JPS591241B2 - 歯科用シリコ−ン組成物およびその使用法 - Google Patents
歯科用シリコ−ン組成物およびその使用法Info
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- JPS591241B2 JPS591241B2 JP53078745A JP7874578A JPS591241B2 JP S591241 B2 JPS591241 B2 JP S591241B2 JP 53078745 A JP53078745 A JP 53078745A JP 7874578 A JP7874578 A JP 7874578A JP S591241 B2 JPS591241 B2 JP S591241B2
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- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 35
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 14
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 59
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 33
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 26
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 20
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 15
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 14
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 4
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 239000011505 plaster Substances 0.000 description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 7
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 6
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 210000000214 mouth Anatomy 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 4
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002978 dental impression material Substances 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 3
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052925 anhydrite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 210000003254 palate Anatomy 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001875 Ebonite Polymers 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- QFEOTYVTTQCYAZ-UHFFFAOYSA-N dimanganese decacarbonyl Chemical group [Mn].[Mn].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] QFEOTYVTTQCYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009965 odorless effect Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003284 rhodium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009967 tasteless effect Effects 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、
(a)1分子中に少なく共2個のビニル基を有するオル
ガソポリシロキサンと、(b)1分子中に少なく共2個
のSiに直接結合している水素を持つオルガノハイドロ
ジエンポリシロキサンと、を基礎物質として、之に (c)公知の白金系触媒と、 (d)疎水系充填材と、 (e)パラジウム微粉末および/または10重量%以上
のパラジウムを含むパラジウム合金の微粉末から成る室
温硬化性の歯科型取用シリコーン組成物(シリコーン印
象材)およびその使用法に開するものである。
ガソポリシロキサンと、(b)1分子中に少なく共2個
のSiに直接結合している水素を持つオルガノハイドロ
ジエンポリシロキサンと、を基礎物質として、之に (c)公知の白金系触媒と、 (d)疎水系充填材と、 (e)パラジウム微粉末および/または10重量%以上
のパラジウムを含むパラジウム合金の微粉末から成る室
温硬化性の歯科型取用シリコーン組成物(シリコーン印
象材)およびその使用法に開するものである。
本発明による歯科型取用シリコーン組成物の特長は口腔
内に挿入して硬化させたシリコーン型取材の面に注入し
て硬化させた模型材石膏面を極めて滑沢に仕上げること
を可能にした点にある。
内に挿入して硬化させたシリコーン型取材の面に注入し
て硬化させた模型材石膏面を極めて滑沢に仕上げること
を可能にした点にある。
従来、オルガノポリシロキサンを素材とした歯科型取材
はシリコーン印象材として広く使用されているが、分子
の両末端に水酸基を持つジハイドロキシポリオルガソシ
ロキサンをベースとし、架橋材としてアルキルシリケー
ト若しくはポリアルキルシリケート、縮合触媒として有
機錫化合物を用いており、之等を混合練和すれば縮合反
応によつて硬化してエラストマーとなる方式のものであ
つた。しかし、この方式は縮合反応によつて生成するア
ルコール、未反応アルキルシリケートなどの揮発成分の
逸散によつて硬化後の寸法変化が徐徐に大きく表われ且
つ液状触媒の臭気の残る欠点がある。近年、分子内にビ
ニル基を持つオルガノポリシロキサンと分子内のSiに
結合する水素を持つオルガノハイドロジエンポリシロキ
サンを触媒を用いて室温で付加反応によつて硬化させエ
ラストマーとする方式が開発され、従来のシリコーン印
象材に比し顕著な利点のあることが見出されている。
はシリコーン印象材として広く使用されているが、分子
の両末端に水酸基を持つジハイドロキシポリオルガソシ
ロキサンをベースとし、架橋材としてアルキルシリケー
ト若しくはポリアルキルシリケート、縮合触媒として有
機錫化合物を用いており、之等を混合練和すれば縮合反
応によつて硬化してエラストマーとなる方式のものであ
つた。しかし、この方式は縮合反応によつて生成するア
ルコール、未反応アルキルシリケートなどの揮発成分の
逸散によつて硬化後の寸法変化が徐徐に大きく表われ且
つ液状触媒の臭気の残る欠点がある。近年、分子内にビ
ニル基を持つオルガノポリシロキサンと分子内のSiに
結合する水素を持つオルガノハイドロジエンポリシロキ
サンを触媒を用いて室温で付加反応によつて硬化させエ
ラストマーとする方式が開発され、従来のシリコーン印
象材に比し顕著な利点のあることが見出されている。
すなわち、このシリコーン印象材は印象採取してから2
4時間後において僅かに0.1%程度の線収縮を示すに
過ぎず、従来のシリコーン印象材の数分の一ないし1/
10以下であり寸法精度の高い模型を製作することが可
能である。更に分子中にビニル基を有するオルガノポリ
シロキサンおよ二び分子中にSiに結合する水素を含む
オルガノハイドロジエンポリシロキサンは共に無味無臭
であり、且つ同じ粘度のシリコーンポリマーペーストと
して等量を混合練和することもできるから歯科臨床にお
いての性能および操作性が優れている。しかしながらビ
ニル基を有するオルガソポリシロキサンとオルガノハイ
ドロジエンポリシロキサンの水素が付加反応によつてエ
ラストマーになる反応過程において、一部水素ガスが発
生し、印象採取した後、直ちに石膏スラリーを注入する
と硬3化した石膏模型面に多数の水素ガスに基づく気孔
が生じて表面荒れとなつて実用上使用し難い模型となる
場合が多かつた。
4時間後において僅かに0.1%程度の線収縮を示すに
過ぎず、従来のシリコーン印象材の数分の一ないし1/
10以下であり寸法精度の高い模型を製作することが可
能である。更に分子中にビニル基を有するオルガノポリ
シロキサンおよ二び分子中にSiに結合する水素を含む
オルガノハイドロジエンポリシロキサンは共に無味無臭
であり、且つ同じ粘度のシリコーンポリマーペーストと
して等量を混合練和することもできるから歯科臨床にお
いての性能および操作性が優れている。しかしながらビ
ニル基を有するオルガソポリシロキサンとオルガノハイ
ドロジエンポリシロキサンの水素が付加反応によつてエ
ラストマーになる反応過程において、一部水素ガスが発
生し、印象採取した後、直ちに石膏スラリーを注入する
と硬3化した石膏模型面に多数の水素ガスに基づく気孔
が生じて表面荒れとなつて実用上使用し難い模型となる
場合が多かつた。
すなわち、この水素ガスによる石膏模型面の表面荒れを
防止するためには採取したシリコーン印象を室温ならば
2時間以上3放置するか、或いは加熱によつて脱ガスを
行なうか、或いは減圧下で5分間以上処理した後、石膏
スラリーを注入する必要があつた。この様な操作は模型
製作上極めて煩雑であり且つ時間的損失が大きく、更に
新規な装置を必要とするだけでなく模型の寸法精度を損
う恐れが大きかつた。本発明者等は之等の水素発生の除
去を目的とした研究を重ねた結果、主として金属パラジ
ウム系微粉末を組成物中に共存させると付加反応を全く
阻害すること無く、また貯蔵性を損うこと無く副生する
反応に与からない過剰水素を短時間内に完全に吸収せし
めて除去し得ることを見出した。
防止するためには採取したシリコーン印象を室温ならば
2時間以上3放置するか、或いは加熱によつて脱ガスを
行なうか、或いは減圧下で5分間以上処理した後、石膏
スラリーを注入する必要があつた。この様な操作は模型
製作上極めて煩雑であり且つ時間的損失が大きく、更に
新規な装置を必要とするだけでなく模型の寸法精度を損
う恐れが大きかつた。本発明者等は之等の水素発生の除
去を目的とした研究を重ねた結果、主として金属パラジ
ウム系微粉末を組成物中に共存させると付加反応を全く
阻害すること無く、また貯蔵性を損うこと無く副生する
反応に与からない過剰水素を短時間内に完全に吸収せし
めて除去し得ることを見出した。
本発明に係わる基礎組成物は、a) l分子中に少なく
共2個のビニル基を有するオルガノポリシクロキサン、
b) 1分子中に少なく共2個のSiに直接結合する水
素を持つオルガノハイドロジエンポリシロキサン、c)
Siと結合している水素をビニル基に付加することを
促進する触媒(例えば白金系触媒)、d)疎水系充填材
および必要に応じて常用の添加材、e)室温で発生器水
素を吸収する効果のある微粒子パラジウム系粉末、から
成るものであるが、成分A,b,c,d,eの各成分は
成分bと成分cだけを分離して2成分にしておきさえす
れば、成分A,d,eの各成分は成分B,cの両者か、
或いはその何れか一方の成分中へ配分しても差支えない
し、また成分A,d,e全部を第3成分として混合して
もよく、少なく共成分bと成分cの2成分の混合によつ
て硬化可能な型取性能を有する組成物であれば、それら
の混合方法は特に限定するものではない。
共2個のビニル基を有するオルガノポリシクロキサン、
b) 1分子中に少なく共2個のSiに直接結合する水
素を持つオルガノハイドロジエンポリシロキサン、c)
Siと結合している水素をビニル基に付加することを
促進する触媒(例えば白金系触媒)、d)疎水系充填材
および必要に応じて常用の添加材、e)室温で発生器水
素を吸収する効果のある微粒子パラジウム系粉末、から
成るものであるが、成分A,b,c,d,eの各成分は
成分bと成分cだけを分離して2成分にしておきさえす
れば、成分A,d,eの各成分は成分B,cの両者か、
或いはその何れか一方の成分中へ配分しても差支えない
し、また成分A,d,e全部を第3成分として混合して
もよく、少なく共成分bと成分cの2成分の混合によつ
て硬化可能な型取性能を有する組成物であれば、それら
の混合方法は特に限定するものではない。
成分eとして使用する金属粉末は粒子径が0.5朗以下
のパラジウムおよび/またはパラジウム合金に微粉末で
あるが、出来得る限り微細粉であることが望ましく、1
0μ以下の微粉末にすることが好ましい。従つて適当な
活性物質を担体として微粉化し金属の表面積を最大にす
れば、より有効な使用が可能である。本発明組成物の中
で、 成分aとしてのビニル基を有するオルガノポリシロキサ
ンは、例えば末端にビニル基を含むトリオルガノシロキ
シル基を持つ構造、或いは末端が水酸基で封鎖され骨格
が(CH,)(CH,=CH)SlO単位とR,SlO
単位(Rはメチル基、エチル基、ブチル基、フエニル基
などの一価飽和炭化水素基)から成る構造の如く、1分
子中に少なく共2個のビニル基を持つ公知のオルガノポ
リシロキサンであればよい。
のパラジウムおよび/またはパラジウム合金に微粉末で
あるが、出来得る限り微細粉であることが望ましく、1
0μ以下の微粉末にすることが好ましい。従つて適当な
活性物質を担体として微粉化し金属の表面積を最大にす
れば、より有効な使用が可能である。本発明組成物の中
で、 成分aとしてのビニル基を有するオルガノポリシロキサ
ンは、例えば末端にビニル基を含むトリオルガノシロキ
シル基を持つ構造、或いは末端が水酸基で封鎖され骨格
が(CH,)(CH,=CH)SlO単位とR,SlO
単位(Rはメチル基、エチル基、ブチル基、フエニル基
などの一価飽和炭化水素基)から成る構造の如く、1分
子中に少なく共2個のビニル基を持つ公知のオルガノポ
リシロキサンであればよい。
成分bとしてのオルガノハイドロジエンポリシロキサン
は1分子中に少なく共2個のSiに結合した水素を持つ
ものであればよく、分子鎖両末端がトリアルキルシリル
基或いはジアルキルハイドロジエンシリル基で封鎖され
ている種々の重合度のシロキサン共重合体が含まれてい
る公知の成分である。
は1分子中に少なく共2個のSiに結合した水素を持つ
ものであればよく、分子鎖両末端がトリアルキルシリル
基或いはジアルキルハイドロジエンシリル基で封鎖され
ている種々の重合度のシロキサン共重合体が含まれてい
る公知の成分である。
成分cとしては成分a1成分bの硬化反応触媒5として
公知の塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール化合物、ア
ルデヒド化合物、或いは谷種オレフイン類との錯体が挙
げられ、通常エラストマー組成物に対し、白金として計
算して0.5〜500ppmの範囲で添加される。
公知の塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール化合物、ア
ルデヒド化合物、或いは谷種オレフイン類との錯体が挙
げられ、通常エラストマー組成物に対し、白金として計
算して0.5〜500ppmの範囲で添加される。
その他ロジウム化合1物並びにコバルトカルボニルおよ
びマンガンカルボニルなども付加促進の触媒として使用
することができる。成分dとしては石英微粉末、珪藻土
、炭酸カルシウム、石膏、珪酸アルミニウム、酸化チタ
ン、酸化亜鉛、珪酸ジルコニウムなど通常の充填材が含
まれる。
びマンガンカルボニルなども付加促進の触媒として使用
することができる。成分dとしては石英微粉末、珪藻土
、炭酸カルシウム、石膏、珪酸アルミニウム、酸化チタ
ン、酸化亜鉛、珪酸ジルコニウムなど通常の充填材が含
まれる。
上記したa−dの4成分の組合わせは既に公知であるが
、本発明において特徴とする点は上記4成分の他に第5
成分としてパラジウム系微粉末をン共存せしめることに
よつて性能の優れた歯科用印象材を提供することにある
。
、本発明において特徴とする点は上記4成分の他に第5
成分としてパラジウム系微粉末をン共存せしめることに
よつて性能の優れた歯科用印象材を提供することにある
。
舷で使用されるパラジウムおよび/またはパラジウム合
金粉末の粒度は粒子径が0.5聴以下の微粉末であるこ
とが望ましく、更に可能ならば10μ以下の微粒子であ
れ二ば一層効力を発揮できる。パラジウム以男の水素吸
収能を持つ金属として、白金、ロジウム、ルビジウム、
イリジウム、モリブデン、アルミニウム、銅、銀、鉄、
ニツケル、コバルト、ジルコニウム、チタニウム、タン
タリウム、バナジウム、ニオビウム、および希土類金属
があり、之等の単独の粉末であつてもシリコーン印象材
の水素ガス発生に基づく石膏模型面の気孔を減少させる
ことができるが、相当量を使用しても短時間内に消失さ
せることは困難でパラジウムと比較すると効力は少ない
。
金粉末の粒度は粒子径が0.5聴以下の微粉末であるこ
とが望ましく、更に可能ならば10μ以下の微粒子であ
れ二ば一層効力を発揮できる。パラジウム以男の水素吸
収能を持つ金属として、白金、ロジウム、ルビジウム、
イリジウム、モリブデン、アルミニウム、銅、銀、鉄、
ニツケル、コバルト、ジルコニウム、チタニウム、タン
タリウム、バナジウム、ニオビウム、および希土類金属
があり、之等の単独の粉末であつてもシリコーン印象材
の水素ガス発生に基づく石膏模型面の気孔を減少させる
ことができるが、相当量を使用しても短時間内に消失さ
せることは困難でパラジウムと比較すると効力は少ない
。
しかも之等の水素吸収能を持つている金属粉にパラジウ
ム粉を共存させれば充分その効力を増加させることがで
きるからパラジウム量を削減させる目的で之等金属粉の
1種以上を共存させて使用しても差支えない。パラジウ
ム合金としてはパラジウムを少なく共10%含有する合
金を対象としているが、成分中に上記水素吸収能を持つ
金属の1種以上を含むパラジウム合金であることが望ま
しい。このうちパノラジウムと全率固溶体を作り得る銀
、銅、ニツケルおよびコバルトなどの1種以上を含む合
金は特に効果が優れている。
ム粉を共存させれば充分その効力を増加させることがで
きるからパラジウム量を削減させる目的で之等金属粉の
1種以上を共存させて使用しても差支えない。パラジウ
ム合金としてはパラジウムを少なく共10%含有する合
金を対象としているが、成分中に上記水素吸収能を持つ
金属の1種以上を含むパラジウム合金であることが望ま
しい。このうちパノラジウムと全率固溶体を作り得る銀
、銅、ニツケルおよびコバルトなどの1種以上を含む合
金は特に効果が優れている。
従つて本発明の骨子とする処は、1分子中にビニル基を
持つオルガノポリシロキサンと1分子中にSiに結合す
る水素を持つオルガノハイドロジエンポリシロキサンと
の2種類のシロキサン成分を触媒の存在下で主として室
温で反応、硬化せしめてエラストマーとするとき、予め
少なく共1種類の成分にパラジウム微粉末および/また
はパラジウム合金粉末を共存せしめて、反応中に副生す
る水素ガスを吸収せしめ型取性能の優れた歯科印象材を
提供することにある。
持つオルガノポリシロキサンと1分子中にSiに結合す
る水素を持つオルガノハイドロジエンポリシロキサンと
の2種類のシロキサン成分を触媒の存在下で主として室
温で反応、硬化せしめてエラストマーとするとき、予め
少なく共1種類の成分にパラジウム微粉末および/また
はパラジウム合金粉末を共存せしめて、反応中に副生す
る水素ガスを吸収せしめ型取性能の優れた歯科印象材を
提供することにある。
以下に実施例を挙げて更に詳細に説明する。
実施例 1
25℃において120ポイズの粘度を有し、末端にビニ
ルジメチルシロキシ基を有するジメチルポリシロキサン
500部(以下、部は総べて重量部を示す)と石英微粉
末150部、炭酸カルシウム50部、白金シロキサン錯
体0.1部、平均粒径0.17mのパラジウム粉末1部
を混合し(イ)成分とする。
ルジメチルシロキシ基を有するジメチルポリシロキサン
500部(以下、部は総べて重量部を示す)と石英微粉
末150部、炭酸カルシウム50部、白金シロキサン錯
体0.1部、平均粒径0.17mのパラジウム粉末1部
を混合し(イ)成分とする。
次に(ロ)成分として、粘度30ポイズのハイドロジエ
ンメチルポリシロキサンを用意する。
ンメチルポリシロキサンを用意する。
(イ)成分7部と(ロ)成分1部とを練板上で混合し、
口腔内に圧接したとき5分間で硬化しエラストマーとな
つた。この印象を水洗した後、直ちに歯科用硬石膏(商
品名プラストーン)100gを30m1の水で練和した
スラリーを注入し、30分後に模型を印象から離脱させ
た。実施例 2 25℃において250ポイズの粘度を持つ末端が水酸基
で封鎖されたビニルメチルポリシロキサン500部と石
英微粉末150部、珪酸ジルコニウム50部、塩化白金
酸0.05部、平均粒径7μのパラジウム粉末0.00
1部、平均粒径6μのニツケル粉末3部を二ーダ一を用
いて混合し(イ)成分とする。
口腔内に圧接したとき5分間で硬化しエラストマーとな
つた。この印象を水洗した後、直ちに歯科用硬石膏(商
品名プラストーン)100gを30m1の水で練和した
スラリーを注入し、30分後に模型を印象から離脱させ
た。実施例 2 25℃において250ポイズの粘度を持つ末端が水酸基
で封鎖されたビニルメチルポリシロキサン500部と石
英微粉末150部、珪酸ジルコニウム50部、塩化白金
酸0.05部、平均粒径7μのパラジウム粉末0.00
1部、平均粒径6μのニツケル粉末3部を二ーダ一を用
いて混合し(イ)成分とする。
次に250ポイズの粘度を持つ末端が水酸基で封鎖され
たビニルメチルポリシロキサン300部、粘度320ポ
イズのハイドロジエンメチルポリシロキサン200部、
石英微粉末150部を二ーダ一を用いて混合して(ロ)
成分とする。(イ)成分、(ロ)成分を等重量採り、練
板上で混合し口腔内に圧接したとき3分間で硬化して完
全な工ラストマ一となつた。この印象を水洗した後、直
ちに市販超硬石膏(商品名シユールストーン)100g
を24meの水で練和したスラリーを注入し、30分後
に模型を印象から離脱させた。実施例 3 25℃において350ポイズの粘度を持ち末端にビニル
ジメチルシロキシ基を有するビニルメチルポリシロキサ
ン300部と石英微粉末600部、炭酸カルシウム50
部、白金アルコール錯体0.07部、アルミナに対し7
重量%の金属パラジウムを・担持させた平均粒径2μの
アルミナ粉末0.1部をニーダ一を用いて混合して(イ
)成分とする。
たビニルメチルポリシロキサン300部、粘度320ポ
イズのハイドロジエンメチルポリシロキサン200部、
石英微粉末150部を二ーダ一を用いて混合して(ロ)
成分とする。(イ)成分、(ロ)成分を等重量採り、練
板上で混合し口腔内に圧接したとき3分間で硬化して完
全な工ラストマ一となつた。この印象を水洗した後、直
ちに市販超硬石膏(商品名シユールストーン)100g
を24meの水で練和したスラリーを注入し、30分後
に模型を印象から離脱させた。実施例 3 25℃において350ポイズの粘度を持ち末端にビニル
ジメチルシロキシ基を有するビニルメチルポリシロキサ
ン300部と石英微粉末600部、炭酸カルシウム50
部、白金アルコール錯体0.07部、アルミナに対し7
重量%の金属パラジウムを・担持させた平均粒径2μの
アルミナ粉末0.1部をニーダ一を用いて混合して(イ
)成分とする。
次に350ポイズの粘度を持ち末端にビニルジメチルシ
ロキシ基を有するビニルメチルポリシロキサン200部
と300ポイズのハイドロジエンメチル1ポリシロキサ
ン100部、石英微粉末600部、炭酸カルシウム70
部を二ーダ一で混合して(ロ)成分とする。(イ)成分
と(ロ)成分を等重量採り、掌上で捏和して混合し口腔
内に圧接したとき、3分間で硬化してシシヨア一硬度7
5の硬いエラストマーとなつた。
ロキシ基を有するビニルメチルポリシロキサン200部
と300ポイズのハイドロジエンメチル1ポリシロキサ
ン100部、石英微粉末600部、炭酸カルシウム70
部を二ーダ一で混合して(ロ)成分とする。(イ)成分
と(ロ)成分を等重量採り、掌上で捏和して混合し口腔
内に圧接したとき、3分間で硬化してシシヨア一硬度7
5の硬いエラストマーとなつた。
この印象を水洗した後、直ちに歯科用硬石膏(商品名二
ユープラストーン)100gを25d0)7.で練和し
たスラリーを注入し、30分後に模型を印象から離脱さ
せた。実施例 4 実施例2において(イ)成分中の平均粒径7μのパラジ
ウム粉末0.1部、平均粒径6μのニツケル粉末3部に
代えてパラジウム30%、銀60%、銅10%から成る
パラジウム合金を溶湯噴霧法によ5り窒素気流中で噴霧
させて作つた平均粒径10μの微粉末の0.02部を用
い、実施例2と同様に(ロ)成分と等重量を混合して印
象し、模型を作製した。
ユープラストーン)100gを25d0)7.で練和し
たスラリーを注入し、30分後に模型を印象から離脱さ
せた。実施例 4 実施例2において(イ)成分中の平均粒径7μのパラジ
ウム粉末0.1部、平均粒径6μのニツケル粉末3部に
代えてパラジウム30%、銀60%、銅10%から成る
パラジウム合金を溶湯噴霧法によ5り窒素気流中で噴霧
させて作つた平均粒径10μの微粉末の0.02部を用
い、実施例2と同様に(ロ)成分と等重量を混合して印
象し、模型を作製した。
実施例 5
実施例3において(イ)成分のアルミナに対し7重5量
%の金属パラジウムを担持させた平均粒径7μのアルミ
ナ粉末0.1部を0.01部に置き替えた組成によつて
模型を作製した。
%の金属パラジウムを担持させた平均粒径7μのアルミ
ナ粉末0.1部を0.01部に置き替えた組成によつて
模型を作製した。
比較例 1
実施例3において(イ)成分中からアルミナに対し47
重量%の金属パラジウムを担持させた平均粒径2μのア
ルミナ粉末のみを除去した組成によつて模型を作製した
。
重量%の金属パラジウムを担持させた平均粒径2μのア
ルミナ粉末のみを除去した組成によつて模型を作製した
。
以上の実施例1〜5、比較例1において採得した対象の
口腔は同一人を使用し、各例によつて得られた模型の面
は実体顕微鏡を用いて表面の気孔の数を数えたが、気孔
の大きさは直径0.2WI!n位のものが多かつた。
口腔は同一人を使用し、各例によつて得られた模型の面
は実体顕微鏡を用いて表面の気孔の数を数えたが、気孔
の大きさは直径0.2WI!n位のものが多かつた。
ただし、石膏模型面は限定した歯肉部、歯牙部、口蓋部
の3個所に分け、且つ各部はそれぞれ3点の観察を行な
い1平方m当りの気孔の数の平均値を採つて次の様に判
定した。気孔数 0〜2 効果顕著 気孔数 3〜20効果あり 気孔数 30以上 効果なし 気孔数0〜2を気孔殆んど無しとして良好にしてあるい
は、シリコーン印象材の表面の撥水性が強く、石膏スラ
リーの注入条件によつて表面の空気泡を皆無にできない
こともあるため、3個所の平均気孔数が2個以内の場合
は気孔は皆無とみて効果顕著とした。
の3個所に分け、且つ各部はそれぞれ3点の観察を行な
い1平方m当りの気孔の数の平均値を採つて次の様に判
定した。気孔数 0〜2 効果顕著 気孔数 3〜20効果あり 気孔数 30以上 効果なし 気孔数0〜2を気孔殆んど無しとして良好にしてあるい
は、シリコーン印象材の表面の撥水性が強く、石膏スラ
リーの注入条件によつて表面の空気泡を皆無にできない
こともあるため、3個所の平均気孔数が2個以内の場合
は気孔は皆無とみて効果顕著とした。
気孔数3〜20個の場合も実用的には使用可能であるた
め判定を効果ありとした。
め判定を効果ありとした。
之に対し、本発明対象欠の表面は通常単位表面積当り5
0〜150個の気孔を生じ模型面として使用不可能であ
るため、30個以上気孔の認められるものを効果無しと
した。実施例5は成分(a),(b),(c),(d)
の4成分の合計量に対しパラジウム0.4ppmを含む
組成であり、得られた石膏模型面の歯肉部、口蓋部に僅
かに気孔が観察された。
0〜150個の気孔を生じ模型面として使用不可能であ
るため、30個以上気孔の認められるものを効果無しと
した。実施例5は成分(a),(b),(c),(d)
の4成分の合計量に対しパラジウム0.4ppmを含む
組成であり、得られた石膏模型面の歯肉部、口蓋部に僅
かに気孔が観察された。
しかしながら実施例2に示す様にパラジウム0.7pp
mとニツケル粉末0.3%とを共存させれば気孔は完全
に消去し得た。このため本発明は成分(a),(b),
(c),(d)の4成分の合剖量に対しパラジウム系粉
末の含有量の下限を0.5ppmとした。パラジウム系
粉末は付加反応を阻害することなく、また貯蔵性を損う
ことはないが、含有量が5重量%を超えると硬化したエ
ラストマーの引張強度が低下し、歯間部やアンダーカツ
ト部の印象が破損し易くなり、型取り性能を低下させる
。
mとニツケル粉末0.3%とを共存させれば気孔は完全
に消去し得た。このため本発明は成分(a),(b),
(c),(d)の4成分の合剖量に対しパラジウム系粉
末の含有量の下限を0.5ppmとした。パラジウム系
粉末は付加反応を阻害することなく、また貯蔵性を損う
ことはないが、含有量が5重量%を超えると硬化したエ
ラストマーの引張強度が低下し、歯間部やアンダーカツ
ト部の印象が破損し易くなり、型取り性能を低下させる
。
更にパラジウム系粉末の含有量の増加に伴なつて、エラ
ストマーが黒灰色となる為、印象の診査、観察の際に術
者が見にくくなるばかりでなくパラジウムは高価である
為、印象採得の費用を高騰させる原因となる。この為、
パラジウム系粉末の上限を5重量%以下とした。実施例
4において、パラジウム30重量%を含有する合金の粉
末を用いて得られた石膏模型面の気孔は可成り有効に消
去されており、パラジウム含有量の低下と共に効果は急
速に低下するから、その最低含有量は10%に限定した
。
ストマーが黒灰色となる為、印象の診査、観察の際に術
者が見にくくなるばかりでなくパラジウムは高価である
為、印象採得の費用を高騰させる原因となる。この為、
パラジウム系粉末の上限を5重量%以下とした。実施例
4において、パラジウム30重量%を含有する合金の粉
末を用いて得られた石膏模型面の気孔は可成り有効に消
去されており、パラジウム含有量の低下と共に効果は急
速に低下するから、その最低含有量は10%に限定した
。
以上の結果から明らかな様に本発明によれぽ、従来歯科
における模型作製の通法により気孔の無い実用上優れた
均一で滑沢な石膏模型面を製作することができ、付加型
シリコーン印象材の欠点が完全に改良され、優れた寸法
安定性、操作性と相俟つて従来公知の歯科印象材に比べ
性能を一段と向上させた付加型シリコーン印象材を提供
することに成功したものである。
における模型作製の通法により気孔の無い実用上優れた
均一で滑沢な石膏模型面を製作することができ、付加型
シリコーン印象材の欠点が完全に改良され、優れた寸法
安定性、操作性と相俟つて従来公知の歯科印象材に比べ
性能を一段と向上させた付加型シリコーン印象材を提供
することに成功したものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (a)1分子中に少なく共2個のビニル基を有する
オルガノポリシロキサン(b)1分子中に少なく共2個
のSiと結合している水素を持つオルガノハイドロジエ
ンポリシロキサン(c)Siと結合している水素をビニ
ル基に付加するのを促進する触媒(d)疎水系充填材と
必要に応じ常用添加材を含む成分の4成分の合計量に対
し、パラジウム微粉末および/または10重量%以上の
パラジウムを含有するパラジウム合金粉末を0.5pp
m以上5重量%以下含むことを特徴とする室温硬化性歯
科用シリコーン組成物。 2 (a)1分子中に少なく共2個のビニル基を有する
オルガノポリシロキサン(b)1分子中に少なく共2個
のSiと結合している水素を持つオルガノハイドロジエ
ンポリシロキサン(c)Siと結合している水素をビニ
ル基に付加するのを促進する触媒(d)疎水系充填材と
必要に応じ常用添加材を含む成分(e)上記成分(a)
〜(d)の4成分の合計量に対し0.5ppm以上5重
量%以下のパラジウム微粉末および/または10重量%
以上のパラジウムを含有するパラジウム合金粉末上記5
成分中、成分(b)と成分(c)とを分離して貯蔵し、
更に成分(b)または成分(c)の何れか一方若しくは
両方に成分(a)、成分(d)、成分(e)、の1種以
上を任意の順序で混合し、使用時に全成分を混合使用す
る歯科用シリコーン組成物の使用法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53078745A JPS591241B2 (ja) | 1978-06-30 | 1978-06-30 | 歯科用シリコ−ン組成物およびその使用法 |
| GB7920042A GB2026000B (en) | 1978-06-30 | 1979-06-08 | Dental silicone compositions and the method of using the same |
| US06/048,979 US4273902A (en) | 1978-06-30 | 1979-06-15 | Dental silicone compositions and the method of using the same |
| DE2926405A DE2926405C2 (de) | 1978-06-30 | 1979-06-29 | Dental-Siliconmasse und Verwendung derselben |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53078745A JPS591241B2 (ja) | 1978-06-30 | 1978-06-30 | 歯科用シリコ−ン組成物およびその使用法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS557217A JPS557217A (en) | 1980-01-19 |
| JPS591241B2 true JPS591241B2 (ja) | 1984-01-11 |
Family
ID=13670414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53078745A Expired JPS591241B2 (ja) | 1978-06-30 | 1978-06-30 | 歯科用シリコ−ン組成物およびその使用法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4273902A (ja) |
| JP (1) | JPS591241B2 (ja) |
| DE (1) | DE2926405C2 (ja) |
| GB (1) | GB2026000B (ja) |
Families Citing this family (49)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3031894A1 (de) * | 1980-08-23 | 1982-09-16 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Vinylsilikon-pasten fuer die zahnabformung |
| CA1195034A (en) * | 1982-03-18 | 1985-10-08 | Richard P. Eckberg | Vinyl gum cure accelerators for condensation-cure silicone |
| US4451584A (en) * | 1982-05-21 | 1984-05-29 | Philipp Schaefer | Molding compound for molding body portions and process for producing this molding compound |
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| JPS59152955A (ja) * | 1983-02-21 | 1984-08-31 | Toshiba Silicone Co Ltd | 硬化性シリコーンゴム組成物 |
| JPS6055056A (ja) * | 1983-09-05 | 1985-03-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性組成物 |
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| DE3410646A1 (de) * | 1984-03-23 | 1985-10-03 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Dimensionsstabile abformmassen |
| JPS60252404A (ja) * | 1984-05-28 | 1985-12-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 室温硬化性印象材組成物 |
| JPS6114235A (ja) * | 1984-06-29 | 1986-01-22 | Toray Silicone Co Ltd | シリコ−ン硬化物から水素ガスの発生を抑制する方法 |
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| US4806575A (en) * | 1986-11-19 | 1989-02-21 | Kerr Manufacturing Company | Prevention of outgassing in polyvinylsiloxane elastomers by the use of finely divided platinum black |
| JPS63165302A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-08 | G C Dental Ind Corp | 根管検査用造影性印象材 |
| JPS63215770A (ja) * | 1987-03-04 | 1988-09-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
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| US4957667A (en) * | 1988-11-07 | 1990-09-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of reducing surface defects in a positive dental model |
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| EP1512724B1 (en) | 2003-09-04 | 2007-04-11 | 3M Espe AG | Allylsilane containing composition |
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| CA2610996A1 (en) | 2005-06-22 | 2007-01-04 | 3M Innovative Properties Company | Hydrophilized curable silicone impression materials with improved storage behavior |
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| EP2044923A1 (en) | 2007-10-04 | 2009-04-08 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition containing glass beads, process for production and use thereof |
| CN101938972B (zh) | 2007-12-18 | 2013-03-27 | 3M创新有限公司 | 含表面活性剂和含氟化合物的牙科用组合物及其制备和使用方法 |
| WO2012170413A1 (en) | 2011-06-08 | 2012-12-13 | 3M Innovative Properties Company | Siloxane compounds containing composition, method of production and use thereof |
| WO2013025494A1 (en) | 2011-08-12 | 2013-02-21 | 3M Innovative Properties Company | Curable composition with shortened setting time, process of production and use thereof |
| TW201414796A (zh) | 2012-07-27 | 2014-04-16 | Dow Corning | 自黏結可固化聚矽氧黏著劑之組成物及製造彼之方法 |
| JP6341938B2 (ja) | 2013-02-25 | 2018-06-13 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 安定化歯科用印象組成物、部品キット、及びそれらの使用 |
| EP3233017A1 (en) | 2014-12-16 | 2017-10-25 | 3M Innovative Properties Company | Hardenable dental impression composition comprising a polymeric filler particles and use thereof |
| WO2016196048A1 (en) | 2015-05-29 | 2016-12-08 | 3M Innovative Properties Company | Kit of parts for conducting a dental impression and retraction process |
| US20190211232A1 (en) * | 2016-08-26 | 2019-07-11 | Avery Dennison Corporation | Silicone based pressure sensitive adhesive tapes |
| WO2018136351A1 (en) | 2017-01-18 | 2018-07-26 | 3M Innovative Properties Company | Curable composition for dental retraction |
| JP2021017516A (ja) * | 2019-07-23 | 2021-02-15 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサン組成物 |
| JP7467017B2 (ja) * | 2021-05-25 | 2024-04-15 | 信越化学工業株式会社 | 熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物 |
| WO2024162703A1 (ko) * | 2023-02-01 | 2024-08-08 | 오스템임플란트 주식회사 | 기포 제어성이 우수한 치과용 인상재 조성물 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2632013A (en) * | 1946-10-09 | 1953-03-17 | Union Carbide & Carbon Corp | Process of producing organosilicon compounds |
| US4035453A (en) * | 1974-05-28 | 1977-07-12 | Wacker-Chemie Gmbh | Dental impression materials |
-
1978
- 1978-06-30 JP JP53078745A patent/JPS591241B2/ja not_active Expired
-
1979
- 1979-06-08 GB GB7920042A patent/GB2026000B/en not_active Expired
- 1979-06-15 US US06/048,979 patent/US4273902A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-06-29 DE DE2926405A patent/DE2926405C2/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2926405A1 (de) | 1980-01-17 |
| DE2926405C2 (de) | 1988-09-29 |
| GB2026000A (en) | 1980-01-30 |
| JPS557217A (en) | 1980-01-19 |
| US4273902A (en) | 1981-06-16 |
| GB2026000B (en) | 1983-06-15 |
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