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KR20080080768A - Dielectric composition for plasma display panel and plasma display panel using same - Google Patents

Dielectric composition for plasma display panel and plasma display panel using same Download PDF

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KR20080080768A
KR20080080768A KR1020070020908A KR20070020908A KR20080080768A KR 20080080768 A KR20080080768 A KR 20080080768A KR 1020070020908 A KR1020070020908 A KR 1020070020908A KR 20070020908 A KR20070020908 A KR 20070020908A KR 20080080768 A KR20080080768 A KR 20080080768A
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KR
South Korea
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dielectric
display panel
plasma display
composition
glass
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KR1020070020908A
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Korean (ko)
Inventor
변나미
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엘지전자 주식회사
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Publication date
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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 조성물 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 52∼65wt%의 PbO, 5∼30wt%의 B2O3, 0∼25wt%의 SiO2, 0∼5wt%의 Al2O3, 0∼15wt%의 BaO, 0∼10wt%의 ZnO, 그리고 0∼15wt%의 SrO가 포함된 유전체 조성물 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다. 본 발명은 단가 면에서 저렴한 소다-라임 유리 기판과 소성 온도가 낮은 PbO 유전체 조성물을 같이 사용함으로써, 520℃ 이하의 저온 소성으로 전극 황변현상을 방지함과 동시에 고투과율의 플라즈마 디스플레이 패널을 제공할 수 있어 전체적으로 플라즈마 디스플레이 패널의 가격 경쟁력을 향상시킬 수 있다는 효과가 있다.The present invention relates to a dielectric composition for a plasma display panel and a plasma display panel using the same, comprising 52 to 65 wt% PbO, 5 to 30 wt% B 2 O 3 , Dielectric composition comprising 0-25 wt% SiO 2 , 0-5 wt% Al 2 O 3 , 0-15 wt% BaO, 0-10 wt% ZnO, and 0-15 wt% SrO and plasma display panel using the same It is about. According to the present invention, a low-cost soda-lime glass substrate and a low calcination temperature PbO dielectric composition are used together to provide high transmittance plasma display panel while preventing electrode yellowing with low temperature calcination below 520 ° C. Therefore, the overall price competitiveness of the plasma display panel can be improved.

Description

플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 조성물 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널{DIELECTRIC COMPOSITION FOR PLASMA DISPLAY PANEL AND PLASMA DISPLAY PANEL USING THE SAME}A dielectric composition for a plasma display panel and a plasma display panel using the same {{{ELITIVE COMPOSITION FOR PLASMA DISPLAY PANEL AND PLASMA DISPLAY PANEL USING THE SAME}}

도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀 구조를 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view illustrating a discharge cell structure of a conventional plasma display panel.

도 2는 본 발명의 실시예 1에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to Embodiment 1 of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시예 2에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a second embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예 3에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a third embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 실시예 4에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a fourth embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 실시예 9에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 나타낸 개략 블록도이다.6 is a schematic block diagram showing a method of manufacturing a plasma display panel according to Embodiment 9 of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1, 11 : 제 1 기판(상부) 2, 12 : 제 2 기판(하부)1, 11: 1st board | substrate (upper) 2, 12: 2nd board | substrate (lower)

3, 13 : 격벽 4, 14 : 제 2 유전체층(하부)3, 13: partition 4, 14: second dielectric layer (lower)

5, 15 : 형광체 6, 16 : 제 1 유전체층(상부)5, 15: phosphor 6, 16: first dielectric layer (top)

7, 17 : 보호층 7, 17: protective layer

9, 19 : 서스테인 전극쌍 X, X1 : 어드레스전극9, 19: sustain electrode pair X, X1: address electrode

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 조성물 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a dielectric composition for a plasma display panel and a plasma display panel using the same.

차세대 평판 패널 디스플레이 시장을 주도할 가장 높은 잠재성을 가지고 있는 평판표시소자로 부상하는 있는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP : Plasma Display Panel)은 격벽으로 구획된 방전셀(cell)에서 통상 He+Xe, Ne+Xe,He+Xe+Ne 등의 불활성 혼합가스가 방전할 때 발생하는 147nm의 진공자외선이 형광체를 발광시킴으로써 화상을 표시하게 된다. 이러한 플라즈마 디스플레이 패널은 박막화와 대형화가 용이하여 대면적 평판 디스플레이로서 주목받고 있는 디스플레이 장치이다.Plasma Display Panels (PDPs), which are emerging as flat panel display devices with the highest potential to lead the next-generation flat panel display market, are usually He + Xe, Ne + in discharge cells partitioned by partition walls. 147 nm vacuum ultraviolet rays generated when an inert mixed gas such as Xe, He + Xe + Ne are discharged to emit an phosphor to display an image. Such a plasma display panel is a display device that is attracting attention as a large area flat panel display due to its easy thin and large size.

도 1을 참조하면, 3전극 교류 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀은 상부유리기판(1) 상에 형성되어진 서스테인 전극쌍(9)과, 서스테인 전극쌍(9) 위에 형성된 상부 유전체(6)와, 상부 유전체(6) 상에 형성된 보호막(7)과, 하부기판(2) 상에 형성된 어드레스전극(X)과, 어드레스전극(X) 위에 형성된 하부유전체(4)와, 하부유전체(4) 위에 형성된 격벽(3)을 구비한다.Referring to FIG. 1, a discharge cell of a three-electrode AC surface discharge type plasma display panel includes a sustain electrode pair 9 formed on an upper glass substrate 1, an upper dielectric 6 formed on the sustain electrode pair 9, and a discharge electrode. On the protective layer 7 formed on the upper dielectric 6, the address electrode X formed on the lower substrate 2, the lower dielectric 4 formed on the address electrode X, and the lower dielectric 4. The formed partition 3 is provided.

서스테인 전극쌍(9) 각각은 인듐틴옥사이드(Indium-Tin-Oxide : ITO) 등의 투명전극(9a)과, 투명전극(9a)의 선폭보다 작은 선폭을 가지며, 투명전극(9a)의 일측 가장자리에 형성되는 금속버스전극(9b)을 포함한다. 금속버스전극(9b)은 Cr/Cu/Cr을 증착법으로 적층한 후에 에싱공정(ashing)을 거쳐 형성된다. 서스테인 전극쌍(9)이 스크린인쇄나 진공증착법으로 형성된 상부기판(1)에는 상부 유전체(6)와 보호막(7)이 적층된다. 상부 유전체(6)에는 플라즈마 방전시 발생된 벽전하가 축적되어 방전을 유지시키며, 플라즈마 방전시 이온의 스퍼터링의 확산방지막의 역할을 함으로써 이온 스퍼터링으로 인한 서스테인 전극쌍(9)의 전극손상을 방지하게 된다. 보호층(7)은 대략 5000 Å 정도의 두께로 상부 유전체층(6) 상에 형성되어 플라즈마 방전시 발생된 스퍼터링으로 인한 상부 유전체층(6)과 서스테인 전극쌍(9)의 손상을 방지함과 아울러 2차 전자의 방출 효율을 높이게 된다. 보호층(7)으로는 통상 산화마그네슘(MgO)이 이용된다.Each of the sustain electrode pairs 9 has a transparent electrode 9a such as indium tin oxide (ITO), a line width smaller than the line width of the transparent electrode 9a, and one edge of the transparent electrode 9a. It includes a metal bus electrode (9b) formed in. The metal bus electrode 9b is formed through an ashing process after stacking Cr / Cu / Cr by vapor deposition. The upper dielectric 6 and the protective film 7 are laminated on the upper substrate 1 on which the sustain electrode pairs 9 are formed by screen printing or vacuum deposition. The upper dielectric 6 accumulates wall charges generated during plasma discharge to maintain the discharge, and serves to prevent the electrode damage of the sustain electrode pair 9 due to ion sputtering by acting as a diffusion barrier for sputtering ions during plasma discharge. do. The protective layer 7 is formed on the upper dielectric layer 6 to a thickness of approximately 5000 Å to prevent damage to the upper dielectric layer 6 and the sustain electrode pair 9 due to sputtering generated during plasma discharge. This increases the emission efficiency of the secondary electrons. As the protective layer 7, magnesium oxide (MgO) is usually used.

어드레스전극(X)이 형성된 하부기판(2) 상에는 하부 유전체(4), 격벽(3)이 형성되며, 하부 유전체(4)와 격벽(3)의 표면에는 스크린 프린팅공정으로 형광체(5)가 형성된다. 형광체(5)는 방전셀에 주입된 혼합가스의 플라즈마 방전시 발생된 진공자외선(VUV)에 의해 여기되어 적색, 녹색 또는 청색 중 어느 하나의 가시광선을 발생하게 된다. 어드레스전극(2)은 서스테인 전극쌍(9)과 교차하게 형성된다. 격벽(3)은 스크린 프린팅공정이나 금형법 등으로 형성된다. 이 격벽(3)은 벽전하를 형성함으로써 방전을 유지함과 아울러 형광체(5)로부터 발광된 가시광을 반사시키는 등 발광효율을 향상시킨다. 아울러 격벽(3)은 셀 간의 전기적, 광학적 상호혼 신(cross talk)를 방지함으로써 방전에 의해 생성된 자외선 및 가시광이 인접한 방전셀에 누설되는 것을 방지한다. 하부 유전체(4)는 형광체(5)로부터 후방으로 방사되는 가시광을 재반사시킴으로써 플라즈마 디스플레이 패널의 발광효율을 향상시키고 격벽(3)의 기반층 역할을 한다. 이와 동시에 하부 유전체(4)는 어드레스전극(X)을 구성하는 전극재료가 형광체(5)로 확산되는 것을 방지하는 확산방지막 역할을 한다.The lower dielectric 4 and the partition 3 are formed on the lower substrate 2 on which the address electrode X is formed, and the phosphor 5 is formed on the surfaces of the lower dielectric 4 and the partition 3 by a screen printing process. do. The phosphor 5 is excited by vacuum ultraviolet rays (VUV) generated during plasma discharge of the mixed gas injected into the discharge cells to generate visible light of any one of red, green, and blue. The address electrode 2 is formed to intersect with the sustain electrode pair 9. The partition 3 is formed by a screen printing process, a mold method, or the like. The partition wall 3 maintains discharge by forming wall charges and improves luminous efficiency by reflecting visible light emitted from the phosphor 5. In addition, the barrier rib 3 prevents electrical and optical cross talk between the cells, thereby preventing the ultraviolet rays and the visible light generated by the discharge from leaking to the adjacent discharge cells. The lower dielectric 4 improves the luminous efficiency of the plasma display panel by reflecting back visible light radiated backward from the phosphor 5 and serves as a base layer of the partition wall 3. At the same time, the lower dielectric 4 serves as a diffusion barrier for preventing the electrode material constituting the address electrode X from being diffused into the phosphor 5.

여기서, 상부 유전체(6)를 형성하는 방법은 Pb를 약 60wt%이상 함유하는 1 ∼2㎛ 크기의 입격인 보로실리케이트(borosilicate) 유리분말에 20 ∼30wt%의 유기바인더를 혼합하여 약 40,000 cps의 점도를 갖도록 한 후, 스크린 프린팅 방법으로 서스테인 전극쌍(9)이 형성된 상부 유리기판(1)에 전면 도포하고 550 ∼580℃의 온도에서 소성하는 것이다. 이러한 상부 유전체(6)의 유전율은 14∼ 16 범위의 값을 갖게 되며, 중심파장인 550nm에서 약 70%의 가시광을 투과시키는 광투과율을 나타내게 된다. 하부유전체(4)와 격벽(3)을 형성하기 위해서는 우선, PbO를 약 60wt%이상 함유하는 모상유리분말에 수십wt%의 TiO2, Al2O3와 같은 미분말 상태의 산화물을 혼합하고 유기용매를 첨가하여 약 40,000cps 정도의 점도를 갖는 페이스트를 제조한다. 이와 같이 페이스트가 제조된 후, 스크린 프린팅 방법으로 어드레스전극(X)이 형성된 하부 유리기판(2) 상에 20 ∼25㎛의 두께로 전면 도포하고 550 ∼600℃의 온도에서 산화분위기로 소성하면 하부유전체(4)가 형성된다. 이 후, 하부유전체(4) 상에 다시 페이스트를 120 ∼200㎛의 두께로 전면 도포하고 스크린 프린팅, 샌드 블라스팅, 금형법 등을 통해 격벽패턴을 형성한 후 소성하면 격벽(3)이 형성된다. 여기서, 미분말 상태의 산화물은 격벽(3) 및 하부유전체(4)의 반사특성을 향상시키고 유전율을 조절하며 내충격성을 확보하게 한다.Here, the method of forming the upper dielectric (6) is about 40,000 cps by mixing 20-30 wt% of organic binder into borosilicate glass powder having a size of 1 ~ 2㎛ size containing about 60wt% or more of Pb After having a viscosity, it is apply | coated whole to the upper glass substrate 1 in which the sustain electrode pair 9 was formed by the screen printing method, and baked at the temperature of 550-580 degreeC. The dielectric constant of the upper dielectric 6 has a value ranging from 14 to 16, and exhibits a light transmittance that transmits about 70% of visible light at 550 nm, which is the center wavelength. In order to form the lower dielectric 4 and the partition wall 3, first, a fine powder oxide such as TiO 2 , Al 2 O 3, and several tens wt% of oxides containing about 60 wt% or more of PbO are mixed with an organic solvent. To add a paste having a viscosity of about 40,000 cps. After the paste is prepared as described above, the entire surface is coated with a thickness of 20 to 25 μm on the lower glass substrate 2 on which the address electrode X is formed by screen printing. Dielectric 4 is formed. Thereafter, the paste is applied on the lower dielectric 4 again to a thickness of 120 to 200 µm, and after the partition pattern is formed by screen printing, sand blasting, mold method or the like, the partition wall 3 is formed. Here, the fine powder oxide improves the reflection characteristics of the partition 3 and the lower dielectric 4, adjusts the dielectric constant, and secures impact resistance.

이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 상부기판 및 하부기판으로서 PD-200의 고왜점 유리가 사용되고 있지만 소다-라임 유리(Soda-Lime Glass)의 사용이 적극적으로 고려되고 있다. 왜냐하면, 소다-라임 유리가 PD-200에 비해 약 1/6 배로 저렴하기 때문에 단가 면에서 유리하기 때문이다. 따라서, 전체적인 플라즈마 디스플레이 패널의 가격 경쟁력을 향상시키기 위하여 소다-라임 유리 기판의 사용에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.In the plasma display panel, the high distortion glass of the PD-200 is used as the upper substrate and the lower substrate, but the use of soda-lime glass has been actively considered. This is because soda-lime glass is about 1/6 times cheaper than PD-200, which is advantageous in terms of unit cost. Therefore, studies on the use of soda-lime glass substrates have been actively conducted to improve the price competitiveness of the overall plasma display panel.

하지만, 상기 소다-라임 유리 기판을 플라즈마 디스플레이 패널의 기판에 사용할 경우 유전체 소성 조건에 맞지 않는다는 문제점이 있다.However, when the soda-lime glass substrate is used for the substrate of the plasma display panel, there is a problem that it does not meet the dielectric firing conditions.

즉, 단가 면에서 유리하기 때문에 플라즈마 디스플레이 패널용 기판으로 주로 사용될 소다-라임 유리기판은 약 520℃ 이상으로 가열될 경우 열변형이 일어나고, 과량의 Pb의 함량으로 인하여 전편기판 유전체의 투과율 저하를 야기하여 전극의 황변현상을 발생시키므로 플라즈마 디스플레이 패널의 효율을 저하시킨다는 문제점이 있었다.That is, because of its high cost, the soda-lime glass substrate, which is mainly used as a substrate for a plasma display panel, is thermally deformed when heated to about 520 ° C. or higher, causing a decrease in the transmittance of the entire dielectric substrate due to the excess Pb content. Since yellowing of the electrode occurs, there is a problem in that the efficiency of the plasma display panel is lowered.

본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 낮은 소성온도로 제조할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 조성물을 제공하고, 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 데 있다.The present invention is to solve the above problems, an object of the present invention to provide a dielectric composition for a plasma display panel that can be produced at a low firing temperature, and to provide a plasma display panel using the same.

또한, 본 발명의 다른 목적은 전극 황변형상을 일으키지 않는 고 투과율의 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 조성물을 제공하고, 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a dielectric composition for a plasma display panel having a high transmittance that does not cause electrode yellowing, and to provide a plasma display panel using the same.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 조성물은, 52∼65wt%의 PbO, 5∼30wt%의 B2O3, 0∼25wt%의 SiO2, 0∼5wt%의 Al2O3, 0∼15wt%의 BaO, 0∼10wt%의 ZnO, 그리고 0∼15wt%의 SrO가 포함된 조성비를 갖는 것을 특징으로 한다.The dielectric composition for a plasma display panel according to an embodiment of the present invention for achieving the above object, 52 to 65wt% PbO, 5 to 30wt% B 2 O 3 , 0 to 25wt% SiO 2 , 0 It is characterized by having a composition ratio containing -5wt% Al 2 O 3 , 0-15wt% BaO, 0-10wt% ZnO, and 0-15wt% SrO.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 제 1 유전체가 형성된 제 1 기판과, 제 2 유전체가 형성된 제 2 기판과, 상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 위치하는 격벽을 포함하고, 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 중 적어도 어느 하나는, 52∼65wt%의 PbO, 5∼30wt%의 B2O3, 0∼25wt%의 SiO2, 0∼5wt%의 Al2O3, 0∼15wt%의 BaO, 0∼10wt%의 ZnO, 그리고 0∼15wt%의 SrO가 포함된 조성비를 갖는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, a plasma display panel includes a first substrate on which a first dielectric is formed, a second substrate on which a second dielectric is formed, and a gap between the first substrate and the second substrate. At least one of the first and second dielectrics and the partition wall includes 52 to 65 wt% PbO, 5 to 30 wt% B 2 O 3 , 0 to 25 wt% SiO 2 , 0 to 5 wt% Al 2 O 3 , 0 to 15 wt% BaO, 0 to 10 wt% ZnO, and 0 to 15 wt% SrO.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은, 제 1 전극, 제 1 유전체를 갖는 제 1 기판과, 제 2 전극, 제 2 유전체, 격벽을 갖는 제 2 기판을 준비하는 단계, 52∼65wt%의 PbO, 5∼30wt%의 B2O3, 0∼25wt%의 SiO2, 0∼5wt%의 Al2O3, 0∼15wt%의 BaO, 0∼10wt%의 ZnO, 그리고 0∼15wt%의 SrO가 포함된 유전체 조성물과 비히클을 혼합하여 페이스트를 제조하는 단계, 상기 페이스트를 기판 상에 도포하는 단계, 그리고 상기 페이스트를 소성하여 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 중 적어도 어느 하나를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a plasma display panel, which includes a first electrode, a first substrate having a first dielectric, a second electrode, a second dielectric, and a partition wall. 2 preparing a substrate, 52 to 65 wt% PbO, 5 to 30 wt% B 2 O 3 , A paste is prepared by mixing a dielectric composition with a vehicle comprising 0-25 wt% SiO 2 , 0-5 wt% Al 2 O 3 , 0-15 wt% BaO, 0-10 wt% ZnO, and 0-15 wt% SrO. Manufacturing a metal, applying the paste onto a substrate, and baking the paste to form at least one of the first and second dielectrics and the partition wall.

여기서, 상기 유전체 조성물 또는 상기 제 1, 2 유전체, 격벽은, 조성물의 착색과 전극 반응성을 억제하기 위해, CoO, CuO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 중 적어도 어느 하나가 0∼5wt%로 더 포함된 조성비를 갖거나 또는, CeO2, Er2O3, Nd2O3, Pr2O3 중 적어도 어느 하나가 0∼10wt%로 더 포함된 조성비를 갖는다.Here, in the dielectric composition, the first and second dielectrics, and the barrier rib, at least one of CoO, CuO, Cr 2 O 3 , MnO, FeO, and NiO is 0 to 5 wt% to suppress coloring of the composition and electrode reactivity. It has a composition ratio further included, or at least any one of CeO 2 , Er 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Pr 2 O 3 has a composition ratio further included in 0 to 10wt%.

또한, 상기 제 2 유전체, 격벽 중 적어도 어느 하나는, 고굴절률의 충진제인 10∼20wt%의 TiO2가 더 포함된 조성비를 갖거나 또는 10∼20wt%의 Al2O3가 더 포함된 조성비를 갖는다.In addition, at least one of the second dielectric and the partition wall may have a composition ratio further including 10 to 20 wt% TiO 2, which is a filler of high refractive index, or a composition ratio further including 10 to 20 wt% Al 2 O 3 . Have

여기서, 상기 페이스트는 70∼90wt%의 유리 분말 상태인 유전체 조성물과 10∼30wt%의 비히클의 조성비로 혼합하고, 이때 페이스트의 도포는 스크린 프린팅, 디스펜싱, 잉크젯법 중 적어도 어느 하나의 방법을 이용한다.Here, the paste is mixed at a composition ratio of 70 to 90 wt% glass powder with a dielectric composition of 10 to 30 wt% vehicle, wherein the paste is applied by at least one of screen printing, dispensing, and ink jet method. .

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 살펴보도록 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

첨부된 도면에서는 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타냈으며, 도면에 나타난 각 층간의 두께 비가 실제 두께 비를 나타내는 것은 아니다. 한편, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "상에" 형성 또는 위치한다고 할 때, 이는 다른 부분의 바로 위에 형성되어 직접 접촉하는 경우뿐만 아 니라 그 중간에 또 다른 부분이 존재하는 경우도 포함하는 것으로 이해하여야 한다.In the accompanying drawings, the thickness of layers, films, panels, regions, etc., are exaggerated for clarity. On the other hand, when a part such as a layer, film, region, plate, etc. is formed or located on another part, it is formed directly on the other part and not only in direct contact but also another part in between It should also be understood to include cases.

여기서, 제 1 기판은 투명전극과 버스전극으로 구성된 유지전극쌍과 상부 유전체층 및 보호막이 순차적으로 형성된 플라즈마 디스플레이 패널의 상부기판이고, 제 2 기판은 유지전극쌍과 방전을 일으키기 위한 어드레스 전극과 하부 유전체층이 순차적으로 형성된 플라즈마 디스플레이 패널의 하부기판을 나타내는 것으로, 상기 제 1 기판에 구비된 전극, 유전체는 제 1 전극, 제 1 유전체라 하고, 제 2 기판에 구비된 전극, 유전체는 마찬가지로, 제 2 전극, 제 2 유전체라 명명하기로 한다.Here, the first substrate is an upper substrate of a plasma display panel in which a sustain electrode pair consisting of a transparent electrode and a bus electrode, an upper dielectric layer, and a passivation layer are sequentially formed, and the second substrate is an address electrode and a lower dielectric layer for generating a discharge electrode pair and a discharge electrode. The lower substrate of the plasma display panel is sequentially formed, and the electrode and dielectric provided in the first substrate are referred to as the first electrode and the first dielectric, and the electrode and dielectric provided in the second substrate are similar to the second electrode. It will be referred to as a second dielectric.

도 2는 본 발명의 실시예 1에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to Embodiment 1 of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예 1에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 투명한 유전체인 제 1 유전체(16)를 구비한다. 상기 제 1 유전체(16)는 PbO, B2O3, SiO2, Al2O3, BaO, ZnO, 그리고 SrO를 포함하고, 이들을 적절히 혼합하여 안정하면서 저온(520℃ 이하)에서 소성가능한 유전체 조성물을 제공하고자 하는 것으로, 구체적인 조성비는 이하의 표 1에 나타난 바와 같다.As shown in FIG. 2, the plasma display panel according to Embodiment 1 of the present invention includes a first dielectric 16 that is a transparent dielectric. The first dielectric 16 includes PbO, B 2 O 3 , SiO 2 , Al 2 O 3 , BaO, ZnO, and SrO, and the dielectric composition is stably mixed and calcinable at low temperatures (below 520 ° C.). To provide a specific composition ratio is as shown in Table 1 below.

Figure 112007017748413-PAT00001
Figure 112007017748413-PAT00001

표 1을 참조하면, 본 발명의 실시예 1에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 상부 유전체인 제 1 유전체(16)에 이용되는 유전체 조성물은, 52∼65wt%의 PbO, 5∼30wt%의 B2O3, 0∼25wt%의 SiO2, 0∼5wt%의 Al2O3, 0∼15wt%의 BaO, 0∼10wt%의 ZnO, 그리고 0∼15wt%의 SrO가 포함된 조성비를 갖는다.Referring to Table 1, the dielectric composition used for the first dielectric 16, which is the upper dielectric of the plasma display panel according to Embodiment 1 of the present invention, is 52 to 65 wt% of PbO and 5 to 30 wt% of B 2 O 3. , 0 to 25 wt% SiO 2 , 0 to 5 wt% Al 2 O 3 , 0 to 15 wt% BaO, 0 to 10 wt% ZnO, and 0 to 15 wt% SrO.

이 조성물은, 입경 1∼1.5㎛인 분말상태에서 비히클과 혼합되어 점도 40,000∼60,000cps의 유전체 페이스트로 제조된 후 제 1 기판(11) 상에 전면 도포되고, 520℃ 이하의 온도에서 소성되는 공정을 거쳐 제 1 유전체(16)가 완성된다.The composition is mixed with a vehicle in a powder state having a particle size of 1 to 1.5 mu m, made of a dielectric paste having a viscosity of 40,000 to 60,000 cps, and then coated on the first substrate 11 and baked at a temperature of 520 캜 or lower. Through the first dielectric 16 is completed.

상기 유전체 페이스트는 70∼90wt%의 유리 분말 상태인 유전체 조성물과 10∼30wt%의 비히클이 혼합된다. 여기서, 상기 비히클은 분말들의 혼합이나 인쇄를 돕기 위해 0∼15wt% 바인더, 0∼80wt%의 용제, 0∼5wt%의 분산제 등이 혼합될 수 있다.The dielectric paste is a mixture of a dielectric composition in a glass powder state of 70 to 90wt% and a vehicle of 10-30wt%. In this case, the vehicle may be mixed with 0 to 15wt% binder, 0 to 80wt% solvent, 0 to 5wt% dispersant and the like to help the mixing or printing of the powder.

본 발명에서 사용되는 PbO는 유리의 골격을 구성하는 주요성분으로서 유리를 저융점화하는 역할을 하는데, 여기서, 상기 PbO의 함량을 52∼65wt%으로 하는 데, 상기 PbO의 함량이 50wt% 미만일 때에는 연화온도가 높아지고 65wt%를 초과하는 때에는 열팽창계수가 증가하여 표면균열이나 휨현상이 발생할 우려가 있다.PbO used in the present invention serves to lower the melting point of glass as a main component constituting the skeleton of the glass, wherein the content of PbO is 52 to 65 wt%, when the content of PbO is less than 50 wt%. If the softening temperature is higher than 65wt%, the coefficient of thermal expansion increases, which may cause surface cracking and warpage.

상기 B2O3와 SiO2는 저융점 유리를 안정적인 유리질로 만드는 역할을 하는데, 상기 성분이 7wt% 미만인 때에는 유리 형성이 불안정하게 되고, 팽창율이 높아지며, 18wt%를 초과하게 되면 유리점도가 낮아져 결정화가 발생하기 쉽다. 또한 SiO2는 유전율이 비교적 낮기 때문에 전체적인 유전율을 낮추는 역할 및 내에칭성을 증가시키는 역할도 하는데, 상기 SiO2의 함량이 10wt% 미만이면 내에칭성이 떨어지고, 20wt%를 초과하는 경우에는 추가적으로 연화온도가 높아져 소결 부족이 발생할 가능성이 있다.The B 2 O 3 and SiO 2 serves to make the low melting glass into a stable glass, when the component is less than 7wt% glass formation becomes unstable, the expansion rate is increased, when the glass content exceeds 18wt% the glass viscosity is lowered crystallization Is easy to occur. In addition, since SiO 2 has a relatively low dielectric constant, it also serves to lower the overall dielectric constant and to increase the etch resistance. If the content of SiO 2 is less than 10 wt%, the etch resistance is poor, and if it exceeds 20 wt%, it is further softened. There is a possibility that the sintering shortage may occur due to the high temperature.

상기 Al2O3는 유리 분말의 재가열시에 결정화를 억제하는 역할과 동시에 내에칭성을 증가시키는 역할을 하는데, 이 Al2O3가 5wt% 미만이면 내에칭성이 떨어지며 20wt%를 초과하면 유리분말의 연화온도가 높아질 염려가 있다.The Al 2 O 3 serves to suppress crystallization and increase the etching resistance at the same time when the glass powder is reheated, when the Al 2 O 3 is less than 5wt%, the etching resistance is lowered, if the glass exceeds 20wt% There is a fear that the softening temperature of the powder will increase.

본 발명에 사용되는 제 1 유전체층(16) 형성용 유전체 조성물은, 내에칭성을 확보할 수 있는 성분으로서 SiO2 또는 Al2O3를 최적의 비율로 혼합함으로써, 우수한 내에칭성을 부여하는 한편, 연화점을 낮추기 위하여 종래기술에 사용되어 오던 알칼리금속 산화물 대신에 알칼리 토금속 산화물을 사용함으로써 황변현상을 억제할 수 있다.The dielectric composition for forming the first dielectric layer 16 used in the present invention provides excellent etching resistance by mixing SiO 2 or Al 2 O 3 at an optimum ratio as a component capable of securing the etching resistance. In order to reduce the softening point, yellowing phenomenon can be suppressed by using alkaline earth metal oxide instead of the alkali metal oxide that has been used in the prior art.

상기 ZnO는 유리화 형성능력을 증가시키면서 열팽창 계수와 유리전이온도를 낮추는 역할을 할 뿐만 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널의 내부공간에 주입되는 방전가스 중 Ne의 방전으로 발생한 오렌지 광을 흡수하여 플라즈마 디스플레이 패널의 색순도가 저하되는 현상을 방지하기도 한다.The ZnO not only plays a role of lowering the coefficient of thermal expansion and glass transition temperature while increasing the vitrification forming ability, but also absorbs the orange light generated by the discharge of Ne from the discharge gas injected into the interior of the plasma display panel, thereby improving the color purity of the plasma display panel. It also prevents the phenomenon of deterioration.

상기 SrO는 유리전이온도, 열팽창계수 등의 특성을 제어하기 위해 첨가된다.The SrO is added to control properties such as glass transition temperature and thermal expansion coefficient.

또한, 상기 유전체 조성물의 착색과 전극 반응성을 억제하기 위해 CoO, CuO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 중 적어도 어느 하나를 0∼5wt%의 조성비로 더 혼합하거나 또는 CeO2, Er2O3, Nd2O3, Pr2O3 중 적어도 어느 하나를 0∼10wt%의 조성비로 더 혼합한다.Further, in order to suppress coloring of the dielectric composition and electrode reactivity, at least one of CoO, CuO, Cr 2 O 3 , MnO, FeO, and NiO may be further mixed at a composition ratio of 0 to 5 wt%, or CeO 2 , Er 2 O At least one of 3 , Nd 2 O 3 , and Pr 2 O 3 is further mixed at a composition ratio of 0 to 10 wt%.

도 3은 본 발명의 실시예 2에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a second embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예 2에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 저온 소성 유전체인 격벽(13)을 구비한다. 상기 격벽(13)은 PbO, B2O3, SiO2, Al2O3, BaO, ZnO, 그리고 SrO를 포함하고, 이들을 적절히 혼합하여 안정하면서 저온(520℃ 이하)에서 소성가능한 유전체 조성물을 제공하고자 하는 것으로, 구체적인 조성비는 이하의 표 2에 나타난 바와 같다.As shown in FIG. 3, the plasma display panel according to Embodiment 2 of the present invention includes a partition wall 13 which is a low-temperature baking dielectric material. The partition wall 13 includes PbO, B 2 O 3 , SiO 2 , Al 2 O 3 , BaO, ZnO, and SrO, and a mixture thereof is appropriately provided to provide a stable and calcinable dielectric composition at low temperature (below 520 ° C.). It is intended that the specific composition ratio is as shown in Table 2 below.

Figure 112007017748413-PAT00002
Figure 112007017748413-PAT00002

표 2를 참조하면, 본 발명의 실시예 2에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽(13)에 이용되는 유전체 조성물은, 52∼65wt%의 PbO, 5∼30wt%의 B2O3, 0∼25wt%의 SiO2, 0∼5wt%의 Al2O3, 0∼15wt%의 BaO, 0∼10wt%의 ZnO, 그리고 0∼15wt%의 SrO가 포함된 조성비를 갖는다.Referring to Table 2, the dielectric composition used for the partition 13 of the plasma display panel according to the second embodiment of the present invention, 52 to 65wt% PbO, 5 to 30wt% B 2 O 3 , 0 to 25 wt% SiO 2 , 0 to 5 wt% Al 2 O 3 , 0 to 15 wt% BaO, 0 to 10 wt% ZnO, and 0 to 15 wt% SrO.

이 조성물은, 입경 1∼1.5㎛인 분말상태에서 비히클과 혼합되어 점도 40,000∼60,000cps의 유전체 페이스트로 제조된 후 제 2 기판(12) 상에 전면 도포되고, 520℃ 이하의 온도에서 소성되는 공정을 거쳐 격벽(13)이 완성된다.The composition is mixed with a vehicle in a powder having a particle size of 1 to 1.5 µm, made of a dielectric paste having a viscosity of 40,000 to 60,000 cps, and then coated on the second substrate 12 and baked at a temperature of 520 ° C or lower. The partition 13 is completed through.

상기 유전체 페이스트는 70∼90wt%의 유리 분말 상태인 유전체 조성물과 10∼30wt%의 비히클이 혼합된다. 여기서, 상기 비히클은 분말들의 혼합이나 인쇄를 돕기 위해 0∼15wt% 바인더, 0∼80wt%의 용제, 0∼5wt%의 분산제 등이 혼합될 수 있다.The dielectric paste is a mixture of a dielectric composition in a glass powder state of 70 to 90wt% and a vehicle of 10-30wt%. In this case, the vehicle may be mixed with 0 to 15wt% binder, 0 to 80wt% solvent, 0 to 5wt% dispersant and the like to help the mixing or printing of the powder.

여기서, 상기 격벽(13) 형성용 유전체 페이스트는, 고굴절률의 충진제인 10∼20wt%의 TiO2가 더 포함된 조성이거나 또는 고강도 세라믹 충진제인 10∼20wt%의 Al2O3가 더 포함된 조성비를 갖는다.Here, the dielectric paste for forming the partition 13 may include a composition containing 10 to 20 wt% of TiO 2, which is a filler having a high refractive index, or a composition ratio including 10 to 20 wt% of Al 2 O 3, which is a high strength ceramic filler. Has

본 발명에서 사용되는 PbO는 유리의 골격을 구성하는 주요성분으로서 유리를 저융점화하는 역할을 하는데, 여기서, 상기 PbO의 함량을 52∼65wt%으로 하는 데, 상기 PbO의 함량이 50wt% 미만일 때에는 연화온도가 높아지고 65wt%를 초과하는 때에는 열팽창계수가 증가하여 표면균열이나 휨현상이 발생할 우려가 있다.PbO used in the present invention serves to lower the melting point of glass as a main component constituting the skeleton of the glass, wherein the content of PbO is 52 to 65 wt%, when the content of PbO is less than 50 wt%. If the softening temperature is higher than 65wt%, the coefficient of thermal expansion increases, which may cause surface cracking and warpage.

상기 B2O3와 SiO2는 저융점 유리를 안정적인 유리질로 만드는 역할을 하는데, 상기 성분이 7wt% 미만인 때에는 유리 형성이 불안정하게 되고, 팽창율이 높아지며, 18wt%를 초과하게 되면 유리점도가 낮아져 결정화가 발생하기 쉽다. 또한 SiO2는 유전율이 비교적 낮기 때문에 전체적인 유전율을 낮추는 역할 및 내에칭성을 증가시키는 역할도 하는데, 상기 SiO2의 함량이 10wt% 미만이면 내에칭성이 떨어지고, 20wt%를 초과하는 경우에는 추가적으로 연화온도가 높아져 소결 부족이 발생할 가능성이 있다.The B 2 O 3 and SiO 2 serves to make the low melting glass into a stable glass, when the component is less than 7wt% glass formation becomes unstable, the expansion rate is increased, when the glass content exceeds 18wt% the glass viscosity is lowered crystallization Is easy to occur. In addition, since SiO 2 has a relatively low dielectric constant, it also serves to lower the overall dielectric constant and to increase the etch resistance. If the content of SiO 2 is less than 10 wt%, the etch resistance is poor, and if it exceeds 20 wt%, it is further softened. There is a possibility that the sintering shortage may occur due to the high temperature.

상기 Al2O3는 유리 분말의 재가열시에 결정화를 억제하는 역할과 동시에 내에칭성을 증가시키는 역할을 하는데, 이 Al2O3가 5wt% 미만이면 내에칭성이 떨어지며 20wt%를 초과하면 유리분말의 연화온도가 높아질 염려가 있다.The Al 2 O 3 serves to suppress crystallization and increase the etching resistance at the same time when the glass powder is reheated, when the Al 2 O 3 is less than 5wt%, the etching resistance is lowered, if the glass exceeds 20wt% There is a fear that the softening temperature of the powder will increase.

본 발명에 사용되는 격벽층(13) 형성용 유전체 조성물은, 내에칭성을 확보할 수 있는 성분으로서 SiO2 또는 Al2O3를 최적의 비율로 혼합함으로써, 우수한 내에칭성을 부여하는 한편, 연화점을 낮추기 위하여 종래기술에 사용되어 오던 알칼리금속 산화물 대신에 알칼리 토금속 산화물을 사용함으로써 황변현상을 억제할 수 있다.The dielectric composition for forming the partition layer 13 used in the present invention provides excellent etching resistance by mixing SiO 2 or Al 2 O 3 at an optimum ratio as a component capable of securing the etching resistance, In order to lower the softening point, yellowing phenomenon can be suppressed by using alkaline earth metal oxide instead of the alkali metal oxide used in the prior art.

상기 ZnO는 유리화 형성능력을 증가시키면서 열팽창 계수와 유리전이온도를 낮추는 역할을 할 뿐만 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널의 내부공간에 주입되는 방전가스 중 Ne의 방전으로 발생한 오렌지 광을 흡수하여 플라즈마 디스플레이 패널의 색순도가 저하되는 현상을 방지하기도 한다.The ZnO not only plays a role of lowering the coefficient of thermal expansion and glass transition temperature while increasing the vitrification forming ability, but also absorbs the orange light generated by the discharge of Ne from the discharge gas injected into the interior of the plasma display panel, thereby improving the color purity of the plasma display panel. It also prevents the phenomenon of deterioration.

상기 SrO는 유리전이온도, 열팽창계수 등의 특성을 제어하기 위해 첨가된다.The SrO is added to control properties such as glass transition temperature and thermal expansion coefficient.

또한, 상기 유전체 조성물의 착색과 전극 반응성을 억제하기 위해 CoO, CuO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 중 적어도 어느 하나를 0∼5wt%의 조성비로 더 혼합하거나 또는 CeO2, Er2O3, Nd2O3, Pr2O3 중 적어도 어느 하나를 0∼10wt%의 조성비로 더 혼합한다.Further, in order to suppress coloring of the dielectric composition and electrode reactivity, at least one of CoO, CuO, Cr 2 O 3 , MnO, FeO, and NiO may be further mixed at a composition ratio of 0 to 5 wt%, or CeO 2 , Er 2 O At least one of 3 , Nd 2 O 3 , and Pr 2 O 3 is further mixed at a composition ratio of 0 to 10 wt%.

도 4는 본 발명의 실시예 3에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a third embodiment of the present invention.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예 3에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 저온 소성 유전체인 제 2 유전체(14)를 구비한다. 상기 제 2 유전체(14)는 PbO, B2O3, SiO2, Al2O3, BaO, ZnO, 그리고 SrO를 포함하고, 이들을 적절히 혼합하여 안정하면서 저온(520℃ 이하)에서 소성가능한 유전체 조성물을 제공하고자 하는 것으로, 구체적인 조성비는 이하의 표 3에 나타난 바와 같다.As shown in FIG. 4, the plasma display panel according to Embodiment 3 of the present invention includes a second dielectric 14, which is a low temperature baking dielectric. The second dielectric 14 includes PbO, B 2 O 3 , SiO 2 , Al 2 O 3 , BaO, ZnO, and SrO, and the dielectric composition is stably mixed and fired at a low temperature (below 520 ° C.) by appropriate mixing thereof. To provide a specific composition ratio is as shown in Table 3 below.

Figure 112007017748413-PAT00003
Figure 112007017748413-PAT00003

표 3을 참조하면, 본 발명의 실시예 3에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 하부 유전체인 제 2 유전체(14)에 이용되는 유전체 조성물은, 52∼65wt%의 PbO, 5∼30wt%의 B2O3, 0∼25wt%의 SiO2, 0∼5wt%의 Al2O3, 0∼15wt%의 BaO, 0∼10wt%의 ZnO, 그리고 0∼15wt%의 SrO가 포함된 조성비를 갖는다.Referring to Table 3, the dielectric composition used for the second dielectric 14 which is the lower dielectric of the plasma display panel according to Embodiment 3 of the present invention is 52 to 65 wt% of PbO and 5 to 30 wt% of B 2 O 3. , 0 to 25 wt% SiO 2 , 0 to 5 wt% Al 2 O 3 , 0 to 15 wt% BaO, 0 to 10 wt% ZnO, and 0 to 15 wt% SrO.

이 조성물은, 입경 1∼1.5㎛인 분말상태에서 비히클과 혼합되어 점도 40,000∼60,000cps의 유전체 페이스트로 제조된 후 제 2 기판(12) 상에 전면 도포되고, 520℃ 이하의 온도에서 소성되는 공정을 거쳐 제 2 유전체(14)가 완성된다.The composition is mixed with a vehicle in a powder having a particle size of 1 to 1.5 µm, made of a dielectric paste having a viscosity of 40,000 to 60,000 cps, and then coated on the second substrate 12 and baked at a temperature of 520 ° C or lower. Through the second dielectric 14 is completed.

상기 유전체 페이스트는 70∼90wt%의 유리 분말 상태인 유전체 조성물과 10∼30wt%의 비히클이 혼합된다. 여기서, 상기 비히클은 분말들의 혼합이나 인쇄를 돕기 위해 0∼15wt% 바인더, 0∼80wt%의 용제, 0∼5wt%의 분산제 등이 혼합될 수 있다.The dielectric paste is a mixture of a dielectric composition in a glass powder state of 70 to 90wt% and a vehicle of 10-30wt%. In this case, the vehicle may be mixed with 0 to 15wt% binder, 0 to 80wt% solvent, 0 to 5wt% dispersant and the like to help the mixing or printing of the powder.

여기서, 상기 제 2 유전체(14) 형성용 유전체 페이스트는, 고굴절률의 충진제인 10∼20wt%의 TiO2가 더 포함된 조성이거나 또는 고강도 세라믹 충진제인 10∼20wt%의 Al2O3가 더 포함된 조성비를 갖는다.Here, the dielectric paste for forming the second dielectric 14 may include 10-20 wt% of TiO 2, which is a high refractive index filler, or 10-20 wt% of Al 2 O 3, which is a high strength ceramic filler. Has a composition ratio.

본 발명에서 사용되는 PbO는 유리의 골격을 구성하는 주요성분으로서 유리를 저융점화하는 역할을 하는데, 여기서, 상기 PbO의 함량을 52∼65wt%으로 하는 데, 상기 PbO의 함량이 50wt% 미만일 때에는 연화온도가 높아지고 65wt%를 초과하는 때에는 열팽창계수가 증가하여 표면균열이나 휨현상이 발생할 우려가 있다.PbO used in the present invention serves to lower the melting point of glass as a main component constituting the skeleton of the glass, wherein the content of PbO is 52 to 65 wt%, when the content of PbO is less than 50 wt%. If the softening temperature is higher than 65wt%, the coefficient of thermal expansion increases, which may cause surface cracking and warpage.

상기 B2O3와 SiO2는 저융점 유리를 안정적인 유리질로 만드는 역할을 하는데, 상기 성분이 7wt% 미만인 때에는 유리 형성이 불안정하게 되고, 팽창율이 높아지며, 18wt%를 초과하게 되면 유리점도가 낮아져 결정화가 발생하기 쉽다. 또한 SiO2는 유전율이 비교적 낮기 때문에 전체적인 유전율을 낮추는 역할 및 내에칭성을 증가시키는 역할도 하는데, 상기 SiO2의 함량이 10wt% 미만이면 내에칭성이 떨어지고, 20wt%를 초과하는 경우에는 추가적으로 연화온도가 높아져 소결 부족이 발생할 가능성이 있다.The B 2 O 3 and SiO 2 serves to make the low melting glass into a stable glass, when the component is less than 7wt% glass formation becomes unstable, the expansion rate is increased, when the glass content exceeds 18wt% the glass viscosity is lowered crystallization Is easy to occur. In addition, since SiO 2 has a relatively low dielectric constant, it also serves to lower the overall dielectric constant and to increase the etch resistance. If the content of SiO 2 is less than 10 wt%, the etch resistance is poor, and if it exceeds 20 wt%, it is further softened. There is a possibility that the sintering shortage may occur due to the high temperature.

상기 Al2O3는 유리 분말의 재가열시에 결정화를 억제하는 역할과 동시에 내에칭성을 증가시키는 역할을 하는데, 이 Al2O3가 5wt% 미만이면 내에칭성이 떨어지며 20wt%를 초과하면 유리분말의 연화온도가 높아질 염려가 있다.The Al 2 O 3 serves to suppress crystallization and increase the etching resistance at the same time when the glass powder is reheated, when the Al 2 O 3 is less than 5wt%, the etching resistance is lowered, if the glass exceeds 20wt% There is a fear that the softening temperature of the powder will increase.

본 발명에 사용되는 제 2 유전체층(14) 형성용 유전체 조성물은, 내에칭성을 확보할 수 있는 성분으로서 SiO2 또는 Al2O3를 최적의 비율로 혼합함으로써, 우수한 내에칭성을 부여하는 한편, 연화점을 낮추기 위하여 종래기술에 사용되어 오던 알칼리금속 산화물 대신에 알칼리 토금속 산화물을 사용함으로써 황변현상을 억제할 수 있다.The dielectric composition for forming the second dielectric layer 14 used in the present invention provides excellent etching resistance by mixing SiO 2 or Al 2 O 3 at an optimum ratio as a component capable of securing the etching resistance. In order to reduce the softening point, yellowing phenomenon can be suppressed by using alkaline earth metal oxide instead of the alkali metal oxide that has been used in the prior art.

상기 ZnO는 유리화 형성능력을 증가시키면서 열팽창 계수와 유리전이온도를 낮추는 역할을 할 뿐만 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널의 내부공간에 주입되는 방전가스 중 Ne의 방전으로 발생한 오렌지 광을 흡수하여 플라즈마 디스플레이 패널의 색순도가 저하되는 현상을 방지하기도 한다.The ZnO not only plays a role of lowering the coefficient of thermal expansion and glass transition temperature while increasing the vitrification forming ability, but also absorbs the orange light generated by the discharge of Ne from the discharge gas injected into the interior of the plasma display panel, thereby improving the color purity of the plasma display panel. It also prevents the phenomenon of deterioration.

상기 SrO는 유리전이온도, 열팽창계수 등의 특성을 제어하기 위해 첨가된다.The SrO is added to control properties such as glass transition temperature and thermal expansion coefficient.

또한, 상기 유전체 조성물의 착색과 전극 반응성을 억제하기 위해 CoO, CuO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 중 적어도 어느 하나를 0∼5wt%의 조성비로 더 혼합하거나 또는 CeO2, Er2O3, Nd2O3, Pr2O3 중 적어도 어느 하나를 0∼10wt%의 조성비로 더 혼합한다.Further, in order to suppress coloring of the dielectric composition and electrode reactivity, at least one of CoO, CuO, Cr 2 O 3 , MnO, FeO, and NiO may be further mixed at a composition ratio of 0 to 5 wt%, or CeO 2 , Er 2 O At least one of 3 , Nd 2 O 3 , and Pr 2 O 3 is further mixed at a composition ratio of 0 to 10 wt%.

도 5는 본 발명의 실시예 4에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a fourth embodiment of the present invention.

도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예 4에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 저온 소성 유전체인 제 1 유전체(16), 제 2 유전체(14) 및 격벽(13)을 구비한다. 상부 유전체인 상기 제 1 유전체(16)와, 하부 유전체인 상기 제 2 유전체(14)와, 유전체인 상기 격벽(13)은 PbO, B2O3, SiO2, Al2O3, BaO, ZnO, 그리고 SrO를 포함하고, 이들을 적절히 혼합하여 안정하면서 저온(520℃ 이하)에서 소성가능한 유전체 조성물을 제공하고자 하는 것으로, 구체적인 조성비는 이하의 표 4에 나타난 바와 같다.As shown in FIG. 5, the plasma display panel according to the fourth exemplary embodiment includes a first dielectric 16, a second dielectric 14, and a partition 13, which are low-temperature baking dielectrics. The first dielectric 16 as the upper dielectric, the second dielectric 14 as the lower dielectric, and the partition 13 as the dielectric are PbO, B 2 O 3 , SiO 2 , Al 2 O 3 , BaO, ZnO And it is to provide a dielectric composition comprising SrO, and by mixing them appropriately and stable at low temperature (520 ℃ or less), the specific composition ratio is shown in Table 4 below.

Figure 112007017748413-PAT00004
Figure 112007017748413-PAT00004

표 4를 참조하면, 본 발명의 실시예 4에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제 1, 제 2 유전체(16, 14) 및 격벽(13)에 이용되는 유전체 조성물은, 52∼65wt%의 PbO, 5∼30wt%의 B2O3, 0∼25wt%의 SiO2, 0∼5wt%의 Al2O3, 0∼15wt%의 BaO, 0∼10wt%의 ZnO, 그리고 0∼15wt%의 SrO가 포함된 조성비를 갖는다.Referring to Table 4, the dielectric composition used for the first, second dielectrics 16 and 14 and the partition 13 of the plasma display panel according to the fourth embodiment of the present invention is 52 to 65 wt% of PbO, 5 to 30 wt% B 2 O 3 , 0 to 25 wt% SiO 2 , 0 to 5 wt% Al 2 O 3 , 0 to 15 wt% BaO, 0 to 10 wt% ZnO, and 0 to 15 wt% SrO.

이 조성물은, 입경 1∼1.5㎛인 분말상태에서 비히클과 혼합되어 점도 40,000∼60,000cps의 유전체 페이스트로 제조된 후 제 1 기판(11) 또는 제 2 기판(12) 상에 전면 도포되고, 520℃ 이하의 온도에서 소성되는 공정을 거쳐 제 1, 제 2 유전체(16, 14) 및 격벽(13)이 완성된다.The composition is mixed with a vehicle in a powder state having a particle size of 1 to 1.5 mu m, made of a dielectric paste having a viscosity of 40,000 to 60,000 cps, and then completely coated on the first substrate 11 or the second substrate 12, and subjected to 520 ° C. The first and second dielectrics 16 and 14 and the partition 13 are completed through a process of firing at the following temperatures.

상기 유전체 페이스트는 70∼90wt%의 유리 분말 상태인 유전체 조성물과 10∼30wt%의 비히클이 혼합된다. 여기서, 상기 비히클은 분말들의 혼합이나 인쇄를 돕기 위해 0∼15wt% 바인더, 0∼80wt%의 용제, 0∼5wt%의 분산제 등이 혼합될 수 있다.The dielectric paste is a mixture of a dielectric composition in a glass powder state of 70 to 90wt% and a vehicle of 10-30wt%. In this case, the vehicle may be mixed with 0 to 15wt% binder, 0 to 80wt% solvent, 0 to 5wt% dispersant and the like to help the mixing or printing of the powder.

여기서, 상기 2 유전체(14) 또는 격벽(13) 형성용 페이스트는, 고굴절률의 충진제인 10∼20wt%의 TiO2가 더 포함된 조성이거나 또는 고강도 세라믹 충진제인 10∼20wt%의 Al2O3가 더 포함된 조성비를 갖는다.Here, the paste for forming the second dielectric 14 or the partition wall 13 may include 10-20 wt% of TiO 2, which is a filler of high refractive index, or 10-20 wt% of Al 2 O 3 , which is a high-strength ceramic filler. Has a composition ratio further included.

본 발명에서 사용되는 PbO는 유리의 골격을 구성하는 주요성분으로서 유리를 저융점화하는 역할을 하는데, 여기서, 상기 PbO의 함량을 52∼65wt%으로 하는 데, 상기 PbO의 함량이 50wt% 미만일 때에는 연화온도가 높아지고 65wt%를 초과하는 때에는 열팽창계수가 증가하여 표면균열이나 휨현상이 발생할 우려가 있다.PbO used in the present invention serves to lower the melting point of glass as a main component constituting the skeleton of the glass, wherein the content of PbO is 52 to 65 wt%, when the content of PbO is less than 50 wt%. If the softening temperature is higher than 65wt%, the coefficient of thermal expansion increases, which may cause surface cracking and warpage.

상기 B2O3와 SiO2는 저융점 유리를 안정적인 유리질로 만드는 역할을 하는데, 상기 성분이 7wt% 미만인 때에는 유리 형성이 불안정하게 되고, 팽창율이 높아지며, 18wt%를 초과하게 되면 유리점도가 낮아져 결정화가 발생하기 쉽다. 또한 SiO2는 유전율이 비교적 낮기 때문에 전체적인 유전율을 낮추는 역할 및 내에칭성을 증가시키는 역할도 하는데, 상기 SiO2의 함량이 10wt% 미만이면 내에칭성이 떨어지고, 20wt%를 초과하는 경우에는 추가적으로 연화온도가 높아져 소결 부족이 발생할 가능성이 있다.The B 2 O 3 and SiO 2 serves to make the low melting glass into a stable glass, when the component is less than 7wt% glass formation becomes unstable, the expansion rate is increased, when the glass content exceeds 18wt% the glass viscosity is lowered crystallization Is easy to occur. In addition, since SiO 2 has a relatively low dielectric constant, it also serves to lower the overall dielectric constant and to increase the etch resistance. If the content of SiO 2 is less than 10 wt%, the etch resistance is poor, and if it exceeds 20 wt%, it is further softened. There is a possibility that the sintering shortage may occur due to the high temperature.

상기 Al2O3는 유리 분말의 재가열시에 결정화를 억제하는 역할과 동시에 내에칭성을 증가시키는 역할을 하는데, 이 Al2O3가 5wt% 미만이면 내에칭성이 떨어지며 20wt%를 초과하면 유리분말의 연화온도가 높아질 염려가 있다.The Al 2 O 3 serves to suppress crystallization and increase the etching resistance at the same time when the glass powder is reheated, when the Al 2 O 3 is less than 5wt%, the etching resistance is lowered, if the glass exceeds 20wt% There is a fear that the softening temperature of the powder will increase.

본 발명에 사용되는 제 1, 제 2 유전체층(16, 14) 또는 격벽층(13) 형성용 유전체 조성물은, 내에칭성을 확보할 수 있는 성분으로서 SiO2 또는 Al2O3를 최적의 비율로 혼합함으로써, 우수한 내에칭성을 부여하는 한편, 연화점을 낮추기 위하여 종래기술에 사용되어 오던 알칼리금속 산화물 대신에 알칼리 토금속 산화물을 사용함으로써 황변현상을 억제할 수 있다.In the dielectric composition for forming the first and second dielectric layers 16 and 14 or the partition layer 13 used in the present invention, SiO 2 or Al 2 O 3 is used at an optimum ratio as a component capable of ensuring the etching resistance. By mixing, the yellowing phenomenon can be suppressed by using an alkaline earth metal oxide instead of the alkali metal oxide that has been used in the prior art in order to impart excellent etching resistance and lower the softening point.

상기 ZnO는 유리화 형성능력을 증가시키면서 열팽창 계수와 유리전이온도를 낮추는 역할을 할 뿐만 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널의 내부공간에 주입되는 방전가스 중 Ne의 방전으로 발생한 오렌지 광을 흡수하여 플라즈마 디스플레이 패널의 색순도가 저하되는 현상을 방지하기도 한다.The ZnO not only plays a role of lowering the coefficient of thermal expansion and glass transition temperature while increasing the vitrification forming ability, but also absorbs the orange light generated by the discharge of Ne from the discharge gas injected into the interior of the plasma display panel, thereby improving the color purity of the plasma display panel. It also prevents the phenomenon of deterioration.

상기 SrO는 유리전이온도, 열팽창계수 등의 특성을 제어하기 위해 첨가된다.The SrO is added to control properties such as glass transition temperature and thermal expansion coefficient.

또한, 상기 유전체 조성물의 착색과 전극 반응성을 억제하기 위해 CoO, CuO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 중 적어도 어느 하나를 0∼5wt%의 조성비로 더 혼합하거나 또는 CeO2, Er2O3, Nd2O3, Pr2O3 중 적어도 어느 하나를 0∼10wt%의 조성비로 더 혼합한다.Further, in order to suppress coloring of the dielectric composition and electrode reactivity, at least one of CoO, CuO, Cr 2 O 3 , MnO, FeO, and NiO may be further mixed at a composition ratio of 0 to 5 wt%, or CeO 2 , Er 2 O At least one of 3 , Nd 2 O 3 , and Pr 2 O 3 is further mixed at a composition ratio of 0 to 10 wt%.

이하에서는 본 발명의 실시예 5∼8에 대하여 구체적으로 살펴보도록 한다.Hereinafter, embodiments 5 to 8 of the present invention will be described in detail.

Figure 112007017748413-PAT00005
Figure 112007017748413-PAT00005

실시예Example 5 5

본 발명에 따른 유전체 조성물을 제조하기 위하여 62.5wt%의 PbO, 12.5wt%의 B2O3, 16wt%의 SiO2, 4wt%의 Al2O3, 0wt%의 BaO, 0wt%의 ZnO, 그리고 5wt%의 SrO의 조성비로 조성비로 혼합하여 유리모상 조성물을 제조할 수 있다, 이 제조된 유리모상 조성물에 대하여 유전상수는 12.0, 열팽창계수는 82.1×10-7℃, 소성온도는 520℃ 이하, 투명이란 실험치를 얻을 수 있었다. 이 유리모상 조성물에 전극 반응성을 억제하기 위해 CoO, CuO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 중 적어도 어느 하나를 0∼5wt%의 조성비로 더 혼합하거나 또는 CeO2, Er2O3, Nd2O3, Pr2O3 중 적어도 어느 하나를 0∼10wt%의 조성비로 더 혼합할 수 있다.62.5 wt% PbO, 12.5 wt% B 2 O 3 , to prepare the dielectric composition according to the present invention. A glass wool composition can be prepared by mixing the composition ratio in a composition ratio of 16 wt% SiO 2 , 4 wt% Al 2 O 3 , 0 wt% BaO, 0 wt% ZnO, and 5 wt% SrO. With respect to the composition, an experimental value of 12.0, a thermal expansion coefficient of 82.1 × 10 −7 ° C., a firing temperature of 520 ° C. or less, and a transparency were obtained. In order to suppress electrode reactivity in this glass wool composition, at least one of CoO, CuO, Cr 2 O 3 , MnO, FeO, and NiO may be further mixed in a composition ratio of 0 to 5 wt%, or CeO 2 , Er 2 O 3 , Nd At least one of 2 O 3 and Pr 2 O 3 may be further mixed in a composition ratio of 0 to 10 wt%.

실시예Example 6 6

본 발명에 따른 유전체 조성물을 제조하기 위하여 52wt%의 PbO, 12wt%의 B2O3, 12wt%의 SiO2, 4wt%의 Al2O3, 0wt%의 BaO, 10wt%의 ZnO, 그리고 10wt%의 SrO의 조성비로 혼합하여 유리모상 조성물을 제조할 수 있다, 이 제조된 유리모상 조성물에 대하여 유전상수는 12.5, 열팽창계수는 86.3×10-7℃, 소성온도는 520℃ 이하, 투명이란 실험치를 얻을 수 있었다. 이 유리모상 조성물에 전극 반응성을 억제하기 위해 CoO, CuO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 중 적어도 어느 하나를 0∼5wt%의 조성비로 더 혼합하거나 또는 CeO2, Er2O3, Nd2O3, Pr2O3 중 적어도 어느 하나를 0∼10wt%의 조성비로 더 혼합할 수 있다.To prepare the dielectric composition according to the present invention, 52 wt% PbO, 12 wt% B 2 O 3 , 12 wt% SiO 2 , 4 wt% Al 2 O 3 , 0 wt% BaO, 10 wt% ZnO, and 10 wt% The glass wool composition can be prepared by mixing in a composition ratio of SrO of. For this prepared glass wool composition, the dielectric constant is 12.5, the coefficient of thermal expansion is 86.3 × 10 -7 ° C., the firing temperature is 520 ° C. or lower, and an experimental value of transparent Could get In order to suppress electrode reactivity in this glass wool composition, at least one of CoO, CuO, Cr 2 O 3 , MnO, FeO, and NiO may be further mixed in a composition ratio of 0 to 5 wt%, or CeO 2 , Er 2 O 3 , Nd At least one of 2 O 3 and Pr 2 O 3 may be further mixed in a composition ratio of 0 to 10 wt%.

실시예Example 7 7

본 발명에 따른 유전체 조성물을 제조하기 위하여 55wt%의 PbO, 17.5wt%의 B2O3, 12wt%의 SiO2, 3wt%의 Al2O3, 8wt%의 BaO, 2.5wt%의 ZnO, 그리고 0wt%의 SrO의 조성비로 혼합하여 유리모상 조성물을 제조할 수 있다, 이 제조된 유리모상 조성물에 대하여 유전상수는 11.6, 열팽창계수는 81.7×10-7℃, 소성온도는 520℃ 이하, 불투명이란 실험치를 얻을 수 있었다. 이 유리모상 조성물에 전극 반응성을 억제하기 위해 CoO, CuO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 중 적어도 어느 하나를 0∼5wt%의 조성비로 더 혼합하거나 또는 CeO2, Er2O3, Nd2O3, Pr2O3 중 적어도 어느 하나를 0∼10wt%의 조성비로 더 혼합할 수 있다.55 wt% PbO, 17.5 wt% B 2 O 3 , 12 wt% SiO 2 , 3 wt% Al 2 O 3 , 8 wt% BaO, 2.5 wt% ZnO, and to prepare the dielectric composition according to the present invention. The glass wool composition may be prepared by mixing in a composition ratio of 0 wt% SrO. The glass wool composition may have a dielectric constant of 11.6, a thermal expansion coefficient of 81.7 × 10 −7 ° C., a firing temperature of 520 ° C. or less, and an opacity. Experimental values were obtained. In order to suppress electrode reactivity in this glass wool composition, at least one of CoO, CuO, Cr 2 O 3 , MnO, FeO, and NiO may be further mixed in a composition ratio of 0 to 5 wt%, or CeO 2 , Er 2 O 3 , Nd At least one of 2 O 3 and Pr 2 O 3 may be further mixed in a composition ratio of 0 to 10 wt%.

실시예Example 8 8

본 발명에 따른 유전체 조성물을 제조하기 위하여 62wt%의 PbO, 12wt%의 B2O3, 12wt%의 SiO2, 4wt%의 Al2O3, 0wt%의 BaO, 0wt%의 ZnO, 그리고 10wt%의 SrO의 조성비로 혼합하여 유리모상 조성물을 제조할 수 있다, 이 제조된 유리모상 조성물에 대하여 유전상수는 12.7, 열팽창계수는 89.7×10-7℃, 소성온도는 520℃ 이하, 투명이란 실험치를 얻을 수 있었다. 이 유리모상 조성물에 전극 반응성을 억제하기 위해 CoO, CuO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 중 적어도 어느 하나를 0∼5wt%의 조성비로 더 혼합하거나 또는 CeO2, Er2O3, Nd2O3, Pr2O3 중 적어도 어느 하나를 0∼10wt%의 조성비로 더 혼합할 수 있다.62 wt% PbO, 12 wt% B 2 O 3 , 12 wt% SiO 2 , 4 wt% Al 2 O 3 , 0 wt% BaO, 0 wt% ZnO, and 10 wt% The glass wool composition can be prepared by mixing in a composition ratio of SrO of. For this prepared glass wool composition, the dielectric constant is 12.7, the coefficient of thermal expansion is 89.7 × 10 -7 ° C., the firing temperature is 520 ° C. or lower, and an experimental value of transparent Could get In order to suppress electrode reactivity in this glass wool composition, at least one of CoO, CuO, Cr 2 O 3 , MnO, FeO, and NiO may be further mixed in a composition ratio of 0 to 5 wt%, or CeO 2 , Er 2 O 3 , Nd At least one of 2 O 3 and Pr 2 O 3 may be further mixed in a composition ratio of 0 to 10 wt%.

도 6은 본 발명의 실시예 9에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 나타낸 개략 블록도이다.6 is a schematic block diagram showing a method of manufacturing a plasma display panel according to Embodiment 9 of the present invention.

도 6에 도시된 바와 같이, 크게 제 1 전극, 제 1 유전체를 갖는 제 1 기판과, 제 2 전극, 제 2 유전체 및 격벽을 갖는 제 2 기판을 준비하는 단계(61), 52∼65wt%의 PbO, 5∼30wt%의 B2O3, 0∼25wt%의 SiO2, 0∼5wt%의 Al2O3, 0∼15wt%의 BaO, 0∼10wt%의 ZnO, 그리고 0∼15wt%의 SrO가 포함된 유전체 조성물과 비히클을 혼합하여 페이스트를 제조하는 단계(62), 상기 페이스트를 기판 상에 도포하는 단계(63) 그리고 상기 페이스트를 소성하여 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 중 적어도 어느 하나를 형성하는 단계(64)를 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 6, a step 61 of preparing a second substrate having a first electrode, a first substrate having a first dielectric, and a second substrate having a second electrode, a second dielectric, and a partition wall, of 52 to 65 wt% PbO, 5-30 wt% B 2 O 3 , A paste is prepared by mixing a dielectric composition with a vehicle comprising 0-25 wt% SiO 2 , 0-5 wt% Al 2 O 3 , 0-15 wt% BaO, 0-10 wt% ZnO, and 0-15 wt% SrO. Manufacturing (62), applying the paste onto a substrate (63), and baking the paste to form at least one of the first, second dielectrics, and barrier ribs (64).

상기 유전체 조성물의 착색과 전극 반응성을 억제하기 위해, CoO, CuO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 중 적어도 어느 하나가 0∼5wt%로 더 포함된 조성이거나 또는 CeO2, Er2O3, Nd2O3, Pr2O3 중 적어도 어느 하나가 0∼10wt%로 더 포함된 조성비를 갖는다.In order to suppress coloring of the dielectric composition and electrode reactivity, at least one of CoO, CuO, Cr 2 O 3 , MnO, FeO, and NiO is further contained in an amount of 0 to 5 wt%, or CeO 2 , Er 2 O 3 At least one of Nd 2 O 3 and Pr 2 O 3 has a composition ratio of 0-10 wt%.

여기서, 상기 2 유전체 또는 격벽 형성용 페이스트는, 고굴절률의 충진제인 10∼20wt%의 TiO2가 더 포함된 조성이거나 또는 고강도 세라믹 충진제인 10∼20wt%의 Al2O3가 더 포함된 조성비를 갖는다.Here, the second dielectric or partition wall forming paste may include a composition containing 10 to 20 wt% of TiO 2, which is a filler having a high refractive index, or a composition ratio including 10 to 20 wt% of Al 2 O 3, which is a high strength ceramic filler. Have

여기서, 상기 페이스트를 제조하는 단계(62)는 먼저 전술한 조성비로 혼합한 유전체 조성물(유리)을 고온에서 용융시킨 후 상온의 물에 침지하거나 건식으로 트윈롤을 사용하여 급냉한 다음 분쇄기로 분쇄하고, 필요에 따라 필러(filler)와 혼합하여 건조함으로써, 모상유리분말을 제조할 수 있다.Here, in the step 62 of preparing the paste, first, the dielectric composition (glass) mixed at the above composition ratio is melted at a high temperature, and then immersed in water at room temperature or quenched dry using twin rolls and then pulverized with a grinder. If necessary, by mixing with a filler (dryer) and dried, a mother glass powder can be produced.

다음, 전술한 바와 같이 제조된 70∼90wt%의 모상유리분말과 10∼30wt%의 비히클을 혼합한다. 여기서, 상기 비히클은 분말들의 혼합이나 인쇄를 돕기 위해 0∼15wt% 바인더, 0∼80wt%의 용제, 0∼5wt%의 분산제 등을 혼합할 수 있다. 이때, 상기 용제로는 Alcohol계, Glycol계, Propylene Glycol Ether류, Propylene Glycol Acetate류, Ketone류, BCA, Xylene, Terpineol, Texanol, 물 등이 사용될 수 있고, 상기 분산제로는 분산효과가 큰 Acryl계 분산제를 주로 사용한다.Next, 70 to 90 wt% of the parent glass powder prepared as described above and 10 to 30 wt% of vehicle are mixed. In this case, the vehicle may be mixed with 0 to 15 wt% binder, 0 to 80 wt% solvent, 0 to 5 wt% dispersant and the like to assist in mixing or printing the powders. At this time, the solvent may be used alcohol, glycol, propylene glycol ether, propylene glycol acetate, ketone, BCA, Xylene, Terpineol, Texanol, water, etc., the dispersant Acryl system having a large dispersing effect The dispersant is mainly used.

상기 페이스트를 기판 상에 도포하는 단계(63)는 스크린 프린팅, 디스펜싱, 잉크젯법 중 적어도 어느 하나의 방법으로 제 1, 2 유전체, 격벽 중 적어도 어느 하나를 형성할 수 있는 층의 전면에 도포한다.The step of applying the paste onto the substrate (63) is applied to the entire surface of the layer capable of forming at least one of the first, second dielectric, and barrier ribs by at least one of screen printing, dispensing, and inkjet printing. .

다음, 제조된 페이스트를 제 1, 2 유전체, 격벽 중 적어도 어느 하나를 형성할 수 있는 층의 전면에 도포하여 520℃ 이하의 온도에서 소성하여, 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 중 선택된 어느 하나를 형성하게 된다.Next, the prepared paste is applied to the entire surface of the layer capable of forming at least one of the first and second dielectrics and the partition walls and baked at a temperature of 520 ° C. or lower, thereby selecting any one of the first and second dielectrics and the partition walls. To form.

상기 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구체적으로 설명하기 위한 일례로서, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 다양한 형태의 변형과 조합이 가능하고, 이러한 기술적 사상의 여러 실시 형태는 모두 본 발명의 보호범위에 속함은 당연하다.The above embodiment is an example for explaining the technical idea of the present invention in detail, and the present invention is not limited to the above embodiment, various modifications and combinations are possible, and various embodiments of the technical idea are all present invention Naturally, it belongs to the protection scope of.

이상에서와 같이 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 조성물 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널은 단가 면에서 저렴한 소다-라임 유리 기판과 소성 온도가 낮은 PbO 유전체 조성물을 같이 사용할 수 있어, 황변현상을 방지할 수 있다는 효과가 있다.As described above, the dielectric composition for a plasma display panel and the plasma display panel using the same according to an embodiment of the present invention can be used in combination with a low-cost soda-lime glass substrate and a PbO dielectric composition having a low firing temperature in terms of unit cost, thereby preventing yellowing. There is an effect that can be prevented.

또한, 본 발명에 의하면, 낮아진 유리전이온도에 비해 열팽창계수도 증가시키지 않는다는 효과가 있고, 고투과율의 플라즈마 디스플레이 패널을 제공할 수 있으며, 전체적으로 플라즈마 디스플레이 패널의 가격 경쟁력을 향상시킬 수 있다는 효과가 있다.In addition, the present invention has the effect of not increasing the coefficient of thermal expansion compared to the lower glass transition temperature, it is possible to provide a high transmittance plasma display panel, it is possible to improve the overall price competitiveness of the plasma display panel. .

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술 사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 실시예에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의하여 정해져야 한다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the embodiments, but should be defined by the claims.

Claims (8)

52∼65wt%의 PbO;52 to 65 wt% PbO; 5∼30wt%의 B2O3;5-30 wt% of B 2 O 3 ; 0∼25wt%의 SiO2;0-25 wt% of SiO 2 ; 0∼5wt%의 Al2O3;0-5 wt% Al 2 O 3 ; 0∼15wt%의 BaO;0-15 wt% BaO; 0∼10wt%의 ZnO; 그리고0-10 wt% ZnO; And 0∼15wt%의 SrO;가 포함된 조성비를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 조성물.A dielectric composition for a plasma display panel having a composition ratio containing 0 to 15wt% SrO. 제 1 항에 있어서, 상기 유전체 조성물은,The method of claim 1, wherein the dielectric composition, 조성물의 착색과 전극 반응성을 억제하기 위해, CoO, CuO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 중 적어도 어느 하나가 0∼5wt%로 더 포함된 조성비를 갖는 것을 특징으로 하는 유전체 조성물.In order to suppress coloring of the composition and electrode reactivity, at least any one of CoO, CuO, Cr 2 O 3 , MnO, FeO, NiO has a composition ratio further comprising 0 to 5wt%. 제 1 항에 있어서, 상기 유전체 조성물은,The method of claim 1, wherein the dielectric composition, 조성물의 착색과 전극 반응성을 억제하기 위해, CeO2, Er2O3, Nd2O3, Pr2O3 중 적어도 어느 하나가 0∼10wt%로 더 포함된 조성비를 갖는 것을 특징으로 하는 유전체 조성물.In order to suppress coloring of the composition and electrode reactivity, at least one of CeO 2 , Er 2 O 3 , Nd 2 O 3 , and Pr 2 O 3 has a composition ratio further comprising 0 to 10 wt%. . 제 1 유전체가 형성된 제 1 기판과,A first substrate having a first dielectric formed thereon; 제 2 유전체가 형성된 제 2 기판과,A second substrate having a second dielectric formed thereon; 상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 위치하는 격벽을 포함하고,A partition wall positioned between the first substrate and the second substrate, 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 중 적어도 어느 하나는, 52∼65wt%의 PbO, 5∼30wt%의 B2O3, 0∼25wt%의 SiO2, 0∼5wt%의 Al2O3, 0∼15wt%의 BaO, 0∼10wt%의 ZnO, 그리고 0∼15wt%의 SrO가 포함된 조성비를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.At least one of the first and second dielectrics and barrier ribs may include 52 to 65 wt% of PbO, 5 to 30 wt% of B 2 O 3 , Plasma having a composition ratio including 0 to 25 wt% SiO 2 , 0 to 5 wt% Al 2 O 3 , 0 to 15 wt% BaO, 0 to 10 wt% ZnO, and 0 to 15 wt% SrO Display panel. 제 4 항에 있어서, 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 중 적어도 어느 하나는,The method of claim 4, wherein at least one of the first and second dielectrics and the partition wall, 조성물의 착색과 전극 반응성을 억제하기 위해, CoO, CuO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 중 적어도 어느 하나가 0∼5wt%로 더 포함된 조성비를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.In order to suppress coloring of the composition and electrode reactivity, at least any one of CoO, CuO, Cr 2 O 3 , MnO, FeO, NiO has a composition ratio further comprising 0 to 5wt%. 제 4 항에 있어서, 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 중 적어도 어느 하나는,The method of claim 4, wherein at least one of the first and second dielectrics and the partition wall, 조성물의 착색과 전극 반응성을 억제하기 위해, CeO2, Er2O3, Nd2O3, Pr2O3 중 적어도 어느 하나가 0∼10wt%로 더 포함된 조성비를 갖는 것을 특징으로 하는 플라 즈마 디스플레이 패널.In order to suppress coloring of the composition and electrode reactivity, at least one of CeO 2 , Er 2 O 3 , Nd 2 O 3 , and Pr 2 O 3 has a composition ratio further comprising 0 to 10 wt%. Display panel. 제 4 항에 있어서, 상기 제 2 유전체, 격벽 중 적어도 어느 하나는,The method of claim 4, wherein at least one of the second dielectric and the partition wall is 고굴절률의 충진제인 10∼20wt%의 TiO2가 더 포함된 조성비를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.A plasma display panel comprising a composition ratio further comprising 10 to 20 wt% TiO 2, which is a high refractive index filler. 제 4 항에 있어서, 상기 제 2 유전체, 격벽 중 적어도 어느 하나는,The method of claim 4, wherein at least one of the second dielectric and the partition wall is 고강도 세라믹 충진제인 10∼20wt%의 Al2O3가 더 포함된 조성비를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.A plasma display panel having a composition ratio further comprising Al 2 O 3 of 10 to 20 wt%, which is a high-strength ceramic filler.
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