RU2011140496A - Выравнивающая пленка и способ ее изготовления - Google Patents
Выравнивающая пленка и способ ее изготовления Download PDFInfo
- Publication number
- RU2011140496A RU2011140496A RU2011140496/05A RU2011140496A RU2011140496A RU 2011140496 A RU2011140496 A RU 2011140496A RU 2011140496/05 A RU2011140496/05 A RU 2011140496/05A RU 2011140496 A RU2011140496 A RU 2011140496A RU 2011140496 A RU2011140496 A RU 2011140496A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- leveling
- liquid coating
- leveling layer
- layer
- inorganic filler
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 title 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract 8
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract 4
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims abstract 4
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract 4
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 claims abstract 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims abstract 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 abstract 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
- C08J7/123—Treatment by wave energy or particle radiation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/094—Multilayer resist systems, e.g. planarising layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
- H10K10/40—Organic transistors
- H10K10/46—Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
- H10K10/462—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
- H10K10/464—Lateral top-gate IGFETs comprising only a single gate
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
- H10K77/111—Flexible substrates
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133357—Planarisation layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
1. Выравнивающая пленка, содержащая выравнивающий слой, имеющий в составе связующую полимерную смолу и неорганический наполнитель в качестве компонентов, по меньшей мере на одной стороне прозрачного полимерного основания, при этом количество посторонних частиц со средним диаметром от 20 мкм до 100 мкм на поверхности выравнивающего слоя не превышает 5/м.2. Выравнивающая пленка по п.1, в которой выравнивающий слой имеет толщину в диапазоне от 3 мкм до 8 мкм.3. Выравнивающая пленка по п.1 или 2, которая предназначена для подложки с тонкопленочными транзисторами.4. Способ изготовления выравнивающей пленки, содержащий стадию нанесения жидкого покрытия на прозрачное полимерное основание для формирования выравнивающего слоя, в котором жидкое покрытие получено путем добавления по меньшей мере связующей полимерной смолы и неорганического наполнителя в растворитель и последующего перемешивания, при этом концентрация твердого вещества в жидком покрытии находится в диапазоне от 25% до 45% по массе, а жидкое покрытие наносят с использованием гравированного цилиндра, имеющего плотность линий 50-90 линий/дюйм, при коэффициенте вращения от 60% до 100%, и затем сушат/отверждают для образования выравнивающего слоя.
Claims (4)
1. Выравнивающая пленка, содержащая выравнивающий слой, имеющий в составе связующую полимерную смолу и неорганический наполнитель в качестве компонентов, по меньшей мере на одной стороне прозрачного полимерного основания, при этом количество посторонних частиц со средним диаметром от 20 мкм до 100 мкм на поверхности выравнивающего слоя не превышает 5/м2.
2. Выравнивающая пленка по п.1, в которой выравнивающий слой имеет толщину в диапазоне от 3 мкм до 8 мкм.
3. Выравнивающая пленка по п.1 или 2, которая предназначена для подложки с тонкопленочными транзисторами.
4. Способ изготовления выравнивающей пленки, содержащий стадию нанесения жидкого покрытия на прозрачное полимерное основание для формирования выравнивающего слоя, в котором жидкое покрытие получено путем добавления по меньшей мере связующей полимерной смолы и неорганического наполнителя в растворитель и последующего перемешивания, при этом концентрация твердого вещества в жидком покрытии находится в диапазоне от 25% до 45% по массе, а жидкое покрытие наносят с использованием гравированного цилиндра, имеющего плотность линий 50-90 линий/дюйм, при коэффициенте вращения от 60% до 100%, и затем сушат/отверждают для образования выравнивающего слоя.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009053461 | 2009-03-06 | ||
| JP2009-053461 | 2009-03-06 | ||
| PCT/JP2010/054074 WO2010101303A1 (ja) | 2009-03-06 | 2010-03-04 | 平坦化フィルムおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2011140496A true RU2011140496A (ru) | 2013-04-20 |
| RU2528987C2 RU2528987C2 (ru) | 2014-09-20 |
Family
ID=42709839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2011140496/05A RU2528987C2 (ru) | 2009-03-06 | 2010-03-04 | Выравнивающая пленка и способ ее изготовления |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP2404755B1 (ru) |
| JP (1) | JP5432242B2 (ru) |
| RU (1) | RU2528987C2 (ru) |
| WO (1) | WO2010101303A1 (ru) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015231678A (ja) * | 2014-06-09 | 2015-12-24 | 帝人デュポンフィルム株式会社 | 平坦化フィルム |
| CN104290377B (zh) * | 2014-09-11 | 2016-05-18 | 东莞市纳利光学材料有限公司 | 一种电致防窥膜及其制备方法 |
| US11364493B2 (en) | 2017-10-12 | 2022-06-21 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Planarization layers over silicon dies |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2637955B2 (ja) | 1986-07-31 | 1997-08-06 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 水性被覆用組成物 |
| JP2856993B2 (ja) | 1992-10-02 | 1999-02-10 | 帝人株式会社 | ポリエステル水分散体及びこれを塗布した易接着性ポリエステルフイルム |
| JPH11348189A (ja) | 1998-06-05 | 1999-12-21 | Fujimori Kogyo Kk | 光学用プラスチックス基板 |
| NO314525B1 (no) * | 1999-04-22 | 2003-03-31 | Thin Film Electronics Asa | Fremgangsmåte ved fremstillingen av organiske halvledende innretninger i tynnfilm |
| JP4037144B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2008-01-23 | 帝人株式会社 | 表示体用透明フィルム |
| US20060152801A1 (en) * | 2002-11-25 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd | Anti-reflection film, polarizing plate and liquid crystal display device |
| JP2004191956A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-07-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止フィルム、偏光板、及び液晶表示装置 |
| JP2005089623A (ja) * | 2003-09-18 | 2005-04-07 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 光学用ポリエステルフィルム |
| JP4324684B2 (ja) * | 2003-09-19 | 2009-09-02 | 日本ミクロコーティング株式会社 | 平坦な表面の透明導電性フィルムの製造方法 |
| JP2005288851A (ja) | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明ガス遮断性フィルム、並びにそれを用いるディスプレイ基板及びディスプレイ。 |
| JP2006095783A (ja) | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明ガスバリア性フィルム、及びそれを用いたディスプレイ用基板 |
| JP4971703B2 (ja) | 2005-07-04 | 2012-07-11 | 帝人デュポンフィルム株式会社 | 有機ｅｌディスプレイ基板用ポリエステルフィルム及びそれからなる有機ｅｌディスプレイ基板用ガスバリア性積層ポリエステルフィルム |
| JP2007206316A (ja) | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 反射防止フィルム |
| GB0602678D0 (en) * | 2006-02-09 | 2006-03-22 | Dupont Teijin Films Us Ltd | Polyester film and manufacturing process |
| JP2007216610A (ja) | 2006-02-20 | 2007-08-30 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2007268711A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | フレキシブルディスプレイ基板用積層ポリエステルフィルム |
| JP2007311377A (ja) | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Sony Corp | 薄膜トランジスタの製造方法および薄膜トランジスタならびに表示装置 |
| JP4930140B2 (ja) | 2006-07-26 | 2012-05-16 | 住友ベークライト株式会社 | 透明積層体 |
| JP2008147346A (ja) | 2006-12-08 | 2008-06-26 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機薄膜トランジスタの製造方法、及び該製造方法により作製した有機薄膜トランジスタ |
| JP2008180905A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Fujifilm Corp | 光学フイルムの製造方法、光学フイルム用支持体、光学フイルム、偏光板及び画像表示装置 |
| US20110209901A1 (en) * | 2007-08-02 | 2011-09-01 | Dupont Teijin Films U.S. Limited Partnership | Coated polyester film |
-
2010
- 2010-03-04 RU RU2011140496/05A patent/RU2528987C2/ru active
- 2010-03-04 EP EP10748889.2A patent/EP2404755B1/en active Active
- 2010-03-04 WO PCT/JP2010/054074 patent/WO2010101303A1/ja not_active Ceased
- 2010-03-04 JP JP2011502838A patent/JP5432242B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2010101303A1 (ja) | 2010-09-10 |
| JP5432242B2 (ja) | 2014-03-05 |
| EP2404755A4 (en) | 2013-04-03 |
| EP2404755B1 (en) | 2016-08-31 |
| JPWO2010101303A1 (ja) | 2012-09-10 |
| EP2404755A1 (en) | 2012-01-11 |
| RU2528987C2 (ru) | 2014-09-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ATE509977T1 (de) | Verfahren zur herstellung eines organischen films an der oberfläche eines festen substrats unter nicht-elektrochemischen bedingungen, auf diese weise hergestelltes festsubstrat und herstellungsset | |
| JP2008535964A5 (ru) | ||
| EP2517878A4 (en) | HARDENED SUBSTRATE WITH HARD COATING AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF | |
| EP4495955A3 (en) | Method for forming uv-curable conductive compositions and a composition thus formed | |
| RU2011140496A (ru) | Выравнивающая пленка и способ ее изготовления | |
| JP2016524520A5 (ru) | ||
| TN2015000252A1 (fr) | Chiral liquid crystal polymer layer or pattern comprising randomly distributed craters therein | |
| JP2014095731A5 (ru) | ||
| JP2010266553A5 (ru) | ||
| CN105176370B (zh) | 一种可贴合弧边的保护膜及其制造方法 | |
| ES2579057T3 (es) | Material de papel con efecto arena y método de fabricación correspondiente | |
| ATE440307T1 (de) | Polymerisierbarer, negativer, planographischer druckplattenvorläufer, stapel von polymerisierbaren, negativen, planographischen druckplattenvorläufern und verfahren zur herstellung eines polymerisierbaren, negativen, planographischen druckplattenvorläufers | |
| CN208576252U (zh) | 多层薄膜和具有由多层薄膜制成的覆层的建筑物表面元件 | |
| CN106206467A (zh) | 一种水氧阻隔膜及其制备方法 | |
| JP2014507538A5 (ru) | ||
| JP2011066080A5 (ja) | 保護膜の形成方法および実装構造体、ならびに実装構造体のリペア方法 | |
| TW200717622A (en) | Nanodot memory and fabrication method thereof | |
| CN103756549B (zh) | 一种玻璃钢表面涂覆用的uv光油的制备方法 | |
| JP2016092142A5 (ru) | ||
| Liu et al. | Enhanced performance of water-based wood coatings using KH-550-modified nano-silica: a sustainable approach for multifunctional surface protection | |
| CN103753994B (zh) | 一种功能纳米膜及其直接印刷方法和应用 | |
| WO2009051036A1 (ja) | 薄膜形成方法及び有機エレクトロニクス素子 | |
| CN102350890B (zh) | 卷筒式全息图纹膜的制作工艺、全息图纹膜及系统 | |
| CN106125502A (zh) | 一种纳米压印设备用光刻胶 | |
| TW200740931A (en) | Coating fluid and method of forming coating film |