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JPH11246046A - Substrate transfer device - Google Patents

Substrate transfer device

Info

Publication number
JPH11246046A
JPH11246046A JP4942298A JP4942298A JPH11246046A JP H11246046 A JPH11246046 A JP H11246046A JP 4942298 A JP4942298 A JP 4942298A JP 4942298 A JP4942298 A JP 4942298A JP H11246046 A JPH11246046 A JP H11246046A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
transfer device
traveling vehicle
rail
holding mechanism
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4942298A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Aiba
武 相場
Yoshimi Hirata
芳美 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP4942298A priority Critical patent/JPH11246046A/en
Publication of JPH11246046A publication Critical patent/JPH11246046A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/063Transporting devices for sheet glass

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板が撓んだり損傷を受けたりすることなく
搬送できる、フットプリントの小さい基板搬送装置を提
供する。 【解決手段】 基板搬送装置19は、搬送方向に沿って
水平に延びた2本のレール20A、Bと、レール20A
に沿って走行し、基板の上側周縁部の一部を両面から挟
持する基板挟持機構26を有する走行車24Aと、レー
ル24Bに沿って走行し、薄厚で角部を有する矩形の基
板11の下側周縁部の一部の表側及び裏側をガイドする
ガイド体44を有する走行車24Bとを備えている。こ
れにより、基板11を垂直にして、かつ、上側周縁部を
挟持して搬送することが可能になる。
(57) [Problem] To provide a substrate transfer device with a small footprint, which can transfer a substrate without being bent or damaged. A substrate transfer device (19) includes two rails (20A, B) extending horizontally in a transfer direction, and a rail (20A).
And a traveling vehicle 24A having a substrate clamping mechanism 26 that clamps a part of the upper peripheral portion of the substrate from both sides, and a traveling vehicle 24A that travels along the rails 24B and has a thin rectangular board 11 having corner portions. And a traveling vehicle 24B having a guide body 44 for guiding a part of the side edge portion on the front side and the back side. This makes it possible to transport the substrate 11 vertically while sandwiching the upper peripheral portion.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板搬送装置に関
し、更に詳しくは、撓みや損傷が生じることなく基板を
搬送するようにした基板搬送装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate transfer device, and more particularly, to a substrate transfer device configured to transfer a substrate without causing bending or damage.

【0002】[0002]

【従来の技術】PDP(plasma displey panel)、LC
D(liquid crystal display)、FED(field emissi
on display)などの表示画面には、近年、画面の大型化
に伴い、大型で薄厚の角形ガラス基板が用いられてい
る。角形ガラス基板とは、矩形状基板のように角部を有
する基板を言う。以下、図面を参照し、従来の基板搬送
装置を説明する。
2. Description of the Related Art PDP (plasma displey panel), LC
D (liquid crystal display), FED (field emissi
In recent years, large and thin rectangular glass substrates have been used for display screens such as on display) as the screens have become larger. The rectangular glass substrate refers to a substrate having a corner portion, such as a rectangular substrate. Hereinafter, a conventional substrate transfer device will be described with reference to the drawings.

【0003】角形ガラス基板は、PDPの42型サイズ
(42インチ型)の生産ラインでは、約1050mm×
650mm×1.9mmの寸法で1枚取りにて生産さ
れ、TFT−LCDの生産ラインでは、約720mm×
600mm×0.7mmの寸法で複数枚取りにて生産さ
れており、今後、更に大型化される可能性が高い。これ
らの基板を生産する際に用いる基板搬送装置としては、
基板の裏面及び側壁にそれぞれ接触する樹脂ローラ及び
ガイドを有し、基板の裏面で基板重量が掛けられたロー
ラを転がして搬送する水平搬送方式の基板搬送装置が主
流である。図4は、従来の水平搬送方式の基板搬送装置
の斜視図である。従来の水平搬送方式の基板搬送装置1
0は、図4に示すように、枠体を構成する2本のフレー
ム部材15と、フレーム部材15の間に等間隔に設けら
れ、比較的大型で、薄厚の角形ガラス基板(薄厚角形基
板とも言われる)11を搬送する駆動シャフト16とを
備えている。駆動シャフト16は、比較的大型で薄厚の
角形ガラス基板11(以下、簡単に基板11と言う)の
幅に対応して設けられたガイドローラ13と、基板11
を送り出す送りローラ12とを有する。駆動シャフト1
6は、通常、フレーム部材15の中に歯車、ベルト、磁
気などを利用した駆動力伝達手段を備え、モータからの
回転力により回転駆動される。また、隣り合う駆動シャ
フトの間隔、及び、送りローラ12の個数や間隔(位
置)は、基板11の幅や処理内容によって変更する。例
えば1本の駆動シャフト16に設けられた送りローラ1
2のシャフト長手方向の隣り合う間隔は、洗浄処理であ
れば拡く、基板11の振動が好ましくない処理では狭く
する。基板搬送装置10を構成するローラ等の部品の材
質や形状、及び、基板搬送装置10の駆動方法は、使用
目的により、耐薬品性、防水性、低発塵性であるように
されている。
[0003] A square glass substrate is about 1050 mm x PDP type 42 production line (42 inch type).
650mm x 1.9mm dimensions are produced in a single sheet. In a TFT-LCD production line, about 720mm x
It is produced in multiple pieces with a size of 600 mm x 0.7 mm, and it is highly likely that the size will be further increased in the future. As a substrate transfer device used when producing these substrates,
The mainstream is a horizontal transfer type substrate transfer device that has a resin roller and a guide that come into contact with the back surface and the side wall of the substrate, respectively, and rolls and transfers the roller with the substrate weight on the back surface of the substrate. FIG. 4 is a perspective view of a conventional horizontal transfer type substrate transfer apparatus. Conventional horizontal transfer type substrate transfer device 1
Reference numeral 0 denotes a relatively large, thin rectangular glass substrate (also referred to as a thin rectangular substrate), which is provided at equal intervals between two frame members 15 forming a frame and the frame members 15 as shown in FIG. And a drive shaft 16 for transporting the same. The drive shaft 16 includes a guide roller 13 provided corresponding to the width of a relatively large and thin rectangular glass substrate 11 (hereinafter simply referred to as the substrate 11), and a substrate 11.
And a feed roller 12 that feeds out. Drive shaft 1
Normally, the frame member 6 includes a driving force transmitting means utilizing a gear, a belt, magnetism, etc. in the frame member 15, and is rotationally driven by a rotating force from a motor. Further, the interval between the adjacent drive shafts and the number and interval (position) of the feed rollers 12 are changed according to the width of the substrate 11 and the processing content. For example, the feed roller 1 provided on one drive shaft 16
The distance between the adjacent shafts 2 in the longitudinal direction of the shaft 2 is increased in a cleaning process, and is reduced in a process in which vibration of the substrate 11 is not preferable. The material and shape of components such as rollers constituting the substrate transfer device 10 and the driving method of the substrate transfer device 10 are designed to be chemical resistant, waterproof, and low in dust generation depending on the purpose of use.

【0004】また、近年、洗浄等の一部の工程で、基板
を傾斜させて搬送する傾斜搬送方式の基板搬送装置が用
いられている。図5は、従来の傾斜搬送方式の基板搬送
装置の斜視図である。従来の傾斜搬送方式の基板搬送装
置18は、基板搬送装置10を傾斜した搬送装置であ
り、水平方向に対しての傾斜角度は90°未満である。
基板搬送装置18は、基板11の背面(裏面)を送りロ
ーラ12に、基板11の下側側壁をガイドローラ13に
よってそれぞれ支え、基板11の自重をこれらのローラ
にかけて搬送する装置である。
In recent years, in some processes such as cleaning, a substrate transfer device of an inclined transfer type for transferring a substrate while being inclined is used. FIG. 5 is a perspective view of a conventional inclined transfer type substrate transfer apparatus. The conventional inclined transfer type substrate transfer device 18 is a transfer device in which the substrate transfer device 10 is inclined, and the inclination angle with respect to the horizontal direction is less than 90 °.
The substrate transfer device 18 is a device that supports the rear surface (back surface) of the substrate 11 by the feed roller 12 and the lower side wall of the substrate 11 by the guide roller 13, and conveys the weight of the substrate 11 over these rollers.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の基板搬
送装置では、以下の問題があった。第1には、基板の裏
面や下側側壁を積極的かつ連続的に受けるため、基板の
うち送りローラやガイドローラに接触した箇所に、傷、
欠け、割れ、汚染などが生じる。この対策として、搬送
中の基板と送りローラやガイドローラとの接触箇所を低
減させる手段があるが、この手段では、搬送中に基板が
振動したり蛇行したりし、更には、基板搬送装置に引っ
かかり易くなる等、別の問題が生じて良好に搬送できな
い。第2には、基板裏面に洗浄等の処理を行う際、基板
周縁部、特に互いに対向する基板周縁部(以下、基板対
向周縁部と言う)で基板自重を支える必要があり、この
ため、基板が大型であるほど大きく反り、裏面処理に支
障をきたす。一例としては、板厚0.7mm、幅600
mmの基板を基板対向周縁部で支えると、数センチの撓
みが生じる。第3には、例えばスピンコートのように、
基板裏面で基板自重をローラにかけて搬送することがで
きない工程では、基板処理に用いる装置間で基板周縁部
を保持しつつ搬送するため、基板が撓み、高速搬送や高
い位置精度での搬送ができない。また、このように大き
く撓むと、基板が機械的ストレスを受け、この結果、基
板上に形成したデバイスの特性が良くなく、歩留まりが
低下する。第4には、基板表面及び裏面を水平にして搬
送する水平搬送方式では、フットプリント(平面方向の
投影面積)が大きいことである。高価なクリーンルーム
ではフットプリントが小さいことが望ましい。第5に
は、水平搬送方式では、何れかの送りローラが、基板裏
面に傷を付ける要因や基板裏面を汚す要因を有すると、
搬送される全ての基板に筋状の傷や汚れが付く。また、
隣り合うガイドローラの前後左右の間隔により、基板
が、蛇行や振動し易く、しかも、ガイドローラに引っか
かり易い。第6には、傾斜搬送方式では、基板下側側壁
がガイドローラに点接触に近い状態で支えられるので、
傾斜角度が大きいほど、ガイドローラに接触した基板部
位の受ける力が大きい。このため、基板にダメージ(損
傷)が生じ易く、また、摩擦によりダストが発生し易
い。
However, the conventional substrate transfer device has the following problems. First, in order to positively and continuously receive the back surface and lower side wall of the substrate, scratches and
Chipping, cracking, contamination, etc. occur. As a countermeasure, there is a means for reducing the contact point between the substrate being transported and the feed roller or the guide roller. Another problem arises, such as easy catching, and good conveyance cannot be achieved. Secondly, when performing processing such as cleaning on the back surface of the substrate, it is necessary to support the substrate's own weight at the periphery of the substrate, particularly at the periphery of the substrate facing each other (hereinafter referred to as the substrate-facing periphery). However, the larger the size, the larger the warp, which hinders the rear surface treatment. As an example, a plate thickness of 0.7 mm and a width of 600
When a substrate of mm is supported by the peripheral edge of the substrate, a deflection of several centimeters occurs. Third, like spin coating, for example,
In a process in which the substrate's own weight cannot be transported by a roller on the back surface of the substrate, the substrate is transported while holding the peripheral portion of the substrate between apparatuses used for substrate processing. In addition, when the substrate is largely bent in this manner, the substrate receives mechanical stress, and as a result, the characteristics of the device formed on the substrate are not good, and the yield is reduced. Fourth, in a horizontal transport method in which the substrate is transported with the front surface and the rear surface kept horizontal, the footprint (projected area in the planar direction) is large. A small footprint is desirable in an expensive clean room. Fifth, in the horizontal transport method, if any of the feed rollers has a factor that damages the back surface of the substrate or causes a stain on the back surface of the substrate,
Streaky scratches and dirt are attached to all the substrates transported. Also,
The substrate is liable to meander and vibrate, and is easily caught by the guide rollers, due to the front-rear and left-right intervals between adjacent guide rollers. Sixth, in the inclined conveyance method, the lower side wall of the substrate is supported by the guide roller in a state close to point contact,
The greater the angle of inclination, the greater the force received by the substrate portion in contact with the guide roller. Therefore, the substrate is easily damaged (damage), and dust is easily generated by friction.

【0006】これらの問題は、今後、基板の大型化や薄
板化を進展させる上で好ましくない。以上のような事情
に照らして、本発明の目的は、基板が撓んだり損傷を受
けたりすることなく搬送できる、フットプリントの小さ
い基板搬送装置を提供することである。
[0006] These problems are unfavorable in increasing the size and thickness of substrates in the future. In view of the circumstances as described above, an object of the present invention is to provide a substrate transfer device with a small footprint that can transfer a substrate without bending or being damaged.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る第1発明の基板搬送装置は、薄厚の矩
形又は正方形の基板を垂直にして搬送する基板搬送装置
であって、搬送方向に沿って延びた一本のレールと、基
板の上側周縁部の少なくとも一部を両面から挟持するこ
とにより基板を垂直方向に支持する基板挟持機構を有
し、レールに沿って走行する走行車とを備えていること
を特徴としている。
In order to achieve the above object, a first aspect of the present invention is a substrate transport apparatus for vertically transporting a thin rectangular or square substrate, A traveling rail running along the rail, having one rail extending along the transport direction and a substrate clamping mechanism for vertically supporting the substrate by clamping at least a part of an upper peripheral portion of the substrate from both sides; It is characterized by having a car.

【0008】好適には、レールと平行で下方に所定間隔
で離隔して配置された第2のレールと、基板の下側周縁
部の少なくとも一部の両面をガイドするガイド体を有
し、第2のレールに沿って第1の走行車と併走する第2
の走行車とを備えている。所定間隔とは、基板の幅又は
長さとほぼ同等の間隔である。
Preferably, a second rail is provided in parallel with the rail and spaced downward at a predetermined interval, and a guide body for guiding at least a part of both surfaces of a lower peripheral edge portion of the substrate. The second traveling along the first traveling vehicle along the second rail
Traveling vehicles. The predetermined interval is an interval substantially equal to the width or length of the substrate.

【0009】基板挟持機構は、例えば、アクチュエータ
と、アクチュエータの先端に取り付けられ、基板の上側
周縁部を基板の一方の面から押圧する押圧部材と押圧部
材により押圧された基板を基板の他方の面で支える支持
部材とを備えている。
The substrate holding mechanism includes, for example, an actuator, a pressing member attached to a tip of the actuator, and a pressing member for pressing an upper peripheral portion of the substrate from one surface of the substrate, and a substrate pressed by the pressing member to the other surface of the substrate. And a supporting member supported by the support member.

【0010】第1発明により、基板が搬送中に自重によ
り撓んで変形することはなく、また、欠け、割れなどの
損傷を受けることはない。更に、従来のようにローラに
より基板裏面が汚れることはない。
According to the first aspect of the present invention, the substrate does not bend and deform due to its own weight during transportation, and there is no damage such as chipping or cracking. Further, unlike the conventional case, the rear surface of the substrate is not stained by the rollers.

【0011】また、本発明に係る第2発明の基板搬送装
置は、薄厚の矩形又は正方形の基板を垂直にして搬送す
る基板搬送装置であって、搬送方向に沿って延びたレー
ルと、基板の垂直方向の各周縁部の少なくとも一部を両
面から挟持することにより基板を垂直にして支持する基
板挟持機構を有し、レールに沿って走行する走行車とを
備えていることを特徴としている。第2発明により、第
1発明と同様の効果を奏することができる。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate transport apparatus for vertically transporting a thin rectangular or square substrate, comprising: a rail extending in the transport direction; It has a board holding mechanism for holding the board vertically by holding at least a part of each peripheral edge in the vertical direction from both sides, and a traveling vehicle running along the rails. According to the second aspect, the same effect as that of the first aspect can be obtained.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下に、実施形態例を挙げ、添付
図面を参照して、本発明の実施の形態を具体的かつより
詳細に説明する。実施形態例 本実施形態例は、第1発明の一実施形態例である。図1
(a)及び(b)は、それぞれ、本実施形態例の基板搬
送装置の構成を示す斜視図及び側面図である。本実施形
態例の基板搬送装置19は、基板11を垂直にして搬送
する搬送装置であり、枠体を構成する部材であって搬送
方向に沿って延びた相互に平行なレール20A、Bをそ
れぞれ有するフレーム部材22A、Bと、フレーム部材
22A、Bにそれぞれ沿って併走する走行車24A、B
とを備えている。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. Embodiment Example This embodiment is an embodiment of the first invention. FIG.
(A) and (b) are a perspective view and a side view, respectively, showing the configuration of the substrate transfer device of the present embodiment. The substrate transport device 19 of the present embodiment is a transport device that transports the substrate 11 vertically, and is a member that constitutes a frame body, and is provided with mutually parallel rails 20A and 20B that extend along the transport direction. Frame members 22A, B and traveling vehicles 24A, B running along the frame members 22A, B, respectively.
And

【0013】走行車24Aは、基板11の上側周縁部を
2箇所で両面から挟持する基板挟持機構26と、基板挟
持機構26に結合した連結ブロック28Aと、連結ブロ
ック28Aに結合し、ガイドベアリング30を有し、駆
動ベルト36によりレール20Aに沿って走行する走行
車本体34Aとから構成される。基板挟持機構26は、
アクチュエータ37と、アクチュエータ37の先端に押
圧部材として取り付けられ、比較的大型で薄厚の角形ガ
ラス基板(以下、簡単に基板と言う)11の上側周縁部
を基板表面から押圧するクランパ42及び基板裏面から
支える支持部材43とを備えている。クランパ42は、
押圧面40を有する。走行車24Bは、基板11の下側
周縁部を2カ所で基板両面からガイドする、上に凹のコ
の字形のガイド体(図1(b)参照)44と、ガイド体
44に結合した、連結ブロック28Aと同様の連結ブロ
ック28Bと、走行車本体34Aと同様の走行車本体3
4Bとから構成される。尚、走行車24Bは、図2に示
すように、基板挟持機構26と同様の基板挟持機構45
をガイド体44に代えて備えていてもよい。
The traveling vehicle 24A includes a board holding mechanism 26 for holding the upper peripheral portion of the board 11 at two places from both sides, a connection block 28A connected to the board holding mechanism 26, and a guide bearing 30 connected to the connection block 28A. And a traveling vehicle main body 34A that travels along the rail 20A by the drive belt 36. The substrate holding mechanism 26 includes:
An actuator 37, a clamper 42 attached as a pressing member to the tip of the actuator 37, and a clamper 42 for pressing the upper peripheral portion of a relatively large and thin rectangular glass substrate (hereinafter simply referred to as a substrate) 11 from the substrate surface and from the rear surface of the substrate And a supporting member 43 for supporting. The clamper 42
It has a pressing surface 40. The traveling vehicle 24B is coupled to an upper concave U-shaped guide body (see FIG. 1B) 44 and a guide body 44 that guide the lower peripheral edge of the board 11 from two sides of the board at two places. A connection block 28B similar to the connection block 28A and a traveling vehicle body 3 similar to the traveling vehicle body 34A
4B. As shown in FIG. 2, the traveling vehicle 24B has a board holding mechanism 45 similar to the board holding mechanism 26.
May be provided instead of the guide body 44.

【0014】フレーム部材22Aは、図1(b)に示す
ように、外側にカバー38が設けられている。レール2
0Aは、ガイドとしての機能を有し、前述のように、搬
送方向、すなわちフレーム部材22Aに沿ってレイアウ
トされている。フレーム部材22Aは、走行車本体34
Aの一部がカバー38に挿入される開口部39が、発塵
防止の観点からカバー上側に設けられている。カバー内
の空気は吸引されている。駆動ベルト36は、サーボモ
ータ(図示せず)により駆動され、また、制御装置(図
示せず)により駆動開始、駆動停止が制御されている。
フレーム部材22A、B及びその周囲に設けられた部材
は、防水対策及び発塵防止対策が施され、また、耐薬品
性の性質を有する。フレーム部材22Bもフレーム部材
22Aと同様の構成である。
As shown in FIG. 1B, a cover 38 is provided on the outside of the frame member 22A. Rail 2
0A has a function as a guide, and is laid out in the transport direction, that is, along the frame member 22A, as described above. The frame member 22A is connected to the traveling vehicle body 34.
An opening 39 into which a part of A is inserted into the cover 38 is provided above the cover from the viewpoint of preventing dust generation. The air in the cover is sucked. The drive belt 36 is driven by a servo motor (not shown), and the start and stop of the drive are controlled by a control device (not shown).
The frame members 22A and 22B and the members provided therearound are provided with waterproofing and dust-preventing measures, and have chemical resistance. The frame member 22B has the same configuration as the frame member 22A.

【0015】図3は、基板11が、走行車から別の走行
車に受け渡される様子を示す正面図である。基板を加工
する加工機(図示せず)は、基板11の垂直方向側縁部
を両側から挟持する別の走行車46A、Bを備えてい
る。走行車46A、Bの構成は、それぞれ、垂直にした
基板11の垂直方向の各周縁部を挟持する基板挟持機構
48A、Bを基板挟持機構26に代えて備えた構成であ
る。基板挟持機構48A、Bは、基板挟持機構26と同
様の構成である。基板挟持機構26に保持された基板1
1が搬送されて所定位置に到着したら、走行車46A、
Bを相互に開いた状態にして、走行車46A、Bを図3
の紙面に垂直方向に移動させ、基板11と同一平面内に
位置させて停止する。次いで、基板挟持機構48A、B
を基板11に向けて移動させ、基板挟持機構48のアク
チュエータ先端のクランパが基板挟持位置に到達した状
態で停止し(図3の破線は、停止した状態でのアクチュ
エータを示す)、更に、基板11を挟持する。続いて、
基板挟持機構26のクランパ42の挟持を開放し、走行
車24A、Bをホームポジション等の指定された位置に
移動させる。次いで、基板挟持機構48を移動し、基板
11を加工機に取り込み、所定の加工処理を行う。基板
11は垂直に保持されているので、両面から加工するこ
とが可能である。
FIG. 3 is a front view showing a state in which the substrate 11 is delivered from one traveling vehicle to another traveling vehicle. The processing machine (not shown) that processes the substrate includes other traveling vehicles 46A and 46 that sandwich the vertical side edge of the substrate 11 from both sides. Each of the traveling vehicles 46A and 46B has a configuration in which board holding mechanisms 48A and 48B for holding the respective peripheral portions of the board 11 in the vertical direction in place of the board holding mechanism 26 are provided. The substrate holding mechanisms 48A and 48B have the same configuration as the substrate holding mechanism 26. The substrate 1 held by the substrate holding mechanism 26
When the vehicle 1 is transported and arrives at a predetermined position, the traveling vehicle 46A,
B with the other vehicles open, and the traveling vehicles 46A and 46B
In the direction perpendicular to the plane of the drawing, and is stopped in the same plane as the substrate 11. Next, the substrate clamping mechanism 48A, B
Is moved toward the substrate 11 and stops when the clamper at the tip of the actuator of the substrate clamping mechanism 48 reaches the substrate clamping position (the broken line in FIG. 3 indicates the actuator in the stopped state). Sandwich. continue,
The clamping of the clamper 42 of the substrate clamping mechanism 26 is released, and the traveling vehicles 24A, B are moved to a designated position such as a home position. Next, the substrate holding mechanism 48 is moved, the substrate 11 is taken into a processing machine, and predetermined processing is performed. Since the substrate 11 is held vertically, it can be processed from both sides.

【0016】また、基板挟持機構46から基板挟持機構
26に基板11を受け渡すことも可能である。すなわ
ち、基板搬送装置19の走行車24は、基板11の垂直
方向の各周縁部を挟持する基板保持機構を基板挟持機構
26に代えて備えていてもよい。また、基板保持機構2
6は、基板11の全ての周縁部を挟持する構成であって
もよい。尚、クランパ42、50は、基板を挟持する機
能を満足する程度の最小限の大きさ、個数であること
が、種々の観点から望ましい。
The substrate 11 can be transferred from the substrate holding mechanism 46 to the substrate holding mechanism 26. That is, the traveling vehicle 24 of the substrate transfer device 19 may include a substrate holding mechanism that holds each peripheral edge of the substrate 11 in the vertical direction instead of the substrate holding mechanism 26. Further, the substrate holding mechanism 2
6 may be configured to sandwich all the peripheral portions of the substrate 11. In addition, it is desirable from various viewpoints that the clampers 42 and 50 have a minimum size and a number that satisfy the function of holding the substrate.

【0017】[0017]

【発明の効果】第1発明によれば、搬送方向に沿って水
平に延びたレールと、レールに沿って走行し、基板の上
側周縁部の少なくとも一部を両面から挟持する基板挟持
機構を有する走行車とを備えている。これにより、
(1)搬送中の基板に撓みが生じることを防止できる。
(2)従来のように基板裏面又は基板下側側壁にローラ
が当接することがないので、傷、欠け、割れなどが発生
せず、ローラによる汚染も生じない。また、搬送中に基
板が振動や蛇行することがない。(3)基板を垂直にし
て基板周縁部で挟持しているので、洗浄や加工などの処
理を行う際、基板両面を同時に処理することが可能であ
る。(4)従来の水平搬送方式の基板搬送装置に比べ、
フットプリントが大幅に低減する。(5)主加工装置、
特にPDP露光装置では、マスクの性能上、縦型露光で
行う。第1発明に係る基板搬送装置を用いて搬送するこ
とにより、従来必要であった、基板を水平から垂直に変
換する工程が不要になり、主加工装置の構成を簡易にす
ることができる。(6)基板が垂直であるため、従来の
水平搬送方式に比べ、周囲の環境や、基板搬送装置から
のダストが付着し難い。従って、製品の品質や歩留まり
を向上させることができる。(7)クリーンルームのダ
ウンフローと平行な向きに搬送するので、乱流の発生度
合いが少ない。尚、静電気対策としてのイオナイザー
(除電気)が空気流れの上流に設置されるので、乱流の
発生度合いの少ない現象は、基板の表裏に同時に生じ
る。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a rail extending horizontally in the transport direction, and a board holding mechanism for running along the rail and holding at least a part of an upper peripheral portion of the board from both sides. And a traveling vehicle. This allows
(1) The substrate being transported can be prevented from bending.
(2) Since the roller does not come into contact with the back surface of the substrate or the lower side wall of the substrate as in the related art, no damage, chipping, cracking, etc. occurs, and no contamination by the roller occurs. Further, the substrate does not vibrate or meander during transportation. (3) Since the substrate is vertically held between the peripheral portions of the substrate, it is possible to simultaneously process both surfaces of the substrate when performing processing such as cleaning and processing. (4) Compared with the conventional horizontal transfer type substrate transfer device,
Significantly reduced footprint. (5) Main processing equipment,
In particular, in a PDP exposure apparatus, vertical exposure is performed due to mask performance. By using the substrate transfer device according to the first aspect of the present invention, the step of converting a substrate from horizontal to vertical, which is conventionally required, becomes unnecessary, and the configuration of the main processing apparatus can be simplified. (6) Since the substrate is vertical, dust from the surrounding environment and the substrate transport device is less likely to adhere than in the conventional horizontal transport method. Therefore, product quality and yield can be improved. (7) Since the transport is performed in a direction parallel to the downflow of the clean room, the occurrence of turbulence is small. In addition, since an ionizer (static elimination) as a countermeasure against static electricity is installed upstream of the air flow, a phenomenon in which the degree of occurrence of turbulence is small occurs simultaneously on the front and back of the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1(a)及び(b)は、それぞれ、実施形態
例の基板搬送装置の構成を示す斜視図及び側面図であ
る。
FIGS. 1A and 1B are a perspective view and a side view, respectively, showing a configuration of a substrate transfer apparatus according to an embodiment.

【図2】実施形態例で、下側のレールを走行する走行車
の別の基板挟持機構を示す拡大断面図である。
FIG. 2 is an enlarged sectional view showing another board holding mechanism of a traveling vehicle traveling on a lower rail in the embodiment.

【図3】実施形態例で、基板が、走行車から別の走行車
に受け渡される様子を示す正面図である。
FIG. 3 is a front view showing a state in which a substrate is delivered from a traveling vehicle to another traveling vehicle in the embodiment.

【図4】従来の水平搬送方式の基板搬送装置の斜視図で
ある。
FIG. 4 is a perspective view of a conventional horizontal transfer type substrate transfer apparatus.

【図5】従来の傾斜搬送方式の基板搬送装置の斜視図で
ある。
FIG. 5 is a perspective view of a conventional inclined transfer type substrate transfer apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10……基板搬送装置、11……基板、12……送りロ
ーラ、13……ガイドローラ、15……フレーム部材、
16……駆動シャフト、18……基板搬送装置、19…
…基板搬送装置、20A、B……レール、22A、B…
…フレーム部材、24A、B……走行車、26……基板
挟持機構、28A、B……連結ブロック、30……ガイ
ドベアリング、36……駆動ベルト、34A、B……走
行車本体、37……アクチュエータ、38……カバー、
39……開口部、40……押圧面、42……クランパ、
43……支持部材、44……ガイド体、45……基板挟
持機構、46A、B……走行車、48A、B……基板挟
持機構。
10 board transfer device, 11 board, 12 feed roller, 13 guide roller, 15 frame member,
16 ... drive shaft, 18 ... substrate transfer device, 19 ...
... Substrate transfer device, 20A, B ... Rail, 22A, B ...
... frame member, 24A, B ... traveling vehicle, 26 ... board holding mechanism, 28A, B ... connecting block, 30 ... guide bearing, 36 ... driving belt, 34A, B ... traveling vehicle body, 37 ... ... actuator, 38 ... cover,
39 ... opening, 40 ... pressing surface, 42 ... clamper,
43 ... support member, 44 ... guide body, 45 ... board holding mechanism, 46A, B ... traveling vehicle, 48A, B ... board holding mechanism.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 薄厚の矩形又は正方形の基板を垂直にし
て搬送する基板搬送装置であって、 搬送方向に沿って延びた一本のレールと、 基板の上側周縁部の少なくとも一部を両面から挟持する
ことにより基板を垂直方向に支持する基板挟持機構を有
し、レールに沿って走行する走行車とを備えていること
を特徴とする基板搬送装置。
1. A substrate transport apparatus for transporting a thin rectangular or square substrate vertically, comprising: a rail extending along a transport direction; and at least a part of an upper peripheral portion of the substrate from both sides. A substrate transfer device comprising: a substrate holding mechanism that supports a substrate in a vertical direction by holding the substrate; and a traveling vehicle that runs along a rail.
【請求項2】 レールと平行で下方に所定間隔で離隔し
て配置された第2のレールと、 基板の下側周縁部の少なくとも一部の両面をガイドする
ガイド体を有し、第2のレールに沿って第1の走行車と
併走する第2の走行車とを備えていることを特徴とする
請求項1に記載の基板搬送装置。
A second rail parallel to the rail and spaced downward at a predetermined interval; and a guide body for guiding at least a part of both surfaces of a lower peripheral edge of the substrate. 2. The substrate transfer device according to claim 1, further comprising a second traveling vehicle that runs along with the first traveling vehicle along the rail. 3.
【請求項3】 基板挟持機構が、アクチュエータと、 アクチュエータの先端に取り付けられ、基板の上側周縁
部を基板の一方の面から押圧する押圧部材と押圧部材に
より押圧された基板を基板の他方の面で支える支持部材
とを備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載
の基板搬送装置。
3. A substrate holding mechanism, comprising: an actuator; an actuator; a pressing member attached to a tip of the actuator, for pressing an upper peripheral portion of the substrate from one surface of the substrate; and a substrate pressed by the pressing member to the other surface of the substrate. The substrate transfer device according to claim 1, further comprising a support member that supports the substrate.
【請求項4】 薄厚の矩形又は正方形の基板を垂直にし
て搬送する基板搬送装置であって、 搬送方向に沿って延びたレールと、 基板の垂直方向の各周縁部の少なくとも一部を両面から
挟持することにより基板を垂直にして支持する基板挟持
機構を有し、レールに沿って走行する走行車とを備えて
いることを特徴とする基板搬送装置。
4. A substrate transport apparatus for transporting a thin rectangular or square substrate vertically, comprising: a rail extending along the transport direction; and at least a part of each vertical edge of the substrate from both sides. A substrate transfer device comprising: a substrate holding mechanism for holding a substrate vertically by holding the substrate; and a traveling vehicle running along a rail.
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