JPH1135993A - スクリーン印刷版用洗浄剤組成物 - Google Patents
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Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 スクリーン印刷板に付着したインクや導体ペ
ーストを洗浄するための洗浄剤で、高温時での経時安定
性に優れ、各種インクに対する洗浄性が良好で、かつ環
境特性、毒性、臭気などの点でも満足したスクリーン印
刷版用洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 (A)下記一般式(1)で表されるグリ
コールエーテル、(B)下記一般式(2)で表されるア
セテート系化合物、(C)炭素数4〜18のエポキシ系
化合物またはカルボジイミド系化合物、(D)フェノー
ル系酸化防止剤および水からなるスクリーン印刷版用洗
浄剤組成物。一般式: R1O(CmH2mO)nR2 (1) (R1は炭素数1〜8のアルキル基またはフェニル基、
R2は水素または炭素数1〜8のアルキル基、mは2〜
3の整数、nは1〜4の整数を表す。) (R3は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数2〜8のア
ルコキシアルキル基またはアセチル基、mは2〜3の整
数、nは0〜4の整数を表す。但し、R3がアセチル基
の場合の、nは1〜4の整数である。)
ーストを洗浄するための洗浄剤で、高温時での経時安定
性に優れ、各種インクに対する洗浄性が良好で、かつ環
境特性、毒性、臭気などの点でも満足したスクリーン印
刷版用洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 (A)下記一般式(1)で表されるグリ
コールエーテル、(B)下記一般式(2)で表されるア
セテート系化合物、(C)炭素数4〜18のエポキシ系
化合物またはカルボジイミド系化合物、(D)フェノー
ル系酸化防止剤および水からなるスクリーン印刷版用洗
浄剤組成物。一般式: R1O(CmH2mO)nR2 (1) (R1は炭素数1〜8のアルキル基またはフェニル基、
R2は水素または炭素数1〜8のアルキル基、mは2〜
3の整数、nは1〜4の整数を表す。) (R3は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数2〜8のア
ルコキシアルキル基またはアセチル基、mは2〜3の整
数、nは0〜4の整数を表す。但し、R3がアセチル基
の場合の、nは1〜4の整数である。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、スクリーン印刷版
に付着したインクや導体ペーストを洗浄するための洗浄
剤組成物に関する。
に付着したインクや導体ペーストを洗浄するための洗浄
剤組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、スクリーン印刷版に付着している
インクや導体ペーストを除去する洗浄にはトリクロロエ
タン、ジクロロエチレン等の塩素系溶剤が用いられてい
るが、これら塩素系溶剤は付着したインクの種類によっ
ては洗浄力が不十分であり、且つ環境破壊などの問題点
から使用規制を受け、使用されなくなっている。そこ
で、近年これらの塩素系溶剤に代わり炭化水素系溶剤、
アルコール系溶剤を用いたり、グリコールエーテル系溶
剤と水の混合物からなる洗浄剤組成物(例えば特開平4
−4299号公報)やエステル系溶剤を含有した洗浄剤
組成物(例えば特開平4−42523号公報)を用い、
超音波を付与して洗浄する方法が行われている。
インクや導体ペーストを除去する洗浄にはトリクロロエ
タン、ジクロロエチレン等の塩素系溶剤が用いられてい
るが、これら塩素系溶剤は付着したインクの種類によっ
ては洗浄力が不十分であり、且つ環境破壊などの問題点
から使用規制を受け、使用されなくなっている。そこ
で、近年これらの塩素系溶剤に代わり炭化水素系溶剤、
アルコール系溶剤を用いたり、グリコールエーテル系溶
剤と水の混合物からなる洗浄剤組成物(例えば特開平4
−4299号公報)やエステル系溶剤を含有した洗浄剤
組成物(例えば特開平4−42523号公報)を用い、
超音波を付与して洗浄する方法が行われている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、炭化水
素系溶剤やアルコール系溶剤は引火点が低く危険性が高
いこと、付着しているインクの種類によっては洗浄力が
不十分であり、汎用性が乏しい。また、グリコールエー
テル系溶剤と水との混合物やエステル系溶剤を含有した
洗浄剤組成物は、高温で使用する場合、経時変化によ
り、酸化または加水分解を起こし、洗浄性を維持できな
くなる、臭気が悪くなるなどの問題がある。本発明は、
これらの問題点を解決し、各種インクに対する洗浄性に
優れ、環境特性、毒性、臭気などの点でも満足なスクリ
ーン印刷版用洗浄剤組成物を提供することを目的とす
る。
素系溶剤やアルコール系溶剤は引火点が低く危険性が高
いこと、付着しているインクの種類によっては洗浄力が
不十分であり、汎用性が乏しい。また、グリコールエー
テル系溶剤と水との混合物やエステル系溶剤を含有した
洗浄剤組成物は、高温で使用する場合、経時変化によ
り、酸化または加水分解を起こし、洗浄性を維持できな
くなる、臭気が悪くなるなどの問題がある。本発明は、
これらの問題点を解決し、各種インクに対する洗浄性に
優れ、環境特性、毒性、臭気などの点でも満足なスクリ
ーン印刷版用洗浄剤組成物を提供することを目的とす
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意研究した結果、特定の洗浄剤組成物が
この目的に合致するものであることを見出し本発明に到
達した。すなわち本発明は(A)下記一般式(1)で表
されるグリコールエーテル、(B)下記一般式(2)で
表されるアセテート系化合物、(C)炭素数4〜18の
エポキシ系化合物またはカルボジイミド系化合物、
(D)フェノール系酸化防止剤および水からなるスクリ
ーン印刷版用洗浄剤組成物である。 R1O(CmH2mO)nR2 (1) (R1は炭素数1〜8のアルキル基またはフェニル基、
R2は水素または炭素数1〜8のアルキル基、mは2〜
3の整数、nは1〜4の整数を表す。) (R3は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数2〜8のア
ルコキシアルキル基またはアセチル基、mは2〜3の整
数、nは0〜4の整数を表す。但し、R3がアセチル基
の場合の、nは1〜4の整数である。)
を達成すべく鋭意研究した結果、特定の洗浄剤組成物が
この目的に合致するものであることを見出し本発明に到
達した。すなわち本発明は(A)下記一般式(1)で表
されるグリコールエーテル、(B)下記一般式(2)で
表されるアセテート系化合物、(C)炭素数4〜18の
エポキシ系化合物またはカルボジイミド系化合物、
(D)フェノール系酸化防止剤および水からなるスクリ
ーン印刷版用洗浄剤組成物である。 R1O(CmH2mO)nR2 (1) (R1は炭素数1〜8のアルキル基またはフェニル基、
R2は水素または炭素数1〜8のアルキル基、mは2〜
3の整数、nは1〜4の整数を表す。) (R3は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数2〜8のア
ルコキシアルキル基またはアセチル基、mは2〜3の整
数、nは0〜4の整数を表す。但し、R3がアセチル基
の場合の、nは1〜4の整数である。)
【0005】
【発明の実施の形態】本発明において、(A)の一般式
(1)のR1およびR2の炭素数1〜8のアルキル基の例
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、イソプロピル基およびtert−ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基などが挙げられる。これらのうち好ま
しいものは炭素数1〜4のアルキル基である。式中のC
mH2mOは、オキシエチレン基またはオキシプロピレン
基を表す。nは通常1〜4の整数、好ましくは2または
3である。nが2以上の場合アルキレンオキシドの付加
形式は、単独でも、これらのランダム付加もしくはブロ
ック付加でも良い。
(1)のR1およびR2の炭素数1〜8のアルキル基の例
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、イソプロピル基およびtert−ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基などが挙げられる。これらのうち好ま
しいものは炭素数1〜4のアルキル基である。式中のC
mH2mOは、オキシエチレン基またはオキシプロピレン
基を表す。nは通常1〜4の整数、好ましくは2または
3である。nが2以上の場合アルキレンオキシドの付加
形式は、単独でも、これらのランダム付加もしくはブロ
ック付加でも良い。
【0006】(A)の具体例としてはアルキレングリコ
ールモノアルキルエーテル類(ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、
ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
プロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチル
エーテル、エチレンプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレンプロピレングリコールモノエチルエー
テル、エチレンプロピレングリコールモノプロピルエー
テル、エチレンプロピレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレンプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレンプロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレンプロピレングリコールモノプロピルエー
テル、ジエチレンプロピレングリコールモノブチルエー
テル、トリエチレンプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、トリエチレンプロピレングリコールモノプロピ
ルエーテル、トリエチレンプロピレングリコールモノブ
チルエーテル、テトラエチレンプロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、エチレンジプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレンジプロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、エチレンジプロピレングリコールモ
ノプロピルエーテル、エチレンジプロピレングリコール
モノブチルエーテル、エチレンプロピレングリコールモ
ノtert−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテ
ル等)、アルキレングリコールジアルキルエーテル類
(ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレン
グリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコール
ジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、
ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル、ジ
エチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレング
リコールジメチルエーテル等)およびこれらの混合物等
が挙げられる。
ールモノアルキルエーテル類(ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、
ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
プロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチル
エーテル、エチレンプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレンプロピレングリコールモノエチルエー
テル、エチレンプロピレングリコールモノプロピルエー
テル、エチレンプロピレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレンプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレンプロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレンプロピレングリコールモノプロピルエー
テル、ジエチレンプロピレングリコールモノブチルエー
テル、トリエチレンプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、トリエチレンプロピレングリコールモノプロピ
ルエーテル、トリエチレンプロピレングリコールモノブ
チルエーテル、テトラエチレンプロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、エチレンジプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレンジプロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、エチレンジプロピレングリコールモ
ノプロピルエーテル、エチレンジプロピレングリコール
モノブチルエーテル、エチレンプロピレングリコールモ
ノtert−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテ
ル等)、アルキレングリコールジアルキルエーテル類
(ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレン
グリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコール
ジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、
ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル、ジ
エチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレング
リコールジメチルエーテル等)およびこれらの混合物等
が挙げられる。
【0007】本発明において、(B)の一般式(2)の
R3の炭素数1〜8のアルキル基の例としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基
およびtert−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基な
どが挙げられる。これらのうち好ましいものは炭素数1
〜4のアルキル基である。炭素数2〜8のアルコキシア
ルキル基の例としては、メトキシエチル基、2−メトキ
シプロピル基、3−メトキシブチル基、3−メトキシ−
3−メチルブチル基、3−エトキシブチル基、3−エト
キシ−3−メチルブチル基などが挙げられる。式中のC
mH2mOは、オキシエチレン基またはオキシプロピレン
基を表す。nは通常0〜4の整数、好ましくは1〜2で
ある。nが2以上の場合アルキレンオキシドの付加形式
は、単独でも、これらのランダム付加もしくはブロック
付加でも良い。
R3の炭素数1〜8のアルキル基の例としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基
およびtert−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基な
どが挙げられる。これらのうち好ましいものは炭素数1
〜4のアルキル基である。炭素数2〜8のアルコキシア
ルキル基の例としては、メトキシエチル基、2−メトキ
シプロピル基、3−メトキシブチル基、3−メトキシ−
3−メチルブチル基、3−エトキシブチル基、3−エト
キシ−3−メチルブチル基などが挙げられる。式中のC
mH2mOは、オキシエチレン基またはオキシプロピレン
基を表す。nは通常0〜4の整数、好ましくは1〜2で
ある。nが2以上の場合アルキレンオキシドの付加形式
は、単独でも、これらのランダム付加もしくはブロック
付加でも良い。
【0008】(B)の具体例としては、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリ
コールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレング
リコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチ
レングリコールモノプロピルエーテルアセテート、トリ
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エ
チレンプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、エチレンプロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、エチレンプロピレングリコールモノプロ
ピルエーテルアセテート、エチレンプロピレングリコー
ルモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレング
リコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールジアセテート、ジプロピレングリコールジアセ
テート、メトキシエチルアセテート、2−メトキシプロ
ピルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、3−
メトキシ−3−メチルブチルアセテート、3−エトキシ
ブチルアセテート、3−エトキシ−3−メチルブチルア
セテートおよびこれらの混合物等が挙げられる。
コールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリ
コールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレング
リコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチ
レングリコールモノプロピルエーテルアセテート、トリ
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エ
チレンプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、エチレンプロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、エチレンプロピレングリコールモノプロ
ピルエーテルアセテート、エチレンプロピレングリコー
ルモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレング
リコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールジアセテート、ジプロピレングリコールジアセ
テート、メトキシエチルアセテート、2−メトキシプロ
ピルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、3−
メトキシ−3−メチルブチルアセテート、3−エトキシ
ブチルアセテート、3−エトキシ−3−メチルブチルア
セテートおよびこれらの混合物等が挙げられる。
【0009】(C)は炭素数4〜18のエポキシ系化合
物またはカルボジイミド系化合物である。(C)は、本
発明の洗浄剤組成物中のアセテート系化合物の加水分解
を抑制するための安定剤として用いる。エポキシ系化合
物とは、分子内に少なくとも1つ以上のエポキシ基を有
した化合物であり、
物またはカルボジイミド系化合物である。(C)は、本
発明の洗浄剤組成物中のアセテート系化合物の加水分解
を抑制するための安定剤として用いる。エポキシ系化合
物とは、分子内に少なくとも1つ以上のエポキシ基を有
した化合物であり、
【0010】エポキシ系化合物の具体例としては、1,
2−ブチレンオキサイド、2,3−ブチレンオキサイ
ド、1,2−エポキシヘキサン、1,2−エポキシオク
タン、1,2−エポキシデカン、1,2−エポキシドデ
カン、1,2−エポキシテトラデカン、シクロヘキセン
オキサイド、ブタジエンジオキサイド、メチルグリシジ
ルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリ
シジルエーテルなどが挙げられる。これらのうち、好ま
しくは炭素数が4〜18のもので、更に好ましくは炭素
数4〜14の脂肪族エポキシ系化合物である。カルボジ
イミド系化合物としてはジ炭化水素置換のものが挙げら
れ、具体例としては、ジプロピルカルボジイミド、ジブ
チルカルボジイミド、ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、ジフェニルカルボジイミドなどが挙げられる。
(C)は、これら単独でも2種以上を併用してもよい。
2−ブチレンオキサイド、2,3−ブチレンオキサイ
ド、1,2−エポキシヘキサン、1,2−エポキシオク
タン、1,2−エポキシデカン、1,2−エポキシドデ
カン、1,2−エポキシテトラデカン、シクロヘキセン
オキサイド、ブタジエンジオキサイド、メチルグリシジ
ルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリ
シジルエーテルなどが挙げられる。これらのうち、好ま
しくは炭素数が4〜18のもので、更に好ましくは炭素
数4〜14の脂肪族エポキシ系化合物である。カルボジ
イミド系化合物としてはジ炭化水素置換のものが挙げら
れ、具体例としては、ジプロピルカルボジイミド、ジブ
チルカルボジイミド、ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、ジフェニルカルボジイミドなどが挙げられる。
(C)は、これら単独でも2種以上を併用してもよい。
【0011】(D)は、本発明の洗浄剤組成物中のグリ
コールエーテルの酸化を防止するための安定剤として用
いる。
コールエーテルの酸化を防止するための安定剤として用
いる。
【0012】(D)フェノール系酸化防止剤としてはヒ
ンダードフェノール系化合物およびハイドロキノン系化
合物が挙げられ、具体例としては、2−t−ブチル−4
−メトキシフェノール、3−t−ブチル−4−メトキシ
フェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェ
ノール、2-t−ブチル−1,4−ベンゼンジオール、
2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、モノメチルハイドロキノン、2,5−ジ
−t−ブチルハイドロキノン等が挙げられる。これらの
うち好ましいのは、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチ
ルフェノールである。(D)は、これら単独でも2種以
上を併用してもよい。
ンダードフェノール系化合物およびハイドロキノン系化
合物が挙げられ、具体例としては、2−t−ブチル−4
−メトキシフェノール、3−t−ブチル−4−メトキシ
フェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェ
ノール、2-t−ブチル−1,4−ベンゼンジオール、
2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、モノメチルハイドロキノン、2,5−ジ
−t−ブチルハイドロキノン等が挙げられる。これらの
うち好ましいのは、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチ
ルフェノールである。(D)は、これら単独でも2種以
上を併用してもよい。
【0013】本発明の洗浄剤組成物における(A)の含
量は、好ましくは20〜80重量%、(B)の含量は、
好ましくは15〜80重量%、(C)の含量は、好まし
くは0.05〜5.0重量%でさらに好ましくは0.2
〜2.0重量%、(D)の含量は、好ましくは0.00
1〜1.0重量%でさらに好ましくは0.01〜0.1
重量%、水の含量は、引火性および洗浄性の観点から好
ましくは5〜30重量%でさらに好ましくは10〜20
重量%である。(A):(B)の配合比率は洗浄性の観
点から8:2〜3:7が好ましい。
量は、好ましくは20〜80重量%、(B)の含量は、
好ましくは15〜80重量%、(C)の含量は、好まし
くは0.05〜5.0重量%でさらに好ましくは0.2
〜2.0重量%、(D)の含量は、好ましくは0.00
1〜1.0重量%でさらに好ましくは0.01〜0.1
重量%、水の含量は、引火性および洗浄性の観点から好
ましくは5〜30重量%でさらに好ましくは10〜20
重量%である。(A):(B)の配合比率は洗浄性の観
点から8:2〜3:7が好ましい。
【0014】
【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
が、本発明はこれに限定されるものではない。
【0015】実施例1〜10、比較例1〜4 表1記載の洗浄剤組成物を作成し、安定性試験および洗
浄性試験を行い、その結果を表1および表2に記載し
た。
浄性試験を行い、その結果を表1および表2に記載し
た。
【0016】<安定性試験>実施例1〜10および比較
例1〜4の洗浄剤組成物を50℃の恒温槽中に入れ、3
ヶ月間放置した。試験前後のpH、酸価、臭気について
変化の有無を確認した。
例1〜4の洗浄剤組成物を50℃の恒温槽中に入れ、3
ヶ月間放置した。試験前後のpH、酸価、臭気について
変化の有無を確認した。
【0017】
【表1】
【0018】<洗浄性試験>250メッシュの紗張りの
ポリエステル製スクリーン印刷版に下記インクA〜Eを
別々に塗布し、25℃で30分間風乾して使用した。 インク A:アクリル系 インク B:ポリエステル系 インク C:エポキシ系 インク D:ウレタン系 インク E:ビニル系 実施例1〜10および比較例1〜4の洗浄剤組成物の作
成直後のものと50℃の恒温槽中で3ヶ月放置したもの
について、40℃で60秒間超音波洗浄を行い、スクリ
ーン版のインクの付着状態を目視にて観察し、次の5段
階に評価した。 評価基準 ◎ :インクが完全に洗浄された ○ :インクが極わずかに残存した △ :インクが薄く膜状に残存した × :インクが多く残存した ××:洗浄効果が見られなかった
ポリエステル製スクリーン印刷版に下記インクA〜Eを
別々に塗布し、25℃で30分間風乾して使用した。 インク A:アクリル系 インク B:ポリエステル系 インク C:エポキシ系 インク D:ウレタン系 インク E:ビニル系 実施例1〜10および比較例1〜4の洗浄剤組成物の作
成直後のものと50℃の恒温槽中で3ヶ月放置したもの
について、40℃で60秒間超音波洗浄を行い、スクリ
ーン版のインクの付着状態を目視にて観察し、次の5段
階に評価した。 評価基準 ◎ :インクが完全に洗浄された ○ :インクが極わずかに残存した △ :インクが薄く膜状に残存した × :インクが多く残存した ××:洗浄効果が見られなかった
【0019】
【表2】
【0020】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、高温時におい
て経時変化により酸化または加水分解をおこすことな
く、洗浄性を維持することができる。また、非塩素系の
ため環境破壊の恐れがなく、毒性および臭気の点でも満
足なスクリーン印刷版に付着したインクや導体ペースト
の洗浄に用いる洗浄剤として極めて有用である。
て経時変化により酸化または加水分解をおこすことな
く、洗浄性を維持することができる。また、非塩素系の
ため環境破壊の恐れがなく、毒性および臭気の点でも満
足なスクリーン印刷版に付着したインクや導体ペースト
の洗浄に用いる洗浄剤として極めて有用である。
Claims (3)
- 【請求項1】 (A)下記一般式(1)で表されるグリ
コールエーテル、(B)下記一般式(2)で表されるア
セテート系化合物、(C)炭素数4〜18のエポキシ系
化合物またはカルボジイミド系化合物、(D)フェノー
ル系酸化防止剤および水からなるスクリーン印刷版用洗
浄剤組成物。 一般式: R1O(CmH2mO)nR2 (1) (R1は炭素数1〜8のアルキル基またはフェニル基、
R2は水素または炭素数1〜8のアルキル基、mは2〜
3の整数、nは1〜4の整数を表す。) (R3は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数2〜8のア
ルコキシアルキル基またはアセチル基、mは2〜3の整
数、nは0〜4の整数を表す。但し、R3がアセチル基
の場合の、nは1〜4の整数である。) - 【請求項2】 (A)の含量が20〜80重量%、
(B)の含量が15〜80重量%、(C)の含量が0.
05〜5.0重量%、(D)の含量が0.001〜1.
0重量%、水の含量が5〜30重量%であり、(A):
(B)が8:2〜3:7である請求項1記載の洗浄剤組
成物。 - 【請求項3】 (C)が炭素数4〜14の脂肪族エポキ
シ系化合物であり、(D)が2,6−ジt−ブチル−4
−メチルフェノールである請求項1または2記載の洗浄
剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09214201A JP3078509B2 (ja) | 1997-07-23 | 1997-07-23 | スクリーン印刷版用洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09214201A JP3078509B2 (ja) | 1997-07-23 | 1997-07-23 | スクリーン印刷版用洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1135993A true JPH1135993A (ja) | 1999-02-09 |
| JP3078509B2 JP3078509B2 (ja) | 2000-08-21 |
Family
ID=16651912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09214201A Expired - Fee Related JP3078509B2 (ja) | 1997-07-23 | 1997-07-23 | スクリーン印刷版用洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3078509B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006090529A1 (ja) * | 2005-02-24 | 2006-08-31 | Adeka Corporation | 樹脂用除去剤 |
| JP2012052024A (ja) * | 2010-09-01 | 2012-03-15 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 光造形樹脂成形体用洗浄剤組成物 |
-
1997
- 1997-07-23 JP JP09214201A patent/JP3078509B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006090529A1 (ja) * | 2005-02-24 | 2006-08-31 | Adeka Corporation | 樹脂用除去剤 |
| JP2006232957A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Adeka Corp | 樹脂用除去剤 |
| TWI384066B (zh) * | 2005-02-24 | 2013-02-01 | Adeka Corp | Resin removal agent |
| JP2012052024A (ja) * | 2010-09-01 | 2012-03-15 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 光造形樹脂成形体用洗浄剤組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3078509B2 (ja) | 2000-08-21 |
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