[go: up one dir, main page]

RU2002122008A - Источник с катодным конусом высокочастотных импульсов ионов водорода - Google Patents

Источник с катодным конусом высокочастотных импульсов ионов водорода

Info

Publication number
RU2002122008A
RU2002122008A RU2002122008/09A RU2002122008A RU2002122008A RU 2002122008 A RU2002122008 A RU 2002122008A RU 2002122008/09 A RU2002122008/09 A RU 2002122008/09A RU 2002122008 A RU2002122008 A RU 2002122008A RU 2002122008 A RU2002122008 A RU 2002122008A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
cathode
source
hydrogen ions
frequency pulses
cone
Prior art date
Application number
RU2002122008/09A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2231162C2 (ru
Inventor
Юрий Яковлевич Лапицкий
Original Assignee
Федеральное государственное унитарное предпри тие Государственный научный центр Российской Федерации Институт теоретической и экспериментальной физики
Федеральное государственное унитарное предприятие Государственный научный центр Российской Федерации Институт теоретической и экспериментальной физики
Министерство Российской Федерации по атомной энергии
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное унитарное предпри тие Государственный научный центр Российской Федерации Институт теоретической и экспериментальной физики, Федеральное государственное унитарное предприятие Государственный научный центр Российской Федерации Институт теоретической и экспериментальной физики, Министерство Российской Федерации по атомной энергии filed Critical Федеральное государственное унитарное предпри тие Государственный научный центр Российской Федерации Институт теоретической и экспериментальной физики
Priority to RU2002122008/09A priority Critical patent/RU2231162C2/ru
Publication of RU2002122008A publication Critical patent/RU2002122008A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2231162C2 publication Critical patent/RU2231162C2/ru

Links

Landscapes

  • Particle Accelerators (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Claims (1)

  1. Источник с катодным конусом высокочастотных импульсов ионов водорода, состоящий из соленоидной катушки, надетой на немагнитную вакуумную камеру, внутри которой помещен первый магнитный полюс с центральным углублением, первого катода из нержавеющей стали в виде плоского диска с центральным углублением в виде стакана, на дне которого закреплен конус из тугоплавкого металла с углом раствора 60°, анода в виде цилиндра с отверстием, второго катода в виде плоского листка с центральным углублением, на дне которого расположено отверстие эмиссии, отличающийся тем, что во втором магнитном полюсе между стенкой, содержащей эмиссионное отверстие второго катода, и расширительной чашей магнитного полюса выполнена перемычка из магнитного материала с отверстием диаметром, равным диаметру эмиссионного отверстия во втором катоде.
RU2002122008/09A 2002-08-12 2002-08-12 Источник с катодным конусом высокочастотных импульсов ионов водорода RU2231162C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2002122008/09A RU2231162C2 (ru) 2002-08-12 2002-08-12 Источник с катодным конусом высокочастотных импульсов ионов водорода

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2002122008/09A RU2231162C2 (ru) 2002-08-12 2002-08-12 Источник с катодным конусом высокочастотных импульсов ионов водорода

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2002122008A true RU2002122008A (ru) 2004-02-27
RU2231162C2 RU2231162C2 (ru) 2004-06-20

Family

ID=32845969

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2002122008/09A RU2231162C2 (ru) 2002-08-12 2002-08-12 Источник с катодным конусом высокочастотных импульсов ионов водорода

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2231162C2 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108717927A (zh) * 2018-05-23 2018-10-30 宁波盘福生物科技有限公司 多通道辉光放电潘宁离子源装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2642921C1 (ru) * 2017-03-28 2018-01-30 Федеральное государственное бюджетное учреждение "Институт теоретической и экспериментальной физики имени А.И. Алиханова Национального исследовательского центра "Курчатовский институт" (НИЦ "Курчатовский институт" - ИТЭФ) Импульсный источник ионов гелия
RU2671960C1 (ru) * 2018-02-01 2018-11-08 Федеральное государственное бюджетное учреждение "Институт теоретической и экспериментальной физики имени А.И. Алиханова Национального исследовательского центра "Курчатовский институт" Импульсный источник водородных ионов с осцилляцией электронов в неоднородном продольном магнитном поле

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2098883C1 (ru) * 1993-05-28 1997-12-10 Институт теоретической и экспериментальной физики Протонный импульсный источник с катодным конусом
AU7092396A (en) * 1996-09-27 1998-04-17 Arpad Barna Ion source for generating ions of a gas or vapour
DE10010706C2 (de) * 2000-03-04 2002-07-25 Schwerionenforsch Gmbh Hohlkathoden-Sputter-Ionenquelle zur Erzeugung von Ionenstrahlen hoher Intensität

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108717927A (zh) * 2018-05-23 2018-10-30 宁波盘福生物科技有限公司 多通道辉光放电潘宁离子源装置
CN108717927B (zh) * 2018-05-23 2024-03-19 宁波盘福生物科技有限公司 多通道辉光放电潘宁离子源装置

Also Published As

Publication number Publication date
RU2231162C2 (ru) 2004-06-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW486718B (en) High-density plasma source for ionized metal deposition
US6497803B2 (en) Unbalanced plasma generating apparatus having cylindrical symmetry
TW442851B (en) Improved magnet design for a sputtering chamber
CN102725435B (zh) 磁场产生装置、磁控管阴极及溅射装置
JP5461264B2 (ja) マグネトロンスパッタリング装置、及び、スパッタリング方法
JPS61271810A (ja) スパツタリング磁性材料のためのタ−ゲツト組立体
ATE293283T1 (de) Magnetronzerstäubungsquelle
WO2003015257A3 (en) Auxiliary vertical magnet outside a nested unbalanced magnetron
CN107794496A (zh) 磁控溅射镀膜设备和磁控溅射镀膜方法
CN101824600B (zh) 磁控溅射阴极、磁控溅射设备及制造磁性器件的方法
RU2002122008A (ru) Источник с катодным конусом высокочастотных импульсов ионов водорода
JP5717444B2 (ja) カソードユニット及びこのカソードユニットを備えたスパッタリング装置
WO2003015474A3 (en) Auxiliary in-plane magnet inside a nested unbalanced magnetron
US20080110882A1 (en) Structure of Cup for Magnetized Active Water
TW539757B (en) High target utilization magnetic arrangement for a truncated conical sputtering target
JP4992038B2 (ja) スパッタ装置及びスパッタ方法
CN218932274U (zh) 一种电弧离子镀的圆环靶材
JPH0525625A (ja) マグネトロンスパツタカソード
RU2003116203A (ru) Ионный источник с холодным катодом
CN104532202B (zh) 一种用于中低真空的磁控溅射靶阴极
RU2209483C2 (ru) Электронно-ионный источник
JPS57194255A (en) Sputtering device
WO2001092595A1 (en) Unbalanced plasma generating apparatus having cylindrical symmetry
RU2002101703A (ru) Магнетрон
JP4270669B2 (ja) 強磁性体のマグネトロンスパッタ方法および装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20080813