RU2005139139A - Способ получения композитного материала - Google Patents
Способ получения композитного материала Download PDFInfo
- Publication number
- RU2005139139A RU2005139139A RU2005139139/02A RU2005139139A RU2005139139A RU 2005139139 A RU2005139139 A RU 2005139139A RU 2005139139/02 A RU2005139139/02 A RU 2005139139/02A RU 2005139139 A RU2005139139 A RU 2005139139A RU 2005139139 A RU2005139139 A RU 2005139139A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- layer
- vapor deposition
- stage
- less
- temperature
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/548—Controlling the composition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Claims (20)
1. Способ получения композитного материала, содержащего подложку, первый слой и второй слой, включающий первую стадию осаждения из паровой фазы, во время которой первое соединение осаждают на подложку из паровой фазы, формируя в результате первый слой, и вторую стадию осаждения из паровой фазы, во время которой второе соединение, включающее соединение триазина, осаждают из паровой фазы на первый слой, формируя в результате второй слой, при этом первую и вторую стадии осаждения из паровой фазы осуществляют таким образом, что первый слой включает от 0 до 10 мас.% соединения триазина.
2. Способ по п.1, в котором первое соединение включает металл.
3. Способ по п.1, в котором первое соединение включает алюминий, оксид алюминия или оксид кремния.
4. Способ по любому из пп.1-3, в котором соединение триазина во втором слое является кристаллическим.
5. Способ по п.1, в котором первое соединение включает алюминий, а второе соединение включает меламин.
6. Способ по п.1, в котором упомянутый способ осуществляют при давлении ниже 1000 Па и в котором подложку подвергают контакту с первой охлаждающей поверхностью во время первой стадии осаждения из паровой фазы, при этом упомянутая первая охлаждающая поверхность имеет температуру Т1, а итоговая средняя температура подложки при ее подаче на вторую стадию осаждения из паровой фазы равна температуре ТS1, подвергают контакту со второй охлаждающей поверхностью во время второй стадии осаждения из паровой фазы, при этом упомянутая вторая охлаждающая поверхность имеет температуру Т2, при этом Т2 выбрана таким образом, чтобы разница между ТS1 и Т2 составляла менее 30°С.
7. Способ по п.6, в котором Т2 выбрана таким образом, что разница между ТS1 и Т2 составляет менее 10°С, в частности, менее 5°С.
8. Способ по п.6 или 7, в котором Т1 выбрана таким образом, что Т2 составляет от -10 до +60°С, в частности, от 0 до +50°С.
9. Способ по п.8, в котором Т1 составляет от -30 до +30°С, в частности, от -15 до +20°С.
10. Способ по п.1, в котором подложку с первым слоем, имеющим среднюю температуру ТS1, подвергают контакту во время второй стадии осаждения из паровой фазы со второй охлаждающей поверхностью, имеющей регулируемую температуру Т2, при этом способ осуществляют таким образом, что разница между ТS1 и Т2 составляет менее 30°С.
11. Способ по п.10, в котором упомянутую разницу между ТS1 и Т2 поддерживают на уровне менее 10°С, в частности, менее 5°С.
12. Способ по п.10 или 11, в котором ТS1 регулируют таким образом, что Т2 составляет от -10 до +60°С, в частности, от 0 до +50°С.
13. Способ по любому из пп.1-6, в котором сразу же после второй стадии осаждения из паровой фазы температуру композитного материала ТС снижают до температуры окружающей среды на стадии охлаждения, при этом температуру ТС на стадии охлаждения снижают на 10°С в час или менее.
14. Способ по п.13, в котором ТС на стадии охлаждения снижают на 5°С в час или менее, в частности, на 3°С в час или менее.
15. Способ по п.6, на котором давление на второй стадии осаждения из паровой фазы по меньшей мере на 0,005 Па ниже или выше давления на первой стадии осаждения из паровой фазы.
16. Способ по любому из пп.1-6, в котором подложку и первый слой подвергают стадии механической нагрузки до или во время второй стадии осаждения из паровой фазы.
17. Способ по любому из пп.1-6, включающий стадию поперечного сшивания соединения триазина.
18. Способ по любому из пп.1-6, включающий стадию плазменной обработки подложки, первого слоя или второго слоя.
19. Способ по п.1, включающий стадию нанесения третьего слоя поверх второго слоя.
20. Композитный материал, получаемый способом по любому из пп.1-19.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL0300361 | 2003-05-15 | ||
| NLPCT/NL03/00361 | 2003-05-15 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2005139139A true RU2005139139A (ru) | 2006-05-10 |
| RU2353476C2 RU2353476C2 (ru) | 2009-04-27 |
Family
ID=33448406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2005139139/02A RU2353476C2 (ru) | 2003-05-15 | 2004-05-10 | Способ получения композитного материала |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20070184187A1 (ru) |
| EP (1) | EP1623053A1 (ru) |
| JP (1) | JP2007503529A (ru) |
| KR (1) | KR20060003097A (ru) |
| CN (1) | CN100545298C (ru) |
| AR (1) | AR044333A1 (ru) |
| BR (1) | BRPI0410284A (ru) |
| CA (1) | CA2525715A1 (ru) |
| CL (1) | CL2004001061A1 (ru) |
| NO (1) | NO20055967L (ru) |
| PE (1) | PE20050427A1 (ru) |
| RU (1) | RU2353476C2 (ru) |
| TW (1) | TW200506078A (ru) |
| WO (1) | WO2004101843A1 (ru) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4826114B2 (ja) * | 2004-12-24 | 2011-11-30 | 凸版印刷株式会社 | 無機酸化物蒸着層及び保護層を有するガスバリア基材フィルム |
| AU2007271474A1 (en) * | 2006-07-07 | 2008-01-10 | Dsm Ip Assets B.V. | Flame retardant products |
| EP1995059A1 (en) | 2007-05-24 | 2008-11-26 | DSM IP Assets B.V. | Substrates with barrier properties at high humidity |
| BRPI0806577B1 (pt) * | 2007-01-11 | 2018-08-07 | Dsm Ip Assets B.V. | Substratos e laminados com propriedades de barreira em umidade elevada e seus usos, bem como processo para fabricação de substratos com propriedades de barreira |
| EP2036716A1 (en) | 2007-07-20 | 2009-03-18 | DSMIP Assets B.V. | A laminate and composite layer comprising a substrate and a coating, and a process for preparation thereof |
| KR101024353B1 (ko) * | 2007-09-11 | 2011-03-23 | (주)휴넷플러스 | 유기 전자 소자 및 그 제조방법 |
| EP2202059B1 (en) * | 2007-10-18 | 2013-09-25 | Ulvac, Inc. | Method for lamination of decorative metal film on resin base material, and resin base material having decorative metal film thereon |
| EP2296876A1 (en) * | 2008-07-10 | 2011-03-23 | DSM IP Assets B.V. | Barrier layers. its uses and a process for preparation thereof |
| JP6225573B2 (ja) | 2013-02-06 | 2017-11-08 | 東洋紡株式会社 | 積層フィルム |
| JP6056521B2 (ja) | 2013-02-06 | 2017-01-11 | 東洋紡株式会社 | ガスバリアフィルム |
| EP3386731A1 (en) * | 2015-12-11 | 2018-10-17 | SABIC Global Technologies B.V. | Method of additive manufacturing to improve interlayer adhesion |
| KR101912033B1 (ko) | 2017-02-13 | 2018-10-25 | 연세대학교 산학협력단 | Fpga 기반의 온도 센싱 장치 및 센싱 방법 |
| EP4242255A1 (en) | 2022-03-09 | 2023-09-13 | Knowfort Holding B.V. | Printable substrates with barrier properties |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2340995A1 (fr) * | 1976-02-16 | 1977-09-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Procede de fabrication d'un materiau en feuille comportant une couche metallique deposee sous vide, et procede de fabrication d'un materiau d'enregistrement |
| US4327141A (en) * | 1977-01-10 | 1982-04-27 | Nevamar Corporation | Abrasion-resistant laminate |
| US4567087A (en) * | 1983-06-28 | 1986-01-28 | Nevamar Corporation | Scuff resistance in abrasion-resistant laminates |
| CN1007847B (zh) * | 1984-12-24 | 1990-05-02 | 住友特殊金属株式会社 | 制造具有改进耐蚀性磁铁的方法 |
| JPS63116314A (ja) * | 1986-11-05 | 1988-05-20 | 三菱レイヨン株式会社 | 透明性に優れた導電性高分子樹脂材料の製造法 |
| US5266384A (en) * | 1991-07-18 | 1993-11-30 | Nevamar Corporation | Aesthetic surface layer |
| KR100362133B1 (ko) * | 1995-03-14 | 2003-03-06 | 다이셀 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 차단성복합필름및그의제조방법 |
| JPH1076593A (ja) * | 1996-09-03 | 1998-03-24 | Daicel Chem Ind Ltd | バリア性複合フィルムおよびその製造方法 |
| NL1009405C2 (nl) * | 1998-06-15 | 1999-12-16 | Dsm Nv | Object omvattende een drager en een zich op de drager bevindende laag. |
| DE19917076A1 (de) * | 1999-04-15 | 2000-10-19 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Herstellung von Verbunden, Verbunde sowie Verwendung derartiger Verbunde |
| JP2002542392A (ja) * | 1999-04-15 | 2002-12-10 | フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァー フェーデルング デア アンゲバンテン フォルシュング エー ファー | リリースコーティング、その製造方法および使用 |
| DE19935181C5 (de) * | 1999-07-27 | 2004-05-27 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Schutz eines vakuumtechnisch bearbeiteten Substrates und Verwendung des Verfahrens |
-
2004
- 2004-05-10 CN CNB2004800133084A patent/CN100545298C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-05-10 JP JP2006532115A patent/JP2007503529A/ja active Pending
- 2004-05-10 BR BRPI0410284-3A patent/BRPI0410284A/pt not_active Application Discontinuation
- 2004-05-10 EP EP04732057A patent/EP1623053A1/en not_active Withdrawn
- 2004-05-10 KR KR1020057021660A patent/KR20060003097A/ko not_active Ceased
- 2004-05-10 CA CA002525715A patent/CA2525715A1/en not_active Abandoned
- 2004-05-10 RU RU2005139139/02A patent/RU2353476C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2004-05-10 US US10/556,081 patent/US20070184187A1/en not_active Abandoned
- 2004-05-10 WO PCT/NL2004/000312 patent/WO2004101843A1/en not_active Ceased
- 2004-05-14 PE PE2004000499A patent/PE20050427A1/es not_active Application Discontinuation
- 2004-05-14 TW TW093113728A patent/TW200506078A/zh unknown
- 2004-05-14 AR ARP040101648A patent/AR044333A1/es not_active Application Discontinuation
- 2004-05-14 CL CL200401061A patent/CL2004001061A1/es unknown
-
2005
- 2005-12-15 NO NO20055967A patent/NO20055967L/no not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN100545298C (zh) | 2009-09-30 |
| JP2007503529A (ja) | 2007-02-22 |
| PE20050427A1 (es) | 2005-08-06 |
| RU2353476C2 (ru) | 2009-04-27 |
| KR20060003097A (ko) | 2006-01-09 |
| US20070184187A1 (en) | 2007-08-09 |
| CN1791700A (zh) | 2006-06-21 |
| CL2004001061A1 (es) | 2005-04-29 |
| AR044333A1 (es) | 2005-09-07 |
| BRPI0410284A (pt) | 2006-05-16 |
| TW200506078A (en) | 2005-02-16 |
| HK1093085A1 (zh) | 2007-02-23 |
| NO20055967L (no) | 2006-01-31 |
| CA2525715A1 (en) | 2004-11-25 |
| WO2004101843A1 (en) | 2004-11-25 |
| EP1623053A1 (en) | 2006-02-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2005139139A (ru) | Способ получения композитного материала | |
| DE502007005172D1 (de) | Nitridhalbleiter-bauelement und verfahren zu seiner herstellung | |
| JP2010523351A5 (ru) | ||
| JP2005129929A (ja) | 窒化ケイ素膜の堆積方法 | |
| WO2004068572A8 (de) | Verfahren zur herstellung eines halbleiterbauelements | |
| WO2002061164A1 (en) | Surface treated steel plate and method for production thereof | |
| WO2004032247A3 (de) | Strahlungsemittierendes halbleiterbauelement und verfahren zur herstellung | |
| ATE10953T1 (de) | Ablagerungsverfahren fuer eine harte metallschicht und ablagerungsart fuer ein solches verfahren, insbesondere ein schmuckstueck mit solch einer schicht. | |
| EP1622970B1 (en) | Process for preparing a composite material | |
| WO2005121396A3 (en) | Controlled deposition of silicon-containing coatings adhered by an oxide layer | |
| CA2416093A1 (en) | Vapour deposition | |
| US20080118758A1 (en) | Metal coated with ceramic and method of manufacturing the same | |
| ES2140496T3 (es) | Sustrato de metal duro con una capa de diamante de alta adherencia. | |
| ATE393840T1 (de) | Verfahren zur temperaturgesteuerten dampfabscheidung auf einem substrat | |
| KR930006823A (ko) | 반도체장치의 제조방법 | |
| WO2000013207A3 (en) | Method for forming a metal film | |
| US5264074A (en) | Flattening method for interlayer insulating film | |
| KR20110117846A (ko) | 응력완화성이 우수한 플라즈마 저항성 세라믹 탑코트 및 그 제조 방법 | |
| TW466721B (en) | Cap attach surface modification for improved adhesion | |
| EP1227345A3 (en) | Diffractive optical element | |
| US7211521B2 (en) | Capping layer for crystallizing germanium, and substrate having thin crystallized germanium layer | |
| NO990018L (no) | Belegg og fremgangsmÕte for fremstilling derav | |
| TW200632155A (en) | Semiconductor wafer having a semiconductor layer and an electrically insulating layer beneath it, and process for producing it | |
| WO2005006413A3 (en) | Semiconductor etch speed modification | |
| RU2006135525A (ru) | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20200511 |