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KR20080032474A - Dielectric composition, plasma display panel and method for manufacturing same - Google Patents

Dielectric composition, plasma display panel and method for manufacturing same

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Publication number
KR20080032474A
KR20080032474A KR1020060098355A KR20060098355A KR20080032474A KR 20080032474 A KR20080032474 A KR 20080032474A KR 1020060098355 A KR1020060098355 A KR 1020060098355A KR 20060098355 A KR20060098355 A KR 20060098355A KR 20080032474 A KR20080032474 A KR 20080032474A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mol
dielectric
plasma display
display panel
composition
Prior art date
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Withdrawn
Application number
KR1020060098355A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
강동원
문원석
Original Assignee
엘지전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지전자 주식회사 filed Critical 엘지전자 주식회사
Priority to KR1020060098355A priority Critical patent/KR20080032474A/en
Publication of KR20080032474A publication Critical patent/KR20080032474A/en
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Abstract

본 발명은 유전체 조성물 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법에 관한 것으로, 20∼60mol%의 ZnO, 10∼50mol%의 B2O3, 5∼30mol%의 BaO, 2∼10mol%의 SiO2, 0∼10mol%의 V2O5 및 0.5∼20mol%의 알칼리가 포함된 유전체 조성물 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 모상유리분말이 되는 유전체 조성물에 Pb를 사용하지 않으므로, 환경 규제로부터 자유롭고 알칼리 재료의 사용에 의한 유리 결정화를 방지할 수 있어 520℃ 이하의 저온 소성으로 플라즈마 디스플레이용 유전체, 격벽 및 봉착부 재료로 이용할 수 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dielectric composition, a plasma display panel using the same, and a method of manufacturing the same, including 20 to 60 mol% ZnO, 10 to 50 mol% B 2 O 3 , 5 to 30 mol% BaO, and 2 to 10 mol% SiO 2. The present invention relates to a dielectric composition containing 0 to 10 mol% of V 2 O 5 and 0.5 to 20 mol% of alkali, a plasma display panel using the same, and a method of manufacturing the same. Since the present invention does not use Pb in the dielectric composition which becomes the mother glass powder, it is free from environmental regulation and can prevent glass crystallization by the use of alkali material. It can be used as a material.

Description

유전체 조성물 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법{DIELECTRIC COMPOSITION AND PLASMA DISPLAY PANEL USING THE SAME, MANUFACTURING METHOD THEREOF}Dielectric composition and plasma display panel using same and manufacturing method therefor {DIELECTRIC COMPOSITION AND PLASMA DISPLAY PANEL USING THE SAME, MANUFACTURING METHOD THEREOF}

도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀 구조를 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view illustrating a discharge cell structure of a conventional plasma display panel.

도 2는 본 발명의 실시예 1에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to Embodiment 1 of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시예 2에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a second embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예 3에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a third embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 실시예 4에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a fourth embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 실시예 5에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.6 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a fifth embodiment of the present invention.

도 7a 내지 7d는 본 발명의 실시예 6∼12에 따른 XRD(X-ray Diffraction)를 측정한 그래프이다.7A to 7D are graphs illustrating X-ray diffraction (XRD) according to Examples 6 to 12 of the present invention.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 나타낸 개략 블록도이다.8 is a schematic block diagram illustrating a method of manufacturing a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1, 11 : 제 1 기판(상부) 2, 12 : 제 2 기판(하부)1, 11: 1st board | substrate (upper) 2, 12: 2nd board | substrate (lower)

3, 13 : 격벽 4, 14 : 제 2 유전체층(하부)3, 13: partition 4, 14: second dielectric layer (lower)

5, 15 : 형광체 6, 16 : 제 1 유전체층(상부)5, 15: phosphor 6, 16: first dielectric layer (top)

7, 17 : 보호층 18 : 봉착부7, 17: protective layer 18: sealing part

9, 19 : 서스테인 전극쌍 X, X1 : 어드레스전극9, 19: sustain electrode pair X, X1: address electrode

본 발명은 유전체 조성물 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a dielectric composition, a plasma display panel using the same, and a method of manufacturing the same.

차세대 평판 패널 디스플레이 시장을 주도할 가장 높은 잠재성을 가지고 있는 평판표시소자로 부상하는 있는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP : Plasma Display Panel)은 격벽으로 구획된 방전셀(cell)에서 통상 He+Xe, Ne+Xe,He+Xe+Ne 등의 불활성 혼합가스가 방전할 때 발생하는 147nm의 진공자외선이 형광체를 발광시킴으로써 화상을 표시하게 된다. 이러한 플라즈마 디스플레이 패널은 박막화와 대형화가 용이하여 대면적 평판 디스플레이로서 주목받고 있는 디스플레이 장치이다.Plasma Display Panels (PDPs), which are emerging as flat panel display devices with the highest potential to lead the next-generation flat panel display market, are usually He + Xe, Ne + in discharge cells partitioned by partition walls. 147 nm vacuum ultraviolet rays generated when an inert mixed gas such as Xe, He + Xe + Ne are discharged to emit an phosphor to display an image. Such a plasma display panel is a display device that is attracting attention as a large area flat panel display due to its easy thin and large size.

도 1을 참조하면, 3전극 교류 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀 은 상부유리기판(1) 상에 형성되어진 서스테인 전극쌍(9)과, 서스테인 전극쌍(9) 위에 형성된 상부 유전체(6)와, 상부 유전체(6) 상에 형성된 보호막(7)과, 하부기판(2) 상에 형성된 어드레스전극(X)과, 어드레스전극(X) 위에 형성된 하부유전체(4)와, 하부유전체(4) 위에 형성된 격벽(3)을 구비한다.Referring to FIG. 1, a discharge cell of a three-electrode AC surface discharge type plasma display panel includes a sustain electrode pair 9 formed on an upper glass substrate 1, an upper dielectric 6 formed on the sustain electrode pair 9, and a discharge electrode. On the protective layer 7 formed on the upper dielectric 6, the address electrode X formed on the lower substrate 2, the lower dielectric 4 formed on the address electrode X, and the lower dielectric 4. The formed partition 3 is provided.

서스테인 전극쌍(9) 각각은 인듐틴옥사이드(Indium-Tin-Oxide : ITO) 등의 투명전극(9a)과, 투명전극(9a)의 선폭보다 작은 선폭을 가지며, 투명전극(9a)의 일측 가장자리에 형성되는 금속버스전극(9b)을 포함한다. 금속버스전극(9b)은 Cr/Cu/Cr을 증착법으로 적층한 후에 에싱공정(ashing)을 거쳐 형성된다. 서스테인 전극쌍(9)이 스크린인쇄나 진공증착법으로 형성된 상부기판(1)에는 상부 유전체(6)와 보호막(7)이 적층된다. 상부 유전체(6)에는 플라즈마 방전시 발생된 벽전하가 축적되어 방전을 유지시키며, 플라즈마 방전시 이온의 스퍼터링의 확산방지막의 역할을 함으로써 이온 스퍼터링으로 인한 서스테인 전극쌍(9)의 전극손상을 방지하게 된다. 보호층(7)은 대략 5000 Å 정도의 두께로 상부 유전체층(6) 상에 형성되어 플라즈마 방전시 발생된 스퍼터링으로 인한 상부 유전체층(6)과 서스테인 전극쌍(9)의 손상을 방지함과 아울러 2차 전자의 방출 효율을 높이게 된다. 보호층(7)으로는 통상 산화마그네슘(MgO)이 이용된다.Each of the sustain electrode pairs 9 has a transparent electrode 9a such as indium tin oxide (ITO), a line width smaller than the line width of the transparent electrode 9a, and one edge of the transparent electrode 9a. It includes a metal bus electrode (9b) formed in. The metal bus electrode 9b is formed through an ashing process after stacking Cr / Cu / Cr by vapor deposition. The upper dielectric 6 and the protective film 7 are laminated on the upper substrate 1 on which the sustain electrode pairs 9 are formed by screen printing or vacuum deposition. The upper dielectric 6 accumulates wall charges generated during plasma discharge to maintain the discharge, and serves to prevent the electrode damage of the sustain electrode pair 9 due to ion sputtering by acting as a diffusion barrier for sputtering ions during plasma discharge. do. The protective layer 7 is formed on the upper dielectric layer 6 to a thickness of approximately 5000 Å to prevent damage to the upper dielectric layer 6 and the sustain electrode pair 9 due to sputtering generated during plasma discharge. This increases the emission efficiency of the secondary electrons. As the protective layer 7, magnesium oxide (MgO) is usually used.

어드레스전극(X)이 형성된 하부기판(2) 상에는 하부 유전체(4), 격벽(3)이 형성되며, 하부 유전체(4)와 격벽(3)의 표면에는 스크린 프린팅공정으로 형광체(5)가 형성된다. 형광체(5)는 방전셀에 주입된 혼합가스의 플라즈마 방전시 발생된 진공자외선(VUV)에 의해 여기되어 적색, 녹색 또는 청색 중 어느 하나의 가시광선을 발생하게 된다. 어드레스전극(2)은 서스테인 전극쌍(9)과 교차하게 형성된다. 격벽(3)은 스크린 프린팅공정이나 금형법 등으로 형성된다. 이 격벽(3)은 벽전하를 형성함으로써 방전을 유지함과 아울러 형광체(5)로부터 발광된 가시광을 반사시키는 등 발광효율을 향상시킨다. 아울러 격벽(3)은 셀 간의 전기적, 광학적 상호혼신(cross talk)를 방지함으로써 방전에 의해 생성된 자외선 및 가시광이 인접한 방전셀에 누설되는 것을 방지한다. 하부 유전체(4)는 형광체(5)로부터 후방으로 방사되는 가시광을 재반사시킴으로써 플라즈마 디스플레이 패널의 발광효율을 향상시키고 격벽(3)의 기반층 역할을 한다. 이와 동시에 하부 유전체(4)는 어드레스전극(X)을 구성하는 전극재료가 형광체(5)로 확산되는 것을 방지하는 확산방지막 역할을 한다.The lower dielectric 4 and the partition 3 are formed on the lower substrate 2 on which the address electrode X is formed, and the phosphor 5 is formed on the surfaces of the lower dielectric 4 and the partition 3 by a screen printing process. do. The phosphor 5 is excited by vacuum ultraviolet rays (VUV) generated during plasma discharge of the mixed gas injected into the discharge cells to generate visible light of any one of red, green, and blue. The address electrode 2 is formed to intersect with the sustain electrode pair 9. The partition 3 is formed by a screen printing process, a mold method, or the like. The partition wall 3 maintains discharge by forming wall charges and improves luminous efficiency by reflecting visible light emitted from the phosphor 5. In addition, the barrier rib 3 prevents electrical and optical cross talk between cells, thereby preventing the ultraviolet rays and the visible light generated by the discharge from leaking to the adjacent discharge cells. The lower dielectric 4 improves the luminous efficiency of the plasma display panel by reflecting back visible light radiated backward from the phosphor 5 and serves as a base layer of the partition wall 3. At the same time, the lower dielectric 4 serves as a diffusion barrier for preventing the electrode material constituting the address electrode X from being diffused into the phosphor 5.

여기서, 상부 유전체(6)를 형성하는 방법은 Pb를 약 60mol%이상 함유하는 1~2㎛ 크기의 입격인 보로실리케이트(borosilicate) 유리분말에 20~30mol%의 유기바인더를 혼합하여 약 40,000 cps의 점도를 갖도록 한 후, 스크린 프린팅 방법으로 서스테인 전극쌍(9)이 형성된 상부 유리기판(1)에 전면 도포하고 550~580℃의 온도에서 소성하는 것이다. 이러한 상부 유전체(6)의 유전율은 14~16 범위의 값을 갖게 되며, 중심파장인 550nm에서 약 70%의 가시광을 투과시키는 광투과율을 나타내게 된다. 하부유전체(4)와 격벽(3)을 형성하기 위해서는 우선, PbO를 약 60mol%이상 함유하는 모상유리분말에 수십mol%의 TiO2, Al2O3와 같은 미분말 상태의 산화물을 혼합하고 유기용매를 첨가하여 약 40,000cps 정도의 점도를 갖는 페이스트를 제조 한다. 이와 같이 페이스트가 제조된 후, 스크린 프린팅 방법으로 어드레스전극(X)이 형성된 하부 유리기판(2) 상에 20~25㎛의 두께로 전면 도포하고 550~600℃의 온도에서 산화분위기로 소성하면 하부유전체(4)가 형성된다. 이 후, 하부유전체(4) 상에 다시 페이스트를 120~200㎛의 두께로 전면 도포하고 스크린 프린팅, 샌드 블라스팅, 금형법 등을 통해 격벽패턴을 형성한 후 소성하면 격벽(3)이 형성된다. 여기서, 미분말 상태의 산화물은 격벽(3) 및 하부유전체(4)의 반사특성을 향상시키고 유전율을 조절하며 내충격성을 확보하게 한다.Here, the method of forming the upper dielectric (6) is about 40,000 cps by mixing 20-30 mol% of organic binder in borosilicate glass powder of 1 ~ 2㎛ sized grains containing about 60mol% or more of Pb. After having the viscosity, the entire surface is coated on the upper glass substrate 1 on which the sustain electrode pairs 9 are formed by screen printing, and then fired at a temperature of 550 to 580 ° C. The dielectric constant of the upper dielectric 6 has a value ranging from 14 to 16, and exhibits a light transmittance that transmits about 70% of visible light at 550 nm, the central wavelength. In order to form the lower dielectric 4 and the partition wall 3, first, a fine powder oxide such as TiO 2 and Al 2 O 3 in a fine glass powder containing about 60 mol% or more of PbO is mixed with an organic solvent. To add a paste having a viscosity of about 40,000cps. After the paste is prepared as described above, the entire surface is coated with a thickness of 20 to 25 μm on the lower glass substrate 2 on which the address electrode X is formed by screen printing. Dielectric 4 is formed. Thereafter, the paste is completely coated on the lower dielectric 4 to a thickness of 120 to 200 μm, and the barrier ribs 3 are formed by baking after forming the barrier rib pattern through screen printing, sand blasting, molding, or the like. Here, the fine powder oxide improves the reflection characteristics of the partition 3 and the lower dielectric 4, adjusts the dielectric constant, and secures impact resistance.

이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 상부기판 및 하부기판으로서 PD-200의 고왜점 유리가 사용되고 있지만 소다-라임 유리(Soda-Lime Glass)의 사용이 적극적으로 고려되고 있다. 왜냐하면, 소다-라임 유리가 PD-200에 비해 약 1/6 배로 저렴하기 때문에 단가 면에서 유리하기 때문이다. 따라서, 전체적인 플라즈마 디스플레이 패널의 가격 경쟁력을 향상시키기 위하여 소다-라임 유리 기판의 사용에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.In the plasma display panel, the high distortion glass of the PD-200 is used as the upper substrate and the lower substrate, but the use of soda-lime glass has been actively considered. This is because soda-lime glass is about 1/6 times cheaper than PD-200, which is advantageous in terms of unit cost. Therefore, studies on the use of soda-lime glass substrates have been actively conducted to improve the price competitiveness of the overall plasma display panel.

한편, 상부 기판 상에 형성되는 유전층에는 전술한 바와 같이, 납(Pb)을 함유한 재료가 사용되었다. 하지만, Pb으로 인한 환경오염 등의 문제가 대두되면서 Pb을 함유한 재료에 대한 규제가 나날이 강화되고 있는 실정이다. 따라서, 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 조성물로서 Pb 함유 재료를 대체할 수 있는 조성물에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있고, 그 대표적인 것으로 비스무스(Bi)계 유전체 조성물 및 아연(Zn)계 유전체 조성물이 널리 알려져 있다.On the other hand, as described above, a material containing lead (Pb) was used for the dielectric layer formed on the upper substrate. However, as problems such as environmental pollution due to Pb are emerging, regulations on Pb-containing materials are being reinforced day by day. Accordingly, research into a composition capable of replacing Pb-containing materials as a dielectric composition for plasma display panels has been actively conducted, and bismuth (Bi) based dielectric compositions and zinc (Zn) based dielectric compositions are widely known.

이 중에서, Bi계 유전체 조성물은 그 정도에 차이는 있으나 그 역시도 환경 오염을 유발하고, 더욱 문제가 되는 것은 단가가 높다는 것이다. 이에 비해 Zn계 유전체 조성물은 환경오염으로부터 자유로울 뿐만 아니라 Bi계 유전체 조성물에 비해 50% 정도의 가격 이점이 있기 때문에 Bi계 유전체 조성물에 비해 그 연구가 보다 활발히 진행될 필요가 있다. Among them, the Bi-based dielectric composition is different in degree, but also causes environmental pollution, and more problematic is that the unit price is high. On the other hand, Zn-based dielectric compositions are not only free from environmental pollution but also have a 50% price advantage over Bi-based dielectric compositions. Therefore, the research needs to be more actively conducted than Bi-based dielectric compositions.

단, Zn계 유전체 조성물은 유리화 온도가 높기 때문에 소다-라임 유리 기판을 사용할 경우 유전체 소성 조건에 맞지 않는다는 문제점이 있다. 즉, 단가 면에서 유리하기 때문에 플라즈마 디스플레이 패널용 기판으로 주로 사용될 소다-라임 유리기판은 약 550℃ 이상으로 가열될 경우 열변형이 일어나기 때문에 후속의 공정에서 그 이상의 온도를 넘지 않도록 하는 것이 바람직하다.However, since the Zn-based dielectric composition has a high vitrification temperature, there is a problem that the soda-lime glass substrate is not suitable for the dielectric firing conditions. That is, since the soda-lime glass substrate mainly used as the substrate for the plasma display panel because of the unit price is advantageous, heat deformation occurs when heated to about 550 ° C. or higher.

그러나, Zn계 유전체 조성물은 유리화 온도가 550℃를 넘기 때문에, 유전층 형성을 위해 필수적으로 수행되는 소성 공정에 필요한 온도, 즉 550℃ 보다 높은 소성온도로 인하여 소성 공정 중 소다-라임 유리기판의 열변형이 발생된다는 문제점이 있었고 이를 해결하기 위해 첨가되는 재료에 따라 유리 결정화 현상이 발생한다는 문제점이 있었다.However, since the Zn-based dielectric composition has a vitrification temperature of more than 550 ° C., the thermal deformation of the soda-lime glass substrate during the firing process due to the temperature necessary for the firing process that is essential for forming the dielectric layer, that is, the firing temperature higher than 550 ° C. There was a problem that this occurs and there was a problem that the glass crystallization phenomenon occurs depending on the material added to solve this problem.

본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 낮은 소성온도로 제조할 수 있는 유전체 조성물을 제공하고, 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법을 제공하는 데 있다.The present invention is to solve the above-mentioned problems, an object of the present invention to provide a dielectric composition that can be produced at a low firing temperature, to provide a plasma display panel using the same and a method of manufacturing the same.

또한, 본 발명의 다른 목적은 Pb을 함유하지 않아 환경오염으로부터 자유롭고, 저렴한 단가로 제조할 수 있는 유전체 조성물을 제공하고, 이를 이용한 플라즈 마 디스플레이 패널 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a dielectric composition which does not contain Pb and is free from environmental pollution and can be manufactured at low cost, and provides a plasma display panel and a method of manufacturing the same.

또한, 본 발명의 다른 목적은 유리 결정화 현상이 발생하지 않는 유전체 조성물을 제공하고, 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법을 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a dielectric composition in which glass crystallization does not occur, and to provide a plasma display panel and a method of manufacturing the same.

따라서, 본 발명의 다른 목적은 플라즈마 디스플레이 패널의 화질을 향상시키도록 한 유전체 조성물을 제공하고, 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.Accordingly, another object of the present invention is to provide a dielectric composition for improving the image quality of a plasma display panel, and to provide a plasma display panel and a method of manufacturing the same.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 유전체 조성물은 20∼60mol%의 ZnO, 10∼50mol%의 B2O3, 5∼30mol%의 BaO, 2∼10mol%의 SiO2, 0∼10mol%의 V2O5 및 0.5∼20mol%의 알칼리가 포함된 모상유리분말이 포함된 것을 특징으로 한다.Dielectric composition according to an embodiment of the present invention for achieving the above object is 20 to 60 mol% ZnO, 10 to 50 mol% B 2 O 3 , 5 to 30 mol% BaO, 2 to 10 mol% SiO 2 , It is characterized in that it contains a matrix glass powder containing 0 to 10 mol% V 2 O 5 and 0.5 to 20 mol% alkali.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 제 1 유전체가 형성된 제 1 기판과, 제 2 유전체가 형성된 제 2 기판과, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 위치하는 격벽 및 봉착부를 포함하고, 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 및 봉착부는 20∼60mol%의 ZnO, 10∼50mol%의 B2O3, 5∼30mol%의 BaO, 2∼10mol%의 SiO2, 0∼10mol%의 V2O5 및 0.5∼20mol%의 알칼리가 포함된 모상유리분말을 이용하여 제조된 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a plasma display panel including a first substrate on which a first dielectric is formed, a second substrate on which a second dielectric is formed, and a space between the first substrate and the second substrate. Wherein the first and second dielectrics, the partition and the seal are 20 to 60 mol% ZnO, 10 to 50 mol% B 2 O 3 , 5 to 30 mol% BaO, and 2 to 10 mol% SiO. 2 , 0 to 10 mol% of V 2 O 5 and 0.5 to 20 mol% of the base glass powder containing an alkali characterized in that it is prepared using.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 플라즈 마 디스플레이 패널의 제조방법은 제 1 전극, 제 1 유전체를 갖는 제 1 기판과, 제 2 전극, 제 2 유전체, 격벽 및 봉착부를 갖는 제 2 기판을 준비하는 단계, 20∼60mol%의 ZnO, 10∼50mol%의 B2O3, 5∼30mol%의 BaO, 2∼10mol%의 SiO2, 0∼10mol%의 V2O5 및 0.5∼20mol%의 알칼리가 포함된 모상유리분말과 비히클을 혼합하여 페이스트를 제조하는 단계, 및 상기 페이스트를 소성하여 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 및 봉착부 중 적어도 어느 하나를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a plasma display panel, including a first electrode, a first substrate having a first dielectric, a second electrode, a second dielectric, a partition, and sealing. Preparing a second substrate having parts, 20 to 60 mol% ZnO, 10 to 50 mol% B 2 O 3 , 5 to 30 mol% BaO, 2 to 10 mol% SiO 2 , 0 to 10 mol% V 2 O Preparing a paste by mixing 5 and 0.5-20 mol% of alkali-containing glass powder and a vehicle, and baking the paste to form at least one of the first, second dielectric, partition and sealing portion. Characterized in that it comprises a.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 살펴보도록 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

첨부된 도면에서는 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타냈으며, 도면에 나타난 각 층간의 두께 비가 실제 두께 비를 나타내는 것은 아니다. 한편, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "상에" 형성 또는 위치한다고 할 때, 이는 다른 부분의 바로 위에 형성되어 직접 접촉하는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 존재하는 경우도 포함하는 것으로 이해하여야 한다.In the accompanying drawings, the thickness of layers, films, panels, regions, etc., are exaggerated for clarity, and the thickness ratios of the layers in the drawings do not represent actual thickness ratios. On the other hand, when a part such as a layer, film, region, plate, etc. is formed or positioned on another part, it is formed directly on the other part and not only in direct contact but also when another part exists in the middle thereof It should also be understood to include.

여기서, 제 1 기판은 투명전극과 버스전극으로 구성된 유지전극쌍과 상부 유전체층 및 보호막이 순차적으로 형성된 플라즈마 디스플레이 패널의 상부기판이고, 제 2 기판은 유지전극쌍과 방전을 일으키기 위한 어드레스 전극과 하부 유전체층이 순차적으로 형성된 플라즈마 디스플레이 패널의 하부기판을 나타내는 것으로, 상기 제 1 기판에 구비된 전극, 유전체는 제 1 전극, 제 1 유전체라 하고, 제 2 기판에 구비된 전극, 유전체는 마찬가지로, 제 2 전극, 제 2 유전체라 명명하기로 한다.Here, the first substrate is an upper substrate of a plasma display panel in which a sustain electrode pair consisting of a transparent electrode and a bus electrode, an upper dielectric layer, and a passivation layer are sequentially formed, and the second substrate is an address electrode and a lower dielectric layer for generating a discharge electrode pair and a discharge electrode. The lower substrate of the plasma display panel is sequentially formed, and the electrode and dielectric provided in the first substrate are referred to as the first electrode and the first dielectric, and the electrode and dielectric provided in the second substrate are similar to the second electrode. It will be referred to as a second dielectric.

도 2는 본 발명의 실시예 1에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to Embodiment 1 of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예 1에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 투명한 유전체인 제 1 유전체(16)를 구비한다. 상부 유전체인 상기 제 1 유전체(16)의 기본 조성은 ZnO-B2O3-BaO 조성을 이용한다. 본 발명에 따른 유전체 조성물은 상기 ZnO-B2O3-BaO를 적정량 혼합한 혼합물에 알칼리, SiO2, V2O5를 적절히 혼합하여 안정하면서 저온(520℃ 이하)에서 소성가능한 모상유리분말을 포함하는 유전체 조성물을 제공하고자 하는 것으로, 구체적인 조성비는 이하의 표 1에 나타난 바와 같다.As shown in FIG. 2, the plasma display panel according to Embodiment 1 of the present invention includes a first dielectric 16 that is a transparent dielectric. The basic composition of the first dielectric 16, which is an upper dielectric, uses a ZnO-B 2 O 3 -BaO composition. The dielectric composition according to the present invention is stable by mixing alkali, SiO 2 , V 2 O 5 in an appropriate amount of the mixture of ZnO-B 2 O 3 -BaO to form a base glass powder that is stable at low temperatures (below 520 ° C.). To provide a dielectric composition comprising, the specific composition ratio is shown in Table 1 below.

Figure 112006073051624-PAT00001
Figure 112006073051624-PAT00001

표 1을 참조하면, 본 발명의 실시예 1에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 상부 유전체인 제 1 유전체(16)에 이용되는 유전체 조성물은, 20∼60mol%의 ZnO, 10∼50mol%의 B2O3, 5∼30mol%의 BaO, 2∼10mol%의 SiO2, 0∼10mol%의 V2O5 및 0.5∼20mol%의 알칼리를 포함하고, 상기 ZnO에 대한 B2O3의 몰(mol)비가 0.8∼1.3이다.Referring to Table 1, the dielectric composition used for the first dielectric 16, which is the upper dielectric of the plasma display panel according to the first embodiment of the present invention, 20 to 60 mol% ZnO, 10 to 50 mol% B 2 O 3 , 5 to 30 mol% BaO, 2 to 10 mol% SiO 2 , 0 to 10 mol% V 2 O 5 and 0.5 to 20 mol% alkali, wherein the molar ratio of B 2 O 3 to ZnO is 0.8 to 1.3.

이 조성물은, 입경 1~1.5㎛인 분말상태에서 비히클과 혼합되어 점도 40,000~60,000cps의 유전체 페이스트로 제조된 후 제 1 기판(11) 상에 전면 도포되고, 520℃ 이하의 온도에서 소성되는 공정을 거쳐 제 1 유전체(16)가 완성된다.The composition is mixed with a vehicle in a powder state having a particle size of 1 to 1.5 µm, made of a dielectric paste having a viscosity of 40,000 to 60,000 cps, and then coated on the first substrate 11 and baked at a temperature of 520 ° C. or less. Through the first dielectric 16 is completed.

상기 유전체 페이스트는 70∼90wt%의 분말 상태인 유전체 조성물과 10∼30wt%의 비히클이 혼합된다. 여기서, 상기 비히클은 분말들의 혼합이나 인쇄를 돕기 위해 0∼15wt% 바인더, 0∼80wt%의 용제, 0∼5wt%의 분산제 등이 혼합된다.The dielectric paste is a mixture of 70 to 90 wt% of the powdered dielectric composition and 10 to 30 wt% of the vehicle. In this case, the vehicle is mixed with 0 to 15 wt% binder, 0 to 80 wt% solvent, 0 to 5 wt% dispersant and the like to assist in mixing or printing powders.

여기서, 30∼50mol%로 첨가되는 상기 ZnO는 유리화 형성능력을 증가시키면서 열팽창 계수와 유리화 온도를 낮추는 역할을 할 뿐만 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널의 내부공간에 주입되는 방전가스 중 Ne의 방전으로 발생한 오렌지 광을 흡수하여 플라즈마 디스플레이 패널의 색순도가 저하되는 현상을 방지하기도 한다.Here, the ZnO added at 30-50 mol% not only plays a role of lowering the coefficient of thermal expansion and the vitrification temperature while increasing the vitrification forming ability, and also the orange light generated by the discharge of Ne of the discharge gas injected into the internal space of the plasma display panel. The absorption may be prevented to reduce the color purity of the plasma display panel.

10∼50mol%로 첨가되는 상기 B2O3는 일반적으로 고상반응의 촉진을 위한 플럭스로서 첨가되지만, 유리형성능력을 향상시켜 유리화 온도를 향상시키는 단점이 있으므로, 적당량의 조성비를 첨가하게 된다.The B 2 O 3 added at 10 to 50 mol% is generally added as a flux for promoting a solid phase reaction, but there is a disadvantage in that the glass forming ability is improved to improve the vitrification temperature, thereby adding an appropriate amount of composition ratio.

5∼30mol%로 첨가되는 상기 BaO는 알칼리토류로서 망목수식제의 역할을 하며 일정량 첨가되면 유리화 온도를 낮추는 역할을 하지만 과량(10mol% 이상) 첨가되면 결정화를 유발한다.The BaO added at 5 to 30 mol% acts as an alkaline earth and acts as a tree planting agent, and when a certain amount is added, it lowers the vitrification temperature, but when added in excess (10 mol% or more), it causes crystallization.

2∼10mol%로 첨가되는 상기 SiO2는 결정화 방지를 위해 첨가된다.The SiO 2 added at 2-10 mol% is added to prevent crystallization.

0∼10mol%로 첨가되는 V2O5는 유리화 온도를 낮추어 안정한 유리를 형성하는 역할을 한다.V 2 O 5 added at 0-10 mol% lowers the vitrification temperature and serves to form stable glass.

0.5∼20mol%로 첨가되는 알칼리는 구체적으로 0∼15mol%의 Li2O, 0∼10mol%의 Na2O가 첨가되며, 알칼리토류로서 망목수식제의 역할을 하게 된다. 따라서, 일정량 첨가되면 유리화 온도를 낮추는 역할을 하지만 과량 함유하게 되게 되면 실투를 유발하게 되므로 전술한 바와 같이 적당한 조성비를 첨가하게 된다.Alkali added at 0.5 to 20 mol% is specifically added 0 to 15 mol% of Li 2 O, 0 to 10 mol% of Na 2 O, and acts as a tree planting agent as alkaline earth. Therefore, when a predetermined amount is added, the vitrification temperature is lowered, but when it is contained in an excessive amount, it causes devitrification, so that an appropriate composition ratio is added as described above.

또한, 상기 유전체 조성물 중 분말들의 혼합이나 인쇄를 돕고 결정화 방지를 위해, 0∼10mol%의 Al2O3를 더 첨가할 수 있다.In addition, in order to facilitate mixing or printing of the powders in the dielectric composition and to prevent crystallization, 0 to 10 mol% of Al 2 O 3 may be further added.

도 3은 본 발명의 실시예 2에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a second embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예 2에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 불투명한 유전체인 격벽(13)을 구비한다. 상기 격벽(13)에 도포되는 유전체 조성물의 기본 조성은 ZnO-B2O3-BaO 조성을 이용한다. 본 발명에 따른 유전체 조성물은, 상기 ZnO-B2O3-BaO를 적정량 혼합한 혼합물에 알칼리, SiO2, V2O5를 적절히 혼합하여 안정하면서 저온(520℃ 이하)에서 소성가능한 유전체 조성물을 제공하고자 하는 것으로, 구체적인 조성비는 이하의 표 2에 나타난 바와 같다.As shown in FIG. 3, the plasma display panel according to the second exemplary embodiment of the present invention includes a partition 13 which is an opaque dielectric. The basic composition of the dielectric composition applied to the partition 13 uses a ZnO-B 2 O 3 -BaO composition. The dielectric composition according to the present invention comprises a dielectric composition capable of baking at a low temperature (below 520 ° C.) while being stable by appropriately mixing alkali, SiO 2 , V 2 O 5 in a mixture of ZnO-B 2 O 3 -BaO in an appropriate amount. To provide, the specific composition ratio is as shown in Table 2 below.

Figure 112006073051624-PAT00002
Figure 112006073051624-PAT00002

표 2를 참조하면, 본 발명의 실시예 2에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체인 격벽(13)에 이용되는 유전체 조성물은, 20∼60mol%의 ZnO, 10∼50mol%의 B2O3, 5∼30mol%의 BaO, 2∼10mol%의 SiO2, 0∼10mol%의 V2O5 및 0.5∼20mol%의 알칼리를 포함하고, 상기 ZnO에 대한 B2O3의 몰(mol)비가 0.8∼1.3이다.Referring to Table 2, the dielectric composition used for the partition 13, which is the dielectric of the plasma display panel according to the second embodiment of the present invention, 20 to 60 mol% ZnO, 10 to 50 mol% B 2 O 3 , 5 to 30 mol% BaO, 2-10 mol% SiO 2 , 0-10 mol% V 2 O 5 and 0.5-20 mol% alkali, wherein the molar ratio of B 2 O 3 to ZnO is 0.8-1.3 to be.

이 조성물은 입경 1~1.5㎛인 분말상태로 비히클과 혼합되어 점도 40,000~60,000cps의 유전체 페이스트로 제조된 후, 제 2 기판(12) 상에 전면 도포되고 패터닝된 후, 520℃ 이하의 온도에서 소성되는 공정을 거쳐 격벽(13)이 완성된다.The composition is mixed with a vehicle in a powder state having a particle size of 1 to 1.5 μm, made of a dielectric paste having a viscosity of 40,000 to 60,000 cps, and then coated on the second substrate 12 and patterned, and then at a temperature of 520 ° C. or less. The partition 13 is completed through the process of baking.

또한, 상기 격벽(13)에 이용되는 유전체 조성물은 고온안정화 세라믹 충진제인 10~20mol%의 Al2O3 또는 충진제인 동시에 고굴절률 재료인 10∼20mol%의 TiO2가 더 혼합된다.In addition, the dielectric composition used for the partition wall 13 is 10-20 mol% Al 2 O 3 which is a high temperature stabilized ceramic filler or 10-20 mol% TiO 2 which is a high refractive index material and a filler are further mixed.

상기 유전체 페이스트는 70∼90wt%의 분말 상태인 유전체 조성물과 10∼30wt%의 비히클이 혼합된다. 여기서, 상기 비히클은 분말들의 혼합이나 인쇄를 돕기 위해 0∼15wt% 바인더, 0∼80wt%의 용제, 0∼5wt%의 분산제 등이 혼합된다.The dielectric paste is a mixture of 70 to 90 wt% of the powdered dielectric composition and 10 to 30 wt% of the vehicle. In this case, the vehicle is mixed with 0 to 15 wt% binder, 0 to 80 wt% solvent, 0 to 5 wt% dispersant and the like to assist in mixing or printing powders.

여기서, 30∼50mol%로 첨가되는 상기 ZnO는 유리화 형성능력을 증가시키면서 열팽창 계수와 유리화 온도를 낮추는 역할을 할 뿐만 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널의 내부공간에 주입되는 방전가스 중 Ne의 방전으로 발생한 오렌지 광을 흡수하여 플라즈마 디스플레이 패널의 색순도가 저하되는 현상을 방지하기도 한다.Here, the ZnO added at 30-50 mol% not only plays a role of lowering the coefficient of thermal expansion and the vitrification temperature while increasing the vitrification forming ability, and also the orange light generated by the discharge of Ne of the discharge gas injected into the internal space of the plasma display panel. The absorption may be prevented to reduce the color purity of the plasma display panel.

10∼50mol%로 첨가되는 상기 B2O3는 일반적으로 고상반응의 촉진을 위한 플럭스로서 첨가되지만, 유리형성능력을 향상시켜 유리화 온도를 향상시키는 단점이 있으므로, 적당량의 조성비를 첨가하게 된다.The B 2 O 3 added at 10 to 50 mol% is generally added as a flux for promoting a solid phase reaction, but there is a disadvantage in that the glass forming ability is improved to improve the vitrification temperature, thereby adding an appropriate amount of composition ratio.

5∼30mol%로 첨가되는 상기 BaO는 알칼리토류로서 망목수식제의 역할을 하며 일정량 첨가되면 유리화 온도를 낮추는 역할을 하지만 과량(10mol% 이상) 첨가되면 결정화를 유발한다.The BaO added at 5 to 30 mol% acts as an alkaline earth and acts as a tree planting agent, and when a certain amount is added, it lowers the vitrification temperature, but when added in excess (10 mol% or more), it causes crystallization.

2∼10mol%로 첨가되는 상기 SiO2는 결정화 방지를 위해 첨가된다.The SiO 2 added at 2-10 mol% is added to prevent crystallization.

0∼10mol%로 첨가되는 V2O5는 유리화 온도를 낮추어 안정한 유리를 형성하는 역할을 한다.V 2 O 5 added at 0-10 mol% lowers the vitrification temperature and serves to form stable glass.

0.5∼20mol%로 첨가되는 알칼리는 구체적으로 0∼15mol%의 Li2O, 0∼10mol%의 Na2O가 첨가되며, 알칼리토류로서 망목수식제의 역할을 하게 된다. 따라서, 일정량 첨가되면 유리화 온도를 낮추는 역할을 하지만 과량 함유하게 되게 되면 실투를 유발하게 되므로 전술한 바와 같이 적당한 조성비를 첨가하게 된다.Alkali added at 0.5 to 20 mol% is specifically added 0 to 15 mol% of Li 2 O, 0 to 10 mol% of Na 2 O, and acts as a tree planting agent as alkaline earth. Therefore, when a predetermined amount is added, the vitrification temperature is lowered, but when it is contained in an excessive amount, it causes devitrification, so that an appropriate composition ratio is added as described above.

도 4는 본 발명의 실시예 3에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a third embodiment of the present invention.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예 3에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 불투명한 유전체인 제 2 유전체(14)를 구비한다. 상기 하부 유전체인 제 2 유전체(14)에 도포되는 유전체 조성물의 기본 조성은 ZnO-B2O3-BaO 조성을 이용한다. 본 발명에 따른 유전체 조성물은 상기 ZnO-B2O3-BaO를 적정량 혼합한 혼합물에 알칼리, SiO2, V2O5를 적절히 혼합하여 안정하면서 저온(520℃ 이하)에서 소성가능한 유전체 조성물을 제공하고자 하는 것으로, 구체적인 조성비는 이하의 표 3에 나타난 바와 같다.As shown in FIG. 4, the plasma display panel according to Embodiment 3 of the present invention includes a second dielectric 14, which is an opaque dielectric. The basic composition of the dielectric composition applied to the second dielectric 14, which is the lower dielectric, uses a ZnO-B 2 O 3 -BaO composition. The dielectric composition according to the present invention provides a dielectric composition stably and calcinable at a low temperature (below 520 ° C.) by appropriately mixing alkali, SiO 2 , V 2 O 5 in a mixture of ZnO-B 2 O 3 -BaO in an appropriate amount. It is intended that the specific composition ratio is as shown in Table 3 below.

Figure 112006073051624-PAT00003
Figure 112006073051624-PAT00003

표 3을 참조하면, 본 발명의 실시예 3에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 하부 유전체인 제 2 유전체(14)에 이용되는 유전체 조성물은,20∼60mol%의 ZnO, 10∼50mol%의 B2O3, 5∼30mol%의 BaO, 2∼10mol%의 SiO2, 0∼10mol%의 V2O5 및 0.5∼20mol%의 알칼리를 포함하고, 상기 ZnO에 대한 B2O3의 몰(mol)비가 0.8∼1.3이다.Referring to Table 3, the dielectric composition used for the second dielectric 14, which is the lower dielectric of the plasma display panel according to Embodiment 3 of the present invention, is 20 to 60 mol% ZnO and 10 to 50 mol% B 2 O 3 , 5 to 30 mol% BaO, 2 to 10 mol% SiO 2 , 0 to 10 mol% V 2 O 5 and 0.5 to 20 mol% alkali, wherein the molar ratio of B 2 O 3 to ZnO is 0.8 to 1.3.

이 조성물은 입경 1~1.5㎛인 분말상태로 비히클과 혼합되어 점도 40,000~60,000cps의 유전체 페이스트로 제조된 후, 제 2 기판(12) 상에 전면 도포되고, 520℃ 이하의 온도에서 소성되는 공정을 거쳐 격벽(13)이 완성된다.The composition is mixed with a vehicle in a powder state having a particle size of 1 to 1.5 µm, made of a dielectric paste having a viscosity of 40,000 to 60,000 cps, and then coated on the second substrate 12 and baked at a temperature of 520 ° C. or less. The partition 13 is completed through.

또한, 상기 제 2 유전체(14)에 이용되는 유전체 조성물은 고온안정화 세라믹 충진제인 10~20mol%의 Al2O3 또는 충진제인 동시에 고굴절률 재료인 10∼20mol%의 TiO2가 더 혼합된다.In addition, the dielectric composition used for the second dielectric 14 is 10-20 mol% Al 2 O 3 which is a high temperature stabilized ceramic filler or 10-20 mol% TiO 2 which is a high refractive index material and a filler is further mixed.

상기 유전체 페이스트는 70∼90wt%의 분말 상태인 유전체 조성물과 10∼30wt%의 비히클이 혼합된다. 여기서, 상기 비히클은 분말들의 혼합이나 인쇄를 돕기 위해 0∼15wt% 바인더, 0∼80wt%의 용제, 0∼5wt%의 분산제 등이 혼합된다.The dielectric paste is a mixture of 70 to 90 wt% of the powdered dielectric composition and 10 to 30 wt% of the vehicle. In this case, the vehicle is mixed with 0 to 15 wt% binder, 0 to 80 wt% solvent, 0 to 5 wt% dispersant and the like to assist in mixing or printing powders.

여기서, 30∼50mol%로 첨가되는 상기 ZnO는 유리화 형성능력을 증가시키면서 열팽창 계수와 유리화 온도를 낮추는 역할을 할 뿐만 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널의 내부공간에 주입되는 방전가스 중 Ne의 방전으로 발생한 오렌지 광을 흡수하여 플라즈마 디스플레이 패널의 색순도가 저하되는 현상을 방지하기도 한다.Here, the ZnO added at 30-50 mol% not only plays a role of lowering the coefficient of thermal expansion and the vitrification temperature while increasing the vitrification forming ability, and also the orange light generated by the discharge of Ne of the discharge gas injected into the internal space of the plasma display panel. The absorption may be prevented to reduce the color purity of the plasma display panel.

10∼50mol%로 첨가되는 상기 B2O3는 일반적으로 고상반응의 촉진을 위한 플럭스로서 첨가되지만, 유리형성능력을 향상시켜 유리화 온도를 향상시키는 단점이 있으므로, 적당량의 조성비를 첨가하게 된다.The B 2 O 3 added at 10 to 50 mol% is generally added as a flux for promoting a solid phase reaction, but there is a disadvantage in that the glass forming ability is improved to improve the vitrification temperature, thereby adding an appropriate amount of composition ratio.

5∼30mol%로 첨가되는 상기 BaO는 알칼리토류로서 망목수식제의 역할을 하며 일정량 첨가되면 유리화 온도를 낮추는 역할을 하지만 과량(10mol% 이상) 첨가되면 결정화를 유발한다.The BaO added at 5 to 30 mol% acts as an alkaline earth and acts as a tree planting agent, and when a certain amount is added, it lowers the vitrification temperature, but when added in excess (10 mol% or more), it causes crystallization.

2∼10mol%로 첨가되는 상기 SiO2는 결정화 방지를 위해 첨가된다.The SiO 2 added at 2-10 mol% is added to prevent crystallization.

0∼10mol%로 첨가되는 V2O5는 유리화 온도를 낮추어 안정한 유리를 형성하는 역할을 한다.V 2 O 5 added at 0-10 mol% lowers the vitrification temperature and serves to form stable glass.

0.5∼20mol%로 첨가되는 알칼리는 구체적으로 0∼15mol%의 Li2O, 0∼10mol%의 Na2O가 첨가되며, 알칼리토류로서 망목수식제의 역할을 하게 된다. 따라서, 일정량 첨가되면 유리화 온도를 낮추는 역할을 하지만 과량 함유하게 되게 되면 실투를 유발하게 되므로 전술한 바와 같이 적당한 조성비를 첨가하게 된다.Alkali added at 0.5 to 20 mol% is specifically added 0 to 15 mol% of Li 2 O, 0 to 10 mol% of Na 2 O, and acts as a tree planting agent as alkaline earth. Therefore, when a predetermined amount is added, the vitrification temperature is lowered, but when it is contained in an excessive amount, it causes devitrification, so that an appropriate composition ratio is added as described above.

도 5는 본 발명의 실시예 4에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a fourth embodiment of the present invention.

도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예 4에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 불투명한 유전체인 봉착부(18)를 구비한다. 상기 봉착부(18)에 도포되는 유전체 조성물의 기본 조성은 ZnO-B2O3-BaO 조성을 이용한다. 본 발명에 따른 유전체 조성물은, 상기 ZnO-B2O3-BaO를 적정량 혼합한 혼합물에 알칼리, SiO2, V2O5를 적절히 혼합하여 안정하면서 저온(520℃ 이하)에서 소성가능한 유전체 조성물을 제공하고자 하는 것으로, 구체적인 조성비는 이하의 표 4에 나타난 바와 같다.As shown in FIG. 5, the plasma display panel according to Embodiment 4 of the present invention includes an encapsulation portion 18 which is an opaque dielectric. The basic composition of the dielectric composition applied to the sealing portion 18 uses a ZnO-B 2 O 3 -BaO composition. The dielectric composition according to the present invention comprises a dielectric composition capable of baking at a low temperature (below 520 ° C.) while being stable by appropriately mixing alkali, SiO 2 , V 2 O 5 in a mixture of ZnO-B 2 O 3 -BaO in an appropriate amount. To provide, the specific composition ratio is as shown in Table 4 below.

Figure 112006073051624-PAT00004
Figure 112006073051624-PAT00004

표 4를 참조하면, 본 발명의 실시예 4에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체인 봉착부(18)에 이용되는 유전체 조성물은, 20∼60mol%의 ZnO, 10∼50mol%의 B2O3, 5∼30mol%의 BaO, 2∼10mol%의 SiO2, 0∼10mol%의 V2O5 및 0.5∼20mol%의 알칼리를 포함하고, 상기 ZnO에 대한 B2O3의 몰(mol)비가 0.8∼1.3이다.Referring to Table 4, the dielectric composition used for the sealing portion 18, which is the dielectric of the plasma display panel according to the fourth embodiment of the present invention, 20 to 60 mol% ZnO, 10 to 50 mol% B 2 O 3 , 5 30 mol% BaO, 2-10 mol% SiO 2 , 0-10 mol% V 2 O 5 and 0.5-20 mol% alkali, wherein the molar ratio of B 2 O 3 to ZnO is 0.8- 1.3.

이 조성물은 입경 1~1.5㎛인 분말상태로 비히클과 혼합되어 점도 40,000~60,000cps의 유전체 페이스트로 제조된 후, 제 2 기판(12) 상에 전면 도포되고 패터닝된 후, 520℃ 이하의 온도에서 소성되는 공정을 거쳐 봉착부(18)가 완성된다.The composition is mixed with a vehicle in a powder state having a particle size of 1 to 1.5 μm, made of a dielectric paste having a viscosity of 40,000 to 60,000 cps, and then coated on the second substrate 12 and patterned, and then at a temperature of 520 ° C. or less. The sealing part 18 is completed through the process of baking.

또한, 상기 봉착부(18)에 이용되는 유전체 조성물은 고온안정화 세라믹 충진제인 10~20mol%의 Al2O3 또는 충진제인 동시에 고굴절률 재료인 10∼20mol%의 TiO2가 더 혼합된다.In addition, the dielectric composition used in the encapsulation portion 18 is 10-20 mol% of Al 2 O 3 or a filler and 10-20 mol% of TiO 2, which is a high refractive index material, is further mixed.

상기 유전체 페이스트는 70∼90wt%의 분말 상태인 유전체 조성물과 10∼30wt%의 비히클이 혼합된다. 여기서, 상기 비히클은 분말들의 혼합이나 인쇄를 돕기 위해 0∼15wt% 바인더, 0∼80wt%의 용제, 0∼5wt%의 분산제 등이 혼합된다.The dielectric paste is a mixture of 70 to 90 wt% of the powdered dielectric composition and 10 to 30 wt% of the vehicle. In this case, the vehicle is mixed with 0 to 15 wt% binder, 0 to 80 wt% solvent, 0 to 5 wt% dispersant and the like to assist in mixing or printing powders.

여기서, 30∼50mol%로 첨가되는 상기 ZnO는 유리화 형성능력을 증가시키면서 열팽창 계수와 유리화 온도를 낮추는 역할을 할 뿐만 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널의 내부공간에 주입되는 방전가스 중 Ne의 방전으로 발생한 오렌지 광을 흡수하여 플라즈마 디스플레이 패널의 색순도가 저하되는 현상을 방지하기도 한다.Here, the ZnO added at 30-50 mol% not only plays a role of lowering the coefficient of thermal expansion and the vitrification temperature while increasing the vitrification forming ability, and also the orange light generated by the discharge of Ne of the discharge gas injected into the internal space of the plasma display panel. The absorption may be prevented to reduce the color purity of the plasma display panel.

10∼50mol%로 첨가되는 상기 B2O3는 일반적으로 고상반응의 촉진을 위한 플럭스로서 첨가되지만, 유리형성능력을 향상시켜 유리화 온도를 향상시키는 단점이 있으므로, 적당량의 조성비를 첨가하게 된다.The B 2 O 3 added at 10 to 50 mol% is generally added as a flux for promoting a solid phase reaction, but there is a disadvantage in that the glass forming ability is improved to improve the vitrification temperature, thereby adding an appropriate amount of composition ratio.

5∼30mol%로 첨가되는 상기 BaO는 알칼리토류로서 망목수식제의 역할을 하며 일정량 첨가되면 유리화 온도를 낮추는 역할을 하지만 과량(10mol% 이상) 첨가되면 결정화를 유발한다.The BaO added at 5 to 30 mol% acts as an alkaline earth and acts as a tree planting agent, and when a certain amount is added, it lowers the vitrification temperature, but when added in excess (10 mol% or more), it causes crystallization.

2∼10mol%로 첨가되는 상기 SiO2는 결정화 방지를 위해 첨가된다.The SiO 2 added at 2-10 mol% is added to prevent crystallization.

0∼10mol%로 첨가되는 V2O5는 유리화 온도를 낮추어 안정한 유리를 형성하는 역할을 한다.V 2 O 5 added at 0-10 mol% lowers the vitrification temperature and serves to form stable glass.

0.5∼20mol%로 첨가되는 알칼리는 구체적으로 0∼15mol%의 Li2O, 0∼10mol%의 Na2O가 첨가되며, 알칼리토류로서 망목수식제의 역할을 하게 된다. 따라서, 일정량 첨가되면 유리화 온도를 낮추는 역할을 하지만 과량 함유하게 되게 되면 실투를 유발하게 되므로 전술한 바와 같이 적당한 조성비를 첨가하게 된다.Alkali added at 0.5 to 20 mol% is specifically added 0 to 15 mol% of Li 2 O, 0 to 10 mol% of Na 2 O, and acts as a tree planting agent as alkaline earth. Therefore, when a predetermined amount is added, the vitrification temperature is lowered, but when it is contained in an excessive amount, it causes devitrification, so that an appropriate composition ratio is added as described above.

도 6은 본 발명의 실시예 5에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 단면도이다.6 is a cross-sectional view illustrating a plasma display panel according to a fifth embodiment of the present invention.

도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예 5에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 투명한 유전체인 제 1 유전체(16), 격벽(13), 제 2 유전체(14) 및 봉착부(18)를 구비한다. 상부 유전체인 상기 제 1 유전체(16)와, 유전체인 상기 격벽(13)과, 하부 유전체인 상기 제 2 유전체(14)와, 유전체인 상기 봉착부(18)에 이용되는 유전체 조성물의 기본 조성은 ZnO-B2O3-BaO 조성을 이용한다. 본 발명에 따른 유전체 조성물은, 상기 ZnO-B2O3-BaO를 적정량 혼합한 혼합물에 알칼리, SiO2, V2O5를 적절히 혼합하여 안정하면서 저온(520℃ 이하)에서 소성가능한 유전체 조성물을 제공하고자 하는 것으로, 구체적인 조성비는 이하의 표 5에 나타난 바와 같다.As shown in FIG. 6, the plasma display panel according to Embodiment 5 of the present invention includes a first dielectric 16, a partition 13, a second dielectric 14, and an encapsulation 18, which are transparent dielectrics. . The basic composition of the dielectric composition used for the first dielectric 16 as the upper dielectric, the partition 13 as the dielectric, the second dielectric 14 as the lower dielectric, and the sealing portion 18 as the dielectric is ZnO-B 2 O 3 -BaO composition is used. The dielectric composition according to the present invention comprises a dielectric composition capable of baking at a low temperature (below 520 ° C.) while being stable by appropriately mixing alkali, SiO 2 , V 2 O 5 in a mixture of ZnO-B 2 O 3 -BaO in an appropriate amount. To provide, the specific composition ratio is as shown in Table 5 below.

Figure 112006073051624-PAT00005
Figure 112006073051624-PAT00005

표 5를 참조하면, 본 발명의 실시예 5에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 상부 유전체인 제 1 유전체(16), 격벽(13), 제 2 유전체(14) 및 봉착부(18)에 이용되는 유전체 조성물은, 20∼60mol%의 ZnO, 10∼50mol%의 B2O3, 5∼30mol%의 BaO, 2∼10mol%의 SiO2, 0∼10mol%의 V2O5 및 0.5∼20mol%의 알칼리를 포함하고, 상기 ZnO에 대한 B2O3의 몰(mol)비가 0.8∼1.3이다.Referring to Table 5, a dielectric composition used for the first dielectric 16, the partition 13, the second dielectric 14, and the sealing portion 18, which are the upper dielectrics of the plasma display panel according to the fifth embodiment of the present invention. Silver is 20 to 60 mol% ZnO, 10 to 50 mol% B 2 O 3 , 5 to 30 mol% BaO, 2 to 10 mol% SiO 2 , 0 to 10 mol% V 2 O 5 and 0.5 to 20 mol% alkali And a molar ratio of B 2 O 3 to ZnO is 0.8 to 1.3.

상기 제 1 유전체(16)에 이용되는 조성물은, 입경 1~1.5㎛인 분말상태에서 비히클과 혼합되어 점도 40,000~60,000cps의 유전체 페이스트로 제조된 후 제 1 기판(11) 상에 전면 도포되고, 520℃ 이하의 온도에서 소성되는 공정을 거쳐 제 1 유전체(16)가 완성된다.The composition used for the first dielectric 16 is mixed with a vehicle in a powder state having a particle size of 1 to 1.5 µm, made of a dielectric paste having a viscosity of 40,000 to 60,000 cps, and then completely coated on the first substrate 11. The first dielectric 16 is completed through a step of firing at a temperature of 520 ° C. or lower.

상기 격벽(13), 제 2 유전체(14) 및 봉착부(18)에 이용되는 조성물은 입경 1~1.5㎛인 분말상태로 비히클과 혼합되어 점도 40,000~60,000cps의 유전체 페이스트로 제조된 후, 제 2 기판(12) 상에 전면 도포되고 패터닝된 후, 520℃ 이하의 온도에서 소성되는 공정을 거쳐 격벽(13), 제 2 유전체(14) 및 봉착부(18)가 완성된다.The composition used for the partition 13, the second dielectric 14 and the sealing portion 18 is mixed with the vehicle in a powder state having a particle size of 1 ~ 1.5㎛ made of a dielectric paste having a viscosity of 40,000 ~ 60,000cps, After the entire surface is coated on the substrate 12 and patterned, the partition wall 13, the second dielectric 14, and the sealing unit 18 are completed through a process of firing at a temperature of 520 ° C. or lower.

또한, 격벽(13), 제 2 유전체(14) 및 봉착부(18)에 이용되는 유전체 조성물은 고온안정화 세라믹 충진제인 10~20mol%의 Al2O3 또는 충진제인 동시에 고굴절률 재료인 10∼20mol%의 TiO2가 더 혼합된다.In addition, the dielectric composition used for the partition 13, the second dielectric 14, and the sealing portion 18 is 10-20 mol% of Al 2 O 3 or a filler, which is a high temperature stabilized ceramic filler, and 10-20 mol, which is a high refractive index material. % TiO 2 is further mixed.

여기서, 30∼50mol%로 첨가되는 상기 ZnO는 유리화 형성능력을 증가시키면서 열팽창 계수와 유리화 온도를 낮추는 역할을 할 뿐만 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널의 내부공간에 주입되는 방전가스 중 Ne의 방전으로 발생한 오렌지 광을 흡수하여 플라즈마 디스플레이 패널의 색순도가 저하되는 현상을 방지하기도 한다.Here, the ZnO added at 30-50 mol% not only plays a role of lowering the coefficient of thermal expansion and the vitrification temperature while increasing the vitrification forming ability, and also the orange light generated by the discharge of Ne of the discharge gas injected into the internal space of the plasma display panel. The absorption may be prevented to reduce the color purity of the plasma display panel.

10∼50mol%로 첨가되는 상기 B2O3는 일반적으로 고상반응의 촉진을 위한 플럭스로서 첨가되지만, 유리형성능력을 향상시켜 유리화 온도를 향상시키는 단점이 있으므로, 적당량의 조성비를 첨가하게 된다.The B 2 O 3 added at 10 to 50 mol% is generally added as a flux for promoting a solid phase reaction, but there is a disadvantage in that the glass forming ability is improved to improve the vitrification temperature, thereby adding an appropriate amount of composition ratio.

5∼30mol%로 첨가되는 상기 BaO는 알칼리토류로서 망목수식제의 역할을 하며 일정량 첨가되면 유리화 온도를 낮추는 역할을 하지만 과량(10mol% 이상) 첨가되면 결정화를 유발한다.The BaO added at 5 to 30 mol% acts as an alkaline earth and acts as a tree planting agent, and when a certain amount is added, it lowers the vitrification temperature, but when added in excess (10 mol% or more), it causes crystallization.

2∼10mol%로 첨가되는 상기 SiO2는 결정화 방지를 위해 첨가된다.The SiO 2 added at 2-10 mol% is added to prevent crystallization.

0∼10mol%로 첨가되는 V2O5는 유리화 온도를 낮추어 안정한 유리를 형성하는 역할을 한다.V 2 O 5 added at 0-10 mol% lowers the vitrification temperature and serves to form stable glass.

0.5∼20mol%로 첨가되는 알칼리는 구체적으로 0∼15mol%의 Li2O, 0∼10mol%의 Na2O가 첨가되며, 알칼리토류로서 망목수식제의 역할을 하게 된다. 따라서, 일정량 첨가되면 유리화 온도를 낮추는 역할을 하지만 과량 함유하게 되게 되면 실투를 유발하게 되므로 전술한 바와 같이 적당한 조성비를 첨가하게 된다.Alkali added at 0.5 to 20 mol% is specifically added 0 to 15 mol% of Li 2 O, 0 to 10 mol% of Na 2 O, and acts as a tree planting agent as alkaline earth. Therefore, when a predetermined amount is added, the vitrification temperature is lowered, but when it is contained in an excessive amount, it causes devitrification, so that an appropriate composition ratio is added as described above.

이하에서는 본 발명의 실시예 6∼12에 대하여 구체적으로 살펴보도록 한다.Hereinafter, embodiments 6 to 12 of the present invention will be described in detail.

Figure 112006073051624-PAT00006
Figure 112006073051624-PAT00006

실시예Example 6 6

본 발명에 따른 유전체 조성물을 제조하기 위하여 46mol%의 ZnO, 40mol%의 B2O3, 8mol%의 BaO, 6mol%의 SiO2의 조성비로 각 재료를 혼합한 결과, 이 조성물에 대하여 유리화 온도는 545℃, 열팽창계수는 58이란 실험치를 얻을 수 있었고, 이 조성물에 대하여 XRD(X-ray Diffraction)를 측정한 결과, 도 7a와 같은 그래프를 얻을 수 있었다.In order to prepare the dielectric composition according to the present invention, each material was mixed at a composition ratio of 46 mol% ZnO, 40 mol% B 2 O 3 , 8 mol% BaO, and 6 mol% SiO 2 . Experimental value of 58 was obtained at 545 ° C., and the X-ray diffraction (XRD) was measured for this composition. As a result, a graph as shown in FIG. 7A was obtained.

도 7a에 도시된 바와 같이 실시예 6의 조성물에 대한 XRD 결과 그래프에서는 여러 회절각도에서 결정화 피크가 발생된 것을 알 수 있다. 이 결정화는 광투과도에 현저한 영향을 미치게 된다.As shown in FIG. 7A, the XRD result graph for the composition of Example 6 shows that crystallization peaks were generated at various diffraction angles. This crystallization will have a significant effect on light transmittance.

실시예Example 7 7

본 발명에 따른 유전체 조성물을 제조하기 위하여 46mol%의 ZnO, 40mol%의 B2O3, 8mol%의 BaO, 6mol%의 SiO2, 2mol%의 V2O5의 조성비로 각 재료를 혼합한 결과, 이 조성물에 대하여 유리화 온도는 530℃, 열팽창계수는 53이란 실험치를 얻을 수 있었고, 이 조성물에 대하여 XRD(X-ray Diffraction)를 측정한 결과 도 7a와 같은 그래프를 얻을 수 있었다.In order to prepare the dielectric composition according to the present invention, each material was mixed at a composition ratio of 46 mol% ZnO, 40 mol% B 2 O 3 , 8 mol% BaO, 6 mol% SiO 2 , and 2 mol% V 2 O 5 . For this composition, an experimental value of 530 ° C. and a coefficient of thermal expansion of 53 was obtained. The X-ray diffraction (XRD) of the composition was measured, and a graph as shown in FIG. 7A was obtained.

도 7a에 도시된 바와 같이 실시예 7의 조성물에 대한 XRD 결과, 그래프에서는 여러 회절각도에서 결정화 피크가 발생된 것을 알 수 있다. 이 결정화는 광투과도에 현저한 영향을 미치게 된다.As shown in FIG. 7A, XRD results of the composition of Example 7 show that crystallization peaks are generated at various diffraction angles. This crystallization will have a significant effect on light transmittance.

실시예Example 8 8

본 발명에 따른 유전체 조성물을 제조하기 위하여 46mol%의 ZnO, 40mol%의 B2O3, 8mol%의 BaO, 6mol%의 SiO2, 5mol%의 V2O5의 조성비로 각 재료를 혼합한 결과, 이 조성물에 대하여 유리화 온도는 510℃, 열팽창계수는 67이란 실험치를 얻을 수 있었고, 이 조성물에 대하여 XRD(X-ray Diffraction)를 측정한 결과 도 7b와 같은 그래프를 얻을 수 있었다.In order to prepare the dielectric composition according to the present invention, each material was mixed at a composition ratio of 46 mol% ZnO, 40 mol% B 2 O 3 , 8 mol% BaO, 6 mol% SiO 2 , and 5 mol% V 2 O 5 . For this composition, an experimental value of vitrification temperature of 510 ° C. and a thermal expansion coefficient of 67 was obtained. As a result of measuring XRD (X-ray Diffraction) of this composition, a graph as shown in FIG. 7B was obtained.

도 7b에 도시된 바와 같이 실시예 8의 조성물에 대한 XRD 결과, 그래프에서는 여러 회절각도에서 결정화 피크가 발생되지 않은 것을 발견할 수 있다. 따라서 결정화가 발생되지 않음을 알 수 있고, 유리화 온도도 더불어 520℃ 이하로 떨어졌음을 알 수 있다.As shown in FIG. 7B, XRD results for the composition of Example 8 show that no crystallization peak occurs at various diffraction angles in the graph. Therefore, it can be seen that crystallization does not occur, and that the vitrification temperature also fell below 520 ° C.

실시예Example 9 9

본 발명에 따른 유전체 조성물을 제조하기 위하여 44mol%의 ZnO, 37mol%의 B2O3, 6mol%의 BaO, 6mol%의 SiO2, 7mol%의 V2O5의 조성비로 각 재료를 혼합한 결과, 이 조성물에 대하여 유리화 온도는 460℃, 열팽창계수는 75란 실험치를 얻을 수 있었고, 이 조성물에 대하여 XRD(X-ray Diffraction)를 측정한 결과 도 7b와 같은 그래프를 얻을 수 있었다.In order to prepare the dielectric composition according to the present invention, each material was mixed at a composition ratio of 44 mol% ZnO, 37 mol% B 2 O 3 , 6 mol% BaO, 6 mol% SiO 2 , 7 mol% V 2 O 5 . For this composition, an experimental value of vitrification temperature of 460 ° C. and a coefficient of thermal expansion of 75 was obtained. XRD (X-ray Diffraction) of the composition was measured, and a graph as shown in FIG. 7B was obtained.

도 7b에 도시된 바와 같이 실시예 9의 조성물에 대한 XRD 결과, 그래프에서는 여러 회절각도에서 결정화 피크가 발생되지 않은 것을 발견할 수 있다. 따라서 결정화가 발생되지 않음을 알 수 있고, 유리화 온도도 더불어 520℃ 이하로 떨어졌음을 알 수 있다.As shown in FIG. 7B, XRD results for the composition of Example 9 show that no crystallization peak occurs at various diffraction angles in the graph. Therefore, it can be seen that crystallization does not occur, and that the vitrification temperature also fell below 520 ° C.

실시예Example 10 10

본 발명에 따른 유전체 조성물을 제조하기 위하여 43mol%의 ZnO, 35mol%의 B2O3, 6mol%의 BaO, 6mol%의 SiO2, 10mol%의 Na2O, 5mol%의 V2O5의 조성비로 각 재료를 혼합한 결과, 이 조성물에 대하여 유리화 온도는 450℃, 열팽창계수는 90이란 실험치를 얻을 수 있었고, 이 조성물에 대하여 XRD(X-ray Diffraction)를 측정한 결과 도 7c와 같은 그래프를 얻을 수 있었다.Composition ratio of 43 mol% ZnO, 35 mol% B 2 O 3 , 6 mol% BaO, 6 mol% SiO 2 , 10 mol% Na 2 O, 5 mol% V 2 O 5 to prepare the dielectric composition according to the present invention As a result of mixing the materials with each other, an experimental value of 450 ° C. and a coefficient of thermal expansion of 90 ° C. was obtained. The X-ray diffraction (XRD) of the composition was measured. Could get

도 7c에 도시된 바와 같이 실시예 10의 조성물에 대한 XRD 결과, 그래프에서는 여러 회절각도에서 결정화 피크가 발생되지 않은 것을 발견할 수 있다. 따라서 결정화가 발생되지 않음을 알 수 있고, 유리화 온도도 더불어 520℃ 이하로 떨어졌음을 알 수 있다.As shown in FIG. 7C, XRD results for the composition of Example 10 show that no crystallization peaks occurred at various diffraction angles in the graph. Therefore, it can be seen that crystallization does not occur, and that the vitrification temperature also fell below 520 ° C.

실시예Example 11 11

본 발명에 따른 유전체 조성물을 제조하기 위하여 29mol%의 ZnO, 43mol%의 B2O3, 13mol%의 SiO2, 15mol%의 Li2O, 2mol%의 V2O5의 조성비로 각 재료를 혼합한 결과, 이 조성물에 대하여 유리화 온도는 450℃, 열팽창계수는 76이란 실험치를 얻을 수 있었고, 이 조성물에 대하여 XRD(X-ray Diffraction)를 측정한 결과 도 7d와 같은 그래프를 얻을 수 있었다.In order to prepare the dielectric composition according to the present invention, each material is mixed with a composition ratio of 29 mol% ZnO, 43 mol% B 2 O 3 , 13 mol% SiO 2 , 15 mol% Li 2 O, 2 mol% V 2 O 5 . As a result, an experimental value of a glass temperature of 450 ° C. and a coefficient of thermal expansion of 76 was obtained for this composition, and XRD (X-ray Diffraction) was measured for this composition. Thus, a graph as shown in FIG. 7D was obtained.

도 7d에 도시된 바와 같이 실시예 10의 조성물에 대한 XRD 결과, 그래프에서는 여러 회절각도에서 결정화 피크가 발생된 것을 발견할 수 있다. 따라서 결정화가 발생된 것을 알 수 있다. 이 결정화는 광투과도에 현저한 영향을 미치게 된다.As shown in FIG. 7D, XRD results for the composition of Example 10 showed that the crystallization peaks were generated at various diffraction angles in the graph. Thus, it can be seen that crystallization has occurred. This crystallization will have a significant effect on light transmittance.

실시예Example 12 12

본 발명에 따른 유전체 조성물을 제조하기 위하여 29mol%의 ZnO, 43mol%의 B2O3, 13mol%의 SiO2, 15mol%의 Li2O, 5mol%의 V2O5의 조성비로 각 재료를 혼합한 결과, 이 조성물에 대하여 유리화 온도는 440℃, 열팽창계수는 79란 실험치를 얻을 수 있었고, 이 조성물에 대하여 XRD(X-ray Diffraction)를 측정한 결과 도 7e와 같은 그래프를 얻을 수 있었다.In order to prepare the dielectric composition according to the present invention, each material is mixed with a composition ratio of 29 mol% ZnO, 43 mol% B 2 O 3 , 13 mol% SiO 2 , 15 mol% Li 2 O, 5 mol% V 2 O 5 . As a result, an experimental value of 440 DEG C and a coefficient of thermal expansion of 79 was obtained for the composition, and XRD (X-ray Diffraction) was measured for this composition.

도 7e에 도시된 바와 같이 실시예 12의 조성물에 대한 XRD 결과, 그래프에서는 여러 회절각도에서 결정화 피크가 발생되지 않은 것을 발견할 수 있다. 따라서 결정화가 발생되지 않음을 알 수 있고, 유리화 온도도 더불어 520℃ 이하로 떨어졌음을 알 수 있다.As shown in FIG. 7E, XRD results for the composition of Example 12 show that no crystallization peaks occurred at various diffraction angles in the graph. Therefore, it can be seen that crystallization does not occur, and that the vitrification temperature also fell below 520 ° C.

전술한 실시예 6∼12는 V2O5를 첨가함으로써, 결정화를 방지하고 낮은 소성온도를 갖는 안정한 플라즈마 디스플레이용 유전체 조성물을 얻고자 하기 위한 것으로, V2O5를 제외한 조성의 합은 100mol%이다. V2O5의 첨가 유무나 첨가량에 따라 유리화 온도를 낮출 수 있으므로, 520℃ 이하에서 소성 공정이 가능하게 된다. 그리고, 결정화의 발생도 방지할 수 있음을 실험에서와 같이 확인할 수 있었다. 또한, V2O5의 고유 색으로 인하여 불투명한 막을 제공하므로, 플라즈마 디스플레이에서 격벽 형성용 재료뿐만 아니라, 봉착부 형성용 재료로도 이용할 수 있다.The above-described embodiments 6 to 12 are for character by the addition of V 2 O 5, prevent the crystallization and to obtain a dielectric composition for stable plasma display having a low sintering temperature, the sum of the composition except for the V 2 O 5 is 100mol% to be. Since the vitrification temperature can be lowered depending on whether V 2 O 5 is added or not, the firing step can be performed at 520 ° C. or lower. And it was confirmed that the occurrence of crystallization can be prevented as in the experiment. In addition, since an opaque film is provided due to the inherent color of V 2 O 5 , it can be used not only as a material for forming partition walls but also as a material for forming sealing portions in plasma displays.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 나타낸 개략 블록도이다.8 is a schematic block diagram illustrating a method of manufacturing a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.

도 8에 도시된 바와 같이, 크게 제 1 전극, 제 1 유전체를 갖는 제 1 기판과, 제 2 전극, 제 2 유전체, 격벽 및 봉착부를 갖는 제 2 기판을 준비하는 단계(81), 20∼60mol%의 ZnO, 10∼50mol%의 B2O3, 5∼30mol%의 BaO, 2∼10mol%의 SiO2, 0∼10mol%의 V2O5 및 0.5∼20mol%의 알칼리가 포함된 유전체 조성물과 비히클을 혼합하여 페이스트를 제조하는 단계(82), 상기 페이스트를 기판 상에 도포하는 단계(83), 및 상기 페이스트를 소성하여 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 및 봉착부 중 적어도 어느 하나를 형성하는 단계(84)를 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 8, a step 81 of preparing a second substrate having a first electrode, a first substrate having a first dielectric, and a second substrate having a second electrode, a second dielectric, a partition, and a sealing portion, 20 to 60 mol Dielectric composition comprising% ZnO, 10-50 mol% B 2 O 3 , 5-30 mol% BaO, 2-10 mol% SiO 2 , 0-10 mol% V 2 O 5 and 0.5-20 mol% alkali Mixing the vehicle with a vehicle to produce a paste (82), applying the paste onto a substrate (83), and baking the paste to form at least one of the first, second dielectric, barrier ribs, and sealing portions. And step 84.

여기서, 상기 페이스트를 제조하는 단계(82)는 먼저 전술한 조성비로 혼합한 유전체 조성물(유리)을 고온에서 용융시킨 후 상온의 물에 침지하거나 건식으로 트윈롤을 사용하여 급냉한 다음 분쇄기로 분쇄하고, 필요에 따라 필러(filler)와 혼합하여 건조함으로써, 모상유리분말을 제조할 수 있다.Here, the step (82) of preparing the paste first melts the dielectric composition (glass) mixed at the above-described composition ratio at high temperature, and then immersed in water at room temperature or quenched dry using twin rolls and then pulverized with a grinder. If necessary, by mixing with a filler (dryer) and dried, a mother glass powder can be produced.

다음, 전술한 바와 같이 제조된 70∼90wt%의 모상유리분말과 10∼30wt%의 비히클을 혼합한다. 여기서, 상기 비히클은 분말들의 혼합이나 인쇄를 돕기 위해 0∼15wt% 바인더, 0∼80wt%의 용제, 0∼5wt%의 분산제 등을 혼합할 수 있다. 이때, 상기 용제로는 Alcohol계, Glycol계, Propylene Glycol Ether류, Propylene Glycol Acetate류, Ketone류, BCA, Xylene, Terpineol, Texanol, 물 등이 사용될 수 있고, 상기 분산제로는 분산효과가 큰 Acryl계 분산제를 주로 사용한다.Next, 70 to 90 wt% of the parent glass powder prepared as described above and 10 to 30 wt% of vehicle are mixed. In this case, the vehicle may be mixed with 0 to 15 wt% binder, 0 to 80 wt% solvent, 0 to 5 wt% dispersant and the like to assist in mixing or printing the powders. At this time, the solvent may be used alcohol, glycol, propylene glycol ether, propylene glycol acetate, ketone, BCA, Xylene, Terpineol, Texanol, water, etc., the dispersant Acryl system having a large dispersing effect The dispersant is mainly used.

상기 페이스트를 기판 상에 도포하는 단계(93)는 스크린 프린팅, 디스펜싱, 잉크젯법 중 적어도 어느 하나의 방법으로 제 1, 2 유전체, 격벽 및 봉착부 중 적어도 어느 하나를 형성할 수 있는 층의 전면에 도포하여 540℃ 이하의 온도에서 소성하여, 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 및 봉착부 중 선택된 어느 하나를 형성하게 된다. 상기 봉착부를 형성하기 위한 페이스트의 도포는 상기 제 1, 2 기판 중 선택된 어느 하나의 기판 상에 도포하여 형성할 수 있다.Applying the paste onto a substrate (93) is a front surface of a layer capable of forming at least one of the first, second dielectrics, barrier ribs and seals by at least one of screen printing, dispensing and inkjet printing. It is applied to and fired at a temperature of 540 ℃ or less to form any one selected from the first, the second dielectric, the partition wall and the sealing portion. Application of the paste for forming the encapsulation portion may be performed by applying on one of the substrate selected from the first and second substrates.

이상에서와 같이 본 발명의 실시예에 따른 유전체 조성물 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법은 단가 면에서 저렴한 소다-라임 유리 기판과 ZnO-B2O3-BaO 조성의 유전체 조성물을 같이 사용할 수 있어, 전체적으로 플라즈마 디스플레이 패널의 가격 경쟁력을 향상시킬 수 있고, Pb를 사용하지 않기 때문에 환경 규제로부터도 자유롭다는 효과가 있다.As described above, the dielectric composition according to the embodiment of the present invention, the plasma display panel using the same, and a method of manufacturing the same can be used in combination with a low cost soda-lime glass substrate and a ZnO-B 2 O 3 -BaO composition. Therefore, the price competitiveness of the plasma display panel can be improved as a whole, and since Pb is not used, it is also free from environmental regulations.

또한, 본 발명에 의하면, 낮아진 유리화 온도에 비해 열팽창계수도 증가시키지 않음을 확인할 수 있었고, 알카리 재료의 사용으로 인한 유리 결정화 발생을 V2O5를 첨가하여 방지하고 520℃ 이하의 저온 소성이 가능한 유전체 재료의 개발이 가능하다는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, it was confirmed that the thermal expansion coefficient was not increased compared to the lowered vitrification temperature, and it was possible to prevent glass crystallization caused by the use of alkaline materials by adding V 2 O 5 and to allow low-temperature baking below 520 ° C. There is an effect that the development of the dielectric material is possible.

그리고, 본 발명에 의하면, V2O5의 고유 색으로 인한 불투명한 막을 제공하므로 플라즈마 디스플레이용 유전체층, 격벽 및 봉착부 재료로 이용할 수 있다는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, since an opaque film due to the inherent color of V 2 O 5 is provided, there is an effect that it can be used as a dielectric layer, partition wall and sealing material for a plasma display.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술 사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 실시예에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의하여 정해져야 한다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the embodiments, but should be defined by the claims.

Claims (12)

20∼60mol%의 ZnO;20 to 60 mol% ZnO; 10∼50mol%의 B2O3;10-50 mol% B 2 O 3 ; 5∼30mol%의 BaO;5-30 mol% BaO; 2∼10mol%의 SiO2; 2 to 10 mol% of SiO 2 ; 0∼10mol%의 V2O5; 및0-10 mol% of V 2 O 5 ; And 0.5∼20mol%의 알칼리가 포함된 것을 특징으로 하는 유전체 조성물.A dielectric composition comprising 0.5 to 20 mol% of alkali. 제 1 항에 있어서, 상기 유전체 조성물은,The method of claim 1, wherein the dielectric composition, 상기 ZnO에 대한 B2O3의 몰(mol)비가 0.8∼1.3인 것을 특징으로 하는 유전체 조성물.Dielectric composition, characterized in that the molar ratio of B 2 O 3 to ZnO is 0.8 to 1.3. 제 1 항에 있어서, 상기 알칼리는,The method of claim 1, wherein the alkali, 0∼15mol%의 Li2O 또는 0∼10mol%의 Na2O인 것을 특징으로 하는 유전체 조성물.A dielectric composition, characterized by 0 to 15 mol% Li 2 O or 0 to 10 mol% Na 2 O. 제 1 항에 있어서, 상기 유전체 조성물은,The method of claim 1, wherein the dielectric composition, 결정화 방지를 위해 0∼10mol%의 Al2O3가 더 포함된 것을 특징으로 하는 유전체 조성물.Dielectric composition, characterized in that it further comprises 0 to 10mol% Al 2 O 3 to prevent crystallization. 제 1 유전체가 형성된 제 1 기판과,A first substrate having a first dielectric formed thereon; 제 2 유전체가 형성된 제 2 기판과,A second substrate having a second dielectric formed thereon; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 위치하는 격벽 및 봉착부를 포함하고,A partition and an encapsulation portion positioned between the first substrate and the second substrate, 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 및 봉착부는 20∼60mol%의 ZnO, 10∼50mol%의 B2O3, 5∼30mol%의 BaO, 2∼10mol%의 SiO2, 0∼10mol%의 V2O5 및 0.5∼20mol%의 알칼리가 포함된 유전체 조성물을 이용하여 제조된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.The first and second dielectrics, partitions and seals are 20 to 60 mol% ZnO, 10 to 50 mol% B 2 O 3 , 5 to 30 mol% BaO, 2 to 10 mol% SiO 2 , 0 to 10 mol% V 2 A plasma display panel manufactured using a dielectric composition containing O 5 and an alkali of 0.5 to 20 mol%. 제 5 항에 있어서, 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 및 봉착부는,The method of claim 5, wherein the first and second dielectrics, barrier ribs and sealing portion, 상기 ZnO에 대한 B2O3의 몰(mol)비가 0.8∼1.3인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And a molar ratio of B 2 O 3 to ZnO is 0.8 to 1.3. 제 5 항에 있어서, 상기 알칼리는,The method of claim 5, wherein the alkali, 0∼15mol%의 Li2O, 0∼10mol%의 Na2O인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.A plasma display panel comprising 0 to 15 mol% of Li 2 O and 0 to 10 mol% of Na 2 O. 제 5 항에 있어서, 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 및 봉착부는,The method of claim 5, wherein the first and second dielectrics, barrier ribs and sealing portion, 결정화 방지를 위해 0∼10mol%의 Al2O3가 더 포함된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.Plasma display panel further comprises 0 to 10 mol% Al 2 O 3 to prevent crystallization. 제 1 전극, 제 1 유전체를 갖는 제 1 기판과, 제 2 전극, 제 2 유전체, 격벽 및 봉착부를 갖는 제 2 기판을 준비하는 단계;Preparing a first substrate having a first electrode, a first dielectric, and a second substrate having a second electrode, a second dielectric, a partition, and a seal; 20∼60mol%의 ZnO, 10∼50mol%의 B2O3, 5∼30mol%의 BaO, 2∼10mol%의 SiO2, 0∼10mol%의 V2O5 및 0.5∼20mol%의 알칼리가 포함된 유전체 조성물과 비히클을 혼합하여 페이스트를 제조하는 단계;20 to 60 mol% ZnO, 10 to 50 mol% B 2 O 3 , 5 to 30 mol% BaO, 2 to 10 mol% SiO 2 , 0 to 10 mol% V 2 O 5 and 0.5 to 20 mol% alkali Mixing the prepared dielectric composition with a vehicle to produce a paste; 상기 페이스트를 기판 상에 도포하는 단계; 및Applying the paste onto a substrate; And 상기 페이스트를 소성하여 상기 제 1, 2 유전체, 격벽 및 봉착부 중 적어도 어느 하나를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.Firing the paste to form at least one of the first, second dielectrics, barrier ribs, and encapsulation portions. 제 9 항에 있어서, 상기 유전체 조성물은,The method of claim 9, wherein the dielectric composition, 결정화 방지를 위해 0∼10mol%의 Al2O3가 더 포함된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.A method of manufacturing a plasma display panel, characterized in that 0 to 10 mol% Al 2 O 3 is further included to prevent crystallization. 제 9 항에 있어서, 상기 페이스트는,The method of claim 9, wherein the paste, 70∼90wt%의 분말 상태인 유전체 조성물과 10∼30wt%의 비히클이 포함된 조성비를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.A method of manufacturing a plasma display panel, comprising a composition ratio comprising 70 to 90 wt% of a powdered dielectric composition and 10 to 30 wt% of a vehicle. 제 13 항에 있어서, 상기 페이스트의 도포는,The method of claim 13, wherein the application of the paste, 스크린 프린팅, 디스펜싱, 잉크젯법 중 적어도 어느 하나의 방법을 이용하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.A method of manufacturing a plasma display panel using at least one of screen printing, dispensing, and inkjet printing.
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