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JPH1167965A - 半導体素子搭載用多層配線板の製造方法 - Google Patents

半導体素子搭載用多層配線板の製造方法

Info

Publication number
JPH1167965A
JPH1167965A JP9230074A JP23007497A JPH1167965A JP H1167965 A JPH1167965 A JP H1167965A JP 9230074 A JP9230074 A JP 9230074A JP 23007497 A JP23007497 A JP 23007497A JP H1167965 A JPH1167965 A JP H1167965A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
resin
semiconductor element
board
cavity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9230074A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiyuki Iijima
利行 飯島
Akira Murai
曜 村井
Kosuke Takada
孝輔 高田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP9230074A priority Critical patent/JPH1167965A/ja
Publication of JPH1167965A publication Critical patent/JPH1167965A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ベース配線板と穴あき配線板とを接着シート
を介して鏡板の間に挿んで加熱加圧する半導体素子搭載
用多層配線板の製造方法において、接着シートからの樹
脂流出を小さくする。 【解決手段】 ベース配線板11及び半導体素子搭載用
のキャビティー用穴12を設けた穴あき配線板13を、
キャビティー用穴14を設けた接着シート15を介して
重ね、加熱加圧して積層する半導体素子搭載用多層配線
板の製造方法において、加熱加圧して積層したときに樹
脂がキャビティー用穴内に流れ出ない量の無機フィラー
を樹脂に含有させた接着シート15を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子搭載用
多層配線板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、キャビティー仕様BGA又はキ
ャビティー仕様PGAといわれている半導体素子搭載用
パッケージは、半導体素子を搭載するためのキャビティ
ー22を有する多層配線板21である(図2参照)。こ
のようなキャビティー22を有する多層配線板21は、
ベース配線板11の上に、キャビティー用穴12を設け
た2枚の穴あき配線板13を、同じくキャビティー用穴
14を設けた接着シート15を介して重ね、2枚の鏡板
16の間に挿んで加熱加圧することにより積層成形して
製造されていた。(図1参照) なお、図1及び図2は、穴あき配線板13を2枚重ねと
して、ワイヤボンディング用の段部23を形成した例を
示す。キャビティー22内には、半導体素子と回路配線
とを接続するための端子となる回路が露出している。こ
のため、接着シート15としては、加熱加圧するとき、
樹脂がキャビティー22内に流出しないように、樹脂流
れが小さいローフロープリプレグが使用されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに樹脂流れの小さいローフロープリプレグを用いて
も、キャビティー22内への樹脂流出を皆無とすること
はできなかった。キャビティー22内に樹脂が流出する
と、キャビティー22内に露出している回路の一部を覆
ってしまい、その部分については、半導体素子との接続
に使用することができない。このため、従来は、樹脂流
出をある程度見込んでキャビティー22の寸法を半導体
素子の搭載に必要な大きさより大きめにする必要があ
り、小型化の障害となっていた。本発明は、ベース配線
板と穴あき配線板とを接着シートを介して鏡板の間に挿
んで加熱加圧する半導体素子搭載用多層配線板の製造方
法において、接着シートからの樹脂流出を極力小さくす
ることを課題とするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、ベース配線板
11及び半導体素子搭載用のキャビティー用穴12を設
けた穴あき配線板13を、キャビティー用穴14を設け
た接着シート15を介して重ね、加熱加圧して積層する
半導体素子搭載用多層配線板の製造方法において、加熱
加圧して積層したときに樹脂がキャビティー用穴内に流
れ出ない量の無機フィラーを樹脂に含有させた接着シー
トを用いることを特徴とする半導体素子搭載用多層配線
板の製造方法である。
【0005】
【発明の実施の形態】ベース配線板11、穴あき配線板
13としては、ガラス布を基材としこれに熱硬化性樹脂
ワニスを含浸乾燥して得られるプリプレグと、金属はく
例えば銅はくとを積層し、硬化させて金属張り積層板を
得、この金属張り積層板に回路加工や穴あけ加工したも
のが使用される。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂
が電気的特性や価格の面から好ましい。耐熱性など特に
必要があるときには、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド
−トリアジン樹脂などの熱硬化性樹脂も使用することが
できる。
【0006】接着シート15としては、前記ベース配線
板11又は穴あき配線板13の製造に用いたプリプレグ
又は、エポキシ樹脂にNBR等のゴム、アクリル樹脂、
ポリビニルブチラール、フェノール樹脂等を配合してフ
ィルム状に製膜して得られるフィルム状接着剤を使用す
ることができる。
【0007】接着シート15の樹脂に含有させる無機フ
ィラーとしては、チョップドストランド、シリカ粉、酸
化チタン粉、マイカ粉、水酸化アルミニウム粉など、電
気絶縁性の良好な粉末材料が挙げられる。加熱加圧して
積層したときに樹脂がキャビティー用穴内に流れ出ない
ようにするためには、樹脂と無機フィラーとの合計量に
対して、無機フィラーを75体積%以上含有させるのが
好ましい。無機フィラーの含有量が多くなると、接着シ
ート15を加熱加圧たときの樹脂流れが小さくなるから
である。無機フィラーの含有量の上限はシート形成の観
点から制限されるがおよそ95体積%である。無機フィ
ラーの含有量の最適値は、樹脂の組成、成形条件等によ
っても異なり、最適な条件は実験等によって定められ
る。このように多量の無機フィラーを含有させることか
ら、無機フィラーとしては粒径が1〜50μmで長径/
短径の比が5以下であるのが好ましい。粒径が1μm未
満であると混合が困難となり、50μmを超えると均一
に分散させることが困難となる傾向にある。また、長径
/短径の比が5を超えると、多量に含有させることが困
難となる傾向にある。
【0008】ベース配線板11及び半導体素子搭載用の
キャビティー用穴12を設けた穴あき配線板13を、キ
ャビティー用穴14を設けた接着シート15を介して重
ね、加熱加圧するときの条件は、温度150〜180
℃、圧力3〜20MPaの範囲とされるのが好ましい。
温度が150℃未満であると、接着強度が不足し、18
0℃を超えると樹脂がキャビティー用穴内に流れ出す傾
向が大となる傾向にある。また、圧力が3MPa未満で
あると接着強度が不足し、20MPaを超えると接着シ
ートが破断する傾向にある。このことから、温度160
〜1750℃、圧力10〜18MPaの範囲とされるの
がより好ましい。
【0009】ベース配線板11及び半導体素子搭載用の
キャビティー用穴12を設けた穴あき配線板13を、キ
ャビティー用穴14を設けた接着シート15を介して重
ね、加熱加圧するとき、これらの構成材料を2枚の鏡板
の間に挿むが、この鏡板としては、配線板分野の積層成
形で使用されているものがそのまま用いられ、例えば、
厚さ0.5〜5mmの金属板が使用される。金属板とし
ては、耐食性の観点から、ステンレス板が好適に用いら
れる。
【0010】さらに、鏡板と穴あき配線板13との間に
は、クッション材19としてポリエチレンシートのよう
な熱可塑性シート17を、三フッ化ポリエチレンフィル
ム18で包んで配置するのが好ましい。成形時に熱可塑
性シート17が溶融流動してキャビティー22の内部を
埋めてキャビティー22内への圧力伝達を良好にするか
らである。
【0011】
【実施例】
実施例1 接着シートの作製 ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂(大日本イ
ンキ化学工業株式会社製、エピクロンN−868(商品
名)を使用した)50部(重量部、以下同じ)ビスフェ
ノールAノボラック樹脂(油化シェルエポキシ株式会
社、YLH−129(商品名)を使用した)40部、ブ
ロム化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(住友化学工業
株式会社、ESB−400(商品名)を使用した)50
部及び1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール1
部をメチルエチルケトン90部に溶解してワニスを調製
した。このワニスに、フィラメント径5μmのガラス繊
維を平均粒径10μmになるように粉砕して得られたガ
ラスパウダーを、樹脂固形分とガラスパウダーとの合計
量に対して85体積%混合し分散させた。これをMIL
#1080のガラスクロスに固形付着分が60重量%と
なるように含浸乾燥させ、接着シート材料を作製した。
この接着シート材料を100mm×100mmにカット
し、中央に10mm×10mmのキャビティー用穴を打
ち抜き加工により形成して接着シートAを作製した。同
様にして中央に15mm×15mmのキャビティー用穴
を打ち抜き加工により形成して接着シートBを作製し
た。
【0012】ベース配線板及び穴あき配線板の作製 銅はく厚さが18μmのガラス繊維布基材エポキシ樹脂
両面銅張積層板(日立化成工業株式会社製のMCL E
−67(商品名)を使用した)に回路加工を行い、10
0mm×100mmにカットしてベース配線板を作製し
た。ベース配線板と同じ両面銅張積層板に回路加工を行
い、100mm×100mmにカットし、中央に10m
mに×10mmのキャビティー用穴を打ち抜き加工によ
り形成して、穴あき配線板Aを作製した。同様にしてキ
ャビティー用穴の寸法が、15mm×15mmの穴あき
配線板Bを作製した。
【0013】半導体素子搭載用多層配線板の作製 厚さ2mmのステンレス鏡板の上に、ベース配線板、接
着シートA、穴あき配線板A、接着シートB、穴あき配
線板B、の順に重ね、その上にクッション材を介して厚
さ2mmのステンレス鏡板を重ね、温度170℃、圧力
17MPaで、90分間加熱加圧して半導体素子搭載用
多層配線板を作製した。なお、クッション材は、厚さ1
00μmの三フッ化ポリエチレンフィルム2枚の間に、
厚さ1.0mmのポリエチレンシートを挿んで用いた。
【0014】得られた半導体素子搭載用多層配線板につ
いて、キャビティー内への樹脂流出を測定したところは
150μmであり、半導体素子の搭載及びワイヤボンデ
イングによる半導体素子と回路配線との接続を支障なく
行うことができた。
【0015】比較例 接着シート材料として、基材厚さが0.05mm、付着
樹脂量65重量%、樹脂流れ(JIS C 6521に
規定される)が10%のローフロープリプレグ(日立化
成工業株式会社製、GEA−67N(商品名)を使用し
た)を用いたほかは、実施例1と同様にして半導体素子
搭載用多層配線板を作製した。
【0016】得られた半導体素子搭載用多層配線板につ
いて、キャビティー内への樹脂流出を測定したところは
300μmであり、半導体素子の搭載及びワイヤボンデ
イングによる半導体素子と回路配線との接続が不可能で
あった。
【0017】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、接着シート
からキャビティー内への樹脂流出が小さい半導体素子搭
載用多層配線板を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に関する断面図である。
【図2】半導体素子搭載用多層配線板の一例を示す断面
図である。
【符号の説明】
11 ベース配線板 12 キャビティー用穴 13 穴あき配線板 14 キャビティー用穴 15 接着シート 16 鏡板 17 熱可塑性シート 18 三フッ化ポリエチレンフィルム 19 クッション材 21 多層配線板 22 キャビティー 23 ワイヤボンディング用の段部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ベース配線板及び半導体素子搭載用のキ
    ャビティー用穴を設けた穴あき配線板を、キャビティー
    用穴を設けた接着シートを介して重ね、加熱加圧して積
    層する半導体素子搭載用多層配線板の製造方法におい
    て、加熱加圧して積層したときに樹脂がキャビティー用
    穴内に流れ出ない量の無機フィラーを樹脂に含有させた
    接着シートを用いることを特徴とする半導体素子搭載用
    多層配線板の製造方法。
JP9230074A 1997-08-26 1997-08-26 半導体素子搭載用多層配線板の製造方法 Pending JPH1167965A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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