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KR102900856B1 - Printed circuit board and mehod of manufacturing thereof - Google Patents

Printed circuit board and mehod of manufacturing thereof

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Publication number
KR102900856B1
KR102900856B1 KR1020200156476A KR20200156476A KR102900856B1 KR 102900856 B1 KR102900856 B1 KR 102900856B1 KR 1020200156476 A KR1020200156476 A KR 1020200156476A KR 20200156476 A KR20200156476 A KR 20200156476A KR 102900856 B1 KR102900856 B1 KR 102900856B1
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KR
South Korea
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insulating layer
dummy
layer
circuit board
openings
Prior art date
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Application number
KR1020200156476A
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Korean (ko)
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KR20220069401A (en
Inventor
류성욱
남상혁
김동선
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Priority to US18/037,825 priority patent/US20230413425A1/en
Priority to PCT/KR2021/017081 priority patent/WO2022108386A1/en
Publication of KR20220069401A publication Critical patent/KR20220069401A/en
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    • H05K3/4626Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

실시 예에 따른 인쇄회로기판은 제1 절연층; 및 상기 제1 절연층의 상면 위에 배치된 제1 회로 패턴층을 포함하고, 상기 제1 절연층은, 더미 영역에 대응하는 제1 영역 및 상기 제1 영역 이외의 제2 영역을 포함하고, 상기 제1 회로 패턴층은, 상기 제1 절연층의 상기 제1 영역에 배치되는 제1 더미 패턴을 포함하고, 상기 제1 더미 패턴은, 상기 제1 절연층의 상기 제1 영역의 상면을 노출하며, 상호 이격되는 도트 형태의 복수의 제1 개구를 포함한다.A printed circuit board according to an embodiment includes a first insulating layer; and a first circuit pattern layer disposed on an upper surface of the first insulating layer, wherein the first insulating layer includes a first region corresponding to a dummy region and a second region other than the first region, and the first circuit pattern layer includes a first dummy pattern disposed in the first region of the first insulating layer, and the first dummy pattern includes a plurality of first openings in the form of dots that are spaced apart from each other and expose an upper surface of the first region of the first insulating layer.

Description

인쇄회로기판 및 이의 제조 방법{PRINTED CIRCUIT BOARD AND MEHOD OF MANUFACTURING THEREOF}Printed circuit board and method of manufacturing the same

실시 예는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The embodiment relates to a printed circuit board and a method for manufacturing the same.

전자부품의 소형화, 경량화, 집적화가 가속되면서 회로의 선폭이 미세화하고 있다. 특히, 반도체 칩의 디자인룰이 나노미터 스케일로 집적화함에 따라, 반도체 칩을 실장하는 패키지기판 또는 인쇄회로기판의 회로 선폭이 수 마이크로미터 이하로 미세화하고 있다.As electronic components become increasingly miniaturized, lightweight, and integrated, circuit line widths are shrinking. In particular, as semiconductor chip design rules are becoming more integrated at the nanometer scale, the circuit line widths of the package substrates or printed circuit boards that mount the semiconductor chips are shrinking to a few micrometers or less.

인쇄회로기판의 회로집적도를 증가시키기 위해서, 즉 회로 선폭을 미세화하기 위하여 다양한 공법들이 제안된 바 있다. 동도금 후 패턴을 형성하기 위해 식각하는 단계에서의 회로 선폭의 손실을 방지하기 위한 목적에서, 에스에이피(SAP; semi-additive process) 공법과 앰에스에이피(MSAP; modified semi-additive process) 등이 제안되었다.To increase the circuit density of printed circuit boards (PCBs), i.e., to minimize line widths, various techniques have been proposed. To prevent line width loss during the etching process to form patterns after plating, techniques such as the semi-additive process (SAP) and the modified semi-additive process (MSAP) have been proposed.

이후, 보다 미세한 회로패턴을 구현하기 위해서 동박을 절연층 속에 묻어서 매립하는 임베디드 트레이스(Embedded Trace Substrate; 이하 'ETS'라 칭함) 공법이 당업계에서 사용되고 있다. ETS 공법은 동박회로를 절연층 표면에 형성하는 대신에, 절연층 속에 매립형식으로 제조하기 때문에 식각으로 인한 회로손실이 없어서 회로 피치를 미세화하는데 유리하다.Since then, the Embedded Trace Substrate (ETS) method, which buries copper foil within an insulating layer to implement finer circuit patterns, has been used in the industry. The ETS method manufactures copper foil circuits by burying them within the insulating layer instead of forming them on the surface of the insulating layer, thereby eliminating circuit loss due to etching and thus being advantageous for minimizing circuit pitch.

한편, 상기와 같은 인쇄회로기판은 미세화를 위해 무전해 화학동 도금을 통해 금속층을 형성하고 있다. 상기 무전해 화학동 도금을 통해 형성된 금속층은 회로패턴층을 형성하는데 사용될 수 있다.Meanwhile, the printed circuit board described above forms a metal layer through electroless chemical copper plating for miniaturization. The metal layer formed through electroless chemical copper plating can be used to form a circuit pattern layer.

그러나, 상기와 같은 종래의 인쇄회로기판은 절연층과 금속층 사이의 계면에 잔류 염기성 가스가 남아 있어 신뢰성에 영향을 줄 수 있다. 예를 들어, 종래의 인쇄회로기판은 상기 잔류 염기성 가스에 의해 열적 스트레스에 취약하며, 절연층으로부터 금속층이 탈락하는 접합력 불량이 발생할 수 있다.However, conventional printed circuit boards, such as the above, can have reliability issues due to residual alkaline gases remaining at the interface between the insulating layer and the metal layer. For example, conventional printed circuit boards are vulnerable to thermal stress caused by the residual alkaline gases, and poor bonding strength can occur, resulting in the metal layer detaching from the insulating layer.

실시 예에서는 절연층과 회로 패턴층 사이에 잔존하는 염기성 가스를 제거할 수 있는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법을 제공하도록 한다.In an embodiment, a printed circuit board and a method for manufacturing the same are provided, which can remove a basic gas remaining between an insulating layer and a circuit pattern layer.

또한, 실시 예에서는 절연층과 회로 패턴층 사이의 접합력을 향상시킬 수 있는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법을 제공하도록 한다.In addition, the embodiment provides a printed circuit board and a method for manufacturing the same that can improve bonding strength between an insulating layer and a circuit pattern layer.

또한, 실시 예에서는 회로 패턴층의 도금 편차를 개선할 수 있는 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법을 제공하도록 한다.In addition, the embodiment provides a printed circuit board and a manufacturing method thereof capable of improving plating deviation of a circuit pattern layer.

제안되는 실시 예에서 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 제안되는 실시 예가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical tasks to be achieved in the proposed embodiment are not limited to the technical tasks mentioned above, and other technical tasks not mentioned can be clearly understood by a person having ordinary skill in the technical field to which the proposed embodiment belongs from the description below.

실시 예에 따른 인쇄회로기판은 제1 절연층; 및 상기 제1 절연층의 상면 위에 배치된 제1 회로 패턴층을 포함하고, 상기 제1 절연층은, 더미 영역에 대응하는 제1 영역 및 상기 제1 영역 이외의 제2 영역을 포함하고, 상기 제1 회로 패턴층은, 상기 제1 절연층의 상기 제1 영역에 배치되는 제1 더미 패턴을 포함하고, 상기 제1 더미 패턴은, 상기 제1 절연층의 상기 제1 영역의 상면을 노출하며, 상호 이격되는 도트 형태의 복수의 제1 개구를 포함한다.A printed circuit board according to an embodiment includes a first insulating layer; and a first circuit pattern layer disposed on an upper surface of the first insulating layer, wherein the first insulating layer includes a first region corresponding to a dummy region and a second region other than the first region, and the first circuit pattern layer includes a first dummy pattern disposed in the first region of the first insulating layer, and the first dummy pattern includes a plurality of first openings in the form of dots that are spaced apart from each other and expose an upper surface of the first region of the first insulating layer.

또한, 상기 인쇄회로기판은 상기 제1 절연층의 상면 위에 배치되는 제2 절연층; 및 상기 제2 절연층의 상면 위에 배치된 제2 회로 패턴층을 포함하고, 상기 제2 절연층은 상기 제1 절연층 상에 상기 복수의 제1 개구를 채우며 형성된다.In addition, the printed circuit board includes a second insulating layer disposed on an upper surface of the first insulating layer; and a second circuit pattern layer disposed on an upper surface of the second insulating layer, wherein the second insulating layer is formed on the first insulating layer to fill the plurality of first openings.

또한, 상기 제2 회로 패턴층은, 상기 제2 절연층의 더미 영역에 배치되는 제2 더미 패턴을 포함하고, 상기 제2 더미 패턴은, 상기 제2 절연층의 더미 영역의 상면을 노출하며, 상호 이격되는 도트 형태의 복수의 제2 개구를 포함한다.Additionally, the second circuit pattern layer includes a second dummy pattern arranged in a dummy area of the second insulating layer, and the second dummy pattern includes a plurality of second openings in the form of dots that are spaced apart from each other and expose an upper surface of the dummy area of the second insulating layer.

또한, 상기 복수의 제1 개구의 각각의 직경은 100㎛보다 크다.Additionally, the diameter of each of the plurality of first openings is greater than 100 μm.

또한, 상기 복수의 제1 개구 중 인접하는 제1 개구 사이의 간격은 25㎛보다 크다.Additionally, the spacing between adjacent first openings among the plurality of first openings is greater than 25 μm.

한편, 다른 실시 예에 따른 인쇄회로기판은 제1 절연층; 상기 제1 절연층의 상면 위에 배치된 제1 회로 패턴층; 및 상기 제1 절연층 및 상기 제1 회로 패턴층에 형성된 제1 디가싱부를 포함하고, 상기 제1 절연층은, 더미 영역에 대응하는 제1 영역 및 상기 제1 영역 이외의 제2 영역을 포함하고, 상기 제1 회로 패턴층은, 상기 제1 절연층의 상기 제1 영역에 배치되는 제1 더미 패턴을 포함하고, 상기 제1 디가싱부는, 상기 제1 더미 패턴을 오픈하며 형성되고, 상호 이격되는 도트 형태의 복수의 제1-1 부분과, 상기 제1 절연층을 오픈하며 형성되고, 상기 제1-1 부분과 연결되는 제1-2 부분을 포함한다.Meanwhile, a printed circuit board according to another embodiment includes a first insulating layer; a first circuit pattern layer disposed on an upper surface of the first insulating layer; and a first degassing portion formed on the first insulating layer and the first circuit pattern layer, wherein the first insulating layer includes a first region corresponding to a dummy region and a second region other than the first region, the first circuit pattern layer includes a first dummy pattern disposed in the first region of the first insulating layer, and the first degassing portion includes a plurality of 1-1 portions in the form of dots that are formed by opening the first dummy pattern and are spaced apart from each other, and a 1-2 portion that is formed by opening the first insulating layer and is connected to the 1-1 portions.

또한, 상기 인쇄회로기판은 상기 제1 절연층의 상면 위에 배치되는 제2 절연층; 및 상기 제2 절연층의 상면 위에 배치된 제2 회로 패턴층을 포함하고, 상기 제2 절연층은 상기 제1 절연층 상에 상기 제1 디가싱부의 상기 제1-1 부분 및 상기 제1-2 부분을 채우며 형성된다.In addition, the printed circuit board includes a second insulating layer disposed on an upper surface of the first insulating layer; and a second circuit pattern layer disposed on an upper surface of the second insulating layer, wherein the second insulating layer is formed on the first insulating layer to fill the first-1 portion and the first-2 portion of the first degassing portion.

또한, 상기 제1 디가싱부의 상기 제1-2 부분은, 상기 제1 절연층을 관통하며 형성된다.In addition, the first-second portion of the first degassing section is formed by penetrating the first insulating layer.

또한, 상기 제1 디가싱부의 상기 제1-2 부분은, 상기 제1 절연층을 비관통하며 형성된다.In addition, the first-second portion of the first degassing section is formed without penetrating the first insulating layer.

또한, 상기 인쇄회로기판은 상기 제2 절연층 및 상기 제2 회로 패턴층에 형성되는 제2 디가싱부를 포함하고, 상기 제2 회로 패턴층은, 상기 제2 절연층의 더미 영역에 배치되는 제2 더미 패턴을 포함하고, 상기 제2 디가싱부는, 상기 제2 더미 패턴을 오픈하며 형성되고, 상호 이격되는 도트 형태의 복수의 제2-1 부분과, 상기 제2 절연층을 오픈하며 형성되고, 상기 제2-1 부분과 연결되는 제2-2 부분을 포함한다.In addition, the printed circuit board includes a second degassing portion formed on the second insulating layer and the second circuit pattern layer, the second circuit pattern layer includes a second dummy pattern arranged in a dummy area of the second insulating layer, and the second degassing portion includes a plurality of 2-1 portions in the form of dots that are formed by opening the second dummy pattern and are spaced apart from each other, and a 2-2 portion that is formed by opening the second insulating layer and is connected to the 2-1 portion.

또한, 상기 제1 디가싱부의 상기 제1-1 부분의 직경은 100㎛보다 크다.In addition, the diameter of the first-1 portion of the first degassing section is greater than 100 μm.

또한, 상기 제1 디가싱부의 상기 복수의 제1-1 부분 중 인접하는 제1-1 부분 사이의 간격은 25㎛보다 크다.Additionally, the gap between adjacent 1-1 parts among the plurality of 1-1 parts of the first degassing section is greater than 25 μm.

한편, 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법은 제1 절연층을 준비하고, 상기 제1 절연층의 상면에 제1 회로 패턴층을 형성하고, 상기 제1 절연층 및 상기 제1 회로 패턴층을 오픈하는 제1 디가싱부를 형성하는 것을 포함하고, 상기 제1 절연층은, 더미 영역에 대응하는 제1 영역 및 상기 제1 영역 이외의 제2 영역을 포함하고, 상기 제1 회로 패턴층은, 상기 제1 절연층의 상기 제1 영역에 배치되는 제1 더미 패턴을 포함하고, 상기 제1 디가싱부는, 상기 제1 더미 패턴을 오픈하며 형성되고, 상호 이격되는 도트 형태의 복수의 제1-1 부분과, 상기 제1 절연층을 오픈하며 형성되고, 상기 제1-1 부분과 연결되는 제1-2 부분을 포함한다.Meanwhile, a method for manufacturing a printed circuit board according to an embodiment includes preparing a first insulating layer, forming a first circuit pattern layer on an upper surface of the first insulating layer, and forming a first degassing portion that opens the first insulating layer and the first circuit pattern layer, wherein the first insulating layer includes a first region corresponding to a dummy region and a second region other than the first region, the first circuit pattern layer includes a first dummy pattern arranged in the first region of the first insulating layer, and the first degassing portion includes a plurality of 1-1 portions in the form of dots that are formed by opening the first dummy pattern and are spaced apart from each other, and a 1-2 portion that is formed by opening the first insulating layer and is connected to the 1-1 portions.

또한, 상기 제1 절연층의 상면에 제2 절연층을 형성하고, 상기 제2 절연층의 상면에 배치된 제2 회로 패턴층을 형성하는 것을 포함하며, 상기 제2 절연층은 상기 제1 디가싱부의 상기 제1-1 부분 및 상기 제1-2 부분을 채운다.In addition, it includes forming a second insulating layer on the upper surface of the first insulating layer and forming a second circuit pattern layer disposed on the upper surface of the second insulating layer, wherein the second insulating layer fills the first-1 portion and the first-2 portion of the first degassing section.

또한, 상기 제1 디가싱부의 상기 제1-2 부분은, 상기 제1 절연층을 관통하며 형성된다.In addition, the first-second portion of the first degassing section is formed by penetrating the first insulating layer.

또한, 상기 제1 디가싱부의 상기 제1-2 부분은, 상기 제1 절연층을 비관통하며 형성된다.In addition, the first-second portion of the first degassing section is formed without penetrating the first insulating layer.

또한, 상기 제2 절연층 및 상기 제2 회로 패턴층에 제2 디가싱부를 형성하는 것을 포함하고, 상기 제2 회로 패턴층은, 상기 제2 절연층의 더미 영역에 배치되는 제2 더미 패턴을 포함하고, 상기 제2 디가싱부는, 상기 제2 더미 패턴을 오픈하며 형성되고, 상호 이격되는 도트 형태의 복수의 제2-1 부분과, 상기 제2 절연층을 오픈하며 형성되고, 상기 제2-1 부분과 연결되는 제2-2 부분을 포함한다.
실시 예에 따른 회로 기판은 제1 절연층; 상기 제1 절연층 상에 배치된 제1 회로 패턴층; 및 상기 제1 회로 패턴층 상에 배치된 제2 절연층을 포함하고, 상기 제1 회로 패턴층은 상기 제1 회로 패턴층의 상면 및 하면을 관통하는 제1 더미 관통부를 포함하고, 상기 제1 절연층은 수직 방향을 따라 상기 제1 더미 관통부와 중첩되며 상기 제1 절연층의 적어도 일부 영역을 관통한 제2 더미 관통부를 포함하고, 상기 제2 절연층은 상기 제1 더미 관통부 및 상기 제2 더미 관통부 내에 배치되는 돌출부를 포함한다.
또한, 상기 제1 더미 관통부는 상기 제1 회로 패턴층에 수평 방향을 따라 서로 이격되는 복수 개의 제1 더미 개구들을 포함하고, 상기 제2 더미 관통부는 상기 복수 개의 제1 더미 개구들과 상기 수직 방향을 따라 중첩된 복수 개의 제2 더미 개구들을 포함한다.
또한, 상기 수직 방향을 따라 상기 제1 절연층의 적어도 일부 영역을 관통하며 수평 방향을 따라 상기 돌출부와 이격된 제1 전도성 비아를 더 포함한다.
또한, 상기 제1 전도성 비아와 상기 돌출부는 상기 수평 방향을 따라 중첩된다.
또한, 상기 돌출부의 측면의 적어도 일부는 상기 제1 전도성 비아의 측면의 적어도 일부의 경사 각도와 동일한 경사 각도를 갖는다.
또한, 상기 복수 개의 제1 더미 개구들의 수평 방향으로의 폭은 상기 복수 개의 제1 더미 개구들 사이의 수평 방향으로의 이격 간격보다 크다.
또한, 상기 제2 절연층 상에 배치된 제2 회로 패턴층; 및 상기 제2 회로 패턴층 상에 배치된 제3 절연층을 더 포함하고, 상기 제2 회로 패턴층은 상기 제2 회로 패턴층의 상면 및 하면을 관통하는 제3 더미 관통부를 포함하고, 상기 제2 절연층은 상기 수직 방향을 따라 상기 제3 더미 관통부와 중첩되며 상기 제2 절연층의 적어도 일부 영역을 관통한 제4 더미 관통부를 포함하고, 상기 제3 절연층은 상기 제3 더미 관통부 및 상기 제4 더미 관통부 내에 배치되는 돌출부를 포함한다.
또한, 상기 제1 내지 제4 더미 관통부는 상기 수직 방향을 따라 중첩된다.
또한, 상기 제1 절연층의 돌출부 및 상기 제2 절연층의 돌출부는 상기 수직 방향을 따라 서로 중첩된다.
또한, 상기 제2 절연층의 상면 및 하면을 관통하는 제2 전도성 비아를 더 포함하고, 상기 제2 전도성 비아는 상기 제2 절연층의 돌출부와 상기 수평 방향을 따라 이격된다.
또한, 상기 제2 전도성 비아의 측면의 경사는 상기 제2 절연층의 돌출부의 측면의 경사와 동일하다.
또한, 상기 제1 더미 관통부의 내벽의 경사는 상기 제2 더미 관통부의 내벽의 경사와 상이하다.
또한, 상기 제1 절연층의 하면에 대한 상기 제1 더미 관통부의 내벽의 경사는 상기 제1 절연층의 하면에 대한 상기 제2 더미 관통부의 내벽의 경사보다 수직에 가깝다.
In addition, it includes forming a second degassing portion on the second insulating layer and the second circuit pattern layer, wherein the second circuit pattern layer includes a second dummy pattern arranged in a dummy area of the second insulating layer, and the second degassing portion includes a plurality of 2-1 portions in the form of dots that are formed by opening the second dummy pattern and are spaced apart from each other, and a 2-2 portion that is formed by opening the second insulating layer and is connected to the 2-1 portion.
A circuit board according to an embodiment includes a first insulating layer; a first circuit pattern layer disposed on the first insulating layer; and a second insulating layer disposed on the first circuit pattern layer, wherein the first circuit pattern layer includes a first dummy through-hole penetrating an upper surface and a lower surface of the first circuit pattern layer, the first insulating layer includes a second dummy through-hole penetrating at least a portion of the first insulating layer and overlapping the first dummy through-hole penetrating along a vertical direction, and the second insulating layer includes a protrusion disposed within the first dummy through-hole penetrating and the second dummy through-hole penetrating.
Additionally, the first dummy through-hole includes a plurality of first dummy openings spaced apart from each other in a horizontal direction in the first circuit pattern layer, and the second dummy through-hole includes a plurality of second dummy openings overlapping the plurality of first dummy openings in the vertical direction.
Additionally, it further includes a first conductive via penetrating at least a portion of the first insulating layer along the vertical direction and spaced apart from the protrusion along the horizontal direction.
Additionally, the first conductive via and the protrusion overlap along the horizontal direction.
Additionally, at least a portion of the side surface of the protrusion has an inclination angle that is the same as an inclination angle of at least a portion of the side surface of the first conductive via.
Additionally, the horizontal width of the plurality of first dummy openings is greater than the horizontal spacing between the plurality of first dummy openings.
In addition, the second circuit pattern layer is disposed on the second insulating layer; and a third insulating layer is disposed on the second circuit pattern layer, wherein the second circuit pattern layer includes a third dummy through-hole that penetrates the upper and lower surfaces of the second circuit pattern layer, the second insulating layer includes a fourth dummy through-hole that overlaps the third dummy through-hole along the vertical direction and penetrates at least a portion of the second insulating layer, and the third insulating layer includes a protrusion disposed within the third dummy through-hole and the fourth dummy through-hole.
Additionally, the first to fourth dummy penetration portions overlap along the vertical direction.
Additionally, the protrusions of the first insulating layer and the protrusions of the second insulating layer overlap each other along the vertical direction.
In addition, it further includes a second conductive via penetrating the upper and lower surfaces of the second insulating layer, wherein the second conductive via is spaced apart from the protrusion of the second insulating layer along the horizontal direction.
Additionally, the slope of the side surface of the second conductive via is the same as the slope of the side surface of the protrusion of the second insulating layer.
Additionally, the slope of the inner wall of the first dummy penetration portion is different from the slope of the inner wall of the second dummy penetration portion.
Additionally, the slope of the inner wall of the first dummy penetration portion with respect to the lower surface of the first insulating layer is closer to vertical than the slope of the inner wall of the second dummy penetration portion with respect to the lower surface of the first insulating layer.

실시 예에서는 절연층의 더미 영역에 대응하는 제1 영역(R1)에 더미 패턴이 형성되고, 상기 더미 패턴에 도트 형태를 가지는 복수의 개구를 형성한다. 그리고, 상기 복수의 개구는 절연층에 잔류하는 가스를 디가싱할 수 있도록 한다. 이에 따라 실시 예에서는 절연층과 회로 패턴층 사이에 가스를 제거하여 인쇄회로기판의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 예를 들어, 실시 예에서는 상기 절연층에 잔존하는 가스를 제거함에 따라, 절연층의 열적스트레스를 최소화할 수 있다. 예를 들어, 실시 예에서는 상기 절연층에 잔존하는 가스를 제거함에 따라 절연층으로부터 회로 패턴층이 탈락하는 신뢰성 문제를 해결할 수 있다. 또한, 실시 예에서는 상기와 같이 더미 패턴에 복수의 개구가 포함되도록 하여, 더미 패턴의 면적의 조절을 통해 회로 패턴층의 도금 편차를 개선할 수 있다.In an embodiment, a dummy pattern is formed in a first region (R1) corresponding to a dummy region of an insulating layer, and a plurality of openings having a dot shape are formed in the dummy pattern. In addition, the plurality of openings enable degassing of gas remaining in the insulating layer. Accordingly, in an embodiment, the reliability of a printed circuit board can be improved by removing gas between the insulating layer and the circuit pattern layer. For example, in an embodiment, by removing the gas remaining in the insulating layer, the thermal stress of the insulating layer can be minimized. For example, in an embodiment, by removing the gas remaining in the insulating layer, the reliability problem of the circuit pattern layer being detached from the insulating layer can be solved. In addition, in an embodiment, by including a plurality of openings in the dummy pattern as described above, the plating deviation of the circuit pattern layer can be improved by controlling the area of the dummy pattern.

또한, 실시 예에서는 절연층 내로 침투한 가스를 완전히 제거할 수 있고, 이에 따른 신뢰성을 더욱 향상시킬 수 있다. 예를 들어, 실시 예에서는 디가싱을 위한 개구가 더미 패턴뿐 아니라, 절연층에도 형성될 수 있다. 예를 들어, 디가싱을 위한 개구는 더미 패턴에 형성되는 제1 부분과, 상기 제1 부분과 연결되어 절연층에 형성된 제2 부분을 포함한다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 절연층 내로 침투한 가스까지 완전하게 제거할 수 있으며, 이에 따른 신뢰성을 더욱 향상시킬 수 있다.In addition, in the embodiment, gas that has penetrated into the insulating layer can be completely removed, thereby further improving reliability. For example, in the embodiment, an opening for degassing can be formed not only in the dummy pattern but also in the insulating layer. For example, the opening for degassing includes a first portion formed in the dummy pattern and a second portion formed in the insulating layer and connected to the first portion. Accordingly, in the embodiment, even gas that has penetrated into the insulating layer can be completely removed, thereby further improving reliability.

도 1은 제1 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.
도 2는 비교 예에 따른 인쇄회로기판의 일부 층의 평면도이다.
도 3은 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 일부 층의 평면도이다.
도 4는 실시 예에 따른 더미 패턴에 형성되는 개구의 형상의 변형 예이다.
도 5 내지 도 9는 도 1에 도시된 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정순으로 나타낸 도면이다.
도 10은 제2 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.
도 11 내지 도 14는 도 10에 도시된 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정순으로 나타낸 도면이다.
Figure 1 is a drawing showing a printed circuit board according to the first embodiment.
Figure 2 is a plan view of some layers of a printed circuit board according to a comparative example.
Figure 3 is a plan view of some layers of a printed circuit board according to an embodiment.
Fig. 4 is a variation example of the shape of an opening formed in a dummy pattern according to an embodiment.
Figures 5 to 9 are drawings showing the manufacturing method of the printed circuit board illustrated in Figure 1 in process order.
Figure 10 is a drawing showing a printed circuit board according to the second embodiment.
Figures 11 to 14 are drawings showing the manufacturing method of the printed circuit board illustrated in Figure 10 in process order.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고, 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시 예를 설명함에 있어 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서에 개시된 실시 예의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시 예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되지 않으며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Hereinafter, embodiments disclosed in this specification will be described in detail with reference to the attached drawings. Regardless of the drawing numbers, identical or similar components will be given the same reference numbers, and redundant descriptions thereof will be omitted. The suffixes "module" and "part" used for components in the following description are assigned or used interchangeably only for the convenience of writing the specification, and do not in themselves have distinct meanings or roles. In addition, when describing the embodiments disclosed in this specification, if it is determined that a specific description of a related known technology may obscure the gist of the embodiments disclosed in this specification, a detailed description thereof will be omitted. In addition, the attached drawings are only intended to facilitate easy understanding of the embodiments disclosed in this specification, and the technical ideas disclosed in this specification are not limited by the attached drawings, and should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and technical scope of the present invention.

제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms that include ordinal numbers, such as first, second, etc., may be used to describe various components, but the components are not limited by these terms. These terms are used solely to distinguish one component from another.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.When a component is referred to as being "connected" or "connected" to another component, it should be understood that it may be directly connected or connected to that other component, but that there may be other components intervening. Conversely, when a component is referred to as being "directly connected" or "connected" to another component, it should be understood that there are no other components intervening.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise.

본 출원에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In this application, terms such as “include” or “have” are intended to specify the presence of a feature, number, step, operation, component, part or combination thereof described in the specification, but should be understood not to exclude in advance the possibility of the presence or addition of one or more other features, numbers, steps, operations, components, parts or combinations thereof.

도 1은 제1 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이고, 도 2는 비교 예에 따른 인쇄회로기판의 일부 층의 평면도이고, 도 3은 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 일부 층의 평면도이다.FIG. 1 is a drawing showing a printed circuit board according to a first embodiment, FIG. 2 is a plan view of some layers of a printed circuit board according to a comparative example, and FIG. 3 is a plan view of some layers of a printed circuit board according to an embodiment.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 인쇄회로기판은 제1 절연층(110), 제2 절연층(120), 제3 절연층(130), 회로 패턴층(140a, 140b, 150a, 150b, 160a, 160b, 170a, 170b) 및 비아(V1, V2, V3)를 포함한다.Referring to FIGS. 1 to 3, the printed circuit board includes a first insulating layer (110), a second insulating layer (120), a third insulating layer (130), circuit pattern layers (140a, 140b, 150a, 150b, 160a, 160b, 170a, 170b), and vias (V1, V2, V3).

상기 인쇄회로기판은 회로 설계를 근거로 회로 부품을 접속하는 전기 배선을 배선 도형으로 표현하며, 절연층 상에 전기 도체를 재현할 수 있다. 또한, 이러한 인쇄회로기판은 전기 부품을 탑재하고 이들을 회고적으로 연결하는 배선을 형성할 수 있으며, 부품의 전기적 연결 기능 외의 부품들을 기계적으로 고정시켜줄 수 있다.The above printed circuit board expresses electrical wiring connecting circuit components as wiring diagrams based on the circuit design, and can reproduce electrical conductors on an insulating layer. Furthermore, such a printed circuit board can mount electrical components and form wiring that connects them retrospectively, and can mechanically secure components other than those that electrically connect the components.

이러한, 인쇄회로기판은 절연층(110, 120, 130)을 포함한다. 절연층(110, 120, 130)은 단일 회로 패턴이 형성되는 인쇄회로기판의 지지 기판일 수 있으나, 복수의 적층 구조를 가지는 인쇄회로기판 중 어느 하나의 회로 패턴이 형성되어 있는 절연 영역을 의미할 수 있다.These printed circuit boards include an insulating layer (110, 120, 130). The insulating layer (110, 120, 130) may be a supporting substrate of a printed circuit board on which a single circuit pattern is formed, but may also mean an insulating region on which one circuit pattern is formed among printed circuit boards having a plurality of laminated structures.

절연층(110, 120, 130)은 복수의 적층 구조를 가질 수 있다.The insulating layer (110, 120, 130) may have a multiple layered structure.

예를 들어, 인쇄회로기판은 제1 절연층(110)을 포함할 수 있다. 또한, 인쇄회로기판은 제1 절연층(110) 위에 배치된 제2 절연층(120)을 포함할 수 있다. 또한, 인쇄회로기판은 제1 절연층(110) 아래에 배치된 제3 절연층(130)을 포함할 수 있다. 여기에서, 도면 상에는 인쇄회로기판이 3층의 절연층을 포함하는 구조를 가지는 것으로 도시하였으나, 이에 한정되지는 않는다. 예를 들어, 상기 인쇄회로기판은 3층 미만의 절연층을 포함하는 구조를 가질 수 있으며, 이와 다르게 3층보다 많은 절연층을 포함하는 구조를 가질 수도 있을 것이다. 이하에서는 설명의 편의를 위해 인쇄회로기판이 3층의 절연층을 포함하는 구조를 가지는 것으로 하여 설명하기로 한다.For example, the printed circuit board may include a first insulating layer (110). In addition, the printed circuit board may include a second insulating layer (120) disposed on the first insulating layer (110). In addition, the printed circuit board may include a third insulating layer (130) disposed under the first insulating layer (110). Here, although the printed circuit board is illustrated in the drawing as having a structure including three insulating layers, it is not limited thereto. For example, the printed circuit board may have a structure including less than three insulating layers, or alternatively, may have a structure including more than three insulating layers. Hereinafter, for convenience of explanation, it will be described as if the printed circuit board has a structure including three insulating layers.

제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130)은 배선을 변경할 수 있는 전기 회로가 편성되어 있는 기판으로, 표면에 회로 패턴들을 형성할 수 있는 절연 재료로 만들어진 프린트, 배선판, 및 절연 기판을 모두 포함할 수 있다.The first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) are substrates on which electric circuits capable of changing wiring are formed, and may include all of a print, a wiring board, and an insulating substrate made of an insulating material capable of forming circuit patterns on a surface.

예를 들어, 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130) 중 적어도 하나는 리지드(rigid)하거나 또는 플렉서블(flexible)할 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130) 중 적어도 하나는 유리 또는 플라스틱을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130) 중 적어도 하나는, 소다라임유리(soda lime glass) 또는 알루미노실리케이트유리 등의 화학 강화/반강화유리를 포함하거나, 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 프로필렌 글리콜(propylene glycol, PPG) 폴리 카보네이트(PC) 등의 강화 혹은 연성 플라스틱을 포함하거나 사파이어를 포함할 수 있다.For example, at least one of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) may be rigid or flexible. For example, at least one of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) may include glass or plastic. In detail, at least one of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) may include chemically strengthened/semi-strengthened glass such as soda lime glass or aluminosilicate glass, or may include a strengthened or flexible plastic such as polyimide (PI), polyethylene terephthalate (PET), propylene glycol (PPG), polycarbonate (PC), or may include sapphire.

또한, 상기 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130) 중 적어도 하나는 광등방성 필름을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130) 중 적어도 하나는 COC(Cyclic Olefin Copolymer), COP(Cyclic Olefin Polymer), 광등방 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 또는 광등방 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등을 포함할 수 있다.In addition, at least one of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) may include an optically isotropic film. For example, at least one of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) may include a cyclic olefin copolymer (COC), a cyclic olefin polymer (COP), an optically isotropic polycarbonate (PC), or an optically isotropic polymethyl methacrylate (PMMA).

또한, 상기 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130) 중 적어도 하나는 부분적으로 곡면을 가지면서 휘어질 수 있다. 즉, 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130) 중 적어도 하나는 부분적으로는 평면을 가지고, 부분적으로는 곡면을 가지면서 휘어질 수 있다. 자세하게, 상기 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130) 중 적어도 하나는 끝단이 곡면을 가지면서 휘어지거나 랜덤한 곡률을 포함한 표면을 가지며 휘어지거나 구부러질 수 있다.In addition, at least one of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) can be bent while having a partially curved surface. That is, at least one of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) can be bent while having a partially flat surface and a partially curved surface. In detail, at least one of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) can be bent while having a curved end or can be bent or curved while having a surface including a random curvature.

또한, 상기 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130) 중 적어도 하나는 유연한 특성을 가지는 플렉서블(flexible) 기판일 수 있다. 또한, 상기 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130) 중 적어도 하나는 커브드(curved) 또는 벤디드(bended) 기판일 수 있다. 이때, 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130) 중 적어도 하나는 회로 설계를 근거로 회로부품을 접속하는 전기배선을 배선 도형으로 표현하며, 절연물 상에 전기도체를 재현할 수 있다. 또한 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130) 중 적어도 하나는 전기 부품을 탑재하고 이들을 회로적으로 연결하는 배선을 형성할 수 있으며, 부품의 전기적 연결기능 외의 부품들을 기계적으로 고정시켜줄 수 있다.In addition, at least one of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) may be a flexible substrate having flexible characteristics. In addition, at least one of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) may be a curved or bent substrate. In this case, at least one of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) may express an electric wiring that connects a circuit component based on a circuit design as a wiring diagram, and may reproduce an electric conductor on the insulating material. In addition, at least one of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) may form a wiring that mounts an electric component and connects them circuit-wise, and may mechanically fix components other than the electrical connection function of the component.

한편, 상기 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130)은 각각 제1 영역(R1) 및 제2 영역(R2)을 포함할 수 있다. Meanwhile, the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) may each include a first region (R1) and a second region (R2).

상기 제1 영역(R1)은 더미 패턴들이 형성된 더미 영역일 수 있다. 제2 영역(R2)은 상기 제1 영역(R1)을 제외한 영역일 수 있다. 일반적으로, 인쇄회로기판은 상기 제1 영역(R1)에 대응하는 더미 영역을 포함하며, 상기 더미 영역에 더미 패턴을 형성하여 기판의 신뢰성을 향상시키고 있다. 이때, 제1 실시 예에서의 인쇄회로기판은 상기 더미 패턴이 제1 영역(R1)에 대응하는 더미 영역을 전체적으로 덮는 것이 아닌, 도트 형태의 다수의 개구를 가지도록 하여, 상기 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130)에 잔류하고 있는 가스를 디가싱(degassing)할 수 있도록 한다.The first region (R1) may be a dummy region in which dummy patterns are formed. The second region (R2) may be a region excluding the first region (R1). Generally, a printed circuit board includes a dummy region corresponding to the first region (R1), and a dummy pattern is formed in the dummy region to improve the reliability of the board. At this time, in the printed circuit board of the first embodiment, the dummy pattern does not entirely cover the dummy region corresponding to the first region (R1), but has a plurality of openings in the shape of dots, so that gas remaining in the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130) can be degassed.

상기 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130)의 표면에는 회로 패턴층이 형성될 수 있다. A circuit pattern layer may be formed on the surfaces of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130).

예를 들어, 상기 제1 절연층(110)의 상면에는 제1 회로 패턴층이 형성될 수 있다. 또한, 상기 제1 절연층(110)의 하면에는 제2 회로 패턴층이 형성될 수 있다. 또한, 제2 절연층(120)의 상면에는 제3 회로 패턴층이 형성될 수 있다. 또한, 제3 절연층(130)의 하면에는 제4 회로 패턴층이 형성될 수 있다. 이러한, 회로 패턴층들은 더미 패턴과 유효 패턴을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 회로 패턴층은 각각의 절연층의 제1 영역(R1)에 형성되는 더미 패턴과, 제2 영역(R2)에 형성되는 유효 패턴을 포함할 수 있다. 한편, 일반적으로 더미 패턴은 절연층의 더미 영역을 전체적으로 덮으며 형성된다. 예를 들어, 절연층의 더미 영역의 상면은 더미 패턴에 의해 모두 덮인다. 이때, 실시 예에서는 상기 더미 패턴에 개구를 형성하여, 이를 디가싱 홀로 이용한다.For example, a first circuit pattern layer may be formed on the upper surface of the first insulating layer (110). In addition, a second circuit pattern layer may be formed on the lower surface of the first insulating layer (110). In addition, a third circuit pattern layer may be formed on the upper surface of the second insulating layer (120). In addition, a fourth circuit pattern layer may be formed on the lower surface of the third insulating layer (130). These circuit pattern layers may include dummy patterns and effective patterns. For example, the circuit pattern layers may include dummy patterns formed in the first region (R1) of each insulating layer and effective patterns formed in the second region (R2). Meanwhile, in general, the dummy pattern is formed to entirely cover the dummy region of the insulating layer. For example, the upper surface of the dummy region of the insulating layer is entirely covered by the dummy pattern. In this case, in the embodiment, an opening is formed in the dummy pattern and used as a degassing hole.

구체적으로, 제1 회로 패턴층은, 제1 절연층(110)의 상면의 제1 영역(R1)에 배치된 제1 더미 패턴(140a)과, 제2 영역(R2)에 배치된 제1 유효 패턴(140b)을 포함할 수 있다. Specifically, the first circuit pattern layer may include a first dummy pattern (140a) arranged in a first region (R1) of the upper surface of the first insulating layer (110) and a first effective pattern (140b) arranged in a second region (R2).

또한, 제2 회로 패턴층은 제1 절연층(110)의 하면의 제1 영역(R1)에 배치된 제2 더미 패턴(150a)과, 제2 영역(R2)에 배치된 제2 유효 패턴(150b)을 포함할 수 있다.Additionally, the second circuit pattern layer may include a second dummy pattern (150a) arranged in a first region (R1) on the lower surface of the first insulating layer (110) and a second effective pattern (150b) arranged in a second region (R2).

또한, 제3 회로 패턴층은 제2 절연층(120)의 상면의 제1 영역(R1)에 배치된 제3 더미 패턴(160a)과, 제2 영역(R2)에 배치된 제3 유효 패턴(160b)을 포함할 수 있다.Additionally, the third circuit pattern layer may include a third dummy pattern (160a) arranged in a first region (R1) of the upper surface of the second insulating layer (120) and a third effective pattern (160b) arranged in a second region (R2).

또한, 제4 회로 패턴층은 제3 절연층(130)의 하면의 제1 영역(R1)에 배치된 제4 더미 패턴(170a)과, 제2 영역(R2)에 배치된 제4 유효 패턴(170b)을 포함할 수 있다. Additionally, the fourth circuit pattern layer may include a fourth dummy pattern (170a) arranged in the first region (R1) of the lower surface of the third insulating layer (130) and a fourth effective pattern (170b) arranged in the second region (R2).

이러한, 제1 내지 제4 회로 패턴층은 전기 전도성이 높은 금속 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제1 내지 제4 회로 패턴층은 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 구리(Cu) 및 아연(Zn) 중에서 선택되는 적어도 하나의 금속 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제1 내지 제4 회로 패턴층은 본딩력이 우수한 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 구리(Cu), 아연(Zn) 중에서 선택되는 적어도 하나의 금속 물질을 포함하는 페이스트 또는 솔더 페이스트로 형성될 수 있다. 바람직하게, 상기 제1 내지 제4 회로 패턴층은 전기전도성이 높으면서 가격이 비교적 저렴한 구리(Cu)로 형성될 수 있다. These first to fourth circuit pattern layers may be formed of a metal material having high electrical conductivity. For example, the first to fourth circuit pattern layers may be formed of at least one metal material selected from gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), titanium (Ti), tin (Sn), copper (Cu), and zinc (Zn). For example, the first to fourth circuit pattern layers may be formed of a paste or solder paste including at least one metal material selected from gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), titanium (Ti), tin (Sn), copper (Cu), and zinc (Zn) having excellent bonding strength. Preferably, the first to fourth circuit pattern layers may be formed of copper (Cu) which has high electrical conductivity and is relatively inexpensive.

상기 제1 내지 제4 회로 패턴층은 통상적인 인쇄회로기판의 제조 공정인 어디티브 공법(Additive process), 서브트렉티브 공법(Subtractive Process), MSAP(Modified Semi Additive Process) 및 SAP(Semi Additive Process) 공법 등으로 가능하며 여기에서는 상세한 설명은 생략한다. The above first to fourth circuit pattern layers can be manufactured using conventional printed circuit board manufacturing processes such as additive process, subtractive process, modified semi-additive process (MSAP), and semi-additive process (SAP), and a detailed description thereof is omitted here.

한편, 인쇄회로기판은 비아(V1, V2, V3)를 포함한다. 상기 비아(V1, V2, V3)는 상기 제1 절연층(110), 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130) 중 적어도 하나의 절연층을 관통하며 형성될 수 있다. 상기 비아(V1, V2, V3)는 서로 다른 층에 배치된 회로 패턴층을 전기적으로 연결할 수 있다.Meanwhile, the printed circuit board includes vias (V1, V2, V3). The vias (V1, V2, V3) may be formed to penetrate at least one of the first insulating layer (110), the second insulating layer (120), and the third insulating layer (130). The vias (V1, V2, V3) may electrically connect circuit pattern layers arranged on different layers.

예를 들어, 제1 절연층(110)에는 제1 비아(V1)가 형성될 수 있다. 상기 제1 비아(V1)는 제1 절연층(110)의 상면에 배치된 제1 회로 패턴층과, 제1 절연층(110)의 하면에 배치된 제2 회로 패턴층을 전기적으로 연결할 수 있다.For example, a first via (V1) may be formed in the first insulating layer (110). The first via (V1) may electrically connect a first circuit pattern layer disposed on an upper surface of the first insulating layer (110) and a second circuit pattern layer disposed on a lower surface of the first insulating layer (110).

예를 들어, 제2 절연층(120)에는 제2 비아(V2)가 형성될 수 있다. 상기 제2 비아(V2)는 제1 절연층(110)의 상면에 배치된 제1 회로 패턴층과 제2 절연층(120)의 상면에 배치된 제3 회로 패턴층을 전기적으로 연결할 수 있다.For example, a second via (V2) may be formed in the second insulating layer (120). The second via (V2) may electrically connect the first circuit pattern layer disposed on the upper surface of the first insulating layer (110) and the third circuit pattern layer disposed on the upper surface of the second insulating layer (120).

예를 들어, 제3 절연층(130)에는 제3 비아(V3)가 형성될 수 있다. 상기 제3 비아(V3)는 제1 절연층(110)의 하면에 배치된 제2 회로 패턴층과, 상기 제3 절연층(130)의 하면에 배치된 제4 회로 패턴층을 전기적으로 연결할 수 있다.For example, a third via (V3) may be formed in the third insulating layer (130). The third via (V3) may electrically connect the second circuit pattern layer disposed on the lower surface of the first insulating layer (110) and the fourth circuit pattern layer disposed on the lower surface of the third insulating layer (130).

한편, 상기 비아(V1, V2, V3)는 상기 복수의 절연층 중 적어도 하나의 절연층을 관통하는 관통 홀(도시하지 않음) 내부를 전도성 물질로 충진하여 형성할 수 있다.Meanwhile, the via (V1, V2, V3) can be formed by filling the inside of a through hole (not shown) penetrating at least one of the plurality of insulating layers with a conductive material.

상기 관통 홀은 기계, 레이저 및 화학 가공 중 어느 하나의 가공 방식에 의해 형성될 수 있다. 상기 관통 홀이 기계 가공에 의해 형성되는 경우에는 밀링(Milling), 드릴(Drill) 및 라우팅(Routing) 등의 방식을 사용할 수 있고, 레이저 가공에 의해 형성되는 경우에는 UV나 Co2 레이저 방식을 사용할 수 있으며, 화학 가공에 의해 형성되는 경우에는 아미노실란, 케톤류 등을 포함하는 약품을 이용하여 상기 복수의 절연층 중 적어도 하나의 절연층을 개방할 수 있다.The above through hole can be formed by any one of mechanical, laser, and chemical processing methods. When the through hole is formed by mechanical processing, methods such as milling, drilling, and routing can be used. When the through hole is formed by laser processing, a UV or Co 2 laser method can be used. When the through hole is formed by chemical processing, a chemical agent including aminosilane, ketones, etc. can be used to open at least one of the plurality of insulating layers.

한편, 상기 레이저에 의한 가공은 광학 에너지를 표면에 집중시켜 재료의 일부를 녹이고 증발시켜, 원하는 형태를 취하는 절단 방법으로, 컴퓨터 프로그램에 의한 복잡한 형성도 쉽게 가공할 수 있고, 다른 방법으로는 절단하기 어려운 복합 재료도 가공할 수 있다. Meanwhile, the processing using the laser is a cutting method that focuses optical energy on a surface to melt and vaporize part of the material, thereby taking on a desired shape, and can easily process complex shapes using a computer program, and can also process composite materials that are difficult to cut using other methods.

또한, 상기 레이저에 의한 가공은 절단 직경이 최소 0.005mm까지 가능하며, 가공 가능한 두께 범위로 넓은 장점이 있다.In addition, the processing by the above laser has the advantage of a cutting diameter of at least 0.005 mm and a wide range of processable thicknesses.

상기 레이저 가공 드릴로, YAG(Yttrium Aluminum Garnet)레이저나 Co2 레이저나 자외선(UV) 레이저를 이용하는 것이 바람직하다. YAG 레이저는 동박층 및 절연층 모두를 가공할 수 있는 레이저이고, CO2 레이저는 절연층만 가공할 수 있는 레이저이다.For the above laser processing drill, it is preferable to use a YAG (Yttrium Aluminum Garnet) laser, a CO2 laser, or an ultraviolet (UV) laser. The YAG laser is a laser that can process both the copper layer and the insulating layer, and the CO2 laser is a laser that can process only the insulating layer.

상기 관통 홀이 형성되면, 상기 관통 홀 내부를 전도성 물질로 충진하여 상기 비아(V1, V2, V3)를 형성할 수 있다. 상기 비아(V1, V2, V3)를 형성하는 금속 물질은 구리(Cu), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni) 및 팔라듐(Pd) 중에서 선택되는 어느 하나의 물질일 수 있으며, 상기 전도성 물질 충진은 무전해 도금, 전해 도금, 스크린 인쇄(Screen Printing), 스퍼터링(Sputtering), 증발법(Evaporation), 잉크젯팅 및 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용할 수 있다.When the above through hole is formed, the inside of the through hole can be filled with a conductive material to form the via (V1, V2, V3). The metal material forming the via (V1, V2, V3) can be any one material selected from copper (Cu), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), and palladium (Pd), and the filling of the conductive material can use any one of electroless plating, electrolytic plating, screen printing, sputtering, evaporation, inkjetting, and dispensing, or a combination thereof.

한편, 상기와 같은 제1 내지 제4 회로 패턴층은 각각 복수의 층 구조를 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 내지 제4 회로 패턴층 각각은, 무전해 도금을 통해 형성된 화학동도금층 및 전해 도금으로 형성된 전해 도금층을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Meanwhile, the first to fourth circuit pattern layers as described above may each have a multiple layer structure. For example, each of the first to fourth circuit pattern layers may include, but is not limited to, a chemical copper plating layer formed through electroless plating and an electrolytic plating layer formed through electrolytic plating.

한편, 실시 예에서의 각각의 회로 패턴층 중 제1 영역(R1)에 형성된 더미 패턴들은 개구를 포함할 수 있다. 상기 개구는 절연층의 표면을 노출하는 홀일 수 있다.Meanwhile, the dummy patterns formed in the first region (R1) of each circuit pattern layer in the embodiment may include an opening. The opening may be a hole exposing the surface of the insulating layer.

구체적으로, 상기 제1 더미 패턴(140a)은 상호 이격되는 복수의 제1 개구(140h)를 포함할 수 있다. 상기 복수의 제1 개구(140h)는 상기 제1 절연층(110)의 상면을 노출할 수 있다. 즉, 상기 복수의 제1 개구(140h)는 상기 제1 더미 패턴(140a)의 상면 및 하면을 관통하며 형성될 수 있다. 상기 복수의 제1 개구(140h)는 도트 형태를 가질 수 있다. 즉, 상기 제1 더미 패턴(140a)은 도트 형태를 가지는 복수의 제1 개구(140h)를 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 더미 패턴(140a)이 형성된 상태에서, 상기 복수의 제1 개구(140h)를 통해 상기 제1 절연층(110)의 상면은 노출될 수 있다. 그리고, 상기 제1 절연층(110)에 잔류하는 가스는 상기 제1 개구(140h)를 통해 디가싱(degassing)될 수 있다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 제1 절연층(110)에 잔류하는 가스를 디가싱함에 따라 열적 스트레스를 해소하여 신뢰성을 향상시킬 수 있다. Specifically, the first dummy pattern (140a) may include a plurality of first openings (140h) that are spaced apart from each other. The plurality of first openings (140h) may expose the upper surface of the first insulating layer (110). That is, the plurality of first openings (140h) may be formed to penetrate the upper and lower surfaces of the first dummy pattern (140a). The plurality of first openings (140h) may have a dot shape. That is, the first dummy pattern (140a) may include a plurality of first openings (140h) having a dot shape. Accordingly, in a state in which the first dummy pattern (140a) is formed, the upper surface of the first insulating layer (110) may be exposed through the plurality of first openings (140h). In addition, the gas remaining in the first insulating layer (110) can be degassed through the first opening (140h). Accordingly, in the embodiment, by degassing the gas remaining in the first insulating layer (110), thermal stress can be relieved, thereby improving reliability.

즉, 도 2를 참조하면, 비교 예의 더미 패턴(140a')은 제1 절연층(110')의 제1 영역(R1)을 전체적으로 덮으며 형성된다. 이때, 상기 더미 패턴(140a')이 상기 제1 절연층(110')의 제1 영역(R1)을 전체적으로 덮으며 형성되는 경우, 상기 제1 절연층(110') 내에 가스가 잔류할 수 있고, 이로 인한 신뢰성이 저하될 수 있다.That is, referring to Fig. 2, the dummy pattern (140a') of the comparative example is formed to entirely cover the first region (R1) of the first insulating layer (110'). At this time, when the dummy pattern (140a') is formed to entirely cover the first region (R1) of the first insulating layer (110'), gas may remain within the first insulating layer (110'), which may result in a decrease in reliability.

이와 다르게, 실시 예에서는 상기와 같이 제1 더미 패턴(140a)이 제1 절연층(110)의 제1 영역(R1)의 상면을 노출하는 도트 형태의 복수의 제1 개구(140h)를 가지도록 한다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 제1 더미 패턴(140a)에 형성된 복수의 제1 개구(140h)를 통해 상기 제1 절연층(110)에 잔류하는 가스가 디가싱될 수 있으며, 이에 따른 신뢰성 문제를 해결할 수 있다.In contrast, in the embodiment, the first dummy pattern (140a) has a plurality of first openings (140h) in the form of dots that expose the upper surface of the first region (R1) of the first insulating layer (110), as described above. Accordingly, in the embodiment, the gas remaining in the first insulating layer (110) can be degassed through the plurality of first openings (140h) formed in the first dummy pattern (140a), thereby resolving the reliability problem caused by this.

한편, 도 3을 참조하면, 상기 제1 개구(140h)는 복수 개로 구성될 수 있다. 즉, 상기 제1 더미 패턴(140a)에는 상호 일정 간격 이격되는 복수의 제1 개구(140h)를 포함할 수 있다. 즉, 상기 복수의 제1 개구(140h)는 상기 제1 더미 패턴(140a) 상에 도트 형태로 형성될 수 있다.Meanwhile, referring to FIG. 3, the first opening (140h) may be configured in multiple numbers. That is, the first dummy pattern (140a) may include a plurality of first openings (140h) spaced apart from each other by a certain interval. That is, the plurality of first openings (140h) may be formed in the form of dots on the first dummy pattern (140a).

상기 복수의 제1 개구(140h)의 각각은 제1 직경(D1)을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 직경(D1)은 100㎛보다 클 수 있다. 여기에서, 상기 제1 개구(140h)가 가지는 제1 직경(D1)이 100㎛보다 작을 경우, 상기 제1 절연층(110) 내에 잔류하는 가스가 정상적으로 디가싱되지 않는 문제가 발생할 수 있다. Each of the plurality of first openings (140h) may have a first diameter (D1). For example, the first diameter (D1) may be greater than 100 μm. Here, if the first diameter (D1) of the first opening (140h) is less than 100 μm, a problem may arise in which gas remaining within the first insulating layer (110) is not normally degassed.

한편, 상기 복수의 제1 개구(140h)는 제1 간격(D2)만큼 상호 이격될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 간격(D2)은 25㎛보다 클 수 있다. 상기 제1 간격(D2)이 25㎛보다 작을 경우, 복수의 제1 개구(140h) 중 서로 인접하는 적어도 2개의 제1 개구가 서로 접촉하는 문제가 발생할 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 간격(D2)이 25㎛보다 작을 경우, 상기 제1 개구(140h)에 의한 상기 제1 더미 패턴(140a)의 개구율이 너무 클 수 있으며, 이에 따른 상기 제1 더미 패턴(140a)의 정상적인 기능이 수행되지 않을 수 있다. Meanwhile, the plurality of first openings (140h) may be spaced apart from each other by a first interval (D2). For example, the first interval (D2) may be greater than 25 μm. When the first interval (D2) is less than 25 μm, a problem may occur in which at least two adjacent first openings among the plurality of first openings (140h) come into contact with each other. For example, when the first interval (D2) is less than 25 μm, the opening ratio of the first dummy pattern (140a) due to the first openings (140h) may be too large, and thus, the normal function of the first dummy pattern (140a) may not be performed.

상기 제1 더미 패턴(140a)에 형성된 복수의 제1 개구(140h)는 추가 적층되는 절연층에 의해 채워질 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 절연층(110)의 상면 위에는 제2 절연층(120)이 배치된다. 이에 따라, 상기 제1 더미 패턴(140a)에 형성된 복수의 제1 개구(140h)는 상기 제1 절연층(110) 위에 배치되는 제2 절연층(120)에 의해 채워질 수 있다. The plurality of first openings (140h) formed in the first dummy pattern (140a) may be filled by an additionally laminated insulating layer. For example, a second insulating layer (120) is disposed on the upper surface of the first insulating layer (110). Accordingly, the plurality of first openings (140h) formed in the first dummy pattern (140a) may be filled by the second insulating layer (120) disposed on the first insulating layer (110).

한편, 제1 절연층(110)의 하면에는 제2 더미 패턴(150a)이 형성될 수 있다. 또한, 상기 제2 더미 패턴(150a)은 상호 이격되는 복수의 제2 개구(150h)를 포함할 수 있다. 상기 복수의 제2 개구(150h)는 상기 제1 절연층(110)의 하면을 노출할 수 있다. 즉, 상기 복수의 제2 개구(150h)는 상기 제2 더미 패턴(150a)의 상면 및 하면을 관통하며 형성될 수 있다. 상기 복수의 제2 개구(150h)는 도트 형태를 가질 수 있다. 즉, 상기 제2 더미 패턴(150a)은 도트 형태를 가지는 복수의 제2 개구(150h)를 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 제2 더미 패턴(150a)이 형성된 상태에서, 상기 복수의 제2 개구(150h)를 통해 상기 제1 절연층(110)의 하면은 노출될 수 있다. 그리고, 상기 제1 절연층(110)에 잔류하는 가스는 상기 제2 개구(150h)를 통해 디가싱(degassing)될 수 있다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 제1 절연층(110)에 잔류하는 가스를 디가싱함에 따라 열적 스트레스를 해소하여 신뢰성을 향상시킬 수 있다. Meanwhile, a second dummy pattern (150a) may be formed on the lower surface of the first insulating layer (110). In addition, the second dummy pattern (150a) may include a plurality of second openings (150h) that are spaced apart from each other. The plurality of second openings (150h) may expose the lower surface of the first insulating layer (110). That is, the plurality of second openings (150h) may be formed to penetrate the upper and lower surfaces of the second dummy pattern (150a). The plurality of second openings (150h) may have a dot shape. That is, the second dummy pattern (150a) may include a plurality of second openings (150h) having a dot shape. Accordingly, in a state in which the second dummy pattern (150a) is formed, the lower surface of the first insulating layer (110) may be exposed through the plurality of second openings (150h). In addition, the gas remaining in the first insulating layer (110) can be degassed through the second opening (150h). Accordingly, in the embodiment, by degassing the gas remaining in the first insulating layer (110), thermal stress can be relieved, thereby improving reliability.

한편, 제2 절연층(120)의 상면에는 제3 더미 패턴(160a)이 형성될 수 있다. 또한, 상기 제3 더미 패턴(160a)은 상호 이격되는 복수의 제3 개구(160h)를 포함할 수 있다. 상기 복수의 제3 개구(160h)는 상기 제2 절연층(120)의 상면을 노출할 수 있다. 즉, 상기 복수의 제3 개구(160h)는 상기 제3 더미 패턴(160a)의 상면 및 하면을 관통하며 형성될 수 있다. 상기 복수의 제3 개구(160h)는 도트 형태를 가질 수 있다. 즉, 상기 제3 더미 패턴(160a)은 도트 형태를 가지는 복수의 제3 개구(160h)를 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 제3 더미 패턴(160a)이 형성된 상태에서, 상기 복수의 제3 개구(160h)를 통해 상기 제2 절연층(120)의 상면은 노출될 수 있다. 그리고, 상기 제2 절연층(120)에 잔류하는 가스는 상기 제3 개구(160h)를 통해 디가싱(degassing)될 수 있다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 제2 절연층(120)에 잔류하는 가스를 디가싱함에 따라 열적 스트레스를 해소하여 신뢰성을 향상시킬 수 있다. Meanwhile, a third dummy pattern (160a) may be formed on the upper surface of the second insulating layer (120). In addition, the third dummy pattern (160a) may include a plurality of third openings (160h) that are spaced apart from each other. The plurality of third openings (160h) may expose the upper surface of the second insulating layer (120). That is, the plurality of third openings (160h) may be formed to penetrate the upper and lower surfaces of the third dummy pattern (160a). The plurality of third openings (160h) may have a dot shape. That is, the third dummy pattern (160a) may include a plurality of third openings (160h) having a dot shape. Accordingly, in a state in which the third dummy pattern (160a) is formed, the upper surface of the second insulating layer (120) may be exposed through the plurality of third openings (160h). In addition, the gas remaining in the second insulating layer (120) can be degassed through the third opening (160h). Accordingly, in the embodiment, by degassing the gas remaining in the second insulating layer (120), thermal stress can be relieved, thereby improving reliability.

한편, 제3 절연층(130)의 하면에는 제4 더미 패턴(170a)이 형성될 수 있다. 또한, 상기 제4 더미 패턴(170a)은 상호 이격되는 복수의 제4 개구(170h)를 포함할 수 있다. 상기 복수의 제4 개구(170h)는 상기 제3 절연층(130)의 하면을 노출할 수 있다. 즉, 상기 복수의 제4 개구(170h)는 상기 제4 더미 패턴(170a)의 상면 및 하면을 관통하며 형성될 수 있다. 상기 복수의 제4 개구(170h)는 도트 형태를 가질 수 있다. 즉, 상기 제4 더미 패턴(170a)은 도트 형태를 가지는 복수의 제4 개구(170h)를 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 제4 더미 패턴(170a)이 형성된 상태에서, 상기 복수의 제4 개구(170h)를 통해 상기 제3 절연층(130)의 하면은 노출될 수 있다. 그리고, 상기 제3 절연층(130)에 잔류하는 가스는 상기 제4 개구(170h)를 통해 디가싱(degassing)될 수 있다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 제3 절연층(130)에 잔류하는 가스를 디가싱함에 따라 열적 스트레스를 해소하여 신뢰성을 향상시킬 수 있다. Meanwhile, a fourth dummy pattern (170a) may be formed on the lower surface of the third insulating layer (130). In addition, the fourth dummy pattern (170a) may include a plurality of fourth openings (170h) that are spaced apart from each other. The plurality of fourth openings (170h) may expose the lower surface of the third insulating layer (130). That is, the plurality of fourth openings (170h) may be formed to penetrate the upper and lower surfaces of the fourth dummy pattern (170a). The plurality of fourth openings (170h) may have a dot shape. That is, the fourth dummy pattern (170a) may include a plurality of fourth openings (170h) having a dot shape. Accordingly, in a state in which the fourth dummy pattern (170a) is formed, the lower surface of the third insulating layer (130) may be exposed through the plurality of fourth openings (170h). In addition, the gas remaining in the third insulating layer (130) can be degassed through the fourth opening (170h). Accordingly, in the embodiment, by degassing the gas remaining in the third insulating layer (130), thermal stress can be relieved, thereby improving reliability.

한편, 상기 제3 더미 패턴(160a)에 형성된 복수의 제3 개구(160h)는 상기 제2 절연층(120) 위에 추가 적층되는 절연층에 의해 채워질 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 예를 들어, 상기 제2 절연층(120)이 인쇄회로기판의 최상측에 배치된 최외층 절연층인 경우, 상기 제3 개구(160h)는 오픈된 상태를 유지할 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 절연층(120)이 인쇄회로기판의 최상측에 배치된 최외층 절연층인 경우, 상기 제3 개구(160h)는 상기 제2 절연층(120) 위에 배치되는 솔더 레지스트층(미도시)에 의해 채워질 수 있다.Meanwhile, the plurality of third openings (160h) formed in the third dummy pattern (160a) may be filled by an insulating layer additionally laminated on the second insulating layer (120), but is not limited thereto. For example, when the second insulating layer (120) is the outermost insulating layer disposed on the uppermost side of the printed circuit board, the third openings (160h) may be maintained in an open state. For example, when the second insulating layer (120) is the outermost insulating layer disposed on the uppermost side of the printed circuit board, the third openings (160h) may be filled by a solder resist layer (not shown) disposed on the second insulating layer (120).

이와 마찬가지로, 상기 제4 더미 패턴(170a)에 형성된 복수의 제4 개구(170h)는 상기 제3 절연층(130) 아래에 추가 적층되는 절연층에 의해 채워질 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 예를 들어, 상기 제3 절연층(130)이 인쇄회로기판의 최하측에 배치된 최외층 절연층인 경우, 상기 제4 개구(170h)는 오픈된 상태를 유지할 수 있다. 예를 들어, 상기 제3 절연층(130)이 인쇄회로기판의 최하측에 배치된 최외층 절연층인 경우, 상기 제4 개구(170h)는 상기 제3 절연층(130) 아래에 배치되는 솔더 레지스트층(미도시)에 의해 채워질 수 있다.Likewise, the plurality of fourth openings (170h) formed in the fourth dummy pattern (170a) may be filled by an insulating layer additionally laminated under the third insulating layer (130), but is not limited thereto. For example, when the third insulating layer (130) is the outermost insulating layer disposed at the lowest side of the printed circuit board, the fourth openings (170h) may be maintained in an open state. For example, when the third insulating layer (130) is the outermost insulating layer disposed at the lowest side of the printed circuit board, the fourth openings (170h) may be filled by a solder resist layer (not shown) disposed under the third insulating layer (130).

상기와 같이, 실시 예에서는 절연층의 더미 영역에 대응하는 제1 영역(R1)에 더미 패턴이 형성되고, 상기 더미 패턴에 도트 형태를 가지는 복수의 개구를 형성한다. 그리고, 상기 복수의 개구는 절연층에 잔류하는 가스를 디가싱할 수 있도록 한다. 이에 따라 실시 예에서는 절연층과 회로 패턴층 사이에 가스를 제거하여 인쇄회로기판의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 예를 들어, 실시 예에서는 상기 절연층에 잔존하는 가스를 제거함에 따라, 절연층의 열적스트레스를 최소화할 수 있다. 예를 들어, 실시 예에서는 상기 절연층에 잔존하는 가스를 제거함에 따라 절연층으로부터 회로 패턴층이 탈락하는 신뢰성 문제를 해결할 수 있다. 또한, 실시 예에서는 상기와 같이 더미 패턴에 복수의 개구가 포함되도록 하여, 더미 패턴의 면적의 조절을 통해 회로 패턴층의 도금 편차를 개선할 수 있다.As described above, in the embodiment, a dummy pattern is formed in the first region (R1) corresponding to the dummy region of the insulating layer, and a plurality of openings having a dot shape are formed in the dummy pattern. In addition, the plurality of openings enable degassing of gas remaining in the insulating layer. Accordingly, in the embodiment, the reliability of the printed circuit board can be improved by removing gas between the insulating layer and the circuit pattern layer. For example, in the embodiment, by removing the gas remaining in the insulating layer, the thermal stress of the insulating layer can be minimized. For example, in the embodiment, the reliability problem of the circuit pattern layer being detached from the insulating layer can be solved by removing the gas remaining in the insulating layer. In addition, in the embodiment, by including a plurality of openings in the dummy pattern as described above, the plating deviation of the circuit pattern layer can be improved by controlling the area of the dummy pattern.

도 4는 실시 예에 따른 더미 패턴에 형성되는 개구의 형상의 변형 예이다.Fig. 4 is a variation example of the shape of an opening formed in a dummy pattern according to an embodiment.

먼저, 도 3을 참조하면, 상기 제1 더미 패턴(140a)에는 평면이 원형을 가지는 복수의 제1 개구(140h)가 형성될 수 있다.First, referring to FIG. 3, a plurality of first openings (140h) having a circular plane can be formed in the first dummy pattern (140a).

한편, 상기 제1 더미 패턴(140a)에 형성되는 제1 개구(140h)의 형상은 원형이 아닌 다른 형상을 가질 수도 있다. Meanwhile, the shape of the first opening (140h) formed in the first dummy pattern (140a) may have a shape other than a circle.

예를 들어, 도 4의 (a)에서와 같이, 제1 더미 패턴(140a)에 형성되는 제1 개구(140h-1)는 평면이 사각형일 수 있다. For example, as in (a) of FIG. 4, the first opening (140h-1) formed in the first dummy pattern (140a) may have a rectangular plane.

예를 들어, 도 4의 (b)에서와 같이, 제1 더미 패턴(140a)에 형성되는 제1 개구(140h-2)는 평면이 마름모일 수 있다.For example, as in (b) of FIG. 4, the first opening (140h-2) formed in the first dummy pattern (140a) may have a rhombus-shaped plane.

다만, 실시 예는 이에 한정되지 않으며, 더미 패턴에 형성되는 개구는 삼각형, 타원, 하트, 별, 부채 형상 등과 같은 다양한 형상으로 변경될 수 있을 것이다.However, the embodiment is not limited thereto, and the opening formed in the dummy pattern may be changed into various shapes such as a triangle, an ellipse, a heart, a star, a fan shape, etc.

이하에서는 도 1에 도시된 제1 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, a method for manufacturing a printed circuit board according to the first embodiment illustrated in FIG. 1 will be described.

도 5 내지 도 9는 도 1에 도시된 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정순으로 나타낸 도면이다.Figures 5 to 9 are drawings showing the manufacturing method of the printed circuit board illustrated in Figure 1 in process order.

도 5를 참조하면, 실시 예에서는 인쇄회로기판의 제조에 기초가 되는 제1 절연층(110)을 준비한다. Referring to FIG. 5, in the embodiment, a first insulating layer (110) that serves as the basis for manufacturing a printed circuit board is prepared.

제1 절연층(110)은 리지드(rigid)하거나 또는 플렉서블(flexible)할 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 절연층(110)은 유리 또는 플라스틱을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제1 절연층(110)은 소다라임유리(soda lime glass) 또는 알루미노실리케이트유리 등의 화학 강화/반강화유리를 포함하거나, 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 프로필렌 글리콜(propylene glycol, PPG) 폴리 카보네이트(PC) 등의 강화 혹은 연성 플라스틱을 포함하거나 사파이어를 포함할 수 있다.The first insulating layer (110) may be rigid or flexible. For example, the first insulating layer (110) may include glass or plastic. Specifically, the first insulating layer (110) may include chemically strengthened/semi-strengthened glass such as soda lime glass or aluminosilicate glass, or may include a strengthened or flexible plastic such as polyimide (PI), polyethylene terephthalate (PET), propylene glycol (PPG), polycarbonate (PC), or may include sapphire.

또한, 상기 제1 절연층(110)은 광등방성 필름을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제1 절연층(110)은 COC(Cyclic Olefin Copolymer), COP(Cyclic Olefin Polymer), 광등방 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 또는 광등방 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등을 포함할 수 있다.In addition, the first insulating layer (110) may include an optically isotropic film. For example, the first insulating layer (110) may include a cyclic olefin copolymer (COC), a cyclic olefin polymer (COP), an optically isotropic polycarbonate (PC), or an optically isotropic polymethyl methacrylate (PMMA).

또한, 상기 제1 절연층(110)은 부분적으로 곡면을 가지면서 휘어질 수 있다. 즉, 제1 절연층(110)은 부분적으로는 평면을 가지고, 부분적으로는 곡면을 가지면서 휘어질 수 있다. 자세하게, 상기 제1 절연층(110)은 끝단이 곡면을 가지면서 휘어지거나 랜덤한 곡률을 포함한 표면을 가지며 휘어지거나 구부러질 수 있다.In addition, the first insulating layer (110) may be bent while having a partially curved surface. That is, the first insulating layer (110) may be bent while having a partially flat surface and a partially curved surface. In detail, the first insulating layer (110) may be bent while having a curved surface at the end, or may be bent or curved while having a surface including a random curvature.

다음으로, 도 6을 참조하면, 실시 예에서는 제1 절연층(110)의 상면에 제1 회로 패턴층을 형성하고, 제1 절연층(110)의 하면에 제2 회로 패턴층을 형성하며, 상기 제1 절연층(110) 내에 제1 비아(V1)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다.Next, referring to FIG. 6, in the embodiment, a process of forming a first circuit pattern layer on the upper surface of the first insulating layer (110), forming a second circuit pattern layer on the lower surface of the first insulating layer (110), and forming a first via (V1) within the first insulating layer (110) may be performed.

상기 제1 회로 패턴층 및 제2 회로 패턴층 각각은, 무전해 도금을 통해 형성되는 화학동도금층과, 상기 화학동도금층을 시드층으로 도금하여 형성된 전해 도금층을 포함할 수 있다.Each of the first circuit pattern layer and the second circuit pattern layer may include a chemical copper plating layer formed through electroless plating, and an electrolytic plating layer formed by plating the chemical copper plating layer as a seed layer.

이때, 상기 제1 회로 패턴층 및 상기 제2 회로 패턴층 각각은, 제1 절연층(110)의 제1 영역(R1) 및 제2 영역(R2)에 각각 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 회로 패턴층은 제1 절연층(110)의 제1 영역(R1)에 형성된 제1 더미 패턴(140a) 및 제2 영역(R2)에 형성된 제1 유효 패턴(140b)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 회로 패턴층은 상기 제1 절연층(110)의 제1 영역(R1)에 형성된 제2 더미 패턴(150a) 및 제2 영역(R2)에 형성된 제2 유효 패턴(150b)을 포함할 수 있다.At this time, the first circuit pattern layer and the second circuit pattern layer may be formed in the first region (R1) and the second region (R2) of the first insulating layer (110), respectively. For example, the first circuit pattern layer may include a first dummy pattern (140a) formed in the first region (R1) of the first insulating layer (110) and a first effective pattern (140b) formed in the second region (R2). For example, the second circuit pattern layer may include a second dummy pattern (150a) formed in the first region (R1) of the first insulating layer (110) and a second effective pattern (150b) formed in the second region (R2).

한편, 상기 형성된 제1 더미 패턴(140a)은 상기 제1 절연층(110)의 제1 영역(R1)의 상면을 전체적으로 덮으며 형성될 수 있다. 또한, 상기 제2 더미 패턴(150a)은 상기 제1 절연층(110)의 제1 영역(R1)의 하면을 전체적으로 덮으며 형성될 수 있다.Meanwhile, the first dummy pattern (140a) formed above may be formed to entirely cover the upper surface of the first region (R1) of the first insulating layer (110). In addition, the second dummy pattern (150a) may be formed to entirely cover the lower surface of the first region (R1) of the first insulating layer (110).

다음으로, 도 7을 참조하면, 실시 예에서는 상기 제1 더미 패턴(140a)에 상호 이격되는 복수의 제1 개구(140h)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 또한, 실시 예에서는 상기 제2 더미 패턴(150a)에 상호 이격되는 복수의 제2 개구(150h)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 상기 제1 개구(140h) 및 제2 개구(150h)는 각각 제1 직경(D1)을 가지면서 상호 제1 간격(D2)을 가지고 이격될 수 있다. 상기 복수의 제1 개구(140h) 및 제2 개구(150h)는 각각 도트 형태를 가질 수 있다.Next, referring to FIG. 7, in the embodiment, a process of forming a plurality of first openings (140h) that are spaced apart from each other in the first dummy pattern (140a) may be performed. In addition, in the embodiment, a process of forming a plurality of second openings (150h) that are spaced apart from each other in the second dummy pattern (150a) may be performed. The first openings (140h) and the second openings (150h) may each have a first diameter (D1) and may be spaced apart from each other by a first gap (D2). The plurality of first openings (140h) and the second openings (150h) may each have a dot shape.

다음으로, 도 8를 참조하면, 실시 예에서는 제1 절연층(110)의 상면에 제2 절연층(120)을 형성하고, 제1 절연층(110)의 하면에 제3 절연층(130)을 형성하는 공정을 진행할 수 있다.Next, referring to FIG. 8, in the embodiment, a process of forming a second insulating layer (120) on the upper surface of the first insulating layer (110) and forming a third insulating layer (130) on the lower surface of the first insulating layer (110) may be performed.

이때, 상기 제1 더미 패턴(140a)에 형성된 복수의 제1 개구(140h)는 상기 적층되는 제2 절연층(120)에 의해 채워질 수 있다. At this time, the plurality of first openings (140h) formed in the first dummy pattern (140a) can be filled by the second insulating layer (120) that is laminated.

또한, 상기 제2 더미 패턴(150a)에 형성된 복수의 제2 개구(150h)는 상기 적층되는 제3 절연층(130)에 의해 채워질 수 있다.Additionally, a plurality of second openings (150h) formed in the second dummy pattern (150a) can be filled by the third insulating layer (130) that is laminated.

그리고, 실시 예에서는 상기 제2 절연층(120)의 상면에 제3 회로 패턴층을 형성하고, 상기 제3 절연층(130)의 하면에 제4 회로 패턴층을 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 또한, 실시 예에서는 상기 제2 절연층(120) 내에 제2 비아(V2)를 형성하고, 상기 제3 절연층(130) 내에 제3 비아(V3)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다.And, in the embodiment, a process of forming a third circuit pattern layer on the upper surface of the second insulating layer (120) and forming a fourth circuit pattern layer on the lower surface of the third insulating layer (130) may be performed. In addition, in the embodiment, a process of forming a second via (V2) in the second insulating layer (120) and forming a third via (V3) in the third insulating layer (130) may be performed.

상기 제3 회로 패턴층 및 제4 회로 패턴층 각각은, 무전해 도금을 통해 형성되는 화학동도금층과, 상기 화학동도금층을 시드층으로 도금하여 형성된 전해 도금층을 포함할 수 있다.Each of the third circuit pattern layer and the fourth circuit pattern layer may include a chemical copper plating layer formed through electroless plating, and an electrolytic plating layer formed by plating the chemical copper plating layer as a seed layer.

이때, 상기 제3 회로 패턴층 및 상기 제4 회로 패턴층 각각은, 제2 절연층(120) 및 제3 절연층(130)의 제1 영역(R1) 및 제2 영역(R2)에 각각 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제3 회로 패턴층은 제2 절연층(120)의 제1 영역(R1)에 형성된 제3 더미 패턴(160a) 및 제2 영역(R2)에 형성된 제3 유효 패턴(160b)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제4 회로 패턴층은 상기 제3 절연층(130)의 제1 영역(R1)에 형성된 제4 더미 패턴(170a) 및 제2 영역(R2)에 형성된 제4 유효 패턴(170b)을 포함할 수 있다.At this time, the third circuit pattern layer and the fourth circuit pattern layer may be formed in the first region (R1) and the second region (R2) of the second insulating layer (120) and the third insulating layer (130), respectively. For example, the third circuit pattern layer may include a third dummy pattern (160a) formed in the first region (R1) of the second insulating layer (120) and a third effective pattern (160b) formed in the second region (R2). For example, the fourth circuit pattern layer may include a fourth dummy pattern (170a) formed in the first region (R1) of the third insulating layer (130) and a fourth effective pattern (170b) formed in the second region (R2).

한편, 상기 형성된 제3 더미 패턴(160a)은 상기 제2 절연층(120)의 제1 영역(R1)의 상면을 전체적으로 덮으며 형성될 수 있다. 또한, 상기 제4 더미 패턴(170a)은 상기 제3 절연층(130)의 제1 영역(R1)의 하면을 전체적으로 덮으며 형성될 수 있다.Meanwhile, the third dummy pattern (160a) formed above may be formed to entirely cover the upper surface of the first region (R1) of the second insulating layer (120). In addition, the fourth dummy pattern (170a) may be formed to entirely cover the lower surface of the first region (R1) of the third insulating layer (130).

다음으로, 도 9를 참조하면, 실시 예에서는 상기 제3 더미 패턴(160a)에 상호 이격되는 복수의 제3 개구(160h)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 또한, 실시 예에서는 상기 제4 더미 패턴(170a)에 상호 이격되는 복수의 제4 개구(170h)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 상기 제3 개구(160h) 및 제4 개구(170h)는 각각 제1 직경(D1)을 가지면서 상호 제1 간격(D2)을 가지고 이격될 수 있다. 상기 복수의 제3 개구(160h) 및 제4 개구(170h)는 각각 도트 형태를 가질 수 있다.Next, referring to FIG. 9, in the embodiment, a process of forming a plurality of third openings (160h) that are spaced apart from each other in the third dummy pattern (160a) may be performed. In addition, in the embodiment, a process of forming a plurality of fourth openings (170h) that are spaced apart from each other in the fourth dummy pattern (170a) may be performed. The third openings (160h) and the fourth openings (170h) may each have a first diameter (D1) and may be spaced apart from each other by a first gap (D2). The plurality of third openings (160h) and the fourth openings (170h) may each have a dot shape.

상기와 같이 제1 실시 예에서는 절연층의 표면에 배치되는 더미 패턴에 개구를 형성하는 것에 의해, 상기 절연층에 잔류하는 가스를 디가싱하였다. 그러나, 이와 같은 경우, 상기 절연층에 잔류하는 가스가 완전히 디가싱되지 않는 상황이 발생할 수 있다. 이는, 상기 더미 패턴을 형성하는 화학동도금 공정에서, 상기 절연층의 내부로 상기 가스가 침투하는 상황이 발생할 수 있고, 이에 따라 상기 더미 패턴에 개구를 형성하는 것만으로 상기 절연층 내부로 침투한 가스를 완전히 디가싱하기 어렵기 때문이다. 이에 따라, 실시 예에서는 디가싱을 위한 개구를 패턴 형태가 아닌 비아 형태로 형성하여, 상기 절연층에 잔류하는 가수를 완전히 제거할 수 있도록 한다.As described above, in the first embodiment, the gas remaining in the insulating layer was degassed by forming an opening in a dummy pattern arranged on the surface of the insulating layer. However, in such a case, a situation may arise where the gas remaining in the insulating layer is not completely degassed. This is because, in the chemical copper plating process for forming the dummy pattern, a situation may arise where the gas penetrates into the insulating layer, and thus, it is difficult to completely degas the gas that has penetrated into the insulating layer simply by forming an opening in the dummy pattern. Accordingly, in the embodiment, the opening for degassing is formed in a via shape rather than a pattern shape, so that the gas remaining in the insulating layer can be completely removed.

도 10은 제2 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.Figure 10 is a drawing showing a printed circuit board according to the second embodiment.

도 10을 참조하면, 제2 실시 예에 따른 인쇄회로기판은 제1 절연층(210), 제2 절연층(220), 제3 절연층(230), 회로 패턴층(240a, 240b, 250a, 250b, 260a, 260b, 270a, 270b) 및 비아(V1, V2, V3)를 포함한다.Referring to FIG. 10, a printed circuit board according to the second embodiment includes a first insulating layer (210), a second insulating layer (220), a third insulating layer (230), circuit pattern layers (240a, 240b, 250a, 250b, 260a, 260b, 270a, 270b) and vias (V1, V2, V3).

여기에서, 도 10의 설명에 앞서, 도 1에 도시된 제1 실시 예의 인쇄회로기판과 실질적으로 동일한 구성에 대해서는 설명을 생략하기로 한다.Here, prior to the description of Fig. 10, the description of the configuration that is substantially the same as the printed circuit board of the first embodiment illustrated in Fig. 1 will be omitted.

도 1에서는, 디가싱을 위한 개구가 더미 패턴에만 형성되었다. 이와 다르게, 도 10에서와 같이, 디가싱을 위한 개구는 더미 패턴뿐 아니라, 절연층에도 형성될 수 있다. 이에 의해, 도 10에서와 같은 제2 실시 예에 따른 디가싱을 위한 개구는 더미 패턴에 형성되는 제1 부분과, 절연층에 형성되는 제2 부분으로 분될 수 있다. In Fig. 1, the opening for degassing was formed only in the dummy pattern. In contrast, as in Fig. 10, the opening for degassing may be formed not only in the dummy pattern but also in the insulating layer. Accordingly, the opening for degassing according to the second embodiment, as in Fig. 10, may be divided into a first portion formed in the dummy pattern and a second portion formed in the insulating layer.

구체적으로, 제1 회로 패턴층은, 제1 절연층(210)의 상면의 제1 영역(R1)에 배치된 제1 더미 패턴(240a)과, 제2 영역(R2)에 배치된 제1 유효 패턴(240b)을 포함할 수 있다. Specifically, the first circuit pattern layer may include a first dummy pattern (240a) arranged in a first region (R1) of the upper surface of the first insulating layer (210) and a first effective pattern (240b) arranged in a second region (R2).

또한, 제2 회로 패턴층은 제1 절연층(210)의 하면의 제1 영역(R1)에 배치된 제2 더미 패턴(250a)과, 제2 영역(R2)에 배치된 제2 유효 패턴(250b)을 포함할 수 있다.Additionally, the second circuit pattern layer may include a second dummy pattern (250a) arranged in a first region (R1) on the lower surface of the first insulating layer (210) and a second effective pattern (250b) arranged in a second region (R2).

또한, 제3 회로 패턴층은 제2 절연층(220)의 상면의 제1 영역(R1)에 배치된 제3 더미 패턴(260a)과, 제2 영역(R2)에 배치된 제3 유효 패턴(260b)을 포함할 수 있다.Additionally, the third circuit pattern layer may include a third dummy pattern (260a) arranged in a first region (R1) on the upper surface of the second insulating layer (220) and a third effective pattern (260b) arranged in a second region (R2).

또한, 제4 회로 패턴층은 제3 절연층(230)의 하면의 제1 영역(R1)에 배치된 제4 더미 패턴(270a)과, 제2 영역(R2)에 배치된 제4 유효 패턴(270b)을 포함할 수 있다. Additionally, the fourth circuit pattern layer may include a fourth dummy pattern (270a) arranged in the first region (R1) of the lower surface of the third insulating layer (230) and a fourth effective pattern (270b) arranged in the second region (R2).

한편, 제2 실시 예에서는, 절연층의 제1 영역(R1)과, 상기 제1 영역(R1)에 배치된 더미 패턴에 디가싱을 위한 개구가 형성된다. 한편, 이하에서의 디가싱을 위한 제1 내지 제4 개구는 각각 디가싱부라고도 할 수 있다.Meanwhile, in the second embodiment, openings for degassing are formed in the first region (R1) of the insulating layer and the dummy pattern arranged in the first region (R1). Meanwhile, the first to fourth openings for degassing described below may each be referred to as degassing sections.

구체적으로, 제1 절연층(210)과 제1 더미 패턴(240a)에는 제1 개구(240h)가 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 개구(240h)는 상기 제1 더미 패턴(240a)의 상면 및 하면을 관통하며 형성된 제1-1 부분(240h-1)을 포함할 수 있다. 상기 제1 개구(240h)의 제1-1 부분(240h-1)은 도 1 및 도 3을 참조하여 설명한 제1 개구(140h)와 실질적으로 동일할 수 있다. 또한, 상기 제1 개구(240h)는 상기 제1-1 부분(240h-1)과 연결되고, 상기 제1 절연층(210)에 형성된 제1-2 부분(240h-2)을 포함할 수 있다. 상기 제1 절연층(210)에 형성된 제1-2 부분(240h-2)은 상기 제1 절연층(210)을 관통하는 구조일 수 있으며, 이와 다르게 비관통하는 구조일 수 있다. 상기와 같이 실시 예에서는 디가싱을 위한 제1 개구(240h)가 상기 제1 더미 패턴(240a)에 형성된 제1-1 부분(240h-1)과, 상기 제1 절연층(210)에 형성된 제1-2 부분(240h-2)을 포함하는 구조를 가진다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 제1 절연층(210) 내로 침투한 가스까지 완전하게 제거할 수 있으며, 이에 따른 신뢰성을 향상시킬 수 있다.Specifically, a first opening (240h) may be formed in the first insulating layer (210) and the first dummy pattern (240a). For example, the first opening (240h) may include a 1-1 portion (240h-1) formed to penetrate the upper and lower surfaces of the first dummy pattern (240a). The 1-1 portion (240h-1) of the first opening (240h) may be substantially the same as the first opening (140h) described with reference to FIGS. 1 and 3. In addition, the first opening (240h) may be connected to the 1-1 portion (240h-1) and include a 1-2 portion (240h-2) formed in the first insulating layer (210). The first-second portion (240h-2) formed on the first insulating layer (210) may have a structure that penetrates the first insulating layer (210), or alternatively, may have a non-penetrating structure. As described above, in the embodiment, the first opening (240h) for degassing has a structure including the first-first portion (240h-1) formed on the first dummy pattern (240a) and the first-second portion (240h-2) formed on the first insulating layer (210). Accordingly, in the embodiment, even the gas that has penetrated into the first insulating layer (210) can be completely removed, thereby improving reliability.

또한, 제1 절연층(210)과 제2 더미 패턴(250a)에는 제2 개구(250h)가 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 개구(250h)는 상기 제2 더미 패턴(250a)의 상면 및 하면을 관통하며 형성된 제2-1 부분(250h-1)을 포함할 수 있다. 상기 제2 개구(250h)의 제2-1 부분(250h-1)은 도 1 및 도 3을 참조하여 설명한 제2 개구(150h)와 실질적으로 동일할 수 있다. 또한, 상기 제2 개구(250h)는 상기 제2-1 부분(250h-1)과 연결되고, 상기 제1 절연층(210)에 형성된 제2-2 부분(250h-2)을 포함할 수 있다. 상기 제1 절연층(210)에 형성된 제2-2 부분(250h-2)은 상기 제1 절연층(210)을 관통하는 구조일 수 있으며, 이와 다르게 비관통하는 구조일 수 있다. 상기와 같이 실시 예에서는 디가싱을 위한 제2 개구(250h)가 상기 제2 더미 패턴(250a)에 형성된 제2-1 부분(250h-1)과, 상기 제1 절연층(210)에 형성된 제2-2 부분(250h-2)을 포함하는 구조를 가진다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 제1 절연층(210) 내로 침투한 가스까지 완전하게 제거할 수 있으며, 이에 따른 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, a second opening (250h) may be formed in the first insulating layer (210) and the second dummy pattern (250a). For example, the second opening (250h) may include a 2-1 portion (250h-1) formed to penetrate the upper and lower surfaces of the second dummy pattern (250a). The 2-1 portion (250h-1) of the second opening (250h) may be substantially the same as the second opening (150h) described with reference to FIGS. 1 and 3. In addition, the second opening (250h) may be connected to the 2-1 portion (250h-1) and include a 2-2 portion (250h-2) formed in the first insulating layer (210). The second-second portion (250h-2) formed on the first insulating layer (210) may have a structure that penetrates the first insulating layer (210), or alternatively, may have a non-penetrating structure. As described above, in the embodiment, the second opening (250h) for degassing has a structure including the second-first portion (250h-1) formed on the second dummy pattern (250a), and the second-second portion (250h-2) formed on the first insulating layer (210). Accordingly, in the embodiment, even the gas that has penetrated into the first insulating layer (210) can be completely removed, thereby improving reliability.

또한, 제2 절연층(220)과 제3 더미 패턴(260a)에는 제3 개구(260h)가 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제3 개구(260h)는 상기 제3 더미 패턴(260a)의 상면 및 하면을 관통하며 형성된 제3-1 부분(260h-1)을 포함할 수 있다. 상기 제3 개구(260h)의 제3-1 부분(260h-1)은 도 1 및 도 3을 참조하여 설명한 제3 개구(160h)와 실질적으로 동일할 수 있다. 또한, 상기 제3 개구(260h)는 상기 제3-1 부분(260h-1)과 연결되고, 상기 제2 절연층(220)에 형성된 제3-2 부분(260h-2)을 포함할 수 있다. 상기 제2 절연층(220)에 형성된 제3-2 부분(260h-2)은 상기 제2 절연층(220)을 관통하는 구조일 수 있으며, 이와 다르게 비관통하는 구조일 수 있다. 상기와 같이 실시 예에서는 디가싱을 위한 제3 개구(260h)가 상기 제3 더미 패턴(260a)에 형성된 제3-1 부분(260h-1)과, 상기 제2 절연층(220)에 형성된 제3-2 부분(260h-2)을 포함하는 구조를 가진다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 제2 절연층(220) 내로 침투한 가스까지 완전하게 제거할 수 있으며, 이에 따른 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, a third opening (260h) may be formed in the second insulating layer (220) and the third dummy pattern (260a). For example, the third opening (260h) may include a 3-1 portion (260h-1) formed to penetrate the upper and lower surfaces of the third dummy pattern (260a). The 3-1 portion (260h-1) of the third opening (260h) may be substantially the same as the third opening (160h) described with reference to FIGS. 1 and 3. In addition, the third opening (260h) may be connected to the 3-1 portion (260h-1) and include a 3-2 portion (260h-2) formed in the second insulating layer (220). The 3-2 portion (260h-2) formed on the second insulating layer (220) may have a structure that penetrates the second insulating layer (220), or alternatively, may have a non-penetrating structure. As described above, in the embodiment, the third opening (260h) for degassing has a structure including the 3-1 portion (260h-1) formed on the third dummy pattern (260a), and the 3-2 portion (260h-2) formed on the second insulating layer (220). Accordingly, in the embodiment, even the gas that has penetrated into the second insulating layer (220) can be completely removed, thereby improving reliability.

또한, 제3 절연층(230)과 제4 더미 패턴(270a)에는 제4 개구(270h)가 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제4 개구(270h)는 상기 제4 더미 패턴(270a)의 상면 및 하면을 관통하며 형성된 제4-1 부분(270h-1)을 포함할 수 있다. 상기 제4 개구(270h)의 제4-1 부분(270h-1)은 도 1 및 도 3을 참조하여 설명한 제4 개구(170h)와 실질적으로 동일할 수 있다. 또한, 상기 제4 개구(270h)는 상기 제4-1 부분(270h-1)과 연결되고, 상기 제3 절연층(230)에 형성된 제4-2 부분(270h-2)을 포함할 수 있다. 상기 제3 절연층(230)에 형성된 제4-2 부분(270h-2)은 상기 제3 절연층(230)을 관통하는 구조일 수 있으며, 이와 다르게 비관통하는 구조일 수 있다. 상기와 같이 실시 예에서는 디가싱을 위한 제4 개구(270h)가 상기 제4 더미 패턴(270a)에 형성된 제4-1 부분(270h-1)과, 상기 제3 절연층(230)에 형성된 제4-2 부분(270h-2)을 포함하는 구조를 가진다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 제3 절연층(230) 내로 침투한 가스까지 완전하게 제거할 수 있으며, 이에 따른 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, a fourth opening (270h) may be formed in the third insulating layer (230) and the fourth dummy pattern (270a). For example, the fourth opening (270h) may include a 4-1 portion (270h-1) formed to penetrate the upper and lower surfaces of the fourth dummy pattern (270a). The 4-1 portion (270h-1) of the fourth opening (270h) may be substantially the same as the fourth opening (170h) described with reference to FIGS. 1 and 3. In addition, the fourth opening (270h) may be connected to the 4-1 portion (270h-1) and include a 4-2 portion (270h-2) formed in the third insulating layer (230). The 4-2 portion (270h-2) formed on the third insulating layer (230) may have a structure that penetrates the third insulating layer (230), or alternatively, may have a non-penetrating structure. As described above, in the embodiment, the fourth opening (270h) for degassing has a structure including the 4-1 portion (270h-1) formed on the fourth dummy pattern (270a) and the 4-2 portion (270h-2) formed on the third insulating layer (230). Accordingly, in the embodiment, even the gas that has penetrated into the third insulating layer (230) can be completely removed, thereby improving reliability.

한편, 상기와 같은 개구는 절연층의 적층 공정에서 빌드업 절연층에 의해 채워질 수 있다. 예를 들어, 제1 개구(240h)의 제1-1 부분(240h-1) 및 제1-2 부분(240h-2)은 제2 절연층(220)에 의해 채워질 수 있다. 예를 들어, 제2 개구(250h)의 제2-1 부분(250h-1) 및 제2-2 부분(250h-2)은 제3 절연층(230)에 의해 채워질 수 있다. Meanwhile, the above-described openings may be filled with a build-up insulating layer during the lamination process of the insulating layer. For example, the first-first portion (240h-1) and the first-second portion (240h-2) of the first opening (240h) may be filled with the second insulating layer (220). For example, the second-first portion (250h-1) and the second-second portion (250h-2) of the second opening (250h) may be filled with the third insulating layer (230).

한편, 상기 제3 개구(260h)의 제3-1 부분(260h-1) 및 제3-2 부분(260h-2)은 추가 빌드업 절연층에 의해 채워질 수 있으며, 이와 다르게 솔더 레지스트층에 의해 채워질 수 있다. 이와 마찬가지로, 제4 개구(270h)의 제4-1 부분(270h-1) 및 제4-2 부분(270-2)은 추가 빌드업 절연층에 의해 채워질 수 있으며, 이와 다르게 솔더 레지스트층에 의해 채워질 수 있다.Meanwhile, the 3-1 portion (260h-1) and the 3-2 portion (260h-2) of the third opening (260h) may be filled with an additional build-up insulating layer, or alternatively, may be filled with a solder resist layer. Similarly, the 4-1 portion (270h-1) and the 4-2 portion (270-2) of the fourth opening (270h) may be filled with an additional build-up insulating layer, or alternatively, may be filled with a solder resist layer.

이하에서는 도 10에 도시된 제2 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 제조 공정에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, a manufacturing process of a printed circuit board according to the second embodiment illustrated in FIG. 10 will be described.

도 11 내지 도 14는 도 10에 도시된 인쇄회로기판의 제조 방법을 공정순으로 나타낸 도면이다.Figures 11 to 14 are drawings showing the manufacturing method of the printed circuit board illustrated in Figure 10 in process order.

도 11을 참조하면, 실시 예에서는 인쇄회로기판의 제조에 기초가 되는 제1 절연층(210)을 준비한다. Referring to FIG. 11, in the embodiment, a first insulating layer (210) that serves as the basis for manufacturing a printed circuit board is prepared.

그리고, 실시 예에서는 제1 절연층(210)의 상면에 제1 회로 패턴층을 형성하고, 제1 절연층(210)의 하면에 제2 회로 패턴층을 형성하며, 상기 제1 절연층(210) 내에 제1 비아(V1)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다.And, in the embodiment, a process of forming a first circuit pattern layer on the upper surface of the first insulating layer (210), forming a second circuit pattern layer on the lower surface of the first insulating layer (210), and forming a first via (V1) within the first insulating layer (210) can be performed.

상기 제1 회로 패턴층 및 제2 회로 패턴층 각각은, 무전해 도금을 통해 형성되는 화학동도금층과, 상기 화학동도금층을 시드층으로 도금하여 형성된 전해 도금층을 포함할 수 있다.Each of the first circuit pattern layer and the second circuit pattern layer may include a chemical copper plating layer formed through electroless plating, and an electrolytic plating layer formed by plating the chemical copper plating layer as a seed layer.

이때, 상기 제1 회로 패턴층 및 상기 제2 회로 패턴층 각각은, 제1 절연층(210)의 제1 영역(R1) 및 제2 영역(R2)에 각각 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 회로 패턴층은 제1 절연층(210)의 제1 영역(R1)에 형성된 제1 더미 패턴(240a) 및 제2 영역(R2)에 형성된 제1 유효 패턴(240b)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 회로 패턴층은 상기 제1 절연층(210)의 제1 영역(R1)에 형성된 제2 더미 패턴(250a) 및 제2 영역(R2)에 형성된 제2 유효 패턴(250b)을 포함할 수 있다.At this time, the first circuit pattern layer and the second circuit pattern layer may be formed in the first region (R1) and the second region (R2) of the first insulating layer (210), respectively. For example, the first circuit pattern layer may include a first dummy pattern (240a) formed in the first region (R1) of the first insulating layer (210) and a first effective pattern (240b) formed in the second region (R2). For example, the second circuit pattern layer may include a second dummy pattern (250a) formed in the first region (R1) of the first insulating layer (210) and a second effective pattern (250b) formed in the second region (R2).

한편, 상기 형성된 제1 더미 패턴(240a)은 상기 제1 절연층(210)의 제1 영역(R1)의 상면을 전체적으로 덮으며 형성될 수 있다. 또한, 상기 제2 더미 패턴(250a)은 상기 제1 절연층(210)의 제1 영역(R1)의 하면을 전체적으로 덮으며 형성될 수 있다.Meanwhile, the first dummy pattern (240a) formed above may be formed to entirely cover the upper surface of the first region (R1) of the first insulating layer (210). In addition, the second dummy pattern (250a) may be formed to entirely cover the lower surface of the first region (R1) of the first insulating layer (210).

다음으로, 도 12을 참조하면, 실시 예에서는 제1 개구(240h) 및 제2 개구(250h)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다.Next, referring to FIG. 12, in the embodiment, a process of forming a first opening (240h) and a second opening (250h) can be performed.

예를 들어, 실시 예에서는 상기 제1 더미 패턴(240a)에 제1 개구(240h)의 제1-1 부분(240h-1)을 형성하고, 상기 제1-1 부분(240h-1)과 연결되도록 상기 제1 절연층(210)에 제1 개구(240h)의 제1-2 부분(240h-2)을 형성할 수 있다.For example, in the embodiment, a first-first portion (240h-1) of a first opening (240h) may be formed in the first dummy pattern (240a), and a first-second portion (240h-2) of a first opening (240h) may be formed in the first insulating layer (210) so as to be connected to the first-first portion (240h-1).

또한, 실시 예에서는 상기 제2 더미 패턴(250a)에 제2 개구(250h)의 제2-1 부분(250h-1)을 형성하고, 상기 제2-1 부분(250h-1)과 연결되도록 상기 제1 절연층(210)에 제2 개구(250h)의 제2-2 부분(250h-2)을 형성할 수 있다.In addition, in the embodiment, a second-first portion (250h-1) of a second opening (250h) may be formed in the second dummy pattern (250a), and a second-second portion (250h-2) of a second opening (250h) may be formed in the first insulating layer (210) so as to be connected to the second-first portion (250h-1).

한편, 상기에서는 제1 개구(240h) 및 제2 개구(250h) 중 제1 절연층(210)에 형성되는 부분이 복수의 부분으로 구분되는 것으로 하였으나, 이에 한정되지는 않는다. 예를 들어, 제1 개구(240h)의 제1-2 부분(240h-2)은 도면에 도시한 제2 개구(250h)의 제2-2 부분(250h-2)까지 포함할 수 있다. 즉, 상기 제1-2 부분(240h-2) 및 제2-2 부분(250h-2)은 일체로 형성한 하나의 부분일 수도 있을 것이다.Meanwhile, in the above, the portion formed in the first insulating layer (210) among the first opening (240h) and the second opening (250h) is divided into multiple portions, but is not limited thereto. For example, the first-second portion (240h-2) of the first opening (240h) may include the second-second portion (250h-2) of the second opening (250h) illustrated in the drawing. In other words, the first-second portion (240h-2) and the second-second portion (250h-2) may be formed as one integral portion.

다음으로, 도 13를 참조하면, 실시 예에서는 제1 절연층(210)의 상면에 제2 절연층(220)을 형성하고, 제1 절연층(210)의 하면에 제3 절연층(230)을 형성하는 공정을 진행할 수 있다.Next, referring to FIG. 13, in the embodiment, a process of forming a second insulating layer (220) on the upper surface of the first insulating layer (210) and forming a third insulating layer (230) on the lower surface of the first insulating layer (210) may be performed.

이때, 상기 제1 더미 패턴(240a) 및 제1 절연층(210)에 형성된 제1 개구(240h)는 상기 적층되는 제2 절연층(220)에 의해 채워질 수 있다. At this time, the first dummy pattern (240a) and the first opening (240h) formed in the first insulating layer (210) can be filled by the second insulating layer (220) that is laminated.

또한, 상기 제2 더미 패턴(250a) 및 제1 절연층(210)에 형성된 복수의 제2 개구(250h)는 상기 적층되는 제3 절연층(230)에 의해 채워질 수 있다.Additionally, the second dummy pattern (250a) and the plurality of second openings (250h) formed in the first insulating layer (210) can be filled by the third insulating layer (230) that is laminated.

그리고, 실시 예에서는 상기 제2 절연층(220)의 상면에 제3 회로 패턴층을 형성하고, 상기 제3 절연층(230)의 하면에 제4 회로 패턴층을 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 또한, 실시 예에서는 상기 제2 절연층(220) 내에 제2 비아(V2)를 형성하고, 상기 제3 절연층(230) 내에 제3 비아(V3)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다.And, in the embodiment, a process of forming a third circuit pattern layer on the upper surface of the second insulating layer (220) and forming a fourth circuit pattern layer on the lower surface of the third insulating layer (230) may be performed. In addition, in the embodiment, a process of forming a second via (V2) in the second insulating layer (220) and forming a third via (V3) in the third insulating layer (230) may be performed.

상기 제3 회로 패턴층 및 제4 회로 패턴층 각각은, 무전해 도금을 통해 형성되는 화학동도금층과, 상기 화학동도금층을 시드층으로 도금하여 형성된 전해 도금층을 포함할 수 있다.Each of the third circuit pattern layer and the fourth circuit pattern layer may include a chemical copper plating layer formed through electroless plating, and an electrolytic plating layer formed by plating the chemical copper plating layer as a seed layer.

이때, 상기 제3 회로 패턴층 및 상기 제4 회로 패턴층 각각은, 제2 절연층(220) 및 제3 절연층(230)의 제1 영역(R1) 및 제2 영역(R2)에 각각 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제3 회로 패턴층은 제2 절연층(220)의 제1 영역(R1)에 형성된 제3 더미 패턴(260a) 및 제2 영역(R2)에 형성된 제3 유효 패턴(260b)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제4 회로 패턴층은 상기 제3 절연층(230)의 제1 영역(R1)에 형성된 제4 더미 패턴(270a) 및 제2 영역(R2)에 형성된 제4 유효 패턴(270b)을 포함할 수 있다.At this time, the third circuit pattern layer and the fourth circuit pattern layer may be formed in the first region (R1) and the second region (R2) of the second insulating layer (220) and the third insulating layer (230), respectively. For example, the third circuit pattern layer may include a third dummy pattern (260a) formed in the first region (R1) of the second insulating layer (220) and a third effective pattern (260b) formed in the second region (R2). For example, the fourth circuit pattern layer may include a fourth dummy pattern (270a) formed in the first region (R1) of the third insulating layer (230) and a fourth effective pattern (270b) formed in the second region (R2).

한편, 상기 형성된 제3 더미 패턴(260a)은 상기 제2 절연층(220)의 제1 영역(R1)의 상면을 전체적으로 덮으며 형성될 수 있다. 또한, 상기 제4 더미 패턴(270a)은 상기 제3 절연층(230)의 제1 영역(R1)의 하면을 전체적으로 덮으며 형성될 수 있다.Meanwhile, the third dummy pattern (260a) formed above may be formed to entirely cover the upper surface of the first region (R1) of the second insulating layer (220). In addition, the fourth dummy pattern (270a) may be formed to entirely cover the lower surface of the first region (R1) of the third insulating layer (230).

다음으로, 도 14를 참조하면, 실시 예에서는 상기 제3 더미 패턴(260a) 및 제2 절연층(220)에 상호 이격되는 복수의 제3 개구(260h)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 또한, 실시 예에서는 상기 제4 더미 패턴(270a) 및 제3 절연층(230)에 상호 이격되는 복수의 제4 개구(270h)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다. Next, referring to FIG. 14, in the embodiment, a process of forming a plurality of third openings (260h) spaced apart from each other in the third dummy pattern (260a) and the second insulating layer (220) may be performed. In addition, in the embodiment, a process of forming a plurality of fourth openings (270h) spaced apart from each other in the fourth dummy pattern (270a) and the third insulating layer (230) may be performed.

즉, 상기 제3 개구(260h)는 상기 제3 더미 패턴(260a)의 상면 및 하면을 관통하며 형성된 제3-1 부분(260h-1) 및 상기 제3-1 부분(260h-1)과 연결되고 상기 제2 절연층(220)에 형성된 제3-2 부분(260h-2)을 포함할 수 있다.That is, the third opening (260h) may include a third-1 portion (260h-1) formed by penetrating the upper and lower surfaces of the third dummy pattern (260a) and a third-2 portion (260h-2) formed on the second insulating layer (220) and connected to the third-1 portion (260h-1).

또한, 상기 제4 개구(270h)는 상기 제4 더미 패턴(270a)의 상면 및 하면을 관통하며 형성된 제4-1 부분(270h-1) 및, 상기 제4-1 부분(270h-1)과 연결되고 상기 제3 절연층(230)에 형성된 제4-2 부분(270h-2)을 포함할 수 있다.In addition, the fourth opening (270h) may include a 4-1 portion (270h-1) formed by penetrating the upper and lower surfaces of the fourth dummy pattern (270a), and a 4-2 portion (270h-2) formed on the third insulating layer (230) and connected to the 4-1 portion (270h-1).

실시 예에서는 절연층의 더미 영역에 대응하는 제1 영역(R1)에 더미 패턴이 형성되고, 상기 더미 패턴에 도트 형태를 가지는 복수의 개구를 형성한다. 그리고, 상기 복수의 개구는 절연층에 잔류하는 가스를 디가싱할 수 있도록 한다. 이에 따라 실시 예에서는 절연층과 회로 패턴층 사이에 가스를 제거하여 인쇄회로기판의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 예를 들어, 실시 예에서는 상기 절연층에 잔존하는 가스를 제거함에 따라, 절연층의 열적스트레스를 최소화할 수 있다. 예를 들어, 실시 예에서는 상기 절연층에 잔존하는 가스를 제거함에 따라 절연층으로부터 회로 패턴층이 탈락하는 신뢰성 문제를 해결할 수 있다. 또한, 실시 예에서는 상기와 같이 더미 패턴에 복수의 개구가 포함되도록 하여, 더미 패턴의 면적의 조절을 통해 회로 패턴층의 도금 편차를 개선할 수 있다.In an embodiment, a dummy pattern is formed in a first region (R1) corresponding to a dummy region of an insulating layer, and a plurality of openings having a dot shape are formed in the dummy pattern. In addition, the plurality of openings enable degassing of gas remaining in the insulating layer. Accordingly, in an embodiment, the reliability of a printed circuit board can be improved by removing gas between the insulating layer and the circuit pattern layer. For example, in an embodiment, by removing the gas remaining in the insulating layer, the thermal stress of the insulating layer can be minimized. For example, in an embodiment, by removing the gas remaining in the insulating layer, the reliability problem of the circuit pattern layer being detached from the insulating layer can be solved. In addition, in an embodiment, by including a plurality of openings in the dummy pattern as described above, the plating deviation of the circuit pattern layer can be improved by controlling the area of the dummy pattern.

또한, 실시 예에서는 절연층 내로 침투한 가스를 완전히 제거할 수 있고, 이에 따른 신뢰성을 더욱 향상시킬 수 있다. 예를 들어, 실시 예에서는 디가싱을 위한 개구가 더미 패턴뿐 아니라, 절연층에도 형성될 수 있다. 예를 들어, 디가싱을 위한 개구는 더미 패턴에 형성되는 제1 부분과, 상기 제1 부분과 연결되어 절연층에 형성된 제2 부분을 포함한다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 절연층 내로 침투한 가스까지 완전하게 제거할 수 있으며, 이에 따른 신뢰성을 더욱 향상시킬 수 있다.In addition, in the embodiment, gas that has penetrated into the insulating layer can be completely removed, thereby further improving reliability. For example, in the embodiment, an opening for degassing can be formed not only in the dummy pattern but also in the insulating layer. For example, the opening for degassing includes a first portion formed in the dummy pattern and a second portion formed in the insulating layer and connected to the first portion. Accordingly, in the embodiment, even gas that has penetrated into the insulating layer can be completely removed, thereby further improving reliability.

이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The features, structures, effects, etc. described in the embodiments above are included in at least one embodiment, and are not necessarily limited to just one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects, etc. exemplified in each embodiment can be combined or modified in other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments pertain. Therefore, the contents related to such combinations and modifications should be construed as being included within the scope of the embodiments.

이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 실시예를 한정하는 것이 아니며, 실시예가 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 설정하는 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the above description focuses on examples, these are merely examples and are not intended to limit the examples. Those skilled in the art will appreciate that various modifications and applications not exemplified above are possible without departing from the essential characteristics of the present examples. For example, each component specifically shown in the examples can be modified and implemented. In addition, differences related to such modifications and applications should be interpreted as being included within the scope of the embodiments set forth in the appended claims.

Claims (17)

제1 절연층;
상기 제1 절연층 상에 배치된 제1 회로 패턴층; 및
상기 제1 회로 패턴층 상에 배치된 제2 절연층을 포함하고,
상기 제1 회로 패턴층은 상기 제1 회로 패턴층의 상면 및 하면을 관통하는 제1 더미 관통부를 포함하고,
상기 제1 절연층은 수직 방향을 따라 상기 제1 더미 관통부와 중첩되며 상기 제1 절연층의 적어도 일부 영역을 관통한 제2 더미 관통부를 포함하고,
상기 제2 절연층은 상기 제1 더미 관통부 및 상기 제2 더미 관통부 내에 배치되는 돌출부를 포함하는,
회로 기판.
First insulating layer;
A first circuit pattern layer disposed on the first insulating layer; and
A second insulating layer is disposed on the first circuit pattern layer,
The first circuit pattern layer includes a first dummy through-hole that penetrates the upper and lower surfaces of the first circuit pattern layer,
The first insulating layer includes a second dummy penetration portion that overlaps the first dummy penetration portion along the vertical direction and penetrates at least a portion of the first insulating layer,
The second insulating layer includes a protrusion disposed within the first dummy penetration portion and the second dummy penetration portion.
Circuit board.
제1항에 있어서,
상기 제1 더미 관통부는 상기 제1 회로 패턴층에 수평 방향을 따라 서로 이격되는 복수 개의 제1 더미 개구들을 포함하고,
상기 제2 더미 관통부는 상기 복수 개의 제1 더미 개구들과 상기 수직 방향을 따라 중첩된 복수 개의 제2 더미 개구들을 포함하는,
회로 기판.
In the first paragraph,
The first dummy penetration portion includes a plurality of first dummy openings spaced apart from each other in a horizontal direction in the first circuit pattern layer,
The second dummy penetration portion includes a plurality of first dummy openings and a plurality of second dummy openings overlapping along the vertical direction.
Circuit board.
제1항에 있어서,
상기 수직 방향을 따라 상기 제1 절연층의 적어도 일부 영역을 관통하며 수평 방향을 따라 상기 돌출부와 이격된 제1 전도성 비아를 더 포함하는,
회로 기판.
In the first paragraph,
Further comprising a first conductive via penetrating at least a portion of the first insulating layer along the vertical direction and spaced apart from the protrusion along the horizontal direction,
Circuit board.
제3항에 있어서,
상기 제1 전도성 비아와 상기 돌출부는 상기 수평 방향을 따라 중첩된,
회로 기판.
In the third paragraph,
The first conductive via and the protrusion overlap along the horizontal direction,
Circuit board.
제4항에 있어서,
상기 돌출부의 측면의 적어도 일부는 상기 제1 전도성 비아의 측면의 적어도 일부의 경사 각도와 동일한 경사 각도를 갖는,
회로 기판.
In paragraph 4,
At least a portion of the side surface of the protrusion has an inclination angle that is the same as an inclination angle of at least a portion of the side surface of the first conductive via;
Circuit board.
제2항에 있어서,
상기 복수 개의 제1 더미 개구들의 수평 방향으로의 폭은 상기 복수 개의 제1 더미 개구들 사이의 수평 방향으로의 이격 간격보다 큰,
회로 기판.
In the second paragraph,
The horizontal width of the plurality of first dummy openings is greater than the horizontal spacing between the plurality of first dummy openings.
Circuit board.
제1항에 있어서,
상기 제2 절연층 상에 배치된 제2 회로 패턴층; 및
상기 제2 회로 패턴층 상에 배치된 제3 절연층을 더 포함하고,상기 제2 회로 패턴층은 상기 제2 회로 패턴층의 상면 및 하면을 관통하는 제3 더미 관통부를 포함하고,
상기 제2 절연층은 상기 수직 방향을 따라 상기 제3 더미 관통부와 중첩되며 상기 제2 절연층의 적어도 일부 영역을 관통한 제4 더미 관통부를 포함하고,
상기 제3 절연층은 상기 제3 더미 관통부 및 상기 제4 더미 관통부 내에 배치되는 돌출부를 포함하는,
회로 기판.
In the first paragraph,
A second circuit pattern layer disposed on the second insulating layer; and
Further comprising a third insulating layer disposed on the second circuit pattern layer, wherein the second circuit pattern layer includes a third dummy through-hole penetrating the upper and lower surfaces of the second circuit pattern layer,
The second insulating layer overlaps the third dummy penetration portion along the vertical direction and includes a fourth dummy penetration portion penetrating at least a portion of the second insulating layer,
The third insulating layer includes a protrusion disposed within the third dummy penetration portion and the fourth dummy penetration portion.
Circuit board.
제7항에 있어서,
상기 제1 내지 제4 더미 관통부는 상기 수직 방향을 따라 중첩된,
회로 기판.
In paragraph 7,
The first to fourth dummy penetration portions are overlapped along the vertical direction,
Circuit board.
제8항에 있어서,
상기 제1 절연층의 돌출부 및 상기 제2 절연층의 돌출부는 상기 수직 방향을 따라 서로 중첩된,
회로 기판.
In paragraph 8,
The protrusions of the first insulating layer and the protrusions of the second insulating layer overlap each other along the vertical direction.
Circuit board.
제8항에 있어서,
상기 제2 절연층의 상면 및 하면을 관통하는 제2 전도성 비아를 더 포함하고,
상기 제2 전도성 비아는 상기 제2 절연층의 돌출부와 수평 방향을 따라 이격된,
회로 기판.
In paragraph 8,
Further comprising a second conductive via penetrating the upper and lower surfaces of the second insulating layer,
The second conductive via is spaced apart from the protrusion of the second insulating layer in a horizontal direction,
Circuit board.
제10항에 있어서,
상기 제2 전도성 비아의 측면의 경사는 상기 제2 절연층의 돌출부의 측면의 경사와 동일한,
회로 기판.
In Article 10,
The slope of the side surface of the second conductive via is the same as the slope of the side surface of the protrusion of the second insulating layer.
Circuit board.
제1항에 있어서,
상기 제1 더미 관통부의 내벽의 경사는 상기 제2 더미 관통부의 내벽의 경사와 상이한,
회로 기판.
In the first paragraph,
The slope of the inner wall of the first dummy penetration portion is different from the slope of the inner wall of the second dummy penetration portion.
Circuit board.
제12항에 있어서,
상기 제1 절연층의 하면에 대한 상기 제1 더미 관통부의 내벽의 경사는 상기 제1 절연층의 하면에 대한 상기 제2 더미 관통부의 내벽의 경사보다 수직에 가까운,
회로 기판.
In paragraph 12,
The slope of the inner wall of the first dummy penetration portion with respect to the lower surface of the first insulating layer is closer to vertical than the slope of the inner wall of the second dummy penetration portion with respect to the lower surface of the first insulating layer.
Circuit board.
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