JPH11259909A - Optical recording medium substrate, optical recording medium, method for manufacturing optical recording medium substrate, and method for manufacturing optical recording medium - Google Patents
Optical recording medium substrate, optical recording medium, method for manufacturing optical recording medium substrate, and method for manufacturing optical recording mediumInfo
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- JPH11259909A JPH11259909A JP10058081A JP5808198A JPH11259909A JP H11259909 A JPH11259909 A JP H11259909A JP 10058081 A JP10058081 A JP 10058081A JP 5808198 A JP5808198 A JP 5808198A JP H11259909 A JPH11259909 A JP H11259909A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体用基
板、光記録媒体、光記録媒体用基板の製造方法、及び光
記録媒体の製造方法に係り、特に、ランド及びグルーブ
の双方に対して情報の記録を繰り返し行うことが可能な
光記録媒体用基板、光記録媒体、光記録媒体用基板の製
造方法、及び光記録媒体の製造方法に関する。The present invention relates to an optical recording medium substrate, an optical recording medium, a method for manufacturing an optical recording medium substrate, and a method for manufacturing an optical recording medium, and more particularly, to both lands and grooves. The present invention relates to an optical recording medium substrate capable of repeatedly recording information, an optical recording medium, a method for manufacturing an optical recording medium substrate, and a method for manufacturing an optical recording medium.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、大容量メモリとして光ディスクが
注目を浴びている。光ディスクは、情報の再生のみが可
能で記録が不可能なCD等の再生専用型、情報の記録が
1回だけ可能なCD−R等の1回追記型、及び情報の記
録/消去を自由に行うことができコンピュータの外付け
メモリ等に用いられる書き替え可能型の3種類に大別さ
れる。その中でも書き替え可能型は、その広い用途のた
めに特に注目されている。2. Description of the Related Art In recent years, optical disks have attracted attention as large-capacity memories. The optical disc is a read-only type such as a CD that can only read information and cannot record information, a one-time write-once type such as a CD-R that can record information only once, and can freely record and erase information. It can be performed and is roughly classified into three types of rewritable type used for an external memory or the like of a computer. Among them, the rewritable type is particularly noted for its wide use.
【0003】書き替え可能型の光ディスクには、主に、
光磁気ディスクと相変化型光ディスクの2つがある。こ
のうち、相変化型光ディスクは、レーザービーム等の照
射により、非晶質と結晶質との間で可逆的に相変化する
記録膜を用いて、非晶質の記録マークと結晶質のバック
グラウンドとの間の反射率の差を利用して再生が行われ
るものである。この非晶質状態は記録膜を融点以上に加
熱し急冷することにより形成され、結晶質状態は記録膜
を結晶化温度以上で融点未満に加熱することにより形成
される。したがって、相変化型光ディスクは、記録膜に
照射するレーザービームの強弱を制御することにより、
情報の書き替えを自由に行うことができるという利点を
有している。[0003] Rewritable optical disks mainly include:
There are two types: magneto-optical disks and phase-change optical disks. Of these, the phase-change type optical disc uses a recording film that reversibly changes phase between amorphous and crystalline by irradiation with a laser beam or the like, thereby forming an amorphous recording mark and a crystalline background. The reproduction is performed using the difference in the reflectance between the two. This amorphous state is formed by heating the recording film above its melting point and rapidly cooling it, and the crystalline state is formed by heating the recording film above its crystallization temperature but below its melting point. Therefore, the phase-change type optical disk controls the intensity of the laser beam applied to the recording film,
There is an advantage that information can be freely rewritten.
【0004】上記光磁気ディスク及び相変化型光ディス
クには、さらなる大容量化が望まれており、記録密度を
より高密度化することが要求されている。現在、光ディ
スクを高密度記録化するために、レーザー波長の短波長
化や超解像技術等の研究が進められており、また、トラ
ックピッチやマークピッチを短くするマスタリング技術
が検討されている。さらに、従来は、ディスクの溝部分
(グルーブ)のみ又は土手部分(ランド)のみに記録し
ていたが、光学的に溝の深さを調節して隣接するトラッ
クからのクロストークの影響を防止することにより、グ
ルーブ及びランドの両方に記録することが可能となって
いる。[0004] The magneto-optical disk and the phase-change optical disk are required to have higher capacities, and a higher recording density is required. Currently, in order to achieve high-density recording of optical discs, researches on shortening a laser wavelength, super-resolution technology, and the like are being advanced, and a mastering technology for shortening a track pitch or a mark pitch is being studied. Further, conventionally, recording was performed only on the groove portion (groove) or only on the bank portion (land) of the disk, but the depth of the groove is optically adjusted to prevent the influence of crosstalk from an adjacent track. This makes it possible to record on both the groove and the land.
【0005】しかしながら、ランド/グルーブ記録を行
う場合、トラックピッチが狭くなると、隣接するランド
部及びグルーブ部のいずれか一方のトラックで記録或い
は消去を行う際に、他方のトラックに記録されたマーク
まで消去されるおそれがある。これは、記録レーザーの
熱が周囲に伝導するためである。このような記録の不所
望な消去を防止するために、ビームスポットを小径化す
ることや記録膜の構成を最適化する試みがなされている
が、これら方法のみでは、記録密度をさらに高密度化し
た場合に上述した熱伝導を抑制することは困難である。However, when land / groove recording is performed, if the track pitch is narrowed, when recording or erasing is performed on either one of the adjacent land and groove portions, the mark recorded on the other track is not reached. It may be erased. This is because the heat of the recording laser is conducted to the surroundings. In order to prevent such undesired erasure of recording, attempts have been made to reduce the diameter of the beam spot and optimize the configuration of the recording film. In such a case, it is difficult to suppress the above-described heat conduction.
【0006】また、光ディスクの記録密度を高密度化し
た場合、特に相変化型光ディスクにおいては、オーバー
ライトを繰返すことにより記録・再生のジッタ特性が低
下する傾向がある。これは、非晶質相と結晶質相との間
の反射率の差を利用する相変化型光ディスクにおいて
は、記録膜を非晶質相と結晶質相との間で変化させる際
に記録膜が溶融・固化されるため、記録・消去のサイク
ルを繰り返すことにより、記録膜の一部が物質流動を起
こすからである。そのため、記録膜の一部は当初の位置
から若干移動してしまい、記録膜中に密度のばらつきを
生じる。これが、ジッタ特性の低下を生ずる要因の1つ
として考えられている。When the recording density of an optical disc is increased, especially in a phase-change optical disc, the overwriting is repeated, and the recording / reproducing jitter characteristic tends to decrease. This is because, in a phase-change type optical disk utilizing a difference in reflectance between an amorphous phase and a crystalline phase, the recording film is changed when the recording film is changed between the amorphous phase and the crystalline phase. Is melted and solidified, so that a part of the recording film causes a substance flow by repeating a recording / erasing cycle. For this reason, a part of the recording film slightly moves from its initial position, causing a density variation in the recording film. This is considered as one of the factors that cause the deterioration of the jitter characteristic.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】上述のように、ランド
及びグルーブの双方に記録を行う従来の光ディスクにお
いては、隣接するランド及びグルーブの一方のトラック
に記録を行う場合、他方のトラックに記録されたマーク
を消去するおそれがある。また、ランド及びグルーブの
双方に記録を行う従来の光ディスクにおいては、記録・
消去のサイクルを繰返した場合に、ジッタ特性の低下を
生ずる。As described above, in a conventional optical disk which records on both lands and grooves, when recording is performed on one track of adjacent lands and grooves, the information is recorded on the other track. Mark may be erased. In addition, in a conventional optical disc that records data on both lands and grooves, recording and
When the erase cycle is repeated, the jitter characteristic deteriorates.
【0008】本発明は、ランド及びグルーブの双方に情
報を繰返し記録することが可能であり、情報を記録する
際に、既に記録された情報の不所望な消去を生じにく
く、記録・消去のサイクルを繰返した場合に、ジッタ特
性の低下を生じにくい光記録媒体用基板、光記録媒体、
光記録媒体用基板の製造方法、及び光記録媒体の製造方
法を提供することを目的とする。According to the present invention, it is possible to repeatedly record information on both lands and grooves, and when recording information, it is difficult to cause unwanted erasure of already recorded information. When the above is repeated, a substrate for an optical recording medium that is unlikely to cause a decrease in jitter characteristics, an optical recording medium,
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a substrate for an optical recording medium and a method for manufacturing an optical recording medium.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、透明材料からなり、少なくとも一方の主
面に渦巻線状或いは同心円状に形成された第1の溝、及
び前記第1の溝の底部に前記第1の溝と実質的に平行に
形成された第2の溝を具備することを特徴とする光記録
媒体用基板を提供する。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a first groove made of a transparent material and formed on at least one main surface in a spiral or concentric shape, and An optical recording medium substrate comprising a second groove formed at the bottom of one groove substantially parallel to the first groove.
【0010】上記光記録媒体用基板において好ましい態
様を以下に示す。 (1)前記第2の溝は、前記第1の溝の底部の中央に形
成されたこと。 (2)前記渦巻線状或いは同心円状に形成された第1の
溝の、渦或いは円の中心から外周方向への周期Tが0.
96μm以上であり、前記周期Tと、前記第1の溝の底
部の幅W1 と前記第2の溝の上部の幅W2 との差W1 −
W2 とは、下記不等式に示す関係を満たすこと。Preferred embodiments of the optical recording medium substrate are described below. (1) The second groove is formed at the center of the bottom of the first groove. (2) The period T from the center of the spiral or the circle to the outer peripheral direction of the first groove formed in the spiral or the concentric circle is 0.
96 μm or more, and a difference W 1 − between the period T and a width W 1 at the bottom of the first groove and a width W 2 at the top of the second groove.
W 2 satisfies the following inequality.
【0011】 0.04μm≦W1 −W2 ≦T−0.92μm また、本発明は、透明材料からなり、少なくとも一方の
主面に渦巻線状或いは同心円状に形成された第1の溝
と、前記第1の溝の底部に前記第1の溝と実質的に平行
に形成された第2の溝とを有する基板、及び前記基板の
第1及び第2の溝が形成された面に形成され、所定の光
を照射することにより反射率或いは磁気的特性が可逆的
に変化する材料を含有する記録膜を具備することを特徴
とする光記録媒体を提供する。[0011] 0.04μm ≦ W 1 -W 2 ≦ T -0.92μm Also, the present invention is made of a transparent material, a first groove formed on at least one major surface to the spiral shape or concentric A substrate having a second groove formed substantially parallel to the first groove at a bottom portion of the first groove, and formed on a surface of the substrate on which the first and second grooves are formed. The present invention further provides an optical recording medium comprising a recording film containing a material whose reflectance or magnetic properties change reversibly upon irradiation with predetermined light.
【0012】さらに、本発明は、渦巻線状或いは同心円
状に形成された第1の帯状突起部と、前記第1の帯状突
起部の頂部に前記第1の帯状突起部と実質的に平行に形
成された第2の帯状突起部とが形成された転写面上に、
光硬化性樹脂を介して透明基板を配置する工程、前記透
明基板を転写面上に配置しつつ光照射して、前記光硬化
性樹脂を硬化させる工程、及び前記透明基板を転写面か
ら剥離する工程を具備することを特徴とする光記録媒体
用基板の製造方法を提供する。Further, the present invention provides a first strip-shaped projection formed in a spiral shape or concentrically, and a top of the first strip-shaped projection substantially parallel to the first strip-shaped projection. On the transfer surface on which the formed second band-shaped protrusions are formed,
Arranging a transparent substrate via a photocurable resin, irradiating light while arranging the transparent substrate on a transfer surface, curing the photocurable resin, and peeling the transparent substrate from the transfer surface Provided is a method for manufacturing a substrate for an optical recording medium, comprising the steps of:
【0013】また、本発明は、透明材料からなり、少な
くとも一方の主面に渦巻線状或いは同心円状に形成され
た第1の溝と、前記第1の溝の底部に前記第1の溝と実
質的に平行に形成された第2の溝とを有する基板を形成
する工程、及び前記基板の第1及び第2の溝が形成され
た面に、所定の光を照射することにより反射率或いは磁
気的特性が可逆的に変化する材料を含有する記録膜を形
成する工程を具備することを特徴とする光記録媒体の製
造方法を提供する。The present invention also provides a first groove made of a transparent material and formed on at least one main surface in a spiral or concentric shape, and a first groove formed on a bottom of the first groove. Forming a substrate having a second groove formed substantially in parallel with the substrate, and irradiating a predetermined light on a surface of the substrate on which the first and second grooves are formed, thereby obtaining a reflectance or A method for manufacturing an optical recording medium, comprising a step of forming a recording film containing a material whose magnetic properties change reversibly.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明について、図面を参
照しながらより詳細に説明する。図1に、本発明の一実
施形態に係る光記録媒体用基板の断面図を示す。図1に
示す光記録媒体用基板1は、ポリカーボネートやガラス
等のように、一般的な光記録媒体用基板で使用される透
明材料で構成される。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a cross-sectional view of an optical recording medium substrate according to one embodiment of the present invention. The optical recording medium substrate 1 shown in FIG. 1 is made of a transparent material used for a general optical recording medium substrate, such as polycarbonate or glass.
【0015】また、図1に示すように、光記録媒体用基
板1の一方の主面には、ランド2とグルーブ3とが形成
されており、ランド2とグルーブ3との間の面は、階段
状に形成されている。なお、ランド2とグルーブ3は、
それぞれ渦巻線状或いは同心円状に形成されており、図
1には、その渦または円の中心を通る断面が描かれてい
る。As shown in FIG. 1, a land 2 and a groove 3 are formed on one main surface of the optical recording medium substrate 1, and a surface between the land 2 and the groove 3 is formed as follows. It is formed in a step shape. The land 2 and the groove 3 are
Each of them is formed in a spiral shape or concentric shape, and FIG. 1 shows a cross section passing through the center of the spiral or circle.
【0016】以上のような形状を有する光記録媒体用基
板1を用いることにより、例えば、図2に示す構造の光
記録媒体を得ることができる。図2に、本発明の一実施
形態に係る光記録媒体の断面図を示す。図2に示す光記
録媒体4において、上記基板1上に形成された記録膜5
は、基板1の表面の形状を反映した形状を有している。
すなわち、記録膜5のランド2とグルーブ3との間の面
は階段状に形成されている。By using the optical recording medium substrate 1 having the above-described shape, for example, an optical recording medium having a structure shown in FIG. 2 can be obtained. FIG. 2 is a sectional view of an optical recording medium according to an embodiment of the present invention. In the optical recording medium 4 shown in FIG. 2, the recording film 5 formed on the substrate 1
Has a shape reflecting the shape of the surface of the substrate 1.
That is, the surface of the recording film 5 between the land 2 and the groove 3 is formed in a stepped shape.
【0017】このように、記録膜5のランド2とグルー
ブ3との間の面を階段状に形成した場合、従来の光記録
媒体に比べて、ランド2とグルーブ3との間に介在する
記録膜5の長さが増加する。ランド2とグルーブ3との
熱伝導の殆どは、通常、記録膜5を介して行われる。し
たがって、上記光記録媒体4によると、ランド2とグル
ーブ3との間での熱伝導が生じにくくなり、記録の不所
望な消去を防止することができる。As described above, when the surface between the land 2 and the groove 3 of the recording film 5 is formed in a step-like manner, the recording medium interposed between the land 2 and the groove 3 is different from the conventional optical recording medium. The length of the membrane 5 increases. Most of the heat conduction between the land 2 and the groove 3 is usually performed via the recording film 5. Therefore, according to the optical recording medium 4, heat conduction between the land 2 and the groove 3 is less likely to occur, and it is possible to prevent unwanted erasure of recording.
【0018】また、所定のトラックに記録をする際に、
記録膜5の一部を溶融した場合においても、上記光記録
媒体4によると、ランド2とグルーブ3との間での熱伝
導が生じにくいため、溶融した記録膜の一部が当初の位
置から移動するのが防止される。さらに、例え、ランド
2で記録膜の一部が溶融し、当初の位置から移動したと
しても、ランド2とグルーブ3との間の面は階段状に形
成されているため、その移動量は非常に少ない。したが
って、上記光記録媒体4は、記録膜中に密度のばらつき
が生じにくく、そのため、ジッタ特性の低下を生じにく
い。When recording on a predetermined track,
Even when a part of the recording film 5 is melted, heat conduction between the land 2 and the groove 3 is unlikely to occur according to the optical recording medium 4, so that a part of the melted recording film moves from the initial position. Movement is prevented. Further, even if a part of the recording film is melted on the land 2 and moves from the initial position, the moving amount is extremely large because the surface between the land 2 and the groove 3 is formed in a stepped shape. Less. Therefore, in the optical recording medium 4, the density is hardly varied in the recording film, so that the jitter characteristic is hardly reduced.
【0019】以上、基板1と接するように記録膜5を形
成した場合について説明したが、記録膜5と基板1との
間には、記録膜5を保護する保護膜等が設けられてもよ
い。図3に、本発明の他の実施形態に係る光記録媒体の
断面図を示す。図3に示す光記録媒体10は相変化型の
光記録媒体であって、図1に示す基板1上に、誘電体保
護膜11、相変化記録膜12、誘電体保護膜13、及び
金属反射層14が順次積層された構造を有している。ま
た、図3に示す光記録媒体10において、誘電体保護膜
11、相変化記録膜12、及び誘電体保護膜13は記録
層15を形成している。なお、図3において、相変化型
の光記録媒体10は、ランド或いはグルーブ領域につい
てのみ描かれている。Although the case where the recording film 5 is formed so as to be in contact with the substrate 1 has been described above, a protective film or the like for protecting the recording film 5 may be provided between the recording film 5 and the substrate 1. . FIG. 3 is a sectional view of an optical recording medium according to another embodiment of the present invention. An optical recording medium 10 shown in FIG. 3 is a phase change type optical recording medium, and a dielectric protection film 11, a phase change recording film 12, a dielectric protection film 13, and a metal reflection film are formed on a substrate 1 shown in FIG. It has a structure in which the layers 14 are sequentially stacked. In the optical recording medium 10 shown in FIG. 3, the dielectric protection film 11, the phase change recording film 12, and the dielectric protection film 13 form a recording layer 15. In FIG. 3, the phase-change optical recording medium 10 is illustrated only for the land or the groove area.
【0020】また、図4に、本発明のさらに他の実施形
態に係る光記録媒体の断面図を示す。図4に示す光記録
媒体20は光磁気記録媒体であって、相変化記録膜12
の代わりにTbFeCo等の材料からなる光磁気記録膜
22が設けられたこと以外は、図3に示す相変化型の光
記録媒体10と同様に構成される。FIG. 4 is a sectional view of an optical recording medium according to still another embodiment of the present invention. The optical recording medium 20 shown in FIG.
3 except that a magneto-optical recording film 22 made of a material such as TbFeCo is provided.
【0021】図3及び図4に示す光記録媒体10,20
において、相変化記録膜12と基板1との間、及び光磁
気記録膜22と基板1との間には、それぞれ、誘電体保
護膜11が設けられている。これら誘電体保護膜11は
図1に示す基板1の形状を反映した形状に形成されるた
め、相変化記録膜12及び光磁気記録膜22も基板1の
形状を反映した形状に形成される。したがって、例え、
相変化記録膜12或いは光磁気記録膜22と基板1との
間に誘電体保護膜11等を設けたとしても、上述した効
果を得ることができる。The optical recording media 10 and 20 shown in FIGS.
2, a dielectric protection film 11 is provided between the phase change recording film 12 and the substrate 1 and between the magneto-optical recording film 22 and the substrate 1, respectively. Since these dielectric protection films 11 are formed in a shape that reflects the shape of the substrate 1 shown in FIG. 1, the phase change recording film 12 and the magneto-optical recording film 22 are also formed in a shape that reflects the shape of the substrate 1. So, for example,
Even if the dielectric protection film 11 or the like is provided between the phase change recording film 12 or the magneto-optical recording film 22 and the substrate 1, the above-described effects can be obtained.
【0022】[0022]
【実施例】以下、本発明の実施例について、図面を参照
しながら説明する。図5(a)〜(f)に示すようにし
て、光記録媒体用基板を製造するためのスタンパを作製
した。なお、図5(a)〜(f)は、それぞれ、本発明
の実施例に係る光記録媒体用基板の製造に用いられるス
タンパの作製方法を概略的に示す断面図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. As shown in FIGS. 5A to 5F, a stamper for manufacturing an optical recording medium substrate was manufactured. 5A to 5F are cross-sectional views schematically illustrating a method of manufacturing a stamper used for manufacturing an optical recording medium substrate according to an embodiment of the present invention.
【0023】スタンパを作製するに当り、まず、図5
(a)に示すように、Si基板30の一方の主面全体を
酸化して、所定の厚さでSiO2 膜31を形成した。な
お、このSiO2 膜31の厚さが、光記録媒体用基板の
グルーブの深さを決定する。次に、スピンコート法によ
り、このSiO2 膜31上にフォトレジスト膜32を形
成した後、図5(b)に示すように、SiO2 膜31上
に形成したフォトレジスト膜32を所定のパターンで露
光し、フォトレジスト膜32に潜像33を形成した。な
お、フォトレジスト膜32の露光は、図7に示す原盤記
録装置を用いて行った。In manufacturing the stamper, first, FIG.
As shown in (a), the entirety of one main surface of the Si substrate 30 was oxidized to form a SiO 2 film 31 with a predetermined thickness. The thickness of the SiO 2 film 31 determines the depth of the groove of the optical recording medium substrate. Next, after a photoresist film 32 is formed on the SiO 2 film 31 by spin coating, the photoresist film 32 formed on the SiO 2 film 31 is formed into a predetermined pattern as shown in FIG. To form a latent image 33 on the photoresist film 32. The exposure of the photoresist film 32 was performed using the master recording apparatus shown in FIG.
【0024】図7に、本発明の実施例において用いられ
る原盤記録装置を概略的に示す。図7に示す原盤記録装
置50によると、例えばKrレーザーのようなレーザー
光源51から出射されたレーザービームは、レーザー光
軸制御系52において、レーザーの温度変化等による光
軸変動を修正される。FIG. 7 schematically shows a master recording apparatus used in the embodiment of the present invention. According to the master recording apparatus 50 shown in FIG. 7, a laser beam emitted from a laser light source 51 such as a Kr laser is corrected in a laser optical axis control system 52 for optical axis fluctuation due to a change in laser temperature or the like.
【0025】光軸変動を修正されたレーザービームは、
ミラー53で反射された後、次に、E.O変調器54
a,54bからなるビーム変調系54において光量を制
御される。なお、E・O変調器54a,54bは、フォ
ーマット回路59に接続されており、このフォーマット
回路59で制御することにより、入射したレーザービー
ムをフォーマット信号のような任意の信号を有するレー
ザービームに変調することが可能である。The laser beam whose optical axis fluctuation has been corrected is
After being reflected by the mirror 53, O modulator 54
The light quantity is controlled in a beam modulation system 54 composed of a and 54b. The E / O modulators 54a and 54b are connected to a format circuit 59, and by controlling the format circuit 59, modulate the incident laser beam into a laser beam having an arbitrary signal such as a format signal. It is possible to
【0026】続いて、レーザービームは、ピンホールや
スリットからなるビーム整形系55を通過してビーム径
や形状を調整される。以上でレーザービームの全ての調
整を終了する。調整を終えたレーザービーム40は、ビ
ームモニタ系56でビーム形状を確認され、さらにミラ
ー57に案内されて対物レンズ58により上記Si基板
30上のフォトレジスト32に集束される。このとき、
例えば、Si基板30を回転移動させることにより、S
i基板30上のフォトレジスト膜32には、渦巻線状或
いは同心円状の潜像が形成される。Subsequently, the laser beam passes through a beam shaping system 55 composed of pinholes and slits, and its beam diameter and shape are adjusted. This completes all adjustments of the laser beam. The beam shape of the adjusted laser beam 40 is confirmed by a beam monitor system 56, further guided by a mirror 57, and focused on the photoresist 32 on the Si substrate 30 by the objective lens 58. At this time,
For example, by rotating the Si substrate 30, the S
A spiral or concentric latent image is formed on the photoresist film 32 on the i-substrate 30.
【0027】以上のようにして、Si基板30上のフォ
トレジスト膜32を所定のパターンで露光した後、現像
することにより、図5(c)に示す構造を得た。なお、
このフォトレジスト32の開口幅は、光記録媒体用基板
のグルーブ底部の幅と一致するように制御した。As described above, the photoresist film 32 on the Si substrate 30 is exposed in a predetermined pattern and then developed to obtain the structure shown in FIG. 5C. In addition,
The opening width of the photoresist 32 was controlled so as to match the width of the groove bottom of the optical recording medium substrate.
【0028】次に、上記開口部を設けたフォトレジスト
膜32をマスクとして用い、Si基板30上に形成され
たSiO2 膜31に反応性スパッタエッチングを施し
た。なお、この反応性スパッタエッチングは、図8に示
すスパッタリング装置を用いて行った。Next, the SiO 2 film 31 formed on the Si substrate 30 was subjected to reactive sputter etching using the photoresist film 32 provided with the opening as a mask. In addition, this reactive sputter etching was performed using the sputtering apparatus shown in FIG.
【0029】図8に、本発明の実施例において用いられ
るスパッタリング装置を概略的に示す。図8に示すスパ
ッタリング装置60で通常のスパッタリングを行うに当
り、まず、基板30を支柱65に固定する。次に、チャ
ンバー61内を、排気装置62により所定の圧力まで排
気した後、ガス供給源63に収容されたArガスをコッ
ク64で流量を調節しつつチャンバー61内に導入す
る。なお、チャンバー61内は、排気装置62の排気量
とAr流量とにより所定の減圧状態に制御する。次に、
支柱65を回転させつつ、スパッタ源66,67に電圧
を印加してグロー放電を生じさせる。これにより基板3
0上に所望の膜が形成される。FIG. 8 schematically shows a sputtering apparatus used in the embodiment of the present invention. In performing a normal sputtering by the sputtering apparatus 60 shown in FIG. 8, first, the substrate 30 is fixed to the support 65. Next, after the inside of the chamber 61 is evacuated to a predetermined pressure by the exhaust device 62, the Ar gas contained in the gas supply source 63 is introduced into the chamber 61 while adjusting the flow rate with the cock 64. The inside of the chamber 61 is controlled to a predetermined reduced pressure state by the exhaust amount of the exhaust device 62 and the Ar flow rate. next,
While rotating the column 65, a voltage is applied to the sputter sources 66 and 67 to generate glow discharge. Thereby, the substrate 3
A desired film is formed on 0.
【0030】本実施例においては、基板30をそのフォ
トレジスト膜32が形成された面が下方を向くように支
柱65に固定し、逆バイアスを印加することにより、S
i基板30上に形成されたSiO2 膜31に反応性スパ
ッタエッチングを施した。なお、Siのエッチングレー
トは、SiO2 のエッチングレートに比べて遥かに遅
い。したがって、Si基板30をエッチングすることな
く、SiO2 膜31の露出部のみを選択的にエッチング
することができる。In the present embodiment, the substrate 30 is fixed to the column 65 so that the surface on which the photoresist film 32 is formed faces downward, and a reverse bias is applied to the substrate 30 so that the substrate 30 is formed.
The SiO 2 film 31 formed on the i-substrate 30 was subjected to reactive sputter etching. Note that the etching rate of Si is much lower than the etching rate of SiO 2 . Therefore, only the exposed portion of the SiO 2 film 31 can be selectively etched without etching the Si substrate 30.
【0031】上記エッチング処理を施した後、図5
(d)に示すように、SiO2 膜31上のフォトレジス
ト膜32を除去した。なお、上記エッチング処理はドラ
イプロセスであり、高い指向性を有している。したがっ
て、上記方法によると、SiO2膜31のエッジを急峻
な形状に形成することができる。After performing the above-described etching process, FIG.
As shown in (d), the photoresist film 32 on the SiO 2 film 31 was removed. Note that the above etching process is a dry process and has high directivity. Therefore, according to the above method, the edge of the SiO 2 film 31 can be formed in a steep shape.
【0032】次に、図5(e)に示すように、Si基板
30上及びSiO2 膜31上に、フォトレジスト膜34
を形成した。さらに、上述したのと同様の方法により、
図7に示す原盤記録装置50を用いて、このフォトレジ
スト膜34を露光した。なお、フォトレジスト膜34の
露光は、レーザービームのスポット径をSiO2 膜31
に形成した溝の幅よりも若干広くなるように調節し、レ
ーザービームの光軸がSiO2 膜31に形成した溝の中
心を走査するようにトラッキング制御しつつ行った。こ
れにより、フォトレジスト膜34に所定のパターンの潜
像35が形成された。Next, as shown in FIG. 5E, a photoresist film 34 is formed on the Si substrate 30 and the SiO 2 film 31.
Was formed. Further, by the same method as described above,
The photoresist film 34 was exposed using the master recording apparatus 50 shown in FIG. The exposure of the photoresist film 34 is performed by changing the spot diameter of the laser beam to the SiO 2 film 31.
The width was adjusted so as to be slightly larger than the width of the groove formed in the SiO 2 film 31, and the tracking control was performed so that the optical axis of the laser beam scanned the center of the groove formed in the SiO 2 film 31. As a result, a latent image 35 having a predetermined pattern was formed on the photoresist film 34.
【0033】次に、フォトレジスト膜34の現像処理を
施し、フォトレジスト膜34の露光部を除去した。これ
により、SiO2 膜31に形成した開口部よりも広い幅
で、フォトレジスト膜34に開口部を形成した。Next, the photoresist film 34 was subjected to a development process, and the exposed portions of the photoresist film 34 were removed. As a result, an opening was formed in the photoresist film 34 with a width wider than the opening formed in the SiO 2 film 31.
【0034】さらに、このフォトレジスト膜34をマス
クとして用いて、SiO2 膜31に上記反応性スパッタ
エッチングを施した。このとき、SiO2 膜31の開口
部近傍は、フォトレジスト膜34により被覆されていな
い、すなわち、露出している。そのため、SiO2 膜3
1の開口部近傍の領域は、上部から底部へ向けて徐々に
エッチングされる。したがって、エッチングを完全に行
わず、途中で停止することにより、露出したSiO2 膜
31の上部領域のみを選択的に除去することが可能であ
る。Using the photoresist film 34 as a mask, the SiO 2 film 31 was subjected to the reactive sputter etching. At this time, the vicinity of the opening of the SiO 2 film 31 is not covered with the photoresist film 34, that is, is exposed. Therefore, the SiO 2 film 3
The region near the opening 1 is gradually etched from the top to the bottom. Therefore, it is possible to selectively remove only the exposed upper region of the SiO 2 film 31 by stopping it halfway without performing etching completely.
【0035】以上のようにして露出したSiO2 膜31
の上部領域のみを選択的に除去した後、図5(f)に示
すように、SiO2 膜31上に残留するフォトレジスト
膜34を除去した。このようにして、Si基板30の表
面に階段状の帯状突起部を形成した。さらに、このSi
基板30のSiO2 膜31が設けられた面にNiメッキ
を施すことにより、スタンパ70を作製した。The SiO 2 film 31 exposed as described above
5F, the photoresist film 34 remaining on the SiO 2 film 31 was removed as shown in FIG. Thus, a step-like band-like projection was formed on the surface of the Si substrate 30. Furthermore, this Si
The stamper 70 was manufactured by applying Ni plating to the surface of the substrate 30 on which the SiO 2 film 31 was provided.
【0036】以上のようにして作製したスタンパ70を
用いることにより、例えば、図6(g)及び図6(h)
に示すように射出成形等でポリカーボネートなどの成形
基板1を作製することができる。なお、図6(g)及び
(h)は、それぞれ、本発明の実施例に係る光記録媒体
用基板の製造方法を概略的に示す断面図である。By using the stamper 70 manufactured as described above, for example, as shown in FIGS.
As shown in (1), a molded substrate 1 made of polycarbonate or the like can be manufactured by injection molding or the like. FIGS. 6G and 6H are cross-sectional views schematically illustrating a method for manufacturing a substrate for an optical recording medium according to an embodiment of the present invention.
【0037】上記スタンパ70において、Niメッキは
必ずしも必要である訳ではなく、成型技術・成型マシン
の性能が向上すれば、上記階段状の帯状突起部を形成し
たSi基板30をスタンパとして用いることも可能であ
る。In the stamper 70, Ni plating is not always necessary. If the molding technique and the performance of the molding machine are improved, the Si substrate 30 having the step-like band-shaped projections may be used as the stamper. It is possible.
【0038】図9に、以上のようにして作製したスタン
パの断面形状を概略的に示す。なお、図9において、ス
タンパ70の表面に形成されたNiメッキ層は省略され
ている。図9に示すスタンパ70の表面に形成された帯
状突起部73の形状及び寸法は、光記録媒体用基板の表
面に形成される溝の形状及び寸法と実質的に一致する。
したがって、スタンパ70の表面形状を制御することに
より、光記録媒体用基板の表面形状を制御することがで
きる。FIG. 9 schematically shows the cross-sectional shape of the stamper manufactured as described above. In FIG. 9, the Ni plating layer formed on the surface of the stamper 70 is omitted. The shape and size of the band-shaped protrusion 73 formed on the surface of the stamper 70 shown in FIG. 9 substantially match the shape and size of the groove formed on the surface of the optical recording medium substrate.
Therefore, by controlling the surface shape of the stamper 70, the surface shape of the optical recording medium substrate can be controlled.
【0039】第1の帯状突起部71と、第1の帯状突起
部上に形成された第2の帯状突起部とからなる帯状突起
部73は、以下に示す形状に形成することが好ましい。
すなわち、第1の帯状突起部71の上部の幅W1 と第2
の帯状突起部72の底部の幅W2 との差W1 −W2 と
が、下記不等式に示す関係を満たすように帯状突起部7
3を形成することが好ましい。なお、下記不等式におい
て、周期Tは0.96μm以上である。It is preferable that the belt-like projection 73 composed of the first belt-like projection 71 and the second belt-like projection formed on the first belt-like projection has the following shape.
That is, the width W 1 of the upper part of the first band-shaped projection 71 and the second width W 1
And the difference W 1 −W 2 from the width W 2 of the bottom of the band-shaped projection 72 of the band-shaped projection 72 satisfies the following inequality.
3 is preferably formed. In the following inequality, the period T is 0.96 μm or more.
【0040】 0.04μm≦W1 −W2 ≦T−0.92μm 幅W1 と幅W2 との差W1 −W2 が大きくなるほど、ラ
ンドとグルーブとの間での熱伝導を低減することができ
る。通常、差W1 −W2 が0.04μm以上であれば、
ランドとグルーブとの間での熱伝導を十分に低減するこ
とができる。0.04 μm ≦ W 1 −W 2 ≦ T−0.92 μm As the difference W 1 −W 2 between the width W 1 and the width W 2 increases, the heat conduction between the land and the groove decreases. be able to. Usually, if the difference W 1 -W 2 is 0.04 μm or more,
Heat conduction between the land and the groove can be sufficiently reduced.
【0041】しかしながら、周期Tを一定とした場合、
差W1 −W2 が大きくなるほどランド或いはグルーブの
記録が行われる領域の幅が狭くなるため、キャリアレベ
ルが低下し、CN値が劣化する。通常、ランド或いはグ
ルーブの記録が行われる領域の幅が0.4μm以上であ
る場合に、十分なキャリアレベルを得ることができる。
また、一般に、第1及び第2の帯状突起部71の側面は
基板面に対して垂直には形成されず、基板面に平行な方
向に1周期当り0.12μm程度の領域を占有する。However, when the period T is constant,
As the difference W 1 -W 2 increases, the width of the land or groove recording area decreases, so that the carrier level decreases and the CN value deteriorates. Usually, when the width of the area where the land or groove recording is performed is 0.4 μm or more, a sufficient carrier level can be obtained.
Generally, the side surfaces of the first and second band-shaped projections 71 are not formed perpendicular to the substrate surface, but occupy an area of about 0.12 μm per cycle in a direction parallel to the substrate surface.
【0042】したがって、周期Tが[0.4μm×2+
0.12μm+(W1 −W2 )]以上である場合、すな
わち、W1 −W2 ≦T−0.92μmなる関係を満たす
場合に、十分なキャリアレベルを得ることができる。Therefore, when the period T is [0.4 μm × 2 +
0.12 μm + (W 1 −W 2 )] or more, that is, when the relationship of W 1 −W 2 ≦ T−0.92 μm is satisfied, a sufficient carrier level can be obtained.
【0043】本実施例においては、帯状突起部73を以
下に示す寸法で形成した。すなわち、第1の帯状突起部
71の上部の幅W1 と第2の帯状突起部72の底部の幅
W2との差が0.06μmとなるように帯状突起部73
を形成した。また、帯状突起部73の周期Tは1.2μ
mとした。In this embodiment, the belt-like projections 73 are formed with the following dimensions. That is, the first upper width W 1 and the second strip-shaped projections 73 so that the difference between the width W 2 of the bottom portion of the band-shaped protrusion 72 is 0.06μm band-shaped protrusions 71
Was formed. The period T of the band-shaped projection 73 is 1.2 μm.
m.
【0044】なお、第1の帯状突起部71の底部の幅は
0.69μm、上部の幅は0.64μm、Si基板30
からの高さは80nmであり、第2の帯状突起部72の
底部の幅は0.58μm、上部の幅は0.51μm、第
1の帯状突起部71からの高さは70nmである。The width of the bottom of the first band-shaped projection 71 is 0.69 μm, the width of the top is 0.64 μm,
Is 80 nm, the width of the bottom of the second band-shaped projection 72 is 0.58 μm, the width of the top is 0.51 μm, and the height from the first band-shaped projection 71 is 70 nm.
【0045】次に、このスタンパ70の帯状突起部73
が形成された面を、紫外線硬化樹脂を介してガラス基板
に圧着した。この状態を保ちつつ、ガラス基板側から紫
外線硬化樹脂に紫外線を照射して、スタンパ70とガラ
ス基板との間の紫外線硬化樹脂を硬化させた。紫外線硬
化樹脂を硬化した後、スタンパ70とガラス基板とを剥
離した。硬化した紫外線硬化樹脂は、スタンパ70に残
留することなくガラス基板上に転写された。以上のよう
にして、2P法により光記録媒体用基板を作製した。Next, the band-like projection 73 of the stamper 70
The surface on which was formed was pressed against a glass substrate via an ultraviolet curable resin. While maintaining this state, the ultraviolet curable resin was irradiated with ultraviolet rays from the glass substrate side to cure the ultraviolet curable resin between the stamper 70 and the glass substrate. After curing the ultraviolet curable resin, the stamper 70 and the glass substrate were separated. The cured ultraviolet curable resin was transferred onto the glass substrate without remaining on the stamper 70. As described above, an optical recording medium substrate was manufactured by the 2P method.
【0046】本実施例においては、上述のように2P法
により光記録媒体用基板を作製したが、通常の射出成形
により光記録媒体用基板を作製してもよい。しかしなが
ら、光記録媒体用基板を2P法を用いて作製した場合、
射出成形により作製する場合に比べて、良好な転写性を
得ることができる。したがって、2P法を用いることに
より、本発明の効果がより顕著となる。In this embodiment, the substrate for an optical recording medium is manufactured by the 2P method as described above, but the substrate for an optical recording medium may be manufactured by ordinary injection molding. However, when the optical recording medium substrate is manufactured using the 2P method,
Good transferability can be obtained as compared with the case of manufacturing by injection molding. Therefore, by using the 2P method, the effect of the present invention becomes more remarkable.
【0047】次に、上記光記録媒体用基板を用いて、図
8に示すスパッタリング装置60により、図3に示す相
変化型の光記録媒体10を作製した。すなわち、上記光
記録媒体用基板1上に、SiO2 からなる誘電体保護膜
11、GeSbTeからなる相変化型記録膜12、Si
O2 からなる誘電体保護膜13、及び金属反射層14を
順次積層した。このようにして作製した相変化型の光記
録媒体をディスクAとする。Next, using the optical recording medium substrate, a phase change type optical recording medium 10 shown in FIG. 3 was produced by a sputtering apparatus 60 shown in FIG. That is, a dielectric protection film 11 made of SiO 2 , a phase change type recording film 12 made of GeSbTe,
A dielectric protection film 13 made of O 2 and a metal reflection layer 14 were sequentially laminated. The optical recording medium of the phase change type manufactured in this manner is referred to as a disk A.
【0048】また、帯状突起部の側面に段差が形成され
ていないこと以外は図9に示すスタンパ70と同様のス
タンパを作製した。すなわち、図5(a)〜(d)に関
して説明した方法により帯状突起部を形成し、さらにN
iメッキ処理を施すことによりスタンパを作製した。Further, a stamper similar to the stamper 70 shown in FIG. 9 was manufactured except that no step was formed on the side surface of the band-shaped projection. That is, the belt-like projection is formed by the method described with reference to FIGS.
A stamper was manufactured by performing an i-plating process.
【0049】このスタンパを用い、上述したのと同様の
方法により相変化型の光記録媒体を作製した。このよう
にして作製した相変化型の光記録媒体をディスクBとす
る。以上のようにして作製したディスクA,Bのオーバ
ーライト特性について、記録/再生が可能な試験用DV
D−RAMドライブ(波長:650nm、NA:0.
6)を用いて評価した。なお、この試験用DVD−RA
Mドライブは、記録パルスのパターン変更が可能であ
る。図10に、この試験結果を示す。Using this stamper, a phase-change optical recording medium was manufactured in the same manner as described above. The optical recording medium of the phase change type manufactured in this manner is referred to as a disk B. Regarding the overwrite characteristics of the discs A and B produced as described above, a test DV capable of recording / reproducing
D-RAM drive (wavelength: 650 nm, NA: 0.
It evaluated using 6). This test DVD-RA
The M drive can change the recording pulse pattern. FIG. 10 shows the test results.
【0050】図10は、本発明の実施例に係る光記録媒
体のオーバーライト特性を示すグラフである。なお、図
10において、横軸はオーバーライト回数(回)を示し
ており、縦軸はジッタ値(%)を示している。FIG. 10 is a graph showing overwrite characteristics of the optical recording medium according to the embodiment of the present invention. In FIG. 10, the horizontal axis represents the number of overwrites (times), and the vertical axis represents the jitter value (%).
【0051】このグラフに示すように、オーバーライト
回数が1万回程度までは、ディスクBの方がジッタ値が
低いが、オーバーライト回数が3万回を超えると、ディ
スクBのジッタ値は急激に増加する。それに対し、ディ
スクAのジッタ値の増加は、ディスクBに比べて穏やか
である。すなわち、ディスクAは、再生不可能となるオ
ーバーライト回数がディスクBに比べてより多いのであ
る。As shown in this graph, the jitter value of the disk B is lower until the number of overwrites is about 10,000, but the jitter value of the disk B sharply increases when the number of overwrites exceeds 30,000. To increase. On the other hand, the increase in the jitter value of the disk A is more moderate than that of the disk B. That is, the disc A has a larger number of overwrites at which reproduction is impossible than the disc B.
【0052】また、ディスクA,Bについて、ランドに
所定の情報を記録した後、グルーブにオーバーライトを
繰り返し行った。その後、ランドに記録された情報を再
生したところ、ディスクBにおいては、ランドに記録さ
れた情報の一部が消去されたのに対し、ディスクAにお
いては、ランドに記録された情報が消去されることはな
かった。After recording predetermined information on the lands of the disks A and B, overwriting was repeatedly performed on the grooves. After that, when the information recorded on the land was reproduced, a part of the information recorded on the land was erased on the disk B, whereas the information recorded on the land was erased on the disk A. I never did.
【0053】以上、相変化型の光記録媒体に関して説明
したが、光磁気記録媒体は記録膜に用いる材料が異なる
以外は相変化型の光記録媒体と同様に構成され、かつ記
録方法もほぼ同様である。したがって、光磁気記録媒体
においても、相変化型の光記録媒体に関して説明したの
と同様の効果を得ることができる。The phase-change type optical recording medium has been described above. However, the magneto-optical recording medium is configured in the same manner as the phase-change type optical recording medium except that the material used for the recording film is different, and the recording method is almost the same. It is. Therefore, the same effect as that described with respect to the phase-change type optical recording medium can be obtained in the magneto-optical recording medium.
【0054】[0054]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
光記録媒体用基板のランドとグルーブとの間の面が階段
状に形成されるため、その上に形成される記録膜も同様
の形状に形成される。そのため、本発明の光記録媒体
は、従来の光記録媒体に比べて、ランドとグルーブとの
間に介在する記録膜の長さが長く、ランドとグルーブと
の間での熱伝導が生じにくい。したがって、本発明によ
ると、ランド及びグルーブの双方に情報を繰返し記録す
ることが可能であり、かつ情報を記録する際に、既に記
録された情報の不所望な消去を生じにくくい光記録媒体
用基板、光記録媒体、光記録媒体用基板の製造方法、及
び光記録媒体の製造方法が提供される。As described above, according to the present invention,
Since the surface between the land and the groove of the optical recording medium substrate is formed in a step shape, the recording film formed thereon is also formed in the same shape. Therefore, in the optical recording medium of the present invention, the length of the recording film interposed between the land and the groove is longer than that of the conventional optical recording medium, and heat conduction between the land and the groove hardly occurs. Therefore, according to the present invention, it is possible to repeatedly record information on both lands and grooves, and when recording information, it is difficult to cause unwanted erasure of already recorded information. A substrate, an optical recording medium, a method of manufacturing an optical recording medium substrate, and a method of manufacturing an optical recording medium are provided.
【0055】また、本発明の光記録媒体においては、ラ
ンドとグルーブとの間での熱伝導が生じにくいため、記
録時に溶融した記録膜の一部が当初の位置から移動する
のが防止される。さらに、例え、ランドで記録膜の一部
が溶融し、当初の位置から移動したとしても、ランドと
グルーブとの間の面は階段状に形成されているため、そ
の移動量は非常に少ない。したがって、本発明による
と、記録・消去のサイクルを繰返した場合に、ジッタ特
性の低下を生じにくい光記録媒体用基板、光記録媒体、
光記録媒体用基板の製造方法、及び光記録媒体の製造方
法が提供される。In the optical recording medium of the present invention, since heat conduction between the land and the groove hardly occurs, a part of the recording film melted during recording is prevented from moving from the initial position. . Furthermore, even if a part of the recording film is melted on the land and moves from the initial position, the amount of movement is very small because the surface between the land and the groove is formed in a step shape. Therefore, according to the present invention, when the recording / erasing cycle is repeated, the optical recording medium substrate, optical recording medium,
A method for manufacturing a substrate for an optical recording medium and a method for manufacturing an optical recording medium are provided.
【図1】本発明の一実施形態に係る光記録媒体用基板を
示す断面図。FIG. 1 is a sectional view showing an optical recording medium substrate according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施形態に係る光記録媒体を示す断
面図。FIG. 2 is a sectional view showing an optical recording medium according to one embodiment of the present invention.
【図3】本発明の他の実施形態に係る光記録媒体を示す
断面図。FIG. 3 is a sectional view showing an optical recording medium according to another embodiment of the present invention.
【図4】本発明のさらに他の実施形態に係る光記録媒体
を示す断面図。FIG. 4 is a sectional view showing an optical recording medium according to still another embodiment of the present invention.
【図5】(a)〜(f)は、それぞれ、本発明の実施例
に係る光記録媒体用基板の製造に用いられるスタンパの
作製方法を概略的に示す断面図。FIGS. 5A to 5F are cross-sectional views schematically illustrating a method of manufacturing a stamper used for manufacturing a substrate for an optical recording medium according to an embodiment of the present invention.
【図6】(g)及び(h)は、それぞれ、本発明の実施
例に係る光記録媒体用基板の製造方法を概略的に示す断
面図。FIGS. 6G and 6H are cross-sectional views schematically illustrating a method for manufacturing an optical recording medium substrate according to an embodiment of the present invention.
【図7】本発明の実施例において用いられる原盤記録装
置を概略的に示す図。FIG. 7 is a diagram schematically showing a master recording apparatus used in an embodiment of the present invention.
【図8】本発明の実施例において用いられるスパッタリ
ング装置を概略的に示す図。FIG. 8 is a diagram schematically showing a sputtering apparatus used in an embodiment of the present invention.
【図9】本発明の実施例に係る光記録媒体の製造に用い
られるスタンパの断面形状を概略的に示す図。FIG. 9 is a diagram schematically showing a cross-sectional shape of a stamper used for manufacturing an optical recording medium according to the embodiment of the present invention.
【図10】本発明の実施例に係る光記録媒体のオーバー
ライト特性を示すグラフ。FIG. 10 is a graph showing overwrite characteristics of the optical recording medium according to the example of the present invention.
1…基板 2…ランド 3…グルーブ 4,10,20…光記録媒体 5…記録膜 11,13…誘電体保護膜 12…相変化記録膜 14…金属反射層 15…記録層 22…光磁気記録膜 30…Si基板 31…SiO2 膜 32,34…フォトレジスト膜 33,35…潜像 40…レーザービーム 50…原盤記録装置 51…レーザー光源 52…レーザー光軸制御系 53,57…ミラー 54…ビーム変調系 54a,54b…E.O変調器 59…フォーマット回路 55…ビーム整形系 56…ビームモニタ系 58…対物レンズ 60…スパッタリング装置 61…チャンバー 65…支柱 62…排気装置 63…ガス供給源 64…コック 66,67…スパッタ源 70…スタンパ 71〜73…帯状突起部DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate 2 ... Land 3 ... Groove 4, 10, 20 ... Optical recording medium 5 ... Recording film 11, 13 ... Dielectric protection film 12 ... Phase change recording film 14 ... Metal reflection layer 15 ... Recording layer 22 ... Magneto-optical recording film 30 ... Si substrate 31 ... SiO 2 film 32 ... photo-resist film 33, 35 ... latent image 40 ... laser beam 50 ... master recording apparatus 51 ... laser light source 52 ... laser optical axis control system 53, 57 ... mirror 54 ... Beam modulation systems 54a, 54b ... E. O modulator 59 ... format circuit 55 ... beam shaping system 56 ... beam monitor system 58 ... objective lens 60 ... sputtering device 61 ... chamber 65 ... support column 62 ... exhaust device 63 ... gas supply source 64 ... cock 66, 67 ... sputter source 70 … Stampers 71-73… Strips
Claims (6)
された第1の溝、及び前記第1の溝の底部に前記第1の
溝と実質的に平行に形成された第2の溝を具備すること
を特徴とする光記録媒体用基板。1. A first groove formed of a transparent material and formed in a spiral or concentric shape on at least one main surface, and substantially parallel to the first groove at a bottom of the first groove. A substrate for an optical recording medium, comprising a second groove formed in the substrate.
中央に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の光
記録媒体用基板。2. The optical recording medium substrate according to claim 1, wherein the second groove is formed at the center of the bottom of the first groove.
た第1の溝の渦或いは円の中心から外周方向への周期T
が0.96μm以上であり、 前記周期Tと、前記第1の溝の底部の幅W1 と前記第2
の溝の上部の幅W2 との差W1 −W2 とは、下記不等式
に示す関係を満たすことを特徴とする請求項1または2
に記載の光記録媒体用基板。 0.04μm≦W1 −W2 ≦T−0.92μm3. A period T from the center to the outer periphery of the spiral or circle of the first groove formed in the spiral or concentric shape.
Is 0.96 μm or more, and the period T, the width W 1 of the bottom of the first groove and the second
3. The difference W 1 −W 2 from the width W 2 of the upper portion of the groove satisfies the following inequality:
3. The substrate for an optical recording medium according to claim 1. 0.04 μm ≦ W 1 −W 2 ≦ T−0.92 μm
面に渦巻線状或いは同心円状に形成された第1の溝と、
前記第1の溝の底部に前記第1の溝と実質的に平行に形
成された第2の溝とを有する基板、及び前記基板の第1
及び第2の溝が形成された面に形成され、所定の光を照
射することにより反射率或いは磁気的特性が可逆的に変
化する材料を含有する記録膜を具備することを特徴とす
る光記録媒体。4. A first groove made of a transparent material and formed in at least one main surface in a spiral or concentric shape;
A substrate having a second groove formed substantially parallel to the first groove at a bottom of the first groove;
And a recording film formed on the surface on which the second groove is formed and containing a material whose reflectance or magnetic characteristics change reversibly by irradiating a predetermined light. Medium.
1の帯状突起部と、前記第1の帯状突起部の頂部に前記
第1の帯状突起部と実質的に平行に形成された第2の帯
状突起部とが形成された転写面上に、光硬化性樹脂を介
して透明基板を配置する工程、 前記透明基板を転写面上に配置しつつ光照射して、前記
光硬化性樹脂を硬化させる工程、及び前記透明基板を転
写面から剥離する工程を具備することを特徴とする光記
録媒体用基板の製造方法。5. A first band-shaped projection formed in a spiral or concentric shape, and a first band-shaped projection formed on a top of the first band-shaped projection substantially in parallel with the first band-shaped projection. Disposing a transparent substrate via a photo-curable resin on the transfer surface on which the second belt-shaped protrusions are formed; and irradiating light while arranging the transparent substrate on the transfer surface to thereby form the photo-curable resin. And a step of peeling the transparent substrate from a transfer surface.
面に渦巻線状或いは同心円状に形成された第1の溝と、
前記第1の溝の底部に前記第1の溝と実質的に平行に形
成された第2の溝とを有する基板を形成する工程、及び
前記基板の第1及び第2の溝が形成された面に、所定の
光を照射することにより反射率或いは磁気的特性が可逆
的に変化する材料を含有する記録膜を形成する工程を具
備することを特徴とする光記録媒体の製造方法。6. A first groove made of a transparent material and formed on at least one main surface in a spiral or concentric shape;
Forming a substrate having a second groove formed substantially parallel to the first groove at a bottom of the first groove; and forming first and second grooves of the substrate. A method for manufacturing an optical recording medium, comprising a step of forming a recording film containing a material whose reflectance or magnetic properties change reversibly by irradiating a surface with predetermined light.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10058081A JPH11259909A (en) | 1998-03-10 | 1998-03-10 | Optical recording medium substrate, optical recording medium, method for manufacturing optical recording medium substrate, and method for manufacturing optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10058081A JPH11259909A (en) | 1998-03-10 | 1998-03-10 | Optical recording medium substrate, optical recording medium, method for manufacturing optical recording medium substrate, and method for manufacturing optical recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11259909A true JPH11259909A (en) | 1999-09-24 |
Family
ID=13073980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10058081A Pending JPH11259909A (en) | 1998-03-10 | 1998-03-10 | Optical recording medium substrate, optical recording medium, method for manufacturing optical recording medium substrate, and method for manufacturing optical recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11259909A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003517214A (en) * | 1999-12-15 | 2003-05-20 | スリーディー プラス | Method and apparatus for interconnecting electronic components in three dimensions |
| WO2003079340A1 (en) * | 2002-03-19 | 2003-09-25 | Sony Corporation | Optical recording/reproducing medium, stamper for manufacturing optical recording/reproducing medium, and optical recording/reproducing device |
| CN100343914C (en) * | 2003-02-14 | 2007-10-17 | 索尼株式会社 | Optical recording medium, stamper for producing optical recording medium, recording/reproducing apparatus, and recording/reproducing method |
-
1998
- 1998-03-10 JP JP10058081A patent/JPH11259909A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US7251211B2 (en) | 2002-03-19 | 2007-07-31 | Sony Corporation | Optical medium having grooves along recording tracks, and an associated master disc and apparatus |
| CN100358029C (en) * | 2002-03-19 | 2007-12-26 | 索尼株式会社 | Optical recording and reproducing medium, original disc for manufacturing optical recording and reproducing medium, and optical recording and reproducing device |
| CN100343914C (en) * | 2003-02-14 | 2007-10-17 | 索尼株式会社 | Optical recording medium, stamper for producing optical recording medium, recording/reproducing apparatus, and recording/reproducing method |
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