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JPH1143522A - 蛍光体分散感放射線性組成物 - Google Patents

蛍光体分散感放射線性組成物

Info

Publication number
JPH1143522A
JPH1143522A JP21385297A JP21385297A JPH1143522A JP H1143522 A JPH1143522 A JP H1143522A JP 21385297 A JP21385297 A JP 21385297A JP 21385297 A JP21385297 A JP 21385297A JP H1143522 A JPH1143522 A JP H1143522A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phosphor
sensitive composition
meth
acrylate
dispersed radiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP21385297A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideaki Masuko
英明 増子
Yasunori Negoro
靖典 根来
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Priority to JP21385297A priority Critical patent/JPH1143522A/ja
Publication of JPH1143522A publication Critical patent/JPH1143522A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 蛍光面形成時の現像マージンが広く、かつ焼
成工程で蛍光体分散感放射線性組成物中の有機物成分を
容易に除去でき、表示輝度の高い蛍光面を形成しうる蛍
光体分散感放射線性組成物を提供する。 【解決手段】 (イ)蛍光体、(ロ)カルボキシル基と
ラジカル重合性不飽和基を有する重合体、並びに(ハ)
光ラジカル発生剤を含有することを特徴とする蛍光体分
散感放射線性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光体分散感放射
線性組成物に関わり、さらに詳しくは、プラズマディス
プレイパネル等の蛍光体表示デバイスにおける蛍光面形
成用材料として好適な蛍光体分散感放射線性組成物に関
する。
【0002】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル(PDP)
は、大型パネルでありながら製造プロセスが容易であ
り、視野角が広く、自発光タイプであり表示品位が高い
等の特性を有し、フラットパネル表示デバイスの中で注
目されており、特にカラーPDPは、20インチ以上の
大型壁掛けTV用の表示デバイスとして、近い将来主流
になるものと期待されている。カラーPDPは、ガス放
電により紫外線を発生させ、その紫外線により蛍光体を
発光させることにより、カラー表示を可能にするもので
あり、一般に、基板上に赤色発光用、緑色発光用および
青色発光用の3色の蛍光面を設けて、各色の画素単位が
全体的に均一に混在した状態に構成されている。カラー
PDPをさらに具体的に説明すると、ガラス等からなる
基板の表面に、バリヤーリブと称される絶縁材からなる
複数の隔壁が設けられており、該隔壁によって多数の凹
所が区画され、該凹所内に蛍光面が設けられるととも
に、該蛍光面にプラズマを作用させる電極を配置するこ
とにより、それぞれの蛍光面を画素単位とするものであ
る。このようなカラーPDPの製造方法としては、従
来、ペースト状の蛍光体組成物を例えばスクリーン印刷
により、基板表面の画素単位領域毎に配置して蛍光面を
形成するスクリーン印刷法と、感放射線性の蛍光体組成
物層を形成し、マスクを介して例えば紫外線を露光した
のち、現像することにより、基板表面の画素単位領域毎
に蛍光面を設けるフォトリソグラフィー法とが知られて
いる。とりわけフォトリソグラフィー法は、微細パター
ンの形成が容易であり、高性能カラーPDPの分野での
利用が期待されており、そのための蛍光体分散感放射線
性組成物の開発が鋭意進められている。このような蛍光
体分散感放射線性組成物は、蛍光体を分散させたペース
ト状組成物であり、その例としては、ポリビニルアルコ
ールとジアゾニウム化合物や重クロム酸化合物との混合
物、ゼラチンと有機系硬化剤との混合物等のビヒクル中
に蛍光体を分散させた組成物(特開平5−205632
号公報参照)が知られている。しかしながら、この蛍光
体分散感放射線性組成物を用いてPDP用蛍光面を形成
する場合、組成物中に分散された蛍光体が紫外線の透過
を阻害し、感放射線性樹脂成分の感度を著しく低下させ
るため、基板表面の凹所の底部にまで紫外線を有効に到
達させ、該樹脂成分を十分硬化させることが困難であ
り、その結果、引き続く現像および焼成工程を経たのち
に凹所内に残存する蛍光体層の膜厚が薄くなり、十分な
表示輝度が得られないという問題があった。また、画素
パターン形成時の最適現像時間の幅(現像マージン)が
狭く、実用的にPDP製造プロセスに乗せるのが困難で
あった。また、別の蛍光体分散感放射線性組成物の例と
して、有機高分子結合体、光重合性単量体、光重合開始
剤、有機溶剤からなるビヒクル中に蛍光体を分散させた
組成物(特公平8−27540号公報参照)が知られて
いる。しかしながら、この蛍光体分散感放射線性組成物
を用いてPDP用蛍光面を形成する場合、露光・現像し
て画素パターンを形成したのち、有機物成分を除去する
ために約400〜600℃の温度で焼成するが、組成物
中に光重合性単量体を含んでいると、蛍光体層中に残存
する未反応の光重合性単量体が焼成工程において熱硬化
反応を起こし、所定温度で有機物成分を完全に除去する
ことが困難となり、最終的にPDPを発光させる際の表
示輝度を下げる原因となっていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術に
おける前記問題点に鑑みてなされるものであり、その課
題は、蛍光面形成時の現像マージンが広く、かつ焼成工
程において有機物成分を容易に除去でき、表示輝度の高
い蛍光面を形成しうる蛍光体分散感放射線性組成物を提
供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明によると、前記課
題は、(イ)蛍光体、(ロ)カルボキシル基とラジカル
重合性不飽和基を含有する重合体、並びに(ハ)光ラジ
カル発生剤を含有することを特徴とする蛍光体分散感放
射線性組成物、によって達成される。
【0005】以下、本発明を詳細に説明する。(イ)蛍光体 本発明における蛍光体としては、特に限定されるもので
はなく、適宜のものを選定して使用することができる。
このような蛍光体のうち、赤色発光用蛍光体の代表例と
しては、Y2O3:Eu3+ 、Y2SiO5:Eu3+ 、Y3Al5O12:Eu3+
YVO4:Eu3+ 、(Y,Gd)BO3:Eu3+、Zn3(PO4)2:Mn等を挙げる
ことができる。これらの蛍光体は、単独でまたは2種以
上を混合して使用することができる。また、緑色発光用
蛍光体の代表例としては、Zn2SiO4:Mn、BaAl12O19:Mn、
BaMgAl14O23:Mn、LaPO4:(Ce,Tb) 、Y3(Al,Ga)5O12:Tb等
を挙げることができる。これらの蛍光体は、単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。また、青
色発光用蛍光体の代表例としては、Y2SiO5:Ce、BaMgAl
10O17:Eu2+、BaMgAl14O23:Eu2+ 、(Ca,Sr,Ba)10(PO4)6
Cl2:Eu2+、(Zn,Cd)S:Ag等を挙げることができる。これ
らの蛍光体は、単独でまたは2種以上を混合して使用す
ることができる。蛍光体の使用量は、(ロ)カルボキシ
ル基とラジカル重合性不飽和基を有する重合体100重
量部に対して、通常、10〜2000重量部、好ましく
は、20〜1500重量部である。この場合、蛍光体の
使用量が10重量部未満では、蛍光面における蛍光体密
度が低くなり、十分な表示輝度が得られ難くなる傾向が
あり、一方2000重量部を越えると、基板上の非露光
部に地汚れや膜残りを生じやすくなる。
【0006】(ロ)重合体 本発明における(ロ)カルボキシル基とラジカル重合性
不飽和基を有する重合体(以下、「(ロ)重合体」とい
う。)は、分子鎖の末端および/または側鎖に、1個以
上のカルボキシル基と1個以上のラジカル重合性不飽和
基を有し、本発明の蛍光体分散感放射線性組成物におい
てバインダーとして作用する成分である。このような
(ロ)重合体としては、種々のものを用いることができ
るが、特にアルカリ可溶性樹脂が好ましい。ここでいう
「アルカリ可溶性」とは、後述するアルカリ現像液によ
って溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶
解性を有する性質を意味する。アルカリ可溶性樹脂の好
ましい例としては、(メタ)アクリル系樹脂、ヒドロキ
シスチレン系樹脂、ノボラック系樹脂等を挙げることが
できる。このようなアルカリ可溶性樹脂のうち、特に好
ましく用いられる樹脂の具体例としては、カルボキシル
基を有する繰返し単位(A)とラジカル重合性不飽和基
を有する繰返し単位(B)とからなる共重合体(以下、
「共重合体(ロ−1)」という。)、または前記繰返し
単位(A)、前記繰返し単位(B)および下記する繰返
し単位(C)からなる共重合体(以下、「共重合体(ロ
−2)」という。)を挙げることができる。これらの共
重合体はともに、分子鎖の側鎖にカルボキシル基とラジ
カル重合性不飽和基を有するものである。また、これら
の共重合体は、ランダム共重合体であってもブロック共
重合体であってもよい。共重合体(ロ−1)および共重
合体(ロ−2)において、繰返し単位(A)は、各共重
合体にアルカリ可溶性を付与するための単位である。繰
返し単位(A)としては、例えば、(メタ)アクリル
酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、
シトラコン酸、メサコン酸、けい皮酸等の不飽和カルボ
ン酸類に由来する単位を挙げることができる。繰返し単
位(A)は、共重合体(ロ−1)および共重合体(ロ−
2)中に1種以上が存在することができる。
【0007】また、繰返し単位(B)としては、例え
ば、(B−1)アリル(メタ)アクリレート等のアリル
基と他のラジカル重合性不飽和基を有する単量体類や、
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メ
タ)アクリレート等の2個以上の(メタ)アクリロイル
オキシ基を有する単量体類の重合により形成される繰返
し単位、(B−2)カルボキシル基を有する繰返し単位
を、カルボキシル基との反応性を有する官能基とラジカ
ル重合性不飽和基を有する化合物(以下、「官能性不飽
和化合物」という。)と反応させて形成される繰返し単
位等を挙げることができる。前記(B−2)の繰返し単
位を形成させるためのカルボキシル基を有する繰返し単
位としては、例えば、前記繰返し単位(A)と同様のも
のを挙げることができる。
【0008】また、官能性不飽和化合物において、カル
ボキシル基との反応性を有する官能基としては、例え
ば、エポキシ基、カルボン酸クロライド基、水酸基、ア
ミノ基等を挙げることができる。このような官能性不飽
和化合物のうち、エポキシ基とラジカル重合性不飽和基
を有する化合物としては、例えば、1,2−エポキシシ
クロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、1,2−エ
ポキシシクロペンチルメチル(メタ)アクリレート、
(メタ)アクリル酸グリシジル、エチルアクリル酸グリ
シジル、アリルグリシジルエーテル等を挙げることがで
きる。また、カルボン酸クロライド基とラジカル重合性
不飽和基を有する化合物としては、例えば、(メタ)ア
クリル酸クロライド、クロトン酸クロライド、けい皮酸
クロライド等を挙げることができる。また、水酸基とラ
ジカル重合性不飽和基を有する化合物としては、例え
ば、アリルアルコール、(メタ)アクリル酸2−ヒドロ
キシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピ
ル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、N−
メチロール(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシエ
チルビニルエーテル等を挙げることができる。また、ア
ミノ基とラジカル重合性不飽和基を有する化合物として
は、例えば、(メタ)アクリル酸2−アミノエチル、
(メタ)アクリル酸2−アミノプロピル、(メタ)アク
リル酸3−アミノプロピル、2−アミノエチルビニルエ
ーテル等を挙げることができる。繰返し単位(B)は、
共重合体(ロ−1)および共重合体(ロ−2)中に1種
以上が存在することができる。
【0009】さらに、繰返し単位(C)は、(ロ)重合
体のアルカリ可溶性を適宜調整するための単位である。
このような繰返し単位(C)としては、例えば、(メ
タ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、
(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸
i−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メ
タ)アクリル酸i−ブチル、(メタ)アクリル酸sec
−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)ア
クリル酸n−ペンチル、(メタ)アクリル酸2−エチル
ヘキシル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アク
リル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタ
ニル等の(メタ)アクリル酸エステル類;(メタ)アク
リル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−
ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキ
シプロピル等の水酸基を有する不飽和モノマー類;o−
ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒ
ドロキシスチレン等のフェノール性水酸基を有する不飽
和モノマー類;スチレン、α−メチルスチレン等の芳香
族ビニル系モノマー類;1,3−ブタジエン、イソプレ
ン等の共役ジエン類等に由来する単位を挙げることがで
きる。繰返し単位(C)は、共重合体(ロ−2)中に1
種以上が存在することができる。
【0010】共重合体(ロ−1)および共重合体(ロ−
2)において、繰返し単位(A)の含有率は、全繰返し
単位に対して、通常、1〜40重量%、好ましくは2〜
30重量%である。この場合は、繰返し単位(A)の含
有率が1重量%未満では、各共重合体のアルカリ現像液
への溶解性が低下し、非露光部に地汚れが膜残りが生じ
やすくなる傾向があり、一方40重量%を越えると、各
共重合体のアルカリ現像液への溶解性が過大となり、蛍
光面が基板から脱落しやすくなる傾向がある。また、共
重合体(ロ−2)において、繰返し単位(B)の含有率
は、全繰返し単位に対して、通常、1〜50重量%、好
ましくは2〜40重量%であり、繰返し単位(C)の含
有率は、全繰返し単位に対して、通常、10〜80重量
%、好ましくは20〜70重量%である。本発明におけ
る(ロ)重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー(GPC、キャリアー:テトラヒドロフラン)によ
るポリスチレン換算重量平均分子量(以下、「Mw」と
いう。)は、通常、1,000〜200,000、好ま
しくは2,000〜100,000である。この場合、
(ロ)重合体のMwが1,000未満では、最適現像を
もたらす現像時間の幅が狭くなって、現像マージンが小
さくなる傾向があり、一方200,000を越えると、
現像後の露光部周辺にスカムが発生しやすく、パターン
エッジのシャープさが不足しがちとなり、また非露光部
に地汚れや膜残りが生じやすくなる傾向がある。
【0011】(ハ)光ラジカル発生剤 本発明における光ラジカル発生剤としては、例えば、ベ
ンジル、ベンゾイン、2−ベンジル−2−ジメチルアミ
ノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1、
2−ヒドロキシ−1−メチル−1−フェニルプロパノン
−1、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロ
キシ−2−メチルプロパノン−1、4−(2−ヒドロキ
シエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ン、2−メチルー(4−メチルチオフェニル)−2−モ
ルフォリノ−1−プロパノン−1、ベンゾフェノン、
4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、
4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、
3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、9−
フェニルアクリジン、1,7−ビス(9−アクリジニ
ル)ヘプタン、4−アジドベンズアルデヒド、4−アジ
ドアセトフェノン、4−アジドベンザルアセトフェノ
ン、アジドピレン、4−ジアドジフェニルアミン、4−
ジアゾ−4’−メトキシジフェニルアミン、4−ジアド
−3−メトキシジフェニルアミン、4−アジドベンザル
アセトン、4−ジアド−3’−メトキシジフェニルアミ
ン、ジアジドカルコン、2,6−ビス(4’−アジドベ
ンザル)シクロヘキサノン、2,6−ビス(4’−アジ
ドベンザル)−4−メチルシクロヘキサノン、1,3−
ビス(4’−アジドベンザル)−2−プロパノン、1,
3−ビス(4’−アジドシンナミリデン)プロパノン−
2、4,4’−ジアジドスチルベン、2,4−ジエチル
チオキサントン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイ
ル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオ
キサイド、ベンゾインチオ−i−ブチルエーテル、N−
フェニルチオアクリジン、トリフェニルピリリウムパー
クロレート、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−
(2’−クロロフェニル)−s−トリアジン、1,3−
ビス(トリクロロメチル)−5−(4’−メトキシフェ
ニル)−s−トリアジン、2−〔(2’−フリル)ビニ
レン〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリ
アジン、2−〔(5’−メチル−2’−フリル)ビニレ
ン〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−(4’
−クロロフェニル)−s−トリアジン、1,3−ビス
(トリクロロメチル)−5−(2’−メトキシフェニ
ル)−s−トリアジン、2,2’−ビス(2−クロロフ
ェニル)−4,4’5,5’−テトラフェニル−1,
2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジク
ロロフェニル)−4,4’5,5’−テトラフェニル−
1,2’−ビイミダゾール、2−メルカプトベンゾチア
ゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メル
カプトベンゾイミダゾール、2−メルカプト−4(3
H)−キナゾリン等を挙げることができる。これらの光
ラジカル発生剤は、単独でまたは2種以上を混合して使
用することができる。光ラジカル発生剤の使用量は、
(ロ)重合体100重量部に対して、通常、5〜500
重量部、好ましくは10〜400重量部である。この場
合、光ラジカル発生剤の使用量が5重量部未満では、露
光により十分架橋反応を進行させることができず、画素
パターンにアンダーカットを生じるおそれがあり、一方
500重量部を越えると、現像時に画素が基板から脱落
するおそれがあり、また非露光部に地汚れや膜残りが生
じやすくなる傾向がある。
【0012】添加剤 本発明の蛍光体分散感放射線性組成物は、前記(イ)〜
(ハ)成分以外に、必要に応じて、熱硬化性樹脂、熱硬
化性樹脂用硬化触媒、密着性促進剤、界面活性剤、酸化
防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等の各種添加剤を含
有することができる。前記熱硬化性樹脂としては、例え
ば、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アニリン
樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アク
リレート樹脂等を挙げることができる。また、熱硬化性
樹脂用硬化触媒としては、例えば、エポキシ樹脂に対し
ては、多価アミン類、酸無水物類、フッ化アンチモン化
合物等を挙げることができ、メラミン樹脂、尿素樹脂あ
るいはアニリン樹脂に対しては、アンモニウム塩類、ア
ルコールアミン類、金属塩類、有機酸塩類等を挙げるこ
とができ、不飽和ポリエステル樹脂に対しては、ベンゾ
イルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキシド
等の過酸化物類を挙げることができ、さらにアクリレー
ト樹脂に対しては、アゾイソブチロニトリル、アゾイソ
バレロニトリル等のアゾ化合物;p,p’−ジメトキシ
ベンジル、p,p’−ジクロロベンジル等のベンジル
類;2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメ
チル−2−ヒドロキシアセトフェノン等のアセトフェノ
ン類等を挙げることができる。前記密着促進剤として
は、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)
シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)
−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチ
ルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピ
ルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメ
トキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
等を挙げることができる。前記界面活性剤としては、例
えば、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、
アニオン系界面活性剤等を挙げることができる。前記酸
化防止剤としては、例えば、2,2−チオビス(4−メ
チル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−
ブチルフェノール等を挙げることができる。前記紫外線
吸収剤としては、例えば、2−(3−t−ブチル−5−
メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾ
トリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等を挙げるこ
とができる。前記凝集防止剤としては、例えば、ポリア
クリル酸ナトリウム、ポリエチレングリコール等を挙げ
ることができる。その他、充填剤、増粘剤、硬化促進
剤、無機顔料、有機顔料、染料等を配合することもでき
る。前記各添加剤は、単独でまたは2種以上を混合して
使用することができる。
【0013】溶媒 本発明の蛍光体分散感放射線性組成物は、そのままで、
あるいは(イ)蛍光体以外の成分を適当な溶媒に溶解し
た液状組成物として使用される。前記溶媒としては、例
えば、エーテル類、エステル類、エーテルエステル類、
ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミドエステ
ル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド類、スル
ホン類、(ハロゲン化)炭化水素類等を挙げることがで
き、より具体的には、テトラヒドロフラン、アニソー
ル、ジオキサン、エチレングリコールモノアルキルエー
テル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル
類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロ
ピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレン
グリコールジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒ
ドロキシ酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、
プロピオン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エス
テル類、アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エス
テル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセ
テート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル
アセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエー
テルアセテート類、環式または非環式ケトン類、アセト
酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、N,N−ジア
ルキルホルムアミド類、N,N−ジアルキルアセトアミ
ド類、N−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジ
アルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ター
ピネオール類等や、エタノールと水の混合物等を挙げる
ことができる。これらの溶媒は、単独でまたは2種以上
を混合して使用することができる。溶媒の使用量は、本
発明の蛍光体分散感放射線性組成物の全固形分100重
量部に対して、通常、5〜1000重量部、好ましくは
10〜500重量部である。
【0014】本発明の蛍光体分散感放射線性組成物は、
前記(イ)〜(ハ)成分を、必要に応じて使用される前
記添加剤や溶媒と共に、例えば、ボールミル、ペブルミ
ル、シェーカー、ホモジナイザー、三本ロール、サンド
ミル等の混合機を用いて混合することにより調製するこ
とができる。本発明の蛍光体分散感放射線性組成物は、
プラズマディスプレイパネル等の蛍光体表示デバイスに
おける蛍光面の形成に極めて好適に使用することができ
る。蛍光体表示デバイスは、例えば、ガラス基板等の基
板上に放電空間を区画する隔壁と表示用電極を設け、隣
接する隔壁間の凹所内に、本発明の蛍光体分散感放射線
性樹脂組成物からなる蛍光体層を、例えばスクリーン印
刷等により充填したのち、該蛍光体層にマスクを介して
露光し、現像し、次いで焼成処理を行って、蛍光面を形
成することにより作製される。蛍光面を形成する際に使
用される放射線としては、例えば、可視光、紫外線、遠
紫外線等が好ましい。露光量等の照射条件は、組成物の
配合組成に応じて適宜選定される。また、焼成処理の条
件は、加熱温度が、通常、300〜800℃、好ましく
は400〜600℃であり、また加熱時間は、通常、1
〜360分、好ましくは10〜240分である。蛍光面
を形成する際に使用される現像液としては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、テ
トラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等のアルカ
リ性化合物の水溶液や、水等を挙げることができるが、
アルカリ性化合物の水溶液が好ましい。前記アルカリ性
化合物の水溶液の濃度は、通常、0.005〜5重量
%、好ましくは0.01〜3重量%である。また、アル
カリ性化合物の水溶液からなる現像液には、例えばメタ
ノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等
を適量添加することもできる。なお、アルカリ性水溶液
からなる現像液を使用する場合には、一般に、現像後水
洗する。本発明の蛍光体分散感放射線性組成物は、蛍光
体表示デバイスの蛍光面を形成する際の現像マージンが
広く、工業的に有利である。しかも、本発明の蛍光体分
散感放射線性組成物から形成される蛍光体層は膜厚が3
0μm程度であっても、露光により膜深部に至るまで全
体を均質に硬化させることができ、膜厚が厚く、表示輝
度の高い蛍光面を形成することができる。さらに、本発
明の蛍光体分散感放射線性組成物は、焼成工程で蛍光体
分散感放射線性組成物中の有機物成分をほぼ完全に除去
でき、この点でも表示輝度の高い蛍光面を形成すること
ができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、実施例を挙げて、本発明の
実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明
は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。以
下の「%」および「部」は、重量に基づく。 合成例1 N−メチル−2−ピロリドン 200部 メタクリル酸 20部 メタクリル酸n−ブチル 70部 アゾイソブチロニトリル 1部 の混合物を、撹拌機付オートクレーブに仕込み、室温で
均一になるまで撹拌したのち、80℃に昇温し、同温度
で3時間重合した。次いで、 テトラエチレングリコールジアクリレート 10部 を添加して、80℃でさらに2時間重合した。その後室
温まで冷却して、ポリマー溶液(重合収率98%)を得
た。この重合中は、窒素による空気遮断と撹拌を継続し
た。得られたポリマーは、酸価が76KOHmg/g、
ポリマーのMwをポリマー1モル中のラジカル重合性不
飽和基の数で除した値(以下、「二重結合当量」ともい
う。)が1468、東ソー製GPC(商品名HLC−8
02A)により測定したMwが30,000であった。
このポリマーを、「重合体(A−1)」とする。
【0016】 合成例2 N−メチル−2−ピロリドン 200部 メタクリル酸 20部 メタクリル酸n−ブチル 80部 アゾイソブチロニトリル 1部 の混合物を、撹拌機付オートクレーブに仕込み、室温で
均一になるまで撹拌したのち、80℃に昇温し、同温度
で3時間重合した。次いで100℃に昇温し、同温度で
さらに2時間重合した。その後室温まで冷却して、ポリ
マー溶液(重合収率97%)を得た。この重合中は、窒
素により空気遮断と撹拌を継続した。得られたポリマー
は、酸価が86KOHmg/g、東ソー製GPC(商品
名HLC−802A)により測定したMwが50,00
0であった。このポリマーを、「重合体(a−1)」と
する。
【0017】
【実施例】
実施例1 所定の電極とリブを有する厚さ2.0mmのガラス基板
上に、下記に示す蛍光体分散感放射線性組成物を、スク
リーン印刷により塗布したのち、100℃のクリーンオ
ーブン内で10分間乾燥して、蛍光体層を形成した。蛍光体分散感放射線性組成物 ・蛍光体 (Y,Gd)BO3:Eu3+(赤色) 40部 ・重合体 A−1(合成例1) 7.5部 ・光ラジカル発生剤 2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テト ラフェニル−1,2’−ビイミダゾール (これを、「成分(B−1)」と する。) 1部 4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン 1部 2−メルカプトベンゾチアゾール 0.5部 ・溶媒 N−メチル−2−ピロリドン 50部 得られた蛍光体層は、リブの側面および底部に均一に約
30μmの膜厚で形成されていた。この蛍光体層に対
し、マスクを介して、超高圧水銀灯により紫外線(i
線、波長365nm)を400mJ/cm2 の露光量で
露光した。次いで、0.05%の水酸化カリウム水溶液
(pH11.7)で2分間現像を行ったのち、超純水に
より1分間シャワー洗浄を行って、非露光部の蛍光体層
を除去し、次いで空気中で乾燥した。このときの現像マ
ージンは50秒であった。その後、180℃のクリーン
オーブン内で30分間加熱したのち、さらに500℃の
焼成炉内で30分間焼成処理を行って、発光用蛍光面を
形成し、プラズマディスプレイパネルを作製した。ま
た、得られたプラズマディスプレイパネルは、ガラス基
板上および隔壁側面に蛍光面が均一に約25μmの膜厚
で形成されており、十分な厚さを有し、かつ焼成工程で
有機物成分をほぼ完全に除去でき、作動時に高い表示輝
度を示した。以上の結果を、表1に示す。
【0018】実施例2 蛍光体を表1に示すものに変えた以外は実施例1と同様
にして、蛍光体分散感放射線性組成物の調製およびプラ
ズマディスプレイパネルの作製を行なった。得られた蛍
光体層は、リブの側面および底部に均一に約30μmの
膜厚で形成されていた。この蛍光体層に対して露光およ
び現像を行なったときの現像マージンは55秒であっ
た。また、得られたプラズマディスプレイパネルは、ガ
ラス基板上および隔壁側面に蛍光面が均一に約26μm
の膜厚で形成されており、十分な厚さを有し、かつ焼成
工程で有機物成分をほぼ完全に除去でき、作動時に高い
表示輝度を示した。以上の評価結果を、表1に示す。
【0019】実施例3 下記に示す蛍光体分散感放射線性組成物を用いた以外は
実施例1と同様にして、蛍光体分散感放射線性組成物の
調製およびプラズマディスプレイパネルの作製を行なっ
た。蛍光体分散感放射線性組成物 ・蛍光体 BaMgAl14O23:Eu2+(青色) 35部 ・重合体 ダイセル化学工業(株)製ACA−250M(商品名;酸価29KOHmg /g、二重結合当量381のメタクリル酸成分含有ポリマー)(これを「 重合体(A−2)」とする。) 10部 ・光ラジカル発生剤 成分(B−1) 2部 4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン 2部 2−メルカプトベンゾチアゾール 1部 ・溶媒 N−メチル−2−ピロリドン 50部 得られた蛍光体層は、リブの側面および底部に均一に約
25μmの膜厚で形成されていた。この蛍光体層に対し
て露光および現像を行なったときの現像マージンは65
秒であった。また、得られたプラズマディスプレイパネ
ルは、ガラス基板上および隔壁側面に蛍光面が均一に約
23μmの膜厚で形成されており、十分な厚さを有し、
かつ焼成工程で有機物成分をほぼ完全に除去でき、作動
時に高い表示輝度を示した。以上の評価結果を、表1に
示す。
【0020】実施例4 (ロ)重合体および光ラジカル発生剤を表1に示すもの
に変えた以外は実施例1と同様にして、蛍光体分散感放
射線性組成物の調製およびプラズマディスプレイパネル
の作製を行なった。得られた蛍光体層は、リブの側面お
よび底部に均一に約25μmの膜厚で形成されていた。
この蛍光体層に対して露光および現像を行なったときの
現像マージンは50秒であった。また、得られたプラズ
マディスプレイパネルは、ガラス基板上および隔壁側面
に蛍光面が均一に約23μmの膜厚で形成されており、
十分な厚さを有し、かつ焼成工程で有機物成分をほぼ完
全に除去でき、作動時に高い表示輝度を示した。以上の
評価結果を、表1に示す。
【0021】比較例1 下記に示す蛍光体分散感放射線性組成物を用いた以外は
実施例1と同様にして、蛍光体分散感放射線性組成物の
調製およびプラズマディスプレイパネルの作製を行なっ
た。蛍光体分散感放射線性組成物 ・蛍光体 (Y,Gd)BO3:Eu3+(赤色) 40部 ・重合体 a−1(合成例2) 3.5部 ・光重合性単量体 ペンタエリスリトールトリアクリレート 3.5部 ・光ラジカル開始剤 成分(B−1) 1部 4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン 1部 2−メルカプトベンゾチアゾール 0.5部 ・溶媒 N−メチル−2−ピロリドン 50部 得られた蛍光体層は、リブの側面および底部に均一に約
25μmの膜厚で形成されていたが、この蛍光体層に対
して露光および現像を行なったときの現像マージンは4
5秒であった。また、得られたプラズマディスプレイパ
ネルは、ガラス基板上と隔壁側面に膜蛍光面が均一に約
20μmの膜厚で形成されていたが、焼成工程で有機物
成分を十分に除去できず、作動時の表示輝度が低かっ
た。以上の評価結果を、表2に示す。
【0022】比較例2 蛍光体、光重合性単量体および光ラジカル発生剤を表2
に示すものに変えた以外は比較例1と同様にして、蛍光
体分散感放射線性組成物の調製およびプラズマディスプ
レイパネルの作製を行なった。得られた蛍光体層は、リ
ブの側面および底部に均一に約25μmの膜厚で形成さ
れていたが、この蛍光体層に対して露光および現像を行
なったときの現像マージンは20秒であった。また、得
られたプラズマディスプレイパネルは、ガラス基板上と
隔壁側面に、蛍光面が均一に約20μmの膜厚で形成さ
れていたが、焼成工程で有機物成分を十分除去できず、
作動時の表示輝度が低かった。以上の評価結果を、表2
に示す。
【0023】
【表1】
【0024】
【表2】
【0025】
【発明の効果】本発明の蛍光体分散感放射線性組成物
は、従来の蛍光体分散感放射線性組成物に比べて、蛍光
面を形成する際の現像マージンが広く、かつ焼成工程に
おいて有機物成分を容易に除去しうるとともに、露光、
現像および焼成工程を経たのちでも十分な膜厚を有する
ことができ、表示輝度の高い蛍光面を形成することがで
きる。したがって、本発明の蛍光体分散感放射線性組成
物は、今後ますます進行するとみられるプラズマディス
プレイパネル等の蛍光体表示デバイスの大型化および高
精細化の進展に資するところ大である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (イ)蛍光体、(ロ)カルボキシル基と
    ラジカル重合性不飽和基を有する重合体、並びに(ハ)
    光ラジカル発生剤を含有することを特徴とする蛍光体分
    散感放射線性組成物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2016129651A1 (ja) * 2015-02-12 2016-08-18 国立大学法人北海道大学 シンチレータ及びこれを用いた放射線線量計

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