JPH11292568A - 反射防止ガラス板、その製造方法および反射防止膜用被覆組成物 - Google Patents
反射防止ガラス板、その製造方法および反射防止膜用被覆組成物Info
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- JPH11292568A JPH11292568A JP10345273A JP34527398A JPH11292568A JP H11292568 A JPH11292568 A JP H11292568A JP 10345273 A JP10345273 A JP 10345273A JP 34527398 A JP34527398 A JP 34527398A JP H11292568 A JPH11292568 A JP H11292568A
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 123
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 290
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 144
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 69
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 44
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 37
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 24
- -1 chlorosilyl group Chemical group 0.000 claims description 23
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 154
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 16
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 12
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 7
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 6
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 6
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 5
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 4
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 3
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 3
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 235000017168 chlorine Nutrition 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical class Cl* 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001953 sensory effect Effects 0.000 description 2
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000486661 Ceramica Species 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical group OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 238000003854 Surface Print Methods 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032900 absorption of visible light Effects 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N dichlorosilicon Chemical compound Cl[Si]Cl BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate Chemical compound CCC[O-] IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000004439 roughness measurement Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/732—Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/77—Coatings having a rough surface
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高入射角での反射率が小さく、視認性が向上
した自動車窓に適したガラス板を提供する。 【解決手段】 鎖状シリカ微粒子およびその鎖状シリカ
微粒子の重量に対して5〜30重量%のシリカからな
り、110〜250nmの厚みを有する膜がガラス基板
表面の少なくとも一方に被覆されており、その膜表面に
凹凸が形成されている、可視光反射防止ガラス板であ
る。
した自動車窓に適したガラス板を提供する。 【解決手段】 鎖状シリカ微粒子およびその鎖状シリカ
微粒子の重量に対して5〜30重量%のシリカからな
り、110〜250nmの厚みを有する膜がガラス基板
表面の少なくとも一方に被覆されており、その膜表面に
凹凸が形成されている、可視光反射防止ガラス板であ
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は反射防止ガラス板、
特に可視光反射率が小さく、自動車窓に適したガラス
板、およびそれを製造する方法ならびに反射防止膜用被
覆組成物に関する。
特に可視光反射率が小さく、自動車窓に適したガラス
板、およびそれを製造する方法ならびに反射防止膜用被
覆組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ガラス板その他のガラス物品の表
面で可視光が反射して、透視性および光透過率が低下し
たり、眩しくなることを防止するために、ガラス物品の
表面に反射防止処理を施すことが行われている。
面で可視光が反射して、透視性および光透過率が低下し
たり、眩しくなることを防止するために、ガラス物品の
表面に反射防止処理を施すことが行われている。
【0003】例えば5〜30nmの粒子径を有するシリ
カゾルと、アルコキシシランの加水分解物を溶媒に含有
させた塗布液を基材に塗布、硬化した低屈折率反射防止
膜が知られている(特開平8−122501号)。
カゾルと、アルコキシシランの加水分解物を溶媒に含有
させた塗布液を基材に塗布、硬化した低屈折率反射防止
膜が知られている(特開平8−122501号)。
【0004】自動車のフロントウィンドウガラスにおい
て、車内のインパネ(インストルメントパネル)、ダッ
シュボード等からの光がフロントウィンドウガラスの表
面で反射して、インパネ、ダッシュボードの反射像が運
転者の視界に入るために、運転者の前方の視認性が低下
する問題がある。インパネ、ダッシュボードから発し
て、フロントウィンドウガラスに対してかなり大きな入
射角で入射し反射した光が運転者の目に入るため、この
視認性を向上するためには、高入射角(例えば60度)
でのフロントウィンドウガラスの反射率を低減する必要
がある。そして上記低屈折率反射防止膜では高入射角で
の反射率の低減には十分でなく、視認性が十分に高いと
は言えない。
て、車内のインパネ(インストルメントパネル)、ダッ
シュボード等からの光がフロントウィンドウガラスの表
面で反射して、インパネ、ダッシュボードの反射像が運
転者の視界に入るために、運転者の前方の視認性が低下
する問題がある。インパネ、ダッシュボードから発し
て、フロントウィンドウガラスに対してかなり大きな入
射角で入射し反射した光が運転者の目に入るため、この
視認性を向上するためには、高入射角(例えば60度)
でのフロントウィンドウガラスの反射率を低減する必要
がある。そして上記低屈折率反射防止膜では高入射角で
の反射率の低減には十分でなく、視認性が十分に高いと
は言えない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は高入射角での
可視光の反射率が小さく、視認性が向上した、自動車窓
に適したガラス板を提供することを目的とする。
可視光の反射率が小さく、視認性が向上した、自動車窓
に適したガラス板を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、鎖状シリカ微
粒子およびその鎖状シリカ微粒子の重量に対して5〜3
0重量%のシリカからなり、110〜250nmの厚み
を有する膜がガラス基板表面の少なくとも一方に被覆さ
れており、その膜表面に凹凸が形成されている、可視光
反射防止ガラス板である。
粒子およびその鎖状シリカ微粒子の重量に対して5〜3
0重量%のシリカからなり、110〜250nmの厚み
を有する膜がガラス基板表面の少なくとも一方に被覆さ
れており、その膜表面に凹凸が形成されている、可視光
反射防止ガラス板である。
【0007】また本発明は、鎖状シリカ微粒子およびシ
リカからなり、110〜250nmの厚みを有する膜が
ガラス基板表面の少なくとも一方に被覆されており、膜
内で互いに隣接する鎖状シリカ微粒子の間に空隙が生じ
ていてその膜が1.25〜1.40の屈折率を有してお
り、その膜表面に凹凸が形成されている、高入射角での
反射率が小さい可視光反射防止ガラス板である。
リカからなり、110〜250nmの厚みを有する膜が
ガラス基板表面の少なくとも一方に被覆されており、膜
内で互いに隣接する鎖状シリカ微粒子の間に空隙が生じ
ていてその膜が1.25〜1.40の屈折率を有してお
り、その膜表面に凹凸が形成されている、高入射角での
反射率が小さい可視光反射防止ガラス板である。
【0008】本発明において、ガラス基板の表面に鎖状
シリカ微粒子およびシリカからなる反射防止用の膜が被
覆されており、その膜の表面には、そこに突出して存在
する鎖状シリカ微粒子の表面形状による凹凸が形成され
ている。
シリカ微粒子およびシリカからなる反射防止用の膜が被
覆されており、その膜の表面には、そこに突出して存在
する鎖状シリカ微粒子の表面形状による凹凸が形成され
ている。
【0009】上記膜は鎖状シリカ微粒子およびそれより
も少量の、好ましくは鎖状シリカ微粒子の重量に対して
5〜30重量%の、微粒子形状をもたないシリカからな
り、シリカはバインダーとして鎖状シリカ微粒子同士の
接着およびシリカ微粒子とガラス基板表面との接着に役
立っている。
も少量の、好ましくは鎖状シリカ微粒子の重量に対して
5〜30重量%の、微粒子形状をもたないシリカからな
り、シリカはバインダーとして鎖状シリカ微粒子同士の
接着およびシリカ微粒子とガラス基板表面との接着に役
立っている。
【0010】上記鎖状シリカ微粒子としては、直線状に
まっすぐに伸びた形状のものでもよいが、二次元的に、
より好ましくは三次元的に湾曲した形状のものが最も好
ましく用いられる。鎖状形状のシリカ微粒子を用いるこ
とにより、膜中で、隣接する鎖状微粒子同士の間には、
5〜20nm幅の間隙(間隔)が形成される。この間隙
は、もし鎖状シリカ微粒子の代わりに同重量の球状シリ
カ微粒子を用いたとしたときに形成される間隙に比し
て、はるかに大きな総体積を有する。しかも鎖状微粒子
同士を接着するバインダーとしてのシリカの使用量が少
ないので、上記間隙がシリカバインダーで充填しつくさ
れるされることはなく、間隙の大部分が、空気または気
体が占める空隙(空間)として残存する。その空隙の存
在により、膜全体としての屈折率の値はシリカの屈折率
(約1.45)よりも小さくなって1.25〜1.40
となる。理論的に反射率がゼロとなる反射防止膜の屈折
率の値は、ガラス基板の屈折率(1.50)の平方根
値、すなわち1.225であるが、本発明の反射防止膜
の屈折率をこの値に近づけることができる。
まっすぐに伸びた形状のものでもよいが、二次元的に、
より好ましくは三次元的に湾曲した形状のものが最も好
ましく用いられる。鎖状形状のシリカ微粒子を用いるこ
とにより、膜中で、隣接する鎖状微粒子同士の間には、
5〜20nm幅の間隙(間隔)が形成される。この間隙
は、もし鎖状シリカ微粒子の代わりに同重量の球状シリ
カ微粒子を用いたとしたときに形成される間隙に比し
て、はるかに大きな総体積を有する。しかも鎖状微粒子
同士を接着するバインダーとしてのシリカの使用量が少
ないので、上記間隙がシリカバインダーで充填しつくさ
れるされることはなく、間隙の大部分が、空気または気
体が占める空隙(空間)として残存する。その空隙の存
在により、膜全体としての屈折率の値はシリカの屈折率
(約1.45)よりも小さくなって1.25〜1.40
となる。理論的に反射率がゼロとなる反射防止膜の屈折
率の値は、ガラス基板の屈折率(1.50)の平方根
値、すなわち1.225であるが、本発明の反射防止膜
の屈折率をこの値に近づけることができる。
【0011】膜中の、バインダーとしてのシリカの量が
あまり少なすぎて、例えば鎖状シリカ微粒子の重量に対
して5重量%未満である場合には、鎖状シリカ微粒子の
接着が不十分となり膜の機械的強度が低下する。また逆
にシリカの量があまり多すぎて、例えば鎖状シリカ微粒
子の重量に対して30重量%を超える場合には、鎖状シ
リカ微粒子同士の間の間隙をシリカが埋めつくしてしま
って空隙が残らないので、膜の屈折率を小さくすること
ができなくなり、反射率を低くすることができなくな
る。上記の空隙の体積は、実測した上記膜の屈折率と、
鎖状シリカ微粒子に対してシリカ量を多くして、鎖状シ
リカ微粒子同士の間隙をシリカで埋め尽くした膜の屈折
率(約1.45)との差から計算して、膜全体の体積の
50〜80%であると推定される。
あまり少なすぎて、例えば鎖状シリカ微粒子の重量に対
して5重量%未満である場合には、鎖状シリカ微粒子の
接着が不十分となり膜の機械的強度が低下する。また逆
にシリカの量があまり多すぎて、例えば鎖状シリカ微粒
子の重量に対して30重量%を超える場合には、鎖状シ
リカ微粒子同士の間の間隙をシリカが埋めつくしてしま
って空隙が残らないので、膜の屈折率を小さくすること
ができなくなり、反射率を低くすることができなくな
る。上記の空隙の体積は、実測した上記膜の屈折率と、
鎖状シリカ微粒子に対してシリカ量を多くして、鎖状シ
リカ微粒子同士の間隙をシリカで埋め尽くした膜の屈折
率(約1.45)との差から計算して、膜全体の体積の
50〜80%であると推定される。
【0012】また膜表面には主として鎖状シリカ微粒子
の凸表面による微少の凹凸が形成されているので、反射
光を拡散させて反射像の映り込みを防止し、しかも透視
像の解像度が低下することもない。そして膜中のバイン
ダーとしてのシリカの量があまり多すぎると、鎖状シリ
カ微粒子全体がシリカの下に沈み込んでしまう。そのた
めに、後述する膜表面の算術平均粗さ(Ra)が5nm
未満となり、また膜表面の凹凸の平均間隔(Sm)が3
00nmを超えやすくなって、反射像の映り込みを効果
的に防止することができなくなる。従って、膜の機械的
強度を低下させることなく膜の屈折率を低くし、しかも
膜表面に上記凹凸を形成させるためには、膜内のシリカ
の量は、鎖状シリカ微粒子の重量に対して5〜30重量
%とすることが好ましく、より好ましくは10〜20重
量%である。
の凸表面による微少の凹凸が形成されているので、反射
光を拡散させて反射像の映り込みを防止し、しかも透視
像の解像度が低下することもない。そして膜中のバイン
ダーとしてのシリカの量があまり多すぎると、鎖状シリ
カ微粒子全体がシリカの下に沈み込んでしまう。そのた
めに、後述する膜表面の算術平均粗さ(Ra)が5nm
未満となり、また膜表面の凹凸の平均間隔(Sm)が3
00nmを超えやすくなって、反射像の映り込みを効果
的に防止することができなくなる。従って、膜の機械的
強度を低下させることなく膜の屈折率を低くし、しかも
膜表面に上記凹凸を形成させるためには、膜内のシリカ
の量は、鎖状シリカ微粒子の重量に対して5〜30重量
%とすることが好ましく、より好ましくは10〜20重
量%である。
【0013】上記鎖状シリカ微粒子の大きさは、10〜
20nmの平均直径と60〜200nmの平均長さを有
することが好ましい。ここで平均直径とは、取り出した
100個の試料のそれぞれの直径を電子顕微鏡により測
定し、その測定値にその体積に比例したウェイトをつけ
て平均を求めた値であり、同様に平均長さとは取り出し
た100個の試料のそれぞれの長さ(湾曲している場合
はその曲がりに沿った長さ)を電子顕微鏡により測定
し、その測定値にその体積に比例したウェイトをつけて
平均を求めた値である。
20nmの平均直径と60〜200nmの平均長さを有
することが好ましい。ここで平均直径とは、取り出した
100個の試料のそれぞれの直径を電子顕微鏡により測
定し、その測定値にその体積に比例したウェイトをつけ
て平均を求めた値であり、同様に平均長さとは取り出し
た100個の試料のそれぞれの長さ(湾曲している場合
はその曲がりに沿った長さ)を電子顕微鏡により測定
し、その測定値にその体積に比例したウェイトをつけて
平均を求めた値である。
【0014】鎖状シリカ微粒子の平均直径が10nm未
満または平均長さが60nm未満では、(1)隣接する
微粒子同士の間の間隙の総体積が小さくなり、したがっ
て空隙の総体積が小さくなって、膜としての屈折率の値
を小さくすることができなくなり、また、(2)得られ
る膜表面の算術平均粗さ(Ra)が5nm未満となっ
て、反射像の映り込みを防止するに十分な効果的な凹凸
を形成できなくなるので好ましくない。また平均直径が
20nmを超えたり、平均長さが200nmを超える
と、膜表面の算術平均粗さ(Ra)が50nmより大き
くなり、ヘイズが発生し易くなったり透視像の解像度が
低下しやすくなって、視認性が低下するので好ましくな
い。
満または平均長さが60nm未満では、(1)隣接する
微粒子同士の間の間隙の総体積が小さくなり、したがっ
て空隙の総体積が小さくなって、膜としての屈折率の値
を小さくすることができなくなり、また、(2)得られ
る膜表面の算術平均粗さ(Ra)が5nm未満となっ
て、反射像の映り込みを防止するに十分な効果的な凹凸
を形成できなくなるので好ましくない。また平均直径が
20nmを超えたり、平均長さが200nmを超える
と、膜表面の算術平均粗さ(Ra)が50nmより大き
くなり、ヘイズが発生し易くなったり透視像の解像度が
低下しやすくなって、視認性が低下するので好ましくな
い。
【0015】ここで、算術平均粗さ(Ra)および凹凸
の平均間隔(Sm)は、原子間力顕微鏡(AFM)(セ
イコー電子工業(株)製、走査型プローブ顕微鏡「SP
I3700」、カンチレバー;シリコン製「SI−DF
20」)を用いて、二次元で定義されるJIS B 06
01(1994)を三次元に拡張した方法で測定するこ
とができる。この場合、試料の測定面積は1μm×1μ
mの正方形であり、測定点数 512×256点、スキ
ャン速度1.02Hz、DFM(サイクリックコンタク
トモード)にて表面形状を測定し、ローパスフィルター
による補正と、測定データのレベリング補正(最小二乗
近似によって曲面を求めてフィッティングし、データの
傾きを補正し、更にZ軸方向の歪みを除去する)を行
い、表面粗さRaおよびSm値を算出した。原子間力顕
微鏡の他に、電子顕微鏡(例えば、株式会社日立製作所
製H−600)を用いて観察、測定した断面曲線から計
算することができる。
の平均間隔(Sm)は、原子間力顕微鏡(AFM)(セ
イコー電子工業(株)製、走査型プローブ顕微鏡「SP
I3700」、カンチレバー;シリコン製「SI−DF
20」)を用いて、二次元で定義されるJIS B 06
01(1994)を三次元に拡張した方法で測定するこ
とができる。この場合、試料の測定面積は1μm×1μ
mの正方形であり、測定点数 512×256点、スキ
ャン速度1.02Hz、DFM(サイクリックコンタク
トモード)にて表面形状を測定し、ローパスフィルター
による補正と、測定データのレベリング補正(最小二乗
近似によって曲面を求めてフィッティングし、データの
傾きを補正し、更にZ軸方向の歪みを除去する)を行
い、表面粗さRaおよびSm値を算出した。原子間力顕
微鏡の他に、電子顕微鏡(例えば、株式会社日立製作所
製H−600)を用いて観察、測定した断面曲線から計
算することができる。
【0016】ガラス基板の表面に、ガラス基材の屈折率
よりも小さな屈折率(n)と膜厚(d)を有する膜を被
覆したとき、入射角αでの反射率が最小になる条件は、
λを光の波長とし、mをゼロまたは正の整数として、下
記数式1で表される。
よりも小さな屈折率(n)と膜厚(d)を有する膜を被
覆したとき、入射角αでの反射率が最小になる条件は、
λを光の波長とし、mをゼロまたは正の整数として、下
記数式1で表される。
【数1】 d(n2−sin2α)1/2=λ(1+2m)/4 (1)
【0017】高入射角、例えば60度の入射角での可視
光反射率が最小になる膜厚(d)は、上記数式1にα=
60,m=0を代入して得られる下記数式2で表され
る。数式2において、屈折率nの膜は、可視光域の38
0〜780nmのいずれかの波長λにおいて、下記式の
膜厚(d)を満足すれば、その波長の光の反射率を最小
にすることができる。なお、mを1または2以上とする
と、膜厚が非常に大きくなって可視光の吸収が大きくな
るので好ましくない。本発明における鎖状シリカ微粒子
およびシリカからなる膜の屈折率は上述のように1.2
5〜1.40であるので、可視光反射率が最小となる膜
厚は、上記数式2から86〜216nmとなる。しか
し、本発明における膜厚は、ガラス板表面から、表面凹
凸を有する膜の凸部頂上までの高さと定義する。従って
この定義の膜厚は上記数式2の膜厚に比して、膜表面の
算術平均粗さ(Ra)と同程度だけ大きくなるので、実
際には、本発明における膜厚は110〜250nmであ
ることが好ましい。
光反射率が最小になる膜厚(d)は、上記数式1にα=
60,m=0を代入して得られる下記数式2で表され
る。数式2において、屈折率nの膜は、可視光域の38
0〜780nmのいずれかの波長λにおいて、下記式の
膜厚(d)を満足すれば、その波長の光の反射率を最小
にすることができる。なお、mを1または2以上とする
と、膜厚が非常に大きくなって可視光の吸収が大きくな
るので好ましくない。本発明における鎖状シリカ微粒子
およびシリカからなる膜の屈折率は上述のように1.2
5〜1.40であるので、可視光反射率が最小となる膜
厚は、上記数式2から86〜216nmとなる。しか
し、本発明における膜厚は、ガラス板表面から、表面凹
凸を有する膜の凸部頂上までの高さと定義する。従って
この定義の膜厚は上記数式2の膜厚に比して、膜表面の
算術平均粗さ(Ra)と同程度だけ大きくなるので、実
際には、本発明における膜厚は110〜250nmであ
ることが好ましい。
【数2】 d=(λ/4)×(n2−3/4)-1/2 (2)
【0018】鎖状シリカ微粒子およびシリカからなる膜
はガラス基板の一方表面または両表面に形成される。ガ
ラス板の両表面が空気、気体のような屈折率が1に近い
媒体に面して使用される場合は、この膜をガラス基板の
両表面に形成させる方が高い反射防止効果が得られる。
しかし、ガラス基板の一方表面がガラス基板の屈折率に
近い媒体に面して使用される場合、例えば2枚のガラス
板がその間にポリビニルブチラールのような透明樹脂層
を介して接合される場合には、ガラス板と透明樹脂層と
の界面での可視光反射は無視することができるので、鎖
状シリカ微粒子およびシリカからなる膜は、透明樹脂層
に面するガラス板表面には形成させずに、各ガラス板の
外側表面のみに形成させるだけで十分である。
はガラス基板の一方表面または両表面に形成される。ガ
ラス板の両表面が空気、気体のような屈折率が1に近い
媒体に面して使用される場合は、この膜をガラス基板の
両表面に形成させる方が高い反射防止効果が得られる。
しかし、ガラス基板の一方表面がガラス基板の屈折率に
近い媒体に面して使用される場合、例えば2枚のガラス
板がその間にポリビニルブチラールのような透明樹脂層
を介して接合される場合には、ガラス板と透明樹脂層と
の界面での可視光反射は無視することができるので、鎖
状シリカ微粒子およびシリカからなる膜は、透明樹脂層
に面するガラス板表面には形成させずに、各ガラス板の
外側表面のみに形成させるだけで十分である。
【0019】鎖状シリカ微粒子は、溶媒分散ゾルの形で
好ましく用いられる。鎖状シリカ微粒子ゾルの例として
は、例えば日産化学工業株式会社製の「スノーテックス
−OUP」、「スノーテックス−UP」が挙げられる。
これらは10〜20nmの平均直径と60〜200nm
の平均長さを有し、三次元的に湾曲した形状を有する。
好ましく用いられる。鎖状シリカ微粒子ゾルの例として
は、例えば日産化学工業株式会社製の「スノーテックス
−OUP」、「スノーテックス−UP」が挙げられる。
これらは10〜20nmの平均直径と60〜200nm
の平均長さを有し、三次元的に湾曲した形状を有する。
【0020】上記微粒子の溶媒は、実質的に微粒子が安
定に分散していれば、特に限定されないが、水、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、エチルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、プロピルセロソルブ等の単体または
混合体が好ましく、水、プロピルセロソルブがさらに好
ましい。これら水および低級アルコールは、上記有機金
属化合物を含む溶液と簡単に混じり合い、また成膜後の
熱処理によって簡単に除去できるので良い。このうち水
およびプロピルセロソルブは、製造環境上最も好まし
い。
定に分散していれば、特に限定されないが、水、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、エチルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、プロピルセロソルブ等の単体または
混合体が好ましく、水、プロピルセロソルブがさらに好
ましい。これら水および低級アルコールは、上記有機金
属化合物を含む溶液と簡単に混じり合い、また成膜後の
熱処理によって簡単に除去できるので良い。このうち水
およびプロピルセロソルブは、製造環境上最も好まし
い。
【0021】本発明において、ガラス基板への表面凹凸
を有するシリカ膜の被覆は、例えば、鎖状シリカ微粒子
と、加水分解・縮重合可能な有機珪素化合物、クロロシ
リル基含有珪素化合物およびそれらの加水分解物からな
る群より選ばれた、少なくとも1種の珪素化合物とを含
む液をガラス基板上に塗布して形成する。
を有するシリカ膜の被覆は、例えば、鎖状シリカ微粒子
と、加水分解・縮重合可能な有機珪素化合物、クロロシ
リル基含有珪素化合物およびそれらの加水分解物からな
る群より選ばれた、少なくとも1種の珪素化合物とを含
む液をガラス基板上に塗布して形成する。
【0022】上記微粒子を上記加水分解・縮重合可能な
有機珪素化合物や、クロロシリル基含有珪素化合物を含
む溶液に添加する際、分散助剤を添加しても良い。分散
助剤は特に限定されず、一般に用いられる添加剤、例え
ば、リン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、
ピロリン酸カリウム、塩化アルミニウム、塩化鉄等の電
解質、各種界面活性剤、各種有機高分子、シランカップ
リング剤、チタンカップリング剤等が用いられ、その添
加量は上記コロイドや微粒子に対して通常0.01〜5
重量%である。
有機珪素化合物や、クロロシリル基含有珪素化合物を含
む溶液に添加する際、分散助剤を添加しても良い。分散
助剤は特に限定されず、一般に用いられる添加剤、例え
ば、リン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、
ピロリン酸カリウム、塩化アルミニウム、塩化鉄等の電
解質、各種界面活性剤、各種有機高分子、シランカップ
リング剤、チタンカップリング剤等が用いられ、その添
加量は上記コロイドや微粒子に対して通常0.01〜5
重量%である。
【0023】上記シリカ微粒子とともに、液中に含ませ
る加水分解・縮重合可能な有機珪素化合物は、加水分
解、脱水縮合を行うものであれば基本的にはどんな化合
物でも良いが、珪素のアルコキシドや珪素のキレートが
好ましい。
る加水分解・縮重合可能な有機珪素化合物は、加水分
解、脱水縮合を行うものであれば基本的にはどんな化合
物でも良いが、珪素のアルコキシドや珪素のキレートが
好ましい。
【0024】珪素アルコキシドとして具体的には、珪素
のメトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド
などが、単体あるいは混合体として好ましく用いられ、
珪素キレートとしては珪素のアセチルアセトネート錯体
が好ましく用いられる。
のメトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド
などが、単体あるいは混合体として好ましく用いられ、
珪素キレートとしては珪素のアセチルアセトネート錯体
が好ましく用いられる。
【0025】また、上記有機珪素化合物として、高分子
量タイプのアルキルシリケート、例えばコルコート株式
会社製「エチルシリケート40」や、三菱化学株式会社
製「MS56」なども用いることができる。
量タイプのアルキルシリケート、例えばコルコート株式
会社製「エチルシリケート40」や、三菱化学株式会社
製「MS56」なども用いることができる。
【0026】上記有機珪素化合物加水分解物として、市
販のアルコキシシラン加水分解液、例えばコルコート株
式会社製「HAS−10」、株式会社日板研究所製「セ
ラミカG−91」、「G−92−6」、日本曹達株式会
社製「アトロンNSI−500」などを用いることがで
きる。
販のアルコキシシラン加水分解液、例えばコルコート株
式会社製「HAS−10」、株式会社日板研究所製「セ
ラミカG−91」、「G−92−6」、日本曹達株式会
社製「アトロンNSI−500」などを用いることがで
きる。
【0027】上記鎖状シリカ微粒子とともに、液中に含
ませるクロロシリル基含有化合物とは、クロロシリル基
(−SiClnX3-n、ここでnは1,2,または3であ
り、Xは水素、またはそれぞれ炭素数が1〜10のアル
キル基、アルコキシ基、またはアシロキシ基である)を
分子内に少なくとも1個有する化合物であり、その中で
も、少なくとも2個の塩素を有する化合物が好ましく、
シランSinH2n+2(ここでnは1〜5の整数)の中の
少なくとも2個の水素を塩素で置換し、他の水素を必要
に応じて上記アルキル基、アルコキシ基、またはアシロ
キシ基で置換したクロロシランおよびその縮重合物が好
ましく、例えば、テトラクロロシラン(四塩化珪素、S
iCl4)、トリクロロシラン(SiHCl3)、トリクロ
ロモノメチルシラン(SiCH3Cl3)、ジクロロシラ
ン(SiH2Cl2)、およびCl−(SiCl2O)n−S
iCl3(nは1〜10の整数)等を挙げることができ
る。上記クロロシリル基含有化合物の加水分解物も使用
することができ、これらの中から、単独でまたは複数を
組み合わせて使用することができるが、最も好ましいク
ロロシリル基含有化合物はテトラクロロシランである。
クロロシリル基は反応性が非常に高く、自己縮合または
基板表面と縮合反応をすることにより強固な接着力を示
す。
ませるクロロシリル基含有化合物とは、クロロシリル基
(−SiClnX3-n、ここでnは1,2,または3であ
り、Xは水素、またはそれぞれ炭素数が1〜10のアル
キル基、アルコキシ基、またはアシロキシ基である)を
分子内に少なくとも1個有する化合物であり、その中で
も、少なくとも2個の塩素を有する化合物が好ましく、
シランSinH2n+2(ここでnは1〜5の整数)の中の
少なくとも2個の水素を塩素で置換し、他の水素を必要
に応じて上記アルキル基、アルコキシ基、またはアシロ
キシ基で置換したクロロシランおよびその縮重合物が好
ましく、例えば、テトラクロロシラン(四塩化珪素、S
iCl4)、トリクロロシラン(SiHCl3)、トリクロ
ロモノメチルシラン(SiCH3Cl3)、ジクロロシラ
ン(SiH2Cl2)、およびCl−(SiCl2O)n−S
iCl3(nは1〜10の整数)等を挙げることができ
る。上記クロロシリル基含有化合物の加水分解物も使用
することができ、これらの中から、単独でまたは複数を
組み合わせて使用することができるが、最も好ましいク
ロロシリル基含有化合物はテトラクロロシランである。
クロロシリル基は反応性が非常に高く、自己縮合または
基板表面と縮合反応をすることにより強固な接着力を示
す。
【0028】上記鎖状シリカ微粒子を分散させ、そして
上記有機珪素化合物またはクロロシリル基含有化合物、
またはそれらの加水分解物を含む溶液の溶媒は、実質的
に上記有機珪素化合物またはその加水分解物を溶解すれ
ば基本的に何でも良いが、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、ブタノール等のアルコール類、エチルセロ
ソルブ、ブチルセロソルブ、プロピルセロソルブが最も
好ましい。上記溶媒に溶解させる上記有機珪素化合物の
濃度があまり高すぎると、分散させる鎖状シリカ微粒子
の量も関係するが、膜中の上記微粒子の間に十分な空隙
を生じさせることができなくなるので、20重量%以下
とすることが好ましく、1〜20重量%の濃度が好まし
い。そして溶液中の鎖状シリカ微粒子の量に対する、上
記有機珪素化合物またはクロロシリル基含有化合物、ま
たはそれらの加水分解物の量(合計)は、シリカ換算
で、鎖状シリカ微粒子100重量%に対して5〜30重
量%が好ましい。
上記有機珪素化合物またはクロロシリル基含有化合物、
またはそれらの加水分解物を含む溶液の溶媒は、実質的
に上記有機珪素化合物またはその加水分解物を溶解すれ
ば基本的に何でも良いが、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、ブタノール等のアルコール類、エチルセロ
ソルブ、ブチルセロソルブ、プロピルセロソルブが最も
好ましい。上記溶媒に溶解させる上記有機珪素化合物の
濃度があまり高すぎると、分散させる鎖状シリカ微粒子
の量も関係するが、膜中の上記微粒子の間に十分な空隙
を生じさせることができなくなるので、20重量%以下
とすることが好ましく、1〜20重量%の濃度が好まし
い。そして溶液中の鎖状シリカ微粒子の量に対する、上
記有機珪素化合物またはクロロシリル基含有化合物、ま
たはそれらの加水分解物の量(合計)は、シリカ換算
で、鎖状シリカ微粒子100重量%に対して5〜30重
量%が好ましい。
【0029】上記有機珪素化合物の加水分解には水が必
要である。これは、酸性、中性の何れでも良いが、加水
分解を促進するためには、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、ク
エン酸、スルホン酸等で酸性にした水を用いるのが好ま
しい。酸の添加量は特に限定されないが、有機珪素化合
物に対してモル比で0.001〜2が良い。添加酸量
が、モル比で0.001より少ないと、有機珪素化合物
の加水分解の促進が充分でなく、またモル比で2より多
くても、もはや加水分解促進の効果が向上せず、好まし
くない。
要である。これは、酸性、中性の何れでも良いが、加水
分解を促進するためには、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、ク
エン酸、スルホン酸等で酸性にした水を用いるのが好ま
しい。酸の添加量は特に限定されないが、有機珪素化合
物に対してモル比で0.001〜2が良い。添加酸量
が、モル比で0.001より少ないと、有機珪素化合物
の加水分解の促進が充分でなく、またモル比で2より多
くても、もはや加水分解促進の効果が向上せず、好まし
くない。
【0030】上記有機珪素化合物の加水分解に必要な水
の添加量は、有機珪素化合物に対してモル比で0.1〜
100が良い。水添加量がモル比で0.1より少ない
と、有機珪素化合物の加水分解の促進が充分でなく、ま
たモル比で100より多いと、液の安定性が低下する傾
向になり好ましくない。
の添加量は、有機珪素化合物に対してモル比で0.1〜
100が良い。水添加量がモル比で0.1より少ない
と、有機珪素化合物の加水分解の促進が充分でなく、ま
たモル比で100より多いと、液の安定性が低下する傾
向になり好ましくない。
【0031】上記クロロシリル基含有化合物を用いる場
合には、必ずしも水や酸の添加は必要ではない。付加的
に全く水や酸を添加しなくても、溶媒中に含まれていた
水分や雰囲気中の水分などにより加水分解が進行する。
また、この加水分解に伴って液中に塩酸が遊離し、さら
に加水分解が進行する。しかし、付加的に水や酸を加え
ても何ら差し支えない。
合には、必ずしも水や酸の添加は必要ではない。付加的
に全く水や酸を添加しなくても、溶媒中に含まれていた
水分や雰囲気中の水分などにより加水分解が進行する。
また、この加水分解に伴って液中に塩酸が遊離し、さら
に加水分解が進行する。しかし、付加的に水や酸を加え
ても何ら差し支えない。
【0032】上記鎖状シリカ微粒子と、上記有機珪素化
合物やクロロシリル基含有化合物、またはそれらの加水
分解物を溶媒とともに混合し、必要に応じて水、酸触
媒、および分散助剤を添加して、基板上に凹凸を形成す
るためのコーティング液を調製する。この時、有機金属
化合物とクロロシリル基含有化合物は、単独で用いても
混合して用いてもどちらでも良い。このコーティング液
の好ましい原料配合比は、次の表1の通りである。ここ
で珪素化合物とは、上記有機珪素化合物やクロロシリル
基含有化合物、またはそれらの加水分解物をその合計で
表している。
合物やクロロシリル基含有化合物、またはそれらの加水
分解物を溶媒とともに混合し、必要に応じて水、酸触
媒、および分散助剤を添加して、基板上に凹凸を形成す
るためのコーティング液を調製する。この時、有機金属
化合物とクロロシリル基含有化合物は、単独で用いても
混合して用いてもどちらでも良い。このコーティング液
の好ましい原料配合比は、次の表1の通りである。ここ
で珪素化合物とは、上記有機珪素化合物やクロロシリル
基含有化合物、またはそれらの加水分解物をその合計で
表している。
【0033】
【表1】 ====================== 珪素化合物 100重量部 鎖状シリカ微粒子 100〜800重量部 水 4〜150重量部 酸触媒 0.00001〜5重量部 分散助剤 0.001〜10重量部 溶媒 500〜10000重量部 ======================
【0034】上記有機金属化合物またはクロロシリル基
含有化合物を溶媒に溶かし、触媒と水を加え、10℃と
溶液の沸点の間の所定の温度で、5分間から2日間加水
分解する。そこへ鎖状シリカ微粒子と必要に応じ分散助
剤を加えて、必要に応じさらに10℃と溶液の沸点の間
の所定の温度で5分間から2日間反応させ、コーティン
グ液を得る。なお、クロロシリル基含有化合物を用いる
場合には、触媒および水は特別に添加する必要はない。
また鎖状シリカ微粒子は、上記加水分解工程の前に加え
ても良い。また、有機珪素化合物の加水分解工程を省略
するために、上記市販の有機金属化合物加水分解物溶液
を用いても良い。得られたコーティング液は、その後コ
ーティング方法に応じて適当な溶媒で希釈しても構わな
い。
含有化合物を溶媒に溶かし、触媒と水を加え、10℃と
溶液の沸点の間の所定の温度で、5分間から2日間加水
分解する。そこへ鎖状シリカ微粒子と必要に応じ分散助
剤を加えて、必要に応じさらに10℃と溶液の沸点の間
の所定の温度で5分間から2日間反応させ、コーティン
グ液を得る。なお、クロロシリル基含有化合物を用いる
場合には、触媒および水は特別に添加する必要はない。
また鎖状シリカ微粒子は、上記加水分解工程の前に加え
ても良い。また、有機珪素化合物の加水分解工程を省略
するために、上記市販の有機金属化合物加水分解物溶液
を用いても良い。得られたコーティング液は、その後コ
ーティング方法に応じて適当な溶媒で希釈しても構わな
い。
【0035】上記コーティング液をガラス基板上に塗布
し、乾燥して、ガラス基板上にシリカ凹凸膜を形成す
る。
し、乾燥して、ガラス基板上にシリカ凹凸膜を形成す
る。
【0036】上記塗布の方法は、公知の技術を用いれば
よく特に限定されないが、スピンコーター、ロールコー
ター、スプレーコーター、カーテンコーター等の装置を
用いる方法や、浸漬引き上げ法(ディップコーティング
法)、流し塗り法(フローコーティング法)などの方法
や、スクリーン印刷、グラビア印刷、曲面印刷などの各
種印刷法が用いられる。
よく特に限定されないが、スピンコーター、ロールコー
ター、スプレーコーター、カーテンコーター等の装置を
用いる方法や、浸漬引き上げ法(ディップコーティング
法)、流し塗り法(フローコーティング法)などの方法
や、スクリーン印刷、グラビア印刷、曲面印刷などの各
種印刷法が用いられる。
【0037】ガラス基板によっては、上記コーティング
液をはじくなどして均一に塗布できない場合があるが、
これは基板表面の洗浄や表面改質を行うことで改善でき
る。洗浄や表面改質の方法としては、アルコール、アセ
トン、ヘキサンなどの有機溶媒による脱脂洗浄、アルカ
リや酸による洗浄、研磨剤により表面を研磨する方法、
超音波洗浄、紫外線照射処理、紫外線オゾン処理、プラ
ズマ処理などが挙げられる。
液をはじくなどして均一に塗布できない場合があるが、
これは基板表面の洗浄や表面改質を行うことで改善でき
る。洗浄や表面改質の方法としては、アルコール、アセ
トン、ヘキサンなどの有機溶媒による脱脂洗浄、アルカ
リや酸による洗浄、研磨剤により表面を研磨する方法、
超音波洗浄、紫外線照射処理、紫外線オゾン処理、プラ
ズマ処理などが挙げられる。
【0038】塗布後のガラス基板は、室温から200℃
の間の温度で1分間から2時間乾燥することにより、シ
リカ凹凸膜が形成される。必要に応じてその後に、40
0℃〜750℃の間の温度で5秒から5時間熱処理する
と、これにより、ガラス基板表面のシリカ凹凸膜は強固
になる。この凹凸膜は鎖状シリカ微粒子とシリカ(有機
金属化合物から由来する)のマトリックスからなり、鎖
状シリカ微粒子がシリカマトリックスによりガラス基板
に固着され、鎖状シリカ微粒子の表面形状がこの膜の凹
凸を形成する。
の間の温度で1分間から2時間乾燥することにより、シ
リカ凹凸膜が形成される。必要に応じてその後に、40
0℃〜750℃の間の温度で5秒から5時間熱処理する
と、これにより、ガラス基板表面のシリカ凹凸膜は強固
になる。この凹凸膜は鎖状シリカ微粒子とシリカ(有機
金属化合物から由来する)のマトリックスからなり、鎖
状シリカ微粒子がシリカマトリックスによりガラス基板
に固着され、鎖状シリカ微粒子の表面形状がこの膜の凹
凸を形成する。
【0039】上記塗布される前のガラス基板としては、
曲げ工程および合わせ工程を終えた自動車用のウィンド
シールド、リアウィンドウ、フロントドア、またはリア
ドア等のガラス板でもよく、また合わせ工程の前の、ま
たは曲げ工程の前の、または所定寸法に切断される前の
ガラス板であってもよい。
曲げ工程および合わせ工程を終えた自動車用のウィンド
シールド、リアウィンドウ、フロントドア、またはリア
ドア等のガラス板でもよく、また合わせ工程の前の、ま
たは曲げ工程の前の、または所定寸法に切断される前の
ガラス板であってもよい。
【0040】シリカ凹凸膜を被覆した自動車用ガラス板
は、更にその表面に撥水性被膜または防曇性被膜を被覆
することができる。撥水性被膜を被覆することにより撥
水性能が得られ、また汚れが付着した場合、汚れ除去性
も改善できる。また防曇水性被膜を被覆することにより
防曇性能が得られ、また汚れが付着した場合、汚れ除去
性も改善できる。ガラス板(合わせガラス板でもよい)
の両表面にシリカ凹凸膜を被覆し、その一方の表面また
は両表面の上に撥水性被膜を被覆してもよく、ガラス板
の片側表面にシリカ凹凸膜を被覆し、シリカ凹凸膜およ
び無処理ガラス表面の両方、またはいずれか一方の上に
撥水性被膜を被覆してもよい。シリカ凹凸膜の上に撥水
性被膜が被覆されていても、可視光反射防止性能および
視認性が低下することはない。
は、更にその表面に撥水性被膜または防曇性被膜を被覆
することができる。撥水性被膜を被覆することにより撥
水性能が得られ、また汚れが付着した場合、汚れ除去性
も改善できる。また防曇水性被膜を被覆することにより
防曇性能が得られ、また汚れが付着した場合、汚れ除去
性も改善できる。ガラス板(合わせガラス板でもよい)
の両表面にシリカ凹凸膜を被覆し、その一方の表面また
は両表面の上に撥水性被膜を被覆してもよく、ガラス板
の片側表面にシリカ凹凸膜を被覆し、シリカ凹凸膜およ
び無処理ガラス表面の両方、またはいずれか一方の上に
撥水性被膜を被覆してもよい。シリカ凹凸膜の上に撥水
性被膜が被覆されていても、可視光反射防止性能および
視認性が低下することはない。
【0041】同様にガラス板(合わせガラス板でもよ
い)の両表面にシリカ凹凸膜を被覆し、その少なくとも
一方の表面上に防曇性被膜を被覆してもよく、ガラス板
(合わせガラス板でもよい)の片側表面にシリカ凹凸膜
を被覆し、シリカ凹凸膜および無処理ガラス表面の両方
またはそのいずれか一方の上に防曇性被膜を被覆しても
よい。
い)の両表面にシリカ凹凸膜を被覆し、その少なくとも
一方の表面上に防曇性被膜を被覆してもよく、ガラス板
(合わせガラス板でもよい)の片側表面にシリカ凹凸膜
を被覆し、シリカ凹凸膜および無処理ガラス表面の両方
またはそのいずれか一方の上に防曇性被膜を被覆しても
よい。
【0042】また、本発明が自動車用窓に適用される場
合、ガラス板(合わせガラス板でもよい)の両側表面に
シリカ凹凸膜が被覆され、片側の前記膜の表面(車内
側)に防曇性被膜が被覆され、他方側の前記層膜面(車
外側)に撥水性被膜が被覆されていることが好ましい。
合、ガラス板(合わせガラス板でもよい)の両側表面に
シリカ凹凸膜が被覆され、片側の前記膜の表面(車内
側)に防曇性被膜が被覆され、他方側の前記層膜面(車
外側)に撥水性被膜が被覆されていることが好ましい。
【0043】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施例を挙げて説
明するが、本発明はこれらによって限定されるものでは
ない。
明するが、本発明はこれらによって限定されるものでは
ない。
【0044】[実施例1]エチルシリケートの加水分解
縮重合液(商品名:HAS−10、コルコート株式会社
製、SiO2 含量10重量%)3.0重量部と、平均直
径が約15nmで平均長さが約170nmの鎖状シリカ
コロイド(商品名:スノーテックスOUP、日産化学工
業株式会社製、固形分15重量%、分散助剤含有)1
3.3重量部と、2−プロパノール 74.9重量部を
室温で混合し、これを2−プロパノールで3重量倍に希
釈して、室温で2時間攪拌して、低屈折率凹凸層形成用
コーティング液を得た。このコーティング液中には、鎖
状シリカ微粒子およびエチルシリケートが、それぞれシ
リカ換算で100:15の重量比で含有されていた。ま
たこのコーティング液は、珪素化合物100重量部に対
して、鎖状シリカ微粒子を670重量部、水分を45重
量部、酸触媒を4.5重量部、および溶剤をそれぞれ含
有していた。
縮重合液(商品名:HAS−10、コルコート株式会社
製、SiO2 含量10重量%)3.0重量部と、平均直
径が約15nmで平均長さが約170nmの鎖状シリカ
コロイド(商品名:スノーテックスOUP、日産化学工
業株式会社製、固形分15重量%、分散助剤含有)1
3.3重量部と、2−プロパノール 74.9重量部を
室温で混合し、これを2−プロパノールで3重量倍に希
釈して、室温で2時間攪拌して、低屈折率凹凸層形成用
コーティング液を得た。このコーティング液中には、鎖
状シリカ微粒子およびエチルシリケートが、それぞれシ
リカ換算で100:15の重量比で含有されていた。ま
たこのコーティング液は、珪素化合物100重量部に対
して、鎖状シリカ微粒子を670重量部、水分を45重
量部、酸触媒を4.5重量部、および溶剤をそれぞれ含
有していた。
【0045】酸化セリウム系研磨剤で表面研磨・洗浄
し、さらに純水中で超音波洗浄を行い乾燥したソーダラ
イム珪酸塩ガラス板(65mm×150mm×3mm)
を、前記低屈折率凹凸層形成用コーティング液に浸漬
し、20cm/分の速度で引き上げることにより、コー
ティング液をガラス板の両表面上に塗布した。このガラ
ス板を100℃で30分間乾燥させ、さらに250℃で
30分間乾燥させた後、500℃オーブン内で1時間熱
処理し、厚み140nmのシリカ凹凸膜が各表面に形成
されたガラス板を得た。なおこの膜厚140nmは、入
射角(α)が60度のときに反射率が最小となる条件、
すなわち膜の屈折率(n)=1.340として、550
nmの波長(λ)の光に対して膜厚が、上記数式2を計
算した値134nmにほぼ等しい。
し、さらに純水中で超音波洗浄を行い乾燥したソーダラ
イム珪酸塩ガラス板(65mm×150mm×3mm)
を、前記低屈折率凹凸層形成用コーティング液に浸漬
し、20cm/分の速度で引き上げることにより、コー
ティング液をガラス板の両表面上に塗布した。このガラ
ス板を100℃で30分間乾燥させ、さらに250℃で
30分間乾燥させた後、500℃オーブン内で1時間熱
処理し、厚み140nmのシリカ凹凸膜が各表面に形成
されたガラス板を得た。なおこの膜厚140nmは、入
射角(α)が60度のときに反射率が最小となる条件、
すなわち膜の屈折率(n)=1.340として、550
nmの波長(λ)の光に対して膜厚が、上記数式2を計
算した値134nmにほぼ等しい。
【0046】シリカ凹凸膜の厚み、膜の屈折率、膜空隙
率および膜表面粗度、ならびにシリカ凹凸膜付きガラス
板の可視光反射率、および視認性の測定は次のようにし
て行った。 シリカ凹凸膜の厚み;シリカ凹凸膜が被覆されたガラス
板の断面を電子顕微鏡で倍率10万倍にて観察し、ガラ
ス板表面から凹凸膜の凸部頂上までの高さを膜厚とし
た。 膜の屈折率;エリプソメーターにより550nmの波長
の光での値を求める。 膜空隙率;電子顕微鏡写真から空隙の大きさを測定して
計算する。
率および膜表面粗度、ならびにシリカ凹凸膜付きガラス
板の可視光反射率、および視認性の測定は次のようにし
て行った。 シリカ凹凸膜の厚み;シリカ凹凸膜が被覆されたガラス
板の断面を電子顕微鏡で倍率10万倍にて観察し、ガラ
ス板表面から凹凸膜の凸部頂上までの高さを膜厚とし
た。 膜の屈折率;エリプソメーターにより550nmの波長
の光での値を求める。 膜空隙率;電子顕微鏡写真から空隙の大きさを測定して
計算する。
【0047】膜表面粗度;原子間力顕微鏡(セイコー電
子株式会社製SPI3700)を用いて膜を観察して、
測定した断面曲線から 算術平均粗さ(Ra値)、凹凸
の平均間隔(Sm値)はJIS B 0601(199
4)記載の方法により定義される値を計算した。
子株式会社製SPI3700)を用いて膜を観察して、
測定した断面曲線から 算術平均粗さ(Ra値)、凹凸
の平均間隔(Sm値)はJIS B 0601(199
4)記載の方法により定義される値を計算した。
【0048】可視光反射率;入射角12度および60度
での可視光(380〜780nm波長)の反射率を、分
光光度計(MCPD−1000、大塚電子株式会社製)
を用いて、ガラス板の両面からの反射光を測定した。
での可視光(380〜780nm波長)の反射率を、分
光光度計(MCPD−1000、大塚電子株式会社製)
を用いて、ガラス板の両面からの反射光を測定した。
【0049】視認性:自動車のウィンドシールドの片側
(右半分)にシリカ凹凸膜付きガラス板を、他の片側
(左半分)は無処理のカ゛ラス板をそれぞれ組み付け、車内
側から車外を見た場合、前方の風景の見やすさ、すなわ
ちインハ゜ネの写り込みによる視界妨害の程度を左右のガラ
ス板を比較して見ることで、官能評価した。判定基準は
下記表2に示す基準で1〜5段階で行った。それらの測
定結果を表3に示す。
(右半分)にシリカ凹凸膜付きガラス板を、他の片側
(左半分)は無処理のカ゛ラス板をそれぞれ組み付け、車内
側から車外を見た場合、前方の風景の見やすさ、すなわ
ちインハ゜ネの写り込みによる視界妨害の程度を左右のガラ
ス板を比較して見ることで、官能評価した。判定基準は
下記表2に示す基準で1〜5段階で行った。それらの測
定結果を表3に示す。
【0050】
【表2】 =================================== 視認性官能評価基準 点数 基準 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 1:インハ゜ネ写り込みが気になり、前方風景が見にくい。 2:インハ゜ネ写り込みが少し気になるが注意して見ると前方風景が見える。 3:インハ゜ネ写り込みは少しあるが前方風景が容易に見える。 4:インハ゜ネ写り込みはほとんどなく前方風景がほぼ明瞭に見える。 5:インハ゜ネ写り込みが全くなく前方風景が明瞭に見える。 ===================================
【0051】[比較例1]実施例1で使用したコーティ
ング液の鎖状シリカコロイド13.3重量部の代わり
に、粒子粒径50nmのシリカコロイド(商品名:スノ
ーテックスOL、日産化学工業株式会社製、固形分20
重量%)10.0重量部を使用したコーティング液(シ
リカ微粒子およびエチルシリケートが、それぞれシリカ
換算で100:15の重量比で含有)を用いて、実施例
1と同様にガラス板の両表面に浸漬塗布、乾燥、熱処理
して厚み118nmのシリカ凹凸膜が各表面に形成され
たガラス板を得た。なおこの膜厚118nmは、入射角
(α)が60度のときに反射率が最小となる条件、膜の
屈折率(n)=1.454として、550nmの波長λ
の光に対して光学膜厚が4/λになる条件、すなわち膜
厚は、上記数式2を計算した値118nmに等しい。得
られたシリカ凹凸膜の厚み、膜の屈折率、膜空隙率およ
び膜表面粗度、ならびにシリカ凹凸膜付きガラス板の可
視光反射率、および視認性の測定結果を表3に示す。
ング液の鎖状シリカコロイド13.3重量部の代わり
に、粒子粒径50nmのシリカコロイド(商品名:スノ
ーテックスOL、日産化学工業株式会社製、固形分20
重量%)10.0重量部を使用したコーティング液(シ
リカ微粒子およびエチルシリケートが、それぞれシリカ
換算で100:15の重量比で含有)を用いて、実施例
1と同様にガラス板の両表面に浸漬塗布、乾燥、熱処理
して厚み118nmのシリカ凹凸膜が各表面に形成され
たガラス板を得た。なおこの膜厚118nmは、入射角
(α)が60度のときに反射率が最小となる条件、膜の
屈折率(n)=1.454として、550nmの波長λ
の光に対して光学膜厚が4/λになる条件、すなわち膜
厚は、上記数式2を計算した値118nmに等しい。得
られたシリカ凹凸膜の厚み、膜の屈折率、膜空隙率およ
び膜表面粗度、ならびにシリカ凹凸膜付きガラス板の可
視光反射率、および視認性の測定結果を表3に示す。
【0052】[比較例2および3]実施例1で使用した
コーティング液のエチルシリケートの加水分解縮重合液
の使用量3.0重量部を20重量部として、コーティン
グ液中の鎖状シリカ微粒子およびエチルシリケートを、
それぞれシリカ換算で50:50の重量比としたほか
は、実施例1と同様にガラス板の両表面に浸漬塗布、乾
燥、熱処理して厚み120nmのシリカ凹凸膜が各表面
に形成されたガラス板を得た(比較例2)。なおこの膜
厚120nmは、入射角(α)が60度のときに反射率
が最小となる条件、膜の屈折率(n)=1.432とし
て、550nmの波長λの光に対して光学膜厚が4/λ
になる条件、すなわち膜厚は、上記数式2を計算した値
121nmにほぼ等しい。
コーティング液のエチルシリケートの加水分解縮重合液
の使用量3.0重量部を20重量部として、コーティン
グ液中の鎖状シリカ微粒子およびエチルシリケートを、
それぞれシリカ換算で50:50の重量比としたほか
は、実施例1と同様にガラス板の両表面に浸漬塗布、乾
燥、熱処理して厚み120nmのシリカ凹凸膜が各表面
に形成されたガラス板を得た(比較例2)。なおこの膜
厚120nmは、入射角(α)が60度のときに反射率
が最小となる条件、膜の屈折率(n)=1.432とし
て、550nmの波長λの光に対して光学膜厚が4/λ
になる条件、すなわち膜厚は、上記数式2を計算した値
121nmにほぼ等しい。
【0053】またコーティング液中の鎖状シリカコロイ
ドの使用量をゼロとしたほかは、実施例1と同様に、ガ
ラス板の両表面に浸漬塗布、乾燥、熱処理して厚み11
5nmのシリカ膜が、各表面に形成されたガラス板を得
た(比較例3)。なおこの膜厚115nmは、入射角
(α)が60度のときに反射率が最小となる条件、膜の
屈折率(n)=1.473として、550nmの波長λ
の光に対して膜厚は、上記数式2を計算した値115n
mに等しい。得られたシリカ凹凸膜の厚み、膜の屈折
率、膜空隙率および膜表面粗度、ならびにシリカ凹凸膜
付きガラス板の可視光反射率、および視認性の測定結果
を表3に示す。なお、未処理のガラス板(屈折率1.
5)の12度および60度入射角の可視光線反射率は、
それぞれ約7%および約14%である。
ドの使用量をゼロとしたほかは、実施例1と同様に、ガ
ラス板の両表面に浸漬塗布、乾燥、熱処理して厚み11
5nmのシリカ膜が、各表面に形成されたガラス板を得
た(比較例3)。なおこの膜厚115nmは、入射角
(α)が60度のときに反射率が最小となる条件、膜の
屈折率(n)=1.473として、550nmの波長λ
の光に対して膜厚は、上記数式2を計算した値115n
mに等しい。得られたシリカ凹凸膜の厚み、膜の屈折
率、膜空隙率および膜表面粗度、ならびにシリカ凹凸膜
付きガラス板の可視光反射率、および視認性の測定結果
を表3に示す。なお、未処理のガラス板(屈折率1.
5)の12度および60度入射角の可視光線反射率は、
それぞれ約7%および約14%である。
【0054】
【表3】 =================================== 屈 表面粗度 可視光反射率(%) 視 膜厚 折 空隙率 (nm) −−−−−−−− 認 (nm) 率 (体積%) −−−−− 入射角 入射角 性 Ra Sm 12度 60度 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例1 140 1.340 60 7 20 0.8 1.9 5 比較例1 118 1.454 15 6 20 1.8 4.3 4 比較例2 120 1.432 2 5 - 4 8 3 比較例3 115 1.473 0 0 - 8 14.5 1 ==================================
【0055】[実施例2]上記実施例1で使用したソー
ダライム珪酸塩ガラス板(65mm×150mm×3m
m)の代わりに、同じソーダライム珪酸塩ガラス組成を
有する自動車ウィンドシールド用ガラス板(約150c
m×約60cm×3mm)を用い、実施例1と同様に浸
漬塗布、乾燥した後、公知の曲げ工程(570℃で15
分間加熱)により熱処理して、厚み120nmのシリカ
凹凸膜が各表面に形成された自動車ウィンドシールド用
ガラス板を製造した。
ダライム珪酸塩ガラス板(65mm×150mm×3m
m)の代わりに、同じソーダライム珪酸塩ガラス組成を
有する自動車ウィンドシールド用ガラス板(約150c
m×約60cm×3mm)を用い、実施例1と同様に浸
漬塗布、乾燥した後、公知の曲げ工程(570℃で15
分間加熱)により熱処理して、厚み120nmのシリカ
凹凸膜が各表面に形成された自動車ウィンドシールド用
ガラス板を製造した。
【0056】このガラス板について、凹凸膜の厚み、膜
の屈折率、膜空隙率、膜表面粗度、可視光反射率、およ
び視認性を測定したところ、実施例1と同じ結果が得ら
れた。そして、膜の強度については、市販のガラスクリ
ーナーを付けた綿布を用いて500gfの荷重をかけな
がら100往復擦りを行った後、その膜を肉眼で観察し
て異常の有無を調べ、これを1回と数えて繰り返して試
験を行った。実施例1では300回の擦りで異常を示し
たが、実施例2では5000回の擦りまで異常を示さな
かった。
の屈折率、膜空隙率、膜表面粗度、可視光反射率、およ
び視認性を測定したところ、実施例1と同じ結果が得ら
れた。そして、膜の強度については、市販のガラスクリ
ーナーを付けた綿布を用いて500gfの荷重をかけな
がら100往復擦りを行った後、その膜を肉眼で観察し
て異常の有無を調べ、これを1回と数えて繰り返して試
験を行った。実施例1では300回の擦りで異常を示し
たが、実施例2では5000回の擦りまで異常を示さな
かった。
【0057】上記のシリカ凹凸膜付き自動車ウィンドシ
ールド用ガラス板を2枚準備し、公知の合わせ工程を通
過させて、厚みが0.7mmのポリビニルブチラール中
間膜を介して接合された自動車ウィンドシールド用合わ
せガラス板を得た。この合わせガラス板は実施例1とほ
ぼ等しい可視光反射率、および視認性を示した。
ールド用ガラス板を2枚準備し、公知の合わせ工程を通
過させて、厚みが0.7mmのポリビニルブチラール中
間膜を介して接合された自動車ウィンドシールド用合わ
せガラス板を得た。この合わせガラス板は実施例1とほ
ぼ等しい可視光反射率、および視認性を示した。
【0058】[実施例3]温度計、撹拌機および冷却器
を備えた1リットルのガラス製の反応器に、式C8F17
CH2CH2Si(OCH3)3 で示されるパーフロロ基含
有有機珪素化合物10.0g、下記化学式1で示される
加水分解性基含有メチルポリシロキサン化合物10.0
g、t−ブタノール360.0g、および0.1Nの塩
酸水溶液1.94gを仕込み、80℃で5時間共加水分
解反応させ、さらに、疎水性溶媒であるn−ヘキサン1
60.0gを加えて室温で10時間撹拌した。
を備えた1リットルのガラス製の反応器に、式C8F17
CH2CH2Si(OCH3)3 で示されるパーフロロ基含
有有機珪素化合物10.0g、下記化学式1で示される
加水分解性基含有メチルポリシロキサン化合物10.0
g、t−ブタノール360.0g、および0.1Nの塩
酸水溶液1.94gを仕込み、80℃で5時間共加水分
解反応させ、さらに、疎水性溶媒であるn−ヘキサン1
60.0gを加えて室温で10時間撹拌した。
【0059】
【化1】
【0060】次いで、これに下記化学式2で示される、
オルガノポリシロキサン10.0g、およびメタンスル
ホン酸5.0gを加え、10分間撹拌し、撥水膜形成用
組成物を得た。
オルガノポリシロキサン10.0g、およびメタンスル
ホン酸5.0gを加え、10分間撹拌し、撥水膜形成用
組成物を得た。
【0061】
【化2】
【0062】前記実施例1で得られたシリカ凹凸層被覆
ガラス板の一方の凹凸層の表面に、上記撥水膜形成用組
成物0.1mlを綿布で10回塗りのばし、乾布で余剰
の塗布液を拭き取った後、100℃で10分間熱処理し
て、膜厚が40nmの撥水膜を有する低反射撥水性ガラ
ス板を得た。また撥水膜を肉眼で観察して異常の有無を
調べたが外観品質は良好であった。
ガラス板の一方の凹凸層の表面に、上記撥水膜形成用組
成物0.1mlを綿布で10回塗りのばし、乾布で余剰
の塗布液を拭き取った後、100℃で10分間熱処理し
て、膜厚が40nmの撥水膜を有する低反射撥水性ガラ
ス板を得た。また撥水膜を肉眼で観察して異常の有無を
調べたが外観品質は良好であった。
【0063】得られた撥水膜の水との接触角は、接触角
計(協和界面科学株式会社製「CA−DT」)を用い
て、直径約2mmの水滴の接触角を測定し、耐摩耗性、
耐薬品性および耐候性試験を実施した。接触角が高いほ
ど撥水性が優れていることを示すが、結果は表4に示す
通り、耐候性試験後の接触角は低いものの、初期接触
角、耐摩耗性試験後の接触角および耐薬品性試験後の接
触角はいずれも95度以上であって非常に優れていた。
そしてこの低反射撥水性ガラス板について、その撥水膜
面とは反対の表面から光を入射させて、可視光反射率を
測定し、また撥水膜面を車外側にして視認性を測定した
ところ、初期値、耐摩耗性試験後の値、および耐薬品性
試験後の値はいずれも実施例1と全く同等の結果が得ら
れた。
計(協和界面科学株式会社製「CA−DT」)を用い
て、直径約2mmの水滴の接触角を測定し、耐摩耗性、
耐薬品性および耐候性試験を実施した。接触角が高いほ
ど撥水性が優れていることを示すが、結果は表4に示す
通り、耐候性試験後の接触角は低いものの、初期接触
角、耐摩耗性試験後の接触角および耐薬品性試験後の接
触角はいずれも95度以上であって非常に優れていた。
そしてこの低反射撥水性ガラス板について、その撥水膜
面とは反対の表面から光を入射させて、可視光反射率を
測定し、また撥水膜面を車外側にして視認性を測定した
ところ、初期値、耐摩耗性試験後の値、および耐薬品性
試験後の値はいずれも実施例1と全く同等の結果が得ら
れた。
【0064】なお、ここで、耐摩耗性試験は、新東科学
製の往復摩耗試験機に乾布を取り付けて、荷重0.3k
g/cm2 で撥水膜表面を3000往復させた後の接触
角を測定することにより、耐薬品性試験は、飽和した石
灰水溶液に24時間浸漬した後の接触角を測定すること
により、耐候性は、耐候性試験機「アイスーパーUVテ
スターW13」(岩崎電気製)を用いて、照度76±2
mW/m2 、ブラックパネル温度48±2℃、1時間ご
と30秒間ずつのシャワリングという条件で、400時
間紫外線照射後の接触角を測定することにより、それぞ
れ実施した。
製の往復摩耗試験機に乾布を取り付けて、荷重0.3k
g/cm2 で撥水膜表面を3000往復させた後の接触
角を測定することにより、耐薬品性試験は、飽和した石
灰水溶液に24時間浸漬した後の接触角を測定すること
により、耐候性は、耐候性試験機「アイスーパーUVテ
スターW13」(岩崎電気製)を用いて、照度76±2
mW/m2 、ブラックパネル温度48±2℃、1時間ご
と30秒間ずつのシャワリングという条件で、400時
間紫外線照射後の接触角を測定することにより、それぞ
れ実施した。
【0065】
【表4】 =================================== 撥水膜 初期 −−−−−−−−− 接触角 耐摩耗性 耐薬品性 耐候性 膜厚(nm) 外観品質 (度) (度) (度) (度) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例3 40 良好 107 100 101 85 ===================================
【0066】[実施例4]1000mlの市販エタノー
ル(99.5%)に、0.1N酢酸を1ml添加し攪拌
した。このエタノールを主体とする液796gに[メト
キシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]トリメトキシシ
ラン(チッソ株式会社製「SIM6492.7」、含有
率90%、分子量460〜590、エチレンオキサイド
単位6〜9)を4g添加し30℃で1時間攪拌して、オ
ルガノシラン塗布液を調製した。
ル(99.5%)に、0.1N酢酸を1ml添加し攪拌
した。このエタノールを主体とする液796gに[メト
キシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]トリメトキシシ
ラン(チッソ株式会社製「SIM6492.7」、含有
率90%、分子量460〜590、エチレンオキサイド
単位6〜9)を4g添加し30℃で1時間攪拌して、オ
ルガノシラン塗布液を調製した。
【0067】前記実施例1で得られたシリカ凹凸層被覆
ガラス板を、純水中で超音波洗浄し乾燥した後、上記オ
ルガノシラン塗布液に浸漬し、5cm/分の速度で引き
上げることにより、液をシリカ凹凸膜付ガラス板の両表
面上に塗布した。このガラス板を120℃で30分間乾
燥・熱処理し、室温まで冷やした後純水で軽く洗浄し
て、ポリエチレンオキシド基を分子内に含む、厚みが約
8nmのオルガノシラン層が形成された防曇性シリカ凹
凸膜付ガラス板を得た。
ガラス板を、純水中で超音波洗浄し乾燥した後、上記オ
ルガノシラン塗布液に浸漬し、5cm/分の速度で引き
上げることにより、液をシリカ凹凸膜付ガラス板の両表
面上に塗布した。このガラス板を120℃で30分間乾
燥・熱処理し、室温まで冷やした後純水で軽く洗浄し
て、ポリエチレンオキシド基を分子内に含む、厚みが約
8nmのオルガノシラン層が形成された防曇性シリカ凹
凸膜付ガラス板を得た。
【0068】この低反射防曇性ガラス板について、光を
入射させて可視光反射率を測定し、また視認性を測定し
たところ、実施例1と全く同等の結果が得られた。ま
た、この防曇性シリカ凹凸膜付ガラス板について、次に
示す方法で、表面粗度測定、接触角測定、初期および繰
り返し防曇性評価を行った。これらの測定結果は表5に
示すように優れた防曇性能を有し、汚れが吸着し難く、
良好な防曇維持性および防汚性能を有することがわかっ
た。
入射させて可視光反射率を測定し、また視認性を測定し
たところ、実施例1と全く同等の結果が得られた。ま
た、この防曇性シリカ凹凸膜付ガラス板について、次に
示す方法で、表面粗度測定、接触角測定、初期および繰
り返し防曇性評価を行った。これらの測定結果は表5に
示すように優れた防曇性能を有し、汚れが吸着し難く、
良好な防曇維持性および防汚性能を有することがわかっ
た。
【0069】
【表5】 ================================== 表面粗度 初 期 繰り返し防曇性 (nm) −−−−−−−−−− −−−−−−− サンプル −−−−−− 接触角 曇り 歪み 曇り 歪み Ra Sm (度) 評価 評価 評価 評価 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例4 6 20 3 ◎ ◎ 4 5 ==================================
【0070】表面粗度、接触角測定 上記オルガノシラン被覆シリカ凹凸膜が形成されたガラ
ス板について、算術平均粗さ(Ra)、および凹凸の平
均間隔(Sm)を、実施例1のシリカ凹凸膜についての
測定と同じ方法で求めた。また、0.4mgの水滴に対
する接触角を、接触角計(協和界面科学株式会社製「C
A−DT」)を用いて測定した。接触角の値が小さいほ
ど防曇性が優れていることを示す。
ス板について、算術平均粗さ(Ra)、および凹凸の平
均間隔(Sm)を、実施例1のシリカ凹凸膜についての
測定と同じ方法で求めた。また、0.4mgの水滴に対
する接触角を、接触角計(協和界面科学株式会社製「C
A−DT」)を用いて測定した。接触角の値が小さいほ
ど防曇性が優れていることを示す。
【0071】防曇性評価 上記防曇性シリカ凹凸膜が形成されたガラス板を、温度
5℃、相対湿度10%の恒温恒湿槽内に置き10分間静
置した後、温度25℃、相対湿度70%の恒温恒湿槽内
に移し、30秒経過したときから2分経過するまでの間
の曇りの程度と2分経過後の透視像の歪みの程度の両方
で観察して、ガラス板の表面の微小水滴付着状態を調
べ、表6に示す4段階評価を行った。
5℃、相対湿度10%の恒温恒湿槽内に置き10分間静
置した後、温度25℃、相対湿度70%の恒温恒湿槽内
に移し、30秒経過したときから2分経過するまでの間
の曇りの程度と2分経過後の透視像の歪みの程度の両方
で観察して、ガラス板の表面の微小水滴付着状態を調
べ、表6に示す4段階評価を行った。
【0072】
【表6】
【0073】繰返し防曇性評価 JIS S 4030−1995「眼鏡用くもり止め剤
試験方法」に記載の冷却装置(透明プラスチック製)に
上記サンプル板を設置し、サンプル裏面を冷却水に接触
させサンプル温度を20℃に保った。サンプルをこの状
態で冷却したまま、温度45℃、相対湿度80%RHの
恒温恒湿槽内に置き、3分間保った。その後、サンプル
を冷却装置に着けたまま、これを温度20℃、相対湿度
10%RHの恒温恒湿槽内に置き、3分間乾燥させた。
この高湿度雰囲気暴露と低湿度雰囲気暴露の操作を1サ
イクルとし、30サイクルの繰返しを行った。
試験方法」に記載の冷却装置(透明プラスチック製)に
上記サンプル板を設置し、サンプル裏面を冷却水に接触
させサンプル温度を20℃に保った。サンプルをこの状
態で冷却したまま、温度45℃、相対湿度80%RHの
恒温恒湿槽内に置き、3分間保った。その後、サンプル
を冷却装置に着けたまま、これを温度20℃、相対湿度
10%RHの恒温恒湿槽内に置き、3分間乾燥させた。
この高湿度雰囲気暴露と低湿度雰囲気暴露の操作を1サ
イクルとし、30サイクルの繰返しを行った。
【0074】この繰返し操作の後、プラスチック板上に
印刷した透視歪み判定用テストチャートを上記冷却装置
の裏面に貼り付け、板と冷却装置裏面の隙間に水をしみ
込ませ、サンプル側から透視歪み判定用テストチャート
が観察できるようにした。透視歪み判定用テストチャー
トは、JIS S 4030−1995の付図1記載の
テストチャートを模したものであり、3本の白線の長さ
は10mmとし、その線幅と間隔は、0.15mm、
0.5mm、1.0mm、1.5mm、2.0mmの5
段階とした。サンプルを取り付けている冷却装置の冷却
水温度を5℃に下げ、これを温度25℃、相対湿度80
%RHの恒温恒湿槽内に置き、曇りと透視歪みの発生状
態を、上記透視歪み判定用テストチャートを用いて調
べ、表7に示した基準で6段階評価を行った。
印刷した透視歪み判定用テストチャートを上記冷却装置
の裏面に貼り付け、板と冷却装置裏面の隙間に水をしみ
込ませ、サンプル側から透視歪み判定用テストチャート
が観察できるようにした。透視歪み判定用テストチャー
トは、JIS S 4030−1995の付図1記載の
テストチャートを模したものであり、3本の白線の長さ
は10mmとし、その線幅と間隔は、0.15mm、
0.5mm、1.0mm、1.5mm、2.0mmの5
段階とした。サンプルを取り付けている冷却装置の冷却
水温度を5℃に下げ、これを温度25℃、相対湿度80
%RHの恒温恒湿槽内に置き、曇りと透視歪みの発生状
態を、上記透視歪み判定用テストチャートを用いて調
べ、表7に示した基準で6段階評価を行った。
【0075】
【表7】 =================================== 曇り評価 曇り状態 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 5 ほぼ全面が曇らない 4 80%以上の面積が曇らない 3 60%以上の面積が曇らない 2 60%以上の面積が曇る 1 80%以上の面積が曇る 0 ほぼ全面が曇る =================================== 透視歪み評価 透視歪み状態 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 5 全く歪まない 4 0.15mm間隔の白線を分離して認め難い 3 0.5mm以下の間隔の白線を分離して認め難い 2 1.0mm以下の間隔の白線を分離して認め難い 1 1.5mm以下の間隔の白線を分離して認め難い 0 2.0mm以下の間隔の白線を分離して認め難い ===================================
【0076】[実施例5]実施例2で得られた厚み12
0nmのシリカ凹凸膜が、各表面に形成された自動車ウ
ィンドシールド用ガラス板2枚を、その間に厚みが約
0.5mmのポリビニルブチラール膜を挟んで、オート
クレーブ中で約140〜150℃で真空圧着して合わせ
ガラス板を得た。この合わせガラス板の車内側表面に、
実施例4で用いたオルガノシラン塗布液に、粘性調整剤
を適量添加した液を用いてグラビアコーティングした
後、120℃で30分間乾燥・熱処理し、室温まで冷や
した後純水で軽く洗浄して、ポリエチレンオキシド基を
分子内に含む、厚みが約8nmのオルガノシラン防曇層
を内側に被覆した。
0nmのシリカ凹凸膜が、各表面に形成された自動車ウ
ィンドシールド用ガラス板2枚を、その間に厚みが約
0.5mmのポリビニルブチラール膜を挟んで、オート
クレーブ中で約140〜150℃で真空圧着して合わせ
ガラス板を得た。この合わせガラス板の車内側表面に、
実施例4で用いたオルガノシラン塗布液に、粘性調整剤
を適量添加した液を用いてグラビアコーティングした
後、120℃で30分間乾燥・熱処理し、室温まで冷や
した後純水で軽く洗浄して、ポリエチレンオキシド基を
分子内に含む、厚みが約8nmのオルガノシラン防曇層
を内側に被覆した。
【0077】次にこのガラス板の車外側表面に、実施例
3で調製した撥水膜形成用組成物1.0mlを付着させ
た綿布で10回塗りのばし、乾布で余剰の塗布液を拭き
取った後、100℃で10分間熱処理して車外側表面に
低反射撥水性を付与した。
3で調製した撥水膜形成用組成物1.0mlを付着させ
た綿布で10回塗りのばし、乾布で余剰の塗布液を拭き
取った後、100℃で10分間熱処理して車外側表面に
低反射撥水性を付与した。
【0078】これにより、車外側からみて、撥水性被膜
−シリカ凹凸膜−ガラス板−シリカ凹凸膜−ポリビニル
ブチラール膜−シリカ凹凸膜−ガラス板−シリカ凹凸膜
−防曇膜の順に積層された自動車ウィンドシールド用ガ
ラス板が得られた。
−シリカ凹凸膜−ガラス板−シリカ凹凸膜−ポリビニル
ブチラール膜−シリカ凹凸膜−ガラス板−シリカ凹凸膜
−防曇膜の順に積層された自動車ウィンドシールド用ガ
ラス板が得られた。
【0079】このガラス板の車内側表面の防曇性能、お
よび車外側表面の撥水性能を測定したところ、実施例4
の測定結果と同等の良好な防曇性能、および実施例3の
測定結果と同等の良好な撥水性能を有することがわかっ
た。そしてこのガラス板について、その防曇膜面から光
を入射させて可視光反射率を測定し、また撥水膜面を車
外側にして視認性を測定したところ、可視光反射率およ
び視認性のいずれも実施例1と全く同等の結果が得られ
た。
よび車外側表面の撥水性能を測定したところ、実施例4
の測定結果と同等の良好な防曇性能、および実施例3の
測定結果と同等の良好な撥水性能を有することがわかっ
た。そしてこのガラス板について、その防曇膜面から光
を入射させて可視光反射率を測定し、また撥水膜面を車
外側にして視認性を測定したところ、可視光反射率およ
び視認性のいずれも実施例1と全く同等の結果が得られ
た。
【0080】なお上記ポリビニルブチラール膜の屈折率
はガラス板のそれにほぼ等しいので、ガラス板の内側の
シリカ凹凸膜(ポリビニルブチラール膜に接してしてい
る側の)は、設けても設けていなくても反射防止性能は
殆ど変わらなかった。
はガラス板のそれにほぼ等しいので、ガラス板の内側の
シリカ凹凸膜(ポリビニルブチラール膜に接してしてい
る側の)は、設けても設けていなくても反射防止性能は
殆ど変わらなかった。
【0081】[実施例6,7]実施例1におけるコーテ
ィング液の調製に用いたエチルシリケートの加水分解縮
重合液、鎖状シリカコロイド(商品名:スノーテックス
OUP)、および2−プロパノールの配合比を表8に示
すように変更した以外は実施例1と同様にしてコーティ
ング液を調製した。このコーティング液中には、鎖状シ
リカ微粒子およびエチルシリケートが、それぞれシリカ
換算で、表8に示す重量比で含有されていた。
ィング液の調製に用いたエチルシリケートの加水分解縮
重合液、鎖状シリカコロイド(商品名:スノーテックス
OUP)、および2−プロパノールの配合比を表8に示
すように変更した以外は実施例1と同様にしてコーティ
ング液を調製した。このコーティング液中には、鎖状シ
リカ微粒子およびエチルシリケートが、それぞれシリカ
換算で、表8に示す重量比で含有されていた。
【0082】次にこのコーティング液を用いて、実施例
1と同じガラス板に、実施例1と同じ条件で塗布、乾
燥、熱処理して、シリカ凹凸膜が両表面に形成されたガ
ラス板を得た。得られたシリカ凹凸膜の厚み、膜の屈折
率、膜空隙率および膜表面粗度、ならびにシリカ凹凸膜
付きガラス板の可視光反射率、および視認性を実施例1
と同様に測定した結果を表9に示す。
1と同じガラス板に、実施例1と同じ条件で塗布、乾
燥、熱処理して、シリカ凹凸膜が両表面に形成されたガ
ラス板を得た。得られたシリカ凹凸膜の厚み、膜の屈折
率、膜空隙率および膜表面粗度、ならびにシリカ凹凸膜
付きガラス板の可視光反射率、および視認性を実施例1
と同様に測定した結果を表9に示す。
【0083】
【表8】 ================================== エチルシリケートの 加水分解 鎖状シリカ 2-フ゜ロ 縮重合液 コロイト゛ ハ゜ノール 鎖状微粒子:エチルシリケート (重量部) (重量部) (重量部) (シリカ換算重量比) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例1 3.0 13.3 74.9 100:15 実施例6 1.4 13.3 74.9 100:7 実施例7 5.0 13.3 74.9 100:25 ==================================
【0084】
【表9】 =================================== 屈 表面粗度 可視光反射率(%) 視 膜厚 折 空隙率 (nm) −−−−−−−− 認 (nm) 率 (体積%) −−−−− 入射角 入射角 性 Ra Sm 12度 60度 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例6 115 1.28 70 10 22 0.7 1.9 5 実施例7 160 1.38 55 7 20 2.2 3.2 5 ==================================
【0085】
【発明の効果】本発明によれば、ガラス板に表面凹凸と
低屈折率を有する層が被覆されているので、ガラス板の
可視光反射率、特に60度の高入射角での可視光反射率
(ガラス板の両面に被覆した場合)は4.0%以下と小
さくなり、しかも表面凹凸により防眩効果が得られるの
で、優れた視認性を有する自動車用窓に適したガラス板
が得られる。
低屈折率を有する層が被覆されているので、ガラス板の
可視光反射率、特に60度の高入射角での可視光反射率
(ガラス板の両面に被覆した場合)は4.0%以下と小
さくなり、しかも表面凹凸により防眩効果が得られるの
で、優れた視認性を有する自動車用窓に適したガラス板
が得られる。
Claims (13)
- 【請求項1】 鎖状シリカ微粒子およびその鎖状シリカ
微粒子の重量に対して5〜30重量%のシリカからな
り、110〜250nmの厚みを有する膜がガラス基板
表面の少なくとも一方に被覆されており、その膜表面に
凹凸が形成されている、可視光反射防止ガラス板。 - 【請求項2】 鎖状シリカ微粒子およびシリカからな
り、110〜250nmの厚みを有する膜がガラス基板
表面の少なくとも一方に被覆されており、膜内で互いに
隣接する鎖状シリカ微粒子の間に空隙が生じていてその
膜が1.25〜1.40の屈折率を有しており、その膜
表面に凹凸が形成されている、反射防止ガラス板。 - 【請求項3】 前記鎖状シリカ微粒子は、10〜20n
mの平均直径と60〜200nmの平均長さを有する請
求項1または2記載の反射防止ガラス板。 - 【請求項4】 前記膜表面の凹凸は、5〜50nmの算
術平均粗さ(Ra)および10〜300nmの凹凸の平
均間隔(Sm)を有する請求項1〜3のいずれか1項に
記載の反射防止ガラス板。 - 【請求項5】 前記膜の表面および/または前記膜が被
覆されていない前記ガラス基板の表面に、更に撥水性被
膜が被覆されている請求項1〜4のいずれか1項に記載
の反射防止ガラス板。 - 【請求項6】 前記膜の表面および/または前記膜が被
覆されていない前記ガラス基板の表面に、更に防曇性被
膜が被覆されている請求項1〜4のいずれか1項に記載
の反射防止ガラス板。 - 【請求項7】 前記ガラス基板の両方の表面に前記膜が
被覆され、一方の前記膜表面に防曇性被膜が被覆され、
他方の前記膜表面に撥水性被膜が被覆されている請求項
1〜4のいずれか1項に記載の反射防止ガラス板。 - 【請求項8】 前記ガラス基板の一方表面のみに前記膜
が被覆され、前記膜の表面に防曇性被膜が被覆され、前
記ガラス基板の他方表面に撥水性被膜が被覆されている
請求項1〜4のいずれか1項に記載の反射防止ガラス
板。 - 【請求項9】(1)鎖状シリカ微粒子と、(2)加水分
解・縮重合可能な有機珪素化合物、クロロシリル基含有
珪素化合物およびそれらの加水分解物からなる群より選
ばれた少なくとも1種の珪素化合物、を含む液を、ガラ
ス基板表面に塗布・乾燥して、ガラス基板表面にシリカ
凹凸膜を形成することを特徴とする反射防止ガラス板の
製造方法。 - 【請求項10】 前記液は、前記鎖状シリカ微粒子と前
記珪素化合物とを、それぞれSiO2 換算で、前記鎖状
シリカ微粒子100重量部に対して前記珪素化合物を5
〜30重量部含有する請求項9に記載の反射防止ガラス
板の製造方法。 - 【請求項11】 前記液は下記の配合からなる請求項9
または10に記載の反射防止ガラス板の製造方法。 珪素化合物 100重量部 鎖状シリカ微粒子 100〜800重量部 水 4〜150重量部 酸触媒 0.00001〜5重量部 分散助剤 0.001〜10重量部 溶媒 500〜10000重量部 - 【請求項12】 前記塗布・乾燥後に、400〜750
℃で5秒〜5時間加熱する請求項9〜12のいずれか1
項に記載の反射防止ガラス板の製造方法。 - 【請求項13】 下記の配合からなる反射防止膜用被覆
組成物。 珪素化合物 100重量部 鎖状シリカ微粒子 100〜800重量部 水 4〜150重量部 酸触媒 0.00001〜5重量部 分散助剤 0.001〜10重量部 溶媒 500〜10000重量部
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10345273A JPH11292568A (ja) | 1997-12-09 | 1998-12-04 | 反射防止ガラス板、その製造方法および反射防止膜用被覆組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-338363 | 1997-12-09 | ||
| JP33836397 | 1997-12-09 | ||
| JP10345273A JPH11292568A (ja) | 1997-12-09 | 1998-12-04 | 反射防止ガラス板、その製造方法および反射防止膜用被覆組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11292568A true JPH11292568A (ja) | 1999-10-26 |
Family
ID=26576073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10345273A Pending JPH11292568A (ja) | 1997-12-09 | 1998-12-04 | 反射防止ガラス板、その製造方法および反射防止膜用被覆組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11292568A (ja) |
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