KR20130061627A - 화상 형성 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 제1 실시예의 화상 형성 장치의 제어 시스템의 블록도이다.
도 3은 제1 실시예의 정착 장치의 구성을 그 축에 대해 수직한 단면으로 나타내어 설명하는 도면이다.
도 4는 제1 실시예의 정착 장치의 정착 제어 흐름도이다.
도 5는 일반 용지에 대해 실시되는 정착 제어의 타임 차트이다.
도 6은 박지에 대해 실시되는 정착 제어의 타임 차트이다.
도 7은 후지에 대해 실시되는 정착 제어의 타임 차트이다.
도 8은 제2 실시예에 따른 정착 장치의 정착 제어 흐름도이다.
도 9는 제3 실시예에 따른 정착 장치의 정착 제어 흐름도이다.
도 10은 제3 실시예에 따라 박지에 대해 실시되는 정착 제어의 타임 차트이다.
도 11은 제3 실시예의 제어 효과를 나타내는 타임 차트이다.
도 12는 제4 실시예에 따른 정착 장치의 정착 제어 흐름도이다.
| 기록 매체의 종류 | 정착 롤러의 목표 온도 | 정착 롤러의 대기 온도 |
| 박지 | 160℃ | 180℃ |
| 일반 용지 | 180℃ | |
| 제1 후지 | 190℃ | |
| 제2 후지 | 200℃ |
| 기록 매체의 종류 | 급지 동작: ON [A] | 가압 동작: ON [B] | 가열 닙 진입 타이밍 |
| 박지 | 0초 | 1초 | (6초) |
| 일반 용지 | 0초 | 5초 | (6초) |
| 제1 후지 | 2초 | 7초 | (8초) |
| 제2 후지 | 4초 | 9초 | (10초) |
| 기록 매체의 종류 | 레지스트레이션 동작: ON [A] | 가압 동작: ON [B] | 가열 닙 진입 타이밍 |
| 박지 | 3초 | 1초 | (6초) |
| 일반 용지 | 3초 | 5초 | (6초) |
| 제1 후지 | 5초 | 7초 | (8초) |
| 제2 후지 | 7초 | 9초 | (10초) |
| 기록 매체의 종류 |
레지스트레이션 동작: ON [A] |
가압 동작: ON [B] | 가열 닙 진입 타이밍 |
| 박지 | 현재 온도 < 165℃ | 1초 | (레지스트레이션 동작: ON + 3초) |
| 일반 용지 | 현재 온도 < 175℃ | (레지스트레이션 동작: ON + 2초) |
(레지스트레이션 동작: ON + 3초) |
| 제1 후지 | 현재 온도 < 185℃ | (레지스트레이션 동작: ON + 2초) |
(레지스트레이션 동작: ON + 3초) |
| 제2 후지 | 현재 온도 < 195℃ | (레지스트레이션 동작: ON + 2초) |
(레지스트레이션 동작: ON + 3초) |
| 기록 매체의 종류 |
레지스트레이션 동작: ON [A] |
가압 동작: ON [B] | 가열 닙 진입 타이밍 |
| 박지 |
습도 10g/㎏ 이상: 현재 온도 < 165℃ 습도 10g/㎏ 미만: 현재 온도 < 170℃ |
1초 |
(레지스트레이션 동작: ON + 3초) |
| 일반 용지 |
외부 온도 15℃ 미만: 현재 온도 < 175℃ 외부 온도 15℃ 이상: 현재 온도 < 170℃ |
(레지스트레이션 동작: ON + 2초) |
(레지스트레이션 동작: ON + 3초) |
| 제1 후지 |
외부 온도 15℃ 미만: 현재 온도 < 185℃ 외부 온도 15℃ 이상: 현재 온도 < 180℃ |
(레지스트레이션 동작: ON + 2초) |
(레지스트레이션 동작: ON + 3초) |
| 제2 후지 |
외부 온도 15℃ 미만: 현재 온도 < 195℃ 외부 온도 15℃ 이상: 현재 온도 < 190℃ |
(레지스트레이션 동작: ON + 2초) |
(레지스트레이션 동작: ON + 3초) |
Claims (14)
- 기록 매체에 형성된 화상을 가열하도록 구성된 화상 가열 수단;
상기 화상 가열 수단을 가열하도록 구성된 가열 수단;
상기 기록 매체를 닙핑(nip)하고 반송하기 위한 닙을 형성하기 위해 상기 화상 가열 수단을 가압하도록 구성된 가압 수단; 및
상기 화상 가열 수단에 대해 상기 가압 수단을 접촉하고, 상기 화상 가열 수단으로부터 상기 가압 수단을 분리하도록 구성된 접촉 및 분리 수단을 포함하는 화상 형성 장치로서,
상기 화상 가열 수단의 온도가 목표 온도로 설정되고, 상기 기록 매체에 형성된 화상을 가열하기 시작할 때, 상기 목표 온도를, 적어도 상기 가압 수단이 상기 화상 가열 수단으로부터 분리되는 대기 상태에서의 목표 온도인 대기 목표 온도로부터 제1 기록 매체에 형성된 화상을 가열하는 목표 온도인 제1 목표 온도로, 또는 상기 제1 기록 매체의 평량(basis weight)보다 작은 평량의 제2 기록 매체에 형성된 화상을 가열하는 목표 온도이며 상기 대기 목표 온도와 상기 제1 목표 온도보다 낮은 제2 목표 온도로 전환할 수 있도록, 상기 가열 수단을 제어하도록 구성된 제어 수단을 더 포함하고,
상기 제어 수단은, 상기 화상 가열 수단의 목표 온도가 상기 제1 목표 온도인 경우보다 상기 화상 가열 수단의 목표 온도가 상기 제2 목표 온도인 경우에, 화상 형성 신호의 입력으로부터 대기 상태의 가압 수단이 화상 가열 수단에 접촉하여 닙을 형성할 때까지의 시간이 짧도록, 상기 접촉 및 분리 수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. - 제1항에 있어서,
상기 제어 수단은, 상기 목표 온도가 상기 제1 목표 온도인 경우보다 상기 화상 가열 수단의 목표 온도가 상기 제2 목표 온도인 경우에, 상기 가압 수단이 화상 가열 수단에 접촉하여 닙을 형성할 때로부터 상기 기록 매체가 상기 닙에 도달하기까지의 시간이 길도록, 기록 매체 급송 시간을 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. - 제2항에 있어서,
상기 제어 수단은, 상기 화상 가열 수단의 목표 온도가 상기 제2 목표 온도인 경우에, 화상 형성 신호의 입력으로부터 대기 상태의 가압 수단이 화상 가열 수단에 접촉하여 닙을 형성할 때까지의 시간이 가압 수단이 화상 형성 수단에 접촉하여 닙을 형성할 때로부터 기록 매체가 닙에 도달하기까지의 시간보다 짧도록, 상기 기록 매체 급송 시간과 상기 접촉 및 분리 수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. - 제2항에 있어서,
상기 제어 수단은, 상기 화상 가열 수단의 목표 온도가 상기 제1 목표 온도인 경우에, 화상 형성 신호의 입력으로부터 대기 상태의 가압 수단이 화상 가열 수단에 접촉하여 닙을 형성할 때까지의 시간이, 가압 수단이 화상 형성 수단에 접촉하여 닙을 형성할 때로부터 기록 매체가 닙에 도달하기까지의 시간보다 길도록, 상기 기록 매체 급송 시간과 상기 접촉 및 분리 수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. - 제1항에 있어서,
상기 제어 수단은, 가압 수단이 화상 가열 수단의 목표 온도를 전환한 후 화상 가열 수단에 접촉하기 시작하도록, 상기 화상 형성 신호의 입력에 응답하여 접촉 및 분리 수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. - 제1항에 있어서,
상기 대기 목표 온도는 상기 제1 목표 온도보다 낮은 온도인 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. - 제1항에 있어서,
상기 화상 형성 장치는 화상 가열 수단의 온도를 검출하도록 구성된 온도계를 더 포함하고,
상기 제어 수단은, 상기 화상 가열 수단의 목표 온도가 상기 제2 목표 온도인 경우에, 상기 온도계의 온도가 대기 목표 온도로부터 제2 목표 온도로 강하하는 과정에서 화상 가열 수단의 온도가 미리 정해진 온도에 도달하였음을 상기 온도계가 검출할 때 기록 매체를 반송하기 시작하도록, 기록 매체 급송 시간을 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. - 제7항에 있어서,
상기 화상 형성 장치는 상기 화상 형성 장치 내부의 습도를 검출하도록 구성된 습도 센서를 더 포함하고,
상기 제어 수단은 절대 습도가 상승할수록 상기 미리 정해진 온도를 낮게 설정하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. - 제1항에 있어서,
상기 화상 형성 장치는 상기 가압 수단을 가열하도록 구성된 가열 수단을 더 포함하고,
상기 제어 수단은 상기 화상 가열 수단의 대기 목표 온도보다 상기 가압 수단의 대기 목표 온도를 낮게 설정하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. - 기록 매체에 형성된 화상을 가열하도록 구성된 화상 가열 수단;
상기 기록 매체를 닙핑하고 반송하기 위한 닙을 형성하기 위해 상기 화상 가열 수단을 가압하도록 구성된 가압 수단; 및
상기 화상 가열 수단에 대해 상기 가압 수단을 접촉하고, 상기 화상 가열 수단으로부터 상기 가압 수단을 분리하도록 구성된 접촉 및 분리 수단을 포함하는 화상 형성 장치로서,
상기 화상 가열 수단의 온도가 미리 설정된 목표 온도에 도달하도록 전력을 제어하도록 구성된 제어 수단을 더 포함하고,
상기 제어 수단은 상기 기록 매체의 종류를 판별하고,
상기 제어 수단은, 상기 목표 온도가 제1 목표 온도에 도달하도록 전력을 제어하여 제1 기록 매체에 형성된 화상을 가열하는 제1 모드와, 상기 목표 온도가 상기 제1 목표 온도보다 낮은 제2 목표 온도에 도달하도록 전력을 제어하여 상기 제1 기록 매체의 평량보다 작은 평량의 제2 기록 매체에 형성된 화상을 가열하는 제2 모드를 실행할 수 있으며,
상기 제어 수단은, 상기 가압 수단이 상기 화상 가열 수단으로부터 분리된 상태에서 상기 화상 가열 수단의 온도가 상기 제2 목표 온도보다 높은 목표 온도에 도달하도록 전력을 제어하여 화상 형성 신호의 입력을 대기하는 대기 모드를 실행할 수 있고,
상기 제어 수단은, 상기 제2 모드에서 상기 화상 형성 신호의 입력으로부터 상기 화상 가열 수단과 상기 가압 수단의 접촉까지의 시간이 상기 제1 모드에서 상기 화상 형성 신호의 입력으로부터 상기 화상 가열 수단과 상기 가압 수단의 접촉까지의 시간보다 짧도록 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. - 제10항에 있어서,
상기 제어 수단은, 상기 제2 모드에서 상기 화상 가열 수단과 상기 가압 수단의 접촉으로부터 상기 기록 매체가 상기 닙에 도달하기까지의 시간이 상기 제1 모드에서 상기 화상 가열 수단과 상기 가압 수단의 접촉으로부터 상기 기록 매체가 상기 닙에 도달하기까지의 시간보다 길도록 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. - 제11항에 있어서,
상기 제어 수단은, 상기 제2 모드에서, 상기 화상 형성 신호의 입력으로부터 상기 화상 가열 수단과 상기 가압 수단의 접촉까지의 시간이 상기 화상 가열 수단과 상기 가압 수단의 접촉으로부터 상기 기록 매체가 상기 닙에 도달하기까지의 시간보다 짧도록 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. - 제11항에 있어서,
상기 제어 수단은, 상기 제1 모드에서, 상기 화상 형성 신호의 입력으로부터 상기 화상 가열 수단과 상기 가압 수단의 접촉까지의 시간이 상기 화상 가열 수단과 상기 가압 수단의 접촉으로부터 상기 기록 매체가 상기 닙에 도달하기까지의 시간보다 길도록 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치. - 기록 매체에 형성된 화상을 가열하도록 구성된 화상 가열 수단;
상기 기록 매체를 닙핑하고 반송하기 위한 닙을 형성하기 위해 상기 화상 가열 수단을 가압하도록 구성된 가압 수단; 및
상기 화상 가열 수단에 대해 상기 가압 수단을 접촉하고, 상기 화상 가열 수단으로부터 상기 가압 수단을 분리하도록 구성된 접촉 및 분리 수단을 포함하는 화상 형성 장치로서,
상기 화상 가열 수단의 온도가 미리 설정된 목표 온도에 도달하도록 전력을 제어하도록 구성된 제어 수단을 더 포함하고,
상기 제어 수단은 상기 기록 매체의 종류를 판별하며,
상기 제어 수단은, 상기 목표 온도가 제1 목표 온도에 도달하도록 전력을 제어하여 제1 기록 매체에 형성된 화상을 가열하는 제1 모드와, 상기 목표 온도가 상기 제1 목표 온도보다 낮은 제2 목표 온도에 도달하도록 전력을 제어하여 상기 제1 기록 매체의 평량보다 작은 평량의 제2 기록 매체에 형성된 화상을 가열하는 제2 모드를 실행할 수 있고,
상기 제어 수단은, 상기 가압 수단이 상기 화상 가열 수단으로부터 분리된 상태에서 상기 화상 가열 수단의 온도가 상기 제2 목표 온도보다 높은 목표 온도에 도달하도록 전력을 제어하여 화상 형성 신호의 입력을 대기하는 대기 모드를 실행할 수 있으며,
상기 제어 수단은, 상기 제2 모드에서 상기 화상 가열 수단과 상기 가압 수단의 접촉으로부터 상기 기록 매체가 상기 닙에 도달하기까지의 시간이 상기 제1 모드에서 상기 화상 가열 수단과 상기 가압 수단의 접촉으로부터 상기 기록 매체가 상기 닙에 도달하기까지의 시간보다 길도록 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
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