JPH11301759A - ガス噴射弁及びガス注入に用いられる注入治具 - Google Patents
ガス噴射弁及びガス注入に用いられる注入治具Info
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- JPH11301759A JPH11301759A JP10110267A JP11026798A JPH11301759A JP H11301759 A JPH11301759 A JP H11301759A JP 10110267 A JP10110267 A JP 10110267A JP 11026798 A JP11026798 A JP 11026798A JP H11301759 A JPH11301759 A JP H11301759A
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- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D83/00—Containers or packages with special means for dispensing contents
- B65D83/14—Containers for dispensing liquid or semi-liquid contents by internal gaseous pressure, i.e. aerosol containers comprising propellant
- B65D83/42—Filling or charging means
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- B65D83/44—Valves specially adapted for the discharge of contents; Regulating devices
- B65D83/52—Metering valves; Metering devices
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 使用後にガス容器内に容易にガスを再注入で
きるようにする。 【解決手段】 バルブピン１３にガス通路孔２２を形成
する。このガス通路孔２２の端部を、バルブピン１３が
上昇位置にあるときに第２シールリング１９よりも上方
に開口し、かつバルブピン１３の第１段押し込み時と第
２段押し込み時に第２シールリング１９よりも下方に開
口するように配置する。バルブピン１３に、同ピン１３
が上昇位置にあるときにだけ第１シールリング１８の内
側でガス容器１１内と定量室２１を連通するＶ溝２５
と、同ピン１３の第２段押し込み時にだけ第１シールリ
ング１８の内側でガス容器１１内と定量室２１を連通す
るＶ溝２６を形成する。ガスの再注入時にはバルブピン
１３を第２段押し込み位置まで押し込むことで、バルブ
ピン１３のガス通路孔２２が定量室２１とＶ溝２６を通
してガス容器１１内と連通する。
きるようにする。 【解決手段】 バルブピン１３にガス通路孔２２を形成
する。このガス通路孔２２の端部を、バルブピン１３が
上昇位置にあるときに第２シールリング１９よりも上方
に開口し、かつバルブピン１３の第１段押し込み時と第
２段押し込み時に第２シールリング１９よりも下方に開
口するように配置する。バルブピン１３に、同ピン１３
が上昇位置にあるときにだけ第１シールリング１８の内
側でガス容器１１内と定量室２１を連通するＶ溝２５
と、同ピン１３の第２段押し込み時にだけ第１シールリ
ング１８の内側でガス容器１１内と定量室２１を連通す
るＶ溝２６を形成する。ガスの再注入時にはバルブピン
１３を第２段押し込み位置まで押し込むことで、バルブ
ピン１３のガス通路孔２２が定量室２１とＶ溝２６を通
してガス容器１１内と連通する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液化炭酸ガス等の
高圧ガスをプロペラントとしてガス容器内に充填した内
容物を噴射するガス噴射弁に関し、とりわけ、ガス容器
のリサイクル使用を可能にする改良を施したガス噴射弁
に関する。
高圧ガスをプロペラントとしてガス容器内に充填した内
容物を噴射するガス噴射弁に関し、とりわけ、ガス容器
のリサイクル使用を可能にする改良を施したガス噴射弁
に関する。
【０００２】
【従来の技術】薬剤等の内容物を高圧ガスと共にガス容
器内に充填し、ガス容器の口部に固定設置したガス噴射
弁から内容物をガス圧によって噴射する装置が従来より
用いられている。この種の噴射装置は、従来は特定フロ
ンをプロペラントとして用いていたが、現在では、環境
保全の関心の高まりから特定フロンに代わる代替フロン
ＨＦＣ１３４ａを使用とする動きがある。
器内に充填し、ガス容器の口部に固定設置したガス噴射
弁から内容物をガス圧によって噴射する装置が従来より
用いられている。この種の噴射装置は、従来は特定フロ
ンをプロペラントとして用いていたが、現在では、環境
保全の関心の高まりから特定フロンに代わる代替フロン
ＨＦＣ１３４ａを使用とする動きがある。
【０００３】しかし、このＨＦＣ１３４ａは、オゾン層
への影響は無いものの、地球温暖化への影響はＣＯ2の
１０００倍以上あり、今後使用が増加すると新たな問題
の提起が予測される。そこで、今日ではオゾン層の破壊
や地球温暖化への影響の少ない炭酸ガスや窒素ガス、ヘ
リューム、ネオン、クリプトン、キセノン、ラドン等の
不活性ガスを噴射装置のプロペラントとして使用するこ
とが考えられている。
への影響は無いものの、地球温暖化への影響はＣＯ2の
１０００倍以上あり、今後使用が増加すると新たな問題
の提起が予測される。そこで、今日ではオゾン層の破壊
や地球温暖化への影響の少ない炭酸ガスや窒素ガス、ヘ
リューム、ネオン、クリプトン、キセノン、ラドン等の
不活性ガスを噴射装置のプロペラントとして使用するこ
とが考えられている。
【０００４】ところで、このようなガスを噴射装置のプ
ロペラントとして用いる場合、現行のフロンのように液
化してガス容器を小型化することが望まれているが、例
えば、液化炭酸ガスであれば、その蒸気圧は２０℃で６
０kgf/cm2あり、また、不活性ガスについても容積効率を
上げるには、高圧縮したものや液化したものが良く、や
はり５０kgf/cm2以上の圧力での使用が望まれている。
ロペラントとして用いる場合、現行のフロンのように液
化してガス容器を小型化することが望まれているが、例
えば、液化炭酸ガスであれば、その蒸気圧は２０℃で６
０kgf/cm2あり、また、不活性ガスについても容積効率を
上げるには、高圧縮したものや液化したものが良く、や
はり５０kgf/cm2以上の圧力での使用が望まれている。
【０００５】このような高圧ガスを扱うためのガス噴射
弁としては、例えば、特開平８−１４１４５０号公報に
示されるようなものが従来より案出されている。
弁としては、例えば、特開平８−１４１４５０号公報に
示されるようなものが従来より案出されている。
【０００６】このガス噴射弁は、図１０に示すように、
ガス容器１の口部１ａに固定設置されたバルブケース２
にバルブピン３が摺動自在に保持されており、このバル
ブケース２内には、第１シールリング４と第２シールリ
ング５が軸方向に離間して配置されると共に、この両シ
ールリング４，５に挟まれた部分に、噴射前のガスを一
定量捕獲するため定量室６が形成されている。そして、
バルブピン３の下端部には、バルブピン３が外部から押
し込み操作されたときに第１シールリング４内に嵌合密
接する第１弁部７が設けられ、バルブピン３の上端部に
は、バルブピン３が上昇位置にあるときに第２シールリ
ング５内に嵌合密接する大径部８ａと、バルブピン３が
外部から押し込み操作されたときに第２シールリング５
との間に隙間を作る小径部８ｂとから成る第２弁部８が
設けられている。尚、定量室内にはスプリング９が収容
され、このスプリング９によってバルブピン３を常時上
方に付勢するようになっている。
ガス容器１の口部１ａに固定設置されたバルブケース２
にバルブピン３が摺動自在に保持されており、このバル
ブケース２内には、第１シールリング４と第２シールリ
ング５が軸方向に離間して配置されると共に、この両シ
ールリング４，５に挟まれた部分に、噴射前のガスを一
定量捕獲するため定量室６が形成されている。そして、
バルブピン３の下端部には、バルブピン３が外部から押
し込み操作されたときに第１シールリング４内に嵌合密
接する第１弁部７が設けられ、バルブピン３の上端部に
は、バルブピン３が上昇位置にあるときに第２シールリ
ング５内に嵌合密接する大径部８ａと、バルブピン３が
外部から押し込み操作されたときに第２シールリング５
との間に隙間を作る小径部８ｂとから成る第２弁部８が
設けられている。尚、定量室内にはスプリング９が収容
され、このスプリング９によってバルブピン３を常時上
方に付勢するようになっている。
【０００７】このガス噴射弁は以上のような構成である
ため、バルブピン３が外部から押し込み操作されない定
常状態においては、第２弁部８の大径部８ａが第２シー
ルリング５に密接した状態で第１弁部７が第１シールリ
ング４から離間して、ガス容器１の内部と定量室６を連
通しており、この状態からバルブピン３が外部から押し
込み操作されると、第１弁部７が第１シールリング４に
嵌合密接した後に第２弁部８の小径部８ｂが第２シール
リング５との間に隙間を作り、この隙間を通してガス容
器１外部にガスと共に内容物を噴射する。このとき、第
２弁部８が第２シールリング５との間に隙間を作る直前
に、第１弁部７が第１シールリング４に嵌合密接して定
量室６とガス容器１内部との連通を遮断するため、ガス
噴射弁からは定量室６で捕獲された一定量のガスと内容
物だけが噴射される。
ため、バルブピン３が外部から押し込み操作されない定
常状態においては、第２弁部８の大径部８ａが第２シー
ルリング５に密接した状態で第１弁部７が第１シールリ
ング４から離間して、ガス容器１の内部と定量室６を連
通しており、この状態からバルブピン３が外部から押し
込み操作されると、第１弁部７が第１シールリング４に
嵌合密接した後に第２弁部８の小径部８ｂが第２シール
リング５との間に隙間を作り、この隙間を通してガス容
器１外部にガスと共に内容物を噴射する。このとき、第
２弁部８が第２シールリング５との間に隙間を作る直前
に、第１弁部７が第１シールリング４に嵌合密接して定
量室６とガス容器１内部との連通を遮断するため、ガス
噴射弁からは定量室６で捕獲された一定量のガスと内容
物だけが噴射される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、液化炭酸ガ
スのような高圧ガスを噴射装置のプロペラントとして使
用する場合には、安全性を考慮してガス容器やガス噴射
弁を強固な構造とする要求があり、特定フロン等をプロ
ペラントとして使用する現行の噴射装置に比較してガス
容器やガス噴射弁を製造するために多量の材料を必要と
する。このため、噴射装置を現行のように使い捨てにす
ることは資源活用上で好ましくなく、しかしながら、上
記従来のガス噴射弁にあっては、一度使用したガス容器
１の内部にガスと内容物を再注入するための構造を持た
ないための、ガス容器１やガス噴射弁をそのままリサイ
クル使用することができない。
スのような高圧ガスを噴射装置のプロペラントとして使
用する場合には、安全性を考慮してガス容器やガス噴射
弁を強固な構造とする要求があり、特定フロン等をプロ
ペラントとして使用する現行の噴射装置に比較してガス
容器やガス噴射弁を製造するために多量の材料を必要と
する。このため、噴射装置を現行のように使い捨てにす
ることは資源活用上で好ましくなく、しかしながら、上
記従来のガス噴射弁にあっては、一度使用したガス容器
１の内部にガスと内容物を再注入するための構造を持た
ないための、ガス容器１やガス噴射弁をそのままリサイ
クル使用することができない。
【０００９】そこで本発明は、簡単な構造によって使用
後にガス容器内に容易にガスを再注入できるようにし
て、製造コストの増大を招くことなく地球資源の有効活
用を図ることのできるガス噴射弁とそのガス噴射弁に嵌
合して用いられるガス注入のための注入治具の技術を提
供しようとするものである。
後にガス容器内に容易にガスを再注入できるようにし
て、製造コストの増大を招くことなく地球資源の有効活
用を図ることのできるガス噴射弁とそのガス噴射弁に嵌
合して用いられるガス注入のための注入治具の技術を提
供しようとするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ための手段として、請求項１の発明は、ガス容器の口部
に固定設置したバルブケースにバルブピンが進退自在に
保持されると共に、このバルブケース内に、バルブピン
の外周面にガス容器の内側寄り位置で密接する第１シー
ルリングとガス容器の外側寄り位置で密接する第２シー
ルリングが配置され、前記バルブケース内の第１シール
リングと第２シールリングに挟まれた位置に、噴射前の
ガスを一定量捕獲するため定量室が形成されたガス噴射
弁において、前記バルブピンに、そのガス容器外側の先
端部とその先端部から軸方向に所定距離離間した外周面
とを連通するガス通路孔を形成して、このガス通路孔の
バルブピン外周面側の端部を、バルブピンが上昇位置に
あるときに第２シールリングよりも上方に開口し、かつ
バルブピンの第１段押し込み時と第２段押し込み時に第
２シールリングよりも下方の定量室内に開口するように
配置し、さらに前記バルブピンに、バルブピンが上昇位
置にあるときにだけ第１シールリングの内側でガス容器
内と定量室を連通する第１バイパス部と、バルブピンの
第２段押し込み時にだけ第１シールリングの内側でガス
容器内と定量室を連通する第２バイパス部を形成するよ
うにした。
ための手段として、請求項１の発明は、ガス容器の口部
に固定設置したバルブケースにバルブピンが進退自在に
保持されると共に、このバルブケース内に、バルブピン
の外周面にガス容器の内側寄り位置で密接する第１シー
ルリングとガス容器の外側寄り位置で密接する第２シー
ルリングが配置され、前記バルブケース内の第１シール
リングと第２シールリングに挟まれた位置に、噴射前の
ガスを一定量捕獲するため定量室が形成されたガス噴射
弁において、前記バルブピンに、そのガス容器外側の先
端部とその先端部から軸方向に所定距離離間した外周面
とを連通するガス通路孔を形成して、このガス通路孔の
バルブピン外周面側の端部を、バルブピンが上昇位置に
あるときに第２シールリングよりも上方に開口し、かつ
バルブピンの第１段押し込み時と第２段押し込み時に第
２シールリングよりも下方の定量室内に開口するように
配置し、さらに前記バルブピンに、バルブピンが上昇位
置にあるときにだけ第１シールリングの内側でガス容器
内と定量室を連通する第１バイパス部と、バルブピンの
第２段押し込み時にだけ第１シールリングの内側でガス
容器内と定量室を連通する第２バイパス部を形成するよ
うにした。
【００１１】この発明の場合、バルブピンが上昇位置に
あるときには、ガス通路孔のバルブピン外周面側の端部
が第２シールリングの上方に位置されているために、ガ
ス通路は定量室と非連通となっており、また、定量室は
バルブピンの第１バイパス部を通してガス容器内と連通
している。この状態からバルブピンを第１段押し込み位
置まで押し込み操作すると、ガス容器内と定量室の間が
第１シールリングによって閉塞されると共に、ガス通路
孔のバルブピン外周面側の端部が定量室内に開口して定
量室内の一定量のガスがガス通路孔を通してガス容器外
部に噴射される。また、ガス容器内にガスを注入する場
合には、バルブピンをガス注入装置に接続し、その状態
でバルブピンを第２段押し込み位置まで押し込み操作す
る。すると、ガス通路孔のバルブピン外周面側の端部が
定量室内に開口すると共に、定量室がバルブピンの第２
バイパス部を通してガス容器内と連通し、このときにガ
スがガス注入装置から定量室と第２バイパス部を通して
ガス容器内に注入される。
あるときには、ガス通路孔のバルブピン外周面側の端部
が第２シールリングの上方に位置されているために、ガ
ス通路は定量室と非連通となっており、また、定量室は
バルブピンの第１バイパス部を通してガス容器内と連通
している。この状態からバルブピンを第１段押し込み位
置まで押し込み操作すると、ガス容器内と定量室の間が
第１シールリングによって閉塞されると共に、ガス通路
孔のバルブピン外周面側の端部が定量室内に開口して定
量室内の一定量のガスがガス通路孔を通してガス容器外
部に噴射される。また、ガス容器内にガスを注入する場
合には、バルブピンをガス注入装置に接続し、その状態
でバルブピンを第２段押し込み位置まで押し込み操作す
る。すると、ガス通路孔のバルブピン外周面側の端部が
定量室内に開口すると共に、定量室がバルブピンの第２
バイパス部を通してガス容器内と連通し、このときにガ
スがガス注入装置から定量室と第２バイパス部を通して
ガス容器内に注入される。
【００１２】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、第１，第２バイパス部を、バルブピンの外周面の一
部に形成した切欠き溝によって構成するようにした。
て、第１，第２バイパス部を、バルブピンの外周面の一
部に形成した切欠き溝によって構成するようにした。
【００１３】請求項３の発明は、請求項１の発明におい
て、第１，第２バイパス部を、バルブピンの外周面の軸
方向に離間した位置を連通するバイパス孔によって構成
するようにした。
て、第１，第２バイパス部を、バルブピンの外周面の軸
方向に離間した位置を連通するバイパス孔によって構成
するようにした。
【００１４】請求項４の発明は、請求項１〜３のいずれ
かの発明において、バルブピンの先端部に嵌着されるノ
ズルボタンに、バルブピンの押し込み操作量を第１段押
し込み量に規制するストッパ面を設けるようにした。こ
の場合、ストッパ面によって変位を規制されるまでノズ
ルボタンを押し込むことにより、ガス容器内のガスを一
定量だけ噴射することができる。
かの発明において、バルブピンの先端部に嵌着されるノ
ズルボタンに、バルブピンの押し込み操作量を第１段押
し込み量に規制するストッパ面を設けるようにした。こ
の場合、ストッパ面によって変位を規制されるまでノズ
ルボタンを押し込むことにより、ガス容器内のガスを一
定量だけ噴射することができる。
【００１５】請求項５の発明は、請求項１〜４のいずれ
かの発明のガス噴射弁を通してガス容器内にガスを注入
する際にバルブピンの先端部に嵌着される注入治具に対
し、バルブピンの押し込み操作量を第２段押し込み量に
規制するストッパ面を設けるようにした。この場合、ス
トッパ面で変位を規制されるまで注入治具を押し付ける
ことにより、ガス容器内にガスを注入することができ
る。
かの発明のガス噴射弁を通してガス容器内にガスを注入
する際にバルブピンの先端部に嵌着される注入治具に対
し、バルブピンの押し込み操作量を第２段押し込み量に
規制するストッパ面を設けるようにした。この場合、ス
トッパ面で変位を規制されるまで注入治具を押し付ける
ことにより、ガス容器内にガスを注入することができ
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例を図１〜図
９に基づいて説明する。
９に基づいて説明する。
【００１７】まず、第１実施例を図１〜図３によって説
明する。
明する。
【００１８】図１〜図３は、本発明にかかるガス噴射弁
１０を用いた噴射装置を示し、この噴射装置は、液化炭
酸ガス等の高圧ガスと薬剤等の内容物を注入充填したガ
ス容器１１の口部１１ａにガス噴射弁１０が密閉状態で
取り付けられている。
１０を用いた噴射装置を示し、この噴射装置は、液化炭
酸ガス等の高圧ガスと薬剤等の内容物を注入充填したガ
ス容器１１の口部１１ａにガス噴射弁１０が密閉状態で
取り付けられている。
【００１９】ガス噴射弁１０は、ガス容器１１の口部１
１ａにかしめ固定されるバルブケース１２と、このバル
ブケース１２に摺動自在に保持されるバルブピン１３を
備え、バルブケース１２から上方に突出したバルブピン
１３の先端部にノズル機能と押しボタン機能を併せ持っ
たノズルボタン１４が嵌着固定されている。
１ａにかしめ固定されるバルブケース１２と、このバル
ブケース１２に摺動自在に保持されるバルブピン１３を
備え、バルブケース１２から上方に突出したバルブピン
１３の先端部にノズル機能と押しボタン機能を併せ持っ
たノズルボタン１４が嵌着固定されている。
【００２０】バルブケース１２は、その中心部にバルブ
ピン１３が嵌入されるガイド孔１５が軸方向に沿って形
成されており、このガイド孔１５内のガス容器１１の内
側寄り位置と外側寄り位置とに夫々環状溝１６，１７が
形成され、この各環状溝１６，１７に弾性体から成る第
１シールリング１８と第２シールリング１９が夫々嵌合
保持されている。また、ガイド孔１５の略中央部には環
状凹部２０が設けられており、この環状凹部２０を含む
前記両シールリング１８，１９間に位置される空間部
が、噴射前のガスを一定量捕獲するための定量室２１と
されている。
ピン１３が嵌入されるガイド孔１５が軸方向に沿って形
成されており、このガイド孔１５内のガス容器１１の内
側寄り位置と外側寄り位置とに夫々環状溝１６，１７が
形成され、この各環状溝１６，１７に弾性体から成る第
１シールリング１８と第２シールリング１９が夫々嵌合
保持されている。また、ガイド孔１５の略中央部には環
状凹部２０が設けられており、この環状凹部２０を含む
前記両シールリング１８，１９間に位置される空間部
が、噴射前のガスを一定量捕獲するための定量室２１と
されている。
【００２１】一方、バルブピン１３は、バルブケース１
２から上方に突出する先端部側に、先端面とその先端面
から軸方向に所定距離離間したバルブピン１３の外周面
とを連通するガス通路孔２２が形成されている。このガ
ス通路孔２２は、具体的には、バルブピン１３の先端面
から軸方向に沿って形成された軸穴２２ａと、この軸穴
２２ａの底部とバルブピン１３の外周面を連通するよう
に径方向に沿って形成されたオリフィス孔２２ｂとによ
って構成されている。軸穴２２ａは比較的大径に形成さ
れ、オリフィス孔２２ｂはこの軸穴２２ａの径よりも小
さい所定径に形成されている。このオリフィス孔２２ｂ
はガス噴射弁１０の単位時間当たりのガス噴射量を決定
する部分で、必要とする単位時間当たりのガス噴射量に
応じてその径が適宜設定されている。そして、オリフィ
ス孔２２ｂは、バルブピン１３が上昇位置にあるときに
第２シールリング１９よりも上方に開口し、かつ、バル
ブピン１３の後述する第１段押し込み時と第２段押し込
み時に第２シールリング１９よりも下方の定量室２１内
に開口するようにバルブピン１３の設定軸方向位置に形
成されている。
２から上方に突出する先端部側に、先端面とその先端面
から軸方向に所定距離離間したバルブピン１３の外周面
とを連通するガス通路孔２２が形成されている。このガ
ス通路孔２２は、具体的には、バルブピン１３の先端面
から軸方向に沿って形成された軸穴２２ａと、この軸穴
２２ａの底部とバルブピン１３の外周面を連通するよう
に径方向に沿って形成されたオリフィス孔２２ｂとによ
って構成されている。軸穴２２ａは比較的大径に形成さ
れ、オリフィス孔２２ｂはこの軸穴２２ａの径よりも小
さい所定径に形成されている。このオリフィス孔２２ｂ
はガス噴射弁１０の単位時間当たりのガス噴射量を決定
する部分で、必要とする単位時間当たりのガス噴射量に
応じてその径が適宜設定されている。そして、オリフィ
ス孔２２ｂは、バルブピン１３が上昇位置にあるときに
第２シールリング１９よりも上方に開口し、かつ、バル
ブピン１３の後述する第１段押し込み時と第２段押し込
み時に第２シールリング１９よりも下方の定量室２１内
に開口するようにバルブピン１３の設定軸方向位置に形
成されている。
【００２２】また、ガス容器１１内側に位置されるバル
ブピン１３の基端部には、バルブケース１２の下面に当
接するストッパフランジ２３が一体に形成され、このス
トッパフランジ２３によってバルブピン１３の上方変位
を規制するようになっている。尚、ストッパフランジ２
３の上面には切欠き溝２４が形成されており、ストッパ
フランジ２３がバルブケース１２の下端に当接した状態
でもガス容器１１内とガイド孔１５がこの切欠き溝２４
によって導通するようになっている。また、バルブピン
１３はストッパフランジ２３の下面部分でガス容器１１
内のガス圧を受け、そのガス圧によって常時上方に付勢
されるようになっている。
ブピン１３の基端部には、バルブケース１２の下面に当
接するストッパフランジ２３が一体に形成され、このス
トッパフランジ２３によってバルブピン１３の上方変位
を規制するようになっている。尚、ストッパフランジ２
３の上面には切欠き溝２４が形成されており、ストッパ
フランジ２３がバルブケース１２の下端に当接した状態
でもガス容器１１内とガイド孔１５がこの切欠き溝２４
によって導通するようになっている。また、バルブピン
１３はストッパフランジ２３の下面部分でガス容器１１
内のガス圧を受け、そのガス圧によって常時上方に付勢
されるようになっている。
【００２３】さらに、バルブピン１３の外周面のうち
の、ストッパフランジ２３から上方に所定距離離間した
位置には、第１バイパス部としての環状のＶ溝２５が形
成され、このＶ溝２５からさらに上方に所定距離離間し
た位置には、第２バイパス部としての同様の環状のＶ溝
２６が形成されている。これらのＶ溝２５，２６の幅
（軸方向幅）は共に第１シールリング１８のシール幅よ
りも大きく設定されており、下方のＶ溝２５は、バルブ
ピン１３が上昇位置にあるときにだけガス容器１１の内
部と定量室２１を第１シールリング１８の内側で連通
し、上方のＶ溝２６は、バルブピン１３の第２段押し込
み時にだけガス容器１１の内部と定量室２１を第１シー
ルリング１８の内側で連通するようになっている。
の、ストッパフランジ２３から上方に所定距離離間した
位置には、第１バイパス部としての環状のＶ溝２５が形
成され、このＶ溝２５からさらに上方に所定距離離間し
た位置には、第２バイパス部としての同様の環状のＶ溝
２６が形成されている。これらのＶ溝２５，２６の幅
（軸方向幅）は共に第１シールリング１８のシール幅よ
りも大きく設定されており、下方のＶ溝２５は、バルブ
ピン１３が上昇位置にあるときにだけガス容器１１の内
部と定量室２１を第１シールリング１８の内側で連通
し、上方のＶ溝２６は、バルブピン１３の第２段押し込
み時にだけガス容器１１の内部と定量室２１を第１シー
ルリング１８の内側で連通するようになっている。
【００２４】ここで、バルブピン１３の第１段押し込み
とは、ノズルボタン１４の押し込み操作によってガスを
噴射する場合の比較的浅いバルブピン１３の押し込みの
ことを言い、第１段押し込み量は、ノズルボタン１４の
下面に設けられたストッパ面２７がバルブケース１２の
上面１２ａに当接することによって規制されるようにな
っている。また、バルブピン１３の第２段押し込みと
は、バルブピン１３の先端部からガス容器１１の内部に
ガスを注入する場合の比較的深いバルブピン１３の押し
込みのことを言い、第２段押し込み量は、図３に示すよ
うに、バルブピン１３の先端部にノズルボタン１４に代
えて嵌着固定するガス注入装置の注入治具２８によって
規制されるようになっている。即ち、注入治具２８はバ
ルブピン１３の外周面に密接嵌合されるシールリング４
０が内装されると共に、下端面がストッパ面２９とされ
ており、注入治具２８をバルブピン１３の先端部に嵌着
した状態でバルブピン１３を第２段押し込み位置まで押
し込んだときに、ストッパ面２９がバルブケース１２の
上面１２ａに当接してバルブピン１３のそれ以上の押し
込みを規制するようになっている。
とは、ノズルボタン１４の押し込み操作によってガスを
噴射する場合の比較的浅いバルブピン１３の押し込みの
ことを言い、第１段押し込み量は、ノズルボタン１４の
下面に設けられたストッパ面２７がバルブケース１２の
上面１２ａに当接することによって規制されるようにな
っている。また、バルブピン１３の第２段押し込みと
は、バルブピン１３の先端部からガス容器１１の内部に
ガスを注入する場合の比較的深いバルブピン１３の押し
込みのことを言い、第２段押し込み量は、図３に示すよ
うに、バルブピン１３の先端部にノズルボタン１４に代
えて嵌着固定するガス注入装置の注入治具２８によって
規制されるようになっている。即ち、注入治具２８はバ
ルブピン１３の外周面に密接嵌合されるシールリング４
０が内装されると共に、下端面がストッパ面２９とされ
ており、注入治具２８をバルブピン１３の先端部に嵌着
した状態でバルブピン１３を第２段押し込み位置まで押
し込んだときに、ストッパ面２９がバルブケース１２の
上面１２ａに当接してバルブピン１３のそれ以上の押し
込みを規制するようになっている。
【００２５】このガス噴射弁１０は以上のような構成で
あるため、ノズルボタン１４が押し込み操作されない定
常状態においては、バルブピン１３がガス容器１１内の
ガス圧を受けて図１に示すような上昇位置にあり、バル
ブピン１３のオリフィス孔２２ｂが第２シールリング１
９の上方に位置され、ガス通路２２が定量室２１と非連
通となっている。また、このときバルブピン１３の下方
のＶ溝２５が第１シールリング１８部分に位置されてい
るため、定量室２１はこのＶ溝２５とストッパフランジ
２３の切欠き溝２４を介してガス容器１１の内部と連通
している。
あるため、ノズルボタン１４が押し込み操作されない定
常状態においては、バルブピン１３がガス容器１１内の
ガス圧を受けて図１に示すような上昇位置にあり、バル
ブピン１３のオリフィス孔２２ｂが第２シールリング１
９の上方に位置され、ガス通路２２が定量室２１と非連
通となっている。また、このときバルブピン１３の下方
のＶ溝２５が第１シールリング１８部分に位置されてい
るため、定量室２１はこのＶ溝２５とストッパフランジ
２３の切欠き溝２４を介してガス容器１１の内部と連通
している。
【００２６】この状態からノズルボタン１４が押し込み
操作されると、図２に示すように、バルブピン１３の下
方のＶ溝２５が第１シールリング１８の下方に変位して
ガス容器１１内と定量室２１の間が第１シールリング１
８によって閉塞され、つづいて、バルブピン１３のオリ
フィス孔２２ｂが第２シールリング１９の下方の定量室
２１内に開口して、定量室２１内の一定量のガスと内容
物がバルブピン１３のガス通路孔２２を通してガス容器
１１の外部に噴射される。そして、このときのバルブピ
ン１３の下方変位量はノズルボタン１４のストッパ面２
７がバルブケース１２の上面１２ａに当接することによ
り第１段押し込み量に規制される。
操作されると、図２に示すように、バルブピン１３の下
方のＶ溝２５が第１シールリング１８の下方に変位して
ガス容器１１内と定量室２１の間が第１シールリング１
８によって閉塞され、つづいて、バルブピン１３のオリ
フィス孔２２ｂが第２シールリング１９の下方の定量室
２１内に開口して、定量室２１内の一定量のガスと内容
物がバルブピン１３のガス通路孔２２を通してガス容器
１１の外部に噴射される。そして、このときのバルブピ
ン１３の下方変位量はノズルボタン１４のストッパ面２
７がバルブケース１２の上面１２ａに当接することによ
り第１段押し込み量に規制される。
【００２７】また、このような使用によってガス容器１
１内のガスと内容物が空になった場合には、バルブピン
１３の先端部のノズルボタン１４を取り去り、そのノズ
ルボタン１４に代えてバルブピン１３の先端部にガス注
入装置の注入治具２８を嵌着固定する。そして、この状
態で図３に示すように注入治具２８をストッパ面２９が
バルブケース１２の上面１２ａに当接するまで押し込
み、その状態のままガス注入装置から高圧ガスと内容物
を供給する。バルブピン１３は、この注入治具２８の押
し込み操作によって第２段押し込み位置まで下方に変位
するため、このときオリフィス孔２２ｂが第２シールリ
ング１９よりも下方の定量室２１内に開口すると共に、
上方のＶ溝２６が第１シールリング１８部分に位置され
るようになる。したがって、このときバルブピン１３の
ガス通路孔２２が定量室２１とＶ溝２６を介してガス容
器１１内と連通し、ガス注入装置から供給されたガスと
内容物がガス容器１１内に注入充填される。
１内のガスと内容物が空になった場合には、バルブピン
１３の先端部のノズルボタン１４を取り去り、そのノズ
ルボタン１４に代えてバルブピン１３の先端部にガス注
入装置の注入治具２８を嵌着固定する。そして、この状
態で図３に示すように注入治具２８をストッパ面２９が
バルブケース１２の上面１２ａに当接するまで押し込
み、その状態のままガス注入装置から高圧ガスと内容物
を供給する。バルブピン１３は、この注入治具２８の押
し込み操作によって第２段押し込み位置まで下方に変位
するため、このときオリフィス孔２２ｂが第２シールリ
ング１９よりも下方の定量室２１内に開口すると共に、
上方のＶ溝２６が第１シールリング１８部分に位置され
るようになる。したがって、このときバルブピン１３の
ガス通路孔２２が定量室２１とＶ溝２６を介してガス容
器１１内と連通し、ガス注入装置から供給されたガスと
内容物がガス容器１１内に注入充填される。
【００２８】そして、このようにしてガス容器１１内へ
のガスと内容物の注入を終えて注入治具２８の押し込み
を解除すると、バルブピン１３がガス容器１１内のガス
圧を受けて上昇位置に復帰し、オリフィス孔２２ｂが第
２シールリング１９の上方に位置されてガス通路孔２２
と定量室２１が非連通となる。この後、バルブピン１３
の先端部から注入治具２８を外し、バルブピン１３の先
端部に再度ノズルボタン１４を嵌着固定することによ
り、ガスと内容物の詰め替えを完了する。
のガスと内容物の注入を終えて注入治具２８の押し込み
を解除すると、バルブピン１３がガス容器１１内のガス
圧を受けて上昇位置に復帰し、オリフィス孔２２ｂが第
２シールリング１９の上方に位置されてガス通路孔２２
と定量室２１が非連通となる。この後、バルブピン１３
の先端部から注入治具２８を外し、バルブピン１３の先
端部に再度ノズルボタン１４を嵌着固定することによ
り、ガスと内容物の詰め替えを完了する。
【００２９】このように本発明にかかるガス噴射弁１０
においては、極めて簡単な構造でありながら、ガスと内
容物を容易にガス容器１１内に再注入してガス容器１１
とガス噴射弁１０をそのままリサイクル使用することが
できるため、製造コストの大幅な増加を招くことなく、
地球資源の有効を図ることができる。
においては、極めて簡単な構造でありながら、ガスと内
容物を容易にガス容器１１内に再注入してガス容器１１
とガス噴射弁１０をそのままリサイクル使用することが
できるため、製造コストの大幅な増加を招くことなく、
地球資源の有効を図ることができる。
【００３０】つづいて、本発明の第２〜第５実施例を図
４〜図９によって説明する。これらの実施例はすべて基
本的な構成は図１〜図３に示した第１実施例のものと同
様であるが、バルブピン１３に形成する第１バイパス部
と第２バイパス部の構成だけが異なっている。以下、第
１実施例のものと同一部分に同一符号を付し、重複する
部分の説明は省略するものとする。
４〜図９によって説明する。これらの実施例はすべて基
本的な構成は図１〜図３に示した第１実施例のものと同
様であるが、バルブピン１３に形成する第１バイパス部
と第２バイパス部の構成だけが異なっている。以下、第
１実施例のものと同一部分に同一符号を付し、重複する
部分の説明は省略するものとする。
【００３１】図４，図５は第２実施例を示すものであ
り、この実施例の第１，第２バイパス部は、バルブピン
１３の所定位置の外周面にバルブピン１３の軸と直交す
る方向に沿って形成した円弧状の切欠き溝３０，３１に
よって構成されている。
り、この実施例の第１，第２バイパス部は、バルブピン
１３の所定位置の外周面にバルブピン１３の軸と直交す
る方向に沿って形成した円弧状の切欠き溝３０，３１に
よって構成されている。
【００３２】また、図６，図７は第３実施例を示すもの
であり、この実施例の第１，第２バイパス部は、バルブ
ピン１３の所定位置の外周面に形成した半円キー溝状の
切欠き溝３２，３３によって構成されている。
であり、この実施例の第１，第２バイパス部は、バルブ
ピン１３の所定位置の外周面に形成した半円キー溝状の
切欠き溝３２，３３によって構成されている。
【００３３】このいずれの実施例のガス噴射弁において
も、バルブピン１３の外周面の一部に切欠き溝３０，３
１または３２，３３を形成することで第１，第２バイパ
ス部を構成するようにしているため、バルブピン１３の
外周面全周域にわたってＶ溝を形成する第１実施例のも
のに比較して加工が容易になり、その分低コストでの製
造が可能になるという利点がある。
も、バルブピン１３の外周面の一部に切欠き溝３０，３
１または３２，３３を形成することで第１，第２バイパ
ス部を構成するようにしているため、バルブピン１３の
外周面全周域にわたってＶ溝を形成する第１実施例のも
のに比較して加工が容易になり、その分低コストでの製
造が可能になるという利点がある。
【００３４】さらに、図８は第４実施例を示するもので
あり、この実施例の第１，第２バイパス部はバルブピン
１３の外周面の軸方向に離間した２点を連通するように
Ｖ字状に形成したバイパス孔３４，３５によって構成さ
れている。
あり、この実施例の第１，第２バイパス部はバルブピン
１３の外周面の軸方向に離間した２点を連通するように
Ｖ字状に形成したバイパス孔３４，３５によって構成さ
れている。
【００３５】また、図９は第５実施例を示すものであ
り、この実施例の第１，第２バイパス部はバルブピン１
３の外周面の軸方向に離間した２点を連通するようにバ
ルブピン１３の軸線に対して斜めに形成したバイパス孔
３６，３７によって構成されている。
り、この実施例の第１，第２バイパス部はバルブピン１
３の外周面の軸方向に離間した２点を連通するようにバ
ルブピン１３の軸線に対して斜めに形成したバイパス孔
３６，３７によって構成されている。
【００３６】この第４，第５実施例のガス噴射弁は、い
ずれもバルブピン１３の外周面の欠損量を小さくするこ
とのできるバイパス孔３４，３５または３６，３７によ
って第１，第２バイパス部を構成しているため、バルブ
ピン１３の変位に伴う第１，第２バイパス部部分での第
１シールリング１８のこじり等が少なくなり、経時使用
によっても第１シールリング１８が劣化しにくくなり、
第１シールリング１８の耐久性が向上するという利点が
ある。
ずれもバルブピン１３の外周面の欠損量を小さくするこ
とのできるバイパス孔３４，３５または３６，３７によ
って第１，第２バイパス部を構成しているため、バルブ
ピン１３の変位に伴う第１，第２バイパス部部分での第
１シールリング１８のこじり等が少なくなり、経時使用
によっても第１シールリング１８が劣化しにくくなり、
第１シールリング１８の耐久性が向上するという利点が
ある。
【００３７】
【発明の効果】以上のように、請求項１の発明は、バル
ブピンに、そのガス容器外側の先端部とその先端部から
軸方向に所定距離離間した外周面とを連通するガス通路
孔を形成して、このガス通路孔のバルブピン外周面側の
端部を、バルブピンが上昇位置にあるときに第２シール
リングよりも上方に開口し、かつバルブピンの第１段押
し込み時と第２段押し込み時に第２シールリングよりも
下方の定量室内に開口するように配置し、さらに前記バ
ルブピンに、バルブピンが上昇位置にあるときにだけ第
１シールリングの内側でガス容器内と定量室を連通する
第１バイパス部と、バルブピンの第２段押し込み時にだ
け第１シールリングの内側でガス容器内と定量室を連通
する第２バイパス部を形成するようにしたため、バルブ
ピンの第１段押し込み操作によって定量室で一定量捕獲
したガスをバルブピンのガス通路孔を通してガス容器外
部に噴射することができると共に、バルブピンの先端部
にガス注入装置を接続した状態でバルブピンを第２段押
し込み位置まで押し込み操作することによってガス通路
孔を定量室と第２バイパス部を通してガス容器内と連通
させてガス容器内にガスを確実に注入することができ
る。したがって、この発明によれば、極めて簡単な構造
でありながら、一度使用した噴射装置のガス容器内にガ
ス噴射弁を通してガスを再注入してガス容器やガス噴射
弁をそのままリサイクル使用することができ、大幅な製
造コストの増大を招くことなく、地球資源の有効活用を
図ることが可能である。
ブピンに、そのガス容器外側の先端部とその先端部から
軸方向に所定距離離間した外周面とを連通するガス通路
孔を形成して、このガス通路孔のバルブピン外周面側の
端部を、バルブピンが上昇位置にあるときに第２シール
リングよりも上方に開口し、かつバルブピンの第１段押
し込み時と第２段押し込み時に第２シールリングよりも
下方の定量室内に開口するように配置し、さらに前記バ
ルブピンに、バルブピンが上昇位置にあるときにだけ第
１シールリングの内側でガス容器内と定量室を連通する
第１バイパス部と、バルブピンの第２段押し込み時にだ
け第１シールリングの内側でガス容器内と定量室を連通
する第２バイパス部を形成するようにしたため、バルブ
ピンの第１段押し込み操作によって定量室で一定量捕獲
したガスをバルブピンのガス通路孔を通してガス容器外
部に噴射することができると共に、バルブピンの先端部
にガス注入装置を接続した状態でバルブピンを第２段押
し込み位置まで押し込み操作することによってガス通路
孔を定量室と第２バイパス部を通してガス容器内と連通
させてガス容器内にガスを確実に注入することができ
る。したがって、この発明によれば、極めて簡単な構造
でありながら、一度使用した噴射装置のガス容器内にガ
ス噴射弁を通してガスを再注入してガス容器やガス噴射
弁をそのままリサイクル使用することができ、大幅な製
造コストの増大を招くことなく、地球資源の有効活用を
図ることが可能である。
【００３８】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、第１，第２バイパス部を、バルブピンの外周面の一
部に形成した切欠き溝によって構成するようにしたた
め、第１，第２バイパス部の加工を容易に行うことがで
き、製造コストのより一層の削減を図ることが可能であ
る。
て、第１，第２バイパス部を、バルブピンの外周面の一
部に形成した切欠き溝によって構成するようにしたた
め、第１，第２バイパス部の加工を容易に行うことがで
き、製造コストのより一層の削減を図ることが可能であ
る。
【００３９】請求項３の発明は、請求項１の発明におい
て、第１，第２バイパス部を、バルブピンの外周面の軸
方向に離間した位置を連通するバイパス孔によって構成
するようにしたため、バルブピンの進退操作に伴う第
１，第２バイパス部による第１シールリングのこじりが
少なくなり、その結果、第１シールリングの耐久性を向
上させることが可能になる。
て、第１，第２バイパス部を、バルブピンの外周面の軸
方向に離間した位置を連通するバイパス孔によって構成
するようにしたため、バルブピンの進退操作に伴う第
１，第２バイパス部による第１シールリングのこじりが
少なくなり、その結果、第１シールリングの耐久性を向
上させることが可能になる。
【００４０】請求項４の発明は、請求項１〜３のいずれ
かの発明において、バルブピンの先端部に嵌着されるノ
ズルボタンに、バルブピンの押し込み操作量を第１段押
し込み量に規制するストッパ面を設けるようにしたた
め、通常使用時には、ストッパ面による規制があるまで
ノズルボタンを押し込むだけでガス容器内のガスを一定
量だけ確実に噴射することができる。
かの発明において、バルブピンの先端部に嵌着されるノ
ズルボタンに、バルブピンの押し込み操作量を第１段押
し込み量に規制するストッパ面を設けるようにしたた
め、通常使用時には、ストッパ面による規制があるまで
ノズルボタンを押し込むだけでガス容器内のガスを一定
量だけ確実に噴射することができる。
【００４１】請求項５の発明は、請求項１〜４のいずれ
かの発明のガス噴射弁を通してガス容器内にガスを注入
する際にバルブピンの先端部に嵌着される注入治具に対
し、バルブピンの押し込み操作量を第２段押し込み量に
規制するストッパ面を設けるようにしたため、ガス容器
内にガスを注入する場合には、バルブピンの先端部に注
入治具を嵌合してストッパ面による規制があるまで注入
治具を押し込み操作するだけで、ガス容器内にガスを確
実に注入することができる。
かの発明のガス噴射弁を通してガス容器内にガスを注入
する際にバルブピンの先端部に嵌着される注入治具に対
し、バルブピンの押し込み操作量を第２段押し込み量に
規制するストッパ面を設けるようにしたため、ガス容器
内にガスを注入する場合には、バルブピンの先端部に注
入治具を嵌合してストッパ面による規制があるまで注入
治具を押し込み操作するだけで、ガス容器内にガスを確
実に注入することができる。
【図１】本発明の第１実施例を示す断面図。
【図２】同実施例を示す断面図。
【図３】同実施例を示す断面図。
【図４】本発明の第２実施例を示す断面図。
【図５】同実施例を示す図４のＡ矢視側面図。
【図６】本発明の第３実施例を示す断面図。
【図７】同実施例を示す図６のＢ矢視側面図。
【図８】本発明の第４実施例を示す断面図。
【図９】本発明の第５実施例を示す断面図。
【図１０】従来の技術を示す断面図。
１０…ガス噴射弁、 １１…ガス容器、 １２…バルブケース、 １３…バルブピン、 １４…ノズルボタン、 １８…第１シールリング、 １９…第２シールリング、 ２１…定量室、 ２２…ガス通路孔、 ２５…Ｖ溝（第１バイパス部）、 ２６…Ｖ溝（第２バイパス部）、 ２７…ストッパ面、 ２８…注入治具、 ２９…ストッパ面、 ３０，３２…切欠き溝（第１バイパス部）、 ３１，３３…切欠き溝（第２バイパス部）、 ３４，３６…バイパス孔（第１バイパス部）、 ２５，３７…バイパス孔（第１バイパス部）。
Claims (5)
- 【請求項１】 ガス容器の口部に固定設置したバルブケ
ースにバルブピンが進退自在に保持されると共に、この
バルブケース内に、バルブピンの外周面にガス容器の内
側寄り位置で密接する第１シールリングとガス容器の外
側寄り位置で密接する第２シールリングが配置され、前
記バルブケース内の第１シールリングと第２シールリン
グに挟まれた位置に、噴射前のガスを一定量捕獲するた
め定量室が形成されたガス噴射弁において、 前記バルブピンに、そのガス容器外側の先端部とその先
端部から軸方向に所定距離離間した外周面とを連通する
ガス通路孔を形成して、このガス通路孔のバルブピン外
周面側の端部を、バルブピンが上昇位置にあるときに第
２シールリングよりも上方に開口し、かつバルブピンの
第１段押し込み時と第２段押し込み時に第２シールリン
グよりも下方の定量室内に開口するように配置し、さら
に前記バルブピンに、バルブピンが上昇位置にあるとき
にだけ第１シールリングの内側でガス容器内と定量室を
連通する第１バイパス部と、バルブピンの第２段押し込
み時にだけ第１シールリングの内側でガス容器内と定量
室を連通する第２バイパス部を形成したことを特徴とす
るガス噴射弁。 - 【請求項２】 第１，第２バイパス部を、バルブピンの
外周面の一部に形成した切欠き溝によって構成したこと
を特徴とする請求項１に記載のガス噴射弁。 - 【請求項３】 第１，第２バイパス部を、バルブピンの
外周面の軸方向に離間した位置を連通するバイパス孔に
よって構成したことを特徴する請求項１に記載のガス噴
射弁。 - 【請求項４】 バルブピンの先端部に嵌着されるノズル
ボタンに、バルブピンの押し込み操作量を第１段押し込
み量に規制するストッパ面を設けたことを特徴とする請
求項１〜３のいずれかに記載のガス噴射弁。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかに記載のガス噴
射弁を通してガス容器内にガスを注入する際にバルブピ
ンの先端部に嵌着される注入治具であって、バルブピン
の押し込み操作量を第２段押し込み量に規制するストッ
パ面を設けたことを特徴とする注入治具。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10110267A JPH11301759A (ja) | 1998-04-21 | 1998-04-21 | ガス噴射弁及びガス注入に用いられる注入治具 |
| EP99916042A EP0989945B1 (en) | 1998-04-21 | 1999-04-09 | Dispensing valve for an aerosol-type container enabling gaseous fluid recharging |
| US09/403,369 US6202900B1 (en) | 1998-04-21 | 1999-04-09 | Dispensing valve for an aerosol-type container enabling gaseous fluid recharging |
| PCT/JP1999/001884 WO1999054230A1 (en) | 1998-04-21 | 1999-04-09 | Dispensing valve for an aerosol-type container enabling gaseous fluid recharging |
| DE69911532T DE69911532T2 (de) | 1998-04-21 | 1999-04-09 | Zum nachfüllen von gasförmigen fluiden geeignetes ausgabeventil für aerosolbehälter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10110267A JPH11301759A (ja) | 1998-04-21 | 1998-04-21 | ガス噴射弁及びガス注入に用いられる注入治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11301759A true JPH11301759A (ja) | 1999-11-02 |
Family
ID=14531363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10110267A Ceased JPH11301759A (ja) | 1998-04-21 | 1998-04-21 | ガス噴射弁及びガス注入に用いられる注入治具 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6202900B1 (ja) |
| EP (1) | EP0989945B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11301759A (ja) |
| DE (1) | DE69911532T2 (ja) |
| WO (1) | WO1999054230A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002092468A1 (fr) * | 2001-05-10 | 2002-11-21 | Bio Actis Limited | Soupape d'injection de gaz et support d'injection pour injection de gaz |
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