JPWO2020054695A1 - 光学フィルターおよびその用途 - Google Patents

Abstract

本発明の課題は、近赤外線領域の入射角依存性が低いことと赤色の透過率特性に優れることを両立し、ゴーストを改善した光学フィルターを提供することにある。本発明の光学フィルターは、下記要件（Ａ）〜（Ｄ）を満たすことを特徴とする：（Ａ）波長４３０〜５８０ｎｍの範囲において、垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が７５％以上；（Ｂ）波長８００〜１０００ｎｍの範囲において、垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１０％以下；（Ｃ）波長７００〜７５０ｎｍの範囲において、垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が４６％超；（Ｄ）波長５６０〜８００ｎｍの範囲において、垂直方向から測定した場合の透過率が５０％となる最も短い波長の値（Ｙａ）と、垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率が５０％となる最も短い波長の値（Ｙｂ）との差の絶対値が１５ｎｍ未満である。

Description

本発明は、光学フィルターおよびその用途に関する。詳しくは、特定の光学特性を有する光学フィルター（例えば近赤外線カットフィルター）、ならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュールに関する。

ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などの固体撮像装置には、カラー画像の固体撮像素子であるＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサーが使用されている。これら固体撮像素子は、その受光部において近赤外線に感度を有するセンサーを使用しているために、視感度補正を行うことが必要であり、光学フィルター（例えば近赤外線カットフィルター）を用いることが多い。

このような光学フィルターとしては、従来から、各種方法で製造されたものが使用されており、例えばノルボルネン系樹脂に誘電体多層膜を積層した、近赤外線反射膜を有する近赤外線カットフィルターが知られている（例えば特許文献１参照）。しかしながら、このような近赤外線反射膜を有する近赤外線カットフィルターでは、光線透過特性の入射角依存性が大きく、視野角が広い固体撮像装置では画像の中央と周辺部で色味が異なる不具合が発生していた。

入射角依存性を改良した例として、近赤外線吸収剤を含有する近赤外線カットフィルター等の光学フィルターが広く知られている。具体的には、基材として樹脂を用い、樹脂中に急峻な吸収特性を有する近赤外線吸収剤を含有させることで、近赤外線領域の入射角依存性を改良した近赤外線カットフィルターが知られている（例えば、特許文献２参照）。

近年、人間の視感度が高い波長４００ｎｍ〜７００ｎｍだけでなく、近赤外線を検出し、植物の育成度合いや人間の酸素化ヘモグロビン量を測る画像センシングシステムが検討されている（例えば、特許文献３および４参照）。例えば特許文献３では、稲の葉の波長５００ｎｍ〜８００ｎｍにおける反射率は窒素含有量に応じて変化することが知られており、可視光の反射強度と近赤外線光の反射強度から、植物の育成指標を求める方法が提案されている。

また、例えば、波長３５５ｎｍの紫外線レーザーを光源とし、波長６９０ｎｍの蛍光強度（Ｆ６９０）と波長７４０ｎｍの蛍光強度（Ｆ７４０）の比（Ｆ６９０／Ｆ７４０）は植物生体内でのクロロフィル濃度の指標として、植生診断できることが知られている（例えば、非特許文献１参照）。

しかしながら、このような波長４００〜７００ｎｍの可視光と近赤外線とを組み合わせた画像センシングシステムにおいて、従来の近赤外線吸収剤を含有する近赤外線カットフィルター等の光学フィルターでは、検出に使用する波長７００〜７５０ｎｍの光線透過率が低く、十分な感度を保つことが困難であった。

誘電体多層膜を積層した近赤外線反射膜を有する近赤外線カットフィルターでは、積層する誘電体多層膜の厚みを厚くすることで、反射帯域を長波長シフトさせることが知られている。そのため、波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの透過率が高い誘電体多層膜を設けることは容易であるが、このような近赤外線カットフィルターにおいては、高角度入射時の入射角依存性が大きく、画像化した際に中央と画像周辺において、センシングで得られる光の強度が入射角に応じて異なる問題があった。

また、固体撮像素子の高性能化が進み、従来の光学フィルターでは、光学フィルターの反射によるゴーストにより画質を低下させる場合があった。特に波長６８０〜７２０ｎｍの光線による光学フィルターの反射によって、一部の迷光がセンサーの別の位置に再入射することによるゴーストの発生が問題となっていた。それゆえ、波長６８０〜７２０ｎｍの反射率を低くすることが求められている。
しかしながら、従来の光学フィルターは、上記ゴーストの抑制と赤色のセンサー感度向上とを両立する要求に対して十分に応えられていなかった。

特許第４５１３４２０号公報 特開２０１２−８５３２号公報 特開２０１６−１４６７８４号公報 国際公開第２０１８／１２３６７６号パンフレット

Ｈ．Ｋ．Ｌｉｃｈｔｅｎｔｈａｌｅｒ ｅｔ ａｌ．： Ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ ｏｆ Ｖｅｇｅｔａｔｉｏｎ Ｓｔｒｅｓｓ Ｖｉａ ａ Ｎｅｗ Ｈｉｇｈ Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｃｅ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍ，」．Ｐｌａｎｔ Ｐｈｙｓｉｏｌ．，１４８，５９９−６１２（１９９６）

本発明の目的は、近赤外線領域の入射角依存性が低いことと、センシングに必要な波長７００〜７５０ｎｍの光の透過率特性に優れることを両立するとともにゴーストが改善された光学フィルターおよび該光学フィルターを用いた装置を提供することにある。

本発明の一態様に係る光学フィルターは、下記要件（Ａ）〜（Ｄ）を満たすことを特徴とする。
（Ａ）波長４３０〜５８０ｎｍの範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が７５％以上である。
（Ｂ）波長８００〜１０００ｎｍの範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１０％以下である。
（Ｃ）波長７００〜７５０ｎｍの範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が４６％超である。
（Ｄ）波長５６０〜８００ｎｍの範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率が５０％となる最も短い波長の値（Ｙａ）と、光学フィルターの面に対して垂直方向から３０°の角度から測定した場合の透過率が５０％となる最も短い波長の値（Ｙｂ）との差の絶対値が１５ｎｍ未満である。

本発明によれば、近赤外線領域の入射角依存性が低いことと、センシングに必要な波長７００〜７５０ｎｍの光の透過率特性に優れることを両立するとともにゴーストが改善された光学フィルターおよび該光学フィルターを用いた装置を提供することができる。本発明の光学フィルターは近赤外線カットフィルターとして好適である。

本発明の光学フィルターの一例を示す模式図である。 本発明の光学フィルターの一例を示す模式図である。 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構が公開している、ある日時の岐阜の照射量データを最大値１．０で規格化した波長別強度のデータである。 緑、近赤外線の各センサー画素の波長別感度の一例である。 緑の感度および近赤外線の感度評価用に作成した緑と近赤外線を透過する二波長領域透過フィルターの光学特性を示す図である。 光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率を測定する方法の例を示す概略図である。 光学フィルターの面に対して垂直方向から３０°の角度で測定した場合の透過率を測定する方法の例を示す概略図である。 光学フィルターの面に対して垂直方向から５°の角度で入射した光の反射率を測定する方法の例を示す概略図である。 カメラモジュールの一例を示す概略図である。 カメラモジュールにおけるゴースト発生メカニズムの一例を示す概略図である。 ゴーストの一例を示す模式図である。 実施例１で得られた光学フィルターの光学特性を示す図である。 実施例５で得られた光学フィルターの光学特性を示す図である。 比較例１で得られた光学フィルターの光学特性を示す図である。 比較例４で得られた光学フィルターの光学特性を示す図である。 比較例７で得られた光学フィルターの光学特性を示す図である。

本発明の実施の形態について、必要に応じて図面に基づいて説明するが、それらの図面は単に図解のために提供されるものであり、本発明はそれらの図面に何ら限定されない。また、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、厚みの比率等は実際のものとは異なることに留意されたい。さらに、以下の説明において、同一もしくは略同一の機能および構成を有する構成用途については、同一符号を付し、重複する説明は省略する。本発明の光学フィルターの一実施形態として、図１に示すように、基材１０および近赤外線反射膜２１、２２を有する態様が挙げられる。また、本発明の光学フィルターは、図２に示すように、その他の機能膜１３を有してもよい。

［光学フィルター］
本発明の光学フィルターは、下記要件（Ａ）〜（Ｄ）を満たす。
（Ａ）波長４３０〜５８０ｎｍの範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が７５％以上である。
（Ｂ）波長８００〜１０００ｎｍの範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１０％以下である。
（Ｃ）波長７００〜７５０ｎｍの範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が４６％超である。
（Ｄ）波長５６０〜８００ｎｍの範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率が５０％となる最も短い波長の値（Ｙａ）と、光学フィルターの面に対して垂直方向から３０°の角度から測定した場合の透過率が５０％となる最も短い波長の値（Ｙｂ）との差の絶対値が１５ｎｍ未満である。

要件（Ａ）を満たす光学フィルターを使用することで、波長４３０ｎｍ〜５８０ｎｍの範囲において固体撮像素子が取り込む光の量を多くできる。要件（Ａ）における透過率の平均値は、好ましくは８０％以上である。８０％以上であれば、より暗い環境においても撮像が可能となる。

要件（Ｂ）を満たす光学フィルターを使用することで、波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲において固体撮像素子が取り込む光の量を少なくできる。これにより人間の目に見えず、かつセンシングに不要な光を遮蔽することができる。要件（Ｂ）における透過率の平均値は、好ましくは７％以下、より好ましくは６％以下、さらに好ましくは５％以下である。

要件（Ｃ）を満たす光学フィルターを使用することで、波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲において固体撮像素子が取り込む光の量が確保され、センシング感度が良くなる。要件（Ｃ）における透過率の平均値は、好ましくは５５％以上、より好ましくは６５％以上、さらに好ましくは７５％以上である。前記透過率は高ければ高いほど良いが、例えば上限は好ましくは１００％、より好ましくは９０％、さらに好ましくは８０％である。前記範囲であれば、固体撮像素子が取り込む光の量が調整され、センシングに必要な光を効率よく透過することができる。

要件（Ｄ）を満たす光学フィルターを使用することで、波長５６０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲において、固体撮像素子に入射される光の量の入射角依存性を低くできる。その結果、この波長の範囲における固体撮像素子の分光感度の入射角依存性を小さくできる。入射角依存性が小さくなることで、固体撮像素子で得られる画像の中央と周辺の色味や、センサー感度の差が少なく、より高感度となる。

本発明の光学フィルターは、さらに下記要件（Ｅ）を満たすことが好ましい。
（Ｅ）前記要件（Ｄ）における波長の値（Ｙａ）が７３０ｎｍ以上８００ｎｍ以下である。

要件（Ｅ）を満たす光学フィルターを使用することで、波長４００〜７００ｎｍの可視光透過率とセンシングに用いる波長７００〜７５０ｎｍの近赤外線の透過率とを高く保つことと、センシングに不要な波長８００〜１２００ｎｍの低い透過率（高い遮蔽性）とを両立することが容易となる。前記波長（Ｙａ）は、好ましくは７４０ｎｍ以上８００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは７４５ｎｍ以上８００ｎｍ以下である。

本発明の光学フィルターは、さらに下記要件（Ｚ１）および（Ｚ２）を満たすことが好ましい。
（Ｚ１）波長７００ｎｍにおいて、光学フィルターの面に対して垂直方向から５°の角度から測定した場合の反射率が、光学フィルターのどちらの面から入射した場合においても１０％以下である。
（Ｚ２）波長６００ｎｍ以上の範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から５°の角度から測定した場合の反射率が５０％となる最も短い波長の値（Ｚａ）が、光学フィルターのどちらの面から入射した場合においても７３０ｎｍ以上である。
要件（Ｚ１）および（Ｚ２）を満たす光学フィルターを使用することで、光学フィルターで反射された光を原因とするゴーストの発生を抑制することができる。

誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜は、光学フィルターの面からより高角度に斜入射になるにつれ反射帯域が短波長に移動する傾向にある。そのため、前記要件（Ｚ２）における波長（Ｚａ）は、より好ましくは７４０ｎｍ以上、さらに好ましくは７５０ｎｍ以上、特に好ましくは７８０ｎｍ以上である。これにより、人間の目で確認される光において、光学フィルターの面に対して高角度に入射した光にでもゴーストが発生することを十分に抑制することができる。
本発明の光学フィルターは、近赤外線吸収剤を含有する基材と近赤外線反射膜を有することが好ましい。

近赤外線吸収剤を含有する基材を有する光学フィルターは、光学フィルターの近赤外線の反射を抑制することができ、ゴーストを低減することができる。近赤外線反射膜を有する光学フィルターは、近赤外線遮蔽性能に優れ、かつ波長４３０〜５８０ｎｍの範囲の可視光線の透過性能に優れ、得られる固体撮像装置を高感度にすることができる。

前記近赤外線吸収剤は波長７５１〜９５０ｎｍの範囲に吸収極大波長を有すること、および、該吸収極大波長における前記基材の透過率が１０％となる量で前記近赤外線吸収剤を含有させた場合、波長４３０ｎｍ以上かつ該吸収極大波長以下の範囲において前記基材の透過率が７０％となる最も長い波長（Ａａ）と、波長５８０ｎｍ以上の範囲において前記基材の透過率が３０％となる最も短い波長（Ａｂ）との差の絶対値が１５０ｎｍ未満であることが好ましい。

前記（Ａａ）と前記（Ａｂ）との差の絶対値が１５０ｎｍ未満となる近赤外線吸収剤を含む基材を有する光学フィルターを使用することで、波長７００〜７５０ｎｍの近赤外線の透過率を高く保つことと、センシングに不要な波長８００〜１２００ｎｍの低い透過率（高い遮蔽性）とを両立することが容易となる。前記差の絶対値は少なければ少ない程よく、より好ましくは１００ｎｍ未満、さらに好ましくは７０ｎｍ未満である。下限は１ｎｍである。

前記近赤外線吸収剤の好ましい範囲の特性である、波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を有すること、および、前記（Ａａ）と前記（Ａｂ）との差の絶対値が１５０ｎｍ未満であることは、吸収剤１種の特性が満たしてもよく、複数種を混合した特性でもよい。また、複数種を混合した近赤外線吸収剤には、単独では特性を満たさないものを含んでもよい。

［基材］
前記基材は透明性を有しているものが好ましい。本発明でいう透明性とは、波長４２０〜６００ｎｍの範囲の透過率の平均値が５０％以上であることを表す。このような基材の材質として、例えば、ガラス、強化ガラスや、リン酸ガラス、フツリン酸ガラス、アルミナガラス、アルミン酸イットリウム、酸化イットリウムなどの特殊ガラス、および樹脂が挙げられる。

また、基材は、１層でも複数層から構成されてもよく、上記材料から選ばれる１種の材質から構成されても、複数種から構成されてもよく、適宜混合した材料でもよい。基材を構成する層のうち少なくとも１層は、近赤外線吸収剤を含有するものが好ましく、また近紫外線吸収剤を含有してもよい。近赤外線吸収剤が含まれる層と、近紫外線吸収剤が含まれる層とは、同一の層であってもよく、異なる層であってもよい。

＜ガラス＞
前記ガラスとしては、例えば、ケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどが挙げられる。

＜強化ガラス＞
前記強化ガラスとしては、例えば、物理強化ガラス、強化合わせガラス、化学強化ガラスなどが挙げられる。これらの中では、圧縮層の厚みが薄く、基材厚みを薄く加工することができる化学強化ガラスが好ましい。化学強化ガラスの具体例としては、旭硝子社製「Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ」、Ｃｏｒｎｉｎｇ社「Ｇｏｒｉｌｌａ Ｇｌａｓｓ」などが挙げられる。

＜特殊ガラス＞
前記リン酸ガラスや前記フツリン酸ガラスとしては、例えば、松浪硝子工業社製のＢＳ３、ＢＳ４、ＢＳ６、ＢＳ７、ＢＳ８、ＢＳ１０、ＢＳ１１、ＢＳ１２、ＢＳ１３、ＢＳ１６、ＢＳ１７等、国際公開第２０１２／０１８０２６号に記載のフツリン酸塩系ガラスなどが挙げられる。前記アルミナガラスとしては、例えば日本ガイシ社製「ハイセラム」などが挙げられる。前記アルミン酸イットリウムや前記酸化イットリウムとしては、例えば、クアーズテック社製「ＥＸＹＲＩＡ（登録商標）」などが挙げられる。

＜樹脂＞
前記樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリシクロオレフィン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エン・チオール系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂などが挙げられる。これらの中では、ノルボルネン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂が好ましい。

前記樹脂は、原料成分の分子構造を調整する方法等により、屈折率を調整できる。具体的には、原料成分のポリマーの主鎖や側鎖に特定の構造を付与する方法が挙げられる。ポリマー内に付与する構造は特に限定されないが、例えば、ノルボルネン骨格、フルオレン骨格が挙げられる。

前記樹脂として、市販品を用いてもよい。市販品としては、大阪ガスケミカル（株）製「オグソール（登録商標）ＥＡ−Ｆ５００３」（アクリル系樹脂、屈折率：１．６０）、東京化成工業（株）製「ポリメチルメタクリレート」（屈折率：１ ．４９）、東京化成工業（株）製「ポリイソブチルメタクリレート」（屈折率：１．４８）、三菱レイヨン（株）製「ＢＲ５０」（屈折率：１．５６）等が挙げられる。

また、ポリエステル系樹脂の市販品としては、例えば、大阪ガスケミカル（株）製「ＯＫＰ４ＨＴ」（屈折率：１．６４）、「ＯＫＰ４」（屈折率：１．６１）、「Ｂ−ＯＫＰ２」（屈折率：１．６４） 、「ＯＫＰ−８５０」（屈折率：１．６５）、東洋紡（株）製「バイロン（登録商標）１０３」（屈折率：１．５５）などが挙げられ、ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、例えば、ｓａｂｉｃ社製「ＬｅＸａｎ（登録商標）ＭＬ９１０３」（屈折率：１．５９）、「ｘｙｌｅｘ（登録商標）７５０７」、三菱ガス化学（株）製「ＥＰ５０００」（屈折率：１．６３） 、帝人化成（株）製「ＳＰ３８１０」（屈折率：１．６３）、「ＳＰ１５１６」（屈折率：１．６０） 、「ＴＳ２０２０」（屈折率：１．５９）などが挙げられ、ノルボルネン系樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製「ＡＲＴＯＮ（登録商標）（屈折率：１．５１）、日本ゼオン（株）製「ＺＥＯＮＥＸ（登録商標）（屈折率：１．５３）などが挙げられる。

ポリエーテル系樹脂は、主鎖にエーテル結合を形成する反応により得られる重合体であり、下記式（１）および（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位を有する重合体であることが好ましい。また、下記式（３）で表される構造単位を有してもよい。

前記式（１）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の１価の有機基を示す。ａ〜ｄは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、好ましくは０または１であり、より好ましくは０である。

炭素数１〜１２の１価の有機基としては、炭素数１〜１２の１価の炭化水素基、ならびに、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の１価の有機基等が挙げられる。

炭素数１〜１２の１価の炭化水素基としては、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の炭化水素基、炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基および炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基等が挙げられる。

前記炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の炭化水素基としては、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜５の直鎖または分岐鎖の炭化水素基がより好ましい。

前記直鎖または分岐鎖の炭化水素基の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基およびｎ−ヘプチル基等が挙げられる。

前記炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基としては、炭素数３〜８の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数３または４の脂環式炭化水素基がより好ましい。
炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基の好適な具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基およびシクロへキシル基等のシクロアルキル基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基およびシクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基が挙げられる。当該脂環式炭化水素基の結合部位は、脂環上のいずれの炭素でもよい。

前記炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニル基およびナフチル基等が挙げられる。当該芳香族炭化水素基の結合部位は、芳香族環上のいずれの炭素でもよい。

酸素原子を含む炭素数１〜１２の有機基としては、水素原子、炭素原子および酸素原子からなる有機基が挙げられ、中でも、エーテル結合、カルボニル基またはエステル結合と炭化水素基とからなる総炭素数１〜１２の有機基等を好ましく挙げることができる。

エーテル結合を有する総炭素数１〜１２の有機基としては、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２のアルケニルオキシ基、炭素数２〜１２のアルキニルオキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基および炭素数１〜１２のアルコキシアルキル基等が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、プロペニルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基およびメトキシメチル基等が挙げられる。

カルボニル基を有する総炭素数１〜１２の有機基としては、炭素数２〜１２のアシル基等が挙げられ、具体的には、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基およびベンゾイル基等が挙げられる。

エステル結合を有する総炭素数１〜１２の有機基としては、炭素数２〜１２のアシルオキシ基等が挙げられ、具体的には、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基およびベンゾイルオキシ基等が挙げられる。

窒素原子を含む炭素数１〜１２の有機基としては、水素原子、炭素原子および窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、シアノ基、イミダゾール基、トリアゾール基、ベンズイミダゾール基およびベンズトリアゾール基等が挙げられる。

酸素原子および窒素原子を含む炭素数１〜１２の有機基としては、水素原子、炭素原子、酸素原子、および、窒素原子からなる有機基が挙げられ、具体的には、オキサゾール基、オキサジアゾール基、ベンズオキサゾール基およびベンズオキサジアゾール基等が挙げられる。

前記式（１）におけるＲ¹〜Ｒ⁴としては、樹脂（１）の吸水（湿）性の点から炭素数１〜１２の１価の炭化水素基が好ましく、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。

前記式（２）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴およびａ〜ｄは、それぞれ独立に前記式（１）中のＲ¹〜Ｒ⁴およびａ〜ｄと同義であり、Ｙは、単結合、−ＳＯ₂−または−ＣＯ−を示し、Ｒ⁷およびＲ⁸は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１〜１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０の時、Ｒ⁷はシアノ基ではない。ｇおよびｈは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、好ましくは０である。

炭素数１〜１２の１価の有機基としては、前記式（１）における炭素数１〜１２の１価
の有機基と同様のものが挙げられる。
前記樹脂（１）は、前記構造単位（１）と前記構造単位（２）とのモル比（但し、両者（構造単位（１）＋構造単位（２））の合計は１００である。）が、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から、構造単位（１）：構造単位（２）＝５０：５０〜１００：０であることが好ましく、構造単位（１）：構造単位（２）＝７０：３０〜１００：０であることがより好ましく、構造単位（１）：構造単位（２）＝８０：２０〜１００：０であることがさらに好ましい。なお、本明細書において、力学的特性とは、樹脂の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。

また、前記樹脂（１）は、さらに、下記式（３）で表わされる構造単位および下記式（４）で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（以下「構造単位（３−４）」ともいう。）を有してもよい。前記樹脂（１）がこのような構造単位（３−４）を有すると、該樹脂（１）を含む基材の力学的特性が向上するため好ましい。

前記式（３）中、Ｒ⁵およびＲ⁶は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−または炭素数１〜１２の２価の有機基を示し、ｎは０または１を示す。ｅおよびｆは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、好ましくは０である。

炭素数１〜１２の１価の有機基としては、前記式（１）における炭素数１〜１２の１価の有機基と同様のものが挙げられる。
炭素数１〜１２の２価の有機基としては、炭素数１〜１２の２価の炭化水素基、炭素数１〜１２の２価のハロゲン化炭化水素基、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価の有機基、ならびに、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価のハロゲン化有機基等が挙げられる。

炭素数１〜１２の２価の炭化水素基としては、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価の炭化水素基、炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基および炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。

炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、イソプロピリデン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基およびヘプタメチレン基等が挙げられる。

炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基等のシクロアルキレン基；シクロブテニレン基、シクロペンテニレン基およびシクロヘキセニレン基等のシクロアルケニレン基などが挙げられる。

炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基およびビフェニレン基等が挙げられる。
炭素数１〜１２の２価のハロゲン化炭化水素基としては、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価のハロゲン化炭化水素基、炭素数３〜１２の２価のハロゲン化脂環式炭化水素基および炭素数６〜１２の２価のハロゲン化芳香族炭化水素基等が挙げられる。

炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価のハロゲン化炭化水素基としては、ジフロオロメチレン基、ジクロロメチレン基、テトラフルオロエチレン基、テトラクロロエチレン基、ヘキサフルオロトリメチレン基、ヘキサクロロトリメチレン基、ヘキサフルオロイソプロピリデン基およびヘキサクロロイソプロピリデン基等が挙げられる。

炭素数３〜１２の２価のハロゲン化脂環式炭化水素基としては、前記炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。

炭素数６〜１２の２価のハロゲン化芳香族炭化水素基としては、前記炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。

酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の有機基としては、水素原子および炭素原子と、酸素原子および／または窒素原子とからなる有機基が挙げられ、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合またはアミド結合と炭化水素基とを有する総炭素数１〜１２の２価の有機基等が挙げられる。

酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価のハロゲン化有機基としては、具体的には、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価の有機基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。

前記式（３）におけるＺとしては、単結合、−Ｏ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−または炭素数１〜１２の２価の有機基が好ましく、樹脂（１）の吸水（湿）性の点から炭素数１〜１２の２価の炭化水素基、炭素数１〜１２の２価のハロゲン化炭化水素基または炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基がより好ましい。

前記基材は、近赤外線吸収剤を含有する樹脂層を有し、かつ、該樹脂層がノルボルネン系樹脂、ポリイミド系樹脂およびポリエーテル樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。

前記樹脂層を有することにより、波長４３０〜５８０ｎｍにおける透明性が高く、耐熱性が高く、反りにくい、破断しにくい、面内位相差Ｒ₀が低い光学フィルターが得られる。そのため、前記樹脂層を有する光学フィルターを具備する固体撮像装置は、画質が高く、製造を容易とすることができる。

前記樹脂層の波長４３０〜５８０ｎｍにおける透過率の平均値は、固体撮像装置が高感度となることから、厚み１μｍにおいて７０％以上であることが好ましい。
前記樹脂層のガラス転移温度は、固体撮像装置を低温リフロー工程で製造することができることから、１４０℃以上であることが好ましい。

前記樹脂層のヤング率は、反りにくい光学フィルターを得る観点から、好ましくは２ＧＰａ以上である。
前記樹脂層の面内位相差Ｒ₀は、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは２０ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以下、特に好ましくは５ｎｍ以下である。面内位相差Ｒ₀が少ない光学フィルターは、偏光に応じて感度が異なる撮像素子を設けた場合に、偏光特性を精確に検出可能となり、誤差が少なくなる。

前記樹脂層は基材中に１層でもよく、複数層含んでもよく、基材が樹脂層のみから構成されてもよい。
前記基材の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択することができ、特に制限されないが、上限は、好ましくは２５０μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下、さらに好ましくは１５０μｍ以下であり、下限は、好ましくは３０μｍ以上、より好ましくは４０μｍ以上である。厚みが前記範囲であれば、光学フィルターの反りが少なく、十分に薄い固体撮像素子が得られる。

＜樹脂層の製造方法＞
前記樹脂層は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができ、必要により、成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングする方法により製造することができる。

（A）溶融成形
前記樹脂層は、樹脂と近赤外線吸収剤とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法；樹脂と近赤外線吸収剤とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法；または、近赤外線吸収剤、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などにより製造することができる。溶融成形方法としては、例えば、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。

（B）キャスト成形
前記樹脂層は、近赤外線吸収剤、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶剤を除去する方法；反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤と、近赤外線吸収剤と、樹脂とを含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングする方法；または、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤と、色素化合物と、樹脂とを含む硬化性組成物を適当な支持体の上にキャスティングして硬化および乾燥させる方法などにより製造することもできる。

前記支持体としては、特に限定されず、基材の材質の例として挙げたガラス、強化ガラス、特殊ガラスまたは樹脂からなる支持体を用いることができ、また、基材の材質以外の支持体、例えばスチールベルト、スチールドラムなどを用いてもよい。

前記基材が樹脂製基板からなる基材である場合には、該基材は、キャスト成形後、支持体から塗膜を剥離することにより得ることができ、また、前記基材が、支持体上に樹脂層が積層された基材である場合には、該基材は、キャスト成形後、塗膜を剥離しないことで得ることができる。

前記方法で得られた樹脂層中の残留溶剤量は可能な限り少ない方がよく、通常樹脂層の重さに対して３質量％以下、好ましくは１質量％以下、さらに好ましくは０．５質量％以下である。残留溶剤量が前記範囲にあると、光学フィルターの変形や光学特性の変化が起こりにくい、所望の機能を容易に発揮できる樹脂層が得られる。

［近赤外線吸収剤］
前記近赤外線吸収剤は、好ましくは波長７５１〜９５０ｎｍ、より好ましくは７６０〜９４０ｎｍ、さらに好ましくは７７０〜９３０ｎｍ、特に好ましくは７７５〜９２５ｎｍの範囲に吸収極大波長を有する。吸収極大波長が前記範囲にあることにより、波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲において固体撮像素子が取り込む光の量が調整されるとともに、人間の視感度が低い波長７５１ｎｍ以上の範囲の光が固体撮像素子に入る量を減らすことができ、固体撮像装置を人間の視感度により近づけることができる。

前記近赤外線吸収剤としては、例えば、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ジチオール系色素、ジイモニウム系色素、スクアリリウム系色素、クロコニウム系色素、リン酸銅塩などが挙げられる。これら色素の構造は特に限定されるものではなく、本発明の効果を損なわないものであれば一般的に知られているものや市販品を使用することができる。また、本発明の効果を損なわないものであれば、光学フィルターに添加する近赤外線吸収剤は、１種でも複数種でもよい。

前記近赤外線吸収剤は、前記樹脂層に対して０．０１〜６０．０質量％の範囲で含有されていることが好ましい。近赤外線吸収剤の含有量が前記範囲であれば、適切な光学特性が得られやすい。６０．０質量％より多く含む場合、前述した透明性が高く、耐熱性が高く、反りにくい、破断しにくい等の性能が失われ、固体撮像装置の画質の低下、製造の難度を上げる要因となる。

また、前記近赤外線吸収剤は、下記条件（ａ）および（ｂ）を満たすことが好ましい。
（ａ）（吸光度λ₇₀₀） / （吸光度λ_max） ≦０．１
（ｂ）（吸光度λ₇₅₁） / （吸光度λ_max） ≧０．１

ここで、前記近赤外線吸収剤の波長７００ｎｍにおける吸光度を「吸光度λ₇₀₀」、波長７５１ｎｍにおける吸光度を「吸光度λ₇₅₁」、吸収極大波長における吸光度を「吸光度λ_max」とし、波長λにおける吸光度λは、一般に用いられる以下の式に従い、波長λにおける透過率λより算出される。

吸光度λ ＝ −Ｌｏｇ（内部透過率λ）
例えば内部透過率λが０．１（１０％）の場合、吸光度は１．０である。内部透過率とは、得られた透過率から表面反射率を除いた値であり、得られた透過率から近赤外線吸収剤を除いた媒体の透過率で除することで得られる。

前記条件（ａ）および（ｂ）を満たすと、センシングに必要な波長７００〜７５０ｎｍの透過率が高く、視感度およびセンシングのどちらにも不要な波長を充分に遮蔽する光学フィルターを得ることができる。ところで、センシングに必要な波長７００〜７５０ｎｍの透過率が高く、要件（Ｃ）を維持するため、光学フィルターの吸光度λ₇₀₀は、好ましくは０．２５以下、より好ましくは０．２以下、さらに好ましくは０．１８以下、特に好ましくは０．１６以下である。前記光学フィルターの吸光度λ₇₀₀の下限は０である。前記条件（ａ）を満たす近赤外線吸収剤を用いることで、光学フィルターの吸光度λ₇₀₀を前記範囲にすることが可能となる。

また、視感度およびセンシングどちらにも不要な７５１ｎｍから長波長の光を充分に遮蔽して要件（Ｄ）を達成するために、光学フィルターの吸光度λ₇₅₁は、好ましくは０．２以上、より好ましくは０．２１以上、さらに好ましくは０．２３以上、特に好ましくは０．２５以上である。また、光学フィルターの吸光度λ₇₅₁は、好ましくは０．８以下、より好ましくは０．６以下、さらに好ましくは０．５以下である。前記条件（ｂ）を満たす近赤外線吸収剤を用いることで、光学フィルターの吸光度λ₇₅₁を前記範囲にすることが可能となる。

しかしながら、条件（ｂ）を満たす近赤外線吸収剤は、吸収極大波長λ_maxが７５１ｎｍから９５０ｎｍへと長波長のものとなるにつれ、（吸光度λ₇₅₁） / （吸光度λ_max）は小さくなる傾向にある。そのため、吸収極大波長（λ_max）が７５１ｎｍから９５０ｎｍへと長波長のものになるつれ、基材に含まれる近赤外線吸収剤の濃度を上げる必要がある。一方、条件（ａ）を満たす近赤外線吸収剤を基材に過剰に含有させると、光学フィルターが要件（Ｃ）を維持することが困難となる場合がある。そのため、基材に含まれる近赤外線吸収剤は、下記条件（ｃ）を満たすことが好ましい。
（ｃ）１．５≧Σ_dye(n)[（（９５０−最短吸収極大波長）×色素濃度×色素媒体厚さ)]＞０．２

ここで「Σ_dye(n)」における「ｄｙｅ（ｎ）」とは、基材に含まれる各近赤外線吸収剤のことを意味する。また、「最短吸収極大波長」とは、波長７５１〜９５０ｎｍにおける吸収極大波長の中で最も短い波長（ｎｍ）を意味し、「色素濃度」とは、基材に含まれる近赤外線吸収剤の濃度（質量％）を意味し、「色素媒体厚さ」とは、近赤外線吸収剤を含有する基材の厚さ（ｍｍ）を意味する。

前記条件（ａ）および（ｂ）を満たす近赤外線吸収剤を、前記条件（ｃ）の濃度で用いることで、光学フィルターの吸光度λ₇₀₀および吸光度λ₇₅₁を前述の好ましい範囲とすることが可能となり、要件（Ｃ）および（Ｄ）を満たすことが容易となる。

＜シアニン系色素＞
前記シアニン系色素としては、本発明の効果を損なわないものであれば、特に限定されないが、例えば特開２００９−１０８２６７号公報、特開２０１０−７２５７５号公報、特開２０１６−０６０７７４号公報に記載のシアニン系色素が挙げられる。

シアニン系色素の一部は波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持たないものも含まれるが、波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持つシアニン系色素を選択する、または、波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持たないシアニン系色素と波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持つシアニン系色素を併用する、または、波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持たないシアニン系色素と波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持つシアニン系色素以外の色素を併用することで、本発明の効果を得る近赤外線吸収剤として使用できる。

＜フタロシアニン系色素＞
前記フタロシアニン系色素としては、本発明の効果を損なわないものであれば、特に限定されないが、例えば特開昭６０−２２４５８９号公報、特表１００５−５３７３１９号公報、特開平４−２３８６８号公報、特開平４−３９３６１号公報、特開平５−７８３６４号公報、特開平５−２２２０４７号公報、特開平５−２２２３０１号公報、特開平５−２２２３０２号公報、特開平５−３４５８６１号公報、特開平６−２５５４８号公報、特開平６−１０７６６３号公報、特開平６−１９２５８４号公報、特開平６−２２８５３３号公報、特開平７−１１８５５１号公報、特開平７−１１８５５２号公報、特開平８−１２０１８６号公報、特開平８−２２５７５１号公報、特開平９−２０２８６０号公報、特開平１０−１２０９２７号公報、特開平１０−１８２９９５号公報、特開平１１−３５８３８号公報、特開２０００−２６７４８号公報、特開２０００−６３６９１号公報、特開２００１−１０６６８９号公報、特開２００４−１８５６１号公報、特開２００５−２２００６０号公報、特開２００７−１６９３４３号公報、特開２０１３−１９５４８０号公報の段落［００２６］〜［００２７］、国際公開第２０１５／０２５７７９号の表１等に記載の化合物等が挙げられる。

フタロシアニン系色素の一部は波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持たないものも含まれるが、波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持つフタロシアニン系色素を選択する、または、波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持たないフタロシアニン系色素と波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持つフタロシアニン系色素を併用する、または、波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持たないフタロシアニン系色素と波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持つフタロシアニン系色素以外の色素を併用することで、本発明の効果を得る近赤外線吸収剤として使用できる。フタロシアニン系色素は、吸収極大波長近傍が急峻な吸収特性を有することが多く、本発明の光学フィルターにフタロシアニン系色素を用いる場合には、少なくとも１種の他の近赤外線吸収剤と併用することが好ましい。

＜ジチオール系色素＞
前記ジチオール系色素としては、本発明の効果を損なわないものであれば、特に限定されないが、例えば特開２００６−２１５３９５号公報、ＷＯ２００８／０８６９３１号に記載のジチオール系色素が挙げられる。

ジチオール系色素の一部は波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持たないものも含まれるが、波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持つジチオール系色素を選択する、または、波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持たないジチオール系色素と波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持つジチオール系色素を併用する、または、波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持たないジチオール系色素と波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持つジチオール系色素以外の色素を併用することで、本発明の効果を得る近赤外線吸収剤として使用できる。
また、例えばＷＯ１９９８／０３４９８８号に記載のようにジチオール系色素の対イオン結合体を用いてもよい。

＜スクアリリウム系色素＞
前記スクアリリウム系色素としては、本発明の効果を損なわないものであれば、特に限定されないが、例えば、下記式（４）〜（６）で表されるスクアリリウム系色素、特開２０１４−０７４００２号公報、特開２０１４−０５２４３１号公報に記載のスクアリリウム系色素などが挙げられ、一般に知られている方法で合成すればよい。

前記式（４）〜（６）中、Ｘは独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子または−ＮＨ−を表し、 前記Ｒ¹およびＲ^1'としてはそれぞれ独立に、水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ニトロ基が好ましく、水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、水酸基がより好ましい。Ｒ²〜Ｒ⁸はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−Ｌ¹または−ＮＲ^gＲ^h基を表す。Ｒ^gおよびＲ^hはそれぞれ独立に、水素原子、−Ｌ^a、−Ｌ^b、−Ｌ^c、−Ｌ^d、−Ｌ^e、−Ｌ^f、−Ｌ^g、−Ｌ^hまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒⁱ基（Ｒⁱは、−Ｌ^a、−Ｌ^b、−Ｌ^c、−Ｌ^dまたは−Ｌ^eを表す。）を表し、Ｒ₉は独立に、水素原子、−Ｌ^a、−Ｌ^b、−Ｌ^c、−Ｌ^d、−Ｌ^e、−Ｌ^f、−Ｌ^gまたは−Ｌ^hを表す。
Ｌ¹は、Ｌ^a、Ｌ^b、Ｌ^c、Ｌ^d、Ｌ^e、Ｌ^f、Ｌ^gまたはＬ^hである。

前記Ｌ^a〜Ｌ^hは、以下の基を表す。
（Ｌ^a）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌ^b）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌ^c）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌ^d）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌ^e）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌ^f）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシ基
（Ｌ^g）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアシル基
（Ｌ^h）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基
（Ｌⁱ）前記置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のスルフィド基またはジスルフィド基
Ｒ⁹は独立に、水素原子、−Ｌ^a、−Ｌ^b、−Ｌ^c、−Ｌ^dまたは−Ｌ^eを表す。

化合物（５）は置換基によって吸収極大波長を調整可能であるが、前記Ｘとしては、極大吸収波長が７５１〜９５０ｎｍにある化合物になりやすい等の点から、好ましくは硫黄原子である。

スクアリリウム系色素の一部は波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持たないものも含まれるが、波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持つスクアリリウム系色素を選択する、または、波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持たないスクアリリウム系色素と波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持つスクアリリウム系色素を併用する、または、波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持たないスクアリリウム系色素と波長７５１〜９５０ｎｍに吸収極大波長を持つスクアリリウム系色素以外の色素を併用することで、本発明の効果を得る近赤外線吸収剤として使用できる。

＜ジイモニウム系色素＞
前記ジイモニウム系色素としては、本発明の効果を損なわないものであれば、特に限定されないが、例えば、下記式（７−１）または（７−２）で表されるジイモニウム系色素、特許第４１６８０３１号公報、特許第４２５２９６１号公報、特開昭６３−１６５３９２号公報、ＷＯ２００４／０４８４８０等に記載のジイモニウム系色素などが挙げられ、一般的に知られている方法で合成すればよい。

式（７−１）および（７−２）中、Ｒｄｉ１〜Ｒｄｉ１２は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−ＳＲⁱ基、−ＳＯ₂Ｒⁱ基、−ＯＳＯ₂Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^hのいずれかを表し、Ｒ^gおよびＲ^hは、それぞれ独立に水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、Ｒⁱは下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
（Ｌ^a）炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌ^b）炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌ^c）炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌ^d）炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌ^e）炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌ^f）炭素数１〜１２のアルコキシ基
（Ｌ^g）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアシル基、
（Ｌ^h）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基

置換基Ｌは、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基および炭素数３〜１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
隣り合うＲｄｉ１とＲｄｉ２、Ｒｄｉ３とＲｄｉ４、Ｒｄｉ５とＲｄｉ６、およびＲｄｉ７とＲｄｉ８は置換基Ｌを有してもよい環を形成してもよく、
Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンを表し、

前記Ｒｄｉ１〜Ｒｄｉ８は、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基から選ばれる基であり、より好ましくはイソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基から選ばれる基である。

前記Ｒｄｉ９〜Ｒｄｉ１２は、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、Ｎ−メチルアセチルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基、ｎ−ブチルスルホニル基、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基から選ばれる基であり、より好ましくは塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、水酸基、ジメチルアミノ基、メトキシ基、エトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基から選ばれる基であり、特に好ましくは、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基から選ばれる基である。

前記Ｘ^-は電荷を中和するのに必要なアニオンであり、式（７−２）のようにアニオンが２価である場合には１イオン、式（７−１）のようにアニオンが１価の場合には２イオンが必要となる。後者の場合は２つのアニオンＸ^-が同一であっても異なっていてもよいが、合成上の観点から同一である方が好ましい。Ｘ^-またはＸ^2-はこのようなアニオンであれば特に制限されない。

前記近赤外線吸収剤の中でも、式（４）、式（５）、式（７−１）および式（７−２）で表わされる化合物が、可視光透過率の高さ、波長７００〜７５０ｎｍの範囲の吸収特性、波長８００〜１１００ｎｍの範囲の遮蔽性能から好ましい。

［近赤外線反射膜］
本発明に用いることができる近赤外線反射膜は、近赤外線を反射する能力を有する膜である。このような近赤外線反射膜としては、アルミ蒸着膜、貴金属薄膜、酸化インジウムを主成分とし酸化錫を少量含有させた金属酸化物微粒子を分散させた樹脂膜、または高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜などが挙げられる。このような近赤外線反射膜を有すると、近赤外線をさらに効果的にカットすることができる。

本発明では、近赤外線反射膜は基材の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。片面に設ける場合、製造コストや製造容易性に優れ、両面に設ける場合、高い強度を有し、反りの生じにくい光学フィルターを得ることができる。

前記近赤外線反射膜の中では、散乱が少ないことや、密着性が良いこと、波長４３０〜５８０ｎｍの範囲の可視光の透過特性が高いこと、波長８００〜１１００ｎｍの範囲の光の遮蔽性能が高いことから、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜が好ましい。前記近赤外線反射膜が誘電体多層膜であると、得られる固体撮像装置の画質を良くすることができる。

＜誘電体多層膜＞
高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常は１．７〜２．５の材料が選択される。このような材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、または、酸化インジウム等を主成分とし、酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウムなどを少量（例えば、主成分に対し０〜１０％）含有させたものなどが挙げられる。

低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７未満の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常は１．２以上１．７未満の材料が選択される。このような材料としては、例えば、樹脂、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウム、およびこれらを混合したもの、上記材料を屈折率１．７未満となるように空乏を設けたものなどが挙げられる。

高屈折率材料層と低屈折率材料層とを積層する方法については、これら材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、前記基材上に、直接、ＣＶＤ法、真空蒸着法、スパッタ法、イオンアシスト蒸着法、イオンプレーティング法、ラジカルアシストスパッタ法、イオンビームスパッタ法などにより、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。イオンアシスト蒸着法、イオンプレーティング法、ラジカルアシストスパッタ法は、得られる多層膜の光学膜厚が環境に応じて変化しにくい良質な膜が得られ好ましい。イオンアシスト蒸着法は得られる光学フィルターの反りが少なくさらに好ましい。

これら高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みは、通常、遮蔽しようとする近赤外線波長をλ（ｎｍ）とすると、基材に隣接する２層および最外層以外は０．１λ〜０．５λの光学厚みが好ましい。光学厚みがこの範囲にあると、屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）との積（ｎ×ｄ）がλ／４で算出される光学的膜厚と高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みとがほぼ同じ値となって、反射・屈折の光学的特性の関係から、特定波長の遮蔽・透過を容易にコントロールできる傾向にある。基材に隣接する２層は物理厚み５ｎｍ〜４５ｎｍ以下であることが好ましい。また最外層は０．０５〜０．２λの光学厚みが好ましい。基材に隣接する２層および最外層が上記範囲の厚みであれば、可視光の反射率を低減することができ、上記要件（Ｚ）と合わせることで、ゴーストを低減される。

また、誘電体多層膜における高屈折率材料層と低屈折率材料層との合計の積層数は、５〜６０層、好ましくは１０〜５０層であることが望ましい。
さらに、誘電体多層膜を形成した際に基材に反りが生じてしまう場合には、これを解消するために、基材両面に誘電体多層膜を形成したり、基材の誘電体多層膜を形成した面に紫外線等の電磁波を照射したりする方法等をとることができる。なお、電磁波を照射する場合、誘電体多層膜の形成中に照射してもよいし、形成後別途照射してもよい。

しかしながら、前記特許文献１および特許文献２に記載されているような従来の設計方法では、波長７５１〜１２００ｎｍを遮蔽する誘電体多層膜を形成した場合、センシングに必要な波長７００〜７５０ｎｍの透過率も低下するおそれがある。それゆえ、要件（Ｃ）および要件（Ｚ２）を満たす光学フィルターを得るために、誘電体多層膜は下記条件（ｅ）を満たす設計であることが好ましい。
（ｅ）基材に隣接する２層および最外層以外の層が、光学膜厚２０５ｎｍ以下の層（以下「層（ｅ１）」ともいう。）を含まない。

ここで光学膜厚とは、物理膜厚×屈折率の物理量を表わし、屈折率は波長５５０ｎｍにおける屈折率である。
屈折率の異なる層を積層した誘電体多層膜では、光学膜厚×４近傍の波長を遮蔽するように設計される。基材に隣接する２層および出射媒体に近接した最外層以外の層は、透過率を低減する遮蔽層の形成に寄与する層であることから、要件（Ｃ）を満たすために、前記層（ｅ１）を含まないことが好ましい。

要件（Ｚ２）を満たすためには、基材の両面に形成された誘電体多層膜のいずれもが条件（ｅ）を満たすことが好ましい。これにより、センシングに必要な波長７００〜７５０ｎｍの透過率が高く、かつ、波長７５１〜１２００ｎｍを遮蔽する光学フィルターが得られる。条件（ｅ）における前記層（ｅ１）の光学膜厚は、好ましくは２１０ｎｍ以下、より好ましくは２１５ｎｍ以下である。
また、要件（Ｚ１）を満たすために、誘電体多層膜は、下記条件（ｆ）を満たす設計であることが好ましい。
（ｆ）基材に隣接する２層および最外層以外の層において、光学膜厚の標準偏差が６〜２０ｎｍである。

条件（ｆ）を満たす誘電体多層膜の設計とすることで、要件（Ｂ）の「波長８００〜１０００ｎｍの範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１０％以下である」特性と、要件（Ｚ１）の特性の両立が容易となる。光学フィルターが基材の両面に誘電体多層膜を有する場合、両面の誘電体多層膜のいずれもが条件（ｆ）を満たすことがより好ましい。条件（ｆ）における光学膜厚の標準偏差は、好ましくは６〜１８ｎｍ、より好ましくは６〜１６ｎｍである。

［近紫外線吸収剤］
本発明で用いることができる近紫外線吸収剤は、アゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、メロフタロシアニン系化合物、オキサゾール系化合物、ナフチルイミド系化合物、オキサジアゾール系化合物、オキサジン系化合物、オキサゾリジン系化合物、アントラセン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、波長３００〜４２０ｎｍに少なくとも一つの吸収極大を持つことが好ましい。前記近赤外線吸収剤に加え、このような近紫外線吸収剤を含有することにより、近紫外波長領域においても入射角依存性が小さい光学フィルターを得ることができる。

（A）アゾメチン系化合物
前記アゾメチン系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式（８）で表すことができる。

式（８）中、Ｒ^a1〜Ｒ^a5は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜９のアルコキシ基または炭素数１〜９のアルコキシカルボニル基を表す。

（B）インドール系化合物
前記インドール系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式（９）で表すことができる。

式（９）中、Ｒ^b1〜Ｒ^b5は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、シアノ基、フェニル基、アラルキル基、炭素数１〜９のアルキル基、炭素数１〜９のアルコキシ基または炭素数１〜９のアルコキシカルボニル基を表す。

（C）ベンゾトリアゾール系化合物
前記ベンゾトリアゾール系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式（１０）で表すことができる。

式（１０）中、Ｒ^c1〜Ｒ^c3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アラルキル基、炭素数１〜９のアルキル基、炭素数１〜９のアルコキシ基、または置換基として炭素数１〜９のアルコキシカルボニル基を有する炭素数１〜９のアルキル基を表す。

（D）トリアジン系化合物
前記トリアジン系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式（１１）、（１２）または（１３）で表すことができる。

式（１１）〜（１３）中、Ｒ^d1は、独立に水素原子、炭素原子数１〜１５のアルキル基、炭素原子数３〜８ のシクロアルキル基、炭素原子数３〜８のアルケニル基、炭素原子数６〜１８のアリール基、炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基またはアリールアルキル基を表す。ただし、これらアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基およびアリールアルキル基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基またはアルコキシ基で置換されてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基またはイミノ基で中断されてもよい。また、前記置換及び中断は組み合わされてもよい。Ｒ^d2〜Ｒ^d9は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数１〜１５のアルキル基、炭素原子数３〜８ のシクロアルキル基、炭素原子数３〜８のアルケニル基、炭素原子数６〜１８のアリール基、炭素原子数７〜１８のアルキルアリール基またはアリールアルキル基を表す。

（E）市販品
ＦｅｗＣｈｅｍｉｃａｌｓ社製「Ｓ０５１１」、ＢＡＳＦ社製「Ｌｕｍｏｇｅｎ（登録商標） Ｆｖｉｏｌｅｔ ５７０」、「Ｕｖｉｔｅｘ（登録商標）Ｏ Ｂ」、昭和化学工業（株）製「Ｈａｋｋｏｌ ＲＦ−Ｋ」、日本化学工業（株）製「Ｎｉｋｋａｆｌｕｏｒ ＥＦＳ」、「Ｎｉｋｋａｆｌｕｏｒ ＳＢ−ｃｏｎｃ」などが挙げられる。Ｅｘｉｔｏｎ社製「Ａ ＢＳ ４０７」、ＱＣＲＳｏｌｕｔｉｏｎｓ Ｃｏｒｐ．社製「ＵＶ ３８１Ａ 」、「ＵＶ ３８１Ｂ」 、「ＵＶ ３８２Ａ 」、「ＵＶ ３８６Ａ 」、ＢＡＳＦ社製「ＴＩＮＵＶＩＮ ３２６」 、「ＴＩＮＵＶＩＮ ４６０」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ４７９」、オリヱント化学（株）製「ＢＯＮＡＳＯＲＢ ＵＡ３９１１」などを用いてもよい。

＜その他成分＞
前記樹脂層は、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに、酸化防止剤、分散剤、難燃剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、および金属錯体系化合物等の添加剤を含有してもよい。また、上述のキャスト成形により樹脂製基材を製造する場合には、レベリング剤や消泡剤を添加することで樹脂製基材の製造を容易にすることができる。これらその他成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記酸化防止剤としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２'−ジオキシ−３，３'−ジ−ｔ−ブチル−５，５'−ジメチルジフェニルメタン、およびテトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジル−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオンなどが挙げられる。なお、これら添加剤は、樹脂製基材を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を製造する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、樹脂１００質量部に対して、通常０．０１〜５．０質量部、好ましくは０．０５〜２．０質量部である。

［その他の機能膜］
本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、機能膜を適宜設けることができる。

本発明の光学フィルターは、機能膜からなる層を１層含んでもよく、２層以上含んでもよい。本発明の光学フィルターが機能膜からなる層を２層以上含む場合には、同様の層を２層以上含んでもよいし、異なる層を２層以上含んでもよい。

機能膜を積層する方法としては、特に限定されないが、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤などを基材または近赤外線反射膜上に、溶融成形またはキャスト成形する方法等を挙げることができる。

また、前記コーティング剤は、硬化性組成物をバーコーター等で基材または近赤外線反射膜上に塗布した後、紫外線照射および／または加熱等により硬化することによっても製造することができる。得られる基材の破断強度の向上、傷つきにくさ、反りの低減などから、硬化性組成物の機能膜を有することが好ましい。

前記硬化性組成物としては、紫外線（ＵＶ）／電子線（ＥＢ）硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、具体的には、ビニル化合物類や、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。これらのコーティング剤を含む前記硬化性組成物としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系硬化性組成物などが挙げられる。

前記ウレタン系もしくはウレタンアクリレート系硬化性組成物に含まれる成分としては、例えば、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、分子内に２以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴウレタン（メタ）アクリレート類を挙げることができる。これら成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。さらにポリウレタン（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはポリマーや、ポリエステル（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはポリマーを配合してもよい。

前記ビニル化合物類としては、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等を挙げることができるが、これらの例示に限定されるものではない。これら成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記エポキシ系もしくはエポキシアクリレート系硬化性組成物に含まれる成分としては、特に限定されないが、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、分子内に２以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴエポキシ（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。これら成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。さらにポリエポキシ（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはポリマーを配合してもよい。

前記硬化性組成物の市販品としては、東洋インキ製造（株）製「ＬＣＨ」、「ＬＡＳ」；荒川化学工業（株）製「ビームセット」；ダイセル・サイテック（株）製「ＥＢＥＣＲＹＬ」、「ＵＶＡＣＵＲＥ」；ＪＳＲ（株）製「オプスター」、「デソライトＺ」などが挙げられる。

また、前記硬化性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。前記重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を１００質量％とした場合、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．５〜１０質量％、さらに好ましくは１〜５質量％である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物の硬化特性および取り扱い性が優れ、所望の硬度を有する反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を得ることができる。

さらに、前記硬化性組成物には溶剤として有機溶剤を加えてもよく、有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。これら溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記機能膜の厚さは、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは０．５μｍ〜１０μｍ、特に好ましくは０．７μｍ〜５μｍである。
また、基材と機能膜および／または近赤外線反射膜との密着性や、機能膜と近赤外線反射膜との密着性を上げる目的で、基材や機能膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。

上記の材料は、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、監視カメラ、車載用カメラ、ウェブカメラ、無人航空機等の撮像装置において、モアレや偽色を低減するためのローパスフィルタや波長板の材料として使用される場合がある。

［光学フィルターの用途］
本発明の光学フィルターは、視野角が広く、赤色の感度が高く、ゴーストを改善した特性を有する。したがって、カメラモジュールのＣＣＤやＣＭＯＳなどの固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビ、携帯情報端末、パソコン、ビデオゲーム機、携帯ゲーム機、指紋認証システム、距離測定センサー、虹彩認証システム、顔認証システム、距離測定カメラ、デジタルミュージックプレーヤー等に有用である。

＜固体撮像装置＞
本発明の固体撮像装置は、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、固体撮像装置とはＣＣＤやＣＭＯＳなどといった固体撮像素子を備えたイメージセンサーである。固体撮像素子を構成する部材としては、シリコンフォトダイオードや有機半導体などの特定の波長の光を電荷に変換する光電変換素子が使用される。また、固体撮像素子を構成する画素には、少なくとも波長７００〜７５０ｎｍの近赤外線に感度を有する画素を有する。

本発明の固体撮像装置には、固体撮像素子の全面に位相差フィルム、ワイヤーグリッド等の偏光子を設けてもよい。偏光素子を設けた場合、画像の位相情報が得られ、被写体の反射光を除いた像や、被写体の形状を三次元計測が可能となりより好ましい。

＜ワイヤーグリッド＞
本発明の固体撮像素子に設けるワイヤーグリッドは、アルミニウム、ニッケル、銀、白金、タングステン、あるいはこれらの金属を含む合金等などを用いることができ、特開２０１７−００３８７８号公報、特開２０１７−００５１１１号公報に記載の偏光子を設けることが好ましい。

＜カメラモジュール＞
本発明のカメラモジュールは、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、カメラモジュールとは、イメージセンサーや焦点調整機構、あるいは位相検出機構、距離測定機構等を備え、画像や距離情報を電気信号として出力する装置である。ここで、本発明の光学フィルターをカメラモジュールに用いる場合について具体的に説明する。カメラモジュール４００の断面概略図９を示す。

本発明の光学フィルター１の場合、垂直方向から入射する光と、フィルター１の垂直方向に対して３０°から入射する光の透過波長に大きな差はない（吸収（透過）波長の入射角依存性が小さい）ため、フィルター１は、レンズ３０１とセンサー３０２の間に具備してもセンサー全体の色味変化が少ない。このため、本発明の光学フィルター１をカメラモジュールに用いる場合には、より高角度入射に対応したレンズを用いることができ、カメラモジュールの低背化が可能となる。

［ゴースト］
本発明における画質低下を起こすゴーストとは、被写体と撮像素子間の光学部品表面または裏面で反射した光が、他の部品等に反射し、本来の撮像位置とは異なる位置の撮像素子に入射した光が原因で発生する画像不良である。

図１０に示すように、光学フィルター１の表面で反射した光がレンズでさらに反射し、光学フィルター１を透過し、センサー３０２に入射されるとき、ゴースト３０４として発生する。あるいはセンサー３０２から反射した光が光学フィルター１の裏面でさらに反射し、センサー３０２に入射されるとき、ゴースト３０５として発生する。

従来の光学フィルターは、特に波長６８０〜７２０ｎｍ近傍の反射が大きく、ゴースト発生の原因となっていた。しかし、本発明の光学フィルター１は、波長７００ｎｍにおける両面の反射率が１０％以下であり、かつ、両面の（Ｚａ）の値が７３０ｎｍ以上であることから、波長７００〜（Ｚａ）ｎｍの反射率は５０％より低いこととなる。よって波長６８０〜７２０ｎｍ近傍におけるフィルターの表面の反射が両面とも少ない。そのため、センサーに誤って入射されるゴースト３０４やゴースト３０５の発生が少なく、良好な画質が得られる。
図１１はゴーストの一例である。

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。なお、「部」および「％」は、特に断りのない限り「質量部」および「質量％」を意味する。
実施例における各種物性の測定方法および評価方法は以下のとおりである。

＜透過率＞
透過率は、（株）日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計「Ｕ−４１００」を用いて測定した。基材や光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率は、図６のように光学フィルターに対し垂直に透過した無偏光光線を測定した。また、光学フィルターの面に対して垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率は、図７のようにフィルターの垂直方向に対して３０°の角度で透過したＰ偏光光線およびＳ偏光光線を測定し、それらの平均より算出した。

なお、波長Ａ〜Ｂｎｍの透過率の平均値は、Ａｎｍ以上Ｂｎｍ以下の、１ｎｍ刻みの各波長における透過率を測定し、その透過率の合計を、測定した透過率の数（波長範囲、Ｂ−Ａ＋１）で除した値により算出した。

＜反射率＞
分光反射率は、（株）日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計「Ｕ−４１００」を用いて、図８のように５°入射における無偏光光線の、光学フィルターの一方の面から入射した表面および裏面から反射される光の強度、ならびに、もう一方の面から入射した表面および裏面から反射される光の強度を絶対反射率測定法より測定した。

なお、波長Ａ〜Ｂｎｍの反射率の平均値は、Ａｎｍ以上Ｂｎｍ以下の、１ｎｍ刻みの各波長における反射率を測定し、その反射率の合計を、測定した反射率の数（波長範囲、Ｂ−Ａ＋１）で除した値により算出した。

＜吸収剤の評価＞
吸収剤の評価は、ＪＳＲ（株）社製のノルボルネン樹脂「ＡＲＴＯＮ」（屈折率１．５２、ガラス転移温度１６０℃）１００質量部に、各種吸収剤を添加し、さらに塩化メチレンを加えて、固形分が質量基準にて３０％の溶液を得た。次いで、得られた溶液を平滑なガラス板上にキャスト成形し、５０℃で８時間、さらに減圧下１００℃で１時間乾燥後に剥離し、厚さ０．１ｍｍの基材を得た。各種吸収剤の添加量は、得られる基材の吸収極大波長における透過率が１０％となる濃度とした。得られた基材の透過率より、吸収極大波長、最短吸収極大波長、吸光度λ₇₀₀、吸光度λ₇₅₁、前記（Ａａ）と（Ａｂ）の差の絶対値を算出した。

＜屈折率＞
本明細書における種々の材料の屈折率は、特に指定が無い場合、波長５５０ｎｍの値とした。

＜ガラス転移温度＞
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ（株）社製の示差走査熱量計「ＤＳＣ６２００」を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。

＜面内位相差Ｒ₀＞
位相差計（王子計測機器（株）社製「ＫＯＢＲＡ−ＨＢＲ」）を用いて、実施例で得られた基材の５５０ｎｍの位相差を測定し、面内位相差Ｒ₀とした。

＜緑の感度および近赤外線の感度評価＞
光学フィルターによる可視光感度および近赤外線感度への効果として、図９（ｂ）の構成とした撮像装置の評価に相当する数値として、光学フィルターの面から垂直方向から入射した際の波長別透過率Ｔ₀（λ）および垂直方向から３０度の角度で入射した波長別透過率Ｔ₃₀（λ）を用いて以下の数式（i）〜（v）より緑画素の感度、近赤外線画素の感度を算出した。

Ｇ₀は、太陽光線が光学フィルターの垂直方向から入射した際の緑の画素の感度を表し、具体的には、数式（i）に基づいて、光学フィルターの波長別透過率Ｔ₀（λ）と、太陽光線の波長別強度Ｉ（λ）と、緑のセンサー画素の波長別感度Ｇ（λ）と、緑と近赤外線を透過する二波長領域透過フィルターの波長別透過率ＤＴ（λ）との積の１ｎｍ毎の計算値の総和として算出した。

ＩＲ₀は、太陽光線が光学フィルターの垂直方向から入射した際の近赤外線の画素の感度を表し、具体的には、数式（ii）に基づいて、光学フィルターの波長別透過率Ｔ₀（λ）と、太陽光線の波長別強度Ｉ（λ）と、近赤外線のセンサー画素の波長別感度ＩＲ（λ）と、緑と近赤外線を透過する二波長領域透過フィルターの波長別透過率ＤＴ（λ）との積の１ｎｍ毎の計算値の総和として、算出した。

Ｇ₃₀は、太陽光線が光学フィルターの垂直方向から３０°の角度で入射した際の緑の画素の感度を表し、具体的には、数式（iii）に基づいて、光学フィルターの波長別透過率Ｔ₀（λ）と、太陽光線の波長別強度Ｉ（λ）と、緑のセンサー画素の波長別感度Ｇ（λ）と、緑と近赤外線を透過する二波長領域透過フィルターの波長別透過率ＤＴ（λ）との積の１ｎｍ毎の計算値の総和として、算出した。

ＩＲ₃₀は、太陽光線が光学フィルターの垂直方向から３０°の角度で入射した際の近赤外線の画素の感度を表し、具体的には、数式（iv）に基づいて、光学フィルターの波長別透過率Ｔ₀（λ）と、太陽光線の波長別強度Ｉ（λ）と、近赤外線のセンサー画素の波長別感度ＩＲ（λ）と、緑と近赤外線を透過する二波長領域透過フィルターの波長別透過率ＤＴ（λ）との積の１ｎｍ毎の計算値の総和として、算出した。

Ｇ_Nは、緑画素における波長８００〜１２００ｎｍのノイズ量を表し、具体的には、数式（v）に基づいて、光学フィルターの波長別透過率Ｔ₀（λ）と、太陽光線の波長別強度Ｉ（λ）と、近赤外線のセンサー画素の波長別感度ＩＲ（λ）と、緑と近赤外線を透過する二波長領域透過フィルターの波長別透過率ＤＴ（λ）との積の１ｎｍ毎の計算値の総和として、算出した。

太陽光線の波長別強度Ｉ（λ）は、図３に示す通り、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構が公開している、ある日時の岐阜の照射量データを、最大強度が１．０となるように規格化した値を用いた。緑と近赤外線の各センサー画素の波長別感度は、特開２０１７−２１６６７８号公報の記載に基づき、図４に示す値を用いた。

緑と近赤外線を透過する二波長領域透過フィルターは、ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）の一方の面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃で、表２に示す設計（０） [シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率１．４６）層とチタニア（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率２．４８）層とが交互に積層されてなるもの］の誘電体多層膜を形成することで得た。二波長領域透過フィルターの波長別透過率ＤＴ（λ）を図５に示す。

得られた画素感度より、下記要件（Ｘａ）および（Ｘｂ）を共に満たす光学フィルターは、緑画素において高入射角時おいても感度の変化量が少なく、人間の視感度の低い波長８００〜１２００ｎｍのノイズ量が少なく、緑の感度〇とした。要件（Ｘａ）および（Ｘｂ）を共に満たす光学フィルターでないものは、緑の感度×とした。
要件（Ｘａ）０．８≦Ｇ₃₀／Ｇ₀≦１．２
要件（Ｘｂ）Ｇ_N／Ｇ₀≦ ０．０５

また、下記要件（Ｙ）および（Ｚ）を共に満たす光学フィルターは、緑画素対比の近赤外線感度が高く、また広視野角時においても近赤外線感度の変化量が少ないことから近赤外線感度〇とした。要件（Ｙ）を満たさない場合、ＩＲ₀はＧ₀対比約５倍以上センサー感度を上げる必要があり、ノイズ量も５倍以上に増大することが予想される。また要件（Ｚ）を満たさない場合ではＩＲ₃₀においてＩＲ₀対比０．２倍感度が変動する。即ち要件（Ｙ）および（Ｚ）を満たさない場合、太陽光源の下におけるセンシング時にＩＲ₃₀のノイズ量をオフセットすることが困難となる。このことから要件（Ｙ）および（Ｚ）を共に満たす光学フィルターでないものは近赤外線感度×とした。
要件（Ｙ）ＩＲ₀／Ｇ₀が０．２１以上
要件（Ｚ） ０．８≦ＩＲ₃₀／ＩＲ₀≦１．２

＜ゴースト評価＞
撮像装置（シキノハイテック社製「ＫＢＣＲ−Ｍ０４ＶＧ」）に用いられているレンズとセンサーの間に、得られた光学フィルターを具備した撮像装置を構築した。周囲の迷光を遮蔽する環境の下、画像を横方向に５分割し左から右へ１〜５行とし、縦方向に５分割した際の上から下へ１〜５列とした場合に、ハロゲン光源（朝日分光（株）社製「ＡＬＡ−１００」）が２行−４列の位置となるように撮像した。その際に、１行−５列の領域に発生するゴーストにおいて、赤の感度が８０以上である領域をゴーストの領域とし、その面積を評価した。１行−５列の領域の２０％以下であるものをゴースト性能〇とし、２０％を超えるものをゴースト性能×とした。

［実施例１］
ＪＳＲ（株）製のノルボルネン樹脂「ＡＲＴＯＮ」（屈折率１．５２、ガラス転移温度１６０℃）１００質量部に、下記式（１４）で表わされる化合物（１４）（吸収極大波長；８８７ｎｍ、前記（Ａａ）と（Ａｂ）の差の絶対値：９４ｎｍ、吸光度λ₇₀₀／吸光度λ_max：０．０８、吸光度λ₇₅₁／吸光度λ_max：０．３１）０．０７８質量部、およびフェノール系酸化防止剤（ＡＤＥＫＡ社製、「アデカスタブＡＯ−２０」）０．０５質量部を加え、さらに塩化メチレンを加えて溶解し、固形分が質量基準にて３０％の溶液を得た。次いで、得られた溶液を平滑なガラス板上にキャスト成形し、５０℃で８時間、さらに減圧下１００℃で１時間乾燥後に剥離した。この樹脂フィルムを１８０℃で延伸することで、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍ、面内位相差Ｒｏが５ｎｍである基材を得た。得られた基材の「（９５０−最短吸収極大波長）×色素濃度×色素媒体厚さ」は、１．３であり条件（ｃ）を満たしていた。

得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃で誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を、それぞれ設計（１）および設計（２）[シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率１．４６）層とチタニア（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率２．４８）層とが交互に積層されてなるもの］で形成し、厚さ０．１０７ｍｍの光学フィルターを得た。前記設計（１）および設計（２）を表２に示す。なお、波長７００ｎｍでの反射率はどちらの面も１０％以下であった。

得られた光学フィルターの透過率および反射率の測定した、前記要件（Ａ）〜（Ｅ）および（Ｚａ）の結果を表１および図１２に示す。
この光学フィルターの感度評価を行った結果、緑の感度〇、近赤外線の感度〇であった。またゴースト評価を行った結果、ゴースト性能は〇であった。得られた光学フィルターは近赤外線に感度を有する固体撮像装置に好適であった。

［実施例２］
実施例１における化合物（１４）を下記式（１５）で表わされる化合物（１５）（吸収極大波長；８９８ｎｍ、前記（Ａａ）と（Ａｂ）の差の絶対値：１１０ｎｍ、吸光度λ₇₀₀／吸光度λ_max：０．０５、吸光度λ₇₅₁／吸光度λ_max：０．１）０．０５質量部に変えた他は同様の手順で、基材を得た。得られた基材の「（９５０−最短吸収極大波長）×色素濃度×色素媒体厚さ」は、０．７４であり条件（ｃ）を満たしていた。

得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃で誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を設計（２）[シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率１．４６）層とチタニア（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率２．４８）層とが交互に積層されてなるもの］で形成し、厚さ０．１０７ｍｍの光学フィルターを得た。前記設計（２）を表２に示す。

得られた光学フィルターの透過率および反射率の測定した、前記要件（Ａ）〜（Ｅ）および（Ｚａ）の結果を表１に示す。なお、波長７００ｎｍでの反射率はどちらの面も１０％以下であった。

この光学フィルターの感度評価を行った結果、緑の感度〇、近赤外線の感度〇であった。またゴースト評価を行った結果、ゴースト性能は〇であった。得られた光学フィルターは近赤外線に感度を有する固体撮像装置に好適であった。

［実施例３］
実施例１における化合物（１４）を下記式（１６）で表わされる化合物（１６）（吸収極大波長；８９７ｎｍ、前記（Ａａ）と（Ａｂ）の差の絶対値：１３４ｎｍ、吸光度λ₇₀₀／吸光度λ_max：０．１、吸光度λ₇₅₁／吸光度λ_max：０．２）０．０６４質量部に変えた他は同様の手順で、基材を得た。得られた基材の「（９５０−最短吸収極大波長）×色素濃度×色素媒体厚さ」は、０．３２であり条件（ｃ）を満たしていた。

得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃で誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を設計（３）[シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率１．４６）層とチタニア（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率２．４８）層とが交互に積層されてなるもの］で形成し、厚さ０．１０４ｍｍの光学フィルターを得た。前記設計（３）を表２に示す。

得られた光学フィルターの透過率および反射率の測定した、前記要件（Ａ）〜（Ｅ）および（Ｚａ）の結果を表１に示す。なお、波長７００ｎｍでの反射率はどちらの面も１０％以下であった。

この光学フィルターの感度評価を行った結果、緑の感度〇、近赤外線の感度〇であった。またゴースト評価を行った結果、ゴースト性能は〇であった。得られた光学フィルターは近赤外線に感度を有する固体撮像装置に好適であった。

［実施例４］
実施例１における化合物（１４）を下記式（１７）で表わされる化合物（１７）（吸収極大波長；８４４ｎｍ、前記（Ａａ）と（Ａｂ）の差の絶対値：８４ｎｍ、吸光度λ₇₀₀／吸光度λ_max：０．０８、吸光度λ₇₅₁／吸光度λ_max：０．２６）０．０５質量部に変えた他は同様の手順で、基材を得た。得られた基材の「（９５０−最短吸収極大波長）×色素濃度×色素媒体厚さ」は、０．５４であり条件（ｃ）を満たしていた。

得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃で誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を設計（３）[シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率１．４６）層とチタニア（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率２．４８）層とが交互に積層されてなるもの］で形成し、厚さ０．１０４ｍｍの光学フィルターを得た。前記設計（３）を表２に示す。

得られた光学フィルターの透過率および反射率の測定した、前記要件（Ａ）〜（Ｅ）および（Ｚａ）の結果を表１に示す。なお、波長７００ｎｍでの反射率はどちらの面も１０％以下であった。

この光学フィルターの感度評価を行った結果、緑の感度〇、近赤外線の感度〇であった。またゴースト評価を行った結果、ゴースト性能は〇であった。得られた光学フィルターは近赤外線に感度を有する固体撮像装置に好適であった。

［実施例５］
実施例１における化合物（１４）の量を０．０７質量部に変えた他は同様の手順で、基材を得た。得られた基材の「（９５０−最短吸収極大波長）×色素濃度×色素媒体厚さ」は、１．１であり条件（ｃ）を満たしていた。

得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃で誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜をそれぞれ設計(４)および設計（５）[シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率１．４６）層とチタニア（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率２．４８）層とが交互に積層されてなるもの］で形成し、厚さ０．１０４ｍｍの光学フィルターを得た。前記設計(４)、（５）を表２に示す。

得られた光学フィルターの透過率および反射率の測定した、前記要件（Ａ）〜（Ｅ）および（Ｚａ）の結果を表１および図１３に示す。なお、波長７００ｎｍでの反射率はどちらの面も１０％以下であった。

この光学フィルターの感度評価を行った結果、緑の感度〇、近赤外線の感度〇であった。またゴースト評価を行った結果、ゴースト性能は〇であった。得られた光学フィルターは近赤外線に感度を有する固体撮像装置に好適であった。

［実施例６］
厚さ０．１ｍｍのガラス板（ＳＣＨＯＴＴ社製Ｄ２６３）に、下記樹脂組成物（１）をスピンコートで塗布した後、ホットプレート上８０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去することで硬化層を形成した。この際、該硬化層の膜厚が０．８μｍ程度となるようにスピンコーターの塗布条件を調整した。

樹脂組成物（１）：イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート（商品名：アロニックスＭ−３１５、東亜合成化学（株）製）３０部、１，９−ノナンジオールジアクリレート２０部、メタクリル酸２０部、メタクリル酸グリシジル３０部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン５部、１−ヒドロキシシクロヘキシルベンゾフェノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカル（株）製)５部及びサンエイドＳＩ−１１０主剤（三新化学工業（株）製）１部を混合し、固形分濃度が５０質量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解した後、孔径０．２μｍのミリポアフィルタでろ過した溶液。

ＪＳＲ（株）製のノルボルネン樹脂「ＡＲＴＯＮ」（屈折率１．５２、ガラス転移温度１６０℃）１００質量部に、上記式（１４）で表わされる化合物（１４）０．７質量部、およびフェノール系酸化防止剤（ＡＤＥＫＡ社製「アデカスタブＡＯ−２０」）０．１質量部を加え、さらに塩化メチレンを加えて溶解し、固形分が質量基準にて１０％の溶液（Ａ）を得た。前記硬化層の上に、スピンコーターにより乾燥後の膜厚が０．０１ｍｍとなるように前記溶液（Ａ）を塗布し、ホットプレート上８０℃で３０分間加熱し、溶剤を揮発除去することで、樹脂層を形成した。次いで、ガラス板側からＵＶコンベア式露光機を用いて露光（露光量：５００ｍＪ／ｃｍ²、照度：２００ｍＷ）し、その後オーブン中２１０℃で５分間焼成し、ガラス基板と樹脂層からなる基材を得た。得られた基材の「（９５０−最短吸収極大波長）×色素濃度×色素媒体厚さ」は、１．３であり条件（ｃ）を満たしていた。

得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃で誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を、それぞれ設計(４)および設計（５）[シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率１．４６）層とチタニア（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率２．４８）層とが交互に積層されてなるもの］で形成し、厚さ０．１０４ｍｍの光学フィルターを得た。前記設計（４）、（５）を表２に示す。

この光学フィルターの感度評価を行った結果、緑の感度〇、近赤外線の感度〇であった。またゴースト評価を行った結果、ゴースト性能は〇であった。得られた光学フィルターは近赤外線に感度を有する固体撮像装置に好適であった。

［比較例１］
ＪＳＲ（株）製のノルボルネン樹脂「ＡＲＴＯＮ」（屈折率１．５２、ガラス転移温度１６０℃）１００質量部に、ＱＣＲ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ社製の吸収剤「ＮＩＲ８２９Ａ」（吸収極大波長；８４０ｎｍ、前記（Ａａ）と（Ａｂ）の差の絶対値：９０ｎｍ、吸光度λ₇₀₀／吸光度λ_max：０．１５、吸光度λ₇₅₁／吸光度λ_max：０．３８であり、条件（ａ）を満たしていない。）０．１１３質量部、およびフェノール系酸化防止剤（ＡＤＥＫＡ社製、「アデカスタブＡＯ−２０」）０．０５質量部を加え、さらに塩化メチレンを加えて溶解し、固形分が質量基準にて３０％の溶液を得た。次いで、得られた溶液を平滑なガラス板上にキャスト成形し、５０℃で８時間、さらに減圧下１００℃で１時間乾燥後に剥離した。この樹脂フィルムを１５０℃で延伸することで、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍ、面内位相差Ｒｏが５ｎｍである基材を得た。得られた基材の「（９５０−最短吸収極大波長）×色素濃度×色素媒体厚さ」は、１．２であり条件（ｃ）を満たしていた。

得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃で誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を、それぞれ設計(７)および設計(６)[シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率１．４６）層とチタニア（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率２．４８）層とが交互に積層されてなるもの］で形成し、厚さ０．１０６ｍｍの光学フィルターを得た。前記設計(６)および設計(７)を表２に示す。

得られた光学フィルターの透過率および反射率の測定結果、前記要件（Ａ）〜（Ｅ）および（Ｚａ）の結果を表１および図１４に示す。なお、波長７００ｎｍでの反射率はどちらの面も１０％以下であった。

この光学フィルターの感度評価を行った結果、緑の感度は〇であったが、近赤外線の感度は×であった。また、得られた光学フィルターのゴースト評価を行った結果、ゴースト性能は〇であった。得られた光学フィルターは近赤外線に感度を有する固体撮像装置には性能不十分であった。

［比較例２］
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク管および冷却管を備えた５００ｍＬの５つ口フラスコに、窒素気流下、１，４−ビス（４−アミノ−α，α−ジメチルベンジル）ベンゼン２７．６６ｇ（０．０８モル）および４，４'−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル７．３８ｇ（０．０２モル）をγ−ブチロラクトン６８．６５ｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１７．１６ｇに溶解させた。得られた溶液を、氷水バスを用いて５℃に冷却した。同温に保ちながら１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物２２．６２ｇ（０．１モル）およびイミド化触媒としてトリエチルアミン０．５０ｇ（０．００５モル）を前記溶液に一括添加した。添加終了後、１８０℃に昇温し、随時留出液を留去させながら、６時間還流させた。反応終了後、内温が１００℃になるまで空冷した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１４３．６ｇを加えて希釈し、攪拌しながら冷却することにより、固形分濃度２０質量％のポリイミド樹脂溶液２６４．１６ｇを得た。このポリイミド樹脂溶液の一部を１Ｌのメタノール中に注ぎ入れてポリイミド樹脂を沈殿させた。濾別したポリイミド樹脂をメタノールで洗浄した後、１００℃の真空乾燥機中で２４時間乾燥させて白色粉末状のポリイミド樹脂を得た。得られたポリイミド樹脂のガラス転移温度３１０℃であった。

得られたポリイミド樹脂１００質量部に、前記式（４）におけるＲ¹が水素基、Ｒ^1'がメチル基、Ｒ²が水素基、Ｒ³がｉｓｏ−プロピル基、Ｒ⁴が水素基、Ｒ⁵が水素基、Ｒ⁶がメチル基のスクアリリウム系吸収剤（吸収極大波長は７７０ｎｍ、前記（Ａａ）と（Ａｂ）の差の絶対値：８２ｎｍ、吸光度λ₇₀₀／吸光度λ_max：０．４、吸光度λ₇₅₁／吸光度λ_max：０．９であり、条件（ａ）を満たしていない）０．０５質量部、および前記式（７−１）におけるＲｄｉ１〜Ｒｄｉ８がｔｅｒｔ−ブチル基、Ｒｄｉ９〜Ｒｄｉ１２が水素基、アニオン（Ｘ^-）がビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオンであるジイモニウム系吸収剤（吸収極大波長；１０９４ｎｍ、前記（Ａａ）と（Ａｂ）の差の絶対値：１２４ｎｍ）０．０００５質量部を加え、さらにＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを加えて溶解し、固形分が質量基準にて３０％の溶液を得た。次いで、得られた溶液を平滑なガラス板上にキャスト成形し、５０℃で８時間、さらに減圧下１４０℃で１時間乾燥後に剥離し、厚さ０．０５ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。得られた基材の「（９５０−最短吸収極大波長）×色素濃度×色素媒体厚さ」は、０．４５であり条件（ｃ）を満たしていた。

得られた基材の両面に、重合開始剤２質量部を含むアクリレート系紫外線硬化性ハードコート剤（ＪＳＲ（株）製「デソライトＺ−７５２４」）をメチルエチルケトンにて希釈して固形分濃度を４５質量％とした溶液をコーターバー（安田精機製作所製オートマチックフィルムアプリケーター、型番Ｎｏ.５４２-ＡＢ）により塗布した。これを８０℃で３分間乾燥後、アイグラフィックス社製のＵＶコンベア紫外線硬化装置「ＵＳ２−Ｘ０４０５６０Ｈｚ」を用い、窒素雰囲気化、メタルハライドランプ照度２７０ｍＷ/ｃｍ²、積算光量１５０ｍＪ/ｃｍ² でＵＶ硬化させることで、樹脂フィルムの両面に厚さ１μｍのハードコート層を有する、厚さ０．０５２ｍｍの積層体を得た。

得られた積層体の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃で誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を、それぞれ設計(８)および設計(６)［シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率１．４６）層とチタニア（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率２．４８）層とが交互に積層されてなるもの］で形成し、厚さ０．０５６ｍｍの光学フィルターを得た。前記設計(８)および設計(６)を表２に示す。

得られた光学フィルターの透過率および反射率の測定結果、前記要件（Ａ）〜（Ｅ）および（Ｚａ）の結果を表１に示す。なお、波長７００ｎｍでの反射率はどちらの面も１０％以下であった。

この光学フィルターの感度評価を行った結果、緑の感度は〇、近赤外線の感度は×であった。またゴースト評価を行った結果、ゴースト性能は〇であった。得られた光学フィルターは近赤外線に感度を有する固体撮像装置には性能不十分であった。

［比較例３］
３Ｌの４つ口フラスコに２，６−ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン８７．６０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．４６ｇ（０．３００ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（以下「ＤＭＡｃ」ともいう。）４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。続いて、４つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を１４０℃で３時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を１６０℃まで上昇させ、そのままの温度で６時間反応させた。室温（２５℃）まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物（残渣）を単離した。得られたろ物を６０℃で一晩真空乾燥し、ポリエーテル樹脂を得た。得られたポリエーテル樹脂の屈折率は１．６０、ガラス転移温度２８５℃であった。

得られたポリエーテル樹脂１００質量部に、Ｈ．Ｗ．ＳＡＮＤＳ社製の吸収剤「ＳＤＢ４９２７」（吸収極大波長；８２５ｎｍ、前記（Ａａ）と（Ａｂ）の差の絶対値：９８ｎｍ、吸光度λ₇₀₀／吸光度λ_max：０．１、吸光度λ₇₅₁／吸光度λ_max：０．３）０．０５質量部を加え、さらに塩化メチレンを加えて溶解し、固形分が質量基準にて１５％の溶液を得た。次いで、得られた溶液を平滑な厚さ０．１ｍｍのガラス板（ＳＣＨＯＴＴ社製Ｄ２６３）上にスピンコートし、５０℃で８時間、さらに減圧下１５０℃で１時間乾燥し、厚さ０．０１ｍｍの樹脂層を形成することにより、ガラス板と樹脂層を含む、一辺が６０ｍｍの基材を得た。得られた基材の面内位相差Ｒｏは８ｎｍであった。

続いて、得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃で誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を設計(７)および設計(６)［シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率１．４６）層とチタニア（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率２．４８）層とが交互に積層されてなるもの］で形成し、厚さ０．１１６ｍｍの光学フィルターを得た。前記設計(７)および設計(６)を表２に示す。

得られた光学フィルターの透過率および反射率の測定結果、前記要件（Ａ）〜（Ｅ）および（Ｚａ）の結果を表３に示す。なお、波長７００ｎｍでの反射率はどちらの面も１０％以下であった。

この光学フィルターの感度評価を行った結果、緑の感度は〇、近赤外線の感度は×であった。またゴースト評価を行った結果、ゴースト性能は〇であった。得られた光学フィルターは近赤外線に感度を有する固体撮像装置には性能不十分であった。

［比較例４］
ＪＳＲ（株）製のノルボルネン樹脂「ＡＲＴＯＮ」（屈折率１．５２、ガラス転移温度１６０℃）１００質量部に、ＦｅｗＣｈｅｍｉｃａｌｓ社製の吸収剤「Ｓ−２０８４」（吸収極大波長；６６７ｎｍ、前記（Ａａ）と（Ａｂ）の差の絶対値：２６ｎｍ、吸光度λ₇₀₀／吸光度λ_max：０．０６、吸光度λ₇₅₁／吸光度λ_max：０．０であり、条件（ｂ）を満たしていない）０．００８７質量部を加え、さらに塩化メチレンを加えて溶解し、固形分が質量基準にて３０％の溶液を得た。次いで、得られた溶液を平滑なガラス板上にキャスト成形し、５０℃で８時間、さらに減圧下１４０℃で３時間乾燥後に剥離し、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。得られた基材の「（９５０−最短吸収極大波長）×色素濃度×色素媒体厚さ」は、１．２６であり条件（ｃ）を満たしていた。

続いて、得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃で誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を、それぞれ設計（１）および設計（９）［シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率１．４６）層とチタニア（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率２．４８）層とが交互に積層されてなるもの］で形成し、厚さ０．１０６ｍｍの光学フィルターを得た。前記設計（１）および設計（９）を表２に示す。

得られた光学フィルターの透過率および反射率の測定結果、前記要件（Ａ）〜（Ｅ）および（Ｚａ）の結果を表１および図１５に示す。なお、波長７００ｎｍでの反射率は１０％を超えていた。

この光学フィルターの感度評価を行った結果、緑の感度は〇、近赤外線の感度は×であった。またゴースト評価を行った結果、ゴースト性能は×であった。得られた光学フィルターは近赤外線に感度を有する固体撮像装置には性能不十分であった。

［比較例５］
ＪＳＲ（株）製のノルボルネン樹脂「ＡＲＴＯＮ」（屈折率１．５２、ガラス転移温度１６０℃）１００質量部に、（株）林原社製の吸収剤「ＳＭＰ−５４」（吸収極大波長；７２１ｎｍ、前記（Ａａ）と（Ａｂ）の差の絶対値：６５ｎｍ、吸光度λ₇₀₀／吸光度λ_max：０．５３、吸光度λ₇₅₁／吸光度λ_max：０．０８であり、条件（ａ）および（ｂ）を満たしていない）０．０５質量部を加え、さらに塩化メチレンを加えて溶解し、固形分が質量基準にて３０％の溶液を得た。次いで、得られた溶液を平滑なガラス板上にキャスト成形し、５０℃で３時間、さらに減圧下１００℃で３時間乾燥後に剥離し、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの基材を得た。得られた基材の「（９５０−最短吸収極大波長）×色素濃度×色素媒体厚さ」は、１．１５であり条件（ｃ）を満たしていた。

得られた基材の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃で誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜を、それぞれ設計(２)および設計(１０)［シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率１．４５、膜厚３７〜１９４ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率２．４５、膜厚１１〜１０８ｎｍ）層とが交互に積層されてなるもの］で形成し、厚さ０．１０６ｍｍの光学フィルターを得た。

得られた光学フィルターの透過率および反射率の測定結果、前記要件（Ａ）〜（Ｅ）および（Ｚａ）の結果を表１に示す。なお、波長７００ｎｍでの反射率は１０％を超えていた。

この光学フィルターの感度評価を行った結果、緑の感度は〇、近赤外線の感度は×であった。またゴースト評価を行った結果、ゴースト性能は×であった。得られた光学フィルターは近赤外線に感度を有する固体撮像装置には性能不十分であった。

［比較例６］
ＪＳＲ（株）製のノルボルネン樹脂「ＡＲＴＯＮ」（屈折率１．５２、ガラス転移温度１６０℃）１００質量部に、前記化合物（１５）０．０５質量部および下記式（１８）で表わされる化合物（１８）（吸収極大波長；１０６４ｎｍ、前記（Ａａ）と（Ａｂ）の差の絶対値：１３９ｎｍ、吸光度λ₇₀₀／吸光度λ_max：０．０５、吸光度λ₇₅₁／吸光度λ_max：０．１）０．０４質量部を加え、さらに塩化メチレンを加えて溶解し、固形分が質量基準にて３０％の溶液を得た。次いで、得られた溶液を平滑なガラス板上にキャスト成形し、５０℃で３時間、さらに減圧下１００℃で３時間乾燥後に剥離し、厚さ０．１ｍｍ、一辺が６０ｍｍの光学フィルターを得た。

得られた光学フィルターの透過率および反射率の測定結果、前記要件（Ａ）〜（Ｅ）および（Ｚａ）の結果を表１に示す。なお、波長７００ｎｍでの反射率はどちらの面も１０％以下であった。

この光学フィルターの感度評価を行った結果、緑の感度は×、近赤外線の感度は〇であった。また、ゴースト評価を行った結果、ゴースト性能は〇であった。得られた光学フィルターは近赤外線に感度を有する固体撮像装置には性能不十分であった。

［比較例７］
ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃で誘電体多層膜を、それぞれ表２に示す設計（１１）および設計（１２） [シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率１．４６）層とチタニア（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの屈折率２．４８）層とが交互に積層されてなるもの］で形成することで光学フィルターを得た。得られた光学フィルターの透過率および反射率の測定結果、前記要件（Ａ）〜（Ｅ）および（Ｚａ）の結果を表１および図１６に示す。なお、波長７００ｎｍでの反射率はどちらの面も１０％以下であった。

この光学フィルターの感度評価を行った結果、緑の感度は〇、近赤外線の感度は×であった。またゴースト評価を行った結果、ゴースト性能は〇であった。得られた光学フィルターは近赤外線に感度を有する固体撮像装置には性能不十分であった。

本発明の光学フィルターは、カメラモジュールのＣＣＤやＣＭＯＳなどの波長７００〜７５０ｎｍの近赤外線感度を有した固体撮像素子に感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、スマートフォン用カメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビ、携帯情報端末、パソコン、ビデオゲーム機、携帯ゲーム機、指紋認証システム、虹彩認証システム、顔認証システム、距離測定センサー、距離測定カメラ、デジタルミュージックプレーヤー、植生センシングシステム、脳血流量センシングシステム等に有用である。

１： 本発明に係る光学フィルターの一例
１０：基材
１１：支持体
１２：樹脂層
１３：その他の機能膜
２１：近赤外線反射膜１
２２：近赤外線反射膜２
２０１：検出器
３０１：レンズ
３０２：センサー
３０３：バンドパスフィルター
３０４：正常検出部
３０５：ゴースト
３０６：ゴースト
４００：カメラモジュール
４０１：光源
４０２：ゴースト

炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価のハロゲン化炭化水素基としては、ジフルオロメチレン基、ジクロロメチレン基、テトラフルオロエチレン基、テトラクロロエチレン基、ヘキサフルオロトリメチレン基、ヘキサクロロトリメチレン基、ヘキサフルオロイソプロピリデン基およびヘキサクロロイソプロピリデン基等が挙げられる。

得られた光学フィルターの透過率および反射率の測定結果、前記要件（Ａ）〜（Ｅ）および（Ｚａ）の結果を表１に示す。なお、波長７００ｎｍでの反射率はどちらの面も１０％以下であった。

Claims (10)

1. 下記要件（Ａ）〜（Ｄ）を満たすことを特徴とする光学フィルター：
   （Ａ）波長４３０〜５８０ｎｍの範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が７５％以上である；
   （Ｂ）波長８００〜１０００ｎｍの範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が１０％以下である；
   （Ｃ）波長７００〜７５０ｎｍの範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が４６％超である；
   （Ｄ）波長５６０〜８００ｎｍの範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から測定した場合の透過率が５０％となる最も短い波長の値（Ｙａ）と、光学フィルターの面に対して垂直方向から３０°の角度から測定した場合の透過率が５０％となる最も短い波長の値（Ｙｂ）との差の絶対値が１５ｎｍ未満である。
2. 前記光学フィルターが、さらに下記要件（Ｅ）を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光学フィルター：
   （Ｅ）前記波長の値（Ｙａ）が７３０ｎｍ以上８００ｎｍ以下である。
3. 近赤外線吸収剤を含有する基材と、近赤外線反射膜とを有することを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルター。
4. 前記近赤外線吸収剤が波長７５１〜９５０ｎｍの範囲に吸収極大波長を有すること、および、
   該吸収極大波長における前記基材の透過率が１０％となる量で前記近赤外線吸収剤を含有させた場合、波長４３０ｎｍ以上かつ該吸収極大波長以下の範囲において前記基材の透過率が７０％となる最も長い波長（Ａａ）と、波長５８０ｎｍ以上の範囲において前記基材の透過率が３０％となる最も短い波長（Ａｂ）との差の絶対値が１５０ｎｍ未満であることを特徴とする請求項３に記載の光学フィルター。
5. 前記基材が樹脂層を有し、かつ、該樹脂層が、ノルボルネン系樹脂、ポリイミド系樹脂およびポリエーテル樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項３または４に記載の光学フィルター。
6. 前記近赤外線吸収剤が、前記樹脂層に対して０．０１〜６０．０質量％の範囲で含有されていることを特徴とする請求項５に記載の光学フィルター。
7. 前記近赤外線反射膜が誘電体多層膜であることを特徴とする請求項３〜６のいずれか１項に記載の光学フィルター。
8. 前記光学フィルターが、下記要件（Ｚ１）および（Ｚ２）を満たすことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルター：
   （Ｚ１）波長７００ｎｍにおいて、光学フィルターの面に対して垂直方向から５°の角度から測定した場合の反射率が、光学フィルターのどちらの面から入射した場合においても１０％以下である；
   （Ｚ２）波長６００ｎｍ以上の範囲において、光学フィルターの面に対して垂直方向から５°の角度から測定した場合の反射率が５０％となる６００ｎｍ以上の波長の値（Ｚａ）が、光学フィルターのどちらの面から入射した場合においても７３０ｎｍ以上である。
9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とする固体撮像装置。
10. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。

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