KR102405800B1 - 적층 필름, 그 제조 방법, 편광판, 및 표시 장치 - Google Patents
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Abstract
열가소성 수지 A로 이루어지는 A층, 및 열가소성 수지 B로 이루어지는 B층을 구비하는 적층 필름으로서, 수지 A는, 특정한 단위[I]를 주성분으로 하는 2개 이상의 중합체 블록과, 특정한 단위[II], 또는 단위[I] 및 단위[II]의 조합을 주성분으로 하는 1개 이상의 중합체 블록을 포함하는 수소화 블록 공중합체를 포함하고, 수지 A의 열 연화 온도, 수지 B의 열 연화 온도, A층의 두께, B층의 두께, 적층 필름의 면내 방향의 리타데이션, 및 B층의 면배향 계수가, 특정한 요건을 만족하는, 적층 필름.
Description
본 발명은, 적층 필름, 그 제조 방법, 편광판 및 표시 장치에 관한 것이다.
표시 장치 등의 광학적인 장치에 있어서, 수지제의 필름을 사용하는 것은 널리 행하여지고 있고, 그러한 필름으로서, 복수의 층을 구비하는 적층 필름이 알려져 있다(예를 들어 특허문헌 1). 그러한 적층 필름은, 적층 필름을 구성하는 층의 재료, 두께 등의 요소를 적당히 선택함으로써, 원하는 물리적 성질 및 광학적 성질 등을 용이하게 얻을 수 있다. 적층 필름은, 예를 들어, 편광자 및 편광자 보호 필름을 구비하는 편광판에 있어서, 편광자 보호 필름으로서 사용되는 경우가 있다.
편광자 보호 필름의 용도로 사용되는 적층 필름에는, 편광자와 첩합하였을 때의 박리 강도가 높은 것, 및 적층 필름을 구성하는 각 층 사이의 밀착성이 높은 것이 요구된다. 덧붙여, 편광자 보호 필름의 용도로 사용되는 적층 필름은, 많은 경우에 있어서, 그 면내 방향의 리타데이션이 작은 것이 요구된다.
그러나, 상술한 모든 특성에 있어서 우수한 적층 필름을 얻는 것은 곤란하였다.
따라서, 본 발명의 목적은, 편광자와 첩합하였을 때의 박리 강도가 높고, 구성 요소인 각 층 사이의 밀착성이 높고, 또한 면내 방향의 리타데이션이 작아, 그에 의해 편광자 보호 필름으로서 유용하게 사용할 수 있는 적층 필름; 그리고 내구성이 높고 또한 표시 장치에 유용하게 사용할 수 있는 광학 특성을 갖는 편광판, 및 내구성이 높고 또한 표시 품질이 우수한 표시 장치를 제공하는 것에 있다.
본 발명자는, 상기의 과제를 해결하기 위하여 검토하였다. 그 결과, 본 발명자는, 특정한 재료를 특정한 층 구성으로 조합하여 채용함으로써, 저위상차, 밀착성 및 박리 강도를 모두 다 양호하게 실현할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.
즉, 본 발명은, 하기와 같다.
〔1〕열가소성 수지 A로 이루어지는 A층, 및 상기 A층의 적어도 일방의 면 상에 형성된 열가소성 수지 B로 이루어지는 B층을 구비하는 적층 필름으로서,
상기 열가소성 수지 A는,
단위[I]를 주성분으로 하는, 2개 이상의 중합체 블록[D]과,
단위[II], 또는 상기 단위[I] 및 상기 단위[II]의 조합을 주성분으로 하는 1개 이상의 중합체 블록[E]
을 포함하는 수소화 블록 공중합체[G]를 포함하고,
상기 단위[I]는, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위이고,
상기 단위[II]는, 사슬형 탄화수소 화합물 수소화물 단위이고,
상기 열가소성 수지 B는, 상기 열가소성 수지 A와는 다른 수지이고,
상기 열가소성 수지 A의 열 연화 온도 Ts[A], 상기 열가소성 수지 B의 열 연화 온도 Ts[B], 상기 A층의 두께 t[A], 상기 B층의 두께 t[B], 상기 적층 필름의 면내 방향의 리타데이션 Re(total), 및 상기 B층의 면배향 계수 P[B]가, 하기 식(1)~(6)을 만족하는, 적층 필름.
(1) 130℃ ≤ Ts[A] ≤ 145℃
(2) 120℃ ≤ Ts[B] ≤ 145℃
(3) 0 ≤ Re(total) ≤ 5 nm
(4) 20 μm ≤ t[A] ≤ 50 μm
(5) 1 μm ≤ t[B] ≤ 15 μm
(6) 1.0 × 10-5 ≤ |P[B]| ≤ 2.0 × 10-3
〔2〕상기 고리식 탄화수소기 함유 화합물이 방향족 비닐 화합물이고, 상기 사슬형 탄화수소 화합물이 사슬형 공액 디엔계 화합물인, 〔1〕에 기재된 적층 필름.
〔3〕상기 열가소성 수지 A는, 2종류 이상의 열가소성 수지의 블렌드물인, 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 적층 필름.
〔4〕상기 열가소성 수지 B는 지환식 구조를 함유하는 중합체를 포함하는 수지인 〔1〕~〔3〕 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름.
〔5〕 〔1〕~〔4〕 중 어느 한 항에 기재된적층 필름의 제조 방법으로서,
상기 열가소성 수지 A로 이루어지는 a층, 및 상기 a층의 적어도 일방의 면 상에 형성된 열가소성 수지 B로 이루어지는 b층을 구비하는 연신 전 필름을 조제하는 공정, 및
상기 연신 전 필름을, 적어도 1의 방향으로 연신하는 연신 공정을 포함하는, 제조 방법.
〔6〕 〔1〕~〔4〕 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름과 편광자를구비하는 편광판.
〔7〕 〔1〕~〔4〕 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름을 구비하는 표시 장치.
본 발명의 적층 필름은, 편광자와 첩합하였을 때의 박리 강도가 높고, 구성 요소인 각 층 사이의 밀착성이 높고, 또한 면내 방향의 리타데이션이 작아, 그에 의해 편광자 보호 필름으로서 유용하게 사용할 수 있다. 본 발명의 제조 방법에 따르면, 그러한 본 발명의 적층 필름을 용이하게 제조할 수 있다. 본 발명의 편광판은, 내구성이 높고 또한 표시 장치에 유용하게 사용할 수 있는 광학 특성을 갖는다. 본 발명의 표시 장치는, 내구성이 높고 또한 표시 품질이 우수한 표시 장치로 할 수 있다.
이하, 본 발명에 대하여 실시형태 및 예시물을 나타내어 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시형태 및 예시물에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.
이하의 설명에 있어서, 고리식 탄화수소기란, 방향족 고리, 시클로알칸, 시클로알켄 등의, 고리형의 구조를 포함하는 탄화수소의 기이다. 또한, 사슬형 탄화수소 화합물이란, 이러한 고리식 탄화수소기를 포함하지 않는 탄화수소 화합물이다.
이하의 설명에 있어서, 필름의 면내 리타데이션 Re는, 별도로 언급하지 않는 한, Re= (nx-ny)×d로 나타내어지는 값이다. 여기서, nx는, 필름의 두께 방향과 수직한 방향(면내 방향)으로서 최대의 굴절률을 부여하는 방향의 굴절률을 나타낸다. ny는, 필름의 상기 면내 방향으로서 nx의 방향과 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다. nz는 필름의 두께 방향의 굴절률을 나타낸다. d는, 필름의 두께를 나타낸다. 리타데이션의 측정 파장은, 별도로 언급하지 않는 한, 532 nm이다.
이하의 설명에 있어서, 「편광판」이란, 별도로 언급하지 않는 한, 강직한 부재뿐만아니라, 예를 들어 수지제의 필름과 같이 가요성을 갖는 부재도 포함한다.
이하의 설명에 있어서, 「장척」의 필름이란, 폭에 대하여 5배 이상의 길이를 갖는 필름을 말하며, 바람직하게는 10배 혹은 그 이상의 길이를 갖고, 구체적으로는 롤상으로 권취되어 보관 또는 운반되는 정도의 길이를 갖는 필름을 말한다. 장척의 필름의 길이의 상한은, 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 폭에 대하여 10만배 이하로 할 수 있다.
〔1. 적층 필름의 개요〕
본 발명의 적층 필름은, 열가소성 수지 A로 이루어지는 A층, 및 A층의 적어도 일방의 면 상에 형성된 열가소성 수지 B로 이루어지는 B층을 구비한다.
적층 필름은, A층 및 B층의 각각을, 1층만 구비해도 되고, 2층 이상 구비해도 된다. 적층 필름이, A층 및 B층의 각각을 1층만 구비하는 경우, 적층 필름은, (A층)/(B층)의 층 구성을 갖게 된다. 적층 필름의 층 구성의 다른 예로는, (B층)/(A층)/(B층)의 층 구성을 들 수 있다. 본 발명의 효과를 양호하게 얻는 관점에서는, (B층)/(A층)/(B층)의 층 구성이 바람직하다.
〔2. 열가소성 수지 A〕
열가소성 수지 A는, 특정한 단위[I]를 갖는 2개 이상의 중합체 블록[D]과, 특정한 단위[II], 또는 단위[I] 및 단위[II]의 조합을 갖는 1개 이상의 중합체 블록[E]을 포함하는 수소화 블록 공중합체[G]를 포함한다.
〔2.1. 단위[I]〕
단위[I]는, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위이다. 즉, 단위[I]는, 고리식 탄화수소기 함유 화합물을 중합하고, 또한, 이러한 중합에 의해 얻어진 단위가 불포화 결합을 갖고 있으면 그 불포화 결합을 수소화하여 얻어지는 구조를 갖는 구조 단위이다. 단, 단위[I]는, 당해 구조를 갖는 한에 있어서, 어떠한 제조 방법으로 얻어진 단위도 포함한다.
단위[I]는, 바람직하게는, 방향족 비닐 화합물을 중합하고, 그 불포화 결합을 수소화하여 얻어지는 구조를 갖는 구조 단위이다. 이러한 단위를, 이하에 있어서 「단위[Ia]」라고 하는 경우가 있다. 단, 단위[Ia]는, 당해 구조를 갖는 한에 있어서, 어떠한 제조 방법으로 얻어진 단위도 포함한다.
마찬가지로, 본원에 있어서는, 예를 들어 스티렌을 중합하고, 그 불포화 결합을 수소화하여 얻어지는 구조를 갖는 구조 단위를, 스티렌 수소화물 단위라고 부르는 경우가 있다. 스티렌 수소화물 단위도, 당해 구조를 갖는 한에 있어서, 어떠한 제조 방법으로 얻어진 단위도 포함한다.
단위[Ia]의 예로는, 이하의 구조식(1)으로 나타내어지는 구조 단위를 들 수 있다.
[화학식 1]
구조식(1)에 있어서, Rc는 지환식 탄화수소기를 나타낸다. Rc의 예를 들면, 시클로헥실기 등의 시클로헥실기류; 데카하이드로나프틸기류 등을 들 수 있다.
구조식(1)에 있어서, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 사슬형 탄화수소기, 할로겐 원자, 알콕시기, 하이드록실기, 에스테르기, 시아노기, 아미드기, 이미드기, 실릴기, 또는 극성기(할로겐 원자, 알콕시기, 하이드록실기, 에스테르기, 시아노기, 아미드기, 이미드기, 또는 실릴기)로 치환된 사슬형 탄화수소기를 나타낸다. 그 중에서도 R1, R2 및 R3으로는, 내열성, 저복굴절성 및 기계 강도 등의 관점에서 수소 원자 및 탄소 원자수 1~6개의 사슬형 탄화수소기인 것이 바람직하다. 사슬형 탄화수소기로는 포화 탄화수소기가 바람직하고, 알킬기가 보다 바람직하다.
단위[Ia]의 바람직한 구체예로는, 하기 식(1-1)으로 나타내어지는 구조 단위를 들 수 있다. 식(1-1)으로 나타내어지는 구조 단위는, 스티렌 수소화물 단위이다.
[화학식 2]
단위[I]의 예시물에 있어서 입체 이성체를 갖는 것은, 그 어느 입체 이성체도 사용할 수 있다. 단위[I]는, 1종류만 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.
〔2.2. 단위[II]〕
단위[II]는, 사슬형 탄화수소 화합물을 중합하고, 또한, 이러한 중합에 의해 얻어진 단위가 불포화 결합을 갖고 있으면 그 불포화 결합을 수소화하여 얻어지는 구조를 갖는 구조 단위이다. 단, 단위[II]는, 당해 구조를 갖는 한에 있어서, 어떠한 제조 방법으로 얻어진 단위도 포함한다.
단위[II]는, 바람직하게는, 디엔 화합물을 중합하고, 또한, 이러한 중합에 의해 얻어진 단위가 불포화 결합을 갖고 있으면 그 불포화 결합을 수소화하여 얻어지는 구조를 갖는 구조 단위이다. 이러한 단위를, 이하에 있어서 「단위[IIa]」라고 하는 경우가 있다. 단, 단위[IIa]는, 당해 구조를 갖는 한에 있어서, 어떠한 제조 방법으로 얻어진 단위도 포함한다.
마찬가지로, 본원에 있어서는, 예를 들어 이소프렌을 중합하고, 그 불포화 결합을 수소화하여 얻어지는 구조를 갖는 구조 단위를, 이소프렌 수소화물 단위라고 부르는 경우가 있다. 이소프렌 수소화물 단위도, 당해 구조를 갖는 한에 있어서, 어떠한 제조 방법으로 얻어진 단위도 포함한다.
단위[IIa]는, 사슬형 공액 디엔 화합물 등의 공액 디엔 화합물을 중합하고, 그 불포화 결합을 수소화하여 얻어지는 구조를 갖는 것이 바람직하다. 그 예로는, 이하의 구조식(2)으로 나타내어지는 구조 단위, 및 구조식(3)으로 나타내어지는 구조 단위를 들 수 있다.
[화학식 3]
구조식(2)에 있어서, R4~R9는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 사슬형 탄화수소기, 할로겐 원자, 알콕시기, 하이드록실기, 에스테르기, 시아노기, 아미드기, 이미드기, 실릴기, 또는 극성기(할로겐 원자, 알콕시기, 하이드록실기, 에스테르기, 시아노기, 아미드기, 이미드기, 또는 실릴기)로 치환된 사슬형 탄화수소기를 나타낸다. 그 중에서도 R4~R9로는, 내열성, 저복굴절성 및 기계 강도 등의 관점에서 수소 원자 및 탄소 원자수 1~6개의 사슬형 탄화수소기인 것이 바람직하다. 사슬형 탄화수소기로는 포화 탄화수소기가 바람직하고, 알킬기가 보다 바람직하다.
[화학식 4]
구조식(3)에 있어서, R10~R15는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 사슬형 탄화수소기, 할로겐 원자, 알콕시기, 하이드록실기, 에스테르기, 시아노기, 아미드기, 이미드기, 실릴기, 또는 극성기(할로겐 원자, 알콕시기, 하이드록실기, 에스테르기, 시아노기, 아미드기, 이미드기, 또는 실릴기)로 치환된 사슬형 탄화수소기를 나타낸다. 그 중에서도 R10~R15로는, 내열성, 저복굴절성 및 기계 강도 등의 관점에서 수소 원자 및 탄소 원자수 1~6개의 사슬형 탄화수소기인 것이 바람직하다. 사슬형 탄화수소기로는 포화 탄화수소기가 바람직하고, 알킬기가 보다 바람직하다.
단위[IIa]의 바람직한 구체예로는, 하기 식(2-1)~(2-3)으로 나타내어지는 구조 단위를 들 수 있다. 식(2-1)~(2-3)으로 나타내어지는 구조 단위는, 이소프렌 수소화물 단위이다.
[화학식 5]
단위[II]의 예시물에 있어서 입체 이성체를 갖는 것은, 그 어느 입체 이성체도 사용할 수 있다. 단위[II]는, 1종류만 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.
〔2.3. 수소화 블록 공중합체[G]〕
수소화 블록 공중합체[G]는, 1 분자당 1개의 블록[E]과, 그 양단에 연결된 1 분자당 2개의 블록[D]을 갖는 트리블록 분자 구조를 갖는 것이 바람직하다. 즉, 수소화 블록 공중합체[G]는, 1 분자당 1개의 블록[E]과; 블록[E]의 일단에 연결되고, 단위[I]를 갖는 1 분자당 1개의 블록[D1]과; 블록[E]의 타단에 연결되고, 단위[I]를 갖는 1 분자당 1개의 블록[D2];을 포함하는 트리블록 공중합체인 것이 바람직하다.
상술한 트리블록 공중합체로서의 수소화 블록 공중합체[G]에 있어서는, 바람직한 특성을 갖는 적층 필름을 용이하게 얻는 관점에서, 블록[D1] 및 블록[D2]의 합계와, 블록[E]의 중량비 (D1+D2)/E가, 특정한 범위에 들어가는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 중량비 (D1+D2)/E는, 바람직하게는 70/30 이상, 보다 바람직하게는 82/18 이상이고, 바람직하게는 90/10 이하, 보다 바람직하게는 87/13 이하이다.
또한, 상술한 트리블록 공중합체로서의 수소화 블록 공중합체[G]에 있어서는, 상기특성을 갖는 적층 필름을 용이하게 얻는 관점에서, 블록[D1]과 블록[D2]의 중량비 D1/D2가, 특정한 범위에 들어가는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 중량비 D1/D2는, 바람직하게는 5 이상, 보다 바람직하게는 5.2 이상, 특히 바람직하게는 5.5 이상이고, 바람직하게는 8 이하, 보다 바람직하게는 7.8 이하, 특히 바람직하게는 7.5 이하이다.
수소화 블록 공중합체[G]의 중량 평균 분자량 Mw는, 바람직하게는 50000 이상, 보다 바람직하게는 55000 이상, 특히 바람직하게는 60000 이상이고, 바람직하게는 80000 이하, 보다 바람직하게는 75000 이하, 특히 바람직하게는 70000 이하이다. 중량 평균 분자량 Mw가 상기 범위에 있음으로써, 상기 특성을 갖는 적층 필름을 용이하게 얻을 수 있다. 특히, 중량 평균 분자량을 작게 함으로써, 리타데이션의 발현성을 효과적으로 작게 할 수 있다.
수소화 블록 공중합체[G]의 분자량 분포(중량 평균 분자량(Mw)/수평균 분자량(Mn))는, 바람직하게는 2.0 이하, 보다 바람직하게는 1.7 이하, 특히 바람직하게는 1.5 이하이고, 바람직하게는 1.0 이상이다. 중량 평균 분자량 Mw가 상기 범위에 있음으로써, 중합체 점도를 낮추어 성형성을 높일 수 있다. 또한, 리타데이션의 발현성을 효과적으로 작게 할 수 있다.
수소화 블록 공중합체[G]의 중량 평균 분자량 Mw 및 수평균 분자량 Mn은, 테트라하이드로푸란을 용매로 한 겔·퍼미에이션·크로마토그래피에 의해, 폴리스티렌 환산의 값으로서 측정할 수 있다.
블록[D1] 및 블록[D2]은, 각각 독립적으로, 단위[I]만으로 이루어지는 것이 바람직하지만, 단위[I] 이외에 임의의 단위를 포함할 수 있다. 임의의 구조 단위의 예로는, 단위[I] 이외의 비닐 화합물에 기초하는 구조 단위를 들 수 있다. 블록[D]에 있어서의 임의의 구조 단위의 함유율은, 바람직하게는 10 중량% 이하, 보다 바람직하게는 5 중량% 이하, 특히 바람직하게는 1 중량% 이하이다.
블록[E]은, 단위[II]만으로 이루어지는 것이 바람직하지만, 단위[II] 이외에 임의의 단위를 포함할 수 있다. 임의의 구조 단위의 예로는, 단위[II] 이외의 비닐 화합물에 기초하는 구조 단위를 들 수 있다. 블록[E]에 있어서의 임의의 구조 단위의 함유율은, 바람직하게는 10 중량% 이하, 보다 바람직하게는 5 중량% 이하, 특히 바람직하게는 1 중량% 이하이다.
상술한 트리블록 공중합체로서의 수소화 블록 공중합체[G]는, 리타데이션의 발현성이 작다. 따라서, 수지 A로 이루어지는 A층을 포함하는 본 발명의 적층 필름은, 원하는 특성을 용이하게 얻을 수 있다.
〔2.4. 수소화 블록 공중합체[G]의 제조 방법〕
수소화 블록 공중합체[G]의 제조 방법은, 특별히 한정되지 않고 임의의 제조 방법을 채용할 수 있다. 수소화 블록 공중합체[G]는, 예를 들어, 단위[I] 및 단위[II]에 대응하는 단량체를 준비하고, 이들을 중합시켜, 얻어진 중합체[F]를 수소화함으로써 제조할 수 있다.
단위[I]에 대응하는 단량체로는, 방향족 비닐 화합물을 사용할 수 있다. 그예로는, 스티렌, α-메틸스티렌, α-에틸스티렌, α-프로필스티렌, α-이소프로필스티렌, α-t-부틸스티렌, 2-메틸스티렌, 3-메틸스티렌, 4-메틸스티렌, 2,4-디이소프로필스티렌, 2,4-디메틸스티렌, 4-t-부틸스티렌, 5-t-부틸-2-메틸스티렌, 모노클로로스티렌, 디클로로스티렌, 모노플루오로스티렌, 및 4-페닐스티렌 등의 스티렌류; 비닐시클로헥산, 및 3-메틸이소프로페닐시클로헥산 등의 비닐시클로헥산류; 그리고 4-비닐시클로헥센, 4-이소프로페닐시클로헥센, 1-메틸-4-비닐시클로헥센, 1-메틸-4-이소프로페닐시클로헥센, 2-메틸-4-비닐시클로헥센, 및 2-메틸-4-이소프로페닐시클로헥센 등의 비닐시클로헥센류를 들 수 있다. 이들 단량체는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.
단위[II]에 대응하는 단량체의 예로는, 부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔, 및 1,3-헥사디엔 등의 사슬형 공액 디엔류를 들 수 있다. 이들 단량체는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.
중합의 반응 양식으로는, 통상, 음이온 중합을 채용할 수 있다. 또한, 중합은, 괴상중합이나, 용액중합 등의 어느 것으로 행하여도 된다. 그 중에서도, 중합 반응과 수소화 반응을 연속해서 행하기 위해서는, 용액중합이 바람직하다.
중합반응시에 사용하는 용매의 예로는, n-부탄, n-펜탄, 이소펜탄, n-헥산, n-헵탄, 및 이소옥탄 등의 지방족 탄화수소 용매; 시클로펜탄, 시클로헥산, 메틸시클로펜탄, 메틸시클로헥산, 및 데칼린 등의 지환식 탄화수소 용매; 그리고 벤젠 및 톨루엔 등의 방향족 탄화수소 용매;를 들 수 있다.그 중에서도 지방족 탄화수소 용매 및 지환식 탄화수소 용매를 사용하면, 수소화 반응에도 불활성인 용매로서 그대로 사용할 수 있어 바람직하다.
용매는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.
용매는, 통상, 전체 단량체 100 중량부에 대하여 200~10,000 중량부가 되는 비율로 사용된다.
중합시, 통상은 중합 개시제를 사용한다. 중합 개시제의 예로는, n-부틸리튬, sec-부틸리튬, t-부틸리튬, 헥실리튬, 및 페닐리튬 등의 모노 유기 리튬; 그리고 디리티오메탄, 1,4-디리티오부탄, 및 1,4-디리티오-2-에틸시클로헥산 등의 다관능성유기리튬화합물을 들 수 있다. 중합 개시제는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.
수소화 블록 공중합체[G]로서, 블록[D1], 블록[D2] 및 블록[E]을 포함하는 트리블록 공중합체를 제조하는 경우에 있어서의, 수소화 전의 중합체[F]의 제조 방법의 예로는, 하기의 제1 공정~제3공정을 포함하는 제조 방법을 들 수 있다. 여기서, 「모노머 조성물」이라고 칭하는 재료는, 2종류 이상의 물질의 혼합물뿐만아니라, 단일의 물질로 이루어지는 재료도 포함한다.
제1 공정: 고리식 탄화수소기 함유 화합물을 함유하는 모노머 조성물(d1)을 중합시켜, 블록[D1]에 대응하는 블록[d1]을 형성하는 공정.
제2공정: 이러한 블록[d1]의 일단에 있어서, 사슬형 탄화수소 화합물을 함유하는 모노머 조성물(e)을 중합시켜, 블록[E]에 대응하는 블록[e]을 형성하여, 디블록의 중합체를 형성하는 공정.
제3공정: 이러한 디블록의 중합체의 블록[e]측의 말단에 있어서, 고리식 탄화수소기 함유 화합물을 함유하는 모노머 조성물(d2)을 중합시켜, 트리블록 공중합체[F]를 얻는 공정. 단, 모노머 조성물(d1)과 모노머 조성물(d2)은, 동일해도 되고 달라도 된다.
각각의 중합체 블록을 중합할 때에는, 각 블록내에서, 어느 1성분의 연쇄가 과도하게 길어지는 것을 방지하기 위하여, 중합 촉진제 및 랜더마이저를 사용할 수 있다. 예를 들어 중합을 음이온 중합에 의해 행하는 경우에는, 루이스염기화합물을 랜더마이저로서 사용할 수 있다. 루이스염기 화합물의 구체예로는, 디메틸에테르, 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르, 테트라하이드로푸란, 디페닐에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 및 에틸렌글리콜메틸페닐에테르 등의 에테르 화합물; 테트라메틸에틸렌디아민, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 및 피리딘 등의 제3급 아민 화합물; 칼륨-t-아밀옥사이드, 및 칼륨-t-부틸옥사이드 등의 알칼리금속 알콕시드 화합물; 그리고 트리페닐포스핀 등의 포스핀 화합물을 들 수 있다. 이들은, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.
중합 온도는 중합이 진행되는 한 제한은 없지만, 통상 0℃ 이상, 바람직하게는 20℃ 이상이고, 통상 200℃ 이하, 바람직하게는 100℃ 이하, 보다 바람직하게는 80℃ 이하이다.
중합 후에는, 필요하다면 임의의 방법에 의해 반응 혼합물로부터 중합체[F]를 회수할 수 있다. 회수 방법의 예로는, 스팀 스트리핑법, 직접 탈용매법, 및 알코올 응고법을 들 수 있다. 또한, 중합시에 수소화 반응에 불활성인 매체를 용매로서 사용한 경우에는, 중합 용액으로부터 중합체를 회수하지 않고, 그대로 수소화공정에 제공할 수 있다.
중합체[F]를 수소화하여 중합체[G]로 하는 방법에 제한은 없고, 임의의 방법을 채용할 수 있다. 수소화는, 예를 들어, 적절한 수소화 촉매를 사용하여 행할 수 있다. 보다 구체적으로는, 유기 용매 중에서, 니켈, 코발트, 철, 로듐, 팔라듐, 백금, 루테늄, 및 레늄으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 금속을 포함하는 수소화 촉매를 사용하여, 수소화를 행할 수 있다. 수소화 촉매는, 불균일계 촉매여도 되고, 균일계 촉매여도 된다. 수소화 촉매는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다.
불균일계 촉매는, 금속 또는 금속 화합물 그대로 사용해도 되고, 적절한 담체에 담지시켜 사용해도 된다. 담체의 예로는, 활성탄, 실리카, 알루미나, 탄화칼슘, 티타니아, 마그네시아, 지르코니아, 규조토, 및 탄화규소를 들 수 있다. 담체에 있어서의 촉매의 담지량은, 통상 0.01 중량% 이상, 바람직하게는 0.05 중량% 이상이고, 통상 80 중량% 이하, 바람직하게는 60 중량% 이하이다.
균일계 촉매의 예로는, 니켈, 코발트, 또는 철의 화합물과 유기 금속 화합물(예를 들어, 유기 알루미늄 화합물, 유기 리튬 화합물)을 조합한 촉매; 그리고 로듐, 팔라듐, 백금, 루테늄, 및 레늄 등의 유기 금속 착체 촉매를 들 수 있다. 니켈, 코발트, 또는 철의 화합물의 예로는, 이들 금속의 아세틸아세톤염, 나프텐산염, 시클로펜타디에닐 화합물, 및 시클로펜타디에닐디클로로 화합물을 들 수 있다. 유기 알루미늄 화합물의 예로는, 트리에틸알루미늄, 트리이소부틸알루미늄 등의 알킬알루미늄; 디에틸알루미늄클로라이드, 에틸알루미늄디클로라이드 등의 할로겐화 알루미늄; 그리고 디이소부틸알루미늄하이드라이드 등의 수소화 알킬알루미늄을 들 수 있다.
유기 금속 착체 촉매의 예로는, 예를 들어, 상기 각 금속의 γ-디클로로-π-벤젠 착체, 디클로로-트리스(트리페닐포스핀) 착체, 하이드라이드-클로로-트리페닐포스핀) 착체 등의 금속 착체를 들 수 있다.
수소화 촉매의 사용량은, 중합체 100 중량부에 대하여, 통상 0.01 중량부 이상, 바람직하게는 0.05 중량부 이상, 보다 바람직하게는 0.1 중량부 이상이고, 통상 100 중량부 이하, 바람직하게는 50 중량부 이하, 보다 바람직하게는 30 중량부 이하이다.
수소화 반응시의 반응 온도는, 통상 10℃~250℃이지만, 수소화율을 높게 할 수 있고, 또한, 중합체 사슬절단 반응을 작게 할 수 있다는 이유에서, 바람직하게는 50℃ 이상, 보다 바람직하게는 80℃ 이상이고, 바람직하게는 200℃ 이하, 보다 바람직하게는 180℃ 이하이다. 또한, 반응시의 압력은, 통상 0.1MPa~30MPa이지만, 상기이유에 더하여, 조작성의 관점에서, 바람직하게는 1MPa 이상, 보다 바람직하게는 2MPa 이상이고, 바람직하게는 20MPa 이하, 보다 바람직하게는 10MPa 이하이다.
수소화율은, 통상 90% 이상, 바람직하게는 95% 이상, 보다 바람직하게는 97% 이상이다. 수소화율을 높게 함으로써, 수소화 블록 공중합체[G]의 저복굴절성 및 열 안정성 등을 높일 수 있다. 수소화율은 1H-NMR에 의해 측정할 수 있다.
〔2.5. 수소화 블록 공중합체[G] 이외의 임의의 성분〕
열가소성수지 A는, 수소화 블록 공중합체[G]만으로 이루어져도 되지만, 수소화 블록 공중합체[G] 이외에 임의의 성분을 포함하고 있어도 된다.
임의의 성분으로는, 예를 들어, 무기미립자; 산화 방지제, 열 안정제, 자외선 흡수제, 근적외선흡수제 등의 안정제; 활제, 가소제 등의 수지개질제; 염료나 안료 등의 착색제; 및 대전방지제를 들 수 있다. 이들 임의의 성분으로는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 비율로 조합하여 사용해도 된다. 단, 본 발명의 효과를 현저하게 발휘시키는 관점에서는, 임의의 성분의 함유 비율은 적은 것이 바람직하다. 예를 들어, 임의의 성분의 합계의 비율은, 수소화 블록 공중합체[G]의 100 중량부에 대하여, 10 중량부 이하가 바람직하고, 5 중량부 이하가 보다 바람직하며, 3 중량부 이하가 더욱 바람직하다.
〔2.6. 블렌드물〕
열가소성수지 A는, 수소화 블록 공중합체[G]로서, 1종류만의 공중합체를 포함해도 되지만, 2종류 이상의 공중합체를 포함해도 된다.
예를 들어, 열가소성 수지 A는, 2종류 이상의 열가소성 수지의 블렌드물로 할 수 있다. 즉, 열가소성 수지 A는, 각각이 다른 수소화 블록 공중합체[G]를 포함하는 복수 종류의 열가소성 수지를 블렌드하여 이루어지는 블렌드물로 할 수 있다. 이러한 블렌드물은, 복수 종류의 열가소성 수지의 각각을 펠릿으로서 성형하고, 이러한 복수 종류의 펠릿을 혼합하여 이루어지는 펠릿 블렌드물로 할 수 있다.
〔3. 열가소성 수지 B〕
열가소성 수지 B는, 열가소성 수지 A와는 다른 수지이다. 열가소성 수지 A 및 B는, 적어도 열 연화 온도가 다른 점에 있어서 서로 상이하다. 열가소성 수지 B로는, 본 발명의 요건을 만족하는 적층 필름을 제공할 수 있는 임의의 수지를 채용할 수 있다. 특히, 지환식 구조를 함유하는 중합체를 포함하는 수지 중, 원하는 특성을 갖는 것을 적당히 선택하여 사용할 수 있다.
지환식 구조 함유 중합체는, 반복 단위 중에 지환식 구조를 갖는 중합체이고, 주쇄 중에 지환식 구조를 함유하는 중합체 및 측쇄에 지환식 구조를 함유하는 중합체를 어느 것이나 사용할 수 있다. 지환식 구조 함유 중합체는, 결정성의 수지 및 비정성의 수지를 포함하지만, 본 발명의 원하는 효과를 얻는 관점 및 제조 비용의 관점에서는, 비정성의 수지가 바람직하다.
지환식 구조로는, 예를 들어, 시클로알칸 구조, 시클로알켄 구조 등을 들 수 있으나, 열 안정성 등의 관점에서 시클로알칸 구조가 바람직하다.
1개의 지환식 구조의 반복 단위를 구성하는 탄소수에 특별히 제한은 없지만, 통상 4개~30개, 바람직하게는 5개~20개, 보다 바람직하게는 6개~15개이다.
지환식 구조 함유 중합체 중의 지환식 구조를 갖는 반복 단위의 비율은 사용 목적에 따라 적당히 선택되지만, 통상 50 중량% 이상, 바람직하게는 70 중량% 이상, 보다 바람직하게는 90 중량% 이상이다. 지환식 구조를 갖는 반복 단위를 이와 같이 많게 함으로써, 복층 필름의 내열성을 높일 수 있다.
지환식 구조 함유 중합체는, 구체적으로는, (1)노르보르넨 중합체, (2)단환의 고리형 올레핀 중합체, (3)고리형공액 디엔 중합체, (4)비닐 지환식 탄화수소 중합체, 및 이들의 수소화물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 투명성 및 성형성의 관점에서, 노르보르넨 중합체 및 이들의 수소화물이 보다 바람직하다.
노르보르넨 중합체로는, 예를 들어, 노르보르넨 모노머의 개환 중합체, 노르보르넨 모노머와 개환 공중합가능한 기타 모노머와의 개환 공중합체, 및 그들의 수소화물; 노르보르넨 모노머의 부가 중합체, 노르보르넨 모노머와 공중합가능한 기타 모노머와의 부가 공중합체 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 투명성의 관점에서, 노르보르넨 모노머의 개환 중합체수소화물이 특히 바람직하다.
상기의 지환식 구조 함유 중합체는, 예를 들어 일본 공개특허공보 2002-321302호에 개시되어 있는 중합체에서 선택된다.
지환식 구조 함유 중합체는, 그 유리 전이 온도가, 바람직하게는 80℃ 이상, 보다 바람직하게는 100℃~250℃이다. 유리 전이 온도가 이러한 범위에 있는 지환식 구조 함유 중합체는, 고온하에서의 사용에 있어서의 변형 및 응력이 발생하기 어려워, 내구성이 우수하다.
지환식 구조 함유 중합체의 분자량은, 용매로서 시클로헥산(수지가 용해되지 않는 경우에는 톨루엔)을 사용한 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(이하, 「GPC」라고 약칭한다.)로 측정한 폴리이소프렌 환산(용매가 톨루엔일 때에는, 폴리스티렌 환산)의 중량 평균 분자량(Mw)으로, 통상 10,000~100,000, 바람직하게는 25,000~80,000, 보다 바람직하게는 25,000~50,000이다. 중량 평균 분자량이 이러한 범위에 있을 때에, 기재 필름의 기계적 강도 및 성형 가공성이 고도로 균형을 이룬다.
지환식 구조 함유 중합체의 분자량 분포(중량 평균 분자량(Mw)/수평균 분자량(Mn))는, 통상 1~10, 바람직하게는 1~4, 보다 바람직하게는 1.2~3.5이다.
지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지는, 지환식 구조 함유 중합체만으로 이루어져도 되지만, 본 발명의 효과를 현저하게 손상하지 않는 한, 임의의 배합제를 포함해도 된다. 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지 중의 지환식 구조 함유 중합체의 비율은, 바람직하게는 70 중량% 이상, 보다 바람직하게는 80 중량% 이상이다.
지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지로는, 여러가지 상품이 시판되고 있으므로, 그들 중, 원하는 특성을 갖는 것을 적당히 선택하여, 수지 B로서 사용할 수 있다. 이러한 시판품의 예로는, 상품명 「ZEONOR」(닛폰 제온 주식회사 제조)의 제품군을 들 수 있다.
〔4. 적층 필름의 치수 및 특성〕
본 발명의 적층 필름은, 그 열가소성 수지 A의 열 연화 온도 Ts[A], 열가소성 수지 B의 열 연화 온도 Ts[B], A층의 두께 t[A], B층의 두께 t[B], 적층 필름의 면내 방향의 리타데이션 Re(total), 및 B층의 면배향 계수 P[B]가, 하기 식(1)~(6)을 만족한다.
(1) 130℃ ≤ Ts[A] ≤ 145℃
(2) 120℃ ≤ Ts[B] ≤ 145℃
(3) 0 ≤ Re(total) ≤ 5 nm
(4) 20 μm ≤ t[A] ≤ 50 μm
(5) 1 μm ≤ t[B] ≤ 15 μm
(6) 1.0 × 10-5 ≤ |P[B]| ≤ 2.0 × 10-3
열 연화 온도 Ts[A] 및 Ts[B]에 관하여, Ts[A]는, 130℃ 이상, 바람직하게는 135℃ 이상이고, 145℃ 이하, 바람직하게는 142℃ 이하이다. Ts[B]는, 120℃ 이상, 바람직하게는 123℃ 이상이고, 145℃ 이하, 바람직하게는 137℃, 더욱 바람직하게는 135℃ 이하이다.
적층 필름의 면내 방향의 리타데이션 Re(total)는, 5 nm 이하, 바람직하게는 4 nm 이하이다. Re(total)의 하한은, 이상적으로는 0 nm이다.
A층의 두께 t[A]는, 20 μm 이상, 바람직하게는 22 μm 이상이고, 50 μm 이하, 바람직하게는 40 μm 이하이다. B층의 두께 t[B]는, 1 μm 이상, 바람직하게는 1.4 μm 이상이고, 15 μm 이하, 바람직하게는 14.0 μm 이하, 더욱 바람직하게는 4 μm 이하, 보다 더 바람직하게는 3.5 μm 이하이다.
적층 필름이, 2층 이상의 A층을 포함하는 경우, 상술한 두께의 범위는, 각각 1층의 A층의 두께의 범위이다. 마찬가지로, 적층 필름이, 2층 이상의 B층을 포함하는 경우, 상술한 두께의 범위는, 각각 1층의 B층의 두께의 범위이다.
B층의 면배향 계수 P[B]는, 1.0 × 10-5 이상, 바람직하게는 1.5 × 10-5 이상이고, 한편 2.0 × 10-3 이하, 바람직하게는 1.5 × 10-3 이하이다.
본 발명의 적층 필름은, A층 및 B층을 구성하는 재료로서 상술한 특정한 재료를 채용하고, 또한 식(1)~(6)을 만족함으로써, 편광자 보호 필름으로서 유용하게 사용할 수 있는 적층 필름으로 할 수 있다. 구체적으로는, A층을 구성하는 재료로서 상술한 특정한 열가소성 수지 A를 갖는 것을 채용하고, B층을 구성하는 재료로서 상술한 특정한 범위의 면배향 계수를 부여하는 것을 채용하고, 수지 A 및 B로서 열 연화 온도 Ts[A] 및 Ts[B]가 상술한 특정한 범위가 되는 것을 채용하고, 또한 A층 및 B층의 두께를 (4)~(5)의 범위로 함으로써, (3)에 규정되는 낮은 Re(total)를 가지면서, 편광자와 첩합하였을 때의 박리 강도가 높고, 각 층 사이의 밀착성이 높고, 또한 면내 방향의 리타데이션이 작은 적층 필름을 얻을 수 있다. 게다가, 특히 B층을 구성하는 수지 B로서 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지를 채용한 경우에 있어서, 상술한 조건을 만족하는 적층 필름을 구성한 경우에 있어서, 각 층 사이의 밀착성의 높이와, 기타 특성을 양호하게 겸비한 적층 필름을 용이하게 얻을 수 있다.
적층 필름이 A층 및 B층 중 어느 1종 이상을 2층 이상 구비하는 경우, 이웃하는 A층 및 B층의 세트 중, 어느 1 이상이 상술한 요건을 만족하는 경우, 당해 세트에 있어서는 적어도 본 발명의 효과를 얻을 수 있다. 단, 모든 세트가 상술한 요건을 만족하는 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 적층 필름이 (B층)/(A층)/(B'층)의 층 구성을 갖는 경우, (B층)/(A층)의 세트, 및 (A층)/(B'층)의 세트의 어느 일방이 식(1)~(6)을 만족하는 경우, 적어도 당해 세트의 층간에 있어서는 높은 밀착성 등의 본 발명의 효과가 얻어진다. 단, 양방의 세트가 식(1)~(6)을 만족하는 것이 보다 바람직하다.
각 수지의 열 연화 온도Ts는, TMA(열기계적 분석) 측정으로 측정할 수 있다. 예를 들어, 측정 대상의 필름을 5 mm × 20 mm의 형상으로 잘라내어 시료로 하고, TMA/SS7100(에스아이아이·나노테크놀로지 주식회사 제조)을 사용하여, 시료의 길이 방향으로 50mN의 장력을 가한 상태에서, 온도를 변화시켜, 선팽창이 3% 변화하였을 때의 온도(℃)를, 연화 온도로서 계측할 수 있다.
각 층의 두께는, 현미경관찰로 측정할 수 있다. 구체적으로는, 적층 필름을, 마이크로톰을 사용하여 슬라이스하고, 절단면을 관찰함으로써 각 층의 두께를 측정할 수 있다. 절단면의 관찰은, 예를 들어 편광현미경(예를 들어 올림푸스사 제조 「BX51」)으로 행할 수 있다.
적층 필름의 위상차는, 파장 532 nm로, 위상차 측정 장치를 사용하여 측정할 수 있다. 측정 장치로는, 예를 들어 제품명 「Axoscan」(Axometric사 제조)을 사용할 수 있다.
B층의 면배향 계수는, 굴절률을 측정하는 장치(예를 들어 메트리콘사 제조 프리즘 커플러 굴절률계 Model2010)를 사용하여, B층의 굴절률 nx, ny, nz를 측정하고, 식 P[B]= (nx+ny)/2-nz에 기초하여 산출할 수 있다.
본 발명의 적층 필름은, 그 밀착성이 양호한 것으로 할 수 있다. 여기서 말하는 밀착성이란, 적층 필름을 구성하는 각 층 사이의 밀착성이다. 밀착성은, 예를 들어, 적층 필름을 손으로 찢었을 때, 갈라진 곳에 있어서, 층간의 박리가 발생하지 않는 경우에 양호로 평가할 수 있다. 또한, 본 발명의 적층 필름은, 편광자와 첩합하였을 때의 박리 강도가 높은 것으로 할 수 있다.
본 발명의 적층 필름은, 통상, 투명한 층이며 가시광선을 투과시킨다. 구체적인 광선 투과율은 적층 필름의 용도에 따라 적당히 선택할 수 있다. 예를 들어, 파장 420 nm~780 nm에서의 광선 투과율은, 바람직하게는 85% 이상, 보다 바람직하게는 88% 이상이다. 이와 같이 높은 광선 투과율을 가짐으로써, 적층 필름을 액정 표시 장치 등의 표시 장치에 실장한 경우에, 특히 장기간 사용시의 휘도 저하를 억제할 수 있다.
〔5. 임의의 층〕
본 발명의 적층 필름은, A층 및 B층에 더하여, 임의의 층을 구비할 수 있다. 임의의 층의 예로는, 표면경도를 높이는 하드 코트층, 필름의 미끄러짐성을 좋게 하는 매트층, 반사 방지층 등을 들 수 있다.
〔6. 적층 필름의 제조 방법〕
본 발명의 적층 필름의 제조 방법은, 특별히 한정되지 않고, 임의의 제조 방법을 채용할 수 있다. 예를 들어, 수지 A 및 수지 B를 조제하고, 이들을 원하는 형상으로 성형함으로써, 본 발명의 적층 필름을 제조할 수 있다. 수지 A 및 수지 B를 성형하기 위한 성형 방법의 바람직한 예로는, 공압출에 의한 용융 압출성형을 들 수 있다. 이러한 용융 압출성형을 행함으로써, 원하는 각 층 두께를 갖는 적층 필름을 효율적으로 제조할 수 있다.
공압출에 의한 용융 압출 성형을 행할 때의 수지의 온도(이하, 임의로 「압출 온도」라고 하는 경우가 있다.)는, 특별히 한정되지 않고, 각각의 수지를 용융시킬 수 있는 온도로서, 성형에 적합한 온도를 적당히 설정할 수 있다. 구체적으로는, Ts[A] 및 Ts[B] 중 높은 쪽의 온도 Ts[H]를 기준으로 설정할 수 있다. 보다 구체적으로는, 바람직하게는 (Ts[H]+70)℃ 이상, 보다 바람직하게는 (Ts[H]+80)℃ 이상이고, 한편, 바람직하게는 (Ts[H]+180)℃ 이하, 보다 바람직하게는 (Ts[H]+150)℃ 이하이다.
용융압출 성형에 따르면, 장척의 수지 필름을 얻을 수 있다. 이 수지 필름은, 그대로 본 발명의 적층 필름으로 할 수 있다. 또는, 이 수지 필름을, 추가로 임의의 처리에 제공하여, 그에 의해 얻어진 것을 본 발명의 적층 필름으로 할 수 있다. 그러한 연신 필름인 적층 필름은, 구체적으로는: 열가소성 수지 A로 이루어지는 a층, 및 a층의 적어도 일방의 면 상에 형성된 열가소성 수지 B로 이루어지는 b층을 구비하는 연신 전 필름을 조제하는 공정; 및 연신 전 필름을, 적어도 1의 방향으로 연신하는 연신 공정을 포함하는 제조 방법에 의해 제조할 수 있다. 수소화 블록 공중합체[G]가 포함하는 구조 단위의 비율을 적절하게 조정함으로써, 연신에 의해 필름에 발현하는 리타데이션을 작게 하는 것이 가능하다. 따라서, 상기의 연신 처리를 통해, 두께가 얇고, 면적이 크고, 또한 품질이 양호한 적층 필름을 용이하게 제조하는 것이 가능하게 되므로, 제조의 효율을 향상시킬 수 있다.
적층 필름으로서 연신 필름을 제조하는 경우의 연신 조건은, 상술한 적층 필름이 얻어지도록 적절하게 조정할 수 있다. 연신 처리에서 행하는 연신은, 1축연신, 2축 연신, 또는 기타 연신으로 할 수 있다. 연신 방향은, 임의의 방향으로 설정할 수 있다. 예를 들어, 연신 전 필름이 장척의 필름인 경우, 연신 방향은, 필름의 길이 방향, 폭 방향, 및 그 이외의 경사 방향의 어느 것이라도 좋다. 2축 연신을 행하는 경우의 2의 연신 방향이 이루는 각도는, 통상은 서로 직교하는 각도로 할 수 있으나, 그것에 한하지 않고 임의의 각도로 할 수 있다. 2축 연신은, 축차 2축 연신이어도 되고, 동시 2축 연신이어도 된다.
연신 온도는, Ts[A] 및 Ts[B] 중 높은 쪽의 온도 Ts[H]를 기준으로 설정할 수 있다. 구체적으로는, 바람직하게는 (Ts[H]+10)℃ 이상, 보다 바람직하게는 (Ts[H]+13)℃ 이상이고, 한편, 바람직하게는 (Ts[H]+50)℃ 이하, 보다 바람직하게는 (Ts[H]+45)℃ 이하이다. 연신 온도가 상기의 온도범위에 들어감으로써, 상기 특성을 갖는 적층 필름으로서의 연신 필름을 용이하게 얻을 수 있다.
연신 배율은, 바람직하게는 1.1배 이상, 보다 바람직하게는 1.15배 이상, 특히 바람직하게는 1.2배 이상이고, 바람직하게는 2.5배 이하, 보다 바람직하게는 2.25배 이하, 특히 바람직하게는 2배 이하이다. 연신 배율이 상기의 온도 범위에 들어감으로써, 상기 특성을 갖는 적층 필름으로서의 연신 필름을 용이하게 얻을 수 있다. 2축 연신의 경우에는, 2의 연신 방향 각각의 배율을 이 범위 내로 할 수 있다.
〔7. 적층 필름의 용도: 편광판〕
본 발명의 적층 필름은, 액정 표시 장치 등의 표시 장치에서, 다른 층을 보호하는 보호 필름으로서 호적하게 사용할 수 있다. 그 중에서도, 본 발명의 적층 필름은, 편광자 보호 필름으로서 호적하고, 표시 장치의 내측편광자 보호 필름으로서 특히 호적하다.
본 발명의 편광판은, 편광자와, 상술한 적층 필름을 구비한다. 본 발명의 편광판에 있어서, 적층 필름은, 편광자 보호 필름으로서 기능할 수 있다. 본 발명의 편광판은 또한, 적층 필름과 편광자 사이에, 이들을 접착하기 위한 접착제층을 구비해도 된다.
편광자는, 특별히 한정되지 않고, 임의의 편광자를 사용할 수 있다. 편광자의 예로는, 폴리비닐알코올 필름에, 요오드, 이색성 염료 등의 재료를 흡착시킨 후, 연신 가공한 것을 들 수 있다. 접착제층을 구성하는 접착제로는, 각 종 중합체를 베이스 폴리머로 한 것을 들 수 있다. 이러한 베이스 폴리머의 예로는, 예를 들어, 아크릴 중합체, 실리콘 중합체, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리에테르, 및 합성 고무를 들 수 있다.
편광판이 구비하는 편광자와 보호 필름의 수는 임의이지만, 본 발명의 편광판은, 통상은, 1층의 편광자와, 그 양면에 설치된 2층의 보호 필름을 구비할 수 있다. 이러한 2층의 보호 필름 중, 양방이 본 발명의 적층 필름이어도 되고, 어느 일방만이 본 발명의 적층 필름이어도 된다. 특히, 광원 및 액정 셀을 구비하고, 이러한 액정 셀의 광원측 및 표시면측의 양방에 편광판을 갖는 액정 표시 장치에 있어서, 표시면측의 편광자보다 광원측의 위치에서 사용하는 보호 필름으로서, 본 발명의 적층 필름을 구비하는 것이 특히 바람직하다. 이러한 구성을 가짐으로써, 경사 시야각의 광 누출 및 색 불균일이 작은 양호한 표시 품질을 갖는 액정 표시 장치를 용이하게 구성할 수 있다.
본 발명의 편광판을 설치하기에 적합한 액정 표시 장치로는, 예를 들어, 인플레인 스위칭(IPS)모드, 버티컬 얼라인먼트(VA)모드, 멀티 도메인 버티컬 얼라인먼트(MVA)모드, 컨티뉴어스 핀휠 얼라인먼트(CPA)모드, 하이브리드 얼라인먼트 네마틱(HAN)모드, 트위스티드 네마틱(TN)모드, 슈퍼 트위스티드 네마틱(STN)모드, 옵티컬 컴펜세이티드 벤드(OCB)모드 등의 구동방식의 액정 셀을 구비하는 액정 표시 장치를 들 수 있고, 그 중에서도, 본 발명의 적층 필름에 의한 경사 시야각의 광 누출 및 색 불균일 억제의 효과가 현저한 점에서, IPS모드의 액정 셀을 구비하는 액정 표시 장치가 특히 바람직하다.
[실시예]
이하, 실시예를 나타내어 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 및 그 균등한 범위를 일탈하지 않는 범위에 있어서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.
이하의 설명에 있어서, 양을 나타내는 「%」 및 「부」는, 별도로 언급하지 않는 한 중량기준이다. 또한, 이하에 설명하는 조작은, 별도로 언급하지 않는 한, 상온 및 상압의 조건에서 실시하였다.
이하의 설명에 있어서, 적층 필름이 2층의 B층을 갖는 경우, 구별을 위하여 일방의 기호에 「'」를 붙여 표현하는 경우가 있다. 예를 들어 적층 필름이 2층의 B층을 갖는 경우, 구별하기 위하여,그들의 일방을 B'층이라고 표현하는 경우가 있다.
〔평가 방법〕
〔중량 평균 분자량 및 수평균 분자량의 측정 방법〕
중합체의 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량은, 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC)시스템(토소사 제조 「HLC-8320」)을 사용하여, 폴리스티렌 환산값으로서 측정하였다. 측정시, 칼럼으로는 H타입 칼럼(토소사 제조)을 사용하고, 용매로는 테트라하이드로푸란을 사용하였다. 또한, 측정시의 온도는, 40℃였다.
〔수소화 블록 공중합체[G]의 수소화율의 측정 방법〕
중합체의 수소화율은, 오르토디클로로벤젠-d4를 용매로 하여, 145℃에서, 1H-NMR 측정으로 측정하였다.
〔각 층 두께의 측정 방법〕
각 층의 두께는, 다음과 같이 하여 측정하였다.
측정 대상의 필름을, 마이크로톰(야마토코키사 제조 「RV-240」)을 사용하여 슬라이스하였다. 슬라이스한 필름의 절단면을, 편광 현미경(올림푸스사 제조 「BX51」)으로 관찰하고, 그 두께를 측정하였다.
〔열 연화 온도 Ts의 측정 방법〕
측정 대상의 필름을 5 mm × 20 mm의 형상으로 잘라내어 시료로 하였다. 측정 장치로서, TMA/SS7100(에스아이아이·나노테크놀로지 주식회사 제조)을 사용하였다. TMA(열기계적 분석) 측정에 있어서, 시료의 길이 방향으로 50mN의 장력을 가한 상태에서, 온도를 변화시켰다. 선팽창이 3% 변화하였을 때의 온도(℃)를, 연화 온도로 하였다.
〔위상차 및 면배향 계수의 측정 방법〕
파장 532 nm에서 위상차 측정 장치(Axometric사 제조제품명 「Axoscan」)를 사용하여, 적층 필름 전체의 위상차 Re(total)를 측정하였다. 또한, 메트리콘사 제조 프리즘 커플러 굴절률계 Model2010을 사용하여 파장 532 nm에서의 B층의 굴절률 nx, ny, nz를 측정하고, 이하 식에 따라 B층의 위상차 Re[B]와 B층의 면배향 계수 P[B]를 산출하였다.
Re[B]= (nx-ny)×d[B]
P[B]= (nx+ny)/2-nz
그 후, 적층 필름 전체의 위상차 Re(total)로부터 B층의 위상차 Re[B]의 차를 구함으로써, A층의 위상차 Re[A]를 산출하였다.
〔각 층의 밀착성〕
실시예 및 비교예에서 얻어진 적층 필름을 20 cm × 20 cm로 재단하고, 4변을 각각 5 cm 손으로 찢었을 때, 4변 모든 찢기에서, 갈라진 곳에 있어서 층간의 박리가 발생하지 않는 경우를 양호라고 판정하였다.
〔박리 강도의 측정 방법〕
편광판 대용의 필름으로서, 노르보르넨계 중합체를 포함하는 수지로 이루어지는 시험용 필름(유리 전이 온도 160℃, 두께 100 μm, 닛폰 제온사 제조, 연신 처리를 실시하지 않은 것)을 준비하였다. 적층 필름 및 상기 시험용 필름의 편면에, 코로나 처리를 실시하였다. 적층 필름의 코로나 처리를 실시한 면, 및 시험용 필름의 코로나 처리한 면에 접착제를 부착시키고, 접착제를 부착시킨 면끼리를 첩합하였다. 이 때, 접착제로는 UV접착제(CRB시리즈(토요켐사 제조)를 사용하였다. 이에 의해, 적층 필름 및 시험용 필름을 구비하는 샘플 필름을 얻었다.
그 후, 상기 샘플 필름을 15 mm의 폭으로 재단하여, 적층 필름측을 슬라이드 유리의 표면에 점착제로 첩합하였다. 이 때, 점착제로는, 양면점착테이프(닛토덴코사 제조, 품번 「CS9621」)를 사용하였다.
포스게이지의 선단 사이에 상기 시험용 필름을 두고, 슬라이드 유리의 표면의 법선 방향으로 잡아당김으로써, 90도 박리시험을 실시하였다. 이 때, 시험용 필름이 벗겨질 때에 측정된 힘은, 적층 필름과 시험용 필름을 박리시키기 위하여 필요로 하는 힘이므로, 이 힘의 크기를 박리 강도로서 측정하였다.
측정된 박리 강도는, 이하의 기준으로 평가하였다.
A: 박리 강도가 6.0N/mm 이상이거나, 또는 박리 전에 재료파괴가 발생하였다.
B: 박리 강도가 1.5N/15 mm 이상 6.0N/15 mm 미만이다.
C: 박리 강도가 1.5N/15 mm 미만이다.
(박리 강도의 측정 방법에 대한 보충)
상기의박리 강도의 측정 방법에서는, 편광판 대신에 특정한 시험용 필름을 사용하고 있다. 이와 같이, 편광판 대신에 시험용 필름을 사용하여 박리 강도의 측정을 행하는 것의 타당성을 검증하기 위하여, 실시예 1에서 얻어진 위상차 필름 적층체에 대해, 발명자는 이하의 실험을 실시하였다.
시험용 필름 대신에, 일본 공개특허공보 2005-70140호의 실시예 1에 따라, 편광 필름의 편방의 표면에 위상차 필름 적층체를 첩합하고, 편광 필름의 다른 편방의 표면에는 트리아세틸셀룰로오스 필름을 첩합하여, 90도 박리시험을 실시하였다. 즉, 먼저, 일본 공개특허공보 2005-70140호의 실시예 1에 기재된 편광 필름 및 접착제를 준비하였다. 준비한 편광 필름의 편방의 표면에, 위상차 필름 적층체의 코로나 처리를 실시한 면을, 상기의 접착제를 개재하여 첩합하였다. 또한, 편광 필름의 다른 편방의 표면에는, 상기의 접착제를 개재하여 트리아세틸셀룰로오스 필름을 첩합하였다. 그 후, 80℃에서 7분간 건조시켜 접착제를 경화시켜, 샘플 필름을 얻었다. 얻어진 샘플 필름에 대하여 90도 박리시험을 실시하였다.
상기의 실험의 결과, 편광판 대신에 시험용 필름을 사용한 경우와 동일한 결과가 얻어졌다. 따라서, 편광판 대신에 시험용 필름을 사용한 하기의 실시예 및 비교예의 결과는, 타당한 것이다.
〔제조예1〕
(P1-1) 블록 공중합체[F1]의 제조
교반 장치를 구비하고, 내부가 충분히 질소 치환된 반응기에, 탈수 시클로헥산 270부, 탈수 스티렌 75부 및 디부틸에테르 7.0부를 넣었다. 전체를 60℃에서 교반하면서, n-부틸리튬(15% 시클로헥산 용액) 5.6부를 첨가하여 중합을 개시시켰다. 계속해서 전체를 60℃에서 60분간 교반하였다. 반응 온도는, 반응 정지까지 60℃를 유지하였다. 이 시점(중합 제1단계)에서 반응액을 가스 크로마토그래피(이하, 「GC」라고 기재하는 경우가 있다.) 및 GPC로 분석한 결과, 중합 전화율은 99.4%였다.
다음으로, 반응액에, 탈수 이소프렌 15부를 40분간에 걸쳐 연속적으로 첨가하고, 첨가 종료 후 그대로 30분간 교반을 계속하였다. 이 시점(중합 제2단계)에서, 반응액을 GC 및 GPC로 분석한 결과, 중합 전화율은 99.8%였다.
그 후, 이어서, 반응액에 탈수 스티렌 10부를, 30분간에 걸쳐 연속적으로 첨가하고, 첨가 종료 후 그대로 30분 교반하였다. 이 시점(중합 제3단계)에서, 반응액을 GC 및 GPC로 분석한 결과, 중합 전화율은 대략 100%였다.
여기서, 이소프로필알코올 1.0부를 첨가하여 반응을 정지시킴으로써, [D1]-[E]-[D2]형의 블록 공중합체[F1]를 포함하는 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 블록 공중합체[F1]에 있어서는, Mw[F1]=82,400, Mw/Mn은 1.32, wA:wB=85:15였다.
(P1-2) 수소화 블록 공중합체[G1]의 제조
(P1-1)에서 얻은 중합체 용액을, 교반 장치를 구비한 내압 반응기에 이송하고, 수소화 촉매로서, 규조토 담지형 니켈촉매(제품명 「E22U」, 니켈 담지량 60%, 닛키 촉매 화성사 제조) 4.0부, 및 탈수 시클로헥산 30부를 첨가하여 혼합하였다. 반응기 내부를 수소 가스로 치환하고, 또한 용액을 교반하면서 수소를 공급하여, 온도 190℃, 압력 4.5MPa로 6시간 수소화 반응을 행하였다.
수소화 반응에 의해 얻어진 반응 용액에는, 수소화 블록 공중합체[G1]가 포함되어 있었다. 수소화 블록 공중합체의 Mw[G1]는 71,800, 분자량 분포 Mw/Mn은 1.30, 수소화율은 대략 100%였다.
수소화 반응종료 후, 반응 용액을 여과하여 수소화 촉매를 제거한 후, 페놀계 산화 방지제인 펜타에리스리틸·테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트](제품명 「AO60」, ADEKA사 제조) 0.3부를 용해한 크실렌 용액 2.0부를 첨가해 용해하여, 용액으로 하였다.
이어서, 상기 용액을, 원통형 농축 건조기(제품명 「콘트로」, 히타치 제작소사 제조)를 사용하여, 온도 260℃, 압력 0.001MPa 이하로 처리하고, 용액으로부터 시클로헥산, 크실렌 및 기타 휘발 성분을 제거하여, 용융된 수지를 얻었다. 이것을 다이로부터 스트랜드상으로 압출, 냉각하고, 펠리타이저에 의해 펠릿으로 성형하였다. 이에 의해, 수소화 블록 공중합체[G1]를 포함하는, 수지[G1]의 펠릿 95부를 제조하였다.
얻어진 수지[G1]에 있어서의 수소화 블록 공중합체[G1]는, Mw[G1]=68,500, Mw/Mn=1.30, Ts=139℃였다.
〔제조예2〕
(P2-1) 블록 공중합체[F2]의 제조
교반 장치를 구비하고, 내부가 충분히 질소 치환된 반응기에, 탈수 시클로헥산 270부, 탈수 스티렌 70부 및 디부틸에테르 7.0부를 넣었다. 전체를 60℃에서 교반하면서, n-부틸리튬(15% 시클로헥산 용액) 5.6부를 첨가하여 중합을 개시시켰다. 계속해서 전체를 60℃에서 60분간 교반하였다. 반응 온도는, 반응 정지까지 60℃를 유지하였다. 이 시점(중합 제1단계)에서 반응액을 GC 및 GPC로 분석한 결과, 중합 전화율은 99.4%였다.
다음으로, 반응액에, 탈수 이소프렌 20부를 40분간에 걸쳐 연속적으로 첨가하고, 첨가 종료 후 그대로 30분간 교반을 계속하였다. 이 시점(중합 제2단계)에서, 반응액을 GC 및 GPC로 분석한 결과, 중합 전화율은 99.8%였다.
그 후, 이어서, 반응액에 탈수 스티렌 10부를, 30분간에 걸쳐 연속적으로 첨가하고, 첨가 종료 후 그대로 30분 교반하였다. 이 시점(중합 제3단계)에서, 반응액을 GC 및 GPC로 분석한 결과, 중합 전화율은 대략 100%였다.
여기서, 이소프로필알코올 1.0부를 첨가하여 반응을 정지시킴으로써, [D1]-[E]-[D2]형의 블록 공중합체[F2]를 포함하는 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 블록 공중합체[F2]에 있어서는, Mw[F2]=83,400, Mw/Mn은 1.32, wA:wB=80:20이었다.
(P2-2) 수소화 블록 공중합체[G2]의 제조
(P2-1)에서 얻은 중합체 용액을, 교반 장치를 구비한 내압 반응기에 이송하고, 수소화 촉매로서, 규조토 담지형 니켈촉매(제품명 「E22U」, 니켈 담지량 60%, 닛키 촉매 화성사 제조) 4.0부, 및 탈수 시클로헥산 30부를 첨가하여 혼합하였다. 반응기 내부를 수소 가스로 치환하고, 또한 용액을 교반하면서 수소를 공급하여, 온도 190℃, 압력 4.5MPa로 6시간 수소화 반응을 행하였다.
수소화 반응에 의해 얻어진 반응 용액에는, 수소화 블록 공중합체[G2]가 포함되어 있었다. 수소화 블록 공중합체[G2]의 Mw[G2]는 72,800, 분자량 분포 Mw/Mn은 1.30, 수소화율은 대략 100%였다.
수소화반응 종료 후, 반응 용액을 여과하여 수소화 촉매를 제거한 후, 페놀계 산화 방지제인 펜타에리스리틸·테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트](제품명 「AO60」, ADEKA사 제조) 0.3부를 용해한 크실렌 용액 2.0부를 첨가해 용해하여, 용액으로 하였다.
이어서, 상기 용액을, 원통형 농축 건조기(제품명 「콘트로」, 히타치 제작소사 제조)를 사용하여, 온도 260℃, 압력 0.001MPa 이하로 처리하고, 용액으로부터 시클로헥산, 크실렌 및 기타 휘발 성분을 제거하여, 용융된 수지를 얻었다. 이것을 다이로부터 스트랜드상으로 압출, 냉각하고, 펠리타이저로 펠릿으로 성형하였다. 이에 의해, 수소화 블록 공중합체[G2]를 포함하는, 수지[G2]의 펠릿 95부를 제조하였다.
얻어진 수지[G2]에 있어서의 수소화 블록 공중합체[G2]는, Mw[G2]=69,500, Mw/Mn=1.30, Ts=138℃였다.
〔제조예3〕
(트리블록 공중합체 수소화물(G3)의 제조)
국제 공개 2014/077267호의 참고예 1의 「·블록 공중합체 수소화물[2-a]의 합성」에 기재된 방법에 따라, 스티렌 25부, 이소프렌 50부 및 스티렌 25부를 이 순서로 중합하여, 트리블록 공중합체 수소화물(G3)(중량 평균 분자량 Mw=48,200; 분자량 분포 Mw/Mn=1.04; 주쇄 및 측쇄의 탄소-탄소 불포화 결합, 그리고, 방향환의 탄소-탄소 불포화 결합의 수소화율 대략 100%)의 펠릿을 제조하였다.
〔실시예1〕
(1-1. 수지 필름의 제조)
체눈 3 μm의 리프 디스크 형상의 폴리머 필터를 구비하는, 더블 플라이트형단축압출기(스크루의 직경 D=50 mm, 스크루의 길이 L과 스크루의 직경 D의 비 L/D=28)를 준비하였다. 이 단축압출기에, 열가소성 수지 A로서, 제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1]를 도입하고, 용융시켜, 피드블록을 통하여 단층 다이에 공급하였다. 단축 압출기로의 수지 A의 도입은, 단축 압출기에 장전된 호퍼를 통하여 행하였다. 또한, 상기의 단층 다이의 다이스 립의 표면 거칠기(산술 평균 거칠기 Ra)는, 0.1μm였다. 또한, 수지 A의 압출기 출구 온도는, 260℃였다.
한편, 체눈 3 μm의 리프 디스크 형상의 폴리머 필터를 구비하는 단축 압출기(스크루의 직경 D=50 mm, 스크루의 길이 L과 스크루의 직경 D의 비 L/D=30) 1대를 준비하였다. 이 단축 압출기에, 열가소성 수지 B로서, 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지 B1(닛폰 제온사 제조, 열 연화 온도 136℃)을 도입하고, 용해시켜, 피드블록을 통하여 상기의 단층 다이에 공급하였다. 수지 B의 압출기 출구 온도는, 260℃였다.
수지 A 및 수지 B를, 260℃의 용융 상태에서 단층 다이로부터 토출시켰다. 그에 의해 수지 B로 이루어지는 층, 수지 A로 이루어지는 층, 및 수지 B로 이루어지는 층의 3층을 이 순서로 구비하는 필름상의 수지를 연속적으로 형성하였다(공압출 성형 공정). 토출된 필름상의 수지를, 냉각 롤에 캐스트하였다. 캐스트시에는, 필름상의 수지의 폭 방향 단부를 냉각 롤에 고정하는 에지 피닝을 행하고, 에어갭량은 50 mm로 설정하였다. 이에 의해, 필름상의 수지를 냉각하여, 3층 구조의 수지 필름을 얻었다.
(1-2. 적층 필름의 제조 및 평가)
(1-1)에서 얻은 3층 구조의 수지 필름의 양단을 트리밍하여, 폭을 1300 mm로 하고, 장척의 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은, 수지 B로 이루어지는 B층, 수지 A로 이루어지는 A층, 및 수지 B로 이루어지는 B'층을 이 순서로 구비하는, 2종 3층의 필름이었다. 이 적층 필름의 총 두께는, 40.0μm였다. B층/A층/B'층의 각 층 두께는, 2.0 μm/36.0 μm/2.0 μm였다. 적층 필름의 면내 방향의 리타데이션 Re(total)는 3.7 nm였다. B층 및 B'층의 면배향 계수 P[B]는 2.6 × 10-4였다. 각 층의 밀착성은 양호하고, 박리 강도는, 재료 파괴에 의해 측정 불가이며, 따라서 A라고 판정되었다.
〔실시예2〕
하기의 변경점 이외에는, 실시예 1과 동일한 조작으로, 적층 필름을 제조하여 평가하였다.
·제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1] 대신에, 제조예 2에서 얻은 펠릿상의 수지[G2]를 사용하였다.
〔실시예3〕
하기의 변경점 이외에는, 실시예 1과 동일한 조작으로, 적층 필름을 제조하여 평가하였다.
·열가소성 수지 B로서, 수지 B1 대신에, 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지 B2(닛폰 제온사 제조, 열 연화 온도 128℃)를 사용하였다.
·수지 A 및 수지 B의 압출의 조건을 변경하고, 그에 의해 적층 필름의 총 두께 40.0 μm, B층/A층/B'층의 각 층 두께 3.0 μm/34.0 μm/3.0 μm로 하였다.
〔실시예4〕
하기의 변경점 이외에는, 실시예 1과 동일한 조작으로, 적층 필름을 제조하여 평가하였다.
·제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1] 대신에, 제조예 2에서 얻은 펠릿상의 수지[G2]를 사용하였다.
·열가소성 수지 B로서, 수지 B1 대신에, 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지 B2(닛폰 제온사 제조, 열 연화 온도 128℃)를 사용하였다.
·수지 A 및 수지 B의 압출의 조건을 변경하고, 그에 의해 적층 필름의 총 두께 40.0 μm, B층/A층/B'층의 각 층 두께 3.0 μm/34.0 μm/3.0 μm로 하였다.
〔실시예5〕
실시예 1의 (1-1)과 동일한 조작으로, 3층 구조의 수지 필름을 얻었다.
얻어진 수지 필름을, 필름 폭 방향으로 연속적으로 연신하였다. 연신에는, 텐터식 횡연신기를 사용하여, 필름의 양단부를 클립으로 파지하고, 클립의 폭 방향의 간격을 확장함으로써 행하였다. 연신의 조건은, 온도 160℃, 연신 배율 1.5배로 하였다. 연신 후, 필름의 양단을 트리밍하여, 폭을 1330 mm로 하고, 연신된 장척의 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은, 수지 B로 이루어지는 B층, 수지 A로 이루어지는 A층, 및 수지 B로 이루어지는 B'층을 이 순서로 구비하는, 2종 3층의 필름이었다. 이 적층 필름의 B층/A층/B'층의 각 층 두께는, 1.3 μm/24.0 μm/1.3 μm였다. 적층 필름의 면내 방향의 리타데이션 Re(total)는 3.0 nm였다. B층 및 B'층의 면배향 계수 P[B]는 1.2 × 10-3이었다. 각 층의 밀착성은 양호하고, 박리 강도는 3.4 N/15 mm이며, 따라서 B라고 판정되었다.
〔실시예6〕
하기의 변경점 이외에는, 실시예 5와 동일한 조작으로, 적층 필름을 제조하여 평가하였다.
·제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1] 대신에, 제조예 2에서 얻은 펠릿상의 수지[G2]를 사용하였다.
〔실시예7〕
하기의 변경점 이외에는, 실시예 5와 동일한 조작으로, 적층 필름을 제조하여 평가하였다.
·열가소성 수지 B로서, 수지 B1 대신에, 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지 B2(닛폰 제온사 제조, 열 연화 온도 128℃)를 사용하였다.
·수지 A 및 수지 B의 압출의 조건을 변경하였다. 단, 그 후의 연신 등의 조작은 변경하지 않고, 실시예 5와 동일한 조작으로 하였다. 그 결과, 적층 필름의 B층/A층/B'층의 각 층 두께 2.0 μm/22.7 μm/2.0 μm로 하였다.
〔실시예8〕
하기의 변경점 이외에는, 실시예 5와 동일한 조작으로, 적층 필름을 제조하여 평가하였다.
·제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1] 대신에, 제조예 2에서 얻은 펠릿상의 수지[G2]를 사용하였다.
·열가소성 수지 B로서, 수지 B1 대신에, 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지 B2(닛폰 제온사 제조, 열 연화 온도 128℃)를 사용하였다.
·수지 A 및 수지 B의 압출의 조건을 변경하였다. 단, 그 후의 연신 등의 조작은 변경하지 않고, 실시예 5와 동일한 조작으로 하였다. 그 결과, 적층 필름의 B층/A층/B'층의 각 층 두께 2.0 μm/22.7 μm/2.0 μm로 하였다.
〔실시예9〕
(9-1. 펠릿 블렌드물의 제조)
제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1]와 제조예 3에서 얻은 펠릿상의 수지[G3]를, 펠릿상 그대로 [G1]:[G3]=8:2(중량비)의 비율로 혼합하였다. 이에 의해, 펠릿 블렌드물을 얻었다.
(9-2. 적층 필름의 제조 및 평가)
하기의 변경점 이외에는, 실시예 5와 동일한 조작으로, 적층 필름을 제조하여 평가하였다.
·열가소성수지 A로서, 제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1] 대신에, (9-1)에서 얻은 펠릿 블렌드물을 사용하였다.
·열가소성 수지 B로서, 수지 B1 대신에, 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지 B2(닛폰 제온사 제조, 열 연화 온도 128℃)를 사용하였다.
·수지 A 및 수지 B의 압출의 조건을 변경하였다. 단, 그 후의 연신 등의 조작은 변경하지 않고, 실시예 5와 동일한 조작으로 하였다. 그 결과, 적층 필름의 B층/A층/B'층의 각 층 두께 9.4 μm/23.0 μm/9.4 μm로 하였다. 적층 필름의 면내 방향의 리타데이션 Re(total)는 0.7 nm였다. B층 및 B'층의 면배향 계수 P[B]는 1.0 × 10-4였다. 각 층의 밀착성은 양호하고, 박리 강도는, 1.5 N/15 mm이며, 따라서 B라고 판정되었다.
〔실시예10〕
(10-1. 펠릿 블렌드물의 제조)
제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1]와 제조예 3에서 얻은 펠릿상의 수지[G3]를, 펠릿상 그대로 [G1]:[G3]=7.5:2.5(중량비)의 비율로 혼합하였다. 이에 의해, 펠릿 블렌드물을 얻었다.
(10-2. 적층 필름의 제조 및 평가)
하기의 변경점 이외에는, 실시예 5와 동일한 조작으로, 적층 필름을 제조하여 평가하였다.
·열가소성 수지 A로서, 제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1] 대신에, (10-1)에서 얻은 펠릿 블렌드물을 사용하였다.
·열가소성 수지 B로서, 수지 B1 대신에, 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지 B2(닛폰 제온사 제조, 열 연화 온도 128℃)를 사용하였다.
·수지 A 및 수지 B의 압출의 조건을 변경하였다. 단, 그 후의 연신 등의 조작은 변경하지 않고, 실시예 5와 동일한 조작으로 하였다. 그 결과, 적층 필름의 B층/A층/B'층의 각 층 두께 5.1 μm/30.6 μm/5.1 μm로 하였다. 적층 필름의 면내 방향의 리타데이션 Re(total)는 0.9 nm였다. B층 및 B'층의 면배향 계수 P[B]는 1.4 × 10-4였다. 각 층의 밀착성은 양호하고, 박리 강도는, 3.2 N/15 mm이며, 따라서 B라고 판정되었다.
〔비교예1〕
체눈 3 μm의 리프 디스크 형상의 폴리머 필터를 구비하는, 더블 플라이트형단축 압출기(스크루의 직경 D=50 mm, 스크루의 길이 L과 스크루의 직경 D의 비 L/D=28)를 준비하였다. 이 단축 압출기에, 열가소성 수지 A로서, 제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1]를 도입하고, 용융시켜, 단층 다이에 공급하였다. 단축 압출기로의 수지 A의 도입은, 단축 압출기에 장전된 호퍼를 통하여 행하였다. 또한, 상기의 단층 다이의 다이스 립의 표면 거칠기(산술 평균 거칠기 Ra)는, 0.1μm였다. 또한, 수지 A의 압출기 출구 온도는, 260℃였다.
수지 A를, 260℃의 용융 상태에서 단층 다이로부터 토출시켰다. 그에 의해 수지 A로 이루어지는 층만으로 이루어지는 필름상의 수지를 연속적으로 형성하였다(공압출 성형 공정). 토출된 필름상의 수지를, 냉각 롤에 캐스트하였다. 캐스트시에는, 필름상의 수지의 폭 방향 단부를 냉각 롤에 고정하는 에지 피닝을 행하고, 에어갭량은 50 mm로 설정하였다. 이에 의해, 필름상의 수지를 냉각하여, 단층 구조의 수지 필름을 얻었다.
얻어진 단층 구조의 수지 필름을, 필름 폭 방향으로 연속적으로 연신하였다. 연신에는, 텐터식 횡연신기를 사용하여, 필름의 양단부를 클립으로 파지하고, 클립의 폭 방향의 간격을 확장함으로써 행하였다. 연신의 조건은, 온도 160℃, 연신 배율 1.5배로 하였다. 연신 후, 필름의 양단을 트리밍하여, 폭을 1330 mm로 하고, 연신된 장척의 단층 필름을 얻었다.
얻어진 단층 필름은, 수지 A로 이루어지는 A층만으로 이루어지는 1층의 필름이었다. 이 적층 필름의 두께는, 27.0 μm였다. 적층 필름의 면내 방향의 리타데이션 Re(total)는 0.9 nm였다. 박리 강도는 0.16 N/15 mm이고, 따라서 C라고 판정되었다.
〔비교예2〕
하기의 변경점 이외에는, 비교예 1과 동일한 조작으로, 적층 필름을 제조하여 평가하였다.
·제조예 1에서 얻은 펠릿상의 수지[G1] 대신에, 제조예 2에서 얻은 펠릿상의 수지[G2]를 사용하였다.
〔비교예3~4〕
하기의 변경점 이외에는, 실시예 7과 동일한 조작(비교예3) 또는 실시예 8과 동일한 조작(비교예4)으로, 적층 필름을 제조하여 평가하였다.
·열가소성 수지 B로서, 수지 B1 대신에, 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지 B3(닛폰 제온사 제조, 열 연화 온도 128℃)을 사용하였다.
실시예 및 비교예의 결과를, 표1~표3에 정리하여 나타낸다.
표 중의 약호의 의미는, 하기와 같다.
고리식 wD: 수소화 블록 공중합체[G]에서의 단위[I]의 비율(%).
사슬형 wE: 수소화 블록 공중합체[G]에서의 단위[II]의 비율(%).
G1: 제조예 1에서 제조한 수소화 블록 공중합체[G1].
G2: 제조예 2에서 제조한 수소화 블록 공중합체[G2].
G3: 제조예 3에서 제조한 수소화 블록 공중합체[G3].
B1: 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지, 열 연화 온도 136℃, 닛폰 제온사 제조 「ZEONOR」의 제품군의 하나.
B2: 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지, 열 연화 온도 128℃, 닛폰 제온사 제조 「ZEONOR」의 제품군의 하나.
B3: 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지, 열 연화 온도 160℃, 닛폰 제온사 제조 「ZEONOR」의 제품군의 하나.
실시예 및 비교예의 결과로부터 분명한 바와 같이, 각 층의 열 연화 온도 및 두께를 포함하는 본 발명의 요건을 만족하는 적층 필름은, 박리 강도 및 밀착성의 양방이 우수한 적층 필름으로 할 수 있다.
Claims (7)
- 열가소성 수지 A로 이루어지는 A층, 및 상기 A층의 적어도 일방의 면 상에 형성된 열가소성 수지 B로 이루어지는 B층을 구비하는 적층 필름으로서,
상기 열가소성 수지 A는,
단위[I]를 90 중량% 이상 함유하는, 2개 이상의 중합체 블록[D]과,
단위[II], 또는 상기 단위[I] 및 상기 단위[II]의 조합을 90 중량% 이상 함유하는 1개 이상의 중합체 블록[E]
을 포함하는 수소화 블록 공중합체[G]를 포함하고,
상기 단위[I]는, 고리식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위이고,
상기 단위[II]는, 사슬형 탄화수소 화합물 수소화물 단위이고,
상기 열가소성 수지 B는, 상기 열가소성 수지 A와는 다른 수지이고,
상기 열가소성 수지 A의 열 연화 온도 Ts[A], 상기 열가소성 수지 B의 열 연화 온도 Ts[B], 상기 A층의 두께 t[A], 상기 B층의 두께 t[B], 상기 적층 필름의 면내 방향의 리타데이션 Re(total), 및 상기 B층의 면배향 계수 P[B]가, 하기 식(1)~(6)을 만족하는, 적층 필름.
(1) 130℃ ≤ Ts[A] ≤ 145℃
(2) 120℃ ≤ Ts[B] ≤ 145℃
(3) 0 ≤ Re(total) ≤ 5 nm
(4) 20 μm ≤ t[A] ≤ 50 μm
(5) 1 μm ≤ t[B] ≤ 15 μm
(6) 1.0 × 10-5 ≤ |P[B]| ≤ 2.0 × 10-3 - 제1항에 있어서,
상기 고리식 탄화수소기 함유 화합물이 방향족 비닐 화합물이고, 상기 사슬형 탄화수소 화합물이 사슬형 공액 디엔계 화합물인, 적층 필름. - 제1항에 있어서,
상기 열가소성 수지 A는, 2종류 이상의 열가소성 수지의 블렌드물인, 적층 필름. - 제1항에 있어서,
상기 열가소성 수지 B는 지환식 구조를 함유하는 중합체를 포함하는 수지인 적층 필름. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름의 제조 방법으로서,
상기 열가소성 수지 A로 이루어지는 a층, 및 상기 a층의 적어도 일방의 면 상에 형성된 열가소성 수지 B로 이루어지는 b층을 구비하는 연신 전 필름을 조제하는 공정, 및
상기 연신 전 필름을, 적어도 1의 방향으로 연신하는 연신 공정을 포함하는, 적층 필름의 제조 방법. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름과 편광자를 구비하는 편광판.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 적층 필름을 구비하는 표시 장치.
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009520042A (ja) | 2005-10-24 | 2009-05-21 | クレイトン・ポリマーズ・リサーチ・ベー・ベー | 保護フィルムおよび感圧接着剤 |
| JP2009179731A (ja) | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Konica Minolta Opto Inc | アクリル樹脂含有フィルム、それを用いた偏光板及び表示装置 |
| JP2010224510A (ja) | 2009-02-28 | 2010-10-07 | Nippon Zeon Co Ltd | 偏光板、偏光板の製造方法、および液晶表示装置 |
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|---|---|---|---|---|
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| JP2005274725A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Nippon Zeon Co Ltd | 光学積層体、光学素子及び液晶表示装置 |
| US8139181B2 (en) * | 2006-03-31 | 2012-03-20 | Zeon Corporation | Polarization plate, liquid crystal display device and protective film |
| JP2008197223A (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Nippon Zeon Co Ltd | 光学素子、偏光板、位相差板、照明装置、および液晶表示装置 |
| CN101932446B (zh) * | 2007-11-27 | 2014-03-26 | 日本瑞翁株式会社 | 拉伸膜、其制造方法、以及液晶显示装置 |
| JP6061467B2 (ja) * | 2008-05-07 | 2017-01-18 | ユーエスアイ コーポレーション | ニアゼロ位相差のフィルム |
| JP5906840B2 (ja) | 2012-03-14 | 2016-04-20 | 東レ株式会社 | 積層シート |
| WO2015002020A1 (ja) * | 2013-07-01 | 2015-01-08 | 日本ゼオン株式会社 | 光学用フィルム及びその製造方法 |
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009520042A (ja) | 2005-10-24 | 2009-05-21 | クレイトン・ポリマーズ・リサーチ・ベー・ベー | 保護フィルムおよび感圧接着剤 |
| JP2014098155A (ja) | 2007-02-02 | 2014-05-29 | Bostik Sa | 剥離可能な感圧接着剤ラベル用の接着剤組成物 |
| JP2009179731A (ja) | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Konica Minolta Opto Inc | アクリル樹脂含有フィルム、それを用いた偏光板及び表示装置 |
| JP2010224510A (ja) | 2009-02-28 | 2010-10-07 | Nippon Zeon Co Ltd | 偏光板、偏光板の製造方法、および液晶表示装置 |
| JP2011113025A (ja) | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光板および積層光学部材 |
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