического нанопокрытия плоской поверхности детали используют следующий набор величин самых значимых кинематических и временных параметров работы магнетронной установки, а именно: симметричный выпуклый комплементарный профиль получают напылением от единичного бокового магнетрона при возвратно-вращательном движении детали напротив этого магнетрона, при этом водилу придают возвратно-вращательные движения с частотой nв=7,8 дв.ход/мин, что соответствует угловой скорости водила ωв=0,82 с-1, с размахом углов поворота водила от -110° до +110°; одновременно и синхронно внутреннему зубчатому колесу планетарного механизма придают возвратно-вращательные движения в ту же сторону с частотой nц=10,8 дв.ход/мин, что соответствует угловой скорости внутреннего зубчатого колеса ω11=1,13 с-1 с размахом углов поворота внутреннего зубчатого колеса от -154° до +154°; расчетная продолжительность процесса напыления на этом переходе 120 с; при этом получают толщину симметричного выпуклого слоя покрытия в диапазоне 10,9…11,9 нм; а также симметричный вогнутый комплементарный профиль получают напылением от дуальной системы двух магнетронов при возвратно-вращательном движении детали напротив сдвоенных магнетронов, водилу придают возвратно-вращательные движения с частотой nв=7,8 дв.ход/мин, что соответствует угловой скорости водила ωв=0,82 с-1, с размахом углов поворота водила от -20° до +20°; одновременно и синхронно внутреннему зубчатому колесу планетарного механизма придают возвратно-вращательные движения в ту же сторону с частотой nц=1,6 дв.ход/мин, что соответствует угловой скорости внутреннего зубчатого колеса ω11=0,17 с-1, с размахом углов поворота внутреннего зубчатого колеса от -4° до +4°; расчетная продолжительность процесса напыления на этом переходе 30 с; при этом получают толщину симметричного вогнутого слоя покрытия в диапазоне 31…32 нм, а в качестве суммарной толщины результирующего двухслойного равнотолщинного нанопокрытия получают величину 42,9 нм с математически нулевым разбросом толщины профиля по площади напыленного покрытия плоской поверхности детали. 3. The method according to p. 2, characterized in that for applying an equally thick metal nanocoating a flat surface of the part, the following set of values of the most significant kinematic and temporal parameters of the magnetron installation is used, namely: a symmetrical convex complementary profile is obtained by sputtering from a single side magnetron when returning rotational movement of the part opposite this magnetron, while the carrier is provided with reciprocating movements with a frequency of n in = 7.8 dv.hod / min, which corresponds to the angular velocity carrier’s wings ω в = 0.82 s -1 , with a swing of the carrier rotation angles from -110 ° to + 110 °; simultaneously and synchronously, the inner gear of the planetary gear is given reciprocating movements in the same direction with a frequency of n c = 10.8 dv.hod / min, which corresponds to the angular velocity of the inner gear ω 11 = 1,13 s -1 with a range of angles rotation of the internal gear from -154 ° to + 154 °; the estimated duration of the deposition process at this transition is 120 s; this gives the thickness of the symmetrical convex coating layer in the range of 10.9 ... 11.9 nm; and also a symmetrical concave complementary profile is obtained by sputtering from the dual system of two magnetrons when the part rotates in the opposite direction to the twin magnetrons, the carrier is given rotational movements with a frequency of n in = 7.8 dv.hod / min, which corresponds to the angular velocity of the carrier ω in = 0.82 s -1 , with a range of angles of rotation of the carrier from -20 ° to + 20 °; simultaneously and synchronously, the internal gear of the planetary gear is given reciprocating movements in the same direction with a frequency of n c = 1.6 dv.hod / min, which corresponds to the angular velocity of the internal gear ω 11 = 0.17 s -1 , with a swing angles of rotation of the internal gear from -4 ° to + 4 °; the estimated duration of the deposition process at this transition is 30 s; in this case, the thickness of the symmetric concave coating layer is obtained in the range of 31 ... 32 nm, and as the total thickness of the resulting two-layer equal-thickness nanocoating, a value of 42.9 nm is obtained with a mathematically zero dispersion of the profile thickness over the area of the sprayed coating on the part’s flat surface.
RU2015120001A 2015-05-27 2015-05-27 Carousel-type unit for multi-layered coatings magnetron sputtering and method of equal thickness nano-coating magnetron sputtering RU2606363C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015120001A RU2606363C2 (en) 2015-05-27 2015-05-27 Carousel-type unit for multi-layered coatings magnetron sputtering and method of equal thickness nano-coating magnetron sputtering

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015120001A RU2606363C2 (en) 2015-05-27 2015-05-27 Carousel-type unit for multi-layered coatings magnetron sputtering and method of equal thickness nano-coating magnetron sputtering

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015120001A true RU2015120001A (en) 2016-12-20
RU2606363C2 RU2606363C2 (en) 2017-01-10

Family

ID=57759138

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015120001A RU2606363C2 (en) 2015-05-27 2015-05-27 Carousel-type unit for multi-layered coatings magnetron sputtering and method of equal thickness nano-coating magnetron sputtering

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2606363C2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112251729A (en) * 2020-10-23 2021-01-22 凯盛信息显示材料(黄山)有限公司 A glass substrate rack for vacuum coating, a coating system thereof, and a transmission method of the coating system
CN114774872A (en) * 2022-04-29 2022-07-22 北京北方华创微电子装备有限公司 Magnetron device and magnetron sputtering equipment
CN119220936A (en) * 2024-11-29 2024-12-31 润芯感知科技(南昌)有限公司 Semiconductor processing method and semiconductor device

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107130213B (en) * 2017-05-03 2019-04-09 成都真锐科技涂层技术有限公司 Multi-component alloy composite film preparation equipment and preparation method
RU187355U1 (en) * 2018-05-10 2019-03-01 Общество с ограниченной ответственностью "Накопители Энергии Супер Конденсаторы" (ООО "НЭСК") VACUUM INSTALLATION OF MAGNETRON SPRAYING OF THIN FILMS ON A MOVING SUBSTRATE
RU2691166C1 (en) * 2018-08-22 2019-06-11 Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") Method of applying protective coatings and device for its implementation

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02277773A (en) * 1989-04-20 1990-11-14 Shin Meiwa Ind Co Ltd Support structure for film thickness monitoring sensor in vapor deposition equipment
JPH0768614B2 (en) * 1990-03-05 1995-07-26 宇部興産株式会社 Carousel type sputtering device and spattering method thereof
SU1828669A3 (en) * 1990-11-13 1995-05-27 Владимир Васильевич Кульпинов Apparatus to treat peaces in vacuum
US9109289B2 (en) * 2011-06-27 2015-08-18 United Technologies Corporation Manipulator for coating application
RU2500834C2 (en) * 2011-08-29 2013-12-10 Закрытое акционерное общество "Ферри Ватт" Sputtering assembly of planar magnetron
RU2496913C2 (en) * 2011-12-28 2013-10-27 Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" Unit for ion-ray and plasma processing
CN203080059U (en) * 2012-11-22 2013-07-24 上海法德机械设备有限公司 Vacuum coating workpiece rotary table

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112251729A (en) * 2020-10-23 2021-01-22 凯盛信息显示材料(黄山)有限公司 A glass substrate rack for vacuum coating, a coating system thereof, and a transmission method of the coating system
CN112251729B (en) * 2020-10-23 2022-08-30 凯盛信息显示材料(黄山)有限公司 Glass substrate frame for vacuum coating, coating system thereof and transmission method of coating system
CN114774872A (en) * 2022-04-29 2022-07-22 北京北方华创微电子装备有限公司 Magnetron device and magnetron sputtering equipment
CN114774872B (en) * 2022-04-29 2023-09-08 北京北方华创微电子装备有限公司 Magnetron device and magnetron sputtering equipment
CN119220936A (en) * 2024-11-29 2024-12-31 润芯感知科技(南昌)有限公司 Semiconductor processing method and semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
RU2606363C2 (en) 2017-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2015120001A (en) Carousel type installation for magnetron sputtering of multilayer coatings and a method of magnetron sputtering of equal thickness nanocoating
TWI557252B (en) Cathode assembly for a sputter deposition apparatus and method for depositing a film on a substrate in a sputter deposition apparatus
TW201113927A (en) Method for coating a substrate and coater
PL2265744T3 (en) Method for producing metal oxide layers having a pre-defined structure by way of arc evaporation
RU2020111155A (en) COATED METAL SUBSTRATE
WO2012162643A3 (en) Method and apparatus for coating a complex object and composite comprising the coated object
TWI567216B (en) Mini rotatable sputter devices for sputter deposition
MX2015014977A (en) Method of manufacturing multi-layer thin film, member including the same and electronic product including the same.
TW201335410A (en) Physical vapor deposition system, magnetron for a physical vapor deposition system, and method for operating a magnetron to provide an adjustable symmetric magnetic track
US8647437B2 (en) Apparatus, tool and methods for depositing annular or circular wedge coatings
MX2020013582A (en) Vacuum deposition facility and method for coating a substrate.
CN208562506U (en) a target
CN104004994A (en) Coating device and coating method for rotary part
CN208266263U (en) A vertical multi-layer continuous vacuum magnetron coating production line
MX2020013581A (en) Vacuum deposition facility and method for coating a substrate.
RU2019100675A (en) DEPOSITING PLANT AND DEPOSITING METHOD
RU2018124444A (en) METHOD AND INSTALLATION FOR OBTAINING COLOR GLAZING
Rusinov et al. Technological Features of Obtaining of Nanostructured Coatings on TiNi Base by Magnetron Sputtering
WO2017111541A3 (en) Method of manufacturing dew formation preventing member, and refrigerator and evaporator having dew formation preventing member
CN104606060A (en) Nursing bottle with heat preservation function
WO2016055166A3 (en) Method for coating a substrate
RU2016103909A (en) TARGET FOR REACTIVE DEPOSITION OF ELECTRIC INSULATING LAYERS BY ION SPRAYING METHOD
CN206052133U (en) A kind of equipment that anti-fingerprint film layer is deposited on PVD coating
CN107966751B (en) Germanium lens and preparation method thereof
CN104402244A (en) Vacuum silver coated glass and preparation process thereof