RU2002128750A - Фотоактивируемая композиция для покрытия и ее применение для получения покрытий с быстро обрабатываемой при температуре окружающей среды поверхностью - Google Patents
Фотоактивируемая композиция для покрытия и ее применение для получения покрытий с быстро обрабатываемой при температуре окружающей среды поверхностьюInfo
- Publication number
- RU2002128750A RU2002128750A RU2002128750/04A RU2002128750A RU2002128750A RU 2002128750 A RU2002128750 A RU 2002128750A RU 2002128750/04 A RU2002128750/04 A RU 2002128750/04A RU 2002128750 A RU2002128750 A RU 2002128750A RU 2002128750 A RU2002128750 A RU 2002128750A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- alkyl
- coating composition
- composition according
- hydrogen
- phenyl
- Prior art date
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims 3
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 13
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- -1 anthracyl Chemical group 0.000 claims 6
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 4
- 239000002585 base Substances 0.000 claims 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 3
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 claims 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000001644 phenoxazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 claims 2
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004627 thianthrenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3SC12)* 0.000 claims 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 claims 2
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical class C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003341 Bronsted base Substances 0.000 claims 1
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 claims 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical group OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N acetoacetic acid Chemical group CC(=O)CC(O)=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims 1
- 150000004893 oxazines Chemical class 0.000 claims 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
- C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
- C08F290/067—Polyurethanes; Polyureas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/67—Unsaturated compounds having active hydrogen
- C08G18/671—Unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
- C08G18/672—Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D175/04—Polyurethanes
- C09D175/14—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C09D175/16—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
- C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Medicinal Preparation (AREA)
Claims (15)
1. Фотоактивируемая композиция для покрытий, включающая (А) активированное, содержащее ненасыщенную группу соединение, (В) активированное, содержащее СН-группу соединение, (С) катализатор в форме одного или нескольких оснований Льюиса или Бренстеда с сопряженными кислотами, где кислоты имеют рКа, по меньшей мере, 10, и (D) фотоинициатор, отличающийся тем, что фотоинициатором является фотолатентное основание.
2. Композиция для покрытий по п.1, отличающаяся тем, что фотолатентное основание выбирают из 1) соли α-аммония, α-иминия или α-амидиния формулы (I) или (II)
где m=1 или 2 и соответствует числу положительных зарядов катиона;
R1 представляет собой фенил, нафтил, фенантрил, антрацил, пиренил, тиенил, тиантренил, тиоксантил, флуоренил или феноксазинил, указанные радикалы являются незамещенными или моно- или полизамещенными C1-C18-алкилом, С3-С18-алкенилом, NR6R7, ОН, CN, OR8, SR8, C(O)R9, C(O)OR10 или галогеном, или R1 означает радикал формулы А
каждый из R2, R3 и R4 независимо представляет собой водород, C1-C18-алкил, С3-С18-алкенил или фенил, или каждый из R2 и R3 и/или R4 и R3 независимо образует С2-С12-алкиленовый мостик; или R2, R3 и R4, вместе с химически связанным атомом азота, означают группу структурной формулы (а), (b), (с) или (d)
каждый из k и 1 независимо является числом от 2 до 4;
R5, R6, R7, R8, R9 и R10 представляют собой водород или C1-C18-алкил;
R11 означает C1-C18-алкил, С2-С18-алкенил, NR6R7, OR8 или SR8 и
n равно 0 или 1, 2 или 3;
R12, R13 и R14 представляют собой фенил или другой ароматический углеводород, указанные радикалы являются незамещенными или моно- или полизамещенными C1-C18-алкилом, OR8 или галогеном;
R15 означает С1-С18-алкил, фенил или другой ароматический углеводород, фенильный и ароматический углеводородный радикалы являются незамещенными или моно- или полизамещенными C1-C18-алкилом, OR8 или галогеном;
или
2) соединения формулы (III) или (IV)
где R16 представляет собой фенил, нафтил, фенантрил, антрацил, пиренил, тиенил, тиантренил, тиоксантил, флуоренил или феноксазинил, указанные радикалы являются незамещенными или моно- или полизамещенными C1-C18-алкилом, С3-С18-алкенилом, NR23R24, ОН, CN, OR25, SR25, C(O)R25, C(O)OR27 или галогеном, или R16 означает радикал формулы А
каждый из R17 и R18 независимо является водородом, C1-C18-алкилом, С3-С18-алкенилом, С3-С18-алкинилом или фенилом;
R20 представляет собой C1-C18-алкил или NR29R30;
R19, R21, R22, R23, R24, R25, R26 и R27 являются водородом или С1-С18-алкилом;
R28 означает C1-C18-алкил, С2-С18-алкенил, NR23R24, OR25 или SR25; и каждый из R29 и R30 независимо означает водород или C1-C18-алкил; или
R19 и R21 вместе образуют С2-С12-алкиленовый мостик, или
R20 и R22 вместе, независимо от R19 и R21, образуют C2-C12-алкиленовый мостик, или, если R20 означает NR29R30, R30 и R22 вместе образуют С2-С12-алкиленовый мостик.
R31 является водородом или C1-C18-алкилом;
R32 представляет собой водород, С1-С18-алкил или фенил, замещенный C1-C18-алкилом.
3. Композиция для покрытий по п.2, отличающаяся тем, что фотолатентное основание представляет собой α-аминоалкен структуры (IV),
где R16 является фенилом;
R17 и R18 представляют собой водород или метил;
R19 и R21 вместе образуют С3-алкиленовый мостик;
R20 и R22 вместе образуют С3-алкиленовый мостик;
R31 и R32 являются водородом.
4. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-3, отличающаяся тем, что компонент (D) присутствует в количестве от 0,01 до 10 мас.% в расчете на массу компонентов (А)+(В).
5. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-4, отличающаяся тем, что компонент (С) присутствует в количестве от 0,01 до 10 мас.% в расчете на массу компонентов (А)+(В).
6. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-5, отличающаяся тем, что композиция дополнительно содержит сенсибилизатор, выбранный из группы, включающей: тиоксантоны, оксазины, кетокумарины, родамины, бензофенон и их производные.
7. Композиция для покрытий по п.6, отличающаяся тем, что сенсибилизатор выбирают из группы, включающей бензофенон и его производные.
8. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-7, отличающаяся тем, что (С) представляет собой 1,8-диазабицикло-[5,4,0]-ундец-7-ен.
9. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-8, отличающаяся тем, что соединение с активированной СН группой представляет собой олигомерное или полимерное малонатное соединение и/или соединение, содержащее ацетоацетатную группу.
10. Композиция для покрытий по п.9, отличающаяся тем, что малонатное соединение представляет собой полиуретан, сложный полиэфир, полиакрилат, эпоксидную смолу, полиамид или поливиниловую смолу с малонатными группами в основной и/или боковой цепи.
11. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-10, отличающаяся тем, что (А) и (В) присутствуют в таком количестве, что соотношение числа активированных СН групп к числу активированных ненасыщенных групп находится приблизительно в пределах от 0,25 до 4,0.
12. Композиция для покрытий по п.11, отличающаяся тем, что (А) и (В) присутствуют в таком количестве, что соотношение числа активированных СН групп к числу активированных ненасыщенных групп находится приблизительно в пределах от 0,5 до 2,0.
13. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-12, отличающаяся тем, что (С) и (D) присутствуют в таком количестве, что массовое соотношение (С) и (D) находится в пределах приблизительно от 0,1 до 2,5.
14. Способ покрытия субстрата, в котором композицию для покрытия по любому из предшествующих пп.1-13 наносят на субстрат и впоследствии субстрат облучают УФ светом.
15. Применение композиции для покрытия по любому из предшествующих пп.1-13 при ремонте автомобилей.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP00201102 | 2000-03-28 | ||
| EP00201102.1 | 2000-03-28 | ||
| EP00201968 | 2000-06-06 | ||
| EP00201968.5 | 2000-06-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2002128750A true RU2002128750A (ru) | 2004-02-27 |
Family
ID=26072044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2002128750/04A RU2002128750A (ru) | 2000-03-28 | 2001-03-27 | Фотоактивируемая композиция для покрытия и ее применение для получения покрытий с быстро обрабатываемой при температуре окружающей среды поверхностью |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020076504A1 (ru) |
| EP (1) | EP1278804A1 (ru) |
| JP (1) | JP2003528966A (ru) |
| KR (1) | KR20020084256A (ru) |
| CN (1) | CN1420914A (ru) |
| AU (1) | AU2001258304A1 (ru) |
| BR (1) | BR0109538A (ru) |
| RU (1) | RU2002128750A (ru) |
| WO (1) | WO2001072910A1 (ru) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2625122C2 (ru) * | 2011-10-07 | 2017-07-11 | Оллнекс Незерландс Б.В. | Сшиваемая композиция, способная к сшиванию по реакции присоединения михаэля (rma) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1105368B1 (de) * | 1998-08-21 | 2002-10-30 | Ciba SC Holding AG | Photoaktivierbare stickstoffhaltige basen |
| EP1275496B1 (en) * | 2000-04-03 | 2011-09-21 | Mitsubishi Chemical Corporation | Layered product, bonding method, and composition curable with actinic energy ray |
| EP1497338B1 (en) * | 2002-04-19 | 2010-09-01 | Basf Se | Curing of coatings induced by plasma |
| US7411033B2 (en) * | 2006-06-16 | 2008-08-12 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Vinyl ethers and compositions containing them |
| CA2752572C (en) | 2009-02-17 | 2014-09-16 | Shaobing Wu | Solvent-borne coating composition containing acetoacyl-functional polymers |
| CN113366069B (zh) * | 2019-02-01 | 2023-04-21 | 湛新奥地利有限公司 | 用于水性涂料组合物的粘结剂 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2759913A (en) * | 1952-05-20 | 1956-08-21 | Hercules Powder Co Ltd | Copolymers of compounds containing activated ethylene double bonds with active hydrogen compounds |
| US4217396A (en) * | 1979-05-10 | 1980-08-12 | Armstrong Cork Company | Acrylate-acetoacetate polymers useful as protective agents for floor coverings |
| US4408018A (en) * | 1982-10-29 | 1983-10-04 | Rohm And Haas Company | Acetoacetate functionalized polymers and monomers useful for crosslinking formulations |
| ZA852044B (en) * | 1984-03-29 | 1985-11-27 | Akzo Nv | Liquid coating composition curable at ambient temperature |
| ATE46178T1 (de) * | 1984-04-04 | 1989-09-15 | Hoechst Ag | Umsetzungsprodukt von olefinisch ungesaettigten verbindungen mit wasserstoffaktiven verbindungen, verfahren zu dessen herstellung und darauf basierende 2-komponentenlacke. |
| DE3932517A1 (de) * | 1989-09-29 | 1991-04-11 | Herberts Gmbh | Bindemittelzusammensetzung und deren verwendung in ueberzugsmitteln |
| DE4225104C1 (de) * | 1992-07-30 | 1993-12-09 | Herberts Gmbh | Überzugsmittel und dessen Verwendung bei der Herstellung von Überzügen mit rasch bearbeitbarer Oberfläche |
| DE69806739T2 (de) * | 1997-03-18 | 2003-03-13 | Ciba Speciality Chemicals Holding Inc., Basel | Photoaktivierbare, stickstoff enthaltende basen auf basis von alpha-aminoalkenen |
-
2001
- 2001-03-27 JP JP2001571829A patent/JP2003528966A/ja active Pending
- 2001-03-27 BR BR0109538-2A patent/BR0109538A/pt not_active IP Right Cessation
- 2001-03-27 RU RU2002128750/04A patent/RU2002128750A/ru not_active Application Discontinuation
- 2001-03-27 AU AU2001258304A patent/AU2001258304A1/en not_active Abandoned
- 2001-03-27 WO PCT/EP2001/003742 patent/WO2001072910A1/en not_active Ceased
- 2001-03-27 EP EP01931558A patent/EP1278804A1/en not_active Withdrawn
- 2001-03-27 CN CN01807428A patent/CN1420914A/zh active Pending
- 2001-03-27 KR KR1020027012713A patent/KR20020084256A/ko not_active Withdrawn
- 2001-03-28 US US09/820,074 patent/US20020076504A1/en not_active Abandoned
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2625122C2 (ru) * | 2011-10-07 | 2017-07-11 | Оллнекс Незерландс Б.В. | Сшиваемая композиция, способная к сшиванию по реакции присоединения михаэля (rma) |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2001072910A1 (en) | 2001-10-04 |
| EP1278804A1 (en) | 2003-01-29 |
| US20020076504A1 (en) | 2002-06-20 |
| JP2003528966A (ja) | 2003-09-30 |
| KR20020084256A (ko) | 2002-11-04 |
| CN1420914A (zh) | 2003-05-28 |
| AU2001258304A1 (en) | 2001-10-08 |
| BR0109538A (pt) | 2003-06-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2332419C2 (ru) | Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение | |
| JP5925201B2 (ja) | 二重反応性シラン官能基を含むオンデマンド型硬化性組成物 | |
| FI73841C (fi) | Genom bestraolning polymeriserbar blandning och daerur framstaellt fotopolymeriserbart kopieringsmaterial. | |
| US4440850A (en) | Photopolymerisation process with two exposures of a single layer | |
| KR970072029A (ko) | 포토리소그래피레지스트용 하지조성물 및 포토리소그래피패터닝용의 레지스트재료 | |
| TWI266147B (en) | Novel photosensitive resin compositions | |
| WO2015111640A1 (ja) | ボレート系塩基発生剤および該塩基発生剤を含有する塩基反応性組成物 | |
| KR970066717A (ko) | 폴리이미드 하도제를 기본으로 하는 네가티브 작용성 감광성 내식막 조성물 | |
| RU2002128750A (ru) | Фотоактивируемая композиция для покрытия и ее применение для получения покрытий с быстро обрабатываемой при температуре окружающей среды поверхностью | |
| KR102834198B1 (ko) | 경화성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 경화막의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스 | |
| WO1998038195B1 (en) | PHOTOACTIVATABLE NITROGEN-CONTAINING BASES BASED ON α-AMMONIUM KETONES, IMINIUM KETONES OR AMIDINIUM KETONES AND ARYL BORATES | |
| TWI890907B (zh) | 樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物之製造方法及半導體元件 | |
| WO2005003858A3 (en) | Compositions comprising photoacid generators | |
| KR102871890B1 (ko) | 경화성 수지 조성물, 수지막, 경화막, 적층체, 경화막의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스 | |
| KR20140085123A (ko) | 시아누릭산 유도체, 상기 시아누릭산 유도체를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물 및 상기 레지스트 하층막용 조성물을 사용한 패턴 형성 방법 | |
| WO2006095670A1 (ja) | 塩基増殖剤及び塩基反応性硬化性組成物 | |
| KR960037720A (ko) | 가교결합된 중합체 | |
| RU2009114833A (ru) | Композиции для низкотемпературных, влагозатвердевающих покрытий и связанные с ними способы | |
| RU2003112460A (ru) | Способ получения циклических полиаминов, содержащих в кольце n атомов азота, защищенных по принципу "все, кроме одного" (n-1), и продукты | |
| KR20220107008A (ko) | 경화성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 경화막의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스 | |
| TW202200671A (zh) | 硬化性樹脂組成物、硬化膜、積層體、硬化膜之製造方法及半導體器件 | |
| KR101920651B1 (ko) | 감광성 유기 입자 | |
| JP2000147761A (ja) | 感光性ポリイミド組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 | |
| JP3966590B2 (ja) | 感光性組成物 | |
| KR20200100750A (ko) | 에티닐 유도된 복합체, 이를 포함하는 조성물, 이에 의한 코팅의 제조 방법, 및 코팅을 포함하는 장치의 제조 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FA92 | Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted) |
Effective date: 20050411 |