RU2009111380A - Способ нанесения содержащих легирующие примеси покрытий из оксида цинка, имеющих низкое удельное сопротивление, и изделия, изготавливаемые этим способом - Google Patents
Способ нанесения содержащих легирующие примеси покрытий из оксида цинка, имеющих низкое удельное сопротивление, и изделия, изготавливаемые этим способом Download PDFInfo
- Publication number
- RU2009111380A RU2009111380A RU2009111380/03A RU2009111380A RU2009111380A RU 2009111380 A RU2009111380 A RU 2009111380A RU 2009111380/03 A RU2009111380/03 A RU 2009111380/03A RU 2009111380 A RU2009111380 A RU 2009111380A RU 2009111380 A RU2009111380 A RU 2009111380A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- compound
- gallium
- aluminum
- zinc
- coating
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 22
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract 18
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 title claims abstract 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 title 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 45
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract 24
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 23
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 20
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims abstract 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract 12
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract 12
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 10
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract 9
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract 5
- 238000005275 alloying Methods 0.000 claims abstract 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims abstract 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract 4
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 150000004703 alkoxides Chemical group 0.000 claims abstract 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract 3
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract 3
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 claims abstract 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims abstract 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims abstract 3
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 claims 4
- IGOGAEYHSPSTHS-UHFFFAOYSA-N dimethylgallium Chemical compound C[Ga]C IGOGAEYHSPSTHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N diethylalumane Chemical group CC[AlH]CC HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- KPPVNWGJXFMGAM-UUILKARUSA-N (e)-2-methyl-1-(6-methyl-3,4-dihydro-2h-quinolin-1-yl)but-2-en-1-one Chemical compound CC1=CC=C2N(C(=O)C(/C)=C/C)CCCC2=C1 KPPVNWGJXFMGAM-UUILKARUSA-N 0.000 claims 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 1
- 150000002259 gallium compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims 1
- -1 aluminum compound Chemical class 0.000 abstract 1
- 102200160920 rs35304565 Human genes 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/407—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/214—Al2O3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/216—ZnO
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/228—Other specific oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
1. Способ изготовления стеклоизделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, при осуществлении которого: ! подготавливают горячую стеклянную основу с поверхностью, на которую наносится покрытие, имеющей температуру по меньшей мере 400°С, и ! подают цинксодержащее соединение, кислородсодержащее соединение и соединение, содержащеее алюминий или галлий, на указанную поверхность, причем цинксодержащее соединение, соединение, являющееся источником кислорода, и соединение, содержащее алюминий или галлий, смешивают в течение короткого промежутка времени, достаточного для образования на этой поверхности покрытия из оксида цинка, содержащего алюминий или галлий в качестве легирующих веществ, при скорости осаждения более 5 нм/с. ! 2. Способ по п.1, в котором нанесение покрытия осуществляют химическим осаждением из паровой фазы. ! 3. Способ по п.2, в котором химическое осаждение из паровой фазы осуществляют при атмосферном давлении. ! 4. Способ по п.1, в котором соединение, содержащее алюминий или галлий, является соединением, содержащим алюминий. ! 5. Способ по п.4, в котором соединение, содержащее алюминий, представляет собой соединение алюминия с формулой: ! R9 (3-n)Al(R10C(O)CR11C(O)R12)n или R9 3Al(L), ! где R9 - алкильная, или арильная, или галогенидная, или алкоксидная группа; R10-12 могут быть одинаковыми или разными группами и являются Н-группой, алкильной или арильной группами (включая циклические и частично или полностью фторированные производные), L является нейтральным, техническим лигандом на основе кислорода, таким как метилтригидрофуран, тетрагидрофуран, фуран, диэтиловый �
Claims (19)
1. Способ изготовления стеклоизделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, при осуществлении которого:
подготавливают горячую стеклянную основу с поверхностью, на которую наносится покрытие, имеющей температуру по меньшей мере 400°С, и
подают цинксодержащее соединение, кислородсодержащее соединение и соединение, содержащеее алюминий или галлий, на указанную поверхность, причем цинксодержащее соединение, соединение, являющееся источником кислорода, и соединение, содержащее алюминий или галлий, смешивают в течение короткого промежутка времени, достаточного для образования на этой поверхности покрытия из оксида цинка, содержащего алюминий или галлий в качестве легирующих веществ, при скорости осаждения более 5 нм/с.
2. Способ по п.1, в котором нанесение покрытия осуществляют химическим осаждением из паровой фазы.
3. Способ по п.2, в котором химическое осаждение из паровой фазы осуществляют при атмосферном давлении.
4. Способ по п.1, в котором соединение, содержащее алюминий или галлий, является соединением, содержащим алюминий.
5. Способ по п.4, в котором соединение, содержащее алюминий, представляет собой соединение алюминия с формулой:
R9 (3-n)Al(R10C(O)CR11C(O)R12)n или R9 3Al(L),
где R9 - алкильная, или арильная, или галогенидная, или алкоксидная группа; R10-12 могут быть одинаковыми или разными группами и являются Н-группой, алкильной или арильной группами (включая циклические и частично или полностью фторированные производные), L является нейтральным, техническим лигандом на основе кислорода, таким как метилтригидрофуран, тетрагидрофуран, фуран, диэтиловый или дибутиловый эфир, диоксан, а n=0-3.
6. Способ по п.5, в котором соединением, содержащим алюминий, является диэтилалюминийацетилацетонат.
7. Способ по п.1, в котором соединением, содержащим алюминий или галлий, является соединение, содержащее галлий.
8. Способ по п.7, в котором соединение, содержащее галлий, представляет собой соединение галлия с формулой:
R9 (3-n)Ga(R10C(O)CR11C(O)R12)n или R9 3Ga(L),
где R9 - алкильная, или арильная, или галогенидная, или алкоксидная группа; R10-12 могут быть одинаковыми или разными группами и являются Н-группой, алкильной или арильной группами (включая циклические и частично или полностью фторированные производные), L является нейтральным, техническим лигандом на основе кислорода, таким как метилтригидрофуран, тетрагидрофуран, фуран, диэтиловый или дибутиловый эфир, диоксан, а n=0-3.
9. Способ по п.8, в котором соединением, содержащим галлий, является диметилгаллийгексафторацетилацетонат или диметилгаллий ацетилацетонат.
10. Способ по п.1, в котором цинксодержащими соединениями являются цинксодержащие соединения с общей формулой
R1R2Zn или R1R2Zn[R3R4N(CHR5)n(CH2)m(CHR6)nNR7R8],
где R1-8 могут быть одинаковыми или разными алкильными или арильными группами, такими как метил, этил, изопропил, н-пропил, н-бутил, втор-бутил, фенил или замещенный фенил, и могут включать один или несколько фторсодержащих заместителей, R5 и R6 могут представлять собой Н-группу или алкильную, или арильную группу, n может равняться 0 или 1, a m может равняться 1-6, если n=0, и m может равняться 0-6, если n=1.
11. Стеклоизделие с покрытием, имеющим низкое удельное сопротивление, изготовленное в соответствии со способом по п.1.
12. Способ изготовления стеклоизделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, посредством химического осаждения из паровой фазы при атмосферном давлении, при осуществлении которого:
подготавливают горячую стеклянную основу с поверхностью, на которую наносится покрытие, имеющей температуру по меньшей мере 400°С, и
подают цинксодержащее соединение, воду или водно-спиртовую смесь и соединение, содержащее алюминий или галлий, на указанную поверхность, причем цинксодержащее соединение, вода или водно-спиртовая смесь и соединение, содержащее алюминий или галлий, находятся в паровой фазе и смешаны в течение короткого промежутка времени, достаточного для образования на указанной поверхности покрытия из оксида цинка, содержащего алюминий или галлий в качестве легирующих веществ, при скорости осаждения более 5 нм/с.
13. Способ по п.12, в котором соединением, содержащим алюминий или галлий, является соединение, содержащее алюминий.
14. Способ по п.13, в котором соединением, содержащим алюминий, является диэтилалюминийацетилацетонат.
15. Способ по п.12, в котором соединением, содержащим алюминий или галлий, является соединение, содержащее галлий.
16. Способ по п.15, в котором соединением, содержащим галлий, является диметилгаллийгексафторацетилацетонат или диметилгаллий ацетилацетонат.
17. Стеклоизделие с покрытием, имеющим низкое удельное сопротивление, изготовленное в соответствии со способом по п.12.
18. Способ изготовления стеклоизделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, при осуществлении которого:
подготавливают горячую стеклянную основу с поверхностью, на которую наносится покрытие, имеющей температуру по меньшей мере 400°С, и
подают цинксодержащее соединение, по меньшей мере одно кислородсодержащее соединение и по меньшей мере одно соединение, содержащее элемент XIII группы, на указанную поверхность, причем цинксодержащее соединение, кислородсодержащее соединение и соединение, содержащее по меньшей мере один элемент XIII группы, смешивают в течение короткого промежутка времени, достаточного для образования на указанной поверхности покрытия из оксида цинка, содержащего по меньшей мере один элемент XIII группы в качестве легирующего вещества, при скорости осаждения более 5 нм/с.
19. Способ по п.18, в котором соединением, содержащим по меньшей мере один элемент XIII группы, является соединение, выбранное из группы, включающей соединения, содержащие алюминий, галлий, бор, индий и таллий.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US84091506P | 2006-08-29 | 2006-08-29 | |
| US60/840,915 | 2006-08-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2009111380A true RU2009111380A (ru) | 2010-10-10 |
| RU2445281C2 RU2445281C2 (ru) | 2012-03-20 |
Family
ID=38650023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2009111380/03A RU2445281C2 (ru) | 2006-08-29 | 2007-05-03 | Способ нанесения содержащих легирующие примеси покрытий из оксида цинка, имеющих низкое удельное сопротивление, и изделие, изготавливаемое этим способом |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8163342B2 (ru) |
| EP (1) | EP2061729A1 (ru) |
| JP (1) | JP5541921B2 (ru) |
| KR (1) | KR101429785B1 (ru) |
| CN (1) | CN101547873A (ru) |
| AU (1) | AU2007290842B2 (ru) |
| BR (1) | BRPI0716386A2 (ru) |
| MX (1) | MX2009002182A (ru) |
| RU (1) | RU2445281C2 (ru) |
| WO (1) | WO2008027085A1 (ru) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010151430A1 (en) * | 2009-06-22 | 2010-12-29 | Arkema Inc. | Chemical vapor deposition using n,o polydentate ligand complexes of metals |
| WO2011047114A1 (en) * | 2009-10-15 | 2011-04-21 | Arkema Inc. | Deposition of doped zno films on polymer substrates by uv-assisted chemical vapor deposition |
| KR101642708B1 (ko) * | 2010-01-19 | 2016-07-28 | 삼성전자주식회사 | 화상형성장치와 그 프리뷰 이미지 디스플레이방법, 및 서버와 그 프리뷰 이미지 제공방법 |
| US8815420B2 (en) | 2010-09-17 | 2014-08-26 | Guardian Industries Corp. | Coated article having zinc oxide seed layer with reduced stress under functional layer and method of making the same |
| US8808882B2 (en) | 2010-09-17 | 2014-08-19 | Guardian Industries Corp. | Coated article having boron doped zinc oxide based seed layer with enhanced durability under functional layer and method of making the same |
| US20120240634A1 (en) * | 2011-03-23 | 2012-09-27 | Pilkington Group Limited | Method of depositing zinc oxide coatings by chemical vapor deposition |
| EP2688851B1 (en) | 2011-03-23 | 2019-01-23 | Pilkington Group Limited | Apparatus for depositing thin film coatings and method of deposition utilizing such apparatus |
| CN104379806B (zh) * | 2012-03-16 | 2017-06-09 | 皮尔金顿集团有限公司 | 用于沉积氧化锌涂层的化学气相沉积工艺、用于形成导电玻璃制品的方法以及由此制成的涂覆玻璃制品 |
| KR20140046617A (ko) | 2012-10-09 | 2014-04-21 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 산화아연 전구체 및 이를 이용한 산화아연계 박막 증착방법 |
| RU2529443C2 (ru) * | 2012-10-31 | 2014-09-27 | Олег Петрович Ксенофонтов | Способ изготовления стекловидной композиции |
| CN109913812A (zh) * | 2017-12-13 | 2019-06-21 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 一种用于制备cigs薄膜的磁控溅射法 |
| US10519595B2 (en) | 2017-12-29 | 2019-12-31 | Industrial Technology Research Institute | Composite textile |
| CN113354297A (zh) * | 2021-06-02 | 2021-09-07 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 抗菌化合物材料、抗菌玻璃及制备方法与应用 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH640571A5 (fr) * | 1981-03-06 | 1984-01-13 | Battelle Memorial Institute | Procede et dispositif pour deposer sur un substrat une couche de matiere minerale. |
| JPH0682625B2 (ja) * | 1985-06-04 | 1994-10-19 | シーメンス ソーラー インダストリーズ，エル．ピー． | 酸化亜鉛膜の蒸着方法 |
| US4928627A (en) * | 1985-12-23 | 1990-05-29 | Atochem North America, Inc. | Apparatus for coating a substrate |
| JPH01249634A (ja) * | 1988-03-30 | 1989-10-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 導電性ガラスおよびその製造方法 |
| US4990286A (en) * | 1989-03-17 | 1991-02-05 | President And Fellows Of Harvard College | Zinc oxyfluoride transparent conductor |
| FR2684095B1 (fr) * | 1991-11-26 | 1994-10-21 | Saint Gobain Vitrage Int | Produit a substrat en verre muni d'une couche a basse emissivite. |
| JP3485918B2 (ja) * | 1991-12-26 | 2004-01-13 | アトフィナ・ケミカルズ・インコーポレイテッド | ガラス基体の被覆法 |
| US6238738B1 (en) * | 1996-08-13 | 2001-05-29 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for depositing titanium oxide coatings on flat glass |
| US6268019B1 (en) * | 1998-06-04 | 2001-07-31 | Atofina Chemicals, Inc. | Preparation of fluorine modified, low haze, titanium dioxide films |
| JP3904378B2 (ja) * | 2000-08-02 | 2007-04-11 | ローム株式会社 | 酸化亜鉛透明導電膜 |
| US6416814B1 (en) | 2000-12-07 | 2002-07-09 | First Solar, Llc | Volatile organometallic complexes of lowered reactivity suitable for use in chemical vapor deposition of metal oxide films |
| US20020117199A1 (en) * | 2001-02-06 | 2002-08-29 | Oswald Robert S. | Process for producing photovoltaic devices |
| US20020189536A1 (en) * | 2001-06-15 | 2002-12-19 | Bridgestone Corporation | Silicon carbide single crystal and production thereof |
| WO2005072947A1 (en) * | 2004-01-23 | 2005-08-11 | Arkema Inc. | Solar control films composed of metal oxide heterostructures, and method of making same |
| GB0518383D0 (en) | 2005-09-09 | 2005-10-19 | Pilkington Plc | Deposition process |
-
2007
- 2007-05-03 BR BRPI0716386-0A patent/BRPI0716386A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2007-05-03 MX MX2009002182A patent/MX2009002182A/es active IP Right Grant
- 2007-05-03 CN CNA2007800393047A patent/CN101547873A/zh active Pending
- 2007-05-03 US US11/800,410 patent/US8163342B2/en active Active
- 2007-05-03 RU RU2009111380/03A patent/RU2445281C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2007-05-03 AU AU2007290842A patent/AU2007290842B2/en not_active Ceased
- 2007-05-03 JP JP2009526589A patent/JP5541921B2/ja active Active
- 2007-05-03 WO PCT/US2007/010621 patent/WO2008027085A1/en not_active Ceased
- 2007-05-03 EP EP07794486A patent/EP2061729A1/en not_active Withdrawn
- 2007-05-03 KR KR1020097006349A patent/KR101429785B1/ko active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20080057225A1 (en) | 2008-03-06 |
| AU2007290842A1 (en) | 2008-03-06 |
| WO2008027085A1 (en) | 2008-03-06 |
| JP2010502831A (ja) | 2010-01-28 |
| JP5541921B2 (ja) | 2014-07-09 |
| KR20090057067A (ko) | 2009-06-03 |
| CN101547873A (zh) | 2009-09-30 |
| RU2445281C2 (ru) | 2012-03-20 |
| KR101429785B1 (ko) | 2014-08-18 |
| BRPI0716386A2 (pt) | 2013-01-01 |
| MX2009002182A (es) | 2009-04-22 |
| US8163342B2 (en) | 2012-04-24 |
| AU2007290842B2 (en) | 2012-08-23 |
| EP2061729A1 (en) | 2009-05-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2009111380A (ru) | Способ нанесения содержащих легирующие примеси покрытий из оксида цинка, имеющих низкое удельное сопротивление, и изделия, изготавливаемые этим способом | |
| RU2009111381A (ru) | Способ изготовления стеклоизделия с содержащим легирующие примеси покрытием из оксида цинка, имеющим низкое удельное сопротивление, и стеклоизделие с покрытием, изготовленное этим способом | |
| TWI711623B (zh) | 化合物、包含其之前驅物以及製造薄膜的方法 | |
| RU2446232C2 (ru) | Низкотемпературный способ изготовления изделия с покрытием из оксида цинка | |
| JP6322573B2 (ja) | 複合酸化物薄膜製造用組成物及びこの組成物を用いた薄膜の製造方法、並びに複合酸化物薄膜 | |
| JP2013538792A (ja) | 酸化インジウム含有層を製造するためのインジウムオキソアルコキシド | |
| KR20210070318A (ko) | 원자층 퇴적법용 박막 형성용 원료, 박막 형성용 원료, 박막의 제조 방법 및 화합물 | |
| Johnson et al. | Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition of zinc oxide and aluminum zinc oxide | |
| AU2010306798B2 (en) | Deposition of doped ZnO films on polymer substrates by UV-assisted chemical vapor deposition | |
| US7736698B2 (en) | Method of depositing zinc oxide coatings on a substrate | |
| RU2009111377A (ru) | Способ изготовления изделия с покрытием из оксида цинка | |
| US9528182B2 (en) | Chemical vapor deposition using N,O polydentate ligand complexes of metals | |
| RU2008113832A (ru) | Способ осаждения | |
| KR100965270B1 (ko) | 새로운 전자 주개 리간드를 가지는 갈륨 착화합물 및 이의제조방법 | |
| WO2005106896A1 (en) | Electroconductive tin oxide having high mobility and low electron concentration | |
| TW201542574A (zh) | 前驅化合物及使用其沉積薄膜與非晶矽層的方法 | |
| Manzi | Zinc Precursor Synthesis and the Aerosol Assisted Chemical Vapour Deposition of Zinc Oxide Thin Films | |
| KR101383807B1 (ko) | Ｃｉｓ계 또는 ｃｉｇｓ계 태양전지용 광흡수층의 제조방법 및 ｃｉｓ계 또는 ｃｉｇｓ계 태양전지용 광흡수 잉크 | |
| CN101437770A (zh) | 在底材上沉积氧化锌涂层的方法 | |
| KR20120032720A (ko) | 신규의 갈륨 글리콜레이트 화합물 및 그 제조 방법 | |
| JP2007314456A (ja) | アルコキシアルキルメチル基を有するβ−ジケトナトを配位子とする亜鉛錯体の有機溶媒溶液 | |
| JP2011159941A (ja) | 酸化物薄膜作製用塗布溶液 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20170504 |